CN102540709A - 红外线敏感的免化学处理感光组成物和用其制作的平印版 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种红外线敏感的免化学处理感光组成物，按重量百分比计它包含：水溶性热交联树脂30-70%，水溶性光交联\聚合树脂1-20%，可光聚合的预聚体10-50%，多官能团单体1-30%，阳离子光聚合引发剂1-20%，红外光辐射吸收染料1-20%。本发明感光组成物适合于制备免化学处理的红外线敏感的平印版，本发明平印版感光度高、网点还愿性好，在用红外线光源曝光后可直接用自来水冲洗或不经任何冲洗加工步骤即可上机印刷，并可得到高的耐印力。

Description

红外线敏感的免化学处理感光组成物和用其制作的平印版
技术领域
本发明属于平印版技术领域，具体涉及一种红外线敏感的免化学处理感光组成物和用其制作的平印版。
背景技术
在印刷工业中平印版的制备过程为业界人士所熟知。平印版的制版过程至少需要两步来完成，一是将涂布了感光组合物的印版通过蒙片(如，正片型和负片型蒙片)在特定的光源下曝光，由此而形成一个光影像潜影；二是把上面曝光之后的印版进行一个所谓的后续的显影步骤，通过这个过程，除去多余的涂层。预涂感光平版是以铝或聚酯为支持体的片状材料，并且能通过上述两个步骤制得同时具有亲油和亲水性的表面，适合于平版印刷。通常，在一个负片型系统中，曝光部位由于涂层的聚合或交联发生变化，变成显影液不溶或难溶，从而可以在显影步骤中将印版未曝光部位的涂层除去。反之，在一个正片型系统中，显影步骤是将印版曝光部位的材料除去。显影步骤通常包括用显影剂漂洗和洗涤，通常在一个含有显影剂的处理单元中进行显影。阳图型平印版所用的显影剂通常是强碱，阴图型显影液中除强碱外通常还含有有机溶剂，如苯甲醇等。当然，光影像的显影也有用加热方法或其它方式来完成的。上述的两种(即湿和热)显影过程的缺点是耗时、成本很高。而且，当采用挥发性有机物或强碱作为显影剂时，这些废液的处理将带来环境问题。
而随着印刷数字化的发展，一种被称作CTP版材的技术也发展的如火如荼，这种技术是通过程序软件根据需要控制CTP制版机激光头的开闭，然后把数字化的需要印刷的图像直接输出到预涂平印版上，再通过上述的“显影过程”制成可上机印刷的平印版。CTP技术实现了印刷制版的数字化，并且省去了母片制作过程，无疑是印刷制版的一大进步，但是这种CTP制版技术同样需要一个“显影过程”，存在着废液处理带来环境问题。
针对这种排污和环保问题，业界研究人员提出了各种各样的解决办法。归纳起来主要有三种方式：
一种是通过感光涂层的相变化技术，实现预涂平印版材表面亲油/亲水极性转变，然后直接装版到印刷机上进行印刷。这种方式，亲油/亲水完全靠感光涂层实现，没有多余的涂层脱落，实现了从制版到印刷都无污物排放的环保目的。但是，这种方式存在着所需要制版能量高、油墨平衡易变化以及耐印力低的缺点，因此实用化效果不佳。
另一种是所谓的“在机处理”技术，其原理是：预涂平印版材在通过CTP制版机扫描制版后，其用于印刷的空白部位的多余涂层是在印刷机上通过润版水和油墨的作用下去除的，多余的涂层去除后被过版纸带走，空白部位是亲水性的铝版基。这种方式实现了制版过程无污物排放的环保目的，但从众多公开的专利文献来看，不是存在着空白部位容易上脏的弊病，就是存在耐印力不足的问题，或者是印刷过程中水墨平衡不易控制等等。
再一种就是对预涂平印版通过CTP制版机扫描制版后，使用“非碱性或非溶剂性”溶液进行“预处理”，以除去空白部位多余的涂层，然后再装版到印刷机进行印刷。这种方式，虽然同样有着类似“湿式显影”的过程，但是所使用的“预处理液”与显影液相比没有了碱性组分和溶剂等化学品，去除空白部位多余涂层的机理也完全不同了：前者是靠溶解扩散的物理过程，后者却是化学反应为主的溶解扩散过程。所以，此种方式也称“免化学处理”技术。这种方式的优点是既实现了比较环保排放的效果，同时也可以像常规CTP版材一样在平印版上机印刷之前进行网点的校正，以免平印版上机后再瞎版。但该方式也同样存在一些缺点，那就是其“预处理液”不是纯净的水，而是在水中加入了一些润湿剂、渗透剂或阿拉伯胶等化学品，所以未能实现真正的意义上的环保。
发明内容
本发明的目的在于解决现有技术中存在的上述技术问题，提供一种红外线敏感的免化学处理感光组成物和用其制作的平印版，这种组成物制得的平印版在用红外激光扫描曝光后，可以用自来水洗去印版空白部位多余的涂层，也可以不经过任何冲洗加工步骤直接可以装版到印刷机上印刷。本发明组成物制得的平印版，克服了以上所述各种方法制得的平印版的诸多方面的缺点，实现了真正环保排放的效果，同时具有所需制版能量低、网点还愿性好、耐印力高的优点。
本发明的目的可通过以下措施来实现：
本发明的红外线敏感的免化学处理感光组成物，按重量百分比计它包含：
水溶性热交联树脂30-70%，水溶性光交联\聚合树脂1-20%，可光聚合的预聚体10-50%，多官能团单体1-30%，阳离子光聚合引发剂1-20%，红外光辐射吸收染料1-20%。
各组分的含量优选为：
水溶性热交联树脂40-60%，水溶性光交联\聚合树脂5-10%，光聚合的预聚体20-40%，多官能团单体10-20%，阳离子光聚合引发剂5-15%，红外光辐射吸收染料5-15%。
所述水溶性热交联树脂为氨酯化不饱和乙烯基多元共聚物A，其具有如下结构：
R1、R2为氢原子或甲基，R3为CH2=C(CH3)COOCH2CH2NCO-基团，R4为酰胺基、醚基(含聚乙氧基)或吡咯烷酮；m、n、o、p为对应共聚单元的摩尔数，m所占比例为40~70%，n所占比例为10~30%,o所占比例为10~30%，p所占比例为10~30%。
所述水溶性光交联\聚合树脂为含有磺酸基团的不饱和水溶性共聚物B，其具有如下结构:
Figure 2010106149399100002DEST_PATH_IMAGE004
R5、R6为氢原子或甲基，x、y、z为对应共聚单元的摩尔数，x所占比例为20~40%，y所占比例为10~30%，z所占比例为30~50%。
所述可光聚合的预聚体为聚氨酯丙烯酸类预聚体。
所述多官能团单体选自丙烯酸类单体、聚氨酯丙烯酸类单体或环氧丙烯酸单体。
所述阳离子光聚合引发剂选自碘鎓盐、硫鎓盐、磷鎓盐、硒鎓盐的一种或多种。
所述阳离子光聚合引发剂的热分解温度在150~200oC。
所述红外光辐射吸收染料是一种吸收在750~850nm的水溶性菁染料。
本发明的用权利要求1或2所述的红外线敏感的免化学处理感光组成物制成的平印版，其包含：(1)铝版基支持体，(2)在铝版基支持体上的含上述不饱和水溶性聚合物B的亲水层，(3)与亲水层在铝版基同一侧的并在亲水层之上的上述红外线敏感的免化学处理感光组成物涂布层，（4）与亲水层在铝版基同一侧的并在上述红外线敏感的免化学处理感光组成物涂布层之上的保护层。
所述平印版的支持体是经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理的铝版基，其中心线平均粗度在0.4-0.6 μm。
亲水化处理的涂层干重量是0.5-10mg/dm2；红外线敏感的免化学处理感光组成物涂布层干重量是8-15mg/dm2；所述保护层干重量是5-20mg/dm2。
本发明的平印版在使用热敏CTP制版机扫描曝光后，可以不使用显影液显影而使用15-30OC的自来水冲洗，即得到可印刷的平印版。
本发明的平印版在使用热敏CTP制版机扫描曝光后，也可以不经过任何冲洗加工步骤直接装版到印刷机上印刷。
本发明由于使用了上述组成物和平印版制作方法，得到的平印版具有感光度高、网点还原性好，在用红外线光源曝光后可直接用自来水冲洗或不经任何冲洗加工步骤即可上机印刷，并可得到高的耐印力等诸多优点。
本发明结构A的多元共聚物中，苯乙烯结构单元具有良好的热塑性，玻璃转化温度适中，作为粘合剂具有受热熔溶的特性，可以使见热部分的图文与版基牢固结合，从而增强图文部分的亲墨性能。苯乙烯在多元共聚物中的含量直接影响聚合物的玻璃化转化温度及热塑性。本发明的多元共聚物，苯乙烯共聚单元A在未接枝多元共聚物中重量百分比含量为40-70%，优选50-60%。
本发明结构A的多元共聚物中，(甲基)丙烯腈共聚单元，它可以选自氰基丙烯酸甲酯、氰基丙烯酸乙酯、丙烯腈或甲基丙烯腈等，优选丙烯腈或甲基丙烯腈或它们的混合物。合成本发明的多元共聚物，(甲基)丙烯腈共聚单元B在未接枝多元共聚物中重量百分比含量为10%-30%，最好为15-25%。
本发明结构A的多元共聚物中，具有氨酯化不饱和双键的支链的共聚单元，其不饱和基团脂在光或热的作用下和多官能度预聚体交联，形成三维交联结构，可实现涂层由亲水转变为疏水，实现版材成像印刷。含有强极性氨酯键的粘合剂对铝版基具有很强的吸附作用，能提高版材的耐印力。另外，含聚氨酯结构的粘合剂与聚氨酯预聚体相溶性更好,版材不易出现因成膜组分溶解度差异而造成胡椒点的出现。
本发明的多元共聚物，具有氨酯化不饱和双键的支链的共聚单元摩尔百分比含量为10-30%，优选15-25%。
本发明结构A的多元共聚物中，含支链亲水性基团的乙烯基共聚单元中，亲水性基团优选自酰胺基、磷酸基、吡咯烷酮基、醚基等，优选的亲水性基团为酰胺基、吡咯烷酮基、醚基（包括聚乙氧基）或它们的组合，如丙烯酰吗啉、甲氧基聚乙二醇丙烯酸酯、N-乙烯基吡咯烷酮等。如果选用支链含聚乙氧基的水溶性单体，聚乙氧基分子量不能太大，否则主链共聚反应受到影响，分子量太小则水溶性太差。有效分子量为400-100000，优选1000-50000，最好1500-20000。
合成本发明的多元共聚物，含支链亲水性基团的乙烯基共聚单元在共聚物中的摩尔百分比含量为10-30%，优选15-25%。
本发明结构A的多元共聚物的重均分子量5000-200000，优选为15000-10000，最优选为40000-80000。玻璃化转化温度为30-260℃，优选为40-150℃，最优选为60-130℃。
结构A的多元共聚物的具体例子如下（不仅限于此）：
A1:
Figure 2010106149399100002DEST_PATH_IMAGE006
A2：
Figure 2010106149399100002DEST_PATH_IMAGE008
A3:
Figure 2010106149399100002DEST_PATH_IMAGE010
A4:
A5:
A6:
A7:
Figure DEST_PATH_IMAGE018
A8:
Figure DEST_PATH_IMAGE020
本发明结构B的不饱和水溶性聚合物中，作为含磺酸基团的共聚单元，只要是含有烯类不饱和基团和磺酸基团的化合物都可以。烯类不饱和基团保证与其它单元共聚，磺酸基团保证较好的水溶性。含磺酸基团的共聚单元可选自乙烯磺酸、苯乙烯磺酸、2-羟基-3-烯丙氧基-1-丙基磺酸、烯丙氧基苯磺酸、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙基磺酸、异戊二烯磺酸等。含磺酸基团的共聚单元在整个聚合物中所占的比例在10％～30％摩尔比范围内，优选15％～25％。
本发明结构B的不饱和水溶性聚合物中，作为含不饱和双键的支链的丙烯或甲基丙烯酸共聚单元，其中含不饱和双键的支链是通过先在丙烯酸或甲基丙烯酸上接枝GMA单体，然后再在GMA上接枝烯类不饱和双键来达到的。可以用来接枝的烯类不饱和单体可以选自丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯、异氰酸烯丙酯以及异氰酸基乙基甲基丙烯酸酯等。该共聚单元在整个聚合物中所占的比例在20％～40％摩尔比范围内为佳，优选25％～30％。
本发明结构B的不饱和水溶性聚合物中，含一个不饱和双键取代基团的丙烯酸酯或甲基丙烯酸共聚单元，可选自丙烯酸β羟乙酯、甲基丙烯酸β羟乙酯、羟甲基丙烯酸甲酯等。可用的接枝的单体有丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯、异氰酸烯丙酯以及异氰酸基乙基甲基丙烯酸酯等。该共聚单元在整个共聚物所占的比例在的30％～50％摩尔比范围内为佳，优选35％～45％。
结构B的多元共聚物的具体例子如下（不仅限于此）：
B1:
Figure DEST_PATH_IMAGE022
B2:
Figure DEST_PATH_IMAGE024
B3:
Figure DEST_PATH_IMAGE026
B4:
B5:
B6:
Figure DEST_PATH_IMAGE032
本发明所述的可光聚合的预聚体可以使用各种类型的预聚物，如聚酯类丙烯酸酯类、环氧丙烯酸酯类、聚氨酯丙烯酸酯类、聚醚丙烯酸酯类、有机硅预聚物类等，其中较好的是聚氨酯丙烯酸类预聚体。该预聚物在感光涂层中占涂膜干重的10-５0％为佳，优选20％～40％。
本发明所述的可光聚合的单体可以使用各种类型的单体，如：单官能团单体，有(甲基)丙烯酸酯如丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸烯丙酯等；多官能团单体，有二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯和四丙烯酸酯、1，3，5一三一(2一丙烯酰氧乙基)异氰脲酸酯、羟丙基甘油基三丙烯酸酯、羟乙基三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯等；异氰酸基单体，有2一异氰酸甲基丙烯酸乙酯和二甲基一m一异丙烯基苄基异氰酸酯等。最好使用多官能团单体。多官能团单体在感光涂层中占涂膜干重的1～30％为佳，优选10％～20％。
本发明所述阳离子光聚合引发剂选自鎓盐，如硫鎓盐、碘鎓盐等。合适的鎓盐包括硫鎓盐、氧亚枫鎓盐、氧锍盐、亚砜鎓盐、重氮盐和卤鎓盐如碘锚盐等。适合的鎓盐的具体实例如：氯化二苯基碘鎓盐、六氟磷酸二苯基碘鎓盐、六氟锑酸二苯基碘鎓盐、六氟锑酸【4-[(2-羟基十四烷基-氧基]一苯基]苯基碘鎓盐、四氟硼酸三苯基锍碘鎓盐、辛基硫酸三苯基锍碘鎓盐、六氟磷酸-2-甲氧基-4-氨基苯基重氮盐、六氟锑酸苯氧基苯基重氮盐等等。阳离子光聚合引发剂在感光涂层中占涂膜干重的1～20％为佳，优选5％～15％。
本发明红外光辐射吸收染料选自偶氮染料、三芳胺染料、吲哚鎓染料、氧杂菁染料、花青染料、份菁染料、吲哚菁染料、酞菁染料、聚噻吩染料、吡唑啉偶氮染料、噁嗪染料、萘醌染料、蒽醌染料、醌亚胺染料、次甲基染料、卟啉染料等等。优选最大吸收波长在780~850nm 左右的染料，这样有利于使用市场中主流的红外激光制版机进行扫描曝光。红外光辐射吸收染料在感光涂层中占涂膜干重的1～20％为佳，优选5％～15％。
本发明中平版的一个可选组分为色料和／或染料或染料系统。为了在曝光后有可见的图像，可加人一个色料和/或染料或染料系统。适用的化合物或系统可在当其暴露在光化辐射下或当其与来自暴露的光致引发剂的产物接触时改变颜色或色泽。合适的化合物或系统包括(但不局限于)，如无色一染料，如酰基保护的噻嗪，二嗪和噁嗪，二聚水分子(如Michler的二聚水分子)，吲哚烯和三芳基甲烷内酯(如Crystal Violet内酯)。染料在本发明的平版中的含量应足够以获得所需的版曝光部分和未曝光部分的反差。染料用量为涂膜干重的的0.5-5%(重量)。
而且，本发明的感光组合物可含有各种材料与本发明的必要的组分的组合。例如，颜料、有机或无机颗粒、敏化的染料、增塑剂、粘结剂、表面活性剂、抗氧化剂、助涂剂、抗稳定剂、蜡、紫外或可见光吸收剂和增亮剂可用于本发明而不影响其性能。
本发明所述的红外线敏感的免化学处理感光组成物制成的平印版使用的版基是经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后铝版基，其中心线平均粗度在0.4-0.6ｕm。优选0.3-0.5ｕm。这样的版基可通过各种电解粗化的方法制得。本发明铝版基是高纯度铝版，其铝含量最好在99％以上。合适的铝版基为（但不见限于此）：铁占0.1％～0.5％、硅占0.03％～0.3％、铜占0.003％～0.03％、钛占0.01％～0.1％。电解粗化所用的电解液可以是酸、碱或盐的水溶液或含有有机溶剂的水溶液。其中，以盐酸、硝酸或者它们的盐的水溶液作电解液较好。首先把铝版放在1％～30％的氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠等的水溶液中，在20～80OC的温度下进行5～250秒的化学腐蚀。然后在10～30％的硝酸或硫酸中以20～70OC的温度中和，以去除灰质。这样经过清洁处理的铝版，在10～60OC的温度下，用正负性交互变化的矩形波、台型波或正弦波等，以5～100Ａ／ｄｍ２的电流密度，在硝酸或者盐酸的电解液中电解处理10～300秒。接着，把经过电解的铝版进行阳极氧化处理。阳极氧化通常用硫酸法。使用的硫酸的浓度为5～30％，电流密度为1～15A／ｄｍ２，氧化温度在20～60OC，氧化时间为5～250秒，以形成1～10 g／m2的氧化膜。这样形成的氧化膜通常具有较高的氧化膜微孔，吸附能力较强，易于粘附脏物。所以通常还需要进行封孔处理。封孔处理可以使用各种各样的方法，以达到封闭氧化膜微孔的50％～80％体积为佳。
本发明的感光组合物通常用该领域已知技术涂布(如，刀涂，刮涂，条涂，辊涂，压涂等)在版基上。把本发明感光组合物溶于适当的溶剂或／和水中，配成涂布液。合适的溶剂有：乙二醇乙醚、乙二醇甲醚、丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、二甘醇甲醚、乳酸甲酯、乳酸乙酯、甲乙酮、甲醇、乙醇、异丙醇、１－甲氧基－２－丙醇等，使用时可单独使用一种溶剂，也可以使用一种或两种以上的溶剂组合。
在涂布本发明感光组成物之前，最好先在经过封孔处理的版基上涂布本发明结构B的不饱和水溶性聚合物。涂布方法可以使用各种各样的方法，如刀涂、刮涂、条涂、辊涂、压涂、条缝挤压涂布等。涂布前把结构B的聚合物溶于水中配成适当的浓度，或者加入各种涂布助剂调整成合适的涂布参数。亲水化处理的涂层干重量最好在0.5-10mg/dm2的范围内。少于0.5mg/dm2，达不到预期效果；超过10 mg/dm2时，会使涂层与版基的粘接力下降，易造成掉版等弊病。
在涂布本发明红外线敏感的免化学处理感光组成物之后，还要在此层之上涂布一层保护层。保护层可以防止会阻碍感光层中由曝光引发的图像形成反应的、大气中的氧和碱性物质等低分子化合物混入到感光层中，使感光层可以在大气中曝光。因此，对于这种保护层所要求的特性是氧等低分子化合物的穿透性低，而且要求实质上不阻碍曝光中使用的光的透过且与感光层的密合性良好，同时在曝光后的显影工序中可以很容易地除去。另外，也可以向保护层赋予其它的性能。例如，通过加入曝光中使用的780-850nm的光穿透性好、而且可以有效地吸收780-850nm范围之外的光的着色剂(水溶性染料等)，可以在不引起感光度下降的条件下提高平印版在白光下的制版安全性。
对于可以用于保护层的材料而言，例如，优选使用结晶性良好的水溶性高分子化合物，具体地讲，已知有聚乙烯醇、聚乙烯毗咯烷酮、酸性纤维素类、明胶、阿拉伯树胶、聚丙烯酸等水溶性聚合物，在这些物质中，当把聚乙烯醇作为主要成分使用时，可以对氧隔断性、显影除去性等基本特性带来最好的结果。保护层中使用的聚乙烯醇中只要含有可具备所需的氧隔断性和水溶性的量的未取代乙烯醇单元，其中的一部分可以被酷、醚和缩醛取代。另外，其中的一部分同样也可以具有其它的共聚合成分。对于聚乙烯醇的具体例子而言，可以举例为71-100%水解且分子量为300一2400的化合物。具体例子有：的PVA-105, PVA-110, PVA-117、PVA一117H. PVA一120, PVA一124. PVA一124H. PVA一CS. PVA一CST, PVA一HC. PVA一203, PVA一204, PVA一205, PVA一210, PVA一217, PVA一220,PVA一224, PVA一217EE, PVA一217E, PVA一220E. PVA一224E, PVA一405,PVA一420, PVA一613等。
保护层的成分(PVA的选择、添加剂的使用)、涂布量等除了考虑氧隔断性、显影除去性之外，还考虑灰雾性和密合性。耐伤性而进行选择。通常情况下，使用的PVA的水解率越高(保护层中未取代乙烯醇单元含量越高)、膜厚越厚，氧隔断性变得越高，这有利于感光度方面。另外，与图像部分的密合性和耐伤性在印刷版的操作上非常重要。即，如果将由水溶性聚合物组成的亲水性的层层压在亲油性的聚合层上，则容易发生由粘着力不足所引起的膜剥离，在剥离部分会因氧的阻聚作用而引起膜固化不良等缺陷。保护层的涂布量以干燥质量计通常为5-20mg/dm2，优选为10 -15 mg/dm2。
以下通过实例说明本发明，但不局限于这些实例。
实施例1
版基的制备：纯度99.5%、厚0.3ｍｍ的A1050压延铝版，在5％的氢氧化钠水溶液中70OC下浸蚀20秒，用流水冲洗后，立即用１％的硝酸水溶液中和。然后在1%的盐酸水溶液中，40OC下用正弦波交流电以50A/dm2的电流密度电解粗化16秒。接着40OC下，用5％的氢氧化钠水溶液中和10秒。水洗。最后在30 OC下，用20%的硫酸水溶液，以15A/dm2的电流密度，阳极氧化20秒。水洗。80OC下用5%的硅酸纳水溶液进行封孔处理18秒。水洗。干燥。这样得到的版基，中心线平均粗度为0.5ｕm，氧化膜重3.0g/dm2。
亲水化处理：在上面得到的版基上，涂布0.1%的本发明水溶性树脂的水溶液，100OC下干燥20秒，得到5mg/dm2的涂层干重。
感光层涂布：在上述经过亲水化处理的版基上挤压涂布下面的感光液，然后在100OC下干燥60秒。得到10mg/dm2的涂层干重。感光液使用下面的组分(各组分按重量份)：
结构为A１的聚合物  3.518
结构为B1的聚合物  0.72
聚氨酯丙烯酸预聚物  ０.36
季戊四醇三丙烯酸酯  0.684
六氟磷酸锍鎓盐  ０.72
红外吸收染料D1  0.036
BYK-333  ０.０04
１-甲氧基-２-丙醇    32.40
保护层涂布：在上述得到的感光层上挤压涂布如下的保护层溶液，然后在110OC下干燥60秒。得到10mg/dm2的涂层干重。
结构式A1的聚合物为重量百分比为30.7%的DMF溶液(以下实例及比较例中的A2、A3、A4、A5、A6、A7、A8与此相同)；
红外吸收染料D1的结构如下：
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以120mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
实施例２
用与实施例1相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。感光液用下面组分：
结构为A2的聚合物  5.635
结构为B2的聚合物   0.360
聚氨酯丙烯酸预聚物   1.080
季戊四醇三丙烯酸酯  0.036
六氟磷酸锍鎓盐  ０.360
红外吸收染料D1  0.036
BYK-333   0.004
１-甲氧基-２-丙醇        32.40
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以100mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
实施例3
用上面相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。感光液用下面组分：
结构为A3的聚合物   8.208
结构为B1的聚合物   0.036
聚氨酯丙烯酸预聚物   0.360
季戊四醇三丙烯酸酯  0.288
六氟磷酸锍鎓盐  0.036
红外吸收染料D1  0.360
BYK-333  0.004
１-甲氧基-２-丙醇   32.40
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以140mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
实施例4
用上面相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。感光液用下面组分：
结构为A4的聚合物   3.518
结构为B3的聚合物   0.072
聚氨酯丙烯酸预聚物   1.800
季戊四醇三丙烯酸酯  0.180
六氟磷酸锍鎓盐  ０.180
红外吸收染料D1  0.288
BYK-333  0.004
１-甲氧基-２-丙醇   32.40
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以90mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
实施例5
用上面相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。感光液用下面组分：
结构为A5的聚合物   3.518
结构为B1的聚合物   0.324
聚氨酯丙烯酸预聚物   0.360
季戊四醇三丙烯酸酯  1.080
六氟磷酸锍鎓盐  ０.036
红外吸收染料D1  0.720
BYK-333  0.004
１-甲氧基-２-丙醇       32.40
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以130mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
实施例6
用上面相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。感光液用下面组分：
结构为A6的聚合物  5.277
结构为B4的聚合物   0.540
聚氨酯丙烯酸预聚物  0.360
季戊四醇三丙烯酸酯  0.360
六氟磷酸锍鎓盐  ０.360
红外吸收染料D1  0.360
BYK-333  0.004
１-甲氧基-２-丙醇  32.40
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以120mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
实施例7
用实施例1相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。只是使版基的中心线平均粗度为0.4ｕm。
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以120mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
实施例8
用实施例1相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。只是使版基的中心线平均粗度为0.6ｕm。
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以120mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
实施例9
用实施例1相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。只是使亲水层的涂层干重量为0.5mg/dm2。感光涂布液使用下面的组分：
结构为A１的聚合物  3.518
结构为B5的聚合物  0.72
聚氨酯丙烯酸预聚物  ０.36
季戊四醇三丙烯酸酯  0.684
六氟磷酸锍鎓盐  ０.72
红外吸收染料D1  0.036
BYK-333  0.004
１-甲氧基-２-丙醇  32.40
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以120mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
实施例10
用实施例1相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。只是使亲水层的涂层干重量为10mg/dm2。感光涂布液使用下面的组分：
结构为A１的聚合物  3.518
结构为B6的聚合物  0.72
聚氨酯丙烯酸预聚物  ０.36
季戊四醇三丙烯酸酯  0.684
六氟磷酸锍鎓盐  ０.72
红外吸收染料D1  0.036
BYK-333  0.004
１-甲氧基-２-丙醇  32.40
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以120mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
实施例11
用实施例1相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。只是使感光层的干涂层重量为8mg/dm2
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以120mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
实施例12
用实施例1相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。只是使感光层的干涂层重量为15mg/dm2
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以120mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中
实施例13
用实施例1相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。只是使保护层的涂层干重量为5mg/dm2。感光涂布液使用下面的组分：
结构为A7的聚合物  3.518
结构为B1的聚合物  0.72
聚氨酯丙烯酸预聚物  ０.36
季戊四醇三丙烯酸酯  0.684
六氟磷酸锍鎓盐  ０.72
红外吸收染料D1  0.036
BYK-333  0.004
１-甲氧基-２-丙醇  32.40
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以120mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
实施例14
用实施例1相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。只是使保护层的涂层干重量为20mg/dm2。感光涂布液使用下面的组分：
结构为A8的聚合物                                           3.518
结构为B1的聚合物                                           0.72
聚氨酯丙烯酸预聚物                                          ０.36
季戊四醇三丙烯酸酯                                                                                    0.684
六氟磷酸锍鎓盐                                                                                            ０.72
红外吸收染料                                                                                                0.036
BYK-333                                                                                                         0.004
１-甲氧基-２-丙醇                                         32.40
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以100mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
比较例1
用实施例1相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。感光涂布液使用下面的组分：
结构为B1的聚合物  1.800
聚氨酯丙烯酸预聚物  ０.36
季戊四醇三丙烯酸酯  0.684
六氟磷酸锍鎓盐  ０.72
红外吸收染料  0.036
BYK-333  0.004
１－甲氧基－２－丙醇  32.40
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以300mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
比较例２
用实施例1相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。感光涂布液使用下面的组分：
结构为A8的聚合物  5.863
聚氨酯丙烯酸预聚物   ０.36
季戊四醇三丙烯酸酯  0.684
六氟磷酸锍鎓盐  ０.72
红外吸收染料  0.036
BYK-333  0.004
１－甲氧基－２－丙醇  32.40
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以200mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
比较例３
用与实例１相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。只是感光液用下面组分：
结构为A１的聚合物   3.518
结构为B1的聚合物  0.72
丙烯酸预聚物  ０.36
季戊四醇三丙烯酸酯  0.684
六氟磷酸锍鎓盐  ０.72
红外吸收染料D1  0.036
BYK-333  0.004
１－甲氧基－２－丙醇  32.40
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以300mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
比较例4
用与实例１相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。只是感光液用下面组分：
结构为A１的聚合物  3.518
结构为B1的聚合物  0.72
聚氨酯丙烯酸预聚物  ０.36
甲基丙烯酸甲酯  0.684
六氟磷酸锍鎓盐  ０.72
红外吸收染料D1  0.036
BYK-333  0.004
１-甲氧基-２-丙醇  32.40
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以200mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
比较例5
用与实例１相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。只是感光液用下面组分：
结构为A１的聚合物  3.518
结构为B1的聚合物  0.72
聚氨酯丙烯酸预聚物  ０.36
季戊四醇三丙烯酸酯  0.684
三嗪B  0.72
红外吸收染料D1  0.036
BYK-333  0.004
１-甲氧基-２-丙醇  32.40
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以300mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30 ℃ 的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
比较例６
用与实例１相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。只是感光液用下面组分：
结构为A１的聚合物  3.518
结构为B1的聚合物  0.72
聚氨酯丙烯酸预聚物  ０.36
季戊四醇三丙烯酸酯  0.684
六氟磷酸锍鎓盐  ０.72
红外吸收染料D2  0.036
BYK-333  0.004
１-甲氧基-２-丙醇  32.40
红外吸收染料D2的结构如下：
Figure DEST_PATH_IMAGE036
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以120mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
比较例７
用实施例1相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。只是使版基的中心线平均粗度为0.70ｕm，
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以120mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
比较例８
用实施例1相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。只是使亲水层的干涂层重量为10mg/dm2。
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以120mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
比较例9
用实施例1相同的方法制备版基、亲水层、感光层和保护层。只是使保护层的干涂层重量为25mg/dm2。
这样得到的版材在Kodak全胜热敏CTP制版机上以120mJ/cm2的能量进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以25-30OC的温度，用不含任何化学品的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。
表一
Figure DEST_PATH_IMAGE037
Figure DEST_PATH_IMAGE038

Claims (14)

1.一种红外线敏感的免化学处理感光组成物，其特征在于：按重量百分比计它包含：
水溶性热交联树脂30-70%
水溶性光交联\聚合树脂1-20%
可光聚合的预聚体10-50%
多官能团单体1-30%
阳离子光聚合引发剂1-20%
红外光辐射吸收染料1-20%。
2.根据权利要求1所述的红外线敏感的免化学处理感光组成物，其特征在于：按重量百分比计它包含：
水溶性热交联树脂40-60%
水溶性光交联\聚合树脂5-10%
光聚合的预聚体20-40%
多官能团单体10-20%
阳离子光聚合引发剂5-15%
红外光辐射吸收染料5-15%。
3.根据权利要求1或2所述的感光组成物，其特征在于：所述水溶性热交联树脂为氨酯化不饱和乙烯基多元共聚物A，其具有如下结构：
Figure 369686DEST_PATH_IMAGE002
R1、R2为氢原子或甲基，R3为CH2=C(CH3)COOCH2CH2NCO-基团，R4为酰胺基、醚基(含聚乙氧基)或吡咯烷酮；m、n、o、p为对应共聚单元的摩尔数，m所占比例为40~70%，n所占比例为10~30%,o所占比例为10~30%，p所占比例为10~30%。
4.根据权利要求1或2所述的感光组成物，其特征在于：所述水溶性光交联\聚合树脂为含有磺酸基团的不饱和水溶性共聚物B，其具有如下结构:
Figure 2010106149399100001DEST_PATH_IMAGE003
R5、R6为氢原子或甲基，x、y、z为对应共聚单元的摩尔数，x所占比例为20~40%，y所占比例为10~30%，z所占比例为30~50%。
5.根据权利要求1或2所述的感光组成物，其特征在于：所述可光聚合的预聚体为聚氨酯丙烯酸类预聚体。
6.根据权利要求1或2所述的感光组成物，其特征在于：所述多官能团单体选自丙烯酸类单体、聚氨酯丙烯酸类单体或环氧丙烯酸单体。
7.根据权利要求1或2所述的感光组成物，其特征在于：所述阳离子光聚合引发剂选自碘鎓盐、硫鎓盐、磷鎓盐、硒鎓盐的一种或多种。
8.根据权利要求1或2所述的感光组成物，其特征在于：所述阳离子光聚合引发剂的热分解温度在150~200oC。
9.根据权利要求1或2所述的感光组成物，其特征在于：所述红外光辐射吸收染料是一种吸收在750~850nm的水溶性菁染料。
10.一种用权利要求1或2所述的红外线敏感的免化学处理感光组成物制成的平印版，其特征在于，其包含：(1)铝版基支持体，(2)在铝版基支持体上的含上述不饱和水溶性聚合物B的亲水层，(3)与亲水层在铝版基同一侧的并在亲水层之上的上述红外线敏感的免化学处理感光组成物涂布层，（4）与亲水层在铝版基同一侧的并在上述红外线敏感的免化学处理感光组成物涂布层之上的保护层。
11.根据权利要求10所述的平印版，其特征在于：所述平印版的支持体是经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理的铝版基，其中心线平均粗度在0.4-0.6 μm。
12.根据权利要求10所述的平印版，其特征在于：亲水化处理的涂层干重量是0.5-10mg/dm2；红外线敏感的免化学处理感光组成物涂布层干重量是8-15mg/dm2；所述保护层干重量是5-20mg/dm2。
13.根据权利要求10所述平印版，其特征在于，该平印版在使用热敏CTP制版机扫描曝光后，不使用显影液显影而使用15-30OC的自来水冲洗，即得到可印刷的平印版。
14.根据权利要求10所述平印版，其特征在于，该平印版在使用热敏CTP制版机扫描曝光后，不经过任何冲洗加工步骤直接装版到印刷机上印刷。
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Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102902161A (zh) * 2012-10-31 2013-01-30 乐凯华光印刷科技有限公司 阴图感光组成物和用其制作的平印版
CN103881034A (zh) * 2012-12-21 2014-06-25 乐凯华光印刷科技有限公司 一种激光热塑性纳微米颗粒及其合成方法与用其制作的平印版
CN104290483A (zh) * 2014-09-30 2015-01-21 乐凯华光印刷科技有限公司 平印版原版及其印刷方法
CN104730865A (zh) * 2013-12-19 2015-06-24 乐凯华光印刷科技有限公司 一种阴图免处理平印版
CN104730862A (zh) * 2013-12-19 2015-06-24 乐凯华光印刷科技有限公司 阴图感光组合物及用该组合物制成的热敏板
CN105372935A (zh) * 2014-08-29 2016-03-02 乐凯华光印刷科技有限公司 一种可直接上机印刷免处理热敏版
CN106054525A (zh) * 2016-06-23 2016-10-26 成都新图新材料股份有限公司 一种适用于uv‑ctp的免化学处理阴图感光组合物
CN106054524A (zh) * 2016-06-23 2016-10-26 成都新图新材料股份有限公司 一种用于ctp版铝板基的感光胶
CN106125505A (zh) * 2016-06-23 2016-11-16 成都新图新材料股份有限公司 一种用于uv‑ctp的感光层
CN106324991A (zh) * 2015-06-19 2017-01-11 乐凯华光印刷科技有限公司 水洗柔性版用弹性体组合物及含有该弹性体组合物的具有优异耐印力及亲墨性的水洗柔性版
CN106364209A (zh) * 2016-11-04 2017-02-01 中国科学院理化技术研究所 一种含感热保护层的热敏免处理的平版印刷版材料及应用
CN104742557B (zh) * 2013-12-30 2017-07-14 乐凯华光印刷科技有限公司 一种可水显影免化学处理热敏版及其制备方法
CN107526248A (zh) * 2016-06-21 2017-12-29 乐凯华光印刷科技有限公司 一种直接上机热敏版及其制作方法
CN109263338A (zh) * 2017-07-17 2019-01-25 乐凯华光印刷科技有限公司 一种在机显影免处理热敏版及其制备方法
CN109835081A (zh) * 2019-01-25 2019-06-04 安徽强邦印刷材料有限公司 一种双涂层水显影免处理ctp版
CN109839803A (zh) * 2019-01-25 2019-06-04 安徽强邦印刷材料有限公司 一种适用于水显影免处理ctp版的热敏涂层
CN109878234A (zh) * 2019-01-22 2019-06-14 安徽强邦印刷材料有限公司 一种多涂层水显影型免处理直接上机印刷版
CN112521548A (zh) * 2020-12-01 2021-03-19 北京印刷学院 可高温交联水溶性树脂及其制备方法和免化学处理阴图型热敏ctp版材涂层
CN112976859A (zh) * 2019-12-16 2021-06-18 乐凯华光印刷科技有限公司 一种阴图平印版前体及阴图平印版

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7041159B2 (ja) * 2017-08-24 2022-03-23 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
KR102345980B1 (ko) * 2017-11-08 2021-12-31 삼성디스플레이 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법
CN112698548B (zh) * 2019-10-23 2023-12-08 乐凯华光印刷科技有限公司 一种长印程uv-ctp版及其制备方法和应用方法
CN114953802B (zh) * 2022-05-16 2024-03-29 安徽强邦新材料股份有限公司 一种具有耐磨保护层的免处理ctp版

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030190548A1 (en) * 2001-10-31 2003-10-09 Akira Furukawa Light-sensitive composition
EP1403040A1 (en) * 2002-09-30 2004-03-31 Konica Corporation Printing plate material and image formation method employing the same
CN101192004A (zh) * 2006-11-27 2008-06-04 乐凯集团第二胶片厂 适合于uv-ctp的免化学处理阴图感光组成物和用其制作的平印版及平印版制作方法
JP2008230205A (ja) * 2007-03-23 2008-10-02 Mitsubishi Paper Mills Ltd プロセスレス感光性平版印刷版
JP2008238505A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Mitsubishi Paper Mills Ltd プロセスレス感光性平版印刷版
JP2009198650A (ja) * 2008-02-20 2009-09-03 Mitsubishi Paper Mills Ltd プロセスレス平版印刷版
CN101636694A (zh) * 2007-03-23 2010-01-27 三菱制纸株式会社 可水显影的感光性平版印刷版材料

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6387595B1 (en) * 2000-10-30 2002-05-14 Gary Ganghui Teng On-press developable lithographic printing plate having an ultrathin overcoat
US6566039B1 (en) * 2002-06-04 2003-05-20 Gary Ganghui Teng Variable data lithographic printing device and method
US20060144272A1 (en) * 2003-02-19 2006-07-06 Keiichi Haraguchi Process for producing water-development printing plate for relief printing
JP2005202150A (ja) * 2004-01-15 2005-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法
US7014983B1 (en) * 2004-10-05 2006-03-21 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element
KR100574993B1 (ko) * 2004-11-19 2006-05-02 삼성전자주식회사 포토레지스트용 탑 코팅 조성물과 이를 이용한포토레지스트 패턴 형성 방법
JP2006251356A (ja) * 2005-03-10 2006-09-21 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性ネガ型画像形成材料
ATE422066T1 (de) * 2005-11-18 2009-02-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform
JP2009258579A (ja) * 2008-03-26 2009-11-05 Fujifilm Corp 平版印刷版原版の製版方法
JP5448882B2 (ja) * 2010-01-27 2014-03-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030190548A1 (en) * 2001-10-31 2003-10-09 Akira Furukawa Light-sensitive composition
US6866981B2 (en) * 2001-10-31 2005-03-15 Mitsubishi Paper Mills Limited Light-sensitive composition
EP1403040A1 (en) * 2002-09-30 2004-03-31 Konica Corporation Printing plate material and image formation method employing the same
CN101192004A (zh) * 2006-11-27 2008-06-04 乐凯集团第二胶片厂 适合于uv-ctp的免化学处理阴图感光组成物和用其制作的平印版及平印版制作方法
JP2008230205A (ja) * 2007-03-23 2008-10-02 Mitsubishi Paper Mills Ltd プロセスレス感光性平版印刷版
CN101636694A (zh) * 2007-03-23 2010-01-27 三菱制纸株式会社 可水显影的感光性平版印刷版材料
JP2008238505A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Mitsubishi Paper Mills Ltd プロセスレス感光性平版印刷版
JP2009198650A (ja) * 2008-02-20 2009-09-03 Mitsubishi Paper Mills Ltd プロセスレス平版印刷版

Cited By (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102902161B (zh) * 2012-10-31 2016-09-14 乐凯华光印刷科技有限公司 阴图感光组成物和用其制作的平印版
CN102902161A (zh) * 2012-10-31 2013-01-30 乐凯华光印刷科技有限公司 阴图感光组成物和用其制作的平印版
CN103881034A (zh) * 2012-12-21 2014-06-25 乐凯华光印刷科技有限公司 一种激光热塑性纳微米颗粒及其合成方法与用其制作的平印版
CN103881034B (zh) * 2012-12-21 2016-03-09 乐凯华光印刷科技有限公司 一种激光热塑性纳微米颗粒及其合成方法与用其制作的平印版
CN104730862B (zh) * 2013-12-19 2020-06-19 乐凯华光印刷科技有限公司 阴图感光组合物及用该组合物制成的热敏板
CN104730865A (zh) * 2013-12-19 2015-06-24 乐凯华光印刷科技有限公司 一种阴图免处理平印版
CN104730862A (zh) * 2013-12-19 2015-06-24 乐凯华光印刷科技有限公司 阴图感光组合物及用该组合物制成的热敏板
CN104742557B (zh) * 2013-12-30 2017-07-14 乐凯华光印刷科技有限公司 一种可水显影免化学处理热敏版及其制备方法
CN105372935A (zh) * 2014-08-29 2016-03-02 乐凯华光印刷科技有限公司 一种可直接上机印刷免处理热敏版
CN104290483A (zh) * 2014-09-30 2015-01-21 乐凯华光印刷科技有限公司 平印版原版及其印刷方法
CN104290483B (zh) * 2014-09-30 2016-09-14 乐凯华光印刷科技有限公司 平印版原版及其印刷方法
CN106324991B (zh) * 2015-06-19 2019-12-10 乐凯华光印刷科技有限公司 水洗柔性版用弹性体组合物及含有其的水洗柔性版
CN106324991A (zh) * 2015-06-19 2017-01-11 乐凯华光印刷科技有限公司 水洗柔性版用弹性体组合物及含有该弹性体组合物的具有优异耐印力及亲墨性的水洗柔性版
CN107526248A (zh) * 2016-06-21 2017-12-29 乐凯华光印刷科技有限公司 一种直接上机热敏版及其制作方法
CN106125505A (zh) * 2016-06-23 2016-11-16 成都新图新材料股份有限公司 一种用于uv‑ctp的感光层
CN106054524A (zh) * 2016-06-23 2016-10-26 成都新图新材料股份有限公司 一种用于ctp版铝板基的感光胶
CN106054525A (zh) * 2016-06-23 2016-10-26 成都新图新材料股份有限公司 一种适用于uv‑ctp的免化学处理阴图感光组合物
CN106364209A (zh) * 2016-11-04 2017-02-01 中国科学院理化技术研究所 一种含感热保护层的热敏免处理的平版印刷版材料及应用
CN106364209B (zh) * 2016-11-04 2018-11-09 中国科学院理化技术研究所 一种含感热保护层的热敏免处理的平版印刷版材料及应用
CN109263338A (zh) * 2017-07-17 2019-01-25 乐凯华光印刷科技有限公司 一种在机显影免处理热敏版及其制备方法
CN109263338B (zh) * 2017-07-17 2021-09-14 乐凯华光印刷科技有限公司 一种在机显影免处理热敏版及其制备方法
CN109878234B (zh) * 2019-01-22 2021-05-07 安徽强邦印刷材料有限公司 一种多涂层水显影型免处理直接上机印刷版
CN109878234A (zh) * 2019-01-22 2019-06-14 安徽强邦印刷材料有限公司 一种多涂层水显影型免处理直接上机印刷版
CN109835081A (zh) * 2019-01-25 2019-06-04 安徽强邦印刷材料有限公司 一种双涂层水显影免处理ctp版
CN109839803A (zh) * 2019-01-25 2019-06-04 安徽强邦印刷材料有限公司 一种适用于水显影免处理ctp版的热敏涂层
CN112976859A (zh) * 2019-12-16 2021-06-18 乐凯华光印刷科技有限公司 一种阴图平印版前体及阴图平印版
CN112976859B (zh) * 2019-12-16 2023-03-10 乐凯华光印刷科技有限公司 一种阴图平印版前体及阴图平印版
CN112521548A (zh) * 2020-12-01 2021-03-19 北京印刷学院 可高温交联水溶性树脂及其制备方法和免化学处理阴图型热敏ctp版材涂层
CN112521548B (zh) * 2020-12-01 2022-05-17 北京印刷学院 可高温交联水溶性树脂及其制备方法和免化学处理阴图型热敏ctp版材涂层

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