CN109375405A - 显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents
显示面板及其制作方法、显示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109375405A CN109375405A CN201811454745.XA CN201811454745A CN109375405A CN 109375405 A CN109375405 A CN 109375405A CN 201811454745 A CN201811454745 A CN 201811454745A CN 109375405 A CN109375405 A CN 109375405A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- touch
- tft
- conductive welding
- control line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/13338—Input devices, e.g. touch panels
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
- G02F1/134363—Electrodes characterised by their geometrical arrangement for applying an electric field parallel to the substrate, i.e. in-plane switching [IPS]
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133357—Planarisation layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Geometry (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
本发明公开了一种显示面板及其制作方法、显示装置,包括:显示区以及非显示区;显示区包括多个触控电极和多条沿第一方向延伸的触控线;非显示区包括绑定区,绑定区包括多个第一导电焊盘,触控线通过第一连接线和第一导电焊盘电连接;显示面板还包括衬底基板以及位于衬底基板同侧的薄膜晶体管层、平坦化层和走线层;薄膜晶体管层包括多个薄膜晶体管,多个第一导电焊盘和薄膜晶体管的漏极同层设置;走线层包括多条沿第一方向延伸的第一走线,第一走线位于触控线靠近平坦化层的一侧表面。相对于现有技术,通过在平坦化层和触控线所在的膜层之间设置金属氧化物膜层,有效提高了第一导电焊盘在绑定工艺中的可靠性。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,更具体地,涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
显示技术是指利用电子技术提供变换灵活的视觉信息的技术,近年来,随着显示技术的高速发展,具有显示功能的电子设备被广泛应用至人们的工作和生活中,给人们的工作和生活带来了巨大的便利。
众所周知,评价这些电子设备显示功能的好坏主要是看它们的显示屏质量,因为显示屏的质量直接影响到画面的观看效果,比如亮度、对比度、色彩、可视角度等等,所以在具有显示功能的电子设备的生产过程中,显示屏的质量把控尤为重要。
目前的显示屏通常会在显示区的周边设置若干导电焊盘,从而通过绑定工艺实现导电焊盘与柔性线路板、印刷电路板等器件之间的电性连接。由于这些导电焊盘图案化成形后通常处于裸露状态,在进行后续膜层的制作过程中,经常会出现后续膜层所用的刻蚀液腐蚀导电焊盘的情况,降低了显示的可靠性和稳定性,同时也对显示设备的质量造成了较大的影响。
发明内容
有鉴于此,本发明提供了一种显示面板及其制作方法、显示装置,以确保显示的可靠性和稳定性。
本发明提供了一种显示面板,包括:显示区以及围绕显示区设置的非显示区;显示区包括多个触控电极和多条沿第一方向延伸的触控线,每个触控电极和至少一条触控线电连接;非显示区包括绑定区,绑定区包括多个第一导电焊盘,触控线通过第一连接线和第一导电焊盘电连接;显示面板还包括衬底基板以及位于衬底基板同侧的薄膜晶体管层、平坦化层和走线层;薄膜晶体管层包括多个薄膜晶体管,多个第一导电焊盘和薄膜晶体管的漏极同层设置;平坦化层位于薄膜晶体管层远离衬底基板的一侧,且平坦化层包括镂空部,镂空部暴露出多个第一导电焊盘;其中,触控线、多个第一导电焊盘的材料为金属;走线层包括多条沿第一方向延伸的第一走线,第一走线位于触控线靠近平坦化层的一侧表面;其中,第一走线的材料为金属氧化物。
本发明提供了一种显示面板的制作方法,包括:提供衬底基板;在衬底基板上形成薄膜晶体管层和多个第一导电焊盘;其中,薄膜晶体管层包括多个薄膜晶体管,且多个第一导电焊盘和薄膜晶体管的漏极同层形成;
在薄膜晶体管层上形成平坦化层,图案化平坦化层,形成镂空部,镂空部暴露出多个第一导电焊盘;在平坦化层上沉积走线层,走线层的材料为金属氧化物;在走线层上沉积触控线层,触控线层的材料为金属;利用掩膜板对触控线层进行图案化,形成多条沿第一方向延伸的触控线;继续利用掩膜板对走线层进行图案化,形成多条沿第一方向延伸的第一走线,并暴露出多个第一导电焊盘。
本发明还提供了另一种显示面板的制作方法,包括:提供衬底基板;在衬底基板上形成薄膜晶体管层和多个第一导电焊盘;其中,薄膜晶体管层包括多个薄膜晶体管,且多个第一导电焊盘和薄膜晶体管的漏极同层形成;在薄膜晶体管层上形成平坦化层,图案化平坦化层,形成镂空部,镂空部暴露出多个第一导电焊盘;在平坦化层上沉积透明电极层,图案化透明电极层,形成保护层,保护层覆盖多个第一导电焊盘;在透明电极层上沉积第一钝化层,图案化第一钝化层,暴露出保护层;在第一钝化层上沉积触控线层,触控线的材料为金属;利用掩膜板对触控线层进行图案化,形成多条沿第一方向延伸的触控线;继续利用掩膜板对保护层进行图案化,暴露出多个第一导电焊盘。
此外,本发明还提供了一种显示装置,包括本发明提供的显示面板。
与现有技术相比,本发明提供的显示面板及其制作方法、显示装置,至少实现了如下的有益效果:
通过在平坦化层和触控线所在的膜层之间设置金属氧化物膜层,一方面,在图案化金属氧化物膜层时,所用的刻蚀液不会腐蚀金属材质的第一导电焊盘;另一方面,在图案化触控线所在膜层时,所用的刻蚀液不会对金属氧化物层造成影响,从而有效提高了第一导电焊盘在绑定工艺中的可靠性,确保了显示设备显示的可靠性和稳定性。此外,对于金属氧化物膜层和触控线所在的膜层,两者位于非显示区的部分可以共用同一掩膜板刻蚀,有利于降低工艺的复杂度,提高显示设备的生产效率。
当然,实施本发明的任一产品不必特定需要同时达到以上所述的所有技术效果。
通过以下参照附图对本发明的示例性实施例的详细描述,本发明的其它特征及其优点将会变得清楚。
附图说明
被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本发明的实施例,并且连同其说明一起用于解释本发明的原理。
图1是本发明实施例提供的一种显示面板的平面结构示意图;
图2是图1中触控电极的一种线路连接放大结构示意图;
图3是图2中沿C-C方向的一种剖面结构示意图;
图4是图2中沿C-C方向的另一种剖面结构示意图;
图5是图2中沿C-C方向的又一种剖面结构示意图;
图6是图2中沿C-C方向的又一种剖面结构示意图;
图7是第一导电焊盘的一种剖面结构示意图;
图8是触控线的一种剖面结构示意图;
图9是图2中沿C-C方向的又一种剖面结构示意图;
图10是图2中沿C-C方向的又一种剖面结构示意图;
图11是本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法流程图;
图12-图18是图11所示的制作方法的剖面结构示意图;
图19是本发明实施例提供的一种薄膜晶体管层的制作方法流程图;
图20-图24是图19所示的制作方法的剖面结构示意图;
图25是本发明实施例提供的另一种薄膜晶体管层的制作方法流程图;
图26-图29是图25所示的制作方法的剖面结构示意图;
图30是本发明实施例提供的另一种显示面板的制作方法流程图;
图31-图32是图30所示的制作方法的剖面结构示意图;
图33是本发明实施例提供的又一种显示面板的制作方法流程图;
图34-图35是图33所示的制作方法的剖面结构示意图;
图36是本发明实施例提供的又一种显示面板的制作方法流程图;
图37-图40是图36所示的制作方法的剖面结构示意图;
图41是本发明实施例提供的又一种显示面板的制作方法流程图;
图42-图46是图41所示的制作方法的剖面结构示意图;
图47是本发明实施例提供的又一种显示面板的制作方法流程图;
图48-图51是图47所示的制作方法的剖面结构示意图;
图52是本发明实施例提供的又一种显示面板的制作方法流程图;
图53-图56是图52所示的制作方法的剖面结构示意图;
图57是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
现在将参照附图来详细描述本发明的各种示例性实施例。应注意到:除非另外具体说明,否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本发明的范围。
以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的,决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。
对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论,但在适当情况下,所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。
在这里示出和讨论的所有例子中,任何具体值应被解释为仅仅是示例性的,而不是作为限制。因此,示例性实施例的其它例子可以具有不同的值。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
请结合参考图1、图2和图3所示,本发明提供了一种显示面板,包括:显示区AA以及围绕显示区AA设置的非显示区BB;显示区AA包括多个触控电极S和多条沿第一方向x延伸的触控线SL,每个触控电极S和至少一条触控线SL电连接;非显示区BB包括绑定区10,绑定区10包括多个第一导电焊盘11,触控线SL通过第一连接线20和第一导电焊盘11电连接;显示面板还包括衬底基板30以及位于衬底基板30同侧的薄膜晶体管层40、平坦化层50和走线层60;薄膜晶体管层40包括多个薄膜晶体管T,多个第一导电焊盘11和薄膜晶体管T的漏极T4同层设置;平坦化层50位于薄膜晶体管层40远离衬底基板30的一侧,且平坦化层50包括镂空部51,镂空部51暴露出多个第一导电焊盘11;其中,触控线SL、多个第一导电焊盘11的材料为金属;走线层60包括多条沿第一方向x延伸的第一走线61,第一走线61位于触控线SL靠近平坦化层50的一侧表面;其中,第一走线61的材料为金属氧化物。
需要说明的是,图3中仅示意了薄膜晶体管层40中的一个薄膜晶体管T,可以理解的是,显示面板中包括了多个薄膜晶体管T。并且,为了更加直观地示意本实施例的技术方案,图1至图3中未画出其他结构,图2和图3中位于同一膜层的结构用相同的图案填充,并且,由于第一连接线20的膜层位置可以有多种,故图2中未对其进行图案填充。
具体的,触控电极S和至少一条触控线SL电连接,触控信号可以通过触控线SL传输给触控电极S,由于触控电极S的面积通常较大,触控信号在触控电极S上传输的过程中可以用于检测用户的在显示区AA的具体触摸位置,从而使得显示面板具有触控功能。触控线SL通过第一连接线20和绑定区10内的第一导电焊盘11电连接,通过在平坦化层50设置镂空部51以暴露出第一导电焊盘11,使得第一导电焊盘11可以通过绑定工艺和柔性线路板、印刷电路板等器件(未画出)电连接,从而柔性线路板、印刷电路板等器件可以直接通过第一导电焊盘11为触控线SL提供触控信号。
薄膜晶体管T主要包括漏极T4以及有源层T1、栅极T2和源极T3,且源极T3和漏极T4均和有源层T1电连接,有源层T1的材料通常为金属氧化物半导体,其中,源极T3可以和漏极T4同层设置,也可以和漏极T4异层设置,本发明对此并不作具体限制,仅以两者同层设置为例进行说明,后续不再赘述。第一导电焊盘11和薄膜晶体管T的漏极T4同层设置,也即在形成漏极T4的同时形成第一导电焊盘11,从而可以无需为第一导电焊盘11提供单独的掩膜板,有利于节省工艺的流程和成本。
平坦化层50位于薄膜晶体管层40远离衬底基板30的一侧,通过平坦化层50可以使得由于薄膜晶体管T导致的膜层水平差得到补偿,并且由于平坦化层50的表面较为平坦,使得图案化第一走线61和触控线SL时的精度更高,有利于降低线路之间的负载差异。平坦化层50可以由单层或多层的有机材料形成,有机材料可以是诸如聚甲基丙烯酸甲酯或聚苯乙烯的通用聚合物、具有酚基的聚合物衍生物、丙烯酸聚合物、酰亚胺类聚合物、芳醚类聚合物、酰胺类聚合物、氟类聚合物、对二甲苯类聚合物、乙烯醇类聚合物或者它们的混合物等;当然,平坦化层50也可以是无机绝缘层和有机绝缘层的复合堆叠体,本实施例对此并不作具体限制。
本实施例中,触控线SL和第一导电焊盘11的材料为金属,第一走线61的材料为金属氧化物,由于金属膜层和金属氧化物膜层可以采用不同的刻蚀液进行膜层的图案化,并且第一走线61位于触控线SL靠近平坦化层50的一侧表面,也即在图案化形成触控线SL的过程中,可以通过金属氧化物膜层对第一焊盘11进行保护,在图案化形成触控线SL之后,再刻蚀掉相应位置的金属氧化物即可。
但在刻蚀掉相应位置的金属氧化物时,由于触控线SL的存在,位于触控线SL靠近平坦化层50一侧表面的金属氧化物可以被保留下来,形成沿第一方向x延伸的第一走线61,而位于非显示区BB部分的金属氧化物则可以被刻蚀掉,从而金属氧化物膜层和触控线所在的金属膜层位于非显示区BB的部分可以共用同一掩膜板刻蚀;并且,在金属氧化物膜层和触控线所在的金属膜层位于显示区AA和非显示区BB两部分的结构相同的情况下,两者可以共用同一掩膜板在显示区AA和非显示区BB同时图案化形成所需的膜层结构,但本实施例对此并不作具体限制。
本实施例提供的显示面板,至少具有如下的技术效果:
通过在平坦化层和触控线所在的膜层之间设置金属氧化物膜层,一方面,在图案化金属氧化物膜层时,所用的刻蚀液不会腐蚀金属材质的第一导电焊盘;另一方面,在图案化触控线所在膜层时,所用的刻蚀液不会对金属氧化物层造成影响,从而有效提高了第一导电焊盘在绑定工艺中的可靠性,确保了显示设备显示的可靠性和稳定性。此外,对于金属氧化物膜层和触控线所在的膜层,两者位于非显示区的部分可以共用同一掩膜板刻蚀,有利于降低工艺的复杂度,提高显示设备的生产效率。
在一些可选的实施例中,请继续结合参考图2和图3所示,第一连接线20和第一导电焊盘11同层设置。
本实施例中,由于第一导电焊盘11和薄膜晶体管T的漏极T4同层设置,也即第一连接线20和薄膜晶体管T的漏极T4同层设置,从而在形成漏极T4的同时可以直接形成第一导电焊盘11和第一连接线20,无需为第一连接线20提供单独的掩膜板,更有利于节省工艺的流程和成本。
需要说明的是,由于第一连接线20和触控线SL位于不同的膜层,为了实现两者之间的电连接,需要在平坦化层50上设置相应的电连接过孔,并且在过孔中既可以只沉积走线层60对应的金属氧化物材料,比如图3所示;或者也可以在过孔中依次沉积走线层60对应的金属氧化物和触控线SL对应的金属材料,但本实施例对此并不作具体限制。
可选的,请结合参考图1、图2和图4所示,绑定区10还包括多个第二导电焊盘12,多个第二导电焊盘12和薄膜晶体管T的栅极T2同层设置;至少一个第二导电焊盘12和第一导电焊盘11电连接。需要说明的是,为了更加直观地示意本实施例的技术方案,图4中位于同一膜层的结构也用相同的图案填充。
本实施例中,由于第二导电焊盘12和薄膜晶体管T的栅极T2同层设置,且第二导电焊盘12和第一导电焊盘11电连接,一方面,触控线SL可以通过第一连接线20和第一导电焊盘11电连接,继而可以通过第一导电焊盘11和柔性线路板、印刷电路等器件电连接;另一方面,位于镂空部51内第一导电焊盘11的数量可以多于第一连接线20的数量,此时存在部分第一导电焊盘11不与第一连接线20电连接,栅极T2所在膜层的其他线路(未画出)可以通过第二导电焊盘12和这部分不与第一连接线20电连接的第一导电焊盘11电连接,继而也可以通过第一导电焊盘11实现这些线路与柔性线路板、印刷电路灯器件之间的电连接,有利于简化显示面板的膜层结构,充分利用栅极T2所在的膜层空间。
可选的,请结合参考图1、图2和图5所示,第一连接线20和第二导电焊盘12同层设置;第一连接线20的一端和触控线SL电连接,第一连接线20的另一端和第二导电焊盘12电连接。
本实施例中,第一走线61位于触控线SL靠近平坦化层50的一侧表面,从而第一连接线20可以通过第一走线61实现与触控线SL的电连接,也即第一连接线20原本需要和触控线SL电连接的一端,此时和第一走线61电连接即可。
第一连接线20可以全部和第二导电焊盘12同层设置;也可以部分第一连接线20和第二导电焊盘12同层设置,剩余部分第一连接线20和第一导电焊盘12同层设置,比如图4所示,本实施例对此并不作具体限制,但这两种布线方式均有利于降低绑定区10甚至非显示区BB线路排布的密度,从而降低线路之间的耦合影响,提高显示设备的可靠性。
可选的,请结合参考图2和图6所示,第一连接线20包括第一连接部21和第二连接部22,第一连接部21和漏极T4同层设置,第二连接部22和栅极T2同层设置;第一连接部21的一端和触控线SL电连接,第一连接部21的另一端和第二连接部22的一端电连接,第二连接部22的另一端和第二导电焊盘12电连接。
本实施例中,第一连接线20包括异层设置的第一连接部21和第二连接部22两部分,第一连接部21可以通过平坦化层50和第一导电焊盘11隔离,后续在制作具有导电能力的膜层时,可以有效防止这些膜层图案化后残留的部分对第一连接部21造成短路影响;同时,第二连接部22和栅极T2同层设置,也可以充分利用栅极T2所在的膜层空间。
可选的,请结合参考图6、图7和图8所示,第一导电焊盘11包括至少两层第一子层111以及位于相邻两层第一子层111之间的第二子层112;其中,第一子层111和第二子层112的金属材料不同;触控线SL包括至少一个第三子层113,第三子层113的金属材料和第二子层112的金属材料相同。需要说明的是,为了更加直观地示意本实施例的技术方案,图7和图8中金属材料相同的结构用相同的图案填充。
本实施例中,第一导电焊盘11可以仅包括图7所示的三层金属结构,也可以三层以上的堆叠结构,只要其第二子层112和触控线SL第三子层113的金属材料相同即可;同理,触控线SL可以是单层或多层第三子层113的堆叠结构,也可以是第三子层113和其他不同于第三子层113金属材料的多层堆叠结构,本实施例对此均不作具体限制。
在图案化形成触控线SL时,所用的刻蚀液对第三子层113的金属材料有腐蚀性,由于第一导电焊盘11中第二子层112的金属材料和第三子层113的金属材料相同,故刻蚀液对第一导电焊盘11也会有腐蚀性,但由于走线层60,也即金属氧化物膜层的存在,可以通过在第一焊盘11的表面覆盖金属氧化物膜层后再制作触控线SL所在的膜层即可防止刻蚀液对第一焊盘11造成腐蚀影响。
可选的,请继续参考图6、图7和图8所示,金属氧化物为氧化铟锡、氧化铟锡锌、氧化铟锌、氧化锡、氧化铟中的任一者,即第一走线61的材料可以是氧化铟锡、氧化铟锡锌、氧化铟锌、氧化锡、氧化铟中的任一者。
本实施例中,由于氧化铟锡、氧化铟锡锌、氧化铟锌、氧化锡和氧化铟都具有较好的透光性,在图案化形成第一走线61时,走线层60除第一走线61外的部分既可以全部刻蚀掉,也可以保留部分用于形成显示面板中透光性较好的膜层结构,比如像素电极、公共电极等等,本实施例对此并不作具体限制。
当然,在对第一走线61的透光性不作要求的情况下,比如图6中走线层60图案化后仅保留第一走线61,且第一走线61位于触控线SL靠近平坦化层50的一侧表面,由于触控线SL可以为透光性较差的金属材料制成,故第一走线61的材料也可以是透光性较差的金属氧化物。
在一些可选的实施例中,请参考图9所示,触控电极S复用为公共电极M,也即在显示面板的显示阶段,可以直接通过复用触控线SL为公共电极M提供公共信号,使得显示面板间距显示和触控两种功能,无需另外增加公共电极M所在的膜层结构,有利于实现显示面板的多功能化和轻薄化。
可选的,请结合参考图1、图2和图9所示,显示面板还包括像素电极层70,像素电极层70包括多个像素电极71,像素电极71位于显示区AA,且和薄膜晶体管T的漏极T4电连接;像素电极层70位于公共电极M远离衬底基板30的一侧,或者,像素电极层70位于公共电极M靠近衬底基板30的一侧。需要说明的是,图9中仅示意了一个像素电极71和薄膜晶体管T漏极T4电连接,可以理解的是,显示面板中包括了多个像素电极71。
本实施例中,像素电极71和薄膜晶体管T的漏极T4电连接,当薄膜晶体管T的栅极T2接收到扫描信号时,薄膜晶体管T导通,并且提供到源极T3的数据信号通过薄膜晶体管T可以传输至像素电极71,从而和公共电极M之间形成边缘电场,驱动显示面板内的液晶分子(未画出)转动,进而实现画面的显示。
像素电极层70可以位于公共电极M远离衬底基板30的一侧,比如图9所示,此时若像素电极71需要穿过公共电极M后与薄膜晶体管T的漏极T4电连接,则公共电极M上过孔的尺寸应略大于电连接所需的通道尺寸,防止像素电极71和公共电极M之间短接。当然,像素电极层70也可以位于公共电极M靠近衬底基板30的一侧,比如图10所示,此时由于像素电极71电连接所需的通道不经过公共电极M,则无需考虑在公共电极M上设置过孔的情况。
本发明提供了一种显示面板的制作方法,请结合参考图1、图11-图18所示,包括:
步骤101、提供衬底基板30;
步骤102、在衬底基板30上形成薄膜晶体管层40和多个第一导电焊盘11;其中,薄膜晶体管层40包括多个薄膜晶体管T,且多个第一导电焊盘11和薄膜晶体管T的漏极T4同层形成;
步骤103、在薄膜晶体管层40上形成平坦化层50,图案化平坦化层50,形成镂空部51,镂空部51暴露出多个第一导电焊盘11;
步骤104、在平坦化层50上沉积走线层60,走线层60的材料为金属氧化物;
步骤105、在走线层60上沉积触控线层80,触控线层80的材料为金属;
步骤106、利用掩膜板81对触控线层80进行图案化,形成多条沿第一方向x延伸的触控线SL;
步骤107、继续利用掩膜板81对走线层60进行图案化,形成多条沿第一方向x延伸的第一走线61,并暴露出多个第一导电焊盘11。
需要说明的是,由于第一连接线20的膜层结构可以有多种,故本实施例未对第一连接线20的制作过程进行说明,可以理解的是,第一连接线20可以根据所处的膜层位置与该膜层的线路结构一同图案化形成即可,本实施例对此并不作具体限制。
具体的,平坦化层50形成在薄膜晶体管层40上,由于平坦化层50的表面较为平坦,使得后续形成第一走线61和触控线SL时的工艺精度更高,并且平坦化层50通过镂空部51暴露出第一导电焊盘11,使得柔性线路板、印刷电路板等器件能够通过绑定工艺直接和第一导电焊盘11电连接,从而可以通过这些器件为显示面板内的各种线路提供相应的信号。在平坦化层50上沉积的走线层60为金属氧化物膜层,在沉积的过程中,由于镂空部51的存在可以覆盖至第一导电焊盘11的表面,之后再在走线层60上沉积触控线层80,由于触控线层80为金属膜层,其图案化形成触控线SL的刻蚀液不会腐蚀线层60,从而可以对第一导电焊盘11进行保护。
本实施例中,由于在图案化走线层60工艺中仅形成第一走线61,也即在显示区AA和非显示区BB内,走线层60和触控线层80图案化后的膜层结构可以完全相同,此时走线层60和触控线层80可以共用同一掩膜板81形成,有利于降低显示面板制作工艺的复杂度,提高显示设备的生产效率。当然,走线层60和触控线层80图案化后的膜层结构也可以不同,但本实施例对此并不作具体限制,仅以两者图案化后的膜层结构完全相同为例进行说明。
衬底基板30可以是玻璃基板,也可以是柔性基板,为了防止衬底基板30上残留的水气、灰尘等异物对后续的膜层产生影响,可以在衬底基板30和薄膜晶体管层40之间设置一层或多层的缓冲层,但本实施例对此均不作具体限制。
可选的,请结合参考图13、图19-图24所示,在衬底基板30上形成薄膜晶体管层40和多个第一导电焊盘11,具体包括:
步骤201、在衬底基板30上沉积半导体层31,图案化半导体层31,形成薄膜晶体管T的有源层T1;
步骤202、在有源层T1上沉积第一绝缘层32;
步骤203、在第一绝缘层32上沉积第一金属层33,图案化第一金属层33,形成薄膜晶体管T的栅极T2;
步骤204、在第一金属层33上形成第二绝缘层34,图案化第二绝缘层34和第一绝缘层32,形成多个第一过孔90;
步骤205、在第二绝缘层34上沉积第二金属层35;
步骤206、图案化第二金属层35,形成薄膜晶体管T的源极T3、漏极T4以及多个第一导电焊盘11,且源极T3和漏极T4分别通过第一过孔90和有源层T1电连接,如图13所示。
本实施例中,通过在形成薄膜晶体管T源极T3和漏极T4的同时,形成第一导电焊盘11,从而第一导电焊盘11以及源极T3和漏极T4可以共用掩膜板图案化形成,有效节省了显示面板的工艺流程,并且不增加显示面板的膜层数,有利于实现显示面板的轻薄化。同时,由于源极T3和漏极T4通常所用的钛-铝-钛三层金属堆叠结构能够使所形成的第一导电焊盘11具有较好的导电性能,也即第一导电焊盘11可以用常规的源漏极金属膜层图案化形成,当然,源漏极金属膜层也可以是按图7所示堆叠结构的其他金属膜层,本实施例对此并不作具体限制。
可选的,请结合参考图19-图21、图25-图29所示,上述在衬底基板30上形成薄膜晶体管层40和多个第一导电焊盘11,还包括:
步骤203中还形成多个第二导电焊盘12,多个第二导电焊盘12和薄膜晶体管T的栅极T2同层形成;
步骤204在图案化第二绝缘层34的同时,还形成至少一个第二过孔91,第二导电焊盘12通过第二过孔91和第一导电焊盘11电连接。
本实施例中,第二导电焊盘12和薄膜晶体管T的栅极T2同时图案化形成,由于第二导电焊盘12还通过第二过孔91和第一导电焊盘11电连接,从而第二导电焊盘12和第一导电焊盘11同电位,对于原先只能通过和第一导电焊盘11电连接以实现与柔性线路板、印刷电路板等器件绑定的线路而言,还可以间接地通过和第二导电焊盘12电连接以实现与柔性线路板、印刷电路板等器件之间的绑定,使得显示面板的绑定工艺更加简单方便,同时也使得显示面板内线路的排布更加灵活。
需要说明的是,第二过孔91的数量可以根据实际情况形成;并且,每个第二导电焊盘12可以仅通过一个第二过孔91和第一导电焊盘11电连接,也可以通过两个甚至两个以上的第二过孔91和第一导电焊盘11电连接,但本实施例对此均不作具体限制。
可选的,请结合参考图11-图18、图30-图32所示,上述显示面板的制作方法,在步骤107之后还包括:
步骤108、在触控线层80上沉积第一钝化层P1,图案化第一钝化层P1,形成多个第三过孔92;
步骤109、在第一钝化层P1上沉积触控电极层S1,图案化触控电极层S1,形成多个触控电极S,触控电极S通过第三过孔92和至少一条触控线SL电连接。
本实施例中,第一钝化层P1形成于触控线SL的表面,可以防止触控电极层S1图案化过程中刻蚀液腐蚀触控线SL和第一走线61。在沉积触控电极层S1之前,由于第一钝化层P1上形成有多个第三过孔92,从而部分触控电极层S1的材料可以沉积在第三过孔92内,图案化形成的触控电极S可以通过第三过孔92和触控线SL电连接。
需要说明的是,触控电极S所电连接的触控线SL数量可以仅设置一条,比如图33所示,当然也可以根据实际需要设置多条,只要在第一钝化层P1上设置相应数量的第三过孔92即可,不会增加显示面板的工艺流程。此外,由于显示面板需要通过第一导电焊盘11和柔性线路板、印刷电路板等器件绑定,故在图案化第一钝化层P1,形成多个第三过孔92的同时,还应刻蚀掉与镂空部51对应的部分,以再次暴露出第一导电焊盘11。
可选的,请结合参考图12-图18、图31-图35所示,上述显示面板的制作方法,在步骤109之后还包括:
步骤110、在触控电极层S1上沉积第二钝化层P2,图案化第二钝化层P2、第一钝化层P1和平坦化层50,形成多个第四过孔93;
步骤111、在第二钝化层P2上沉积像素电极层70,图案化像素电极层70,形成多个像素电极71,像素电极71通过第四过孔93和薄膜晶体管T的漏极T4电连接。
本实施例中,像素电极层70位于触控电极层S1远离衬底基板30的一侧,第二钝化层P2形成于触控电极S的表面,可以防止像素电极层70图案化过程中刻蚀液腐蚀触控电极S。在沉积像素电极层70之前,由于第二钝化层P2、第一钝化层P1和平坦化层50上形成有多个第四过孔93,从而部分像素电极层70的材料可以沉积在第四过孔93内,图案化形成的像素电极71可以通过第四过孔93和漏极T4电连接。
需要说明的是,若第四过孔93需要贯穿触控电极S,则在图案化形成触控电极S时,需要同时在触控电极S上刻蚀出尺寸略大于第四过孔94的通道,防止像素电极71和触控电极S之间短接。
可选的,请结合参考图11-图18、图36-图40所示,上述显示面板的制作方法,在步骤107之后还包括:
步骤112、在触控线层80上沉积第一钝化层P1,图案化第一钝化层P1和平坦化层50,形成多个第四过孔93;
步骤113、在第一钝化层P1上沉积像素电极层70,图案化像素电极层70,形成多个像素电极71,像素电极71通过第四过孔93和薄膜晶体管T的漏极T4电连接;
步骤114、在像素电极层70上沉积第二钝化层P2,图案化第二钝化层P2和第一钝化层P1,形成多个第三过孔92;
步骤115、在第二钝化层P2上沉积触控电极层S1,图案化触控电极层S1,形成多个触控电极S,触控电极S通过第三过孔92和至少一条触控线SL电连接。
本实施例中,像素电极层70位于触控电极层S1靠近衬底基板30的一侧,在沉积像素电极层70之前,由于第一钝化层P1和平坦化层50上形成有多个第四过孔93,从而部分像素电极层70的材料可以沉积在第四过孔93内,图案化形成的像素电极71可以通过第四过孔93和漏极T4电连接。
第二钝化层P2形成于像素电极71的表面,可以防止触控电极层S1图案化过程中刻蚀液腐蚀像素电极71。在沉积触控电极层S1之前,由于第二钝化层P2和第一钝化层P1上形成有多个第三过孔92,从而部分触控电极层S1的材料可以沉积在第三过孔92内,图案化形成的触控电极S可以通过第四过孔93和至少一条触控线SL电连接。
需要说明的是,触控电极S所电连接的触控线SL数量可以仅设置一条,比如图40所示,当然也可以根据实际需要设置多条,只要在第一钝化层P1和第二钝化层P2上设置相应数量的第三过孔92即可,不会增加显示面板的工艺流程。此外,由于显示面板需要通过第一导电焊盘11和柔性线路板、印刷电路板等器件绑定,故在图案化第一钝化层P1和第二钝化层P2时,还应刻蚀掉与镂空部51对应的部分,以再次暴露出第一导电焊盘11。
此外,本发明还提供了一种显示面板的制作方法,请结合参考图1、图2、图12-图14、图41-图46所示,包括:
步骤301、提供衬底基板30;
步骤302、在衬底基板30上形成薄膜晶体管层40和多个第一导电焊盘11;其中,薄膜晶体管层40包括多个薄膜晶体管T,且多个第一导电焊盘11和薄膜晶体管T的漏极T4同层形成;
步骤303、在薄膜晶体管层40上形成平坦化层50,图案化平坦化层50,形成镂空部51,镂空部51暴露出多个第一导电焊盘11;
步骤304、在平坦化层50上沉积透明电极层M1,图案化透明电极层M1,形成保护层M,保护层M覆盖多个第一导电焊盘11;
步骤305、在透明电极层M1上沉积第一钝化层P1,图案化第一钝化层P1,暴露出保护层M;
步骤306、在第一钝化层P1上沉积触控线层80,触控线层80的材料为金属;
步骤307、利用掩膜板81对触控线层80进行图案化,形成多条沿第一方向x延伸的触控线SL;
步骤308、继续利用掩膜板81对保护层M进行图案化,暴露出多个第一导电焊盘11。
需要说明的是,由于第一连接线20的膜层结构可以有多种,故本实施例未对第一连接线20的制作过程进行说明,可以理解的是,第一连接线20可以根据所处的膜层位置与该膜层的线路结构一同图案化形成即可,本实施例对此并不作具体限制。同时,步骤301-步骤303对应的剖面结构示意图同图12-图14所示,本实施例在此不再赘述。
具体的,透明电极层M1可以是具有较好透光性的金属氧化物膜层,比如氧化铟锡、氧化铟锡锌等,本实施例对此并不作具体限制。透明电极层M1图案化形成的保护层M覆盖多个第一导电焊盘11,也即通过保护层M对第一导电焊盘11进行保护,而触控线层80为金属膜层,由于金属膜层和金属氧化物膜层可以采用不同的刻蚀液进行膜层的图案化,从而可以防止触控线层80图案化过程中刻蚀液腐蚀第一导电焊盘11。
在图案化形成触控线SL之后,为了使第一导电焊盘11可以通过绑定工艺和柔性线路板、印刷电路板等器件电连接,需要再次暴露出第一导电焊盘11,此时,由于透明电极层M1图案化后可以仅暴露保护层M,从而可以继续利用掩膜板81对保护层M进行图案化,也即触控线层80和保护层M共用同一掩膜板81刻蚀,有利于降低显示面板制作工艺的复杂度,提高显示设备的生产效率。
在一些可选的实施例中,请结合参考图41、图47-图51所示,透明电极层M1为触控电极层S1;
步骤304在图案化透明电极层M1,形成保护层M的同时,还形成多个触控电极S;
步骤305在图案化第一钝化层P1,暴露出保护层M的同时,还形成多个第三过孔92,触控线SL通过第三过孔92和触控电极S电连接;
并且,在步骤308之后还包括:
步骤309、在触控线层80上沉积第二钝化层P2,图案化第二钝化层P2、第一钝化层P1和平坦化层50,形成多个第四过孔93;
步骤310、在第二钝化层P2上沉积像素电极层70,图案化像素电极层70,形成多个像素电极71,像素电极71通过第四过孔93和薄膜晶体管T的漏极T4电连接。
需要说明的是,为了更加直观地示意本实施例的技术方案,将与其他实施例相同的膜层结构用相同的图案进行填充;同时,对于触控线层80和保护层M的图案化过程可参考图44-图46所示,本实施例在此不再赘述。
本实施例中,透明电极层M1为触控电极层S1,也即在图44-图46所示制作方法流程的基础上,保护层M可以利用显示面板本身的触控电极层S1形成,无需另外增加膜层,更有利于实现显示面板的轻薄化。
可选的,请结合参考图41、图52-图56所示,透明电极层M1为像素电极层70;
步骤303在图案化平坦化层50,形成镂空部51的同时,还形成多个第四过孔93;
步骤304在图案化透明电极层M1,形成保护层M的同时,还形成多个像素电极71,像素电极71通过第四过孔93和薄膜晶体管T的漏极T4电连接;
并且,在步骤308之后还包括:
步骤311、在触控线层80上沉积第二钝化层P2,图案化第二钝化层P2,形成多个第三过孔92;
步骤312、在第二钝化层P2上沉积触控电极层S1,图案化触控电极层S1,形成多个触控电极S,触控电极S通过第三过孔92和至少一条触控线SL电连接。
需要说明的是,为了更加直观地示意本实施例的技术方案,将与其他实施例相同的膜层结构用相同的图案进行填充;同时,对于触控线层80和保护层M的图案化过程也可参考图44-图46所示,本实施例在此不再赘述。
本实施例中,透明电极层M1为像素电极层70,也即在图44-图46所示制作方法流程的基础上,保护层M可以利用显示面板本身的像素电极层70形成,无需另外增加膜层,更有利于实现显示面板的轻薄化。
本发明还提供了一种显示装置,包括本发明提供的显示面板。
请参考图57所示,本实施例的显示装置200包括本发明上述任一实施例提供的显示面板100。图57仅以手机为例,对显示装置200进行了说明。可以理解的是,本发明实施例提供的显示装置200还可以是平板电脑、电视、车载显示等其他具有显示功能的显示装置,本发明对此并不作具体限制。本发明实施例提供的显示装置,具有本发明实施例提供的显示面板的有益效果,具体可以参考上述各实施例对于显示面板的具体说明,本实施例在此不再赘述。
通过上述实施例可知,本发明提供的显示面板及其制作方法、显示装置,至少实现了如下的有益效果:
通过在平坦化层和触控线所在的膜层之间设置金属氧化物膜层,一方面,在图案化金属氧化物膜层时,所用的刻蚀液不会腐蚀金属材质的第一导电焊盘;另一方面,在图案化触控线所在膜层时,所用的刻蚀液不会对金属氧化物层造成影响,从而有效提高了第一导电焊盘在绑定工艺中的可靠性,确保了显示设备显示的可靠性和稳定性。此外,对于金属氧化物膜层和触控线所在的膜层,两者位于非显示区的部分可以共用同一掩膜板刻蚀,有利于降低工艺的复杂度,提高显示设备的生产效率。
虽然已经通过例子对本发明的一些特定实施例进行了详细说明,但是本领域的技术人员应该理解,以上例子仅是为了进行说明,而不是为了限制本发明的范围。本领域的技术人员应该理解,可在不脱离本发明的范围和精神的情况下,对以上实施例进行修改。本发明的范围由所附权利要求来限定。
Claims (22)
1.一种显示面板,其特征在于,包括:显示区以及围绕所述显示区设置的非显示区;
所述显示区包括多个触控电极和多条沿第一方向延伸的触控线,每个所述触控电极和至少一条所述触控线电连接;
所述非显示区包括绑定区,所述绑定区包括多个第一导电焊盘,所述触控线通过第一连接线和所述第一导电焊盘电连接;
所述显示面板还包括衬底基板以及位于所述衬底基板同侧的薄膜晶体管层、平坦化层和走线层;
所述薄膜晶体管层包括多个薄膜晶体管,所述多个第一导电焊盘和所述薄膜晶体管的漏极同层设置;
所述平坦化层位于所述薄膜晶体管层远离所述衬底基板的一侧,且所述平坦化层包括镂空部,所述镂空部暴露出所述多个第一导电焊盘;其中,所述触控线、所述多个第一导电焊盘的材料为金属;
所述走线层包括多条沿所述第一方向延伸的第一走线,所述第一走线位于所述触控线靠近所述平坦化层的一侧表面;其中,所述第一走线的材料为金属氧化物。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述第一连接线和所述第一导电焊盘同层设置。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述绑定区还包括多个第二导电焊盘,所述多个第二导电焊盘和所述薄膜晶体管的栅极同层设置;
至少一个所述第二导电焊盘和所述第一导电焊盘电连接。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,
所述第一连接线和所述第二导电焊盘同层设置;
所述第一连接线的一端和所述触控线电连接,所述第一连接线的另一端和所述第二导电焊盘电连接。
5.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,
所述第一连接线包括第一连接部和第二连接部,所述第一连接部和所述漏极同层设置,所述第二连接部和所述栅极同层设置;
所述第一连接部的一端和所述触控线电连接,所述第一连接部的另一端和所述第二连接部的一端电连接,所述第二连接部的另一端和所述第二导电焊盘电连接。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述触控电极复用为公共电极。
7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,
所述显示面板还包括像素电极层,所述像素电极层包括多个像素电极,所述像素电极位于所述显示区,且和所述薄膜晶体管的漏极电连接;
所述像素电极层位于所述公共电极远离所述衬底基板的一侧,或者,所述像素电极层位于所述公共电极靠近所述衬底基板的一侧。
8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述第一导电焊盘包括至少两层第一子层以及位于相邻两层所述第一子层之间的第二子层;其中,所述第一子层和所述第二子层的金属材料不同;所述触控线包括至少一个第三子层,所述第三子层的金属材料和所述第二子层的金属材料相同。
9.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述金属氧化物为氧化铟锡、氧化铟锡锌、氧化铟锌、氧化锡、氧化铟中的任一者。
10.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供衬底基板;
在所述衬底基板上形成薄膜晶体管层和多个第一导电焊盘;其中,所述薄膜晶体管层包括多个薄膜晶体管,且所述多个第一导电焊盘和所述薄膜晶体管的漏极同层形成;
在所述薄膜晶体管层上形成平坦化层,图案化所述平坦化层,形成镂空部,所述镂空部暴露出所述多个第一导电焊盘;
在所述平坦化层上沉积走线层,所述走线层的材料为金属氧化物;
在所述走线层上沉积触控线层,所述触控线层的材料为金属;
利用掩膜板对所述触控线层进行图案化,形成多条沿第一方向延伸的触控线;
继续利用所述掩膜板对所述走线层进行图案化,形成多条沿第一方向延伸的第一走线,并暴露出所述多个第一导电焊盘。
11.根据权利要求10所述的显示面板的制作方法,其特征在于,
所述在所述衬底基板上形成薄膜晶体管层和多个第一导电焊盘,包括:
在所述衬底基板上沉积半导体层,图案化所述半导体层,形成所述薄膜晶体管的有源层;
在所述有源层上沉积第一绝缘层;
在所述第一绝缘层上沉积第一金属层,图案化所述第一金属层,形成所述薄膜晶体管的栅极;
在所述第一金属层上形成第二绝缘层,图案化所述第二绝缘层和所述第一绝缘层,形成多个第一过孔;
在所述第二绝缘层上沉积第二金属层,图案化所述第二金属层,形成所述薄膜晶体管的源极、漏极以及所述多个第一导电焊盘,且所述源极和所述漏极分别通过所述第一过孔和所述有源层电连接。
12.根据权利要求11所述的显示面板的制作方法,其特征在于,
还包括形成多个第二导电焊盘,所述多个第二导电焊盘和所述薄膜晶体管的栅极同层形成;
所述图案化所述第二绝缘层的同时,还形成至少一个第二过孔;
所述第二导电焊盘通过所述第二过孔和所述第一导电焊盘电连接。
13.根据权利要求10所述的显示面板的制作方法,其特征在于,还包括在所述触控线层上沉积第一钝化层,图案化所述第一钝化层,形成多个第三过孔;
在所述第一钝化层上沉积触控电极层,图案化所述触控电极层,形成多个触控电极,所述触控电极通过所述第三过孔和至少一条所述触控线电连接。
14.根据权利要求13所述的显示面板的制作方法,其特征在于,
还包括在所述触控电极层上沉积第二钝化层,图案化所述第二钝化层、所述第一钝化层和所述平坦化层,形成多个第四过孔;
在所述第二钝化层上沉积像素电极层,图案化所述像素电极层,形成多个像素电极,所述像素电极通过所述第四过孔和所述薄膜晶体管的漏极电连接。
15.根据权利要求10所述的显示面板的制作方法,其特征在于,
还包括在所述触控线层上沉积第一钝化层,图案化所述第一钝化层和所述平坦化层,形成多个第四过孔;
在所述第一钝化层上沉积像素电极层,图案化所述像素电极层,形成多个像素电极,所述像素电极通过所述第四过孔和所述薄膜晶体管的漏极电连接。
16.根据权利要求15所述的显示面板的制作方法,其特征在于,
还包括在所述像素电极层上沉积第二钝化层,图案化所述第二钝化层和所述第一钝化层,形成多个第三过孔;
在所述第二钝化层上沉积触控电极层,图案化所述触控电极层,形成多个触控电极,所述触控电极通过所述第三过孔和至少一条所述触控线电连接。
17.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供衬底基板;
在所述衬底基板上形成薄膜晶体管层和多个第一导电焊盘;其中,所述薄膜晶体管层包括多个薄膜晶体管,且所述多个第一导电焊盘和所述薄膜晶体管的漏极同层形成;
在所述薄膜晶体管层上形成平坦化层,图案化所述平坦化层,形成镂空部,所述镂空部暴露出所述多个第一导电焊盘;
在所述平坦化层上沉积透明电极层,图案化所述透明电极层,形成保护层,所述保护层覆盖所述多个第一导电焊盘;
在所述透明电极层上沉积第一钝化层,图案化所述第一钝化层,暴露出所述保护层;
在所述第一钝化层上沉积触控线层,所述触控线层的材料为金属;
利用掩膜板对所述触控线层进行图案化,形成多条沿第一方向延伸的触控线;
继续利用所述掩膜板对所述保护层进行图案化,暴露出所述多个第一导电焊盘。
18.根据权利要求17所述的显示面板的制作方法,其特征在于,
所述透明电极层为触控电极层;
所述图案化所述透明电极层,形成保护层的同时,还形成多个触控电极;
所述图案化所述第一钝化层,暴露出所述保护层的同时,还形成多个第三过孔,所述触控线通过所述第三过孔和所述触控电极电连接。
19.根据权利要求18所述的显示面板的制作方法,其特征在于,
还包括在所述触控线层上沉积第二钝化层,图案化所述第二钝化层、所述第一钝化层和所述平坦化层,形成多个第四过孔;
在所述第二钝化层上沉积像素电极层,图案化所述像素电极层,形成多个像素电极,所述像素电极通过所述第四过孔和所述薄膜晶体管的漏极电连接。
20.根据权利要求17所述的显示面板的制作方法,其特征在于,
所述透明电极层为像素电极层;
所述图案化所述平坦化层,形成镂空部的同时,还形成多个第四过孔;
所述图案化所述透明电极层,形成保护层的同时,还形成多个像素电极,所述像素电极通过所述第四过孔和所述薄膜晶体管的漏极电连接。
21.根据权利要求20所述的显示面板的制作方法,其特征在于,
还包括在所述触控线层上沉积第二钝化层,图案化所述第二钝化层,形成多个第三过孔;
在所述第二钝化层上沉积触控电极层,图案化所述触控电极层,形成多个触控电极,所述触控电极通过所述第三过孔和至少一条所述触控线电连接。
22.一种显示装置,其特征在于,包括根据权利要求1-9中任一项所述的显示面板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811454745.XA CN109375405B (zh) | 2018-11-30 | 2018-11-30 | 显示面板及其制作方法、显示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811454745.XA CN109375405B (zh) | 2018-11-30 | 2018-11-30 | 显示面板及其制作方法、显示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN109375405A true CN109375405A (zh) | 2019-02-22 |
CN109375405B CN109375405B (zh) | 2021-06-18 |
Family
ID=65376685
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201811454745.XA Active CN109375405B (zh) | 2018-11-30 | 2018-11-30 | 显示面板及其制作方法、显示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN109375405B (zh) |
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110060954A (zh) * | 2019-04-25 | 2019-07-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及制作方法 |
CN110176429A (zh) * | 2019-04-08 | 2019-08-27 | 北海惠科光电技术有限公司 | 一种阵列基板的制作方法及阵列基板、显示面板 |
CN110632795A (zh) * | 2019-09-25 | 2019-12-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 背光源及其背板、制作方法 |
CN110993659A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-04-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 触控面板及显示装置 |
CN111682057A (zh) * | 2020-07-07 | 2020-09-18 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及显示面板的制备方法 |
CN111696919A (zh) * | 2020-07-23 | 2020-09-22 | 厦门天马微电子有限公司 | 阵列基板及其制作方法、显示装置 |
CN111768693A (zh) * | 2020-06-24 | 2020-10-13 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板 |
CN112071206A (zh) * | 2020-09-15 | 2020-12-11 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及显示装置 |
CN112269491A (zh) * | 2020-10-28 | 2021-01-26 | 合肥维信诺科技有限公司 | 一种触控面板及其制造方法、显示装置 |
CN112558800A (zh) * | 2019-09-25 | 2021-03-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置 |
CN112599579A (zh) * | 2020-12-14 | 2021-04-02 | 合肥维信诺科技有限公司 | 显示面板制造方法 |
WO2021098514A1 (zh) * | 2019-11-21 | 2021-05-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示用驱动背板及其制备方法、显示面板及显示装置 |
CN113193012A (zh) * | 2021-04-13 | 2021-07-30 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 阵列基板及其制备方法、显示装置 |
CN113838871A (zh) * | 2021-09-26 | 2021-12-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及显示装置 |
CN113963624A (zh) * | 2021-10-19 | 2022-01-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板和显示装置 |
CN114171661A (zh) * | 2020-09-10 | 2022-03-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种发光基板、显示装置及制作方法 |
CN114203786A (zh) * | 2021-12-10 | 2022-03-18 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及其制造方法 |
CN114442832A (zh) * | 2020-11-04 | 2022-05-06 | 宸美(厦门)光电有限公司 | 触控面板及其制造方法 |
CN115421338A (zh) * | 2021-04-27 | 2022-12-02 | 厦门天马微电子有限公司 | 显示面板及其制作方法、显示装置 |
US12132160B2 (en) | 2019-11-21 | 2024-10-29 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Driving backplane for display and method of manufacturing the same, display panel, and display apparatus |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100800757B1 (ko) * | 2006-08-24 | 2008-02-01 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 이미지 센서의 금속 패드 산화 방지 방법 |
CN103874311A (zh) * | 2012-12-12 | 2014-06-18 | 胜华科技股份有限公司 | 复合线路结构 |
CN203706172U (zh) * | 2013-01-31 | 2014-07-09 | 胜华科技股份有限公司 | 触控板及触控显示设备 |
CN104571700A (zh) * | 2014-12-30 | 2015-04-29 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 触控面板 |
CN105760007A (zh) * | 2015-01-06 | 2016-07-13 | 三星显示有限公司 | 触摸屏面板及制造触摸屏面板的方法 |
CN106896609A (zh) * | 2017-04-28 | 2017-06-27 | 厦门天马微电子有限公司 | 一种阵列基板及包括其的显示装置 |
CN108241451A (zh) * | 2016-12-27 | 2018-07-03 | 乐金显示有限公司 | 显示装置 |
-
2018
- 2018-11-30 CN CN201811454745.XA patent/CN109375405B/zh active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100800757B1 (ko) * | 2006-08-24 | 2008-02-01 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 이미지 센서의 금속 패드 산화 방지 방법 |
CN103874311A (zh) * | 2012-12-12 | 2014-06-18 | 胜华科技股份有限公司 | 复合线路结构 |
CN203706172U (zh) * | 2013-01-31 | 2014-07-09 | 胜华科技股份有限公司 | 触控板及触控显示设备 |
CN104571700A (zh) * | 2014-12-30 | 2015-04-29 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 触控面板 |
CN105760007A (zh) * | 2015-01-06 | 2016-07-13 | 三星显示有限公司 | 触摸屏面板及制造触摸屏面板的方法 |
CN108241451A (zh) * | 2016-12-27 | 2018-07-03 | 乐金显示有限公司 | 显示装置 |
CN106896609A (zh) * | 2017-04-28 | 2017-06-27 | 厦门天马微电子有限公司 | 一种阵列基板及包括其的显示装置 |
Cited By (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110176429A (zh) * | 2019-04-08 | 2019-08-27 | 北海惠科光电技术有限公司 | 一种阵列基板的制作方法及阵列基板、显示面板 |
CN110176429B (zh) * | 2019-04-08 | 2021-04-13 | 北海惠科光电技术有限公司 | 一种阵列基板的制作方法及阵列基板、显示面板 |
CN110060954A (zh) * | 2019-04-25 | 2019-07-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及制作方法 |
CN112558800A (zh) * | 2019-09-25 | 2021-03-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置 |
CN110632795A (zh) * | 2019-09-25 | 2019-12-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 背光源及其背板、制作方法 |
CN112558800B (zh) * | 2019-09-25 | 2024-01-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置 |
WO2021098514A1 (zh) * | 2019-11-21 | 2021-05-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示用驱动背板及其制备方法、显示面板及显示装置 |
US12132160B2 (en) | 2019-11-21 | 2024-10-29 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Driving backplane for display and method of manufacturing the same, display panel, and display apparatus |
CN110993659A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-04-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 触控面板及显示装置 |
CN110993659B (zh) * | 2019-11-29 | 2022-11-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 触控面板及显示装置 |
CN111768693A (zh) * | 2020-06-24 | 2020-10-13 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板 |
CN111682057A (zh) * | 2020-07-07 | 2020-09-18 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及显示面板的制备方法 |
CN111682057B (zh) * | 2020-07-07 | 2021-09-24 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及显示面板的制备方法 |
WO2022007150A1 (zh) * | 2020-07-07 | 2022-01-13 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及显示面板的制备方法 |
CN111696919B (zh) * | 2020-07-23 | 2022-08-12 | 厦门天马微电子有限公司 | 阵列基板及其制作方法、显示装置 |
CN111696919A (zh) * | 2020-07-23 | 2020-09-22 | 厦门天马微电子有限公司 | 阵列基板及其制作方法、显示装置 |
CN114171661A (zh) * | 2020-09-10 | 2022-03-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种发光基板、显示装置及制作方法 |
CN112071206A (zh) * | 2020-09-15 | 2020-12-11 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及显示装置 |
CN112269491A (zh) * | 2020-10-28 | 2021-01-26 | 合肥维信诺科技有限公司 | 一种触控面板及其制造方法、显示装置 |
CN112269491B (zh) * | 2020-10-28 | 2024-04-12 | 合肥维信诺科技有限公司 | 一种触控面板及其制造方法、显示装置 |
CN114442832A (zh) * | 2020-11-04 | 2022-05-06 | 宸美(厦门)光电有限公司 | 触控面板及其制造方法 |
CN112599579A (zh) * | 2020-12-14 | 2021-04-02 | 合肥维信诺科技有限公司 | 显示面板制造方法 |
CN112599579B (zh) * | 2020-12-14 | 2023-11-24 | 合肥维信诺科技有限公司 | 显示面板制造方法 |
CN113193012A (zh) * | 2021-04-13 | 2021-07-30 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 阵列基板及其制备方法、显示装置 |
CN115421338A (zh) * | 2021-04-27 | 2022-12-02 | 厦门天马微电子有限公司 | 显示面板及其制作方法、显示装置 |
CN113838871A (zh) * | 2021-09-26 | 2021-12-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及显示装置 |
CN113838871B (zh) * | 2021-09-26 | 2024-06-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及显示装置 |
CN113963624B (zh) * | 2021-10-19 | 2024-01-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板和显示装置 |
CN113963624A (zh) * | 2021-10-19 | 2022-01-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板和显示装置 |
CN114203786B (zh) * | 2021-12-10 | 2023-07-04 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及其制造方法 |
CN114203786A (zh) * | 2021-12-10 | 2022-03-18 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及其制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN109375405B (zh) | 2021-06-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109375405A (zh) | 显示面板及其制作方法、显示装置 | |
CN106896609B (zh) | 一种阵列基板及包括其的显示装置 | |
TWI716742B (zh) | 具有觸控感測器之有機發光顯示器 | |
KR102299875B1 (ko) | 터치 패널, 이의 제조 방법 및 터치 패널 일체형 유기 발광 표시 장치 | |
TWI313431B (en) | Transparent touch panel | |
KR102035005B1 (ko) | 터치 표시장치 | |
CN106126001B (zh) | 触控面板及其制造方法 | |
CN104617106B (zh) | 一种阵列基板及显示装置 | |
CN205657057U (zh) | 一种柔性显示面板和显示设备 | |
CN107390941B (zh) | 触控基板、触控面板、显示基板、显示面板和显示装置 | |
CN104793802B (zh) | 阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置 | |
CN107203296A (zh) | 一种显示面板及其制造方法、显示装置 | |
WO2021254490A1 (zh) | 触控模组、触控显示屏及电子设备 | |
CN103970312B (zh) | 触控显示装置 | |
CN107512050A (zh) | 触控面板及其制作方法、触控显示装置 | |
CN106020551A (zh) | 柔性触摸屏及其制作方法 | |
TWM425334U (en) | Touch panel and touch display panel using the same | |
CN206301307U (zh) | 一种触控显示面板及触控显示装置 | |
CN109728038A (zh) | 显示装置及其制造方法 | |
CN106019751A (zh) | 阵列基板及其制造方法、显示装置 | |
CN109118956B (zh) | 一种透明显示面板、显示装置和透明显示面板的制作方法 | |
CN109216580A (zh) | 显示装置 | |
CN109698160A (zh) | 阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置 | |
TW201504892A (zh) | 觸控電極結構及其應用之觸控面板 | |
CN206400518U (zh) | 一种阵列基板、触控显示面板、显示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |