KR101771263B1 - 마스크 필름용 부재, 그것을 이용한 마스크 필름의 제조방법 및 감광성 수지 인쇄판의 제조방법 - Google Patents

Abstract

자외선 투과성 기재 필름과, 그 한 면에 레이저 광선의 조사에 의한 제거가능한 평균 두께 0. 1 내지 30㎛의 자외선 차폐성 수지층을 가진 마스크 필름용 부재로서, 상기 자외선 차폐성 수지층이, 카본블랙의 함유량이 많은 수지층 (A)과, 카본블랙의 함유량이 적은 수지층(B)을 가진 2층 이상의 적층 구조체이며, 또한 기재 필름 측에 상기 (A)층이, 인쇄판 측에 상기 (B)층이 위치하는 동시에, 특정한 광학특성을 갖는 마스크 필름용 부재. 이 마스크 필름용 부재는 저에너지의 레이저광에서 자외선 차폐성 수지층을 정밀하고, 또한 정확하게 제거한 부분에 불균이 없는 광 투과성이 얻어지며, 또한 자외선 차폐성 수지층에 손상이 생기기 어렵고, 위치 결정 작업이 용이하며, 판과 밀착시킬 때 공기를 내포하기 어려워 판재에 전체 면이 밀착되기 쉬운 특징을 지닌다.

Description

마스크 필름용 부재, 그것을 이용한 마스크 필름의 제조방법 및 감광성 수지 인쇄판의 제조방법{MEMBER FOR MASKING FILM, PROCESS FOR PRODUCING MASKING FILM USING THE SAME, AND PROCESS FOR PRODUCING PHOTOSENSITIVE RESIN PRINTING PLATE}

본 발명은 마스크 필름용 부재, 그것을 이용한 마스크 필름의 제조방법 및 감광성 수지 인쇄판의 제조방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 플렉소 판(Flexo plate) 또는 레터 프레스 판과 같은 감광성 수지 인쇄판 등의 제판에 사용되는 마스크 필름의 제작용으로서 적합하게 이용되는 부재로서, 레이저광으로 자외선 차폐성 수지층을 제거한 부분에, 불균일이 없는 광 투과성이 얻어지고, 또한 자외선 차폐성 수지층에 손상이 생기기 어려우며, 게다가 대형 인쇄판의 제작에 있어서, 위치 결정 작업이 용이하고, 또한 판과 밀착시킬 때 공기를 내포시키기 어려워 판재에 전체 면이 밀착되기 쉬운 마스크 필름을 부여하는 마스크 필름용 부재, 이것을 이용해서 마스크 필름을 제조하는 방법 및 해당 마스크 필름을 사용해서 감광성 수지 인쇄판을 제조하는 방법에 관한 것이다.

종래, 감광성 수지층을 가진 판재의 해당 감광성 수지층에, 소망의 패턴을 형성한 네거티브 필름으로서의 마스크 필름을 개재해서 노광하고, 미노광부의 감광성 수지층을 세정 제거해서 형성한 플렉소 판 등의 감광성 수지 인쇄판이 알려져 있다.

이러한 감광성 수지 인쇄판의 제판에 이용되는 마스크 필름은, 일반적으로 은염을 이용한 사진 방식이나, 레이저 프린터 등의 각종 인쇄방식에 의해 제작되고 있다. 그러나, 이들 방식에 있어서는, 대형 마스크 필름에는 대응할 수 없고, 예를 들면, 신문 등을 인쇄할 경우에 이용하는 대형 마스크 필름이 필요할 경우에는, 2매 이상의 마스크 필름을 사용하여, 그들을 어긋나지 않도록 서로 연결시키는 것이 행해지고 있다. 게다가, 사진방식의 경우에는, 해상도가 우수하지만, 작업을 전용의 암실에서 행하지 않으면 안되고, 또한 복수의 약품처리가 필요하여, 작업이 번잡한 등의 결점을 지니고 있다. 한편, 인쇄 방식의 경우에는, 디지털 데이터를 이용해서 직접 인쇄기에 의해, 패턴을 작성할 수 있으므로, 작업이 간단하다. 그런데, 잔테사(XANTE CORPORATION)(미국)로부터 제공되는 레이저 프린터에 의한 인쇄 방식에서는, 마스크 필름의 차광성을 높이기 위해서, 약품처리가 필요한 데다가, 해상도가 뒤떨어진다고 하는 결점이 있다.

한편, 제판 분야에 있어서, 레이저광을 이용한 기술로서, 예를 들면, 표면에 수지층을 가진 판재의 해당 수지층의 소망의 개소에 레이저광을 조사해서 상기 수지층을 승화 또는 분해시킴으로써, 인쇄용의 오목부가 형성된 수지 인쇄판(예를 들면, 특허문헌 1 참조), 기재 상에 전리방사선 감응성 수지층 및 전리방사선 차폐층을 가진 수지 판재를 이용해서, 우선 인쇄 화상에 대응하는 전리방사선 차폐층을 레이저 빔에 의해 제거한 후, 그 부분에 상당하는 전리방사선 감응성 수지층에 전리방사선을 조사하고, 이어서 전리방사선 감응성 수지층을 현상처리함으로써 형성된 인쇄판(예를 들면, 특허문헌 2 참조) 등이 개시되어 있다.

그러나, 이들 기술은, 마스크 필름을 개재시키지 않고, 수지 판재에 직접 레이저광을 조사해서 인쇄판을 제판하는 기술로서, 마스크 필름을 제조하는 기술은 아니다.

이러한 상황 하에, 본 발명자들은, 앞서 플렉소 판과 같은 감광성 수지 인쇄판 등의 제판에 사용되는 마스크 필름의 제작용으로서 바람직한, 약품처리를 필요로 하지 않고, 레이저광에 의한 에칭에 의해 해상도가 양호하며, 또한, 대형판에도 대응할 수 있는 마스크 필름을 부여하는 마스크 필름용 부재, 이것을 이용해서 마스크 필름을 제조하는 방법을 제안하였다(예를 들면, 특허문헌 3 참조).

또한, 그의 개량 기술로서, 자외선 투과성 기재 필름과, 그 한 면에 레이저 광선의 조사에 의해 소색(消色)가능하고, 또한 레이저 광선 조사 전의 자외선 투과율이 0.1% 이하인 두께 0.1 내지 30㎛의 자외선 차폐성 수지층을 지니고, 또한 상기 자외선 차폐성 수지층이, 흑색계 안료로서, 평균 입자 직경 20 내지 50㎚이고, 비표면적 70 내지 150㎡/g인 카본블랙을 포함하는 동시에, 중심선 평균 표면 조도(Ra)가 0.1 내지 3㎛인 마스크 필름용 부재를 제안하였다(예를 들면, 특허문헌 4 참조).

그러나, 이 마스크 필름용 부재를 이용해서 얻어진 마스크 필름은, 상기와 같은 바람직한 특징을 지니지만, 자외선 차폐성 수지층이 단층이기 때문에, 도공 불균일이나 핀홀 등의 결함 및 수지층 표면의 스크래치 등에 의한 손상이 발생하기 쉽고, 레이저광에 의해서 소색된 부분에, 그대로 광 투과성의 편차로서 나타날 경우나, 핀홀 부분이 노광될 경우가 있어, 정밀한 제판을 할 수 없는 경우가 있는 등, 반드시 충분히 만족할 수 있는 것은 아니었다.

또한, 레이저에 의한 정밀한 가공을 효율적으로 실시하기 위해서, 자외선 차폐성 수지층의 박막화나, 생산 공정에 있어서의 도공 불균일 및 핀홀 등의 결함을 개선한 마스크 필름용 부재가 요망되고 있었다.

[특허문헌 1] 일본국 특개평 5-24172호 공보 [특허문헌 2] 일본국 특개평 10-67088호 공보 [특허문헌 3] 일본국 특개 2003-215777호 공보 [특허문헌 4] 일본국 특개 2005-221842호 공보

본 발명은, 이러한 상황 하에 이루어진 것으로, 자외선 차폐성 수지층의 생산 안정성이 우수하고, 내찰상성(내스크래치성) 및 기재 필름과의 밀착성을 유지하여, 감광성 수지 인쇄판 등의 제판에 사용되는 마스크 필름의 제작용으로서 적합하게 이용되는 부재로서, 저에너지의 레이저광으로 자외선 차폐성 수지층을 정밀하고도 정확하게 제거한 부분에, 불균일이 없는 광 투과성이 얻어지고, 또한 자외선 차폐성 수지층에 스크래치가 생기기 어려우며, 또한 대형 인쇄판의 제작에 있어서, 위치 결정 작업이 용이하면서도 판과 밀착시킬 때 공기를 내포시키기 어려워 판재에 전체 면이 밀착되기 쉬운 마스크 필름을 부여하는 마스크 필름용 부재, 이것을 이용해서 마스크 필름을 제조하는 방법 및 해당 마스크 필름을 사용해서 감광성 수지 인쇄판을 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.

본 발명자들은, 상기 목적을 달성하기 위하여 예의 연구를 거듭한 결과, 자외선 투과성 기재 필름의 한 면에, 흑색계 안료로서, 특정 성상을 가진 카본블랙을 포함하고, 또한 표면조도가 산술평균조도(Ra)로 소정의 범위에 있는 자외선 차폐성 수지층을 설치한 부재가 상기 목적을 달성하기에 유효한 것을 발견한 동시에, 한층 더 하기의 지견을 얻었다.

상기 자외선 차폐성 수지층에 있어서, 레이저 광선에 의한 제거를 확실하게 행하기 위해서는, 카본블랙을 많이 함유시킬 필요가 있지만, 카본블랙의 함유량이 지나치게 많으면, 상기 수지층의 경도가 저하하여, 스크래치가 생기기 쉬워진다고 하는 문제가 생긴다. 이 문제는, 자외선 차폐성 수지층을, 카본블랙의 함유량이 많은 (A)층과, 카본블랙의 함유량이 적은 (B)층을 포함하는 2층 이상의 적층 구조체로 해서, 기재 필름 측에 상기 (A)층을 설치하고, 인쇄판 측에 상기 (B)층을 설치함으로써, 해결할 수 있는 것을 발견하였다.

본 발명은 이러한 지견에 의거해서 완성된 것이다.

즉, 본 발명은,

[1] 자외선 투과성 기재 필름과, 그 한 면에 레이저 광선의 조사에 의해 제거가능한 평균 두께 0.1 내지 30㎛의 자외선 차폐성 수지층을 가진 마스크 필름용 부재로서, 상기 자외선 차폐성 수지층이,

(1) 400 내지 1100㎚의 전체 파장 영역에 있어서의 광선 투과율이 1.0% 이하, 반사율이 10% 이하 그리고 레이저 광선 조사 전의 자외선 투과율이 300 내지 380㎚의 전체 파장 영역에 있어서 0.1% 이하인 것,

(2) 평균 입자직경 10 내지 50㎚이고, 비표면적 70 내지 150㎡/g인 카본블랙과, 바인더 수지를 포함하며, 또한, 바인더 수지에 대해서 질량 기준으로 카본블랙을, 1 내지 2배량의 비율로 포함하는 (A)층과, 0.5 내지 1배 미만량의 비율로 포함하는 (B)층을 가진 2층 이상의 적층 구조체인 것, 및

(3) 상기 (A)층이 기재 필름 측에 위치하고, 상기 (B)층이 인쇄판 측에 위치하며, 또한 상기 적층 구조체 표면의 산술평균조도(Ra)가 0.05 내지 3.0㎛인 것

을 특징으로 하는 마스크 필름용 부재,

[2] (B)층이 필러를 1 내지 15질량%의 비율로 함유하는 상기 [1]항에 기재된 마스크 필름용 부재,

[3] 자외선 차폐성 수지층이, 바인더 수지로서, 염화비닐-아세트산 비닐 공중합체 및/또는 아크릴계 수지, 또는 상기 수지와 해당 수지에 대해서 65질량% 이하의 아이소사이아네이트계 가교제를 함유하는 상기 [1] 또는 [2]항에 기재된 마스크 필름용 부재,

[4] 자외선 차폐성 수지층의 최외측의 층 표면에, 유리전이온도(Tg)가 40℃ 이상인 수지를 수지성분으로 하는, 두께 0.05 내지 0.5㎛의 보호층을 적층해서 이루어진, 상기 [1] 내지 [3]항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 필름용 부재,

[5] Tg 40℃ 이상인 수지가 폴리에스터계 수지인, 상기 [4]항에 기재된 마스크 필름용 부재,

[6] 자외선 투과성 기재 필름의 내부 헤이즈값이 2% 이하인 것인, 상기 [1] 내지 [5]항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 필름용 부재,

[7] 자외선 투과성 기재 필름이, 자외선 차폐성 수지층 측의 표면에, 샌드 블라스트 처리를 실시하거나 또는 매트 코트층을 설치함으로써, 요철화 처리를 실시해서 이루어진 것인, 상기 [1] 내지 [6]항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 필름용 부재,

[8] 인쇄판과 접하는 층의 표면경도가 연필경도 H 이상인, 상기 [1] 내지 [7]항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 필름용 부재,

[9] 상기 [1] 내지 [8]항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 필름용 부재의 자외선 차폐성 수지층에, 레이저 광선의 조사에 의해 에칭 처리를 실시하여, 소망의 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크 필름의 제조방법, 및

[10] 상기 [9]항에 기재된 방법에 의해 얻어진 마스크 필름을 이용해서 제판하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 인쇄판의 제조방법

을 제공하는 것이다.

본 발명에 의하면, 자외선 차폐성 수지층을, 카본블랙의 함유량이 많은 (A)층과, 카본블랙의 함유량이 적은 (B)층을 포함하는 2층 이상의 적층 구조체로 해서, 기재 필름 측에 상기 (A)층을, 인쇄판 측에 상기 (B)층을 설치함으로써, 상기 자외선 차폐성 수지층의 생산 안정성이 우수하고 내찰상성 및 기재 필름과의 밀착성을 유지하여, 감광성 수지 인쇄판 등의 제판에 사용되는 마스크 필름의 제작용으로서 적합하게 이용되는 부재를 얻을 수 있다. 그리고, 이 마스크 필름용 부재는, 저에너지의 레이저광으로 자외선 차폐성 수지층을 정밀하고도 정확하게 제거한 부분에, 불균일이 없는 광 투과성이 얻어지고, 또한 자외선 차폐성 수지층에 손상이 생기기 어려우며, 게다가 대형 인쇄판의 제작에 있어서, 위치 결정 작업이 용이하고, 또한 판과 밀착시킬 때 공기를 내포시키기 어려워 판재에 전체 면이 밀착되기 쉬운 마스크 필름을 부여하는 등의 장점을 지니고 있다. 또한, 상기 부재를 이용해서 마스크 필름을 제조하는 방법 및 해당 마스크 필름을 사용해서 감광성 수지 인쇄판을 제조하는 방법을 제공할 수 있다.

도 1은 본 발명의 마스크 필름용 부재의 구성의 일례를 나타낸 단면 모식도;
도 2는 본 발명의 마스크 필름용 부재의 구성의 다른 예를 나타낸 단면 모식도;
도 3은 본 발명의 마스크 필름용 부재의 구성의 또 다른 예를 나타낸 단면 모식도.

우선, 본 발명의 마스크용 필름용 부재에 대해서 설명한다.

[마스크 필름용 부재]

본 발명의 마스크 필름용 부재는, 자외선 투과성 기재 필름과, 그 한 면에 레이저 광선의 조사에 의한 제거가능한 두께 0.1 내지 30㎛의 이하에 나타낸 특정 성상을 지닌 자외선 차폐성 수지층을 가진 것을 특징으로 한다.

(기재 필름)

본 발명의 마스크 필름용 부재에 이용되는 기재 필름으로서는, 자외선 투과성을 지니는 것이면 되고, 특별히 제한은 없지만, 감광성 수지 판재를 경화시키는 활성 광선의 광원의 특성 파장(예를 들면, 360㎚ UV 램프)에서의 투과율이 20% 이상이고, 또한 내열성, 열치수 안정성 및 기계 특성이 양호한 필름이 바람직하다. 또, 보다 정밀한 화상을 충실하게 제판시키기 위해서는, 해당 기재 필름의 내부 헤이즈값(후술하는 표면 요철화 처리를 실시하기 전의 기재 필름의 헤이즈값)은 작을수록 바람직하며, 2% 이하인 것이 바람직하다. 이러한 필름으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스터계 수지, 폴리아마이드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아마이드이미드계 수지, 폴리에터에터케톤계 수지, 폴리에스터설폰계 수지, 폴리에스터이미드계 수지, 폴리설폰계 수지, 폴리페닐렌설파이드계 수지, 폴리에스터이미드계 수지 및 이들의 혼합 수지 등으로 이루어진 필름을 들 수 있다. 또, 이들 필름에 접착용이 처리를 실시한 필름도 이용할 수 있다. 이 기재 필름의 두께는, 통상 25 내지 500㎛, 바람직하게는, 100 내지 300㎛의 범위에서 선정된다.

또한, 상기 기재 필름의 내부 헤이즈값(요철화 처리를 실시하기 전의 기재 필름의 헤이즈값)은, 헤이즈메타를 이용해서, JIS K 7136에 준거해서 측정한 값이다.

본 발명에 있어서는, 상기 기재 필름의 자외선 차폐성 수지층 측의 표면에 필요에 따라 요철화 처리를 실시할 수 있다. 기재 필름에 요철화 처리를 행함으로써, 자외선 차폐성 수지층의 표면의 산술평균조도(Ra)를 소망의 값으로 조정할 수 있다. 이 요철화 처리 방법으로서는, 매트 코트층을 설치하는 방법이나 샌드 블라스트 처리법 등을 들 수 있다. 요철화 처리면의 거칠기(조도)로서는, 산술평균조도(Ra)로 0.05 내지 3.0㎛, 바람직하게는 0.1 내지 1.0㎛ 정도이다.

또한, 기재 필름에 있어서의 요철화 처리면의 산술평균조도는, JIS B 601-1994에 준거하여, 표면 조도 측정기를 이용해서 측정한 값이다.

상기 매트 코트층은, 유리전이온도(Tg)가 40℃ 이상인 수지에, 매트제로서 필러를 1 내지 30질량% 정도 함유시킨 코팅제를, 건조 두께가 0.05 내지 1.0㎛ 정도가 되도록 도포, 건조시킴으로써, 형성할 수 있다.

상기 수지는, 아크릴 수지, 염화비닐-아세트산 비닐 공중합체, 폴리에스터계 수지 등을 사용할 수 있지만, 폴리에스터계 수지가 특히 바람직하다.

상기 매트제로서 이용되는 필러로서는, 무기계 필러 및 유기계 필러의 어느 것이라도 이용할 수 있고, 무기계 필러로서는, 예를 들면, 실리카, 황산바륨, 탄산칼슘, 탤크, 카올린, 티타니아, 지르코니아, 마이카, 글라스 비즈 등의 각 입자를 들 수 있고, 유기계 필러로서는, 예를 들면, 폴리메타크릴산메틸 입자, 폴리카보네이트 입자, 폴리스타이렌 입자, 폴리아크릴스타이렌 입자, 폴리염화비닐 입자, 벤조 구아나민 수지 입자, 벤조 구아나민/멜라민/포름알데하이드 축합물 입자 등을 들 수 있다.

이들 필러는 1종을 단독으로 이용해도 되고, 또는 2종 이상을 조합시켜서 사용해도 된다. 이들 필러의 평균 입자 직경은, 통상 0.001 내지 8㎛ 정도, 바람직하게는 0.01 내지 5㎛이다.

(자외선 차폐성 수지층)

본 발명의 마스크 필름용 부재에 있어서, 상기 기재 필름의 한 면에 설치되는 자외선 차폐성 수지층은, 레이저 광선의 조사에 의해 제거가능하며, 평균 두께가 0.1 내지 30㎛의 범위에서 선정된다. 이 두께가 0.1㎛ 미만인 것은 소망의 차폐성이 얻어지기 어렵고, 30㎛를 넘으면 인쇄의 견절선(見切線)의 정밀도가 나빠지는 외에, 레이저광에 의한 에칭에 시간이 걸리고, 레이저광에 의한 발열로 마스크 필름이 열변형될 우려가 있다. 바람직한 평균 두께는 0.5 내지 20㎛의 범위이며, 특히 0.8 내지 10㎛의 범위가 바람직하다.

본 발명에 있어서는, 해당 자외선 차폐성 수지층은, 상기 바인더 수지에 대해서 질량 기준으로 상기 카본블랙을, 1 내지 2배량의 비율로 포함하는 (A)층과 0.5 내지 1배 미만량의 비율로 포함하는 (B)층을 가진 2층 이상의 적층 구조체이며, 또한, 상기 (A)층이 기재 필름 측에 위치하고, 상기 (B)층이 인쇄판 측에 위치하며, 또한 상기 적층 구조체 표면의 산술평균조도(Ra)는 0.05 내지 3.0㎛, 바람직하게는 0.1 내지 1.0㎛인 것을 필요로 한다.

또한, 상기 산술평균조도(Ra)는, JIS B 601-1994에 준거하여, 표면 조도 측정기를 이용해서 측정한 값이다.

카본블랙의 함유량이 적은 (B)층을 적층 구조체의 인쇄판에 가까운 쪽에 위치시키고, 또한 카본블랙의 함유량이 많은 (A)층을 적층 구조체의 내부, 바람직하게는 기재 필름의 표면 또는 기재 필름 표면에 설치된 매트 코트층 위에 위치시킴으로써, 저에너지의 레이저광에 의해, 정밀하고도 정확하게 제거한 부분에, 불균일이 없는 광 투과성이 얻어지고, 게다가 자외선 차폐성 수지층은, 내찰상성이 양호해서 손상이 생기기 어려우며, 또한 기재 필름과의 밀착성이 양호해진다. 또, 적층 구조체의 최외값, 즉, (B)층의 산술평균조도(Ra)를 상기 범위로 함으로써, 대형 인쇄판의 제작에 있어서, 위치 결정 작업이 용이하고, 또한 판재와 밀착시킬 때 공기를 내포하기 어려워, 판재에 전체 면이 밀착되기 쉬운 마스크 필름을 부여하는 마스크 필름용 부재가 얻어진다. (A)층의 평균 두께는, 통상 0.08 내지 24㎛ 정도, 바람직하게는, 0.4 내지 16㎛이며, 보다 바람직하게는, 0.6 내지 8㎛이다. (A)층의 두께가 0.08㎛ 미만인 것은, 소망의 차폐성이 얻어지기 어렵고, 24㎛를 초과하면, 레이저광에 의한 에칭에 시간이 걸린다. (B)층의 평균 두께는, 통상 0.02 내지 10㎛ 정도, 바람직하게는, 0.1 내지 8㎛이며, 보다 바람직하게는, 0.2 내지 5㎛이다. (B)층의 두께가 0.02㎛ 미만인 것은, 내찰상성이 얻어지기 어렵고, 10㎛를 넘는 것은, 카본블랙이 적은 층이 두꺼워지므로, 자외선 차폐층의 제거가 불충분해질 우려가 있다.

이러한 구성을 가진 본 발명의 마스크 필름용 부재는, 감광성 수지 인쇄판 등의 제판에 사용되는 마스크 필름의 제작용으로서 바람직하다.

상기 자외선 차폐성 수지층이 2층 적층 구조체일 경우, 기재 필름 표면 또는 기재 필름 표면에 설치된 매트 코트층 상에, (A)층이 설치되고, 그 위에 (B)층이 설치된 구조로 된다. 또, 3층 이상의 적층 구조체일 경우에는, 상기 2층 적층 구조체에 있어서의 (A)층과 (B)층 사이에, 카본블랙 함유량이 다른 층을 1층 이상 설치하는 것이 바람직하지만, 이 (A)층과 (B)층 사이에 개재시키는 층은, 카본블랙 함유량이 (A)층으로부터 (B)층 방향을 향해서 차차 감소하는 경사 구조를 취하는 것이, 본 발명의 효과의 관점에서 보다 바람직하다.

상기 자외선 차폐성 수지층에 있어서, 적층 구조체 표면의 산술평균조도(Ra)를 0.05 내지 3.0㎛의 범위로 하기 위해서는, 상기 적층 구조체의 (A)층 및/또는 (B)층에, 매트제로서, 필러를 1 내지 15질량% 정도 함유시키는 것이 바람직하며, 외측에 위치하는 (B)층에 함유시키는 것이 특히 바람직하다. 이 필러로서는, 무기계 필러 및/또는 유기계 필러를 이용할 수 있고, 그 종류에 대해서는, 상기 기재 필름 표면에 필요에 따라서 설치되는 매트 코트층에 있어서, 매트제로서 설명한 것과 같은 것을 이용할 수 있다.

또한, 이 자외선 차폐성 수지층은, 레이저 광선 조사 전의 자외선의 투과율이 300 내지 380㎚의 전체 파장 영역에 있어서 0.1% 이하인 것을 필요로 한다. 이 투과율이 0.1%를 넘으면, 상기 마스크 필름용 부재로부터 얻어진 마스크 필름을 개재해서, 감광성 수지층에 활성 광선을 조사하고, 현상 처리해서 마스크 필름의 패턴에 대응하는 패턴을 형성시킬 경우, 해상도가 불충분해질 우려가 있다.

또, 레이저 광선에 의해 제거 가능하게 하기 위해서, 일반적으로 사용하는 레이저광의 파장 영역인 400 내지 1100㎚의 전체 파장 영역에 있어서의 광선 투과율이 1.0% 이하이고, 반사율이 10% 이하인 것을 필요로 한다.

또한, 자외선 차폐 수지층의 레이저 광선 조사 전의 300 내지 380㎚의 전체 파장 영역에 있어서의 자외선의 투과율 및 자외선 차폐 수지층의 400 내지 1100㎚의 전체 파장 영역에 있어서의 광선 투과율과 반사율은, 자외가시 분광 광도계를 사용해서 측정한 값이다.

상기 자외선 차폐성 수지층에는, 상기한 바와 같은 자외선 차폐성 및 레이저광 파장 영역의 흡수를 부여하기 위하여, 바인더 수지와 함께, 흑색계 안료를 함유시킨다. 이 흑색계 안료로서는, 평균 입자 직경이 10 내지 50㎚, 특히 바람직하게는 20 내지 50㎛이고, 비표면적이 70 내지 150㎡/g인 카본블랙이 이용된다. 또, 상기 평균 입자 직경은 전자현미경에 의한 관찰에서, 비표면적은 JIS Z 8830에 준거한 질소흡착법에 의해 측정할 수 있다. 이러한 평균 입자 직경 및 비표면적을 지닌 카본블랙을 사용함으로써, 자외선 차폐성 수지층은 기재 필름과의 밀착성이 양호한 것으로 된다. 이 카본블랙은, 제조방법에 따라 채널 블랙(channel black), 퍼니스 블랙(furnace black), 아세틸렌 블랙, 서멀 블랙(thermal black) 등이 있지만, 어느 것이라도 이용할 수 있다.

본 발명에 있어서는, 상기 카본블랙 이외에, 필요에 따라서, 흑색 산화크롬, 티타늄 블랙, 흑색 산화철, 또는 아닐린 블랙 등의 흑색 유기 안료, 또한 적색, 청색, 녹색, 자색, 황색, 사이안, 마젠타 중에서 선택되는 적어도 2종의 유기 안료를 혼합해서 유사 흑색화한 혼색 유기 안료 등을 병용할 수 있다.

한편, 상기 자외선 차폐성 수지층에 이용되는 바인더 수지로서는, 해당 자외선 차폐성 수지층을 형성했을 경우에, 얇은 막 두께로 충분한 차광성이 얻어지도록, 흑색계 안료의 분산성이 양호하고, 또한 표면에 점착성이 없게 되는 것이면 되며, 특별히 제한되지 않고, 다양한 종류의 수지를 이용할 수 있다. 이러한 수지로서는, 예를 들면, 염화비닐-아세트산 비닐 공중합체, 에틸렌-아크릴계 공중합체, 스타이렌계 수지, 폴리올레핀계 수지, 아크릴계 수지, 아세트산 비닐계 수지, 폴리우레탄계 수지, 염화비닐계 수지, 염화비닐리덴계 수지 등을 들 수 있고, 이들은 1종을 단독으로 이용해도 되고, 또는 2종 이상을 조합시켜서 사용해도 된다. 이들 중에서, 염화비닐-아세트산 비닐 공중합체 및/또는 아크릴계 수지, 또는 이 수지와, 그것에 대해서 65질량% 이하의 아이소사이아네이트계 가교제를 함유한 것이 특히 바람직하다.

상기 아이소사이아네이트계 가교제는, 아크릴계 수지와 반응해서 가교화하거나, 가교제끼리 반응하거나 해서, 자외선 차폐성 수지층의 경도를 향상시키는 작용을 지니고 있다.

이 아이소사이아네이트계 가교제의 함유량이, 상기 수지에 대해서 65질량%를 넘으면, 미반응 아이소사이아네이트가 많아져서, 코팅 직후에, 코트면에 점착성이 남아, 권취 후에 블로킹이나 외관불량 등이 발생하기 쉬워, 바람직하지 못하다. 상기 아이소사이아네이트계 가교제의 보다 바람직한 함유량은, 60질량% 이하, 보다 바람직하게는 10 내지 55질량%이다.

아이소사이아네이트계 가교제로서는, 예를 들면, 톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 다이페닐메탄 다이아이소사이아네이트, 자일릴렌 다이아이소사이아네이트 등의 방향족 폴리아이소사이아네이트, 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트 등의 지방족 폴리아이소사이아네이트, 아이소포론 다이아이소사이아네이트, 수소첨가 다이페닐메탄 다이아이소사이아네이트 등의 지환식 폴리아이소사이아네이트 등, 및 그들의 뷰렛체, 아이소사이아누레이트체, 나아가서는 에틸렌 글라이콜, 프로필렌 글라이콜, 네오펜틸 글라이콜, 트라이메틸올프로판, 피마자유 등의 저분자 활성 수소 함유 화합물과의 반응물인 부가체 등을 들 수 있다.

본 발명에 있어서는, 이 가교제는 1종을 단독으로 사용해도 되며, 또는 2 종 이상을 조합시켜서 사용해도 된다.

이러한 조성의 자외선 차폐성 수지층은, 고출력의 레이저 광선이 조사되면, 흑색계 안료가 레이저 광선의 파장 에너지를 흡수하여, 조사된 부분은 국부적으로 발열한다. 발열한 수지층 중의 흑색계 안료 및 수지는, 열분해 또는 승화함으로써, 조사부가 제거되어서, 자외선 투과성으로 된다. 마스크 필름용 부재에 레이저 광선을 조사해서 제거된 부위는, 그 자외선 투과율이 자외선 투과성 기재 필름과 마찬가지로 20% 이상으로 되는 것이 바람직하다.

상기 자외선 차폐성 수지층에 있어서는, 2층 이상의 적층 구조체를 구성하는 각 층은, 예를 들면, 적절한 용매 중에 상기 흑색계 안료와 바인더 수지를 포함하는 도공액을 조제하고, 바 코트법, 나이프 코트법, 롤 코트법, 블레이드 코트법, 다이 코트법, 그라비어 코트법 등, 종래 공지의 도포 방법을 이용해서, 자외선 투과성 기재 필름의 한 면에 도공하고, 가열 건조나 경화 처리를 함으로써, 형성할 수 있다.

이와 같이 해서 형성된 2층 이상의 적층 구조체로 이루어진 자외선 차폐성 수지층은, 표면조도가 앞에서 설명한 바와 같이 산술평균조도(Ra)로 0.05 내지 3.0㎛, 바람직하게는 0.1 내지 1.0㎛인 것을 필요로 한다. 상기 Ra가 상기 범위에 있으면, 대형 인쇄판의 제작 시, 판 상에서의 위치 결정이 용이하고, 또한 판과 밀착시킬 때, 내포한 공기를 방출시키기 쉬워져 생산 효율이 향상된다.

또, 자외선 차폐성 수지층의 표면경도는, 연필경도로 H 이상인 것이 바람직하다. 이 경도가 연필경도로 H 미만에서는, 본 발명의 마스크 필름용 부재로부터 얻어진 마스크 필름에 있어서, 상기 자외선 차폐성 수지층이 손상을 받기 쉬워져, 인쇄 정밀도를 저하시킬 우려가 있다.

또한, 자외선 차폐성 수지층 표면의 연필경도는 JIS K 5600-5-4에 준거해서 측정한 값이다.

본 발명에 있어서는, 상기 자외선 차폐성 수지층을 보호하기 위해서, 필요에 따라, 그 (B)층과 접하는 쪽의 표면에, 유리전이온도(Tg)가 40℃ 이상인 수지를 수지성분으로 하는, 두께 0.05 내지 0.5㎛, 바람직하게는 0.1 내지 0.5㎛ 정도의 보호층을 적층하는 것이 바람직하다. 이 경우에도 보호층 표면의 산술평균조도(Ra)는 0.05 내지 3.0㎛, 바람직하게는 0.1 내지 1.0㎛인 것을 필요로 한다. 상기 수지는, 아크릴 수지, 염화비닐-아세트산 비닐 공중합체, 폴리에스터계 수지 등을 사용할 수 있지만, 폴리에스터계 수지가 특히 바람직하다. 또한, 이 보호층에도, 매트제로서 필러를 1 내지 30질량% 정도 함유시키는 것이 바람직하다. 이 필러로서는, 무기계 필러 및/또는 유기계 필러를 이용할 수 있고, 그 종류에 대해서는, 상기 기재 필름 표면에 필요에 따라서 설치되는 매트 코트층에 있어서, 매트제로서 설명한 것과 같은 것을 이용할 수 있다.

다음에, 본 발명의 마스크 필름용 부재에 대해서, 첨부 도면에 따라서 설명한다. 도 1, 도 2 및 도 3은 각각 본 발명의 마스크 필름용 부재의 구성의 다른 예를 나타낸 단면 모식도로서, 도 1에서는, 기재 필름(1)의 표면에, 앞에서 설명한 (A)층(2) 및 (B)층(3)이 순차 적층되어 이루어진 자외선 차폐성 수지층(4)을 가진 구조의 마스크 필름용 부재(10)가 도시되어 있다.

도 2에서는, 기재 필름(1)의 표면에, (A)층(2) 및 (B)층(3)이 순차 적층되어서 이루어진 자외선 차폐성 수지층(4)을 가지고, 또한 상기 자외선 차폐성 수지층(4)의 최상층에, 보호층(5)이 적층되어서 이루어진 구조의 마스크 필름용 부재(20)가 도시되어 있다.

도 3에서는, 기재 필름(1)의 표면에 설치된 매트 코트층 또는 샌드 블라스트 처리층(6) 상에, (A)층(2) 및 (B)층(3)이 순차 적층되어서 이루어진 자외선 차폐성 수지층(4)을 가지고, 또한 상기 자외선 차폐성 수지층(4)의 최상층에, 보호층(5)이 적층되어서 이루어진 구조의 마스크 필름용 부재(30)가 도시되어 있다.

다음에, 본 발명의 마스크 필름의 제조방법에 대해서 설명한다.

[마스크 필름의 제조방법]

본 발명의 마스크 필름의 제조방법은, 앞에서 설명한 본 발명의 마스크 필름용 부재의 자외선 차폐성 수지층에, 레이저광의 조사에 의해, 에칭 처리를 실시하고, 소망의 패턴을 형성하는 것을 특징으로 한다.

이때, 레이저 발진기로서는, 예를 들면, 탄산가스 레이저(발진 파장 1060㎚), 네오듐 YAG 레이저(발진 파장 1060㎚), 네오듐 가스 레이저(발진 파장 1060㎚) 등의 적외선 레이저를 이용할 수 있지만, 이들 중에서 네오듐 YAG 레이저가 바람직하다. 이들 레이저 발진기는 연속 발진이어도 펄스 발진이어도 된다. 또, 출력은, 자외선 차폐성 수지층의 두께나 수지의 종류 등에 따라서 적절하게 선정되지만, 연속발진의 경우에, 통상 0.5 내지 10W 정도이다.

레이저 발진기로서는, 디지털 제어에 의해 임의의 조사 위치에 조사할 수 있는 장치인 것이 바람직하다. 그러한 장치이면, 인쇄 패턴을 디지털 데이터로서 컴퓨터에 기억시켜, 컴퓨터에 의한 제어에 의해서 마스크 필름이 제작 가능하게 되어, 바람직하다.

본 발명에 있어서의 마스크 필름의 용도에 대해서는, 특별히 제한은 없고, 소망의 패턴을 가진 투과형 필름이 마스크로서 사용되는 각종 용도에 이용할 수 있다. 예를 들면, 감광성 수지 인쇄판의 제판 시 사용되는 마스크 필름으로서 적합하게 이용된다. 적용할 수 있는 감광성 수지 인쇄판으로서는, 플렉소 판, 철판, 오프셋판, 그라비아판, 스크린판 등을 들 수 있지만, 이들 중에서 플렉소 판의 제판 시 사용되는 네거티브형 필름으로서, 특히 바람직하다.

또, 땜납 레지스트는, 인쇄 배선 회로용 기판의 제조 시, 회로 도체의 납땜 부분 이외의 부분 전체 면에 걸쳐서 피막을 형성하기 위하여 이용되는 것으로, 인쇄 배선 회로용 기판에 전자부품을 납땜할 때, 땜납이 불필요한 부분에 부착되는 것을 방지하고, 또한 회로 도체가 공기에 직접 노출되어서 산소나 습기에 의해 부식되는 것을 방지하기 위한 보호막으로서의 역할을 하고 있다.

이 땜납 레지스트로서는, 통상 묽은 알칼리 현상형의 감광성 수지를 포함하는 것이 이용되고 있고, 그리고 상기 땜납 레지스트의 사용 방법으로서는, 우선 인쇄 회로 기판에 상기 땜납 레지스트를 도포하고, 임시 건조 공정에 의해 도포 표면을 점착성이 없도록 한 후에, 마스크 필름을 통과시켜서 노광을 행하고, 이어서 묽은 알칼리 용액에서 현상 처리 후, 열경화시키는 방법이 이용된다.

이 땜납 레지스트용의 마스크 필름으로서도, 본 발명에 있어서의 마스크 필름을 이용할 수 있다.

다음에, 본 발명의 감광성 수지 인쇄판의 제조방법에 대해서 설명한다.

[감광성 수지 인쇄판의 제조방법]

본 발명의 감광성 수지 인쇄판의 제조방법은, 앞에서 설명한 마스크 필름의 제조방법에 의해 얻어진 마스크 필름을 이용해서 제판함으로써, 감광성 수지 인쇄판을 제조한다. 상기 감광성 수지 인쇄판으로서는, 상기 각종 인쇄판을 들 수 있지만, 이들 중에서, 특히 플렉소 판을 바람직하게 들 수 있다.

플렉소 판의 제판에는, 예를 들면, 미경화에 의해 현상(세정)액에 가용인 감광성 수지를 시트 형상으로 한 판재 등이 이용된다. 그리고, 상기 감광성 수지는, 자외선 등의 활성 광선의 조사 부분이 가교하거나, 중합하거나 해서, 반응, 경화함으로써, 현상액에 대해서 불용성으로 된다. 이러한 플렉소 판재는, 폴리아이소프렌이나 NBR 등의 고무 형상 탄성체를 기재로 한 복층 구조일 경우도 있다.

플렉소 판은 일반적으로 이하에 나타낸 방법에 의해 제판할 수 있다.

우선, 상기 판재의 뒤쪽에, 자외선으로 전(前) 노광을 실시한 후, 소망의 패턴을 가진 본 발명에 의해 얻어진 마스크 필름을 네거티브형 필름으로 해서, 그 자외선 차폐성 수지층 측이 대면하도록 판재의 앞쪽에 밀착시켜, 주 노광을 실시한다. 이어서, 마스크 필름을 제거하고, 현상(세정)처리하여, 미노광 수지를 제거한 후, 건조 처리하고, 또한 후 노광을 실시함으로써, 목적으로 하는 플렉소 판이 얻어진다. 각 노광에는, 통상 300 내지 400㎚의 파장 영역의 자외선이 이용된다.

이와 같이 해서 제판된 플렉소 판은, 통상, 경도가 쇼어 A로 40 내지 50 정도이다.

실시예

다음에, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세히 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해서 하등 한정되는 것은 아니다.

또한, 각 예에 있어서의 여러 특성은 이하에 나타낸 방법에 의해 평가하였다.

(1) 마스크 필름의 광학특성

레이저광 조사 전의 300 내지 380㎚의 파장 영역에 있어서의 자외선 투과율, 및 400 내지 1100㎚의 파장 영역에 있어서의 광선 투과율과 반사율을, 자외가시 분광 광도계[시마즈세이사쿠쇼(島津製作所)사 제품, 기종명 「UV-3600」]를 이용해서 측정하였다.

(2) 마스크 필름 표면의 산술평균조도(Ra)

(주) 미쯔토요제 표면 거칠기 측정기 「SV30000S4」를 이용하여, JIS B 601-1994에 준거해서 측정하였다.

(3) 마스크 필름 표면의 연필경도

JIS K 5600-5-4에 준거하여, 측정용 기기로서 [토요세이키세이사큐쇼(東洋精機製作所)사 제품, 기종명 「연필 긁기 도막 경도 시험기 NP」]를 이용해서, 연필경도를 측정하였다.

(4) 기재 필름의 헤이즈값

니혼덴쇼쿠코교(주) 제품인 헤이즈메터 「NDH2000」를 사용하여, JIS K 7136에 준거해서 측정하였다.

(5) 자외선 차폐성 수지층의 밀착성

JIS K 5600-5-6에 준거하여, 자외선 차폐성 수지층의 셀로판 점착테이프 밀착성 시험을 행하여, 밀착성을 하기의 기준으로 평가하였다. 또한, 사용 셀로판 점착테이프는 니치반(주) 제품인 등록 상표명「셀로테이프」의 품번 LP-24이다.

< 판정 기준>

0: 벗겨짐 없음

1: 커트 교차점의 작은 벗겨짐 있음

2: 커트의 테두리를 따라서 및/또는 교차점에 있어서 벗겨짐 있음

3: 커트의 테두리를 따라서 부분적으로 또는 전면적으로 벗겨짐이 있으며, 및/또는 칸의 여러 부분이 부분적으로 또는 전면적으로 벗겨져 있음

4: 커트의 테두리를 따라서 부분적으로 또는 전면적으로 벗겨짐이 있으며, 및/또는 몇 군데의 칸이 부분적으로 또는 전면적으로 벗겨져 있음

5: 4로도 분류할 수 없는 큰 벗겨짐

(6) 마스크 필름과 감광성 수지 인쇄 판재와의 슬라이딩성

마스크 필름 표면의 평활성을, 하기의 방법으로 구하여, 감광성 수지 판재와의 슬라이딩성을 평가하였다.

<마스크 필름 표면의 평활성>

JIS P 8119에 준거해서 평활도 시험기[토요세이키세이사큐쇼사 제품, 상품명 「데지벡(デジベック) 평활도 시험기 DB-2형」]에 의해 평활도를 측정하고, 평활성을 구하였다.

(7) 자외선 차폐성 수지층의 레이저광 조사에 의한 소멸 에너지 확인 및 마스크 필름의 제작

베타 및 각종 크기의 문자, 선, 망점(網點)의 패턴을, 제판 정밀도의 테스트용의 패턴으로 해서 디지털 처리해서 레이저 조사기[에스코 그래픽스사 제품 CDI 「Spark2120」]에서 A4 크기의 자외선 차폐성 수지층을 가진 필름에 패턴 처리를 실시하여, 마스크 필름을 제작하고, 육안 관찰 및 레이저테크사 제품인 콘 포컬 현미경 「HD100D」에서 패턴 처리의 상태를 관찰하여, 소망의 패턴에 처리되는 레이저광 조사 에너지를 확인하였다.

(8) 인쇄판의 제판

인쇄판 제조기로서 [타카노키카이세이사큐소사 제품, 상품명 「DX-A3」]을 이용해서, 이하의 인쇄판 제조의 각 공정을 일괄해서 처리하여, 인쇄판을 제조하였다.

우선, 감광성 수지 판재[듀퐁사 제품, 상품명 「사이랄 AQS」, 두께 1.7㎜]의 뒤쪽에 파장 360㎚의 자외선을 55초간 조사해서 전 노광을 행한 후, 해당 판재의 앞쪽에, 상기 (7)에서 얻어진 마스크 필름을, 그 차광성의 수지층 측이 대면하도록 밀착시켜, 마스크 필름을 개재해서 자외선을 14분간 조사해서 주 노광을 행하였다.

마스크 필름을 상기 판재로부터 박리 제거하고, 판재를 계면활성제 3질량%를 첨가한 물에 의해 55℃에서 11분 30초간 세정해서 미노광 부분을 제거하고, 계속해서 70℃에서 20분간 건조 처리하고, 또한 자외선을 35분간 조사해서 후 노광을 행함으로써, 소정의 인쇄의 테스트 패턴을 가진 인쇄판을 제작하고, 린텍사 제품인 「MA-2200」에서 인쇄 테스트를 실시하여, 인쇄적성을 육안 및 7배 확대경으로 관찰하여, 인쇄적성의 평가로서, 2pt 크기의 알파벳 문자를 판별할 수 있는 경우를 ○, 판별할 수 없는 경우를 ×라 하였다. [잉크: 티앤드케이토오카사 제품, 상품명 「UV 플렉소 AF 남색」, 인쇄물: 린텍사 제품 「그로스 PW8K」].

실시예 1

두께 125㎛의 헤이즈값 0.95%의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름[토요보세키(東洋紡績)(주) 제품, 상품명 「코스모샤인 A4100」]의 한 면에, 카본블랙 함유 수지액(A)[수지성분: Tg 40℃ 이상인 염화비닐-아세트산 비닐 공중합체, 카본블랙의 평균 입자 직경: 24㎚, 비표면적: 115g/㎡, 카본블랙/수지분 질량비: 1.61/1]을 건조 후의 평균 두께가 2.0㎛로 되도록 도포, 건조해서 (A)층을 형성한 후, (A)층 상에 카본블랙 함유 수지액(B)[수지성분: Tg 40℃ 이상인 염화비닐-아세트산 비닐 공중합체, 카본블랙의 평균 입자 직경: 24㎚, 비표면적: 115g/㎡, 카본블랙/수지분 질량비: 0.85/1, 실리카 필러: 8질량%]을 건조 후의 평균 두께가 0.5㎛로 되도록 도포, 건조시켜서 (B)층을 형성하여, 자외선 차폐성 수지층을 형성함으로써, 마스크 필름용 부재를 제작하였다. 이 부재의 성상을 표 1에 나타낸다.

실시예 2

두께 125㎛의 헤이즈값 0.95%의 PET 필름(앞에서 기재된 바와 같음)의 한 면에, 카본블랙 함유 수지액(A)[수지성분: Tg 40℃ 이상인 아크릴 수지에 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트(HDI)계 아이소사이아네이트 가교제를 32질량% 첨가, 카본블랙의 평균 입자 직경: 24㎚, 비표면적: 115g/㎡, 카본블랙/수지분 질량비: 1.36/1, 실리카 필러를 10질량% 첨가]을 건조 후의 평균 두께가 2.0㎛로 되도록 도포, 건조해서 (A)층을 형성한 후, (A)층 위에 카본블랙 함유 수지액(B)[수지성분: Tg 40℃ 이상인 아크릴 수지에 HDI계 아이소사이아네이트 가교제를 59질량% 첨가, 카본블랙의 평균 입자 직경: 24㎚, 비표면적: 115g/㎡, 카본블랙/수지분 질량비: 0.83/1, 실리카 필러: 8질량%]을 건조 후의 평균 두께가 0.5㎛로 되도록 도포, 건조해서 (B)층을 형성하여, 자외선 차폐성 수지층을 형성함으로써, 마스크 필름용 부재를 제작하였다. 이 부재의 성상을 표 1에 나타낸다.

실시예 3

두께 125㎛의 헤이즈값 0.95%의 PET 필름(이미 앞에서 기재됨)의 한 면에, 카본블랙 함유 수지액(A)[수지성분: Tg 40℃ 이상인 아크릴 수지에 HDI계 아이소사이아네이트 가교제를 32질량% 첨가, 카본블랙의 평균 입자 직경: 24㎚, 비표면적: 115g/㎡, 카본블랙/수지분 질량비: 1.36/1, 실리카 필러를 10질량% 첨가]을 건조 후의 평균 두께가 2.0㎛로 되도록 도포, 건조해서 (A)층을 형성한 후, (A)층 위에 카본블랙 함유 수지액(B)[수지성분: Tg 40℃ 이상인 아크릴 수지에 HDI계 아이소사이아네이트 가교제를 59질량% 첨가, 카본블랙의 평균 입자 직경: 24㎚, 비표면적: 115g/㎡, 카본블랙/수지분 질량비: 0.83/1, 실리카 필러: 8질량%]을 건조 후의 평균 두께가 0.5㎛로 되도록 도포, 건조해서 (B)층을 형성하고, 또한 (B)층 위에 보호층[수지성분: Tg 40℃ 이상인 폴리에스터 수지에 실리카 필러를 4질량% 첨가]을 건조 후의 평균 두께가 0.2㎛로 되도록 도포, 건조하여, 보호층을 가진 자외선 차폐성 수지층을 형성함으로써, 마스크 필름용 부재를 제작하였다. 이 부재의 성상을 표 1에 나타낸다.

실시예 4

실시예 3에 있어서, (B)층 상에 설치되는 보호층으로서, Tg 40℃ 이상인 폴리에스터 수지에, 실리카 필러를 25질량% 첨가한 것을 이용한 이외에는, 실시예 3과 마찬가지로 해서 마스크 필름용 부재를 제작하였다. 이 부재의 성상을 표 1에 나타낸다.

실시예 5

두께 125㎛의 헤이즈값 0.95%의 PET 필름(앞에서 기재된 바와 같음)의 한 면에, 매트 코트층 용액[수지성분: Tg 40℃ 이상인 폴리에스터 수지에 실리카 필러를 4질량% 첨가]을 건조 후의 평균 두께가 0.3㎛로 되도록 도포, 건조하여, 매트 코트층을 형성하고, 이 매트 코트층 상에, 카본블랙 함유 수지액(A)[수지성분: Tg 40℃ 이상인 아크릴 수지에 HDI계 아이소사이아네이트 가교제를 32질량% 첨가, 카본블랙의 평균 입자 직경: 24㎚, 비표면적: 115g/㎡, 카본블랙/수지분 질량비: 1.36/1, 실리카 필러를 10질량% 첨가]을 건조 후의 평균 두께가 2.0㎛로 되도록 도포, 건조해서 (A)층을 형성한 후, (A)층 위에 카본블랙 함유 수지액(B)[수지성분: Tg 40℃ 이상인 아크릴 수지에 HDI계 아이소사이아네이트 가교제를 59질량% 첨가, 카본블랙의 평균 입자 직경: 24㎚, 비표면적: 115g/㎡, 카본블랙/수지분 질량비: 0.83/1, 실리카 필러: 8질량%]을 건조 후의 평균 두께가 0.5㎛로 되도록 도포, 건조해서 (B)층을 형성하고, 또한 (B)층 위에 보호층[수지성분: Tg 40℃ 이상인 폴리에스터 수지에 실리카 필러를 4질량% 첨가]을 건조 후의 평균 두께가 0.2㎛로 되도록 도포, 건조하여, 보호층을 가진 자외선 차폐성 수지층을 형성함으로써, 마스크 필름용 부재를 제작하였다. 이 부재의 성상을 표 1에 나타낸다.

비교예 1

두께 125㎛의 헤이즈값 0.95%의 PET 필름(앞에서 기재된 바와 같음)의 한 면에, 카본블랙 함유 수지액[수지성분: Tg 40℃ 이상인 염화비닐-아세트산 비닐 공중합체, 카본블랙의 평균 입자 직경: 24㎚, 비표면적: 115g/㎡, 카본블랙/수지분 질량비: 0.83/1]을 건조 후의 평균 두께가 5㎛로 되도록 도포한 후, 건조 처리하여, 자외선 차폐성 수지층을 형성함으로써, 마스크 필름용 부재를 제작하였다. 이 부재의 성상을 표 1에 나타낸다.

비교예 2

두께 125㎛의 헤이즈값 0.95%의 PET 필름(앞에서 기재된 바와 같음)의 한 면에, 카본블랙 함유 수지액[수지성분: Tg 40℃ 이상인 아크릴 수지, 카본블랙의 평균 입자 직경: 24㎚, 비표면적: 115g/㎡, 카본블랙/수지분 질량비: 2/1, 실리카 필러: 13질량%]을, 건조 후의 평균 두께가 3㎛로 되도록 도포한 후, 건조 처리하여, 자외선 차폐성 수지층을 형성함으로써, 마스크 필름용 부재를 제작하였다. 이 부재의 성상을 표 1에 나타낸다.

표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1 내지 5의 본 발명의 마스크 필름용 부재는, 어느 것이나 밀착성, 감광성 수지 판재와의 슬라이딩성 및 인쇄적성이 모두 양호하며, 또 연필경도는 H 또는 2H, 레이저광에 의한 소멸 에너지는 3.2J이다. 이에 대해서 비교예 1의 마스크 필름용 부재는, 평활도의 수치가 20000초를 넘고 있고, 감광성 수지 판재와의 슬라이딩성이 양호하지 않으며, 또한 인쇄적성도 나쁘고, 나아가서는 레이저광에 의한 소멸 에너지는 5.3J을 넘고 있다. 비교예 2는 밀착성이 나쁘고 또한 연필경도가 HB이며, 내찰상성이 뒤떨어지는 것이다.

본 발명의 마스크 필름용 부재는, 저에너지의 레이저광에 의해 자외선 차폐성 수지층을 정밀하고도 정확하게 제거한 부분에, 불균일이 없는 광 투과성이 얻어지고, 또한 자외선 차폐성 수지층에 손상이 생기기 어려우며, 게다가 대형 인쇄판의 제작에 있어서, 위치 결정 작업이 용이하고, 또한 판과 밀착시킬 때 공기를 내포하기 어려워 판재에 전체 면이 밀착되기 쉬운 마스크 필름을 부여할 수 있다.

1: 기재 필름 2: 카본블랙 함유 수지층(A)
3: 카본블랙 함유 수지층(B) 4: 자외선 차폐성 수지층
5: 보호층
6: 매트 코트층 또는 샌드 블라스트 처리층
10, 20 및 30: 마스크 필름용 부재

Claims (10)

1. 자외선 투과성 기재 필름과, 해당 기재 필름의 한 면에 레이저 광선의 조사에 의해 제거가능한 평균 두께 0.1 내지 30㎛의 자외선 차폐성 수지층을 가진 마스크 필름용 부재로서,
   상기 자외선 차폐성 수지층이,
   (1) 400 내지 1100㎚의 전체 파장 영역에 있어서의 광선 투과율이 1.0% 이하, 반사율이 10% 이하 및 레이저 광선 조사 전의 자외선 투과율이 300 내지 380㎚의 전체 파장 영역에 있어서 0.1% 이하인 것;
   (2) 평균 입자직경 10 내지 50㎚이고, 비표면적 70 내지 150㎡/g인 카본블랙과, 바인더 수지를 포함하며, 또한 바인더 수지에 대해서 질량 기준으로 카본블랙을, 1 내지 2배량의 비율로 포함하는 (A)층과, 0.5 내지 1배 미만량의 비율로 포함하는 (B)층을 가진 2층 이상의 적층 구조체임과 동시에, 상기 바인더수지가 염화비닐-아세트산 비닐 공중합체 또는 아크릴계 수지와, 해당 수지에 대하여 10 내지 65 질량%의 아이소사이아네이트계 가교제를 함유하는 것; 및
   (3) 상기 (A)층이 기재 필름 측에 위치하고, 상기 (B)층이 인쇄판 측에 위치하며, 또한 상기 적층 구조체 표면의 산술평균조도(Ra)가 0.05 내지 3.0㎛이고,
   또한, 상기 자외선 차폐성 수지층의 최외측의 층표면에, 폴리에스터계 수지를 수지성분으로 하는, 두께 0.05 내지 0.5㎛의 보호층을 적층해서 이루어지는 것
   을 특징으로 하는 마스크 필름용 부재.
2. 제1항에 있어서,
   (B)층이 필러를 1 내지 15질량%의 비율로 함유하는 것인 마스크 필름용 부재.
3. 제1항에 있어서,
   자외선 투과성 기재 필름의 내부 헤이즈값이 2% 이하인 것인 마스크 필름용 부재.
4. 제1항에 있어서,
   자외선 투과성 기재 필름이, 자외선 차폐성 수지층 측의 표면에, 샌드 블라스트 처리를 실시하거나 또는 매트 코트층을 설치함으로써, 요철화 처리를 실시해서 이루어진 것인 마스크 필름용 부재.
5. 제1항에 있어서,
   인쇄판과 접하는 층의 표면경도가 JIS K 5600-5-4에 준거해서 측정한 연필경도 H 이상인 것인 마스크 필름용 부재.
6. 제1항에 기재된 마스크 필름용 부재의 자외선 차폐성 수지층에, 레이저 광선의 조사에 의해 에칭 처리를 실시하여, 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 필름의 제조방법.
7. 제6항에 기재된 방법으로 얻어진 마스크 필름을 이용해서 제판하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 인쇄판의 제조방법.
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