CN102436321A - 触摸屏面板及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种触摸屏面板及其制造方法。所述触摸屏面板包括由触摸有效区和非触摸有效区限定的膜基板，并且所述非触摸有效区布置在所述触摸有效区的外部。该触摸屏面板包括布置在所述膜基板的上表面和下表面上的触摸有效区中的多个检测电极，和布置在所述膜基板的上表面和下表面上的非触摸有效区中的外围线路。所述外围线路沿第一方向和第二方向之一连接至所述检测电极，并且所述外围线路包括透明电极层和位于所述透明电极层上的电镀层。

Description

触摸屏面板及其制造方法
技术领域
实施例涉及触摸屏面板及其制造方法，更具体地说，涉及外围线路和用于触摸检测的检测电极形成在膜基板的两个表面上的双面膜触摸屏面板及其制造方法。
背景技术
触摸屏面板是能够利用例如用户的手或物体，通过例如显示在显示设备等的屏幕上的选择指令内容，允许用户的指令被输入的输入设备。
触摸屏面板可以形成在例如显示设备的前面。触摸屏面板可以将其上的接触位置转换成电信号。例如，用户的手或物体可以在接触位置处接触触摸屏面板。在触摸屏面板的接触位置处选择的选择指令内容可以作为输入信号被输入到显示设备。触摸屏面板可以代替例如连接至显示设备的独立输入设备，例如键盘或鼠标。相应地，触摸屏面板的应用领域已被逐渐扩展。
发明内容
实施例致力于一种触摸屏面板及其制造方法。
实施例可以通过提供如下双面膜触摸屏面板及其制造方法而实现：其中外围线路和用于进行触摸检测的检测电极形成在膜基板的两个表面上，使得可以减小死区并通过简单的工艺形成低电阻线路。
根据示例性实施例，提供一种触摸屏面板，包括：由触摸有效区和形成在所述触摸有效区外部的非触摸有效区限定的膜基板；布置在所述膜基板的上表面和下表面上的触摸有效区中的多个检测电极；以及布置在所述膜基板的上表面和下表面上的非触摸有效区中的外围线路。所述外围线路沿第一方向或第二方向连接至所述检测电极。所述外围线路包括透明电极层和位于所述透明电极层上的电镀层。
所述检测电极可以被配置为由与所述外围线路的透明电极层相同的材料形成且与所述外围线路的透明电极层形成在同一层中的透明电极层。
所述电镀层可以由铜、镍、金、银、钯及其合金中的至少一种制成。
通过生长在其内壁上的导电材料将所述膜基板的上表面和下表面彼此连接的多个通孔，可以形成在所述膜基板的一侧处。
形成在所述膜基板的上表面和下表面中之一上的外围线路中的每一条可以通过所述通孔连接至形成在所述膜基板中另一表面上的焊盘部分。
所述外围线路可以进一步包括位于所述透明电极层和所述电镀层之间的金属薄膜层。
所述金属薄膜层的厚度可以形成为厚于光被遮蔽的厚度。
所述膜基板可以为环烯烃聚合物(COP)基板。
实施例还可以通过提供一种触摸屏面板的制造方法而实现。所述方法包括：制备由触摸有效区和形成在所述触摸有效区外部的非触摸有效区限定的膜基板；在所述膜基板的两个表面上基本上整个形成透明电极层；并且同时图案化所述膜基板的两个表面上的透明电极层，从而在所述触摸有效区中形成多个检测电极，并且在所述非触摸有效区中形成沿第一方向或第二方向连接至所述检测电极的外围线路。在形成所述检测电极和所述外围线路的过程中，在所述透明电极层被图案化之前或之后，在构成所述外围线路的下电极的透明电极层上形成电镀层。
形成所述检测电极和所述外围线路可以包括：在所述膜基板的基本上整个形成有所述透明电极层的两个表面上涂覆光刻胶，然后图案化所述光刻胶。所述方法可以包括在所述膜基板的两个表面上形成覆盖所述触摸有效区的用于电镀的掩膜。所述方法可以包括在所述膜基板的两个表面上的非触摸有效区中的被暴露的透明电极层上形成所述电镀层。所述方法可以包括将形成于所述膜基板的两个表面上的非触摸有效区中的光刻胶和所述触摸有效区中的用于电镀的掩膜去除。所述方法可以包括同时图案化所述膜基板的两个表面上的透明电极层。所述方法可以包括将形成于所述膜基板的两个表面上的触摸有效区中的光刻胶去除。
形成所述检测电极和所述外围线路可以包括：在所述膜基板的整个形成有所述透明电极层的两个表面上涂覆光刻胶，图案化所述光刻胶，然后利用图案化后的光刻胶作为掩膜图案化所述透明电极层；将所述膜基板的两个表面上的光刻胶去除；并且在所述膜基板的两个表面上的非触摸有效区中图案化的透明电极层上形成所述电镀层。
在形成所述检测电极和所述外围线路的过程中，可以利用光刻或印刷技术同时图案化位于所述膜基板的两个表面上的透明电极层。
所述方法可以进一步包括：在图案化所述透明电极层之前，并且在膜基板的两个表面上基本上整个形成所述透明电极层之后，基本上在所述透明电极层上整个形成金属薄膜层。
通过同时图案化在所述膜基板的两个表面上的透明电极层形成所述检测电极和所述外围线路，可以进一步包括图案化所述金属薄膜层。
图案化所述金属薄膜层可以进一步包括：在所述透明电极和所述金属薄膜层被图案化之后将所述检测电极上的金属薄膜层去除。
所述方法可以进一步包括形成多个通孔，所述多个通孔在所述膜基板的与所述非触摸有效区相对应的一侧处穿过所述膜基板。
在形成所述透明电极层和形成所述电镀层中的一个或多个过程中，所述透明电极层和所述电镀层中的一个或多个可以生长在所述通孔的内壁上，使得所述膜基板的上表面和下表面通过所述通孔彼此连接。
如上所述，根据示例性实施例，可以提供如下轻且薄的双面膜触摸屏面板及其制造方法：其中用于进行触摸检测的检测电极和连接至检测电极的外围线路分布式形成在膜基板的两个表面上，使得可以减小死区并实现高精度大尺寸触摸屏面板。
而且，低电阻外围线路可以通过如下低成本的简单工艺形成：利用光刻胶通过图案化或印刷技术等图案化在膜基板的两个表面上且在线路区域(外围线路被布置在死区中的区域)中的透明电极层，然后对图案化后的透明电极层的顶部执行电镀。相应地，可以提供能够提高制造效率并改善特性的双面膜触摸屏面板及其制造方法。
通孔可以形成在膜基板的一侧，形成在膜基板的一个表面上的焊盘部分通过通孔连接至形成在膜基板的另一表面上的外围线路，使得焊盘部分可以形成在膜基板的仅仅一个表面上。相应地，可以提供如下双面膜触摸屏面板及其制造方法，其中触摸屏面板利用一个柔性印刷电路板连接至外部电路，使得外部电路的连接结构可以被简化。
附图说明
特征通过参照附图详细描述示例性实施例对于本领域普通技术人员来说将变得更加明显，附图中：
图1示出根据示例性实施例的触摸屏面板的示意性平面图和与沿示意性平面图的线I-I’截取的平面图相对应的截面图。
图2A至图2L示出根据示例性实施例的制造图1所示触摸屏面板的方法的截面图。
图3A至图3G示出根据示例性实施例的制造图1所示触摸屏面板的方法的截面图。
具体实施方式
2010年9月29日递交韩国知识产权局的名称为“Touch Screen Panel andFabricating Method Thereof(触摸屏面板及其制造方法)”的韩国专利申请No.10-2010-0094224，通过引用整体合并于此。
以下将参照附图更充分地描述示例实施例，然而，这些实施例可以以不同的形式具体实现，并且不应当被解释为限于此处所提出的实施例。更确切地说，提供这些实施例的目的在于使得本公开内容全面且完整，并且向本领域技术人员充分传达本发明的范围。
在以下详细描述中，简单地通过示例的方式示出并描述仅仅某些示例性实施例。如本领域技术人员会认识到的那样，所描述的实施例可以以各种不同的方式进行修改，只要均不背离本发明的精神或范围。相应地，附图和描述将会视为本质上是示例性的，而不是限制性。另外，当一元件被提到位于另一元件“上”时，它可以直接位于另一元件上，或者可以间接位于另一元件上，其中一个或多个中间元件介入该元件与另一元件之间。而且，当一元件被提到“连接至”另一元件时，它可以直接连接至另一元件，或者可以间接连接至另一元件，其中一个或多个中间元件介入该元件与另一元件之间。进一步，应当理解，当一层被提到位于另一层“下方”时，它可以直接位于下方，并且也可以存在一个或多个中间层。另外，还应当理解，当一层被提到位于两层“之间”时，它可以是这两层之间的唯一层，或者也可以存在一个或多个中间层。下文中，相同的附图标记表示相同的元件。
以下将参考附图详细描述示例性实施例。
图1示出根据示例性实施例的触摸屏面板的示意性平面图和与平面图相对应的截面图。
参见图1，根据本实施例的触摸屏面板可以包括透明膜基板100和多个检测电极120。触摸屏面板可以包括例如以预定图案分布在膜基板100的上表面100a和下表面100b中至少一个上的多条外围线路130。外围线路130可以包括透明电极层130a和形成在透明电极层130a上的电镀层130c。外围线路130可以利用例如电镀技术形成。
膜基板100可以由具有例如高透明度和/或热阻以耐受高温工艺并且不产生低聚物的透明膜材料形成。例如，膜基板100可以形成为环烯烃聚合物(下文称之为COP)基板。然而，膜基板100的实施例不限于COP基板。例如，膜基板100可以包括各种基板材料，例如透明基板材料。
触摸有效区和非触摸有效区可以在膜基板100中限定。在触摸有效区中，检测电极120可以被布置为识别触摸输入。非触摸有效区可以是形成在触摸有效区外部的死区。例如，非触摸有效区可以环绕触摸有效区。外围线路130和/或焊盘部分160等中的至少部分可以布置在膜基板100的非触摸有效区中。
参见图1，检测电极120可以布置为例如以包括检测电极120的交错行的预定图案交替分布在膜基板100的触摸有效区中。检测电极120可以相对于膜基板100的上表面100a和下表面100b的两侧交替分布。检测电极120可以被实施为诸如氧化铟锡(ITO)和/或氧化铟锌(IZO)图案之类的透明电极图案。
检测电极120可以包括沿每行的第一方向(例如，X轴方向)连接以便探测触摸输入的坐标的多个第一检测电极120a，以及沿与每行的第一方向交叉的第二方向(例如，Y轴方向)连接的多个第二检测电极120b。
根据示例性实施例，检测电极120可以分布在上表面100a和下表面100b上的触摸有效区中。第一检测电极120a可以被布置在膜基板100的上表面100a上，并且第二检测电极120b可以被布置在膜基板100的下表面100b上。相应地，本实施例的触摸屏面板可以被实施为双面膜触摸屏面板。
外围线路130的至少部分可以布置在限定为死区的非触摸有效区中，以便沿第一方向和第二方向中至少之一连接至检测电极120。例如，外围线路130可以沿第一方向，例如x轴方向，连接至检测电极120的线路。
与检测电极120类似，外围线路130可以例如以预定图案分布在膜基板100的上表面100a和下表面100b上。例如，外围线路130可以至少分布式形成在膜基板100的上表面100a和下表面100b上的非触摸有效区中。
根据示例性实施例，一些外围线路可以连接至布置在膜基板100的上表面100a上的第一检测电极120a。这些外围线路可以与第一检测电极120a一起形成在膜基板100的上表面100a上。其它外围线路可以连接至布置在膜基板100的下表面100b上的第二检测电极120b。这些其它外围线路可以与第二检测电极120b一起形成在膜基板100的下表面100b上。
外围线路130可以至少包括透明电极层130a和形成在透明电极层130a上的电镀层130c。外围线路130可以利用例如电镀技术形成。例如，在整个生长初始透明电极层然后对初始透明电极层进行图案化以形成例如检测电极120的示例性工艺中，非触摸有效区中的透明电极层130a也可以被图案化为与外围线路130的层相对应。然后，电镀层130c可以形成在非触摸有效区中的透明电极层130a上，从而形成外围线路130。在透明电极层的生长之后对透明电极层进行图案化之前，电镀层130c可以利用掩模仅部分地形成在待形成外围线路130的区域的透明电极层130a上。在这种情况下，检测电极120可以包括例如由例如与外围线路130的透明电极层130a相同材料形成和/或形成在与外围线路130的透明电极层130a相同的层上的透明电极层。
外围线路130的电镀层130c可以由铜、镍、金、银、钯及其合金中的至少一种制成。例如，电镀层130c可以通过将铜和/或镍-金的合金电镀在非触摸有效区中的透明电极层130a上等而形成。
如果电镀层130c形成在透明电极层130a上，则可以实现低电阻外围线路130。在不试图由本原理约束的情况下，如果电镀层130c利用电镀技术形成，则具有比例如真空层等厚大约10至100倍的厚度的导电层可以容易地以低成本形成。相应地，线路的宽度可以减小，使得可以例如减小死区和/或实现高精度大尺寸触摸屏面板。
检测电极120和用于形成外围线路130的透明电极层130a可以同时形成在一起。使得透明电极层130a被包括在外围线路130和检测电极120两者中，例如作为堆叠结构的下层。透明电极层130a可以同时被图案化在膜基板100的两个表面上。进一步，当电镀层130c被形成在透明电极层130a上用于形成外围线路130时，可以同时对膜基板100的两个表面执行电镀工艺。
在根据示例性实施例的双面膜触摸屏面板的制造过程中，检测电极120和外围线路130可以分布在膜基板100的上表面100a和下表面100b两者上。检测电极120和外围线路130可以同时形成并图案化在膜基板100的上表面100a和下表面100b上。
检测电极120和外围线路130的透明电极层130a可以利用例如在两个表面上形成光刻胶的光刻技术被图案化。光刻技术可以包括对光刻胶进行曝光等。在这种情况下，金属薄膜层130b用作遮光层。例如，金属薄膜层130b可以形成在透明电极层130a与电镀层130c之间。在不试图由本原理约束的情况下，金属薄膜层130b可以进一步形成在透明电极层130a上，以便有助于同时对上表面100a和下表面100b两者执行曝光。
根据示例性实施例，电镀工艺可以在形成金属薄膜层130b之后执行，使得薄膜金属层130b可以在电镀层130c之前形成。进一步，在产品状态下，金属薄膜层130b可以位于透明电极层130a与电镀层130c之间。也就是说，除了透明电极层130a和电镀层130c之外，外围线路130可以进一步包括位于透明电极层130a与电镀层130c之间的金属薄膜层130b。形成在检测电极120上的金属薄膜层130b可以在制造工艺期间被去除。因此，在产品状态下，金属薄膜层130b不存在于触摸有效区中。
根据示例性实施例，金属薄膜层130b的厚度相应地大于光被有效遮蔽的最小厚度就已足够。金属薄膜层130b的厚度可以小于金属薄膜层130b被配置为用于线路的厚度。
不一定必须提供金属薄膜层130b来同时对两个表面执行曝光。金属薄膜层130b可以根据光刻胶的类型和/或图案化技术等而省略。例如，在利用用于遮光的黑色光刻胶执行光刻工艺的情况下，或者在利用印刷技术等对外围线路130的透明电极层130a和检测电极120进行图案化的情况下，金属薄膜层130b可以被省略。
外围线路130可以通过焊盘部分160被连接至柔性印刷电路板(未示出)，以便例如被连接至外部驱动器电路。如果外围线路130平等地分布在膜基板100的上表面100a和下表面100b上，则柔性印刷电路板可能需要连接至膜基板100的相应的上表面100a和下表面100b。因此，外部电路的连接结构会复杂且制造成本会增加。
在不试图由本原理约束的情况下，为了解决连接结构复杂的问题，可以形成通过膜基板100的多个通孔110。多个通孔110可以在形成外围线路130的工艺之前较早地形成在膜基板100的一侧。导电材料可以在形成透明电极层130a、金属薄膜层130b和电镀层130c中一个或多个的工艺中生长在通孔的内壁上。相应地，多个通孔110可以具有布置在其中的具有与外围线路130相同的层结构的堆叠结构。多个通孔110可以在形成外围线路130的工艺期间被填充。
多个通孔110可以在形成外围线路130的工艺期间被填充。例如，多个通孔110可以将膜基板100的上表面100a和下表面100b彼此连接，并且可以通过生长在通孔110内壁上的导电材料形成，其中通孔110例如在膜基板100的一侧通过膜基板100。
根据示例性实施例，通孔110可以连接至形成在膜基板100的上表面100a和下表面100b之一上的外围线路130。通孔110可以将外围线路130连接至形成在膜基板100的上表面100a和下表面100b中另一个上的焊盘部分160。也就是说，每条外围线路130可以形成在膜基板100的上表面100a和下表面100b之一上，并且外围线路130可以通过通孔110连接至形成在上表面110a和下表面110b中另一个上的焊盘部分160。例如，形成在膜基板100的下表面110b上的每条外围线路130可以通过通孔110连接至形成在膜基板100的上表面100a上的焊盘部分160，其中通孔110穿过膜基板100并且具有生长在其内壁上的导电材料。
在不试图由本原理约束的情况下，可以实现双面膜触摸屏面板，其中检测电极120和外围线路130分布式布置在膜基板100的上表面100a和下表面100b两者上。还可以在触摸屏面板的仅仅一个表面上形成焊盘部分160。相应地，触摸屏面板可以利用一个柔性印刷电路板连接至外部电路，使得可以简化外部电路的连接结构，且降低制造成本。
相应地，可以提供轻且薄的双面膜触摸屏面板及其制造方法，其中用于进行触摸检测的检测电极120和连接至检测电极120的外围线路130分布式形成在膜基板100的两个表面上。进一步，可以减小死区和/或实现高精度大尺寸触摸屏面板。
低电阻外围线路130可以通过如下低成本且简单的工艺形成：在膜基板100的两个表面上对线路区域(例如在死区中布置外围线路的区域)中的透明电极层进行图案化。低电阻外围线路130可以利用光刻胶通过图案化和/或印刷技术等，然后电镀图案化后的透明电极层130a的顶部来形成。相应地，可以提供能够提高制造效率并改善特性的双面膜触摸屏面板及其制造方法。
通孔可以形成在膜基板100的一侧。焊盘部分160可以形成在膜基板100的一个表面，例如上表面100a上。焊盘部分160可以形成在膜基板100的仅仅一个表面上。焊盘部分160可以借助于通孔110连接至形成在膜基板100的另一表面，例如下表面100b上的外围线路130。相应地，可以提供如下双面膜触摸屏面板及其制造方法，其中触摸屏面板利用一个柔性印刷电路板(未示出)连接至外部电路，使得外部电路的连接结构可以被简化。
图2A至图2L示出根据示例性实施例的制造图1所示触摸屏面板的方法的截面图。
参见图2A至图2L，触摸屏面板的制造方法包括制备例如如图2A所示所限定的膜基板100。膜基板100可以被制备为具有触摸有效区和形成在触摸有效区外部的非触摸有效区。膜基板100可以包括通孔110，例如如图2B所示。如图2C所示，透明电极层120’，例如初始透明电极层可以基本上整个形成在膜基板100的两个表面上和通孔110中。例如，透明电极层120’可以基本上形成在膜基板100的整个表面上，并且可以延伸通过整个通孔110。可选地，金属薄膜层130b’可以基本上整个形成在透明电极层120’上。
透明电极层120’可以被处理以在触摸有效区中形成多个检测电极120且在非触摸有效区中形成多条外围线路130。可以在膜基板100的两个表面上同时图案化透明电极层120’以形成透明电极层130a。
在形成检测电极120和外围线路130的过程中，电镀层130c可以形成在透明电极层130a上。电镀层130c可以例如在图案化透明电极层120’之前和/或之后构成外围线路130的下电极。这里，在例如用于形成检测电极120和构成外围线路130的下电极的透明电极层130a的图案化过程中，可以通过光刻或印刷技术在膜基板100的两个表面上同时图案化透明电极层120’。
为了简化与外部电路的连接结构，多个通孔110可以形成在膜基板100的一侧，通过多个通孔110，膜基板100的两个表面得以彼此连接。
更具体地说，为了制造图1所示的触摸屏面板，可以首先制备如图2A所示的由触摸有效区和形成在触摸有效区外部的非触摸有效区所限定的膜基板100。膜基板100可以包括例如具有高透明度和热阻并且不会产生低聚物的COP基板。另外，可以使用其它的透明基板材料。
随后，如图2B所示，穿过膜基板100的多个通孔110可以形成在膜基板100的与非触摸有效区相对应的一侧。通孔110可以利用激光和/或钻孔机等形成。
随后，如图2C所示，透明电极层120’可以基本上整个形成在其中形成有通孔110的膜基板100的两个表面上。金属薄膜层130b’可以基本上整个形成在透明电极层120’上。
这里，透明电极层120’可以用于形成位于触摸有效区中的检测电极，并且可以利用诸如ITO或IZO之类的透明电极材料形成。考虑到传感器灵敏度等，可以调节透明电极层120’的厚度。
金属薄膜层130b’可以在例如对两个表面同时执行曝光的工艺中用作遮光层，而在电镀的工艺中用作遮蔽层。金属薄膜层130b’的厚度可以形成得比光被遮蔽的厚度更厚，但形成得比金属薄膜层可以用于线路的厚度更薄。
金属薄膜层130b’可以由例如Ag-Pd-Cu(下文称之为APC)合金等形成。除了APC合金之外，金属薄膜层130b’可以由诸如ITO之类的直接形成透明电极层120’的材料形成。例如，金属薄膜层130b’可以由钼(Mo)、铬(Cr)、铝(Al)合金等中的至少一种形成。
金属薄膜层130b’可以在随后的工艺中从触摸有效区中去除，其可以由与透明电极层120’的诸如ITO之类的材料进行选择性刻蚀的材料形成。金属薄膜层130b’可以根据光刻胶的类型和图案化技术等被排除或可选择性地提供。
在膜基板100的两个表面上形成透明电极层120’和/或金属薄膜层130b’的过程中，透明电极层120’和/或金属薄膜层130b’可以生长在通孔110的内壁上。相应地，膜基板100的上表面和下表面可以通过通孔110彼此连接。
如图2D所示，光刻胶140可以涂覆在例如整个形成有透明电极层120’和金属薄膜层130’的膜基板100的两个表面上。
如图2E所示，掩膜200可以在光刻胶140上对准。可以同时对膜基板100的两个表面执行曝光，从而图案化光刻胶140。在该实施例中，由于用于遮光的金属薄膜层130b’形成在膜基板100的两个表面上，因此可以通过对膜基板100的两个表面同时执行曝光来执行光刻胶140的图案化。在使用由用于遮光的黑色矩阵材料制成的光刻胶140的情况下，可以对膜基板100的两个表面同时执行曝光，而不形成金属薄膜层130b’。
如图2F所示，多个图案化的光刻胶140’可以位于透明电极层120’和金属薄膜层130’上。
如图2G所示，掩膜150用于电镀。掩膜150可以覆盖触摸有效区并且可以形成在膜基板100的两个表面上。
如图2H所示，电镀层130c可以形成于在膜基板100的两个表面上的非触摸有效区中暴露的透明电极层120’和金属薄膜层130b’(可选的)上。电镀层130c可以利用例如电镀技术形成。电镀层130c可以具有几微米的厚度。电镀层130c可以形成在非触摸有效区的一个区域上，例如待形成外围线路的区域，以及通孔110的内壁。
如图2I所示，非触摸有效区中的光刻胶140’，例如环绕电镀层130c的光刻胶140’，可以被去除。如图2J所示，触摸有效区中用于电镀的掩膜150可以被去除。
如图2K所示，例如通过利用刻蚀剂等的湿法刻蚀技术，膜基板100的两个表面上的透明电极层120’和金属薄膜层130b’可以被图案化。在这种情况下，利用用于刻蚀金属薄膜层130b’的刻蚀剂的湿法刻蚀工艺可以独立于利用用于刻蚀透明电极层120’的刻蚀剂的湿法刻蚀工艺而执行。
如图2L所示，可能形成在膜基板100的两个表面上的触摸有效区中的光刻胶140’和金属薄膜层130b”均可以被去除。也就是说，位于检测电极120上的光刻胶140’和金属薄膜层130b”均可以被去除。然而，电镀层130c下方的形成在非触摸有效区中的金属薄膜层130b不会被去除。非触摸有效区中的金属薄膜层130b可以与透明电极层130a和电镀层130c一起构成外围线路130。透明电极层130a、金属薄膜层130b和电镀层130c中的至少一个可以设置在通孔110的侧壁上。
根据以上所述的触摸屏面板的制造方法，检测电极120和外围线路130可以同时形成在膜基板100的两个表面上，从而简化制造工艺。
而且，在透明电极层120’和电镀层130c的形成过程中，导电材料可以通过早先在膜基板100上形成通孔110而生长在通孔110的内壁上，使得膜基板100的两个表面可以通过相对简单的工艺彼此连接。相应地，可以在膜基板100的仅仅一个表面上形成焊盘部分160，从而简化与外部电路的连接结构。
同时，在利用电镀技术的工艺中使用具有低吸收因子的COP基板的情况下，可以实现高的可靠性。而且，在触摸屏面板上安装组件时，可以实现通孔110的可靠性以及高温工艺的可靠性。
图3A至图3G示出根据示例性实施例的制造图1所示的触摸屏面板的方法的截面图。为了示例的方便，在对图3A至图3G的描述中，与在图2A至图2L中示出的实施例相似或相同的部件(具体地，图3A-3D)的详细描述将被省略，并且制造方法的顺序将被简要地描述。
如图3D所示，光刻胶140可以涂覆在整个形成有透明电极层120’和金属薄膜层130b’的膜基板100的两个表面上。
如图3E所示，光刻胶140可以被图案化。可以利用图案化后的光刻胶140’作为掩膜，来图案化触摸有效区和非触摸有效区中的透明电极层120’和金属薄膜层130b’。
如图3F所示，膜基板100的两个表面上被图案化的光刻胶140’和金属薄膜层130b”被去除。通孔110中的金属薄膜层130b”也可以被去除。检测电极120和外围线路的透明电极层130a可以被保留，如图3F所示。然后，触摸有效区可以被用于电镀的掩膜(未示出)覆盖。非触摸有效区中透明电极层130a(即外围线路的透明电极层)的顶部可以通过用于电镀的掩膜被电镀。相应地，电镀层130c形成于膜基板100的两个表面上非触摸有效区中被图案化的透明电极层130a的顶部上，从而形成包括透明电极层130a和电镀层130c的低电阻外围线路130’。
在图2A至图2L中示出的前述实施例以及在图3A至图3G中示出的该实施例中，透明电极层130a等可以利用真空生长技术生长。透明电极层130a可以利用光刻技术被图案化，从而形成检测电极120和外围线路130的透明电极层130a。然而，实施例不限于此。例如，检测电极120和外围线路130的透明电极层130a可以利用印刷技术直接形成为如图3f所示的图案。在这种情况下，工艺可以被更加简化，并且可以去掉真空生长技术。
通过总结和回顾，触摸屏面板可以分成电阻覆盖(resistive overlay)触摸屏面板、光敏触摸屏面板和电容触摸屏面板等。在这些触摸屏面板中，在用户的手或物体与触摸屏面板相接触时，电容触摸屏面板可以通过检测在导电检测单元与相邻的检测电极或地电极等之间形成的电容改变，将接触位置转换成电信号。在电容触摸屏面板的情况下，可以解决与电阻覆盖触摸屏面板相关联的、由出现在分别形成有上下电极的两个透明基板之间的空气层所导致的图像质量的劣化。
例如，在被提供给电容触摸屏面板的检测电极形成在一个膜基板的情况下，与电阻覆盖触摸屏面板相比，可以实现轻且薄的触摸屏面板，同时提高图像质量。然而，在所有检测电极和连接至检测电极的所有外围线路都形成在膜基板的一个表面上的情况下，布置有外围线路的死区，例如黑色矩阵区域，增大。因此，可能难以实现高精度大尺寸触摸屏面板。
相应地，在示例性实施例中，提供一种双面膜触摸屏面板及其制造方法，其中外围线路和用于进行触摸检测的检测电极分布式形成在膜基板的两个表面上，使得可以减小死区且实现高精度大尺寸触摸屏面板。此外，在示例性实施例中，提供一种双面膜触摸屏面板及其制造方法，其中低电阻外围线路通过相对简单的工艺而形成，使得可以提高制造效率并具有提高的特性。
此处已公开示例性实施例，并且尽管采用了特定术语，但这些术语仅仅在一般和描述性意义上被使用和解释，并且不是为了限制的目的。相应地，本领域普通技术人员应当理解，在不背离所附权利要求提出的本发明的精神和范围的情况下，可以在形式和细节方面做出各种改变。进一步，应当理解，本发明不限于所公开的实施例，相反，本发明试图涵盖包括在所附权利要求及其等同物的精神和范围内的各种改进和等同布置。

Claims (17)

1.一种触摸屏面板，包括：
由触摸有效区和非触摸有效区限定的膜基板，所述非触摸有效区布置在所述触摸有效区的外部；
布置在所述膜基板的上表面和下表面上的触摸有效区中的多个检测电极；以及
布置在所述膜基板的上表面和下表面上的非触摸有效区中的外围线路，所述外围线路沿第一方向和第二方向之一连接至所述检测电极，并且所述外围线路包括透明电极层和位于所述透明电极层上的电镀层。
2.根据权利要求1所述的触摸屏面板，其中所述检测电极包括具有与所述外围线路的透明电极层相同的材料且与所述外围线路的透明电极层形成在同一层中的透明电极层。
3.根据权利要求1所述的触摸屏面板，其中所述电镀层包括铜、镍、金、银、钯及其合金中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的触摸屏面板，其中所述膜基板包括位于所述膜基板一侧上的多个通孔，所述通孔通过生长在所述通孔的内壁上的导电材料将所述膜基板的上表面和下表面彼此连接。
5.根据权利要求4所述的触摸屏面板，其中形成在所述膜基板的上表面和下表面中之一上的外围线路中的每一条通过所述通孔连接至形成在所述上表面和下表面中另一个上的焊盘部分。
6.根据权利要求1所述的触摸屏面板，其中所述外围线路包括位于所述透明电极层和所述电镀层之间的金属薄膜层。
7.根据权利要求6所述的触摸屏面板，其中所述金属薄膜层的厚度大于光被遮蔽的最小厚度。
8.根据权利要求1所述的触摸屏面板，其中所述膜基板为环烯烃聚合物基板。
9.一种触摸屏面板的制造方法，所述方法包括：
制备由触摸有效区和非触摸有效区限定的膜基板，所述非触摸有效区形成在所述触摸有效区的外部；
在所述膜基板的两个表面上整个形成透明电极层；并且
通过同时图案化所述膜基板的两个表面上的透明电极层，在所述触摸有效区中形成多个检测电极，并形成连接至所述检测电极的外围线路，所述外围线路沿第一方向和第二方向之一形成在所述非触摸有效区中，
其中，在形成所述检测电极和形成所述外围线路的过程中，在所述透明电极层被图案化之前或之后，在构成所述外围线路的下电极的透明电极层上形成电镀层。
10.根据权利要求9所述的触摸屏面板的制造方法，其中形成所述检测电极和形成所述外围线路包括：
在所述膜基板的整个形成有所述透明电极层的两个表面上涂覆光刻胶，然后图案化所述光刻胶；
在所述膜基板的两个表面上形成覆盖所述触摸有效区的用于电镀的掩膜；
在所述膜基板的两个表面上的非触摸有效区中的被暴露的透明电极层上形成所述电镀层；
将形成于所述膜基板的两个表面上的非触摸有效区中的光刻胶去除，并且将形成于所述膜基板的两个表面上的触摸有效区中的用于电镀的掩膜去除；
同时图案化所述膜基板的两个表面上的透明电极层；并且
将形成于所述膜基板的两个表面上的触摸有效区中的光刻胶去除。
11.根据权利要求9所述的触摸屏面板的制造方法，其中形成所述检测电极和形成所述外围线路包括：
在所述膜基板的整个形成有所述透明电极层的两个表面上涂覆光刻胶，图案化所述光刻胶，然后利用图案化后的光刻胶作为掩膜图案化所述透明电极层；
将所述膜基板的两个表面上的光刻胶去除；并且
在所述膜基板的两个表面上的非触摸有效区中图案化的透明电极层上形成所述电镀层。
12.根据权利要求9所述的触摸屏面板的制造方法，其中，在形成所述检测电极和形成所述外围线路的过程中，利用光刻或印刷技术同时图案化位于所述膜基板的两个表面上的透明电极层。
13.根据权利要求9所述的触摸屏面板的制造方法，进一步包括：在图案化所述透明电极层之前，并且在膜基板的两个表面上整个形成所述透明电极层之后，在所述透明电极层上整个形成金属薄膜层。
14.根据权利要求13所述的触摸屏面板的制造方法，其中形成所述检测电极和形成所述外围线路包括，同时图案化所述膜基板的两个表面上的透明电极层并图案化所述金属薄膜层。
15.根据权利要求14所述的触摸屏面板的制造方法，其中图案化所述金属薄膜层包括，在所述透明电极层和所述金属薄膜层被图案化之后，将所述检测电极上的金属薄膜层去除。
16.根据权利要求9所述的触摸屏面板的制造方法，进一步包括形成多个通孔，所述多个通孔在所述膜基板的与所述非触摸有效区相对应的一侧处穿过所述膜基板。
17.根据权利要求16所述的触摸屏面板的制造方法，其中在形成所述透明电极层和形成所述电镀层中的一个或多个过程中，所述透明电极层和所述电镀层中的一个或多个生长在所述通孔的内壁上，使得所述膜基板的两个表面通过所述通孔彼此连接。
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