CN102378939B - 掩膜用部件、使用该部件制造掩膜的方法及感光性树脂印刷版的制造方法 - Google Patents

掩膜用部件、使用该部件制造掩膜的方法及感光性树脂印刷版的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供掩膜用部件，所述掩膜用部件具有紫外线透过性的基材膜和在基材膜的单面上通过激光光线的照射能除去的平均厚度0.1～30μm的紫外线屏蔽性树脂层，所述紫外线屏蔽性树脂层为具有炭黑含量多的树脂层(A)和炭黑含量少的树脂层(B)的2层以上的层叠结构体且所述(A)层位于基材膜侧、所述(B)层位于印刷版侧，同时具有特定的光学特性的掩膜用部件。该掩膜用部件具有以下特征：可以在用低能量的激光精密且准确地除去紫外线屏蔽性树脂层的部分得到均匀的透光性，且不易对紫外线屏蔽性树脂层造成损伤，定位作业容易，在与版密合时不易笼入空气，整面易密合在版材上。

Description

掩膜用部件、使用该部件制造掩膜的方法及感光性树脂印刷版的制造方法
技术领域
本发明涉及掩膜用部件、使用该部件制造掩膜的方法及感光性树脂印刷版的制造方法。更详细而言，本发明涉及掩膜用部件，使用该掩膜用部件制造掩膜的方法及使用该掩膜制造感光性树脂印刷版的方法，所述掩膜用部件为优选用作柔性版或凸版印刷版之类的感光性树脂印刷版等制版中所使用的掩膜制作的部件，其中，可以在用激光除去紫外线屏蔽性树脂层的部分得到均匀的透光性、且不易对紫外线屏蔽性树脂层造成损伤、而且在大型印刷版的制作中，可以提供定位作业容易且在与版密合时不易笼入空气、整面易密合在版材上的掩膜。 
背景技术
目前，已知有一种柔性版等感光性树脂印刷版，其是在具有感光性树脂层的版材的该感光性树脂层上经由作为设有期望的图案的负片的掩膜进行曝光并清洗除去未曝光部分的感光性树脂层而形成的。 
这样的感光性树脂印刷版的制版中所使用的掩膜可以通过通常使用银盐的摄影方式及激光印刷等各种印刷方式来制作。但是，在这些方式中，不能对应大型掩膜，例如在需要用于印刷新闻等时的大型掩膜的情况下，使用2张以上的掩膜并且将它们以无错位方式进行连接。而且，在摄影方式的情况下，虽然分辨率优异，但必须在专用的暗室中进行作业，而且需要多种药品处理，因此具有作业繁杂等缺点。另一方面，在印刷方式的情况下，由于可以使用数字数据直接通过印刷机制作图案，因此作业简单。可是，在使用由XANTE公司(美国)提供的激光印刷机的印刷方式中，为了提高掩膜的遮光性，除需要药品处理外，具有分辨率差的缺点。 
另外，在制版领域中，作为使用激光的技术，公开有：通过例如在表面上具有树脂层的版材的该树脂层的期望处照射激光使该树脂层升华或分解，使用设置有印刷用的凹部的树脂印刷版(例如，参照专利文献1)、在基材上具有电离放射线感应性树脂层及电离放射线屏蔽层的树脂版材，首先，利用激光束除去与印刷图像对应的电离放射线屏蔽层后，对相当于该部分的电离放射线感应性树脂层照射电离放射线，接着，通过显像处理电离放射线感应性树脂层而形成的印刷版(例如：参照专利文献2)等。 
但是，这种技术为不经由掩膜对树脂版材直接照射激光来制版印刷版的技术，不是制造掩膜的技术。 
在这样的状况下，本发明人等提案了掩膜用部件及使用该部件制造掩膜的方法(例如，参照专利文献3)，所述掩膜用部件可以提供首先优选用作柔性版之类的感光性树脂印刷版等制版中所使用的掩膜的制作且不需要药品处理并激光进行的蚀刻分辨率良好、而且也可以应对大型版的掩膜。 
进而，作为这个的改良技术，提案有一种掩膜用部件(例如，参照专利文献4)，所述掩膜用部件具有紫外线透过性的基材膜和在基材膜的单面上可通过激光光线的照射消色且激光光线照射前紫外线透过率为0.1％以下的厚度为0.1～30μm的紫外线屏蔽性树脂层，且对该紫外线屏蔽性树脂层而言，作为黑色系颜料，包含平均粒径为20～50nm、比表面积70～150m2/g的炭黑，同时，中心线平均表面粗糙度Ra为0.1～3μm。 
但是，使用该掩膜用部件得到的掩膜虽然具有如上优选的特征，但是由于紫外线屏蔽性树脂层为单层，因此易产生涂布差异和针孔等缺陷及因树脂层表面的摩擦引起的擦伤，在用激光光线消色的部分，有时直接出现透光性的不均或针孔部分被曝光，存在无法制作精密的制版等情况，未必能够充分满足的掩膜。 
另外，为了高效地实施激光进行的精密加工，优选紫外线屏蔽性树脂层薄膜化及改善了生产工序中的涂布差异和针孔等缺陷的掩膜用 部件。 
现有技术文献 
专利文献 
专利文献1：日本特开平5-24172号公报 
专利文献2：日本特开平10-67088号公报 
专利文献3：日本特开2003-215777号公报 
专利文献4：日本特开2005-221842号公报 
发明内容
发明所要解决的问题 
本发明是在这样的状况下而完成的，其目的在于提供掩膜用部件，使用该掩膜用部件制造掩膜的方法及使用该掩膜制造感光性树脂印刷版的方法，所述掩膜用部件为紫外线屏蔽性树脂层的生产稳定性优异并维持耐擦伤性及与基材膜的密合性、优选用作感光性树脂印刷版等制版中所使用的掩膜的制作的部件，能够提供可以在用低能量的激光精密且准确地除去紫外线屏蔽性树脂层的部分得到均匀的透光性且不易对紫外线屏蔽性树脂层造成损伤，而且在大型印刷版的制作中，定位作业容易且在与版密合时不易笼入空气、整面易密合在版材上的掩膜。 
为了解决该课题的手段 
本发明人等为了实现所述目的进行了潜心研究，结果发现，为了实现所述目的而有效的是在紫外线透过性基材膜的单面上设置包含具有特定性状的炭黑作为黑色系颜料且设有表面粗糙度以算术平均粗糙度Ra计在规定范围的紫外线屏蔽性树脂层的部件，同时，还得到下述见解。 
在所述紫外线屏蔽性树脂层中，为了可靠地进行利用激光光线的除去，需要含有大量炭黑，但炭黑的含量过多时，产生该树脂层的硬度降低、易受损的问题。发现通过将紫外线屏蔽性树脂层制成包含炭黑的含量多的(A)层和炭黑的含量少的(B)层的2层以上的层叠结构体 且在基材膜侧设置所述(A)层、在印刷版侧设置所述(B)层，从而可以解决该问题。 
本发明是基于这种见解而完成的。 
即，本发明提供： 
[1]掩膜用部件，具有紫外线透过性的基材膜和在基材膜的单面上通过激光光线的照射能除去的平均厚度0.1～30μm的紫外线屏蔽性树脂层，其特征在于，所述紫外线屏蔽性树脂层是： 
(1)在400～1100nm的整个波长区域中的透光率为1.0％以下、反射率为10％以下及激光光线照射前的紫外线透过率在300～380nm的整个波长区域中为0.1％以下， 
(2)为2层以上的层叠结构体，所述层叠结构体包含平均粒径为10～50nm且比表面积为70～150m2/g的炭黑、和粘合剂树脂，且具有相对于粘合剂树脂以质量基准计包含1～2倍量比例的炭黑的(A)层和包含0.5～低于1倍量比例的炭黑的(B)层，以及 
(3)所述(A)层位于基材膜侧、所述(B)层位于印刷版侧，且该层叠结构体表面的算术平均粗糙度Ra为0.05～3.0μm。 
[2]如上述[1]所述的掩膜用部件，其中，(B)层以1～15质量％的比例含有填料。 
[3]如上述[1]或[2]所述的掩膜用部件，其中，紫外线屏蔽性树脂层作为粘合剂树脂含有氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物及/或丙烯酸系树脂、或所述树脂和相对于该树脂为65质量％以下的异氰酸酯系交联剂。 
[4]如上述[1]～[3]中任一项所述的掩膜用部件，其中，在紫外线屏蔽性树脂层的最外侧的层表面上层叠玻璃化转变温度Tg为40℃以上的树脂作为树脂成分的厚度为0.05～0.5μm的保护层而成。 
[5]如上述[4]所述的掩膜用部件，其中，Tg为40℃以上的树脂为聚酯系树脂。 
[6]如上述[1]～[5]中任一项所述的掩膜用部件，其中，紫外线透过性的基材膜的内部雾度值为2％以下。 
[7]如上述[1]～[6]中任一项所述的掩膜用部件，其中，紫外线透 过性的基材膜是通过对紫外线屏蔽性树脂层侧的表面实施喷砂处理或设置麻面层(matt coat layer)，从而实施凹凸化处理而成的。 
[8]如上述[1]～[7]中任一项所述的掩膜用部件，其中，与印刷版相接的层的表面硬度为铅笔硬度H以上。 
[9]掩膜的制造方法，其特征在于，通过激光光线的照射对上述[1]～[8]中任一项所述的掩膜用部件的紫外线屏蔽性树脂层实施蚀刻处理，形成期望的图案。 
[10]感光性树脂印刷版的制造方法，其特征在于，使用通过上述[9]所述的方法得到的掩膜进行制版。 
发明的效果 
根据本发明，通过将紫外线屏蔽性树脂层制成包含炭黑的含量多的(A)层和炭黑的含量少的(B)层的2层以上的结构体，且在基材膜侧设置所述(A)层、在印刷版侧设置所述(B)层，从而可以得到该紫外线屏蔽性树脂层的生产稳定性优异且维持耐擦伤性及与基材膜的密合性并优选用作感光性树脂印刷版等制版中所使用的掩膜的制作用的部件。而且，该掩膜用部件具有的优点在于，可以提供掩膜等，所述掩膜可以在用低能量的激光光线精密且准确地除去紫外线屏蔽性树脂层的部分得到均匀的透光性且不易对紫外线屏蔽性树脂层造成损伤，而且在大型印刷版的制作中，定位作业容易且在与版密合时难以笼入空气、整面易密合在版材上。进而可以提供使用该部件制造掩膜的方法及使用该掩膜制造感光性树脂印刷版的方法。 
附图说明
Fig.1是表示本发明的掩膜用部件的构成的一例的剖面示意图、Fig.2是表示本发明的掩膜用部件的构成的另一例的剖面示意图、Fig.3是表示本发明的掩膜用部件的构成的其它不同的例子的剖面示意图。图中符号1表示基材膜、2表示含炭黑树脂层(A)、3表示含炭黑树脂层(B)、4表示紫外线屏蔽性树脂层、5表示保护层、6表示麻面层或喷砂处理层、10、20及30表示掩膜用部件。 
具体实施方式
首先，对本发明的掩膜用部件进行说明。 
[掩膜用部件] 
本发明的掩膜用部件的特征在于，具有紫外线透过性的基材膜和在基材膜的单面上具有通过激光光线的照射能除去的厚度0.1～30μm以下显示的特定性状的紫外线屏蔽性树脂层。 
(基材膜) 
作为本发明的掩膜用部件中所使用的基材膜，为具有紫外线透过性的膜即可，没有特别限制，但优选在使感光性树脂版材固化的活性光线的光源的特性波长(例如360nmUV灯)下的透过率为20％以上且耐热性、热尺寸稳定性及机械特性良好的膜。另外，为了忠实地制版更精密的图像，该基材膜的内部雾度值(后述的实施表面凹凸化处理前的基材膜的雾度值)越小越好，优选为2％以下。作为这样的膜，可以举出例如：由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚醚醚酮系树脂、聚醚砜系树脂、聚醚酰亚胺系树脂、聚砜系树脂、聚苯硫醚系树脂、聚酯酰亚胺系树脂及这些的混合树脂等构成的膜。另外也可以对这些膜实施有易粘接处理的膜。该基材膜的厚度通常在25～500μm的范围，优选在100～300μm的范围选定。 
需要说明的是，上述基材膜的内部雾度值(实施凹凸化处理前的基材膜的雾度值)为使用雾度计按照JIS K 7136测定的值。 
在本发明中，可以对上述基材膜的紫外线屏蔽性树脂层侧的表面根据期望实施凹凸化处理。通过对基材膜实施凹凸化处理，可以将紫外线屏蔽性树脂层表面的算术平均粗糙度Ra调整成期望的值。作为该凹凸化处理的方法，可用举出设置麻面层的方法及喷砂处理法等。作为凹凸化处理面的粗糙度，以算术平均粗糙度Ra计为0.05～3.0μm，优选为0.1～1.0μm程度。 
需要说明的是，基材膜的凹凸化处理面的算术平均粗糙度为按照JIS B 601-1994使用表面粗糙度测量仪测定的值。 
上述麻面层是通过在玻璃化转变温度Tg为40℃以上的树脂上以干燥厚度为0.05～1.0μm程度的方式涂布并干燥含有1～30质量％左右的填料作为消光剂的涂层剂而形成的。 
上述树脂可以使用丙烯酸类树脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚酯类树脂等，但特别优选聚酯类树脂。 
作为用作上述消光剂使用的填料，可以使用无机系填料及有机系填料中的任意一种，作为无机系填料，可以举出例如：二氧化硅、硫酸钡、碳酸钙、滑石、陶土、二氧化钛、氧化锆、云母、玻璃微珠等各种粒子，作为有机系填料，可以举出例如：聚甲基丙烯酸甲酯粒子、聚碳酸酯粒子、聚苯乙烯粒子、聚丙烯酸苯乙烯粒子、聚氯乙烯粒子、苯并胍胺树脂粒子、苯并胍胺/三聚氰胺/甲醛缩聚物粒子等。 
这些填料可以单独使用1种，也可以组合2种以上使用。这些填料的平均粒径通常为0.001～8μm左右，优选为0.01～5μm。 
(紫外线屏蔽性树脂层) 
在本发明的掩膜用部件中，上述基材膜的单面上所设置的紫外线屏蔽性树脂层通过激光光线的照射能除去的且平均厚度在0.1～30μm的范围选定。该厚度低于0.1μm时，难以得到期望的屏蔽性，超过30μm时，印刷的分型线的精度变差，另外，激光进行的蚀刻耗时，有可能因激光的发热而掩膜热变形。优选的平均厚度在0.5～20μm的范围，特别优选0.8～10μm。 
在本发明中，该紫外线屏蔽性树脂层为具有相对于上述粘合剂树脂以质量基准计包含1～2倍量比例的上述炭黑的(A)层和包含0.5～低于1倍量比例的炭黑的(B)层的2层以上的层叠结构体，且所述(A)层位于基材膜侧、所述(B)层位于印刷版侧，且该层叠结构体表面的算术平均粗糙度Ra需要为0.05～3.0μm，优选为0.1～1.0μm。 
需要说明的是，上述算术平均粗糙度Ra为按照JIS B 601-1994使用表面粗糙度测量仪测定的值。 
通过使炭黑的含量少的(B)层位于接近层叠结构体的印刷版的一侧且使炭黑的含量多的(A)层位于层叠结构体的内部、优选位于基材膜的表面或基材膜表面上所设置的麻面层上，由此可以在使用低能量的激光精密且准确地除去的部分得到均匀的透光性，而且紫外线屏蔽性树脂层的耐擦伤性良好、不易受损伤且与基材膜的密合性良好。另外，通过使层叠结构体的最外值即(B)层的算术平均粗糙度Ra在上述的范围内，可以得到掩膜用部件，所述掩膜部件可以提供在大型印刷版的制作中，定位作业容易且在与版密合时难以笼入空气、整面易密合在版材上的掩膜。(A)层的平均厚度通常为0.08～24μm左右，优选为0.4～16μm，进一步优选为0.6～8μm。(A)层厚度低于0.08μm时，难以得到期望的屏蔽性，超过24μm时，激光进行的蚀刻耗时。(B)层的平均厚度通常为0.02～10μm左右，优选为0.1～8μm，进一步优选为0.2～5μm。(B)层厚度低于0.02μm时，难以得到耐擦伤性，超过10μm时，炭黑的少的层变厚，因此，紫外线屏蔽性树脂层的除去有可能不充分。 
具有如此构成的本发明的掩膜用部件优选用作感光性树脂印刷版等制版中所使用的掩膜的制作。 
在该紫外线屏蔽性树脂层为2层层叠结构体的情况下，制成在基材膜表面或在基材膜表面所设置的的麻面层上设置有(A)层、在(A)层上设置有(B)层的构造。另外，在为3层以上的层叠结构体的情况下，优选在上述2层构造层叠体中的(A)层与(B)层之间设置一层以上炭黑含量不同的层，但从本发明的效果的观点考虑考虑，介于(A)层和(B)层之间的层更优选采用炭黑含量从(A)层向(B)层方向逐渐减少的倾斜构造。 
在该紫外线屏蔽性树脂层中，为了使层叠结构体表面的算术平均粗糙度Ra在0.05～3.0μm的范围，优选在该层叠结构体的(A)层及/或(B)层中含有1～15质量％左右的填料作为消光剂，特别优选在位于外侧的(B)层中含有。作为该填料，可以使用无机系填料及/或有机系填料，关于其种类，可以使用与在上述基材膜表面上根据需要所设置 的麻面层中作为消光剂进行说明的种类同样的种类。 
另外，对该紫外线屏蔽性树脂层而言，需要激光光线照射前的紫外线透过率在300～380nm的整个波长区域中为0.1％以下。该透过率超过0.1％时，在经由由该掩膜用部件得到的掩膜、对感光性树脂层照射活性光线并显像处理形成与掩膜的图案对应的图案的情况下，分辨率有可能不充分。 
另外，由于利用激光光线能除去，因此需要通常使用激光的波长区域的400～1100nm的整个波长区域中的光线透过率为1.0％以下、反射率为10％以下。 
需要说明的是，紫外线屏蔽性树脂层的激光光线照射前的300～380nm的整个波长区域中的紫外线透过率及紫外线屏蔽性树脂层的400～1100nm的整个波长区域中的光线透过率和反射率为使用紫外可见分光光度计测定的值。 
为了对该紫外线屏蔽性树脂层赋予如上紫外线屏蔽性及激光波长域的吸收，使其与粘合剂树脂一起含有黑色系颜料。作为该黑色类颜料，可以使用平均粒径为10～50nm、特别优选为20～50μm且比表面积为70～150m2/g的炭黑。需要说明的是，上述平均粒径可以使用电子显微镜进行观察，比表面积可以利用按照JIS Z 8830的氮吸附法来测定。通过使用具有这样的平均粒径及比表面积的炭黑，由此紫外线屏蔽性树脂层与基材膜的密合性良好。该炭黑根据制造方法有槽法炭黑、炉黑、乙炔黑、热炭黑等，但可以任何一种。 
在本发明中，除上述炭黑以外，可以根据需要并用黑色氧化铬、钛黑、黑色氧化铁、或苯胺黑等黑色有机颜料，进而混合选自红、蓝、绿、紫、黄、青、品红中的至少2种的有机颜料而拟黑色化的混色有机颜料等。 
另一方面，作为紫外线屏蔽性树脂层中所使用的粘合剂树脂，在形成有该紫外线屏蔽性树脂层的情况下，为了以薄膜厚得到充分的遮光性，为黑色颜料的分散性良好且表面消粘的树脂即可，没有特别限制，可以使用各种树脂。作为这样的树脂，例如可以举出：氯乙烯- 醋酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸系共聚物、苯乙烯系树脂、聚烯烃系树脂、丙烯酸系树脂、醋酸乙烯酯系树脂、聚氨酯系树脂、氯乙烯系树脂、偏氯乙烯系树脂等，这些可以单独使用1种，也可以组合2种以上使用。其中，特别优选含有氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物及/或丙烯酸系树脂、或该树脂和相对于该树脂为65质量％以下的异氰酸酯系交联剂的树脂。 
上述异氰酸酯系交联剂具有与丙烯酸类树脂反应而交联化或交联剂彼此反应而提高紫外线屏蔽性树脂层的硬度的作用。 
该异氰酸酯系交联剂的含量相对于上述树脂超过65质量％时，未反应异氰酸酯增多，涂布后在涂层面上残留粘性，在卷绕后容易产生粘连及外观不良等，故不优选。该异氰酸酯系交联剂的更优选的含量为60质量％以下，进一步优选为10～55质量％。 
作为异氰酸酯系交联剂，可用举出例如：甲苯二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、苯二甲基二异氰酸酯等芳香族聚异氰酸酯；己撑二异氰酸酯等脂肪族聚异氰酸酯；异佛尔酮二异氰酸酯、氢化二苯基甲烷二异氰酸酯等脂环式聚异氰酸酯等及它们的缩二脲体、异氰脲酸酯体、进而作为与乙二醇、丙二醇、新戊二醇、三羟甲基丙烷、蓖麻油等低分子含活性氢化合物的反应物的加成体等。 
本发明中，该交联剂可以单独使用1种，也可以组合2种以上使用。 
这样组成的紫外线屏蔽性树脂层照射高输出的激光光线时，黑色颜料吸收激光光线的波长能量，被照射的部分局部发热。发热的树脂层中的黑色颜料及树脂通过热分解或升华来除去照射部，形成紫外线透过性。对掩膜用部件照射激光光线而除去的部分的紫外线透过率优选与紫外线透过性的基材膜同样为20％以上。 
在该紫外线屏蔽性树脂层中，构成2层以上的层叠结构体的各层是通过制备例如在适当的溶剂中包含上述黑色颜料和粘合剂树脂的涂布液，使用棒涂法、刀涂法、辊涂法、刮刀涂布法、模涂法、凹版涂布法等目前公知的涂布方法，在紫外线透过性基材膜的单面上进行涂 布并进行加热干燥及固化处理而形成的。 
对由如上形成的2层以上的层叠结构体构成的紫外线屏蔽性树脂层而言，表面粗糙度如上所述以算术平均粗糙度Ra计为0.05～3.0μm，优选为0.1～1.0μm。该Ra如果在上述范围，则在大型印刷版的制作时，在版上的定位容易，另外，与版密合时，容易赶出笼入的空气使生产效率提高。 
另外，紫外线屏蔽性树脂层的表面硬度优选以铅笔硬度计为H以上。该硬度以铅笔硬度计低于H时，在由本发明的掩膜用部件得到的掩膜中，该紫外线屏蔽性树脂层易受损伤，有可能使印刷精度降低。 
需要说明的是，紫外线屏蔽性树脂层表面的铅笔硬度为按照JIS K5600-5-4测定的值。 
在本发明中，为了保护该紫外线屏蔽性树脂层，优选根据期望在与该(B)层相接侧的表面上层叠将玻璃化转变温度Tg为40℃以上的树脂作为树脂成分的厚度为0.05～0.5μm，优选为0.1～0.5μm左右的保护层。此时也需要保护层表面的算术平均粗糙度Ra为0.05～3.0μm，优选为0.1～1.0μm。上述树脂可以使用丙烯酸系树脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚酯系树脂等，但特别优选使用聚系类树脂。另外在该保护层也优选含有1～30质量％的填料作为消光剂。作为该填料，可以使用无机填料及/或有机填料，关于其种类，可以使用与在上述基材膜表面上根据需要所设置的麻面层中作为消光剂进行说明的种类同样的种类。 
接着，根据附图对本发明的掩膜用部件进行说明。Fig.1、Fig.2及Fig.3分别为表示本发明的掩膜用部件的构成不同的例子的剖面示意图，Fig.1中表示具有在基材膜1的表面上依次层叠上述的(A)层2及(B)层3而成的紫外线屏蔽性树脂层4的构造的掩膜用部件10。 
Fig.2表示具有在基材膜1的表面上依次层叠上述的(A)层2及(B)层3而成的紫外线屏蔽性树脂层4且在该紫外线屏蔽性树脂层4的最上层层叠保护层5而成的构造的掩膜用部件20。 
Fig.3表示具有在基材膜1的表面上所设置的麻面层或喷砂处理 层6上依次层叠上述的(A)层2及(B)层3而成的紫外线屏蔽性树脂层4且在该紫外线屏蔽性树脂层4的最上层层叠保护层5而成的构造的掩膜用部件30。 
接着，对本发明的掩膜的制造方法进行说明。 
[掩膜的制造方法] 
本发明的掩膜的制造方法的特征在于，通过在上述的本发明的掩膜用部件的紫外线屏蔽性树脂层上利用激光的照射实施蚀刻处理，形成期望的图案。 
此时，作为激光振荡器，可以使用例如二氧化碳气体激光器(振荡波长1060nm)、钕YAG激光器(振荡波长1060nm)、钕玻璃激光器(振荡波长1060nm)等红外线激光，但其中优选使用钕YAG激光器。这些激光振荡器可以连续振荡也可以脉冲振荡。另外，输出可以根据紫外线屏蔽性树脂层的厚度及树脂的种类等适当选定，但在连续振荡的情况下，通常为0.5～10W左右。 
作为激光振荡器，优选为通过数字控制照射任意照射部分的装置。如果为这样的装置，则使印刷图案作为数字数据储存在电子计算机中，可以通过电子计算机控制制作掩膜，故优选。 
本发明的掩膜的用途没有特别限制，可以用于用作具有期望的图案的透过型膜作的各种用途。例如，优选用作感光性树脂印刷版制版时所使用的掩膜。作为可以适用的感光性树脂印刷版，可以举出：柔性版、凸版、胶版、凹版、丝网印等，但其中特别优选为柔性版的制版时所使用的负片。 
另外，阻焊剂用于在印刷线路板的制造时在电路导体的焊接部分以外的遍及部分整面上形成皮膜，在印刷线路上焊接电子零件时，起到作为用于防止锡焊附着在不需要的部分且防止电路导体直接暴露于空气中而受氧及湿气腐蚀的保护膜的作用。 
作为该阻焊剂，使用有通常稀碱显影型的包含感光性树脂的阻焊剂，而且作为该阻焊剂的使用方法，可以使用首先在印刷线路板上涂布该阻焊剂，通过预干燥工序使涂布表面消粘后，通过掩膜进行曝光， 接着，用稀碱显影溶液进行显影处理后，进行热固化的方法。 
作为该阻焊剂用的掩膜，也可以使用本发明中的掩膜。 
接着，对本发明的感光性树脂印刷版的制造方法进行说明。 
[感光性树脂印刷版的制造方法] 
本发明的感光性树脂印刷版的制造方法通过使用由上述掩膜的制造方法得到的掩膜进行制版，由此制造感光性树脂印刷版。作为该感光性树脂印刷版，可以举出上述各种印刷版，其中，可以特别优选举出柔性版。 
在柔性版的制版中，例如可以使用使未固化且可溶解在显像(清洗)液中的感光性树脂为片状的版材等。而且，对上述感光性树脂而言，紫外线等活性光线的照射部分交联或聚合，进行反应并固化，由于相对于显像液为不溶。这样的柔性版材有时为将聚异戊二烯及NBR等橡胶状弹性体作为基材的多层构造。 
柔性版通常可以通过以下所示的方法进行制版。 
首先，在上述版材的背侧用紫外线实施前曝光后，将具有期望的图案的由本发明得到的掩膜作为负片，以该紫外线屏蔽性树脂层侧对向的方式密合在版材的表侧，实施主曝光。接着，除去掩膜、进行显像(清洗)处理，除去未曝光树脂后，进行干燥处理，进而实施后曝光，由此可以得到目标柔性版。在各曝光中通常可以使用300～400nm的波长区域的紫外线。 
如上制版的柔性版通常硬度为以肖氏硬度A计为40～50左右。 
实施例
以下，根据实施例对本发明进行更详细说明，但本发明并不限定于这些实施例。 
需要说明的是，各示例中的诸特性通过以下所示的方法进行评价。 
(1)掩膜的光学特性 
使用紫外可见分光光度计(岛津制造所公司制、机种名“UV-3600”)测定激光照射前的300～380nm的波长区域中的紫外线透过率、及400～1100nm的波长区域中的透光率和反射率。 
(2)掩膜表面的算术平均粗糙度Ra 
使用(株)三丰制表面粗糙度测定仪”SV30000S4”，按照JIS B601-1994进行测定。 
(3)掩膜表面的铅笔硬度 
按照JIS K 5600-5-4，使用(东洋精机制造所公司制、机种名“铅笔划痕涂膜硬度试验机NP”)作为测定仪器来测定铅笔硬度。 
(4)基材膜的雾度值 
使用日本电色工业(株)制雾度计“NDH2000”，按照JIS K 7136来测定。 
(5)紫外线屏蔽性树脂层的密合性 
按照JIS K 5600-5-6，进行紫外线屏蔽性树脂层的玻璃纸胶带密合性试验，通过下述基准评价密合性。需要说明的是，使用的玻璃纸胶带为Nichiban(株)制、注册商标名“玻璃纸带”的商品编号LP-24。 
<判定标准> 
0：无剥离 
1：有切割交叉点的小的剥落 
2：沿切割边缘、及/或交叉点处有剥落 
3：沿切割边缘，部分或整面剥落，及/或网眼的各个部分部分或整面剥落 
4：沿切割的边缘，部分或整面剥离，及/或多处的网眼部分或整面剥落 
5：即使在4也无法分类的大的剥离 
(6)掩膜和感光性树脂印刷版的滑动性 
用下述方法求出掩膜表面的平滑性，评价与感光性树脂版材的滑动性。 
<掩膜表面的平滑性> 
按照JIS P 8119，使用平滑度试验器(东洋精机制造所制、商品名“デジベツク平滑度试验机DB-2型”)来测定平滑度并求出平滑性。 
(7)紫外线屏蔽性树脂层的激光照射的湮没能的确认及掩膜的制 作 
将字身及各种尺寸的文字、线、网点的图案作为制版精度的测试用的图案进行数字处理，使用激光照射机(EskoGraphics公司制CDI“Spark 2120”)使用A4尺寸的具有紫外线屏蔽性树脂层的膜实施图案处理，制备掩膜，目视观察及用Lasertec公司制共焦点显微镜“HD100D”观察图案处理的状况，确认目标图案所处理的激光照射能量。 
(8)印刷版的制版 
使用(Takano机械制造研究所公司制、商品名“DX-A3”)作为印刷版制造机，一并处理以下的印刷版制造的各工序来制造印刷版。 
首先，对感光性树脂版材(Dupont公司制、商品名“Cyrel AQS”、厚度1.7mm)的背侧照射55秒波长360nm的紫外线进行前曝光后，在将由上述(7)得到的掩膜以该遮光性的树脂层侧对向的方式密合在该版材的表侧，经由掩膜照射14分钟紫外线进行主曝光。 
将掩膜从该版材中剥离除去，将版材利用添加有表面活性剂3质量％的水在55℃下清洗11分钟30秒来除去未曝光部分，接着在70℃进行干燥处理20分钟，进而照射35分钟紫外线进行后曝光，制作具有规定的印刷测试图案的印刷版，使用Lintec公司制“MA-2200”实施印刷测试，目视及用7倍放大镜下观察印刷适应性，作为印刷适应性的评价，将可以辨别2pt大小的字母字符的情况设定为O，不能辨别的情况设定为×。(油墨：テイ一アンドケイ东华公司制、商品名“UV柔版AF蓝”、印刷物：Lintec社制“Gloss PW8K”) 
实施例1 
在厚度125μm的雾度值0.95％的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(东洋纺织(株)制、商品名“Cosmoshine A4100”)的单面上，以干燥后的平均厚度为2.0μm的方式涂布含炭黑树脂液(A)(树脂成分：Tg40℃以上的氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、炭黑的平均粒径：24nm、比表面积：115g/m2、炭黑/树脂成分质量比：1.61/1)，干燥而形成(A)层后，在(A)层上以干燥后的平均厚度为0.5μm的方式涂布含炭黑树 脂液(B)(树脂成分：Tg40℃以上的氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、炭黑的平均粒径：24nm、比表面积：115g/m2、炭黑/树脂成分质量比：0.85/1、二氧化硅填料：8质量％)，干燥而形成(B)层，通过形成紫外线屏蔽性树脂层来制作掩膜用部件。将该部件的性状示于表1。 
实施例2 
在厚度125μm的雾度值0.95％的PET膜(同前)的单面上，以干燥后的平均厚度为2.0μm的方式涂布含炭黑树脂液(A)(树脂成分：在Tg40℃以上的丙烯酸树脂中添加32质量％的六甲撑二异氰酸酯(HDI)系异氰酸酯交联剂，炭黑的平均粒径：24nm、比表面积：115g/m2、炭黑/树脂成分质量比：1.36/1、添加10质量％的二氧化硅填料)，干燥而形成(A)层后，在(A)层上以干燥后的平均厚度为0.5μm的方式涂布含炭黑树脂液(B)(树脂成分：在Tg40℃以上的丙烯酸树脂中添加59质量％的HDI系异氰酸酯交联剂，炭黑的平均粒径：24nm、比表面积：115g/m2、炭黑/树脂成分质量比：0.83/1、二氧化硅填料：8质量％)，干燥而形成(B)层，通过形成紫外线屏蔽性树脂层来制作掩膜用部件。将该部件的性状示于表1。 
实施例3 
在厚度125μm的雾度值0.95％的PET膜(同前)的单面上，以干燥后的平均厚度为2.0μm的方式，涂布含炭黑树脂液(A)(树脂成分：在Tg40℃以上的丙烯酸树脂中添加32质量％的HD I系异氰酸酯交联剂，炭黑的平均粒径：24nm、比表面积：115g/m2、炭黑/树脂成分质量比：1.36/1、添加10质量％的二氧化硅填料)，干燥而形成(A)层后，在(A)层上以干燥后的平均厚度为0.5μm的方式涂布含炭黑树脂液(B)(树脂成分：在Tg40℃以上的丙烯酸树脂中添加59质量％的HDI系异氰酸酯交联剂，炭黑的平均粒径：24nm、比表面积：115g/m2、炭黑/树脂成分质量比：0.83/1、二氧化硅填料：8质量％)，干燥而形成(B)层，进而在(B)层上以干燥后的平均厚度为0.2μm的方式涂布保护层(树脂成分：在Tg 40℃以上的聚酯树脂中添加4质量％的二氧化硅填料)并干燥，通过形成具有保护层的紫外线屏蔽性树脂层来制作掩膜用部件。 将该部件的性状示于表1。 
实施例4 
在实施例3中，作为在(B)层上所设置的保护层，使用在Tg40℃以上的聚酯树脂中添加25质量％的二氧化硅填料的层，除此之外，与实施例3同样地制作掩膜用部件。将该部件的性状示于表1。 
实施例5 
在厚度125μm的雾度值0.95％的PET膜(同前)的单面上，以干燥后的平均厚度为0.3μm的方式涂布麻面层用液(树脂成分：在Tg 40℃以上的聚酯树脂中添加4质量％的二氧化硅填料)，干燥而形成麻面层，在该麻面层上以干燥后的平均厚度为2.0μm的方式涂布含炭黑树脂液(A)(树脂成分：在Tg40℃以上的丙烯酸树脂中添加32质量％的HDI系异氰酸酯交联剂，炭黑的平均粒径：24nm、比表面积：115g/m2、炭黑/树脂成分质量比：1.36/1、添加10质量％的二氧化硅填料)，干燥而形成(A)层，在(A)层上以干燥后的平均厚度为0.5μm的方式涂布含炭黑树脂液(B)(树脂成分：在Tg40℃以上的丙烯酸树脂中添加59质量％的HDI系异氰酸酯交联剂，炭黑的平均粒径：24nm、比表面积：115g/m2、炭黑/树脂成分质量比：0.83/1、二氧化硅填料：8质量％)，干燥而形成(B)层，进而在(B)层上以干燥后的平均厚度为0.2μm的方式涂布保护层(树脂成分：在Tg40℃以上的聚酯树脂中添加4质量％的二氧化硅填料)并干燥，通过形成具有保护层的紫外线屏蔽性树脂层来制作掩膜用部件。将该部件的性状示于表1。 
比较例1 
在厚度125μm的雾度值0.95％的PET膜(同前)的单面上，以干燥后的平均厚度为5μm的方式涂布含炭黑树脂液(树脂成分：Tg40℃以上的氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、炭黑的平均粒径：24nm、比表面积：115g/m2、炭黑/树脂成分质量比：0.83/1)后，进行干燥处理，通过形成紫外线屏蔽性树脂层来制作掩膜用部件。将该部件的性状示于表1。 
比较例2 
在厚度125μm的雾度值0.95％的PET膜(同前)的单面上，以干燥后的平均厚度为3μm的方式涂布含炭黑树脂液(树脂成分：Tg40℃以上的丙烯酸树脂、炭黑的平均粒径：24nm、比表面积：115g/m2、炭黑/树脂成分质量比：2/1、二氧化硅填料：13质量％)后，进行干燥处理，通过形成紫外线屏蔽性树脂层来制作掩膜用部件。将该部件的性状示于表1。 
(表1) 
Figure BPA00001445483200181
由表1可知，对实施例1～5的本发明的掩膜用部件而言，密合性、与感光性树脂版材的平滑性及印刷适应性全部为良好，另外，铅笔硬度为H或2H，激光所致的湮没能为3.2J。与此相对，对比较例1的掩膜用部件而言，平滑度的数值超过20000秒，与感光性树脂版材的平滑性不良，进而印刷适应性也差，且激光所致的湮没能超过5.3J。对比较例2而言，密合性差且铅笔硬度为HB，耐擦伤性差。 
产业上的可利用性 
本发明的掩膜用部件能够提供如下掩膜：可以在用低能量的激光 精密且准确地除去紫外线屏蔽性树脂层的部分得到均匀的透光性且不易对紫外线屏蔽性树脂层造成损伤，而且在大型印刷版的制作中，定位作业容易且在与版密合时不易笼入空气、整面易密合在版材上的掩膜。 

Claims (8)

1.掩膜用部件，其具有紫外线透过性的基材膜和在基材膜的单面上通过激光光线的照射能除去的平均厚度0.1～30μm的紫外线屏蔽性树脂层，其特征在于，
所述紫外线屏蔽性树脂层是，在400～1100nm的整个波长区域中的透光率为1.0％以下、反射率为10％以下及激光光线照射前的紫外线透过率在300～380nm的整个波长区域中为0.1％以下，
所述紫外线屏蔽性树脂层是，2层以上的层叠结构体，所述层叠体包含平均粒径10～50nm且比表面积70～150m2/g的炭黑、和粘合剂树脂，且具有相对于粘合剂树脂以质量基准计包含1～2倍量比例的炭黑的A层和包含0.5～低于1倍量比例的炭黑的B层，以及
所述紫外线屏蔽性树脂层是，所述A层位于基材膜侧、所述(B)层位于印刷版侧，且该层叠结构体表面的算术平均粗糙度Ra为0.05～3.0μm；
所述紫外线屏蔽性树脂层是，在紫外线屏蔽性树脂层的最外侧的层表面上层叠玻璃化转变温度Tg为40℃以上的聚酯系树脂作为树脂成分的厚度0.05～0.5μm的保护层而成。
2.如权利要求1所述的掩膜用部件，其中，B层以1～15质量％的比例含有填料。
3.如权利要求1所述的掩膜用部件，其中，紫外线屏蔽性树脂层作为粘合剂树脂含有氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物及/或丙烯酸系树脂、或所述树脂和相对于该树脂为65质量％以下的异氰酸酯系交联剂。
4.如权利要求1所述的掩膜用部件，其中，紫外线透过性的基材膜的内部雾度值为2％以下。
5.如权利要求1所述的掩膜用部件，其中，紫外线透过性的基材膜是通过对紫外线屏蔽性树脂层侧的表面实施喷砂处理或设置麻面层，从而实施凹凸化处理而成的。
6.如权利要求1所述的掩膜用部件，其中，与印刷版相接的层的表面硬度为铅笔硬度H以上。
7.掩膜的制造方法，其特征在于，通过激光光线的照射对权利要求1～6中任一项所述的掩膜用部件的紫外线屏蔽性树脂层实施蚀刻处理，形成期望的图案。
8.感光性树脂印刷版的制造方法，其特征在于，使用通过权利要求7所述的方法得到的掩膜进行制版。
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