CN105760007A - 触摸屏面板及制造触摸屏面板的方法 - Google Patents

Abstract

本申请涉及触摸屏面板及制造触摸屏面板的方法，该触摸屏面板包括：基板，包括触摸有效区域和触摸无效区域，触摸无效区域限定在触摸有效区域的外部；线，位于基板的触摸无效区域中，每条线包括金属层和金属层上的透明导电氧化层，金属层包括纳米结构；钝化层，覆盖线的一部分，从而暴露线的末端；以及焊盘，与线的末端电连接。

Description

触摸屏面板及制造触摸屏面板的方法

相关申请的交叉引用

于2015年1月6日提交至韩国知识产权局的、题目为“触摸屏面板及制造触摸屏面板的方法”的第10-2015-0001387号韩国专利申请，通过引用整体并入本文。

技术领域

实施方式涉及触摸屏面板及制造触摸屏面板的方法。

背景技术

触摸屏面板是允许用户通过使用手指或物体选择显示在图像显示装置屏幕上的指示内容等来输入指令的输入装置。

为此，触摸屏面板设置在图像显示装置的前表面上。触摸屏面板将人的手或物体直接接触到的接触位置转换为电信号。因此，在接触位置选择的指示内容作为输入信号被接收。

触摸屏面板可以取代诸如键盘或鼠标的、在与图像显示装置连接时操作的、单独的输入设备。因此，触摸屏面板的使用已经逐渐增加。

发明内容

实施方式针对一种触摸屏面板，该触摸屏面板包括：基板，包括触摸有效区域和触摸无效区域，触摸无效区域限定在触摸有效区域的外部；线，位于基板的触摸无效区域中，每条线包括金属层和金属层上的透明导电氧化层，金属层包括纳米结构；钝化层，覆盖线的一部分，从而暴露线的末端；以及焊盘，与线的末端电连接。

焊盘可部分地覆盖钝化层。

钝化层可包括暴露线的一个或多个通孔。焊盘可通过一个或多个通孔与线电连接。

每个焊盘可具有比线中的相应线大的宽度。

每个焊盘可与线中的相应线的上表面和侧壁接触。

触摸屏面板可进一步包括：感测电极，位于基板的触摸有效区域中，感测电极与线连接。

每个感测电极可包括金属层和金属层上的透明导电氧化层，金属层包括纳米结构。

触摸无效区域可包括：第一触摸无效区域，限定在触摸有效区域的外部，线位于第一触摸无效区域中；以及第二触摸无效区域，限定在第一触摸无效区域的外部，焊盘布置在第二触摸无效区域中。

钝化层可位于触摸有效区域和第一触摸无效区域中。

钝化层可位于第一触摸无效区域中。

金属层可包括纳米线、纳米管或纳米杆结构。

每个焊盘可包括银(Ag)、钯(Pd)或铂(Pt)。

实施方式还针对一种制造触摸屏面板的方法，该方法包括：在基板上形成线，线包括具有纳米结构的金属层和金属层上的透明导电氧化层；形成钝化层，钝化层覆盖线的一部分，从而暴露线的末端；以及形成焊盘，焊盘与线的末端电连接。

形成焊盘可包括：施加金属膏以与线接触；以及通过印刷金属膏形成焊盘。

每个焊盘可形成为部分地覆盖钝化层。

该方法可进一步包括：在形成焊盘之前，形成贯穿钝化层并暴露线的一个或多个通孔。

形成焊盘可包括：施加金属膏以填充一个或多个通孔并与线接触；以及通过印刷金属膏形成焊盘。

基板可包括：触摸有效区域；第一触摸无效区域，限定在触摸有效区域的外部并且线布置在第一触摸无效区域中；以及第二触摸无效区域，限定在第一触摸无效区域的外部并且焊盘和线布置在第二触摸无效区域中。

钝化层可覆盖线的、对应于第一触摸无效区域的区域，并可暴露线的、对应于第二触摸无效区域的区域。

附图说明

通过参照附图对示例性实施方式进行详细描述，诸多特征将对本领域技术人员变得显而易见，在附图中：

图1示出了根据示例性实施方式的触摸屏面板的俯视图。

图2A和2B示出了描述根据示例性实施方式的触摸屏面板的结构的布局图和剖视图。

图3A和3B示出了描述根据示例性实施方式的触摸屏面板的结构的布局图和剖视图。

图4A、5A和6A以及图4B、5B和6B示出了用于描述制造根据示例性实施方式的触摸屏面板的方法的俯视图和剖视图。

具体实施方式

现在，在下文中将参照附图对示例性实施方式进行更全面的描述；然而，它们可以以不同的形式实施且不应被解释为限于本文所阐述的实施方式。相反，提供这些实施方式以使本公开将是彻底的和完整的，并将向本领域技术人员充分传达示例性实施方式。

在附图中，为了图示的清楚性，层和区域的尺寸可能被夸大。还将理解的是，当层或元件被称为在另一层或基板“上”时，其可以直接在另一层或基板上，或者还可以存在中间层。此外，将理解的是，当层被称为在另一层“之下”时，其可以直接在下方，而且还可以存在一个或多个中间层。另外，还将理解的是，当层被称为在两层“之间”时，其可以是这两层之间的唯一层，或者还可以存在一个或多个中间层。相同的参考数字始终指示相同的元件。

图1是根据示例性实施方式的触摸屏面板的俯视图。

参照图1，根据示例性实施方式的触摸屏面板可包括基板10、感测电极22和24、与感测电极22和24电连接的感测线32以及焊盘部42。

基板10可包括触摸有效区域20以及限定在触摸有效区域20的外部的触摸无效区域30和40。触摸有效区域20是检测触摸位置的区域，触摸有效区域20可以为显示图像的显示区域。触摸有效区域20可以是与像素重叠的区域，这些像素包括在设置于触摸屏面板之下的显示面板中。触摸无效区域30和40可以包括第一触摸无效区域30以及限定在第一触摸无效区域30的外部的第二触摸无效区域40。第一触摸无效区域30和第二触摸无效区域40可以为不显示图像的非显示区域。感测电极22和24可以位于触摸有效区域20中，感测线32可以位于第一触摸无效区域30中，以及焊盘部42可以位于第二触摸无效区域40中。

感测电极22和24可以包括相对于彼此交替地设置的第一感测电极22和第二感测电极24。例如，第一感测电极22可以按照其X坐标基本相同的列进行排列，并且可以彼此电连接。第二感测电极24可以按照其Y坐标基本相同的行进行排列，并且可以彼此电连接。在一列中排列的第一感测电极22可以以相互连接的形式图案化，或者可以通过单独的连接图案彼此连接。类似地，在一行中排列的第二感测电极24可以以相互连接的形式图案化，或者可以通过单独的连接图案彼此连接。

第一感测电极22可以设置在与第二感测电极24的层相同的层或不同的层上。当第一感测电极22和第二感测电极24设置在不同的层上时，在第一感测电极22和第二感测电极24之间可插入绝缘层。各感测电极22和24可以包括杆形状，从而不包括单独的连接图案。感测电极22和24可以具有各种形式，诸如金属网结构、环结构或三角杆结构。

感测线32可以位于第一触摸无效区域30中。感测线32可以与第一感测电极22和第二感测电极24连接。焊盘部42可以位于第二触摸无效区域40中。焊盘部42可以包括多个焊盘44。多个焊盘44可以与多个感测线32中相应的感测线连接。多个焊盘44可通过感测线32与第一感测电极22和第二感测电极24连接。例如，与第一感测电极22连接的感测线32可以与位于焊盘部42的一部分中的焊盘44连接，而且与第二感测电极24连接的感测线32可以分散并布置在基于触摸有效区域20的左侧和右侧，以与布置在焊盘部42的左侧和右侧的焊盘44连接。在本示例性实施方式中，示出了焊盘部42位于第二触摸无效区域40的中央。在其它实施方式中，焊盘部42可以偏置地位于第二触摸无效区域40的一侧。

根据上述结构，当人的手或诸如触控棒的触摸物体与触摸屏面板接触时，根据接触位置的电容的变化可通过感测电极22和24、感测线32以及焊盘部42传输到驱动电路。此外，电容的变化可通过X和Y输入处理电路等转换成电信号，从而可识别接触位置。

图2A和2B示出了描述根据示例性实施方式的触摸屏面板的结构的布局图和剖视图。图2B示出了沿图2A中的I-I'线截取的剖视图。

参照图2A和2B，根据示例性实施方式的触摸屏面板可包括基板50、位于基板50上的线52、覆盖线52的一部分的钝化层54以及与线52电连接的焊盘56，其中基板50包括第一触摸无效区域A和第二触摸无效区域B。

每条线52可以为与布置在触摸有效区域(见图1)中的感测电极连接的感测线。线52可以从第一触摸无效区域A和第二触摸无效区域B延伸，而且可以包括金属层52A和金属层52A上的透明导电氧化层52B。金属层52A可以具有诸如纳米线、纳米管以及纳米杆的纳米结构，而且可以包括银(Ag)等。此外，透明导电氧化层52B可以包括氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In₂O₃)、氧化铟镓(IGO)、氧化铝锌(AZO)等。

钝化层54可以防止由于根据线52的暴露所受到的高温或水分渗入而导致线52被腐蚀或损坏。例如，钝化层54可以防止线52中包括的金属层52A被损坏。钝化层54可以具有覆盖线的一部分的形式，从而暴露线的末端。例如，钝化层54可以位于触摸有效区域和第一触摸无效区域A中以覆盖感测电极和线52。此外，钝化层54可以位于第一触摸无效区域A中以覆盖线52。钝化层54可以包括有机材料或无机材料。

焊盘56可以形成于线52中的相应线上并与线52中的相应线电连接。每个焊盘56可以形成为覆盖相应线52的、由钝化层54所暴露的末端，而且可以覆盖钝化层54的一部分。焊盘56和钝化层54可以部分重叠。如上所述，当焊盘56和钝化层54重叠时，能够防止线52通过焊盘56和钝化层54之间的间隙而被暴露。

此外，每个焊盘56可以具有比相应线52的宽度W1大的宽度W2(W2＞W1)。在这种情况下，焊盘56可以覆盖线52的上表面和侧壁，从而能够防止线52被暴露和损坏。焊盘56可以包括银(Ag)、钯(Pd)或铂(Pt)。

图3A和3B示出了描述根据示例性实施方式的触摸屏面板的结构的布局图和剖视图。图3B示出了沿图3A中的I-I'线截取的剖视图。在下文中，将不重复与上述描述重叠的内容。

参照3A和3B，根据示例性实施方式的触摸屏面板可包括基板50、位于基板50上的线52、覆盖线52的一部分的钝化层54以及与线52电连接的焊盘56，其中基板50包括第一触摸无效区域A和第二触摸无效区域B。

钝化层54可包括暴露线52的一个或多个通孔H。焊盘56可以与钝化层54部分重叠。每个焊盘56可以形成为填充对应于线52中的相应线的一个或多个通孔H。因此，焊盘56可以通过通孔H与线52中的相应线电连接。

图4A、5A和6A以及图4B、5B和6B示出了用于描述制造根据示例性实施方式的触摸屏面板的方法的阶段的俯视图和剖视图。图4B、5B和6B是沿图4A、5A和6A中的I-I'线截取的剖视图。

参照图4A和4B，线52可形成于基板50上。例如，金属层52A和透明导电氧化层52B可形成于基板50上，以及线52可通过图案化金属层52A和透明导电氧化层52B而形成。线52可位于第一触摸无效区域A和第二触摸无效区域B中。当形成线52时，位于触摸有效区域中的感测电极可与线52一起形成(见图1)。在这种情况下，感测电极可以包括金属层和金属层上的透明导电氧化层。

参照5A和5B，覆盖线52的一部分的钝化层54可形成于基板50上。钝化层54可形成为覆盖线52的、形成在第一触摸无效区域A中的区域，并且可暴露线52的、形成在第二触摸无效区域B中的区域。钝化层54可以形成为覆盖感测电极和线52的、形成在触摸有效区域中的区域，并且可暴露线52的、形成在第二触摸无效区域B中的区域。因此，可暴露线52的末端。

在形成钝化层54后，可形成贯穿钝化层54并暴露线52的通孔(见图3A和3B)。

参照图6A和6B，形成与线52中的相应线的末端电连接的焊盘56。焊盘56可形成于第二触摸无效区域B或第二触摸无效区域B和第一触摸无效区域A的一部分中。

例如，可以施加金属膏以与由钝化层54所暴露的线52接触。可通过印刷或图案化金属膏形成焊盘56。金属膏可以形成为部分覆盖钝化层。焊盘56和钝化层54可以部分重叠。当钝化层54包括通孔时，金属膏可以形成为填充通孔。

根据上述过程，通过使用金属膏和印刷工艺可以形成焊盘56，从而与光刻工艺相比，可以减少掩模的数量。因此，能够降低制造成本。

通过总结和回顾，实现触摸屏面板的方法包括电阻法、光检测法以及电容法。这其中，在电容性触摸屏面板中，当人的手或物体触摸该触摸屏面板时，导电性感测电极检测与其他周围感测电极、地电极等形成的电容的改变，以将接触位置转换成电信号。因此，电容性触摸屏面板包括电连接的感测电极、感测线、焊盘等。当触摸屏面板的焊盘具有堆叠了多个导电层的结构时，焊盘根据导电层的材料可能被腐蚀。

根据示例性实施方式的触摸屏面板包括堆叠了金属层和透明导电氧化层的线、覆盖线的一部分的钝化层、以及与线的暴露的末端电连接的焊盘。因此，能够防止线由于暴露而被腐蚀或损坏。此外，焊盘和钝化层部分重叠，从而能够防止线通过焊盘和钝化层之间的间隙而被暴露。

本文已经公开了示例性实施方式，虽然使用了具体的术语，但是它们仅以一般性和描述性的意义使用和解释，并非用于限制的目的。在一些情况下，自本申请的提交起，如对本领域技术人员而言显而易见的，除非另外特别指出，否则与具体实施方式结合地描述的特征、特点和/或元件可单独使用，或和与其他实施方式结合地描述的特征、特点和/或元件组合地使用。因此，本领域技术人员将理解的是，在不背离在所附权利要求中阐述的精神和范围的情况下，可以进行形式和细节上的各种改变。

Claims (19)

1.一种触摸屏面板，包括：

基板，包括触摸有效区域和触摸无效区域，所述触摸无效区域限定在所述触摸有效区域的外部；

线，位于所述基板的所述触摸无效区域中，每条所述线包括金属层和所述金属层上的透明导电氧化层，所述金属层包括纳米结构；

钝化层，覆盖所述线的一部分，从而暴露所述线的末端；以及

焊盘，与所述线的所述末端电连接。

2.如权利要求1所述的触摸屏面板，其中所述焊盘部分地覆盖所述钝化层。

3.如权利要求2所述的触摸屏面板，其中：

所述钝化层包括暴露所述线的一个或多个通孔，以及

所述焊盘通过所述一个或多个通孔与所述线电连接。

4.如权利要求1所述的触摸屏面板，其中每个所述焊盘具有比所述线中的相应线大的宽度。

5.如权利要求1所述的触摸屏面板，其中每个所述焊盘与所述线中的相应线的上表面和侧壁接触。

6.如权利要求1所述的触摸屏面板，进一步包括：

感测电极，位于所述基板的所述触摸有效区域中，所述感测电极与所述线连接。

7.如权利要求6所述的触摸屏面板，其中每个所述感测电极包括金属层和所述金属层上的透明导电氧化层，所述金属层包括纳米结构。

8.如权利要求1所述的触摸屏面板，其中所述触摸无效区域包括：

第一触摸无效区域，限定在所述触摸有效区域的外部，所述线位于所述第一触摸无效区域中；以及

第二触摸无效区域，限定在所述第一触摸无效区域的外部，所述焊盘布置在所述第二触摸无效区域中。

9.如权利要求8所述的触摸屏面板，其中所述钝化层位于所述触摸有效区域和所述第一触摸无效区域中。

10.如权利要求8所述的触摸屏面板，其中所述钝化层位于所述第一触摸无效区域中。

11.如权利要求1所述的触摸屏面板，其中所述金属层包括纳米线、纳米管或纳米杆结构。

12.如权利要求1所述的触摸屏面板，其中每个所述焊盘包括银(Ag)、钯(Pd)或铂(Pt)。

13.一种制造触摸屏面板的方法，所述方法包括：

在基板上形成线，所述线包括具有纳米结构的金属层和所述金属层上的透明导电氧化层；

形成钝化层，所述钝化层覆盖所述线的一部分，从而暴露所述线的末端；以及

形成焊盘，所述焊盘与所述线的所述末端电连接。

14.如权利要求13所述的方法，其中形成所述焊盘包括：

施加金属膏以与所述线接触；以及

通过印刷所述金属膏形成所述焊盘。

15.如权利要求13所述的方法，其中每个所述焊盘形成为部分地覆盖所述钝化层。

16.如权利要求15所述的方法，在形成所述焊盘之前进一步包括：形成贯穿所述钝化层并暴露所述线的一个或多个通孔。

17.如权利要求16所述的方法，其中形成所述焊盘包括：

施加金属膏以填充所述一个或多个通孔并与所述线接触；以及

通过印刷所述金属膏形成所述焊盘。

18.如权利要求13所述的方法，其中所述基板包括：触摸有效区域；第一触摸无效区域，限定在所述触摸有效区域的外部并且所述线布置在所述第一触摸无效区域中；以及第二触摸无效区域，限定在所述第一触摸无效区域的外部并且所述焊盘和所述线布置在所述第二触摸无效区域中。

19.如权利要求18所述的方法，其中所述钝化层覆盖所述线的、对应于所述第一触摸无效区域的区域，并暴露所述线的、对应于所述第二触摸无效区域的区域。