CN113963624B - 一种显示面板和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示面板和显示装置，以改善电源线边缘被过刻时，有机物会填充于的过刻的空隙内，导致显示面板产生黑斑的问题。所述显示面板，具有显示区，以及位于所述显示区一侧的绑定区，所述显示面板包括：衬底基板，以及位于所述衬底基板一侧的电源线，所述电源线在所述显示区与所述绑定区之间具有多个镂空部。
Description
技术领域
本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种显示面板和显示装置。
背景技术
平面显示器(F1at Pane1 Disp1ay，FPD)己成为市场上的主流产品，平面显示器的种类也越来越多，如液晶显示器(Liquid Crysta1 Disp1ay，LCD)、有机发光二极管(Organic Light Emitted Diode，OLED)显示器、等离子体显示面板(P1asma Disp1ayPane1，PDP)及场发射显示器(Field Emission Display，FED)等。
但现有技术的显示面板，会存在产生黑斑的问题。
发明内容
本发明提供一种显示面板和显示装置，以改善电源线边缘被过刻时，有机物会填充于的过刻的空隙内，导致显示面板产生黑斑的问题。
本发明实施例提供一种显示面板，具有显示区，以及位于所述显示区一侧的绑定区，所述显示面板包括：衬底基板，以及位于所述衬底基板一侧的电源线，所述电源线在所述显示区与所述绑定区之间具有多个镂空部。
在一种可能的实施方式中，所述显示面板包括位于所述电源线背离所述衬底基板一侧的平坦层，所述平坦层覆盖所述显示区，以及覆盖所述显示区与所述绑定区之间的部分区域；
所述镂空部在所述衬底基板正投影与所述平坦层在所述衬底基板的正投影不交叠。
在一种可能的实施方式中，所述平坦层包括位于所述显示区与所述绑定区之间的平坦层边缘，所述绑定区包括朝向所述显示区一侧的绑定区边缘；
所述镂空部在所述衬底基板正投影贯穿所述平坦层边缘在所述衬底基板正投影与所述绑定区边缘在所述衬底基板正投影之间的区域。
在一种可能的实施方式中，所述显示面板还包括包围所述显示区的第一挡墙，以及包围所述第一挡墙的第二挡墙；所述平坦层边缘位于所述第一挡墙远离所述第二挡墙的一侧。
在一种可能的实施方式中，所述镂空部在所述衬底基板正投影仅贯穿所述第二挡墙在所述衬底基板正投影与所述平坦层边缘在所述衬底基板正投影之间的区域。
在一种可能的实施方式中，所述镂空部在所述衬底基板正投影仅贯穿所述第一挡墙在所述衬底基板正投影与所述第二挡墙在所述衬底基板正投影之间的区域。
在一种可能的实施方式中，所述镂空部在所述衬底基板正投影仅贯穿所述第一挡墙在所述衬底基板正投影的区域；和/或，所述镂空部在所述衬底基板正投影仅贯穿所述第二挡墙在所述衬底基板正投影的区域。
在一种可能的实施方式中，所述镂空部的延伸方向垂直于所述显示区指向所述绑定区的方向；在垂直于由所述显示区指向所述绑定区的方向，所述镂空部的长度小于所述电源线的最小长度。
在一种可能的实施方式中，所述电源线包括叠层设置的第一钛金属层，位于所述第一钛金属层远离所述衬底基板一侧的铝金属层，以及位于所述铝金属层远离所述第一钛金属层一侧的第二钛金属层；
所述铝金属层包括朝向所述第二钛金属层的第一铝金属层表面，所述第一铝金属层表面边缘在所述衬底基板正投影，与所述第一钛金属层边缘在所述衬底基板正投影间距小于0.6μm。
在一种可能的实施方式中，所述电源线包括第一电源线，以及第二电源线；
所述第一电源线与第二电源线位于同一层；或者，所述第一电源线与第二电源线位于不同层。
在一种可能的实施方式中，所述第一电源线与第二电源线位于同一层，所述第二电源线位于所述第一电源线的外围。
本发明实施例还提供一种显示装置，包括如本发明实施例提供的所述显示面板。
本发明实施例有益效果如下：本发明实施例中，将显示区与绑定区之间原为面状的电源线，设置多个镂空部，以使在对显示面板的多个膜层进行图案化刻蚀的过程中，增大电源线侧面膜层(例如，Al膜层)裸露面积，降低单位面积显影作用(Loading)，降低过刻(Undercut)深度，使刻蚀液能够均匀分散，而非聚集于边缘的地方，改善电源线边缘的部分膜层若被过刻，导致有机物(例如刻蚀过程中使用的光刻胶和/或后续形成平坦层的有机物)填充于的过刻的空隙内，导致面板产生黑斑的问题。
附图说明
图1为电源线产生黑斑的示意图；
图2为电源线产生被过刻的示意图；
图3为显示面板的水氧侵蚀路径示意图；
图4A为本发明实施例提供的显示面板示意图之一；
图4B为图4A中虚线线圈CC的放大示意图；
图5A为本发明实施例提供的显示面板示意图之二；
图5B为图5A虚线线框CC处的放大示意图；
图6A为本发明实施例提供的显示面板示意图之三；
图6B为图6A虚线线框CC处的放大示意图；
图7为本发明实施例提供的显示面板示意图之四；
图8为本发明实施例提供的显示面板示意图之五；
图9A为本发明实施例提供的显示面板示意图之六；
图9B为图9A中沿虚线GH的截面示意图；
图10A为本发明实施例提供的显示面板示意图之七；
图10B为图10A中沿虚线GH的截面示意图；
图11为本发明实施例提供的显示面板示意图之八；
图12为本发明实施例提供的电源线示意图；
图13为本发明实施例提供的显示面板示意图之九。
具体实施方式
为了使得本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
为了保持本公开实施例的以下说明清楚且简明，本公开省略了已知功能和已知部件的详细说明。
参见图1、图2和图3所示，显示面板制作过程中，电源线层(例如，数据线层SD层，包括三个叠层设置的膜层，如Ti/Al/Ti)图案化工艺之后，紧接着为平坦层(HPLN)显影工艺和阳极(AND)湿刻工艺。HPLN显影药液为碱性，与Al发生碱性腐蚀，形成过刻1(Undercut1)；AND湿刻药液为酸性，与Al发生酸性腐蚀，形成过刻2(Undercut2)，后续有机物(例如，光刻胶PI和/或制作平坦层的有机物)填充进Undercut(Undercut1+Undercut2)，无法去除，后续水氧沿电源线(例如，VDD和/或VSS)边缘，从封装边缘越过第一挡墙(DAM1)以及第二挡墙(DAM2)，到达平坦层边界，最后再传入显示区(AA区)，导致该为位置有机发光材料氧化失效，出现黑斑，也即GDSX不良。
参见图4A和图4B，其中，图4B为图4A中虚线线圈CC的放大示意图，本发明实施例提供一种显示面板，具有显示区AA，以及位于显示区AA一侧的绑定区BB，显示面板包括：衬底基板1，以及位于衬底基板1一侧的电源线2，电源线2在显示区AA与绑定区BB之间(如图1中虚线框所示的CC区域)具有多个镂空部21。具体的，镂空部21可以是镂空条，镂空孔等。具体的，电源线2可以包括第一电源线201，以及第二电源线202；具体的，第一电源线201可以为高电压电源线VDD，第二电源线202可以为低电压电源线VSS，第一电源线201与第二电源线202可以位于同一层；或者，第一电源线201与第二电源线202也可以位于不同层。
本发明实施例中，将显示区AA与绑定区BB之间原为面状的电源线2，设置多个镂空部21，以使在对显示面板的多个膜层进行图案化刻蚀的过程中，增大电源线2侧面膜层(例如，Al膜层)裸露面积，降低单位面积显影作用(Loading)，降低过刻(Undercut)深度，使刻蚀液能够均匀分散，而非聚集于边缘的地方，改善电源线2边缘的部分膜层若被过刻，导致有机物(例如刻蚀过程中使用的光刻胶和/或后续形成平坦层的有机物)填充于的过刻的空隙内，导致面板产生黑斑的问题。
在一种可能的实施方式中，参见图4A所示，镂空部21沿着由显示区AA指向绑定区BB的方向EF延伸。
在一种可能的实施方式中，参见图5A所示，显示面板包括位于电源线背离衬底基板一侧的平坦层3，平坦层3覆盖显示区AA，以及覆盖显示区AA与绑定区BB之间的部分区域；镂空部21在衬底基板1正投影与平坦层3在衬底基板1的正投影不交叠，也即，镂空部21在衬底基板1正投影，在由绑定区BB指向显示区AA的延伸方向上，其终止端不超过平坦层3的边缘。本发明实施例中，镂空部21在衬底基板1正投影与平坦层3在衬底基板的正投影不交叠，可以避免镂空部21在无平坦层3保护时，受外力易损坏的问题。
在一种可能的实施方式中，参见图5A和图5B所示，其中，图5B为图5A虚线线框CC处的放大示意图，平坦层3包括位于显示区AA与绑定区BB之间的平坦层边缘31，绑定区BB包括朝向显示区AA一侧的绑定区边缘BB1；镂空部21在衬底基板1正投影贯穿平坦层边缘31在衬底基板1正投影与绑定区边缘BB1在衬底基板1正投影之间的区域。本发明实施例中，镂空部21在衬底基板1正投影贯穿平坦层边缘31在衬底基板1正投影与绑定区边缘BB1在衬底基板1正投影之间的区域，可以保证镂空部21长度，充分降低(Undercut)。
在一种可能的实施方式中，参见图6A和图6B所示，其中，图6B为图6A虚线线框CC处的放大示意图，显示面板还包括包围显示区AA的第一挡墙DAM 1，以及包围第一挡墙DAM 1的第二挡墙DAM 2；平坦层边缘31位于第一挡墙DAM 1远离第二挡墙DAM 2的一侧。
具体的，在显示区AA与绑定区BB之间，第一挡墙DAM 1与第二挡墙DAM 2之间的区域，平坦层边缘31与第一挡墙DAM1之间的区域，第二挡墙DAM 2与绑定区BB之间的区域，可以形成有平坦层挖槽，即，挖除该些区域的平坦层，而在第一挡墙DAM 1的正下方，第二挡墙DAM 2的正下方，可以保留平坦层的材料。
在一种可能的实施方式中，参见图7所示，镂空部21在衬底基板1正投影仅贯穿第二挡墙DAM 2在衬底基板1正投影与平坦层边缘31在衬底基板正投影之间的区域。本发明实施例中，镂空部21在衬底基板1正投影仅贯穿第二挡墙DAM 2在衬底基板1正投影与平坦层边缘31在衬底基板正投影之间的区域，可以在保证(Undercut)深度较小的同时，降低镂空部21长度，提高生产效率。
在一种可能的实施方式中，参见图8所示，镂空部21在衬底基板1正投影仅贯穿第一挡墙DAM 1在衬底基板1正投影与第二挡墙DAM 2在衬底基板1正投影之间的区域。本发明实施例中，镂空部21在衬底基板1正投影仅贯穿第一挡墙DAM 1在衬底基板1正投影与第二挡墙DAM 2在衬底基板1正投影之间的区域，可以减少其它膜层的形状变更，减小风险。
在一种可能的实施方式中，参见图9A和图9B所示，其中，图9B为图9A中沿虚线GH的截面示意图，镂空部21在衬底基板1正投影仅贯穿第一挡墙DAM 1在衬底基板1正投影的区域，也即，仅在第一挡墙DAM 1下方的电源线2挖镂空部21；和/或，参见图10A和图10B所示，其中，图10B为图10A中沿虚线GH的截面示意图，镂空部21在衬底基板1正投影仅贯穿第二挡墙DAM 2在衬底基板1正投影的区域，也即，仅在第二挡墙DAM 2下方的电源线2挖镂空部21。本发明实施例中，镂空部21在衬底基板1正投影仅贯穿第一挡墙DAM 1在衬底基板1正投影的区域，也即，仅在第一挡墙DAM 1下方的电源线2挖镂空部21，或者，镂空部21在衬底基板1正投影仅贯穿第二挡墙DAM 2在衬底基板1正投影的区域，也即，仅在第二挡墙DAM 2下方的电源线2挖镂空部21，可以在使刻蚀液能够均匀分散，而非聚集于边缘的地方，避免显示面板产生黑斑问题的同时，也可以使组成第一挡墙DAM1或组成第二挡墙DAM2的膜层覆盖于镂空部21所在区域，避免外界水氧通过镂空部21进入显示面板，影响显示面板显示的问题。
在一种可能的实施方式中，结合图9B和图10B所示，电源线2具体可以由双层走线层组成，例如，电源线2具体可以包括第一走线层210以及位于第一走线层210远离衬底基板1一侧的第二走线层220，由于电源线2的图案主要位于第二走线层220，在电源线挖镂空部21，具体可以是在第二走线层220挖镂空部21，当然，也可以是双层走线层均挖镂空部21。具体的，电源线2也可以仅是由单层走线层组成，在电源线挖镂空部21，具体可以是在该单层走线层挖镂空部21。在具体实施时，在电源线2包括第一走线层210以及位于第一走线层210远离衬底基板1一侧的第二走线层220时，显示面板还可以包括位于第一走线层210与第二走线层220之间部分区域的平坦绝缘层31。
在一种可能的实施方式中，结合图9B和图10B所示，显示面板在衬底基板1电源线2之间还可以依次设置有第一栅极绝缘层11、第二栅极绝缘层12、层间介质层13；电源线2远离衬底基板1的一侧还可以依次设置有平坦层3，像素定义层4，以及隔垫物层5。具体的，第一挡墙DAM1具体可以由平坦层3，像素定义层4，以及隔垫物层5依次堆叠形成，第二挡墙DAM2可以由平坦绝缘层31，平坦层3，像素定义层4，以及隔垫物层5依次堆叠形成。
在一种可能的实施方式中，参见图11所示，镂空部21的延伸方向垂直于显示区AA指向绑定区BB的方向；在垂直于由显示区AA指向绑定区BB的方向，镂空部21的长度h1小于电源线2的最小长度h2。本发明实施例中，如此，在改善显示面板避免电源线2边缘被过刻导致产生黑斑的问题的同时，还可以避免镂空部21在垂直于由显示区AA指向绑定区BB的方向过长时，会导致电源线2断裂，影响信号传输的问题。
在一种可能的实施方式中，参见图12所示，电源线21包括叠层设置的第一钛金属层22，位于第一钛金属层远离衬底基板1一侧的铝金属层23，以及位于铝金属层远离第一钛金属层22一侧的第二钛金属层24；铝金属层23包括朝向第二钛金属层24的第一铝金属层表面231，第一铝金属层表面231边缘在衬底基板1正投影，与第一钛金属层22边缘在衬底基板1正投影间距h3小于0.6μm。
在一种可能的实施方式中，参见图13所示，电源线2为高电压电源线VDD时，电源线2还可以包括位于显示区AA的多个延伸支部200，以为不同像素列供电。
在一种可能的实施方式中，第一电源线与第二电源线位于同一层，第二电源线位于第一电源线的外围。
本发明实施例还提供一种显示装置，包括如本公开实施例提供的显示面板。
本发明实施例有益效果如下：本发明实施例中，将显示区AA与绑定区BB之间原为面状的电源线2，设置多个镂空部21，以使在对显示面板的多个膜层进行图案化刻蚀的过程中，增大电源线2侧面膜层(例如，Al膜层)裸露面积，降低单位面积显影作用(Loading)，降低过刻(Undercut)深度，使刻蚀液能够均匀分散，而非聚集于边缘的地方，改善电源线2边缘的部分膜层若被过刻，导致有机物(例如刻蚀过程中使用的光刻胶和/或后续形成平坦层的有机物)填充于的过刻的空隙内，导致面板产生黑斑的问题。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (11)
1.一种显示面板，具有显示区，以及位于所述显示区一侧的绑定区，其特征在于，所述显示面板包括：衬底基板，以及位于所述衬底基板一侧的电源线，所述电源线在所述显示区与所述绑定区之间具有多个镂空部；
所述显示面板包括位于所述电源线背离所述衬底基板一侧的平坦层，所述平坦层覆盖所述显示区，以及覆盖所述显示区与所述绑定区之间的部分区域；
所述镂空部在所述衬底基板正投影与所述平坦层在所述衬底基板的正投影不交叠。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述平坦层包括位于所述显示区与所述绑定区之间的平坦层边缘，所述绑定区包括朝向所述显示区一侧的绑定区边缘；
所述镂空部在所述衬底基板正投影贯穿所述平坦层边缘在所述衬底基板正投影与所述绑定区边缘在所述衬底基板正投影之间的区域。
3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括包围所述显示区的第一挡墙，以及包围所述第一挡墙的第二挡墙；所述平坦层边缘位于所述第一挡墙远离所述第二挡墙的一侧。
4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述镂空部在所述衬底基板正投影仅贯穿所述第二挡墙在所述衬底基板正投影与所述平坦层边缘在所述衬底基板正投影之间的区域。
5.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述镂空部在所述衬底基板正投影仅贯穿所述第一挡墙在所述衬底基板正投影与所述第二挡墙在所述衬底基板正投影之间的区域。
6.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述镂空部在所述衬底基板正投影仅贯穿所述第一挡墙在所述衬底基板正投影的区域；和/或，所述镂空部在所述衬底基板正投影仅贯穿所述第二挡墙在所述衬底基板正投影的区域。
7.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述镂空部的延伸方向垂直于所述显示区指向所述绑定区的方向；在垂直于由所述显示区指向所述绑定区的方向，所述镂空部的长度小于所述电源线的最小长度。
8.如权利要求1-7任一项所述的显示面板，其特征在于，所述电源线包括叠层设置的第一钛金属层，位于所述第一钛金属层远离所述衬底基板一侧的铝金属层，以及位于所述铝金属层远离所述第一钛金属层一侧的第二钛金属层；
所述铝金属层包括朝向所述第二钛金属层的第一铝金属层表面，所述第一铝金属层表面边缘在所述衬底基板正投影，与所述第一钛金属层边缘在所述衬底基板正投影间距小于0.6μm。
9.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述电源线包括第一电源线，以及第二电源线；
所述第一电源线与第二电源线位于同一层；或者，所述第一电源线与第二电源线位于不同层。
10.如权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述第一电源线与第二电源线位于同一层，所述第二电源线位于所述第一电源线的外围。
11.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-10任一项所述的显示面板。
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| WO2020220568A1 (zh) * | 2019-04-28 | 2020-11-05 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板和显示装置 |
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2021
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