CN110993659A - 触控面板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种触控面板及显示装置，包括源漏极金属层，所述源漏极金属层上设有保护层，所述保护层上设有平坦层，所述平坦层上设有缓冲层，所述缓冲层上设有TLD层，所述保护层、所述平坦层、所述有机膜层和所述缓冲层和所述TLD层上设有过孔，所述TLD层上设有触控金属层，所述触控金属层覆盖所述过孔设置，所述触控金属层与所述源漏极金属层电连接。根据本申请实施例提供的技术方案，通过在面板上设计过孔，在过孔内设置触控金属层，将触控金属层的走线与源漏极金属层的走线电连接，使得同信号金属走线既设置在触控金属层又设置在源漏极金属层，无论哪一层产生裂纹，均能够通过PCD检测出来。

Description

触控面板及显示装置
技术领域
本发明一般涉及AMOLED领域，尤其涉及触控面板及显示装置。
背景技术
AMOLED(Active-matrix organic light-emitting diode，有源矩阵有机发光二极体)产品中，FMLOC(Flexible Metal-layer on cell Touch，柔性触控金属面板)已经是趋势设计产品，相比外挂触控面板，可以很大程度降低成本，集成度更高，产品更轻薄，更容易折叠。
在现有的FMLOC产品中，PCD(裂纹检测)设计均由TFT(薄膜晶体管)层金属进行走线，对于FMLOC产品来说，假如TFT层完好无损没有裂纹，而触控金属层的金属走线有裂纹，那么裂纹检测会判定通过，此种情况应当视为漏检，因为仅在TFT层设置金属走线无法进行触控金属层是否完好的检测，不能检出触控的失效。
发明内容
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种触控面板及显示装置。
第一方面，提供一种触控面板，包括源漏极金属层，所述源漏极金属层上设有保护层，所述保护层上设有平坦层，所述平坦层上设有有机膜层，所述有机膜层上设有缓冲层，所述缓冲层上设有TLD层，所述保护层、所述平坦层、所述有机膜层和所述缓冲层和所述TLD层上设有过孔，所述TLD层上设有触控金属层，所述触控金属层覆盖所述过孔设置，
所述触控金属层与所述源漏极金属层电连接。
第二方面，提供一种显示装置，包括上述的触控面板。
根据本申请实施例提供的技术方案，通过在面板上设计过孔，在过孔内设置触控金属层，将触控金属层的走线与源漏极金属层的绕线电连接，使得同信号金属走线既设置在触控金属层又设置在源漏极金属层，无论哪一层产生裂纹，均能够通过PCD检测出来。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为本实施例中绕线结构示意图；
图2为本实施例中面板设置过孔处的截面示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
请参考图1和图2，本实施例提供一种触控面板，包括源漏极金属层4，所述源漏极金属层4上设有保护层5，所述保护层5上设有平坦层6，所述平坦层6上设有有机膜层7，所述有机膜层7上设有缓冲层8，所述缓冲层8上设有TLD层9，所述保护层5、所述平坦层6、所述有机膜层7和所述缓冲层8和所述TLD层9上设有过孔12，所述TLD层9上设有触控金属层10，所述触控金属层10覆盖所述过孔12设置，
所述触控金属层10与所述源漏极金属层4电连接。
本实施例中在源漏极金属层上设置了多层结构，具体参见图2所示，其中包括有保护层、平坦层、缓冲层、TLD层，并在这些层上打孔，设置贯穿这些层的通孔并将触控金属层覆盖在该通孔内，通过该通孔与源漏极金属层电连接，实现同信号金属走线既设置在触控金属层又设置在源漏极金属层，无论哪一层产生裂纹，均能够通过PCD检测出来的功能；
其中，源漏极金属层上设置多层结构，在制备过程中需要对每一层进行打孔，多层的通孔叠加形成上述的过孔。
进一步的，所述过孔12设置在所述触控面板14边缘非显示区域。
如图1所示，本实施例中将过孔设置在非显示区域，不会对触控面板的显示功能产生任何的影响。
进一步的，所述触控金属层10包括对称设置在所述触控面板14上的两组触控金属绕线11，所述源漏极金属层4包括对称设置在所述触控面板14上的两组源漏极金属绕线13，所述触控金属绕线11与所述源漏极金属绕线13一一对应设置，每对所述触控金属绕线11与所述源漏极金属绕线13串联连接。
本实施例中通过设置过孔将触控金属层与源漏极金属层进行电连接，将设置在两金属层上的绕线进行串联，当进行PCD检测时，无论哪一层出现裂纹均能检测出来，如图1所示，触控金属层上包括两组触控金属绕线11，源漏极金属层上包括两组源漏极金属绕线13，分别一一对应，可排成如图1中所示的样子，面板的显示区域的两边分别设置一对触控金属绕线11和源漏极金属绕线13，并且两绕线通过过孔串联设置。
进一步的，所述触控面板14上左右对称设有四个所述过孔12。
其中触控面板中通常对称设有源漏极金属绕线，因此，过孔也需要对称设置在触控面板上，每一侧的源漏极金属绕线和触控金属绕线的连接需要通过两个过孔实现，将触控金属绕线的两端分别与源漏极金属绕线的两端电连接，实现两绕线的串联，具体如图1所示，左侧和右侧均分别设有两个过孔。
进一步的，所述过孔12孔径为2μm-10μm。本实施例中设置的过孔孔径不宜过大，能够实现两金属层的走线电连接即可，并且过孔设置在触控面板边缘非显示区域，设置的范围较小，过孔设置较小不会影响到显示区域。
进一步的，所述触控金属层10包括两层钛金属层，两侧所述钛金属层中间还设有铝金属层。本实施例中优选的设置触控金属层为钛铝钛的复合层，源漏极金属层优选为钼铝钼复合层。
进一步的，所述触控金属绕线11和所述源漏极金属绕线13设置在所述触控面板14边缘非显示区域。
触控面板上的源漏极金属绕线设置在面板边缘区域，因此将触控金属绕线11也设置在面板边缘非显示区域，具体如图1所示，两绕线通过设置在触控面板14上的过孔实现电连接，过孔也设置在触控面板的非显示区域，均不对触控面板的显示区域产生影响。其中，该触控金属绕线通过镀膜、在膜上刻光阻，通过曝光将需要刻蚀的地方进行刻蚀，去除光阻的工艺步骤完成。
本实施例中提供的触控面板在面板的左右两侧均设置触控金属层的金属绕线，其与面板左右两侧的源漏极金属层的绕线串联，当给左右两侧绕线一个信号电压时，即图1中所示的VGH电压，如果没有裂纹，则面板显示为黑画面；当任意一个地方有裂纹时，那么接入绕线的像素，由于断线不能接收到电压信号，处于floating状态，将在屏幕中间显示出几根长线。
进一步的，还包括基底层1，基底层1上设有栅极层2，所述栅极层2上设有介电层3，所述介电层3上设有通孔，所述介电层3上表面设有源漏极金属层4，所述源漏极金属层4覆盖所述介电层通孔设置，所述源漏极金属层与所述栅极层电连接。本实施例中提供一基底层，基底层上设栅极层、介电层，源漏极金属层覆盖介电层上的通孔设置。
本实施例通过在面板上设计过孔，在过孔内设置触控金属层，将触控金属层的走线与源漏极金属层的走线串联，使得同信号金属走线既设置在触控金属层又设置在源漏极金属层，无论哪一层产生裂纹，均能够通过PCD检测出来。
本实施例还提供一种显示装置，包括上述的触控面板。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。

Claims (9)

1.一种触控面板，其特征在于，包括源漏极金属层，所述源漏极金属层上设有保护层，所述保护层上设有平坦层，所述平坦层上设有有机膜层，所述有机膜层上设有缓冲层，所述缓冲层上设有TLD层，所述保护层、所述平坦层、所述有机膜层和所述缓冲层和所述TLD层上设有过孔，所述TLD层上设有触控金属层，所述触控金属层覆盖所述过孔设置，
所述触控金属层与所述源漏极金属层电连接。
2.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述过孔设置在所述触控面板边缘非显示区域。
3.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，所述触控金属层包括对称设置在所述触控面板上的两组触控金属绕线，所述源漏极金属层包括对称设置在所述触控面板上的两组源漏极金属绕线，所述触控金属绕线与所述源漏极金属绕线一一对应设置，每对所述触控金属绕线与所述源漏极金属绕线串联连接。
4.根据权利要求3所述的触控面板，其特征在于，所述触控面板上左右对称设有四个所述过孔。
5.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述过孔孔径为2μm-10μm。
6.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述触控金属层包括两层钛金属层，两侧所述钛金属层中间还设有铝金属层。
7.根据权利要求3所述的触控面板，其特征在于，所述触控金属绕线和所述源漏极金属绕线设置在所述触控面板边缘非显示区域。
8.根据权利要求1-7任一所述的触控面板，其特征在于，还包括基底层，基底层上设有栅极层，所述栅极层上设有介电层，所述介电层上设有通孔，所述介电层上表面设有源漏极金属层，所述源漏极金属层覆盖所述介电层通孔设置，所述源漏极金属层与所述栅极层电连接。
9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-8任一所述的触控面板。
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