CN102089712A - 在机可显影的可成像元件 - Google Patents
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Abstract
负性可成像元件具有可成像层和顶涂层，该顶涂层包含在曝光于成像红外辐射时将改变颜色的组合物。所述可成像元件可以成像和在机显影来提供具有改进的对比度的图像用于印刷输出。
Description
技术领域
本发明涉及可成像元件，例如负性平版印刷版前体，所述可成像元件能够在机显影来提供具有改进的对比度的图像（“印刷输出”）用于目视检查。本发明还涉及使用这些可成像元件的方法。
背景技术
辐射敏感组合物通常用于制备包括平版印刷版前体在内的可成像材料。这种组合物通常包括辐射敏感成分、引发体系和粘合剂，其中的每一种都已经是研究的热点以提供在物理性能、成像性能和图像特征方面的各种改进。
在印刷版前体领域中的最新进展涉及可以通过激光或激光二极管成像的辐射敏感组合物的使用，更具体而言，涉及能够在机成像和/或显影的辐射敏感组合物的使用。激光曝光不需要常规的卤化银照相胶片作为中间信息载体（或“掩模”），因为激光可以用计算机直接控制。在市售激光照排机中使用的高性能激光或激光二极管一般发出波长为至少700 nm的辐射，并由此要求辐射敏感组合物在电磁波谱的近红外或红外区域中是敏感的。但是，其他有用的辐射敏感组合物被设计用于用紫外或可见辐射成像。
有两种使用辐射敏感组合物制备印刷版的常用方法。对于负性印刷版，在用显影液或其他处理溶液处理的过程中将辐射敏感组合物中的曝光区域硬化并将未曝光区域洗掉。对于正性印刷版，曝光区域被溶解在处理溶液中，而未曝光区域变成图像。
在下列文献中描述了各种各样的负性辐射组合物和可成像元件：美国专利6,309,792 (Hauck等人)、6,569,603 (Furukawa)、6,893,797 (Munnelly等人)和6,787,281 (Tao等人)，和美国专利申请公开2003/0118939 (West等人)、2005/0008971 (Mitsumoto等人)和2005/0204943 (Makino等人)，以及EP公开1,079,276A (Lifka等人)、EP 1,182,033 A (Fujimaki等人)和EP 1,449,650A (Goto)。
已经设计了各种各样的负性可成像元件以使用润版液、平版印刷墨水或两者进行“在机”处理或显影。例如，这种元件描述在下列文献中：美国专利申请公开2005-263021 (Mitsumoto等人)和美国专利6,071,675 (Teng)、6,387,595 (Teng)、6,482,571 (Teng)、 6,495,310 (Teng)、6,541,183 (Teng)、6,548,222 (Teng)、6,576,401 (Teng)、6,899,994 (Huang等人)、6,902,866 (Teng)和7,089,856 (Teng)。
美国专利申请公开2005/0170282 (Inno等人)、2005/0233251 (Kakino等人)、2003/0068575 (Yanaka)、2006/0046189 (Kunita等人)和2007/0072119 (Iwai等人)，以及EP公开1,557,262 (Inno等人)、1,588,858 (Kakino等人)、1,614,541 (Callant等人)、1,736,312 (Callant等人)和1,754,614 (Kakino等人)、1,717,024 (Inno等人)描述了包含变色剂或变色体系的平板印刷版前体，其能够在曝光时产生颜色变化以提供印刷输出。
可以在IP.com上看到的出版物SPCOM000170014D描述了一种负性在机可显影的平板印刷版，不论所使用的含铝基板的类型，该印刷版都显示出良好的印刷输出、良好的运转周期和在可显影性方面的连贯性。
同时待审和普通受让的美国申请序列号11/838,935（由Home, K. Ray, Knight, Huang, Tao, 和Munnelly于2007年8月15日提交）描述了将特殊的螺内酯或螺内酰胺无色染料彩色形成物用在负性成像元件的可成像层中。
另外，同时待审和普通受让的美国申请序列号11/762,288（由Yu 和 K. Ray于2007年6月13日提交）描述了在机可显影的负性可成像元件，该可成像元件包含磷酸盐(甲基)丙烯酸酯并且不需要曝光后的烘焙步骤。
要解决的技术问题
在成像后，可以检查印刷版以确保获得了理想的图像。对于在印刷机外处理（或显影）的印刷版，在安装到印刷机上之前可以容易地进行这种检查。印刷版制造商经常向成像组合物中加入着色剂以便于进行这种检查。
对于将在机显影的成像后的元件，不容易识别出所述图像。向在机可显影的成像组合物中加入着色剂会损害印刷版的保存期限、在机可显影性或成像灵敏度，并且所述着色剂可能会污染印刷机墨水的色彩。当将所述可成像层设置在硫酸阳极化的铝基板上时，显影可变性的问题是特别严重的。
不幸的是，具有良好运转周期和改进的可显影性的可成像元件在所得的图像中可能显示出较差的印刷输出（在曝光后和显影前在成像区域和非成像区域之间的色对比度）。
因此，需要足够的印刷输出以在在机显影之前使印刷版上的图像可见。此外，需要提供改进的印刷输出而不降低运转周期、可显影性或其他所期望的性能。
发明内容
本发明提供了一种在机可显影的负性可成像元件，其包括其上具有可成像层的基板，该可成像层包含：
可自由基聚合成分，
引发剂组合物，其在暴露于成像红外辐射时能够产生足够引发可自由基聚合基团的聚合反应的自由基，
主聚合物粘合剂，其任选以离散颗粒的形式存在，以及
红外辐射吸收染料，
该元件还包括设置在所述可成像层上的顶涂层，该顶涂层包含水溶性聚合物粘合剂和在暴露于成像红外辐射时能够改变颜色的组合物。
在本发明的一些实施方案中，所述可成像元件包括的顶涂层包含有下面结构(发色团)表示的花青染料发色团：
其中W为-N(Q1)(Q2)或Cl，其中Q1和Q2独立地为取代或未取代的芳基，
A和A'独立地为-S-、-O-、-NH-、-CH2-、或-CR'R"- 基团，其中R'和R"独立地为取代或未取代的芳基，或R'和R"一起可以形成取代或未取代的环基，
Z表示形成5-至7-元碳环所需的碳原子，
Z1和Z2独立地为取代或未取代的苯并或萘并稠环，以及
R1'和R2'独立地为取代或未取代的烷基、环烷基或芳基，
条件是所述花青染料发色团还包含一种或多种增加水溶性的基团。
本发明还提供了一种方法，该方法包括：
A) 使用红外成像辐射将本发明的可成像元件成影像地曝光以产生曝光和未曝光的区域，和
B) 在有或没有曝光后烘焙步骤的情况下，将成影像地曝光后的元件显影以在润版液、平板印刷墨水或其组合的存在下主要仅除去未曝光的区域。
例如，本发明可以用于提供具有亲水性基板表面（例如用硫酸阳极化处理过的铝基板表面）的在机显影的负性平版印刷版。
本发明的红外辐射敏感可成像元件显示出几种理想的性质，例如在机显影性方面的连贯性，高灵敏度，良好的保存期限和长运转周期，而且不需要曝光后烘焙步骤。另外，所述成像后的元件在较低的成像能量下在成像后（和显影前）具有改进的印刷输出，而在点增益（dot gain）方面没有不可接受的增加。通过提供包含在暴露于成像IR辐射时能提供颜色变化的酸生成组合物的顶涂层而实现了这些优点。
具体实施方式
定义
除非在上下文中另有指出，当用在本文中时，术语“可成像元件”、“平版印刷版前体”和“印刷版前体”理解为指的是本发明的实施方案。
另外，除非在上下文中另有指出，在本文中描述的各种“成分”，例如“主聚合物粘合剂”、“可自由基聚合成分”、“红外辐射吸收化合物”、“酸生成化合物”、“碘
阳离子”、“含硼阴离子”、“第二聚合物粘合剂”、“磷酸盐（甲基）丙烯酸酯”以及类似的术语也指这些成分的混合物。因此，冠词"a"、"an"和"the"的使用不必理解成仅仅指的是单一成分。
除非另有指出，百分数指的是基于干重的百分比。
为了澄清对于与聚合物相关的任何术语的定义，应当参考国际纯粹和应用化学联合会（"IUPAC"）出版的"Glossary of Basic Terms in Polymer Science"，PureAppl. Chem. 68, 2287-2311 (1996)。但是，应当以在本文中明确阐明的任何定义为准。
“接枝”聚合物或共聚物指的是这样的聚合物，其具有分子量为至少200的侧链。
术语“聚合物”指的是包括低聚物在内的高和低分子量聚合物，并且包括均聚物和共聚物。
术语“共聚物”指的是由两种或更多种不同单体得到的聚合物。
术语“主链”指的是聚合物中原子（碳或杂原子）的链，其中连接了多个侧基。这种主链的一个实例是由一种或多种烯键式不饱和聚合单体的聚合反应获得的“全碳”主链。但是，其他主链可以包括杂原子，其中该聚合物通过缩聚反应或其他一些手段形成。
可成像层
可成像元件包括设置在适合基板上的红外（IR）辐射敏感组合物以形成可成像层。在需要使用适当辐射就可聚合的涂布涂层，特别是当需要去除该涂层的未曝光区域而不是曝光区域的任何场合，所述可成像元件都可以具有效用。所述IR辐射敏感组合物可以用于制备可成像元件中的可成像层，例如用于集成电路的印刷电路板，微光学器件、滤光片、光掩模和印刷印版（例如将在下面更详细地定义的平板印刷版前体）。
可成像层（和IR辐射敏感组合物）包括一种或多种可自由基聚合的成分，其每一种都含有可以使用自由基引发进行聚合的一种或多种可自由基聚合基团。例如，这些可自由基聚合成分可以包含一种或多种可自由基聚合的单体或低聚物，所述单体或低聚物具有一种或多种可加成聚合的烯键式不饱和基团、可交联的烯键式不饱和基团、可开环聚合的基团、叠氮基团、芳基重氮
盐基团、芳基重氮磺酸盐基团、或它们的组合。类似地，也可以使用具有这些可自由基聚合基团的可交联聚合物。
能够聚合或交联的适合烯键式不饱和成分包括具有一种或多种可聚合基团的烯键式不饱和可聚合单体，包括醇的不饱和酯，例如多元醇的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。也可以使用低聚物或预聚物，例如聚氨酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、以及不饱和聚酯树脂。在一些实施方案中，所述可自由基聚合成分含有羧基。
有用的可自由基聚合成分包括含有可加成聚合的烯键式不饱和基团（包括多种丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯基团及其组合）的可自由基聚合单体或低聚物，或可自由基交联的聚合物。可自由基聚合化合物包括由具有多种可聚合基团的脲聚氨酯（甲基）丙烯酸酯或聚氨酯（甲基）丙烯酸酯衍生得到的那些化合物。例如，可自由基聚合成分可以通过将基于己二异氰酸酯的DESMODUR? N100脂肪族多异氰酸酯树脂（Bayer Corp., Milford, Conn.）与丙烯酸羟乙酯和季戊四醇三丙烯酸酯反应而制备。有用的可自由基聚合化合物包括可由Kowa American购得的NK Ester A-DPH (二季戊四醇六丙烯酸酯)和可由Sartomer Company, Inc购得的Sartomer 399 (二季戊四醇五丙烯酸酯)、Sartomer 355 (二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯)、Sartomer 295 (季戊四醇四丙烯酸酯)、Sartomer 399 (二季戊四醇五丙烯酸酯)和Sartomer 415 [乙氧基化(20)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯]。
许多其他的可自由基聚合成分对本领域技术人员而言都是已知的，并且描述在相当多的文献中，包括Photoreactive Polymers: The Science and Technology of Resists. A Reiser, Wiley, New York, 1989, 第 102-177页，由B.M. Monroe在Radiation Curing: Science and Technology. S.P. Pappas编, Plenum, New York, 1992, 第399-440页，以及在A.B. Cohen和P. Walker的"Polymer Imaging"，在Imaging Processes and Material. J.M. Sturge等人 (编者), Van Nostrand Reinhold, New York, 1989, 第226-262页。例如，有用的可自由基聚合成分还描述在EP 1,182,033A1 (如上注释)，从第[0170]段开始，以及美国专利6,309,792 (Hauck等人)、6,569,603 (Furukawa)和6,893,797 (Munnelly等人)中，所有上述文献在此引用作为对这些成分的参考。
其他有用的可自由基聚合成分包括在同时待审和普通受让的美国专利申请第11/949,810号（由Bauman、Dwars、Strehmel、Simpson、Savariar-Hauck和Hauck于2007年12月4日提交）中，其中包括1H-四唑基团。针对这些成分，将这个同时待审的申请在此引用作为参考。
除了上述可自由基聚合成分以外，或者代替上述可自由基聚合成分，所述可成像层（和IR辐射敏感组合物）可以包含带有连接到主链上的侧链的聚合物材料，该侧链包含能够由引发剂组合物（如下所述）产生的自由基引发聚合（或交联）的一种或多种可自由基聚合基团（例如烯键式不饱和基团）。每个分子上可以有至少两个这种侧链。所述可自由基聚合基团（或烯键式不饱和基团）可以为连接到所述聚合物主链上的脂肪族或芳香族丙烯酸酯侧链的一部分。通常，每个分子上有至少2至最高20个这种基团，或典型地每个分子上有2至10个这种基团。
这种可自由基聚合聚合物也可以包含亲水性基团，非限制性地包括羧基、磺基或磷酰基，该亲水性基团直接连接到主链上或者连接成作为除了可自由基聚合侧链之外的侧链的一部分。
包含能够以这种方式使用的聚合物的有用的市售产品包括可由Bayer Material Science购买的Bayhydrol? UV VP LS 2280、Bayhydrol? UV VP LS 2282、Bayhydrol? UV VP LS 2317、Bayhydrol? UV VP LS 2348和Bayhydrol? UV XP 2420，以及可由BASF购买的Laromer(TM) LR 8949、Laromer(TM) LR 8983和Laromer(TM) LR 9005。
所述一种或多种可自由基聚合成分（单体、低聚物或聚合物）在可成像层中的存在量为至少10重量%至最高80重量%，且典型地为20至50重量%，基于所述可成像层的总干重。所述可自由基聚合成分与总聚合物粘合剂（如下所述）的重量比一般为5:95至95:5，典型地为10:90至 90:10，或甚至为30:70至70:30。
所述可成像层（和IR辐射敏感组合物）还包括引发剂组合物，该引发剂组合物包含在将该组合物暴露于成像辐射时能够产生足够引发所有各种可自由基聚合成分的聚合反应的一种或多种引发剂。所述引发剂组合物通常对相应于至少700 nm和最高至并包括1400 nm（典型地从750至1250 nm）的光谱范围的红外成像辐射响应迅速。使用对所期望的成像波长适合的引发剂组合物。
所述引发剂组合物可以包括一种或多种碘
阳离子和一种或多种含硼阴离子，碘
阳离子和含硼阴离子的摩尔比为至少1.2:1和最高3.0:1，并且典型为1.4:1至2.5:1或1.4:1至2.0:1。
有用的碘
阳离子在本领域中是公知的，非限制性地包括美国专利申请公布2002/0068241 (Oohashi等人)、WO 2004/101280 (Munnelly等人)以及美国专利5,086,086 (Brown- Wensley等人)、5,965,319 (Kobayashi)和6,051-366 (Baumann等人)。例如，有用的碘阳离子包括带正电的碘
离子，(4-甲基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]-部分和适合的带负电反离子。这种碘
盐的一个代表性实例为Ciba Specialty Chemicals (Tarrytown, NY)市售的Irgacure? 250，即(4-甲基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]碘六氟磷酸盐，且以75%碳酸丙烯酯溶液的形式供应。
所述碘
阳离子可以与适合数目的带负电反离子配对，例如卤离子、六氟磷酸根、硫代硫酸根、六氟锑酸根、四氟硼酸根、磺酸根、氢氧根、高氯酸根、以及对本领域技术人员显而易见的其他带负电反离子。
因此，所述碘
阳离子可以作为一种或多种碘
盐的一部分来供应，并且，如下所述，所述碘
阳离子可以作为还包含适当的含硼阴离子的碘
硼酸盐来供应。例如，所述碘阳离子和含硼阴离子可以作为如下所示结构(IB)和(IBz)的组合的盐的一部分来供应，或者碘
阳离子和含硼阴离子两者可以从不同的来源来供应。但是，如果它们至少由碘
硼酸盐来供应，因为这些盐通常供应1:1摩尔比的碘
阳离子和含硼阴离子，所以必须由其他来源，例如如上所述的碘
盐，来供应额外的碘
阳离子。
例如，所述可成像层（和元件）可以包含碘阳离子的混合物，其中的一些来自碘
硼酸盐（如下所述），而其中的另一些来自不含硼的碘
盐（如上所述）。当两种类型的碘
盐都存在时，来自碘
硼酸盐的碘
与来自不含硼的碘
盐的碘
的摩尔比可以为高至5:1，并且典型地为高至2.5:1。
一种类型的有用的碘阳离子包括由下面的结构式(IB)表示的二芳基碘
阳离子：
其中X和Y独立地为卤素基团(例如，氟、氯或溴)，取代或未取代的具有1-20个碳原子的烷基(例如，甲基、氯代甲基、乙基、2-甲氧基乙基、正丙基、异丙基、异丁基、正丁基、叔丁基、所有支链和直链的戊基、1-乙基戊基、4-甲基戊基、所有的己基异构体、所有的辛基异构体、苄基、4-甲氧基苄基、对甲基苄基、所有的十二烷基异构体、所有的二十烷基异构体、以及取代或未取代的支链和直链的单-和多-卤代烷基)，取代或未取代的具有1-20个碳原子的烷氧基 (例如，取代或未取代的甲氧基、乙氧基、异丙氧基、叔丁氧基、(2-羟基十四烷)氧基、和各种其他直链和支链的亚烷氧基烷氧基)，取代或未取代的在碳芳环上具有6-10个碳原子的芳基(例如取代或未取代的苯基和萘基，包括单-和多-卤代苯基和萘基)，或取代或未取代的在环结构上具有3-8个碳原子的环烷基(例如，取代或未取代的环丙基、环戊基、环己基、4-甲基环己基和环辛基)。典型地，X和Y独立地为取代或未取代的具有1-8个碳原子的烷基、具有1-8个碳原子的烷氧基、或在环上具有5-6个碳原子的环烷基，且更优选地，X和Y独立地为取代或未取代的具有3-6个碳原子的烷基(并且特别是具有3-6个碳原子的支链烷基)。因此，X和Y可以为相同或不同的基团，各种X基团可以为相同或不同的基团，并且各种Y基团可以为相同或不同的基团。“对称”和“不对称”二芳基碘
硼酸盐化合物都是在计划中的，但是“对称”化合物（也即是说，它们在两个苯环上具有相同的基团）是优选的。
另外，两个或多个相邻的X或Y基团可以结合起来与各个苯基形成稠合碳环或杂环。
所述X和Y基团可以在苯环上的任何位置上，但是通常它们在苯环之一或两个苯环上的2-或4-位上。
不论在碘
阳离子上存在什么类型的X和Y基团，在X和Y取代基中的碳原子的总数通常为至少6，典型地为至少8，并且高至40个碳原子。因此，在一些化合物中，一个或多个X基团可以包含至少6个碳原子，而Y不存在(q为0)。或者，一个或多个Y基团可以包含至少6个碳原子，而X不存在(p为0)。而且，一个或多个X基团可以包含少于6个碳原子，且一个或多个Y基团可以包含少于6个碳原子，只要在X和Y中的碳原子的总数为至少6。再次，在两个苯环上可能总共有至少6个碳原子。
在结构IB中，p和q独立地为0或1-5的整数，条件是p或q为至少1。典型地，p和q两者都为至少1，或p和q各自为1。因此，应当理解的是，在苯环上没有被X或Y取代的碳原子在那些环位置上具有氢原子。
有用的含硼阴离子为具有连接至该硼原子上的四个有机基团的有机阴离子。这些有机阴离子可以为脂肪族的、芳香族的、杂环的或这些中的任意组合。一般而言，所述有机基团为取代或未取代的脂肪族或碳环芳香族基团。例如，有用的含硼阴离子可以用下面的结构(IBZ)表示：
其中R1、R2、R3和R4独立地为除了氟代烷基之外的取代或未取代的具有1-12个碳原子的烷基(例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、所有的戊基异构体、2-甲基戊基、所有的己基异构体、2-乙基己基、所有的辛基异构体、2,4,4-三甲基苯基、所有的壬基异构体、所有的癸基异构体、所有的十一烷基异构体、所有的十二烷基异构体、甲氧基甲基和苄基)，取代或未取代的在芳环上具有6-10个碳原子的碳环芳基(例如苯基、对甲基苯基、2,4-甲氧基苯基、萘基、和五氟苯基)，取代或未取代的具有2-12个碳原子的烯基(例如乙烯基、2-甲基乙烯基、烯丙基、乙烯基苄基、丙烯酰基和巴豆酰基)，取代或未取代的具有2-12个碳原子的炔基(例如乙炔基、2-甲基乙炔基和2,3-丙炔基)，取代或未取代的在环结构上具有3-8个碳原子的环烷基(例如，环丙基、环戊基、环己基、4-甲基环己基和环辛基)，或取代或未取代的具有5-10个碳、氧、硫和氮原子的杂环基(同时包括芳香性和非芳香性基团，例如取代或未取代的吡啶基、嘧啶基、呋喃基、吡咯基、咪唑基、三唑基、四唑基、吲哚基、喹啉基、二唑基和苯并
唑基)。或者，R1、R2、R3和R4中的两个或多个可以连接起来与硼原子一起形成杂环，所述环具有高至7个碳、氮、氧或氮原子。R1至R4都不包含卤素原子，特别是氟原子。
典型地，R1、R2、R3和R4独立地为如上所定义的取代或未取代的烷基或芳基，并且更典型地，R1、R2、R3和R4中的至少3个为相同或不同的取代或未取代的芳基（例如取代或未取代的苯基）。例如，R1、R2、R3和R4全部都可以是相同或不同的取代或未取代的芳基，或者所有这些基团都为相同的取代或未取代的苯基。Z-可以为四苯基硼酸根，其中所述苯基为取代或未取代的（例如，所有四个苯基都为未取代的苯基）。
一些代表性的碘硼酸盐化合物非限制性地包括4-辛氧基苯基苯基碘
四苯基硼酸盐、[4-[(2-羟基四癸基)-氧]苯基]苯基碘
四苯基硼酸盐、二(4-叔丁基苯基)碘
四苯基硼酸盐、4-甲基苯基-4'-己基苯基碘
四苯基硼酸盐、4-甲基苯基-4'-环己基苯基碘
四苯基硼酸盐、二(叔丁基苯基)碘
四(五氟苯基)硼酸盐、4-己基苯基苯基碘
四苯基硼酸盐、4-甲基苯基-4'-环己基苯基碘
正丁基三苯基硼酸盐、4-环己基苯基-4'-苯基碘
四苯基硼酸盐、2-甲基-4-叔丁基苯基-4'-甲基苯基碘四苯基硼酸盐、4-甲基苯基-4'-戊基苯基碘
四[3,5-二(三氟甲基)苯基]-硼酸盐、4-甲氧基苯基-4'-环己基苯基碘
四(五氟苯基)硼酸盐、4-甲基苯基-4'-十二烷基苯基碘
四(4-氟苯基)硼酸盐、二(十二烷基苯基)碘
四(五氟苯基)-硼酸盐、和二(4-叔丁基苯基)碘
四(1-咪唑基)硼酸盐。两种或多种这些化合物的混合物也可以用在碘硼酸盐引发剂组合物中。
总体而言，这些二芳基碘
硼酸盐化合物可以通过将芳基碘化物与取代或未取代的芳烃反应，然后通过与硼酸阴离子的离子交换而制备。各种制备方法的细节描述在美国专利6,306,555 (Schulz等人)、和在本文中引用的参考文献，以及Crivello的J. Polymer Sci., Part A: Polymer Chemistry, 37, 4241-4254 (1999)中。
含硼阴离子也可以作为如下所述的红外辐射吸收染料（例如，阳离子染料）的一部分而提供。这种含硼阴离子如上所述一般用结构(IBZ)来限定。
所述碘
阳离子和含硼阴离子在可成像层（和IR辐射敏感组合物）中一般存在的总量为，基于可成像层的总干重，至少1%和高至且包括15%，并且典型地为至少4和高至且包括10%。各种引发剂成分的最佳用量对于不同的化合物和可成像层（辐射敏感组合物）的理想敏感度而言可能不同，且对本领域技术人员而言是显而易见的。
所述可成像层（和IR辐射敏感组合物）也可以包括杂环巯基化合物，包括巯基三唑化合物、巯基苯并咪唑化合物、巯基苯并
唑化合物、巯基苯并噻唑化合物、巯基苯并二唑化合物、巯基四唑化合物，比如描述在例如美国专利6,884,568 (Timpe等人)中的那些，其用量为，基于辐射敏感组合物的总固体，至少0.5和高至并包括10重量%。有用的巯基三唑化合物包括3-巯基-1,2,4-三唑、4-甲基-3-巯基-1,2,4-三唑、5-巯基-1-苯基-1,2,4-三唑，4-氨基-3-巯基-1,2,4,-三唑、3-巯基-1,5-二苯基-1,2,4-三唑、以及5-(对氨基苯基)-3-巯基-1,2,4-三唑。
一些有用的引发剂组合物包括下列组合：
仅由不含硼的碘
盐供应的碘
阳离子和单独从包括阳离子红外染料的其他盐供应的含硼阴离子，
同时从不含硼的碘
盐和碘
硼酸盐供应的碘
阳离子和仅从碘
硼酸盐供应的含硼阴离子，或
同时从不含硼的碘盐和碘
硼酸盐供应的碘
阳离子和同时从碘
硼酸盐和其他来源（例如阳离子IR染料）供应的含硼阴离子。
可成像层（IR辐射敏感组合物）一般包括一种或多种红外辐射吸收化合物，该红外辐射吸收化合物吸收成像辐射，或使该组合物对λmax在上述电磁波谱的IR区域中（例如700 - 1400 nm）的成像辐射敏感。其他实施方案包括通常吸收700 - 1200 nm的辐射以及典型地750 - 1250 nm的辐射并且在300 - 600 nm具有极少吸收的红外辐射吸收化合物（“IR吸收化合物”）。
适合的IR染料的实例非限制性地包括：偶氮染料、方酸（squarylium）染料、三芳基胺染料、噻唑
染料、吲哚
染料、氧杂菁染料、
唑
染料、花青染料、部花青染料、酞菁染料、吲哚菁染料、吲哚三碳菁（indotricarbocyanine）染料、半菁（hemicyanine）染料、链菁（streptocyanine）染料、氧杂三碳菁（oxatricarbocyanine）染料、硫菁（thiocyanine）染料、硫杂三碳菁（thiatricarbocyanine）染料、部花青染料、隐花青染料、萘菁（naphthalocyanine）染料、聚苯胺染料、聚吡咯染料、聚噻吩染料、chalcogenopyryloarylidene和bi(chalcogenopyrylo)-聚甲炔染料、羟基吲嗪（oxyindolizine）染料、吡喃
染料、吡唑啉偶氮（pyrazoline azo）染料、
嗪染料、萘醌染料、蒽醌染料、醌亚胺染料、次甲基染料、芳基次甲基（arylmethine）染料、聚甲炔染料、方菁（squaraine）染料、
唑染料、克酮酸（croconine）染料、卟啉染料以及前述染料种类的任何取代或离子形式。适合的染料描述在，例如，美国专利4,973,572 (DeBoer)、 5,208,135 (Patel等人)、5,244,771 (Jandrue Sr.等人)和 5,401,618 (Chapman等人)，以及EP 0 823 327A1 (Nagasaka 等人)中。
带有阴离子发色团的花青染料也是有用的。例如，所述花青染料可以具有带有两个杂环基的发色团。在另一个实施方案中，所述花青染料可以具有至少两个磺酸基，更特别地具有两个磺酸基和两个假吲哚基。这种类型的有用的IR敏感花青染料描述在例如美国专利申请公开2005-0130059 (Tao)中。一类适合的花青染料的一般描述由WO 2004/101280 (Munnelly等人)第0026段中的化学式显示。
除了低分子量IR吸收染料以外，也可以使用结合到聚合物上的IR染料部分。此外，也可以使用IR染料阳离子，也即是说，该阳离子是与在侧链上包含羧基、磺基、二氧磷基或膦酰基的聚合物发生离子相互作用的染料盐的IR吸收部分。
近红外吸收花青染料也是有用的，并且描述在例如美国专利6,309,792 (Hauck等人)、6,264,920 (Achilefu等人), 6,153,356 (Urano等人)和5,496,903 (Watanabe等人)中。适合的染料可以使用常规方法和原料形成或由包括American Dye Source (Baie D'Urfe, Quebec, 加拿大)和FEW Chemicals (德国)（在实施例中使用的IR染料S0930就是由该公司获得的）的各种商业来源获得。用于近红外二极管激光束的其他有用的染料描述在，例如，美国专利4,973,572（如上注释）。
有用的IR吸收化合物包括各种颜料，包括炭黑，例如用本领域公知的增溶基团进行表面功能化的炭黑。接枝到亲水性非离子聚合物上的炭黑，例如FX-GE-003 (由Nippon Shokubai制造)，或者用阴离子基团进行表面功能化的炭黑，例如CAB-O-JET? 200或CAB-O-JET? 300 (由Cabot Corporation制造)，也是有用的。其他有用的颜料非限制性地包括酞菁绿、油溶苯胺黑、铁（III）氧化物、氧化锰、普鲁士蓝和巴黎蓝。颜料颗粒的尺寸应当不大于可成像层的厚度。
所述红外辐射吸收染料在可成像层（和IR辐射敏感组合物）中存在的总量一般为，基于可成像层的总干重，至少0.5%和高至且包括10%，并且典型地为至少1和高至且包括10%。根据所使用的具体化合物，用于此目的所需的具体用量对于本领域技术人员而言是容易和明显的。
可成像层（和IR辐射敏感组合物）包括一种或多种主聚合物粘合剂，其通常（但不总是）以平均粒径为10 – 500nm且典型为150 – 450nm的离散颗粒的形式存在，并且通常均匀地分布在该层中。粒状颗粒聚合物粘合剂在室温下存在为离散颗粒，例如在含水分散液中。但是，例如在用于干燥涂布后的可成像层制剂的温度下，这些颗粒也可以部分聚结或变形。即使在这种环境下，粒状结构也没有被破坏。用折射率法测量，这些聚合物粘合剂的分子量(Mn)通常为至少30,000，并且典型为至少50,000 - 100,000，或60,000 - 80,000。
一些有用的主聚合物粘合剂包括具有悬挂聚环氧烷侧链的聚合物的聚合物乳液或分散液，所述悬挂聚环氧烷侧链能够使得可成像元件成为“在机”可显影的。这些主聚合物粘合剂描述在，例如美国专利6,582,882 (Pappas等人)和6,899,994 (如上所注)和美国专利申请公开2005/0123853 (Munnelly等人)中。这些主聚合物粘合剂在可成像层中作为离散颗粒存在。
其他有用的主聚合物粘合剂具有疏水主链并同时包括下列a）和b）两种重复单元，或单独包括b）重复单元：
a）具有直接连接到疏水主链上的悬挂氰基的重复单元，和
b）具有包含聚环氧烷链段的亲水性悬挂基团的重复单元。
这些主聚合物粘合剂包含聚环氧烷链段，例如聚环氧乙烷或聚环氧丙烷链段。这些聚合物可以为具有主链聚合物和聚环氧烷悬挂侧链或链段的接枝共聚物或具有包含环氧烷的重复单元和包含非环氧烷的重复单元的嵌段的嵌段共聚物。接枝共聚物和嵌段共聚物都能够另外具有直接连接到疏水主链上的氰基。环氧烷组成单元一般为C1 - C6环氧烷基团，并且更典型为C1 - C3环氧烷基团。烷撑部分可以为直链或支链的或它们的取代形式。
仅为举例说明的目的，这些重复单元可以包含如下基团：包含氰基的悬挂基团、氰基取代的烷撑基团、或氰基封端的烷撑基团。重复单元也可以衍生自烯键式不饱和可聚合单体，例如丙烯腈、甲基丙烯腈、氰基丙烯酸甲酯、氰基丙烯酸乙酯或它们的组合。但是，氰基可以用其他常规手段引入到聚合物中。这些含氰基聚合物粘合剂的实例描述在，例如，美国专利申请公开2005/003285 (Hayashi等人)中。
同样为了举例说明的目的，这些主聚合物粘合剂可以通过适当烯键式不饱和可聚合单体或大分子单体的组合或混合物进行聚合形成，所述烯键式不饱和可聚合单体或大分子单体例如：
A）丙烯腈、甲基丙烯腈或它们的组合；
B）丙烯酸或甲基丙烯酸的聚环氧烷酯，例如聚乙二醇甲醚丙烯酸酯、聚乙二醇甲醚甲基丙烯酸酯或它们的组合；以及
C）任选地，单体，例如丙烯酸、甲基丙烯酸、苯乙烯、羟基苯乙烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯（例如甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸苄酯）、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺或这些单体的组合。
聚环氧烷链段在这些主聚合物粘合剂中的含量为0.5 - 60 重量%，并且典型为2 - 50 重量%。聚环氧烷链段在嵌段共聚物中的含量一般为5 - 60 重量%，并且典型为10 - 50 重量%。具有聚环氧烷侧链的主聚合物粘合剂以离散颗粒的形式存在也是适合的。
在一些实施方案中，所述主聚合物粘合剂为可自由基聚合的主聚合物粘合剂。这些主聚合物粘合剂可以为“可自交联的”，用“可自交联的”我们指的是不需要单独的可自由基聚合组分。这些粘合剂具有包含多种（至少两种）氨基甲酸乙酯部分的主链。在一些实施方案中，在每个主链重复单元中有至少两个这些氨基甲酸乙酯部分。所述主聚合物粘合剂还包括连接至主链上的侧链，该侧链包括一种或多种可自由基聚合基团（例如烯键式不饱和基团），该可自由基聚合基团能够由引发剂组合物（如下所述）产生的自由基引发聚合（交联）。每个分子上可以有至少两个这些侧链。
所述可自由基聚合基团（或烯键式不饱和基团）可以为连接到所述聚合物主链上的脂肪族或芳香族丙烯酸酯侧链的一部分。通常，每个分子上有至少2至最高20个这种基团，或典型地每个分子上有2至10个这种基团。
这种主聚合物粘合剂也可以包含亲水性基团，该亲水性基团非限制性地包括羧基、磺基或二氧磷基，或者直接连接到主链上或者连接作为除了可自由基聚合侧链之外的侧链的一部分。在大多数实施方案中，所述亲水性基团，例如羧基，直接连接到主链上。
包含在本发明中有用的主聚合物粘合剂的有用的市售产品非限制性地包括可由Bayer Material Science购买的Bayhydrol? UV VP LS 2280、Bayhydrol? UV VP LS 2282、Bayhydrol? UV VP LS 2317、Bayhydrol? UV VP LS 2348和Bayhydrol? UV XP 2420，以及可由BASF购买的LaromerTM LR 8949、LaromerTM LR 8983和LaromerTM LR 9005。
其他有用的粒状主聚合物粘合剂包括聚氨酯-丙烯酸酯混杂物。这种混杂物的分子量为50,000 - 500,000。根据制造过程中使用的具体反应试剂，这些混杂物在性质上可以为“芳香族的”或“脂肪族的”。也可以使用两种或多种聚氨酯-丙烯酸酯混杂物的颗粒混合物。例如，可以使用Hybridur? 570聚合物分散液与Hybridur? 870聚合物分散液的混合物。
一些聚氨酯-丙烯酸酯混杂物可以以分散液的形式由Air Products and Chemicals, Inc. (Allentown, PA)购买到，例如聚氨酯-丙烯酸酯混杂物微球的Hybridur? 540、560、570、580、870、878、880聚合物分散液。这些分散液一般在适合的含水介质中包括至少30%固体的聚氨酯-丙烯酸酯混杂物微球，该含水介质还可以包含市售表面活性剂、防泡剂、分散剂、防腐蚀剂以及任选地，颜料和可与水混溶的有机溶剂。关于每一种市售Hybridur?聚合物分散液的进一步细节可以通过访问Air Products and Chemicals, Inc.的网站获得。
基于可成像层的总干重，所述主聚合物粘合剂在在辐射敏感组合物中的存在量一般为至少10%至高至90%，并且典型地为10%-70%。这些粘合剂可以占所有聚合物粘合剂（主聚合物粘合剂和第二聚合物粘合剂）干重的高至100%。
除了所述主聚合物粘合剂以外，在可成像层中还可以使用另外的聚合物粘合剂（“第二”聚合物粘合剂）。这些聚合物粘合剂可以为除了上述的聚合物粘合剂以外本领域公知的用在负性辐射敏感组合物中的任何聚合物粘合剂。基于可成像层的干涂布重量，所述第二聚合物粘合剂的存在量可以为1.5 - 70 重量%，且典型地为1.5 - 40%，并且其可以占所有聚合物粘合剂干重的30 - 60 重量%。
第二聚合物粘合剂也可以是具有包含多种（至少两种）氨基甲酸乙酯部分的主链的颗粒聚合物。用动态光散射法测量，这些聚合物粘合剂的分子量（Mn）通常为至少2,000，并且典型为至少100,000 - 500,000，或100,000 - 300,000。这些聚合物粘合剂通常在可成像层中以颗粒形式存在，指的是它们在室温下以离散颗粒存在，例如在含水分散液中。但是，例如在用于干燥涂布后的可成像层制剂的温度下，这些颗粒也可以部分聚结或变形。即使在这种环境下，粒状结构也没有被破坏。在大多数实施方案中，这些聚合物粘合剂的平均粒径为10 - 300 nm，且典型地，平均粒径为30 - 150 nm。所述颗粒状第二聚合物粘合剂通常是市售可得的，并且用作具有至少20%和高至50%固体的含水分散液。可能的是，这些聚合物粘合剂为在相同或不同分子中的氨基甲酸乙酯部分之间至少部分交联的，该交联会发生在聚合物制造过程中。这仍然留下了可用于成像过程中的反应的可自由基聚合基团。
所述第二聚合物粘合剂可以为均相的，即溶解在涂布溶剂中，或可以以离散颗粒存在。这些第二聚合物粘合剂非限制性地包括：(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸酯树脂（例如(甲基)丙烯酸酯类），聚乙烯醇缩醛，酚醛树脂，衍生自苯乙烯、N-取代的环酰亚胺或马来酸酐的聚合物，例如在EP 1,182,033A1 (Fujimaki等人)和美国专利6,309,792 (Hauck等人)、6,352,812 (Shimazu等人)、6,569,603 (Furukawa等人)和6,893,797 (Munnelly等人)中描述的那些聚合物。同样有用的聚合物为在美国专利7,175,949 (Tao等人)中描述的乙烯基咔唑聚合物和在美国专利7,279,255 (Tao等人)中描述的具有悬挂乙烯基的聚合物。颗粒形式的聚乙二醇甲基丙烯酸酯/丙烯腈/苯乙烯共聚物、衍生自羧苯基甲基丙烯酰胺/丙烯腈/甲基丙烯酰胺/N-苯基马来酰亚胺的溶解共聚物、衍生自聚乙二醇甲基丙烯酸酯/丙烯腈/乙烯基咔唑/苯乙烯/甲基丙烯酸的共聚物、衍生自N-苯基马来酰亚胺/甲基丙烯酰胺/甲基丙烯酸的共聚物、衍生自氨基甲酸乙酯-丙烯酸酯中间体A (对甲苯磺酰异氰酸酯和甲基丙烯酸羟乙酯的反应产物)/丙烯腈/N-苯基马来酰亚胺的共聚物以及衍生自N-甲氧基甲基甲基丙烯酰胺/甲基丙烯酸/丙烯腈/N-苯基马来酰亚胺的共聚物是有用的。
可成像层（IR辐射敏感组合物）可以进一步包含一种或多种磷酸酯(甲基)丙烯酸酯，其每一个的分子量通常都大于200，并且典型地为至少200和高至并包括1000。用“磷酸酯(甲基)丙烯酸酯”，我们也意在包括“磷酸酯甲基丙烯酸酯”以及在丙烯酸酯部分的乙烯基上具有取代基的其他衍生物。这些化合物以及它们在可成像层中的用途更详细地描述在美国专利7,175,969 (Ray等人)中。
代表性的磷酸酯(甲基)丙烯酸酯非限制性地包括乙二醇甲基丙烯酸酯磷酸酯(可由Aldrich Chemical Co.得到)、可以以Kayamer PM-2由Nippon Kayaku (日本)得到的甲基丙烯酸2-羟乙酯的磷酸酯、可以以Kayamer PM-21 (Nippon Kayaku，日本)得到的二(己内酯改性的甲基丙烯酸2-羟乙酯)的磷酸酯、以及可以以Phosmer M、Phosmer MH、Phosmer PE、Phosmer PEH、Phosmer PP和Phosmer PPH由Uni-Chemical Co., Ltd.(日本)得到的带有4-5个环氧基团的聚乙二醇甲基丙烯酸酯磷酸酯。
基于组合物总干重，所述磷酸酯(甲基)丙烯酸酯在辐射敏感组合物种的存在量可以为至少0.5和高至并包括20%，并且典型地为至少0.9和高至并包括10%。
可成像层还可以包括“主添加剂”，其为分子量为至少200和高至并包括4000的聚亚烷基二醇或其醚或酯。基于成像层的总干重，这种主添加剂的存在量为至少2和高至并包括50重量%。有用的主添加剂非限制性地包括：聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙二醇甲醚、聚乙二醇二甲醚、聚乙二醇单乙醚、聚乙二醇二丙烯酸酯、乙氧基化双酚A二(甲基)丙烯酸酯、以及聚乙二醇单甲基丙烯酸酯。同样有用的是Sartomer SR9036 (乙氧基化(30)双酚A二甲基丙烯酸酯)、CD9038 (乙氧基化(30)双酚A二丙烯酸酯)、SR399 (二季戊四醇五丙烯酸酯)和Sartomer SR494 (乙氧基化(5)季戊四醇四丙烯酸酯)，以及可由Sartomer Company, Inc.得到的所有类似的化合物。在一些实施方案中，主添加剂可以为“非反应性的”，意指其不包含可聚合乙烯基。
可成像层还可以包括“第二添加剂”，所述第二添加剂为聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯基咪唑或聚酯，基于可成像层的总干重，其存在量为高至并包括20重量%。
成像层还可以以常规用量包括多种任选化合物，非限制性地包括：着色剂和着色剂前体、彩色显影剂、分散剂、保湿剂、生物杀灭剂、增塑剂、用于可涂性或其他性能的表面活性剂、增粘剂、pH调节剂、干燥剂、消泡剂、防腐剂、抗氧化剂、显影助剂、流变改性剂或它们的组合，或在平板印刷领域中常用的任何其他添加剂。有用的增粘剂包括羟丙基纤维素、羟乙基纤维素、羧甲基纤维素和聚乙烯基吡咯烷酮。
顶涂层制剂
可成像元件包括涂布并设置在可成像层上的通常称为保护涂层（overcoat）或顶涂层（topcoat layer）的层，例如在WO 99/06890 (Pappas等人)中所述。这种顶涂层包含一种或多种水溶性聚合物粘合剂，该水溶性聚合物粘合剂选自例如如下的聚合物：聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯亚胺、聚乙烯基咪唑、以及乙烯基吡咯烷酮、乙烯亚胺和乙烯基咪唑中的两种或多种的共聚物，其干涂层重量通常为至少0.1和高至并包括2 g/m2（典型地为0.1 - 0.5 g/m2），其中水溶性聚合物占顶涂层干重的至少50%和高至98%。顶涂层聚合物粘合剂也描述在美国专利3,458,311 (Alles)、4,072,527 (Fanni)和4,072,528 (Bratt)以及欧洲专利公开275,147 A2 (Wade等人)、403,096A2 (AIi)、354,475A2 (Zertani等人)、465,034A2 (Ueda等人)和352,630A2 (Zertani 等人)中。
顶涂层还包括在曝光于成像红外辐射时能够改变颜色的组合物。这种组合物可以包含各种组分制剂。在一个实施方案中，其包含：(1)红外吸收化合物，(2)在该IR吸收化合物的存在下响应于成像红外辐射而产生酸的化合物，以及任选地(3)在酸的存在下提供颜色变化的一种或多种化合物。这些组分中的每一个都在下面进行限定。在一些实施方案中，组分(1)和(3)是相同的，而在另一些实施方案中，它们是不同的。在后一种实施方案中，组分(3)可以为螺内酯或螺内酰胺着色剂前体。这些化合物通常为无色或颜色很淡的，直至酸的存在导致开环，提供有色物质或更深颜色的物质。
例如，有用的螺内酯和螺内酰胺着色剂前体包括由下面结构(CF)表示的化合物：
其中，X为-O-或-NH-，R5和R6一起形成碳环或杂环稠合环。该碳环稠合环可以为饱和或不饱和的并且典型地为5-10个碳原子大小。典型存在为6元苯稠合环。这些环可以为取代或未取代的。
R7和R8独立地为取代或未取代的碳环基团，其或者为饱和的（芳基）或不饱和的（环烷基）。典型地，它们为在环上具有6或10个碳原子的取代或未取代的芳基。R7和R8也可以独立地为5至10元取代或未取代的杂环基团（例如吡咯和吲哚环）。或者，R7和R8一起可以形成如之前所限定的取代或未取代的碳环或杂环。
更有用的着色剂前体可以由下面的结构(CF-1)表示：
其中Y为氮原子或次甲基基团，并且R7和R8如上定义。其中Y为次甲基的化合物是特别有用的。
有用的着色剂前体的实例非限制性地包括：结晶紫内酯（Crystal Violet Lactone）、孔雀绿内酯（Malachite Green Lactone）、3-(N,N-二乙基氨基)-6-氯-7-(β-乙氧基乙氨基)荧烷、3-(N,N,N-三乙基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-7-氯-7-o-氯荧烷、2-(N-苯基-N-甲基氨基)-6-(N-p-甲苯基-N-乙基)氨基荧烷、2-苯胺基-3-甲基-6-(N-乙基-p-甲苯氨基)荧烷、3,6-二甲氧基荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-5-甲基-7-(N,N-二苄基氨基)荧烷、3-(N-环己基-N-甲基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-6-甲基-7-二甲苯氨基荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-6-甲基-7-氯荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-6-甲氧基-7-氯荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-7-(4-氯苯胺基)荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-7-氯荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-7-苄基氨基荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-7,8-苯并荧烷、3-(N,N-二丁基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(N,N-二丁基氨基)-6-甲基-7-二甲苯氨基荧烷、3-哌啶基-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-吡咯烷基-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3,3-二(1-乙基-2-甲基吲哚-3-基)2-苯并[c]呋喃酮、3,3-二((1-正丁基-2-甲基吲哚-3-基)2-苯并[c]呋喃酮、3,3-二(p-二甲基氨基苯基)-6-二甲基氨基2-苯并[c]呋喃酮、3-(4-二乙基氨基-2-乙氧基苯基)-3-(1-乙基-2-甲基吲哚-3-基)-4-氮杂2-苯并[c]呋喃酮、以及3-(4-二乙基氨基苯基)-3-(1-乙基-2-甲基吲哚-3-基)2-苯并[c]呋喃酮。
一些具体的有用的着色剂前体由下面的结构式表示：
基于顶涂层的干重，着色剂前体在顶涂层中的存在量可以为至少1和高至10%，并且典型为3-6%。
在许多实施方案中，组分（1）为红外辐射吸收花青染料（“IR染料”），其包含由下面结构（发色团）表示的花青染料发色团：
其中W为-N(Q1)(Q2)或Cl。Q1和Q2基团独立地为取代或未取代的芳族碳环基团，例如取代或未取代的苯基或萘基。
A和A'独立地为-S-、-O-、-NH-、-CH2-、或-CR'R"- 基团，其中R'和R"独立地为取代或未取代的具有1-8个碳原子的烷基（例如甲基、乙基、异丙基、叔丁基、正己基、苄基和正辛基）。另外，R'和R"一起可以形成取代或未取代的环状基团（在环上具有5或6个碳原子的取代或未取代碳环或杂环基团）。例如，R'和R"可以独立地为取代或未取代的具有1-4个碳原子的烷基。在一些实施方式中，A和A'均为-C(CH3)2-。
Z表示提供取代或未取代的5-至7-元碳环（以及典型地提供5-元碳环）所需的额外碳原子。
Z1和Z2独立地为取代或未取代的苯并或萘并稠环。这些环可以具有一个或多个取代基，例如取代或未取代的烷基、芳基和烷氧基或硝基、氰基、三氟甲基、乙酰基、卤素、磺基、羧基或磺酸根基团。在大多数实施方案中，Z1和Z2都是未取代的苯并稠环。
R1'和R2'独立地为取代或未取代的具有1-12个碳原子的烷基（例如，取代或未取代的甲基、乙基、异丙基、叔丁基、苄基、正己基、癸基和十二烷基）、在环上具有5-10个碳原子的取代或未取代的环烷基（例如，取代或未取代的环戊基和环己基）、以及在芳香环上具有6或10个碳原子的取代或未取代的芳基（例如，苯基、萘基、3-甲基苯基和4-甲氧基苯基）。更可能地，R'和R"独立地为取代或未取代的具有1-4个碳原子的烷基。
这种花青染料发色团通常具有一个或多个增加水溶性的基团，例如羧基（羧酸根）、磺基（磺酸根）和羟基。所述羧基和磺基是最常见的。在一些实施方案中，存在至少三个增加水溶性的基团。所述增加水溶性的基团可以存在于杂环上或作为分子中任何地方的取代基的一部分存在。例如，Z1、Z2、R1'和R2'基团中的一个或多个可以包含一个或多个羧基或磺基。
因此，在许多实施方案中，W是-N(Q1)(Q2)，其中Q1和Q2为相同或不同的取代或未取代的苯基，A和A'独立地为-S-、-O-或-CR'R"基团，其中R'和R"独立地为取代或未取代的烷基，Z1和Z2各自为取代或未取代的萘并稠环，Z表示构成5-元碳环所需的原子，且R1'和R2'独立地为取代或未取代的具有1-4个碳原子的烷基，前提条件是Z1、Z2、R1'和R2'中的一个或多个包含一个或多个羧基或磺基。
这里描述的花青染料发色团可以与任何适当的阳离子结合。
基于顶涂层的总干重，所述花青染料在顶涂层的存在量通常为1-12重量%，典型地为2-8重量%。这些化合物可以使用公知的起始原料和步骤容易地制备。在顶涂层中有用的花青染料的代表性实例为在下面的实施例中使用的IR染料A至D。
在曝光于红外辐射时产生酸的化合物（“酸发生剂”）可以是离子型或非离子型的。在顶涂层制剂中可溶并且在那些条件下能够产生酸的任何化合物都是有用的。通常，它们为通过热引发分解形成布朗斯台得酸的材料。
非离子型酸发生剂包括，例如，卤代烷基取代的s-三嗪，其为用一至三个CX3基团（其中X为溴或氯）取代的s-三嗪。这些化合物的实例非限制性地包括2-苯基-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2,4,6-三(三氯甲基)-s-三嗪、2-甲基-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-苯乙烯基-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(对甲氧基苯乙烯基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基-萘酰-1-基)-4,6-二（三氯甲基）-s-三嗪、2-(4-乙氧基-萘酰-1-基)-4,6-二（三氯甲基）-s-三嗪、和2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘酰-1-基]-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪。有用的水溶性卤代烷基取代的s-三嗪的实例描述在美国专利6,010,821 (Smith等人)中，具有在第6和7栏中所示的通式。另一种有用的实例为在EP 1,075,942 (Kawamura等人)中所述的水溶性三嗪引发剂A，具有在第[0098]段中所示的结构。
离子型酸发生剂包括，例如，
盐，其中
阳离子为碘阳离子、锍、、含氧氧化锍(oxysulphoxonium)、含氧锍(oxysulphonium)、氧化锍（sulphoxonium）、铵、重氮阳离子、硒阳离子或砷阳离子，而阴离子为氯、溴、或非亲核阴离子，例如四氟硼酸根、六氟磷酸根、六氟砷酸根、六氟锑酸根、三氟甲基磺酸根、四(五氟苯基)硼酸根、五氟乙基磺酸根、对甲基苯甲基磺酸根、乙基磺酸根、三氟甲基乙酸根、和五氟乙基乙酸根。典型的
盐包括，例如氯化二苯碘
、六氟磷酸二苯碘
、氯化4,4'-二枯基碘
、六氟磷酸4,4'-二枯基碘
、N-甲氧基-α-甲基吡啶
-对甲苯磺酸盐、4-甲氧基苯-重氮
四氟硼酸盐、4,4'-二(十二烷基苯基)碘
-六氟磷酸盐、2-氰基乙基-三苯基氯化物、三苯基锍六氟锑酸盐、三苯基锍四氟硼酸盐、2-甲氧基-4-氨基苯基重氮
六氟磷酸盐、苯氧基苯基重氮
六氟锑酸盐和苯胺基苯基重氮
六氟锑酸盐。
基于在顶涂层制剂中的总固体量，酸发生化合物在该制剂中的存在量通常为2 - 25 重量%，且典型为5 - 22 重量%。
加入到顶涂层中的其他添加剂包括彩色显影剂或酸性化合物。作为彩色显影剂，我们指的是包括单体酚类化合物、有机酸或其金属盐、羟苯甲酸酯、酸性粘土和例如描述在美国专利申请公开2005/0170282(Inno等人)中的其他化合物。酚类化合物的具体实例非限制性地包括：2,4-二羟基苯甲酮、4,4'-异亚丙基-二苯酚(双酚A)、对叔丁基苯酚、2,4,-二硝基苯酚、3,4-二氯苯酚、4,4'-亚甲基-二(2,6'-二叔丁基苯酚)、对苯基苯酚、1,1-二(4-羟基苯基)环己烷、1,1-二(4-羟基苯基)-2-乙基己烯、2,2-二(4-羟基苯基)丁烷、2,2'-亚甲基二(4-叔丁基苯酚)、2,2'-亚甲基二(α-苯基-对甲酚)硫代二苯酚、4,4'-硫代二(6-叔丁基-间甲酚)硫酰二苯酚、对丁基苯酚-甲醛缩合物和对苯基苯酚-甲醛缩合物。有用的有机酸或其盐的实例非限制性地包括：邻苯二甲酸、邻苯二甲酸酐、马来酸、苯甲酸、五倍子酸、邻甲苯酸、对甲苯酸、水杨酸、3-叔丁基水杨酸、3,5-二-3-叔丁基水杨酸、5-α-甲基苄基水杨酸、3,5-二(α-甲基苄基)水杨酸、3-叔辛基水杨酸以及它们的锌、铅、铝、镁和镍盐。羟基苯甲酸酯的实例非限制性地包括：对羟基苯甲酸乙酯、对羟基苯甲酸丁酯、对羟基苯甲酸庚酸和对羟基苯甲酸苄酸。基于顶涂层的总干重，这些彩色显影剂的存在量为0.5 - 5 重量%。
可成像元件
可成像元件可以如下形成：将如上所述的辐射敏感组合物适当施加到适合的基板上以形成可成像层，然后适当施加顶涂层制剂。在施加所述辐射敏感组合物之前，可以以如下所述的各种方法处理或涂布该基板以提高亲水性。典型地，只有包含辐射敏感组合物的单一可成像层。
基板一般具有亲水性表面，或至少一个表面比在成像侧上施加的辐射敏感组合物的亲水性更强。该基板包含支撑体，该支撑体可以由常规用于制备可成像元件（例如平版印刷印刷版）的任何材料构成。其通常为片状、膜状或箔片（或卷材(web)）的形式，并且在使用条件下坚固、稳定、柔韧且耐维度变化以使得彩色记录会重合全彩图像。典型地，支撑体可以为任何自支撑材料，包括聚合物膜（例如聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、纤维素酯聚合物和聚苯乙烯膜）、玻璃、陶瓷、金属片或箔，或硬纸（包括树脂涂布的和涂覆金属的纸），或任何这些材料的层压片（例如铝箔层压到聚酯膜上的层压片）。金属支撑体包括铝、铜、锌、钛以及它们的合金的片或箔。
聚合物膜支撑体可以在一个或两个平面上用“底层(subbing layer)”进行改性以增强亲水性，或纸质支撑体可以进行类似的涂布以增强平面度。底层材料的实例非限制性地包括：烷氧基硅烷、氨基丙基三乙氧基硅烷、缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷和环氧功能聚合物，以及在卤化银摄影胶卷中使用的常规亲水性底层材料（例如明胶和其他天然和合成的亲水性胶体和包括偏二氯乙烯共聚物在内的乙烯基聚合物）。
一种有用的基板由铝支撑体构成，该铝支撑体可以使用本领域中公知的技术进行处理，包括某些类型的粗糙化，如用物理（机械）粒化、电化学粒化或化学粒化，通常随后进行酸阳极化处理。铝支撑体可以通过物理或电化学粒化处理然后使用磷酸或硫酸和常规的步骤进行阳极化处理而被粗糙化。一种有用的基板是电化学粒化且磷酸阳极化处理过的铝支撑体，其提供了用于平板印刷的亲水性表面。
对铝支撑体进行硫酸阳极化处理提供的表面上的氧化物重量（覆盖量）一般为1.5-5 g/m2，且更典型为3-4.3 g/m2。磷酸阳极化处理提供的表面上的氧化物重量一般为1.5-5 g/m2，且更典型为1-3 g/m2。
通过用例如硅酸盐、糊精、氟化钙锆、六氟硅酸、聚乙烯基膦酸(PVPA)、乙烯基膦酸共聚物、聚(甲基)丙烯酸、聚丙烯酸或丙烯酸共聚物对铝支撑体进行处理来增加亲水性可能形成中间层。再次，铝支撑体可以用磷酸溶液进行处理，所述磷酸溶液可以进一步包含无机氟化物（PF）。铝支撑体可以使用公知的步骤进行电化学粒化处理、磷酸阳极化处理并用聚丙烯酸处理来提高亲水性。
基板的厚度可以改变，但是应当足够厚以承受由印刷导致的磨损，并足够薄以卷绕印版。有用的实施方案包括厚度为至少100 μm和高至并包括700 μm的处理铝箔。
基板的背面（非成像面）可以用抗静电剂和/或光滑层或亚光层涂覆以提高可成像元件的处理和“手感”。
基板也可以是具有施加于其上的辐射敏感组合物的柱面，并由此为印刷机的整合部件。这种成像辊的使用描述在例如美国专利5,713,287 (Gelbart)中。
辐射敏感组合物可以作为在涂布液中的溶液或分散液而被施加到基板上，可以使用任何适当的装置和步骤，例如旋涂法、刮涂法、凹印式涂布法、口模涂布法、狭缝涂布法、棒涂法、绕线棒涂法、辊涂法或挤压料斗式涂布法。该组合物也可以通过喷涂施加到适合的支持体（例如在机印刷辊）上。典型地，辐射敏感组合物被施加并干燥，形成可成像层，并将顶涂层制剂施加到该层上。
这种制造方法的示例为：在适合的有机溶剂或其混合物中（例如甲乙酮（2-丁酮）、甲醇、乙醇、1-甲氧基-2-丙醇、异丙醇、丙酮、γ-丁内酯、正丙醇、四氢呋喃和本领域公知的其他有机溶剂，以及它们的混合物）混合可自由基聚合组分、主聚合物粘合剂、引发剂组合物、红外辐射吸收化合物和红外敏感组合物中的任何其他组分，将所得溶液施加到基板上，并在适当干燥条件下通过蒸发去除溶剂。一些代表性涂布溶剂和可成像层制剂描述在下面的实施例中。在正确干燥后，可成像层的涂布重量一般为至少0.1和高至并包括5 g/m2，或至少0.5和高至并包括3.5 g/m2。
在可成像层下可以存在一些层以增强可显影性或作为绝热层。所述在下层应当在显影剂中是可溶的或者至少是可分散的，并且典型地具有相对较低的导热系数。
顶涂层制剂可以通过将上述所需的组分溶解或分散在适当溶剂或溶剂的混合物中以类似的方式制备并施用，所述溶剂或溶剂的混合物非限制性地包括：水，或水与含量高至15重量%的异丙醇、甲醇或其他醇类或酮类溶剂中的一种或多种。可以包括表面活性剂以提高可涂性。
所述各种层可以通过常规的挤压涂布法由各个层组合物的熔融混合物涂布。典型地，所述熔融混合物不包含挥发性有机溶剂。
在施加各种层制剂之间可以使用中间干燥步骤以在涂布其他制剂之前去除溶剂。在常规时间和温度下的干燥步骤也有助于防止各种层的混合。
一旦各种层被施加到基板上并干燥后，可以将可成像元件封装在不透水的材料中，该不透水材料显著抑制了湿气在可成像元件中的往复转移，如美国专利7,175,969 (如上所注)所述，该专利以引用的方式并入本文。
成像条件
在使用过程中，根据在辐射敏感组合物中存在的辐射吸收化合物，可成像元件被曝光在波长为700至1500 nm的适当的成像或曝光近红外或红外辐射源下。例如，成像可以使用如下的成像或曝光辐射进行，例如来自波长至少700nm和高至并包括1400nm的红外激光，典型地，至少750nm和高至并包括1250nm的红外激光。在必要时，成像可以同时使用多个波长的成像辐射进行。
因为二极管激光系统的可靠性和低保养成本，所以用于曝光可成像元件的激光通常为二极管激光，但是也可以使用其他激光例如气态或固态激光。用于激光成像的功率、强度和曝光时间对于本领域技术人员而言是显而易见的。目前，在市售图文照排机（imagesetter）中使用的高性能激光或激光二极管发射红外辐射的波长为至少800 nm 和高至并包括850 nm，或至少1060和高至并包括1120 nm。
所述成像设备可以仅仅起到印版记录机（platesetter）的作用，或者它可以被直接并入到平版印刷机中。在后一种情况下，印刷可以在成像和显影之后立即开始，由此显著地减少了印刷机的准备时间。所述成像设备可以被构造为平台记录仪或辊式记录仪，其中可成像构件被安装到该辊的滚筒内表面或外表面上。有用的成像设备的实例为可由Eastman Kodak Company (Burnaby, British Columbia, Canada)获得的型号Creo Trendsetter? 印版记录机，其包含发射波长为830nm的近红外辐射的激光二极管。其他适合的成像源包括在1064nm的波长处操作的Crescent 42T Platesetter （可由Gerber Scientific, Chicago, IL获得）和Screen PlateRite 4300 series或8600 series platesetter（可由Screen, Chicago, IL获得）。另外有用的辐射源包括直接成像印刷机，其能够当将元件连接到印刷版滚筒上时用于成像该元件。适合的直接成像印刷机的实例包括Heidelberg SM74-DI印刷机（可由Heidelberg, Dayton, OH获得）。
根据可成像层的灵敏度，用红外辐射成像通常可以在如下的成像能量下进行：至少30 mJ/cm2和高至并包括500 mJ/cm2，并且典型地，至少50 mJ/cm2和高至并包括300 mJ/cm2。
虽然激光成像在本发明的实践中是期望的，但是可以通过以成像方式提供热能的任何其他设备来提供成像。例如，在已知为“感热式印刷”中，成像可以使用耐热头（热印刷头）来完成，描述在例如美国专利5,488,025 (Martin 等人)中。热印刷头是商业可得的（例如，Fujitsu Thermal Head FTP-040 MCS001和TDK Thermal Head F415 HH7-1089）。
显影和印刷
在成像后和显影前，在有或没有曝光后烘焙步骤的情况下，可以将成像后元件如下所更详细描述的那样“在机”显影。在大多数实施方案中，曝光后烘焙步骤都被省略了。在机显影避免了使用通常在常规处理仪器中使用的碱性显影液。成像后元件被安装在印刷机上，在这里，当形成最初印刷的印版时，可成像层中的未曝光区域用适当的润版液、平版印刷墨水或二者的组合除去。润版水溶液的典型组分包括pH缓冲剂、减敏剂、表面活性剂和润湿剂、保湿剂、低沸点溶剂、生物杀灭剂、防泡剂和螯合剂。润版液的代表性实例为Varn Litho Etch 142W + Varn PAR (醇替代物) (可由Varn International, Addison, IL获得)。
润版液占有未成像的区域，也即是说，通过成像和显影步骤显露出的亲水性基板的表面，而墨水占有成像层的成像后（未去除的）区域。然后墨水被转印到适当的接受材料（例如布、纸、金属、玻璃或塑料）上以在其上提供该图像的所需的印刷。在需要时，可以使用中间的“橡皮布”辊来将墨水从成像后元件转印到接受材料上。在需要时，在印刷之间可以使用常规的清洁方法清洁成像后构件。
提供下列实施例来举例说明本发明的实践，但是其绝非意图以任何方式限制本发明。
实施例
除非在下面另有指出，在实施例中使用的化学成分都可以从一种或多种商业渠道（例如Aldrich Chemical Company (Milwaukee, WI)）得到。
在实施例和评价使用的分析方法中使用的组分和材料如下：
BLO表示γ-丁内酯。
FluorNTM 2900是一种含氟表面活性剂，其从Cytonix Corporation (Beltsville, MD)得到。
IB05 表示二(4-叔丁基苯基)碘
四苯基硼酸盐。
IPA表示异丙醇。
IR染料A至D具有下面的结构：
Masurf? FS-1520是含氟脂肪族甜菜碱含氟表面活性剂，其从Mason Chemical Company (Arlington Heights, IL)得到。
MEK表示甲乙酮。
NK Ester A-DPH是二季戊四醇六丙烯酸酯，其从Kowa American (New York, NY)得到。
PGME表示1-甲氧基-2-丙醇。
Phosmer PE是带有4-5个乙氧基基团的乙二醇甲基丙烯酸酯磷酸酯，其从Uni-Chemical Co. Ltd. (Japan)得到。
聚合物A是聚乙二醇单甲醚甲基丙烯酸酯/丙烯腈/苯乙烯（25%）的10/70/20重量百分比的共聚物乳液/分散液。
PVA405是水解度为81%的聚乙烯醇，其得自Kuraray (Japan)。
PVA488是水解度为88%的聚乙烯醇，其得自Kuraray (Japan)。
R-gen 1130是二甲苯基碘
六氟磷酸盐，其得到Chitec Technology Co., Ltd (Taiwan)。
S0930是得自FEW Chemicals GmbH (Germany)的IR染料，且由下面的结构式表示：
Sartomer SR399是二季戊四醇五丙烯酸酯，其得自Sartomer Company, Inc.。
Varn Litho Etch 142W润版液得自Varn International (Addison, IL)。
Varn PAR醇替代物得自Varn International。
在实施例中使用的“DH测试”是在48℃进行5天的干热加速老化测试。
“RH测试”是在38℃和85%的相对湿度下进行5天的高湿度加速老化测试。
“印刷输出”等于可成像元件的成像后区域的光密度减去可成像元件的未成像区域的光密度。光密度用Gretag密度计(D 196, Regensdorf, Switzerland)使用蓝绿色滤光片测量。0.04以下的印刷输出被认为差，0.05和0.06被评价为好，而0.07以上被认为强。
发明实施例1：
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用聚乙烯基磷酸后处理过的铝基板上以提供0.9 g/m2的干涂层重量。
在所得的可成像层上，施加包含0.20 g的IR染料C、0.6 g 的氯化二苯基碘
(DPIC)、4 g的PVA488、4 g的IPA、92 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供0.4 g/m2的干涂层重量。两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.07的强印刷输出。
将成像后元件安装在ABDick复印机上，该ABDick复印机装有包含3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的Varn Litho Etch 142W和3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的PAR醇替代物的润版液和van Son Rubber Base 黑墨水VS 151。成像后的新元件在同时施用润版液和墨水的情况下被显影了15次印刷，并且使用低至50 mJ/cm2的曝光能量印刷了另外200次好的印刷并显示出实心和高光的清晰图像。在如上所述的5天“DH”和“RH”测试后，该可成像元件分别被显影了25片和50片。
发明实施例2：
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用聚乙烯基磷酸后处理过的铝基板上以提供约0.9 g/m2的干涂层重量。
在所得的可成像层上，施加包含0.40 g的IR染料C、0.6 g 的氯化二苯基碘
(DPIC)、4 g的PVA488、4 g的IPA、92 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供约0.4 g/m2的干涂层重量。两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.08的强印刷输出。
将成像后元件安装在ABDick复印机上，该ABDick复印机装有包含3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的Varn Litho Etch 142W和3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的PAR醇替代物的润版液和van Son Rubber Base 黑墨水VS 151。成像后的新元件在同时施用润版液和墨水的情况下被显影了15次印刷，并且使用低至50 mJ/cm2的曝光能量印刷了另外200次好的印刷并显示出实心和高光的清晰图像。在如上所述的5天“DH”和“RH”测试后，该可成像元件分别被显影了50片和50片。
发明实施例3：
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用聚乙烯基磷酸后处理过的铝基板上以提供约0.9 g/m2的干涂层重量。
在所得的可成像层上，施加包含0.20 g的IR染料C、1.2 g 的氯化二苯基碘
(DPIC)、4 g的PVA488、4 g的IPA、92 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供约0.4 g/m2的干涂层重量。两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.08的强印刷输出。
将成像后元件安装在ABDick复印机上，该ABDick复印机装有包含3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的Varn Litho Etch 142W和3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的PAR醇替代物的润版液和van Son Rubber Base 黑墨水VS 151。成像后的新元件在同时施用润版液和墨水的情况下被显影了15次印刷，并且使用低至50 mJ/cm2的曝光能量印刷了另外200次好的印刷并显示出实心和高光的清晰图像。在如上所述的5天“DH”和“RH”测试后，该可成像元件分别被显影了50片和100片。
发明实施例4：
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用聚乙烯基磷酸后处理过的铝基板上以提供约0.9 g/m2的干涂层重量。
在所得的可成像层上，施加包含0.20 g的IR染料A、0.6 g 的氯化二苯基碘(DPIC)、4 g的PVA488、4 g的IPA、92 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供约0.4 g/m2的干涂层重量。两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.05的好印刷输出。
将成像后元件安装在ABDick复印机上，该ABDick复印机装有包含3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的Varn Litho Etch 142W和3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的PAR醇替代物的润版液和van Son Rubber Base 黑墨水VS 151。成像后的新元件在同时施用润版液和墨水的情况下被显影了15次印刷，并且使用低至50 mJ/cm2的曝光能量印刷了另外200次好的印刷并显示出实心和高光的清晰图像。在如上所述的5天“DH”和“RH”测试后，该可成像元件分别被显影了25片和50片。
发明实施例5：
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用聚乙烯基磷酸后处理过的铝基板上以提供约0.9 g/m2的干涂层重量。
在所得的可成像层上，施加包含0.20 g的IR染料B、0.6 g 的R-gen 1130、4 g的PVA488、4 g的IPA、3.5的MEK、3.5 g的甲醇、85 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供约0.4 g/m2的干涂层重量。两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.09的强印刷输出。
将成像后元件安装在ABDick复印机上，该ABDick复印机装有包含3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的Varn Litho Etch 142W和3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的PAR醇替代物的润版液和van Son Rubber Base 黑墨水VS 151。成像后的新元件在同时施用润版液和墨水的情况下被显影了50次印刷，并且使用低至50 mJ/cm2的曝光能量印刷了另外200次好的印刷并显示出实心和高光的清晰图像。
发明实施例6：
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用聚乙烯基磷酸后处理过的铝基板上以提供约0.9 g/m2的干涂层重量。
在所得的可成像层上，施加包含0.4 g的IR染料B、1.2 g 的R-gen 1130、4 g的PVA488、4 g的IPA、3.5的MEK、3.5 g的甲醇、85 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供约0.4 g/m2的干涂层重量。两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.08的强印刷输出。
将成像后元件安装在ABDick复印机上，该ABDick复印机装有包含3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的Varn Litho Etch 142W和3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的PAR醇替代物的润版液和van Son Rubber Base 黑墨水VS 151。成像后的新元件在同时施用润版液和墨水的情况下被显影了100次印刷，并且使用低至50 mJ/cm2的曝光能量印刷了另外200次好的印刷并显示出实心和高光的清晰图像。
发明实施例7：
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用聚乙烯基磷酸后处理过的铝基板上以提供约0.9 g/m2的干涂层重量。
在所得的可成像层上，施加包含0.20 g的IR染料B、0.4 g 的R-gen 1130、4 g的PVA488、4 g的IPA、3.5的MEK、3.5 g的甲醇、85 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供约0.4 g/m2的干涂层重量。两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.07的强印刷输出。
将成像后元件安装在ABDick复印机上，该ABDick复印机装有包含3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的Varn Litho Etch 142W和3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的PAR醇替代物的润版液和van Son Rubber Base 黑墨水VS 151。成像后的新元件在同时施用润版液和墨水的情况下被显影了100次印刷，并且使用低至50 mJ/cm2的曝光能量印刷了另外200次好的印刷并显示出实心和高光的清晰图像。
对比实施例1
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用聚乙烯基磷酸后处理过的铝基板上以提供约0.9 g/m2的干涂层重量。在所得的可成像层上，施加包含4 g的PVA488、4 g的IPA、92 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供约0.4 g/m2的干涂层重量。两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.04的印刷输出。
发明实施例8：
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用用氟化钠活化的无机磷酸二氢钠溶液后处理过的铝基板上以提供约0.9 g/m2的干涂层重量。
在所得的可成像层上，施加包含0.20 g的IR染料C、0.6 g 的氯化三苯基锍(TPSC)、4 g的PVA488、4 g的IPA、92 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供约0.4 g/m2的干涂层重量。两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.05的好印刷输出。
发明实施例9：
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用用氟化钠活化的无机磷酸二氢钠溶液后处理过的铝基板上以提供约0.9 g/m2的干涂层重量。
在所得的可成像层上，施加包含0.20 g的IR染料C、0.6 g 的溴化四丁基膦(TBPB)、4 g的PVA488、4 g的IPA、92 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供约0.4 g/m2的干涂层重量。两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.07的强印刷输出。
发明实施例10：
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用用氟化钠活化的无机磷酸二氢钠溶液后处理过的铝基板上以提供约0.9 g/m2的干涂层重量。
在所得的可成像层上，施加包含0.20 g的IR染料D、0.6 g 的氯化二苯基碘
(DPIC)、4 g的PVA488、4 g的IPA、92 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供约0.4 g/m2的干涂层重量。两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.05的好印刷输出。
对比实施例2
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用用氟化钠活化的无机磷酸二氢钠溶液后处理过的铝基板上以提供约0.9 g/m2的干涂层重量。
在所得的可成像层上，施加包含4 g的PVA488、4 g的IPA、92 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供约0.4 g/m2的干涂层重量。两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.04的印刷输出。
发明实施例11：
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用用氟化钠活化的无机磷酸二氢钠溶液后处理过的铝基板上以提供约0.9 g/m2的干涂层重量。
在所得的可成像层上，施加包含0.20 g的IR染料B、0.6 g 的R-gen 1130、4 g的PVA405、4 g的IPA、3.5的MEK、3.5 g的甲醇、85 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供约0.4 g/m2的干涂层重量。两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.08的强印刷输出。
将成像后元件安装在ABDick复印机上，该ABDick复印机装有包含3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的Varn Litho Etch 142W和3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的PAR醇替代物的润版液和van Son Rubber Base 黑墨水VS 151。成像后的新元件在同时施用润版液和墨水的情况下被显影了25次印刷，并且使用低至50 mJ/cm2的曝光能量印刷了另外200次好的印刷并显示出实心和高光的清晰图像。
另一个成像元件在Komori片状进样印刷机使用包含1.5%碳酸钙的磨损墨水和包含3 盎司/加仑 (23.4 毫升/升)的Varn Litho Etch 142W和3 盎司/加仑 (23.4 毫升/升)的PAR 醇替代物的润版液进行测试。其在10轮水随后10轮墨水的印刷机启动程序过程中使用润版液和平版印刷墨水的组合进行在机显影。在工作日的最后，该印刷版用Aqua图像清洁剂/保持剂进行清洁并将其安装在印刷机上一晚上。在下一上午启动时，该印刷版表现与前一傍晚完全相同。在100 mJ/cm2的曝光能量下，使用该印刷版产生了27,500次好印刷，而没有任何固体磨损。
发明实施例12：
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用用氟化钠活化的无机磷酸二氢钠溶液后处理过的铝基板上以提供约0.9 g/m2的干涂层重量。
在所得的可成像层上，施加包含0.10 g的IR染料B、0.3 g 的R-gen 1130、4 g的PVA405、4 g的IPA、3.5的MEK、3.5 g的甲醇、85 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供约0.4 g/m2的干涂层重量。两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.07的强印刷输出。
将成像后元件安装在ABDick复印机上，该ABDick复印机装有包含3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的Varn Litho Etch 142W和3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的PAR醇替代物的润版液和van Son Rubber Base 黑墨水VS 151。成像后的新元件在同时施用润版液和墨水的情况下被显影了20次印刷，并且使用低至50 mJ/cm2的曝光能量印刷了另外200次好的印刷并显示出实心和高光的清晰图像。
另一个成像元件在Komori片状进样印刷机使用包含1.5%碳酸钙的磨损墨水和包含3 盎司/加仑 (23.4 毫升/升)的Varn Litho Etch 142W和3 盎司/加仑 (23.4 毫升/升)的PAR 醇替代物的润版液进行测试。其在10轮水随后10轮墨水的印刷机启动程序过程中使用润版液和平版印刷墨水的组合进行在机显影。在工作日的最后，该印刷版用Aqua图像清洁剂/保持剂进行清洁并将其安装在印刷机上一晚上。在下一上午启动时，该印刷版表现与前一傍晚完全相同。在100 mJ/cm2的曝光能量下，使用该印刷版产生了30,000次好印刷，而没有任何固体磨损。
发明实施例13：
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用用氟化钠活化的无机磷酸二氢钠溶液后处理过的铝基板上以提供约0.9 g/m2的干涂层重量。
在所得的可成像层上，施加包含0.20 g的IR染料C、0.6 g 的氯化二苯基碘
(DPIC)、4 g的PVA405、4 g的IPA、92 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供约0.4 g/m2的干涂层重量 两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.10的强印刷输出。
将成像后元件安装在ABDick复印机上，该ABDick复印机装有包含3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的Varn Litho Etch 142W和3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的PAR醇替代物的润版液和van Son Rubber Base 黑墨水VS 151。成像后的新元件在同时施用润版液和墨水的情况下被显影了20次印刷，并且使用低至50 mJ/cm2的曝光能量印刷了另外200次好的印刷并显示出实心和高光的清晰图像。
另一个成像元件在Komori片状进样印刷机使用包含1.5%碳酸钙的磨损墨水和包含3 盎司/加仑 (23.4 毫升/升)的Varn Litho Etch 142W和3 盎司/加仑 (23.4 毫升/升)的PAR 醇替代物的润版液进行测试。其在10轮水随后10轮墨水的印刷机启动程序过程中使用润版液和平版印刷墨水的组合进行在机显影。在工作日的最后，该印刷版用Aqua图像清洁剂/保持剂进行清洁并将其安装在印刷机上一晚上。在下一上午启动时，该印刷版表现与前一傍晚完全相同。在100 mJ/cm2的曝光能量下，使用该印刷版产生了31,500次好印刷，而没有任何固体磨损。
发明实施例14：
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用用氟化钠活化的无机磷酸二氢钠溶液后处理过的铝基板上以提供约0.9 g/m2的干涂层重量。
在所得的可成像层上，施加包含0.10 g的IR染料C、0.3 g 的氯化二苯基碘
(DPIC)、4 g的PVA405、4 g的IPA、92 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供约0.4 g/m2的干涂层重量 两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.09的强印刷输出。
将成像后元件安装在ABDick复印机上，该ABDick复印机装有包含3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的Varn Litho Etch 142W和3 盎司/加仑(23.4 毫升/升)的PAR醇替代物的润版液和van Son Rubber Base 黑墨水VS 151。成像后的新元件在同时施用润版液和墨水的情况下被显影了15次印刷，并且使用低至50 mJ/cm2的曝光能量印刷了另外200次好的印刷并显示出实心和高光的清晰图像。
另一个成像元件在Komori片状进样印刷机使用包含1.5%碳酸钙的磨损墨水和包含3 盎司/加仑 (23.4 毫升/升)的Varn Litho Etch 142W和3 盎司/加仑 (23.4 毫升/升)的PAR 醇替代物的润版液进行测试。其在10轮水随后10轮墨水的印刷机启动程序过程中使用润版液和平版印刷墨水的组合进行在机显影。在工作日的最后，该印刷版用Aqua图像清洁剂/保持剂进行清洁并将其安装在印刷机上一晚上。在下一上午启动时，该印刷版表现与前一傍晚完全相同。在100 mJ/cm2的曝光能量下，使用该印刷版产生了35,000次好印刷，而没有任何固体磨损。
对比实施例3
将3.1 g的聚合物A、0.5 g的SR399、0.5 g的NK ester A-DPH、0.1 g的Phosmer PE、0.15 g的IB-05、0.05 g的S0930、0.4 g的FluorNTM 2900 (5%在PGME中)溶解或分散在2 g的BLO、7.0 g的PGME、6 g的MEK和3 g的甲醇中制备可成像层制剂。将该制剂施加在电化学粒化处理和硫酸阳极化处理过并用用氟化钠活化的无机磷酸二氢钠溶液后处理过的铝基板上以提供约0.9 g/m2的干涂层重量。
在所得的可成像层上，施加包含4 g的PVA405、4 g的IPA、92 g的水和0.02 g的Masurf? FS-1520的顶涂层制剂以提供约0.4 g/m2的干涂层重量。两种制剂都使用绕线棒涂布，然后在设定在120℃的Ranar conveyor烘箱中干燥大约60秒。
将所得可成像元件置于Kodak Trendsetter? 3244x图文照排机上并使用830 nm IR激光曝光。在100 mJ/cm2 (10 瓦特, 250 rpm)的曝光量下，所得固体图像显示出0.04的印刷输出。
另一个成像元件在Komori片状进样印刷机使用包含1.5%碳酸钙的磨损墨水和包含3 盎司/加仑 (23.4 毫升/升)的Varn Litho Etch 142W和3 盎司/加仑 (23.4 毫升/升)的PAR 醇替代物的润版液进行测试。其在10轮水随后10轮墨水的印刷机启动程序过程中使用润版液和平版印刷墨水的组合进行在机显影。在工作日的最后，该印刷版用Aqua图像清洁剂/保持剂进行清洁并将其安装在印刷机上一晚上。在下一上午启动时，该印刷版表现与前一傍晚完全相同。在100 mJ/cm2的曝光能量下，使用该印刷版产生了30,000次好印刷，而没有任何固体磨损。
Claims (19)
1. 一种在机可显影的负性可成像元件，其包括其上具有可成像层的基板，该成像层包含：
可自由基聚合成分，
引发剂组合物，其在暴露于成像红外辐射时能够产生足够引发可自由基聚合基团的聚合反应的自由基，
主聚合物粘合剂，其具有主链并任选以离散颗粒的形式存在，以及
红外辐射吸收染料，
该元件还包括设置在所述可成像层上的顶涂层，该顶涂层包含水溶性聚合物粘合剂和在暴露于成像红外辐射时能够改变颜色的组合物。
2. 权利要求1所述的元件，其中，所述颜色改变组合物包含：(1)红外辐射吸收化合物，(2)在该红外辐射吸收化合物的存在下响应于成像红外辐射产生酸的化合物，以及 (3)任选地，在酸的存在下提供颜色变化的一种或多种化合物。
3. 权利要求2所述的元件，其中，存在组分（3）并且其是在酸的存在下提供颜色改变的着色剂。
4. 权利要求2所述的元件，其中，在所述顶涂层中的所述红外辐射吸收化合物包含花青染料发色团，该发色团由下面的结构（发色团）表示：
其中W为-N(Q1)(Q2)或Cl，其中Q1和Q2独立地为取代或未取代的芳基，
A和A'独立地为-S-、-O-、-NH-、-CH2-、或-CR'R"- 基团，其中R'和R"独立地为取代或未取代的芳基，或R'和R"一起可以形成取代或未取代的环基，
Z表示形成5-至7-元碳环所需的碳原子，
Z1和Z2独立地为取代或未取代的苯并或萘并稠环，以及
R1'和R2'独立地为取代或未取代的烷基、环烷基或芳基，前提条件是，所述花青染料发色团还包含一种或多种增加水溶性的基团。
5. 权利要求4所述的元件，其中，W是-N(Q1)(Q2)，其中Q1和Q2为相同或不同的取代或未取代的苯基，A和A'独立地为-S-、-O-或-CR'R"基团，其中R'和R"独立地为取代或未取代的烷基，Z1和Z2各自为取代或未取代的萘并稠环，且R1'和R2'独立地为取代或未取代的具有1-4个碳原子的烷基，前提条件是Z1、Z2、R1'和R2'中的一个或多个包含一个或多个羧基或磺基。
6. 权利要求4所述的元件，其中，所述花青染料发色团包含至少三个羧基或磺基。
7. 权利要求1所述的元件，其中，所述颜色改变组合物包含酸发生化合物，该酸发生化合物为卤代s-三嗪或
盐。
8. 权利要求1所述的元件，其中，所述颜色改变组合物包含：(1) 用量为2 – 25重量%的酸发生化合物，和（2）用量为1 - 12 重量%的红外辐射吸收化合物，两者均基于所述顶涂层的总干重。
9. 权利要求1所述的元件，其中，所述顶涂层还包括自由基抑制剂。
10. 权利要求1所述的元件，其中，所述主聚合物粘合剂以离散颗粒存在并且包含聚环氧烷链段、悬挂氰基或聚环氧烷链段和悬挂氰基两者。
11. 权利要求1所述的元件，其中，所述所述主聚合物粘合剂以离散颗粒存在并且粒径为10 - 500 nm，并且基于可成像层的总干重，在该可成像层中的存在量为至少10%和高至90%。
12. 权利要求1所述的元件，其中，所述引发剂组合物包含碘
化合物，或二芳基碘
阳离子和含硼阴离子的组合，其中所述二芳基碘
阳离子由下面结构式(IB)表示：
其中X和Y独立地为卤素、烷基、烷氧基、芳基或环烷基，或者两个或多个毗邻的X或Y基团可以结合而与各自的苯基形成稠合碳环或杂环，p和q独立地为0或1至5的整数，前提条件是p或者q为至少1，以及
所述含硼阴离子由下面的结构式(IBz)表示：
其中，R1、R2、R3和R4独立地为烷基、芳基、烯基、炔基、环烷基或杂环基，或者R1、R2、R3和R4中的两个或多个可以结合在一起与硼原子一起形成杂环，该环具有高至7个碳、氮、氧或氮原子。
13. 权利要求12所述的元件，其中，所述引发剂组合物以至少1.2:1且高至3.0:1的摩尔比包含二芳基碘阳离子和含硼阴离子，并且R1、R2、R3和R4中的至少3个为相同或不同的取代或未取代的芳基，其中，p或者q为至少1，且在X和Y取代基或稠合环中的碳原子的总数为至少6。
14. 权利要求1所述的元件，其中，所述基板为含铝基板，其具有其上设置所述可成像层的亲水性表面。
15. 权利要求1所述的元件，其中，所述顶涂层包含聚乙烯醇作为所述水溶性聚合物粘合剂。
16. 权利要求1所述的元件，其中，所述可成像层还包含分子量大于200的磷酸酯(甲基)丙烯酸酯。
17. 一种方法，包括
A) 使用成像红外辐射将权利要求1的可成像元件成影像地曝光以产生曝光和未曝光的区域，和
B) 在有或没有曝光后烘焙步骤的情况下，将所述成影像地曝光后的元件显影以在润版液、平板印刷墨水或其组合的存在下主要仅除去所述未曝光的区域。
18. 权利要求17所述的方法，其中，所述可成像元件还包含顶涂层，该顶涂层包含：聚乙烯醇水溶性聚合物粘合剂，在曝光于成像红外辐射时产生酸的化合物，以及在所述酸的存在下提供颜色变化的红外辐射吸收染料。
19. 一种由权利要求18的方法形成的在机显影负性平板印刷版。
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