CN102307909A - 感光性树脂组合物 - Google Patents
感光性树脂组合物 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102307909A CN102307909A CN2010800070127A CN201080007012A CN102307909A CN 102307909 A CN102307909 A CN 102307909A CN 2010800070127 A CN2010800070127 A CN 2010800070127A CN 201080007012 A CN201080007012 A CN 201080007012A CN 102307909 A CN102307909 A CN 102307909A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- carbonatoms
- general formula
- group
- photosensitive polymer
- polymer combination
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title abstract 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 81
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 30
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 27
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- -1 nitro, carboxyl Chemical group 0.000 claims description 76
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 56
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 48
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 35
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 26
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 25
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 18
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 17
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 15
- OMOZGSRMZAYUCI-UHFFFAOYSA-N amino cyanate Chemical compound NOC#N OMOZGSRMZAYUCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 13
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 10
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 9
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 9
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 9
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 9
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 6
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims description 4
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 claims description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000013530 defoamer Substances 0.000 claims description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 claims description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 2
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 claims description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 11
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 abstract description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 abstract 1
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 37
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical compound [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 28
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 23
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 18
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- AIDLAEPHWROGFI-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound CC1=C(C(O)=O)C=CC=C1C(O)=O AIDLAEPHWROGFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 10
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 9
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 7
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N phenylglyoxylic acid Chemical compound OC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 4
- 244000061458 Solanum melongena Species 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-N cyanic acid Chemical compound OC#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 4
- 235000019439 ethyl acetate Nutrition 0.000 description 4
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(CC)C(CC)=CC=C3SC2=C1 GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 2-butenoic acid Chemical compound CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HWRNIHHBUARTCM-UHFFFAOYSA-N 2-oxo-2-phenylacetic acid silver Chemical compound [Ag].C1(=CC=CC=C1)C(C(=O)O)=O HWRNIHHBUARTCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M Superoxide Chemical class [O-][O] OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- SBYHFKPVCBCYGV-UHFFFAOYSA-N quinuclidine Chemical compound C1CC2CCN1CC2 SBYHFKPVCBCYGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RJFYXVFTHRILQA-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-2-methylnaphthalene Chemical group C1=CC=C2C(CCCC)=C(C)C=CC2=C1 RJFYXVFTHRILQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIMMUPPBPVKWKM-UHFFFAOYSA-N 2-methylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C)=CC=C21 QIMMUPPBPVKWKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQFSURDUHGBXFL-UHFFFAOYSA-N 3-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C(C)C=C3SC2=C1 BQFSURDUHGBXFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCVRSXXPGXRVEZ-UHFFFAOYSA-N 9-(chloromethyl)anthracene Chemical compound C1=CC=C2C(CCl)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 PCVRSXXPGXRVEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001409 amidines Chemical class 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Natural products C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- URSLCTBXQMKCFE-UHFFFAOYSA-N dihydrogenborate Chemical compound OB(O)[O-] URSLCTBXQMKCFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 2
- NPFIXJIFUHTLRP-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexyl-2-methylpropanamide Chemical compound CC(C)C(=O)NC1CCCCC1 NPFIXJIFUHTLRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 2
- 229960004063 propylene glycol Drugs 0.000 description 2
- 150000005837 radical ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- HGTUJZTUQFXBIH-UHFFFAOYSA-N (2,3-dimethyl-3-phenylbutan-2-yl)benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C(C)(C)C1=CC=CC=C1 HGTUJZTUQFXBIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSGXIBWMJZWTPY-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)CC(F)(F)F NSGXIBWMJZWTPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-N 1,2-di(propan-2-yl)benzene;hydrogen peroxide Chemical compound OO.CC(C)C1=CC=CC=C1C(C)C SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSZYESUNPWGWFQ-UHFFFAOYSA-N 1-(2-hydroperoxypropan-2-yl)-4-methylcyclohexane Chemical compound CC1CCC(C(C)(C)OO)CC1 XSZYESUNPWGWFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPZGUFSGQRHXSH-UHFFFAOYSA-N 1-[ethoxy(hydroxy)phosphoryl]oxypropan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(COP(OCC)(O)=O)OC(C=C)=O KPZGUFSGQRHXSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRRHUIUXVVVOQH-UHFFFAOYSA-N 1-azabicyclo[2.2.2]oct-2-ene Chemical compound C1CC2CCN1C=C2 JRRHUIUXVVVOQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGXZYMIHYTUOMW-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-9h-thioxanthene Chemical compound S1C2=CC=CC=C2CC2=C1C=CC=C2C IGXZYMIHYTUOMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZKVUSSYPPWURQ-UHFFFAOYSA-N 1-methylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C QZKVUSSYPPWURQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUHJZSZTSCSTCC-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(CBr)=CC=C21 RUHJZSZTSCSTCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBUPVGIGAMCMBT-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1-(4-nitrophenyl)ethanone Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(C(=O)CBr)C=C1 MBUPVGIGAMCMBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXPSQDAMFATNNG-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2,5-dioxopyrrol-3-yl)phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical class O=C1NC(=O)C(C=2C(=CC=CC=2)C=2C(NC(=O)C=2)=O)=C1 VXPSQDAMFATNNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical compound OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKJADYKTJJGKDX-UHFFFAOYSA-N Butyl pentanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCCC OKJADYKTJJGKDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFAKSTSJEBRCMI-UHFFFAOYSA-N C(CC)OC(C(C(OOCCC(C)C)(OCCCCC)OC(C)CC)(C)C)(OCCCC)OC(C)C Chemical compound C(CC)OC(C(C(OOCCC(C)C)(OCCCCC)OC(C)CC)(C)C)(OCCCC)OC(C)C GFAKSTSJEBRCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDQWESQEGGJUCH-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl adipate Chemical compound CC(C)OC(=O)CCCCC(=O)OC(C)C ZDQWESQEGGJUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical class CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZIQYAYUUNMDMU-UHFFFAOYSA-N N.[Br+] Chemical compound N.[Br+] UZIQYAYUUNMDMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010748 Photoabsorption Effects 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- RNFJXKZHLUDESJ-UHFFFAOYSA-N [O].C(CCCCC)OCCCCCCC Chemical compound [O].C(CCCCC)OCCCCCCC RNFJXKZHLUDESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001454 anthracenes Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- KGQLBLGDIQNGSB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;methoxymethane Chemical class COC.OC1=CC=C(O)C=C1 KGQLBLGDIQNGSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N benzo-alpha-pyrone Natural products C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006639 cyclohexyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001941 cyclopentenes Chemical class 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCC[14CH3] DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012933 diacyl peroxide Substances 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJQLEJAVGARHGQ-UHFFFAOYSA-N dithiosalicylic acid Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(S)=S AJQLEJAVGARHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- ZFDIRQKJPRINOQ-UHFFFAOYSA-N ethyl but-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C=CC ZFDIRQKJPRINOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical class C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000013035 low temperature curing Methods 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Natural products C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCVVUJPXSBQTRZ-UHFFFAOYSA-N methyl but-2-enoate Chemical class COC(=O)C=CC MCVVUJPXSBQTRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZAROOOHRGKEPC-UHFFFAOYSA-N n-butyl-2-methylpropanamide Chemical compound CCCCNC(=O)C(C)C GZAROOOHRGKEPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N n-butylhexane Natural products CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQAKESSLMFZVMC-UHFFFAOYSA-N n-ethenylacetamide Chemical compound CC(=O)NC=C RQAKESSLMFZVMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- CFHIDWOYWUOIHU-UHFFFAOYSA-N oxomethyl Chemical compound O=[CH] CFHIDWOYWUOIHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- AABBHSMFGKYLKE-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl but-2-enoate Chemical compound CC=CC(=O)OC(C)C AABBHSMFGKYLKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BAZXQZYWJSBDRG-UHFFFAOYSA-N pyrrole-2,5-dione;toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1.O=C1NC(=O)C=C1.O=C1NC(=O)C=C1 BAZXQZYWJSBDRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl chloride Chemical compound CC(C)(C)Cl NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000035924 thermogenesis Effects 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N thiazoline Chemical compound C1CN=CS1 CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005029 tin-free steel Substances 0.000 description 1
- ZGYICYBLPGRURT-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yl)silicon Chemical compound CC(C)[Si](C(C)C)C(C)C ZGYICYBLPGRURT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 150000003738 xylenes Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F4/00—Polymerisation catalysts
- C08F4/28—Oxygen or compounds releasing free oxygen
- C08F4/32—Organic compounds
- C08F4/34—Per-compounds with one peroxy-radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F4/00—Polymerisation catalysts
- C08F4/40—Redox systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C211/00—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C211/62—Quaternary ammonium compounds
- C07C211/63—Quaternary ammonium compounds having quaternised nitrogen atoms bound to acyclic carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C5/00—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing the same number of carbon atoms
- C07C5/02—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing the same number of carbon atoms by hydrogenation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D335/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D335/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D335/10—Dibenzothiopyrans; Hydrogenated dibenzothiopyrans
- C07D335/12—Thioxanthenes
- C07D335/14—Thioxanthenes with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 9
- C07D335/16—Oxygen atoms, e.g. thioxanthones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
- C07D487/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D487/04—Ortho-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
Abstract
本发明提供一种在350nm~500nm波长的光下能有效感光,厚膜固化性及深部固化性优异的感光性树脂组合物。本发明的感光性树脂组合物的特征在于,含有光产碱剂(A)、热自由基引发剂(B)以及自由基聚合性物质(C),所述光产碱剂(A)是由通式(1)或通式(2)表示的化合物,并且所述光产碱剂(A)通过活性光线的照射产生碱。[在通式(1)或通式(2)中,Ar是具有至少1个苯骨架、且可以被卤素原子等取代的芳香族烃基或杂环基;R1和R2各自独立地表示1~20的烷基等;m为2~4的整数;R3~R5各自独立地表示可以被卤素原子等取代的碳原子数为1~20的烷基、苯基或萘基;X-表示阴离子。]
Description
技术领域
本发明涉及感光性树脂组合物。更详细地说,涉及厚膜固化性优异的感光性树脂组合物。所述感光性树脂组合物可以很好地用于涂料、印刷油墨、涂布剂、模塑材料(例如MEMS用材料)、抗蚀剂材料、纳米压印材料、粘合剂、密封剂、光学部件用成型材料或建筑材料用成型材料。
背景技术
近年来,在涂料、印刷油墨、涂布剂、模塑材料(例如MEMS用材料)、抗蚀剂材料、纳米压印材料、粘合剂、密封剂或成型材料等领域中,对通过电子束、紫外线、可见光线等活性光线照射而固化的感光性树脂进行了研究。这是由于所述感光性树脂具有在热固性树脂中不具备的能短时间固化、无溶剂等优点。
在涂料、印刷油墨、抗蚀剂材料、涂布剂等中,在含有染料或颜料等有色材料及无机颗粒等填充剂的情况下,存在因活性光线衰减从而无法使较深的部分也充分固化的问题。此外,在模塑材料(例如MEMS用材料)、纳米压印材料、粘合剂、密封剂或成型材料等中,在需要以厚膜进行固化的情况下,存在活性光线无法到达较深的部分,较深的部分无法充分固化的问题。
为了解决所述的问题点,提出了通过用紫外线照射,由光产酸剂(photoacid generator)产生酸,从而能低温固化的阳离子聚合性粘合剂(例如专利文献1),该方案与自由基聚合相比,存在固化速度慢、金属部件会产生腐蚀等问题。此外,提出了通过用紫外线照射,由光产碱剂(photobase generator)产生碱,从而能促进由热自由基引发剂产生自由基,进行低温快速固化的自由基聚合性粘合剂(例如专利文献2),但是专利文献2记载的光产碱剂对365nm的光吸收较小,对于作为通常广泛使用的光源的高压水银灯的波长(i线:365nm、h线:405nm、g线:436nm),存在敏感度不足的问题。例如,在涂料或印刷油墨中,有时在感光性树脂组合物中配入有颜料(例如氧化钛)或具有芳环(aromatic ring)的粘合剂等,颜料或具有芳环的粘合剂会吸收照射光(例如,氧化钛会吸收380nm以下的光,芳环会吸收365nm附近的光。),因此以往的光产碱剂不能产生碱。
专利文献1:日本专利公开公报特开2000-169821号
专利文献2:日本专利公开公报特开2007-45900号
发明内容
本发明的目的是提供一种在350nm~500nm波长的光下能有效感光,并且厚膜固化性及深部固化性优异的感光性树脂组合物。
本发明人为了解决所述的问题,进行了专心的研究,从而获得了本发明。即,本发明是一种感光性树脂组合物,其特征在于,含有光产碱剂(A)、热自由基引发剂(B)以及自由基聚合性物质(C),所述光产碱剂(A)是由通式(1)或通式(2)表示的化合物,并且所述光产碱剂(A)通过活性光线的照射产生碱。
在通式(1)或通式(2)中,Ar表示具有至少1个苯骨架、且可以被选自卤素原子、碳原子数为1~20的烷氧基、硝基、羧基、羟基、巯基、碳原子数为1~20的烷硫基、碳原子数为1~20的烷基硅基、碳原子数为1~20的酰基、氨基、氰基、碳原子数为1~20的烷基、苯基、萘基、苯氧基及苯硫基中的基团取代的芳香族烃基或杂环基;R1和R2各自独立地表示氢原子、碳原子数为1~20的烷基或可以被选自卤素原子、碳原子数为1~20的烷氧基、硝基、羧基、羟基、巯基、碳原子数为1~20的烷硫基、碳原子数为1~20的烷基硅基、碳原子数为1~20的酰基、氨基、氰基、碳原子数为1~20的烷基、苯基、萘基、苯氧基及苯硫基中的基团取代的苯基,R1和R2可以彼此结合形成环结构;m为2~4的整数;R3~R5各自独立地表示可以被选自卤素原子、碳原子数为1~20的烷氧基、硝基、羟基、巯基、碳原子数为1~20的烷硫基、碳原子数为1~20的烷基硅基、碳原子数为1~20的酰基、氨基、氰基、苯氧基及苯硫基中的基团取代的碳原子数为1~20的烷基、苯基或萘基,R3~R5可以彼此结合形成环结构;X-表示阴离子。
本发明的感光性树脂组合物在350nm~500nm波长的光下能有效地感光,并且具有深部固化性优异的效果。
具体实施方式
本发明的感光性树脂组合物含有光产碱剂(A)、热自由基引发剂(B)以及自由基聚合性物质(C)。
光产碱剂(A)是由通式(1)或通式(2)表示的化合物,并且通式(1)或通式(2)中的Ar是具有至少1个苯骨架、且可以被选自卤素原子、碳原子数为1~20的烷氧基、硝基、羧基、羟基、巯基、碳原子数为1~20的烷硫基、碳原子数为1~20的烷基硅基、碳原子数为1~20的酰基、氨基、氰基、碳原子数为1~20的烷基、苯基、萘基、苯氧基及苯硫基中的基团取代的芳香族烃基或杂环基。
优选的是,作为Ar是具有1~4个苯环骨架的芳香族烃基或杂环基。更优选的是,作为Ar的基团如后所述。
通式(1)或通式(2)中的R1和R2各自独立地表示氢原子、碳原子数为1~20的烷基或可以被选自卤素原子、碳原子数为1~20的烷氧基、硝基、羧基、羟基、巯基、碳原子数为1~20的烷硫基、碳原子数为1~20的烷基硅基、碳原子数为1~20的酰基、氨基、氰基、碳原子数为1~20的烷基、苯基、萘基、苯氧基及苯硫基中的基团取代的苯基,R1和R2可以彼此结合形成环结构。
通式(1)或通式(2)中的m为2~4的整数,优选为2或4。
通式(1)或通式(2)中的R3~R5各自独立地表示可以被选自卤素原子、碳原子数为1~20的烷氧基、硝基、羟基、巯基、碳原子数为1~20的烷硫基、碳原子数为1~20的烷基硅基、碳原子数为1~20的酰基、氨基、氰基、苯氧基和苯硫基中的基团取代的碳原子数为1~20的烷基、苯基或萘基,R3~R5可以彼此结合形成环结构。
其中,优选碳原子数为1~10的烷基,特别优选碳原子数为1~5的烷基。
通式(1)或通式(2)中的X-表示阴离子。具体地说,作为X-可以例举:卤化物离子、氢氧化物离子、碳酸根离子、脂肪族羧酸根离子、芳香族羧酸根离子(苯甲酸阴离子、苯基乙醛酸阴离子等)、脂肪族磺酸根离子、芳香族磺酸根离子、脂肪族磺酸根离子的卤化物、芳香族磺酸根离子的卤化物、六氟锑酸根离子(SbF6 -)、六氟磷酸根离子(PF6 -)和硼酸根阴离子(四苯硼酸阴离子、丁基三苯基硼酸阴离子等)。从光分解性的观点出发,优选脂肪族羧酸根离子、芳香族羧酸根离子和硼酸根阴离子。
通过活性光线,光产碱剂(A)的与Ar、R1和R2键合的碳与氮的键合部分被切断,从而产生由通式(6)或通式(7)表示的碱。
通式(6)中的m与通式(1)中的m相同,优选的m也相同。同样,通式(7)中的R3~R5与通式(2)中的R3~R5相同,优选的R3~R5也相同。
光产碱剂(A)可以单独使用,也可以并用两种以上的光产碱剂(A)。
在本发明的感光性树脂组合物中,通过活性光线的照射,从光产碱剂(A)产生的碱(由通式(6)表示的叔脒或由通式(7)表示的叔胺)与热自由基引发剂(B)形成氧化还原系引发剂,从而热自由基引发剂(B)的分解快速进行。由氧化还原系引发剂产生自由基通过暗反应进行,因此伴随着碱的扩散,使得在对于通常的光自由基引发剂而言光固化困难的活性光线衰减的部分及无法到达的部分也可以进行固化。
对于通式(6)进行说明。通式(6)是具有脒骨架的化合物,m为2~4的整数。特别优选m为4的1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯、m为2的1,5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯。
对于通式(7)进行说明。通式(7)为叔胺,特别优选三乙胺、三丁胺和1-氮杂双环[2.2.2]辛烷。
作为所述通式(1)或通式(2)中的Ar,优选具有1~4个苯环骨架的芳香族烃基或杂环基,特别优选的是,从由通式(3)表示的化合物除去R6~R15中任一个的1价残基、从由通式(4)表示的化合物除去R16~R23中的任一个的1价残基及从由通式(5)表示的化合物除去R24~R33中任一个的1价残基。
对由通式(3)表示的残基(Ar1)进行说明。(Ar1)为具有蒽骨架的残基,是在i线(365nm)附近具有最大吸收波长的残基的一个例子。取代基R6~R15是考虑到吸收波长的调整、敏感度的调整、热稳定性、反应性、分解性等而用于改性的基团,可以根据目的,用选自氢原子、卤素原子、碳原子数为1~20的烷氧基、硝基、羧基、羟基、巯基、碳原子数为1~20的硅烷基、碳原子数为1~20的酰基、氨基、氰基、碳原子数为1~20的烷基、苯基、萘基中的官能团进行改性。
作为碳原子数为1~20的烷氧基,可以列举甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、戊氧基、异戊氧基、新戊氧基、己氧基、庚氧基及辛氧基等。
作为碳原子数为1~20的硅烷基,可以列举如三甲基硅烷基、三异丙基硅烷基等三烷基硅烷基等。其中,烷基可以是直链结构,也可以是支链结构。
作为碳原子数为1~20的酰基,可以列举甲酰基、乙酰基、丙酰基、异丁酰基、戊酰基及环己基羰基等。
作为碳原子数为1~20的烷基,可以列举甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、异戊基、新戊基、己基、庚基及辛基等。
作为卤素原子,优选的是氟及氯。
作为取代基,优选的是卤素原子、氰基、苯基、萘基、碳原子数为1~20的烷基、碳原子数为1~20的烷氧基,更优选的是氰基、苯基、碳原子数为1~15的烷基、碳原子数为1~15的烷氧基、碳原子数为1~15的酰基。作为特别优选的取代基,可以列举碳原子数为1~10的烷基、碳原子数为1~10的烷氧基、碳原子数为1~10的酰基。此外,所述烷基部分可以是直链,也可以是支链。
对由通式(4)表示的残基(Ar2)进行说明。(Ar2)是具有噻吨酮骨架的残基,是在i线(365nm)附近具有最大吸收波长的化合物的一个例子。取代基R16~R23可以列举与所述(Ar1)的取代基R6~R15相同的基团,优选的基团也相同。
对由通式(5)表示的残基(Ar3)进行说明。(Ar3)是具有二苯甲酮骨架的残基,是在i线(365nm)附近具有最大吸收波长的化合物的一个例子。取代基R24~R33可以列举与所述(Ar1)的取代基R6~R15相同的基团,优选的基团也相同。
在所述的Ar中,从光分解性的观点出发,优选残基(Ar1)和残基(Ar2)。
接着,对本发明的感光性树脂组合物中所含的热自由基引发剂(B)进行说明。与通过照射电子束、紫外线、可见光线等活性光线,从而产生自由基的光自由基引发剂不同,所谓的热自由基引发剂(B)是表示通过热产生自由基的化合物,优选使用例如目前已知的有机过氧化物(氢过氧化物、二烷基过氧化物和二酰基过氧化物等)或偶氮化合物的公知化合物。从稳定性、反应性的观点出发,更优选10小时半衰期温度为70℃~250℃的热自由基引发剂。具体地说,作为热自由基引发剂(B)可以列举下述(B1)和(B2)。可以使用一种热自由基引发剂(B),也可以并用两种以上的热自由基引发剂(B)。
作为10小时半衰期温度为70℃以上且小于150℃的热自由基引发剂(B1),可以列举下述的物质。
(B11)过氧化物系引发剂:苯甲酰过氧化物(半衰期温度74℃)、叔丁基过氧化乙酸酯(半衰期温度102℃)、2,2-二(叔丁基过氧化)丁烷(半衰期温度103℃)、叔丁基过氧化苯甲酸酯(半衰期温度104℃)、4,4-二(叔丁基过氧化)戊酸正丁酯(半衰期温度105℃)、二(2-叔丁基过氧化异丙基)苯(半衰期温度119℃)、过氧化二异丙苯(半衰期温度116℃)、二叔己基过氧化物(半衰期温度116℃)、2,5-二甲基-2,5-二(叔丁基过氧化)己烷(半衰期温度118℃)、叔丁基过氧化异丙苯(半衰期温度120℃)、二叔丁基过氧化物(半衰期温度124℃)、过氧化氢二异丙苯(半衰期温度145℃)、过氧化氢对孟烷(p-menthane hydroperoxide)(半衰期温度128℃)等。
(B12)偶氮系引发剂:1-[(1-氰基-1-甲基乙基)偶氮]甲酰胺(半衰期温度104℃)、2,2’-偶氮二(N-丁基-2-甲基丙酰胺)(半衰期温度110℃)、2,2’-偶氮二(N-环己基-2-甲基丙酰胺)(半衰期温度110℃)、2,2’-偶氮二(N-环己基-2-甲基丙酰胺)(半衰期温度111℃)、2,2’-偶氮二(2,4,4-三甲基戊烷)(半衰期温度110℃)等。
作为10小时半衰期温度为150℃以上且为250℃以下的热自由基引发剂(B2),可以列举下述物质。
(B21)过氧化物系引发剂:1,1,3,3-四甲基丁基氢过氧化物(半衰期温度153℃)、异丙苯氢过氧化物(半衰期温度158℃)、叔丁基氢过氧化物(半衰期温度167℃)、叔丁基三甲基甲硅烷基过氧化物(半衰期温度176℃)等。
(B22)其它:2,3-二甲基-2,3-二苯基丁烷(半衰期温度210℃)等。
接着,对本发明的感光性树脂组合物中所含的自由基聚合性物质(C)进行说明。作为自由基聚合性物质(C),只要是能通过自由基聚合的化合物,就可以没有特别限制地使用公知的物质,优选的是N-乙烯基化合物、单官能(甲基)丙烯酸酯单体、在分子内具有两个以上(甲基)丙烯酰基(以下,表示为(甲基)丙烯酰基)的多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物和马来酰亚胺化合物,更优选的是(甲基)丙烯酸酯单体和多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物。
作为N-乙烯基化合物,可以列举N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基己内酰胺和N-乙烯基乙酰胺等。
作为(甲基)丙烯酸酯单体,可以列举:烷基的碳原子数为1~20的(甲基)丙烯酸烷基酯[例如甲基(丙烯酸)甲酯、甲基(丙烯酸)乙酯、甲基(丙烯酸)正丙酯、甲基(丙烯酸)异丙酯、甲基(丙烯酸)正丁酯、甲基(丙烯酸)正己酯和甲基(丙烯酸)2-乙基己酯等];含有脂环基的(甲基)丙烯酸酯[八氢-4,7-甲桥-1H-茚-5-基(甲基)丙烯酸酯(Dicyclopentanyl(meth)acrylate)、二环戊烯基(甲基)丙烯酸酯(Dicyclopentenyl(meth)acrylate)和(甲基)丙烯酸异冰片酯等];(甲基)丙烯酸羟基烷基酯[(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯等]。
作为多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物,可以列举环氧(甲基)丙烯酸酯低聚物、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物、聚醚(甲基)丙烯酸酯低聚物、聚酯(甲基)丙烯酸酯低聚物等低聚物、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯基(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸改性2官能(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸改性3官能(甲基)丙烯酸酯、2,2’-二(甲基)丙烯酰氧基二乙基磷酸酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基酸式磷酸酯等多官能(甲基)丙烯酸酯化合物。
作为马来酰亚胺化合物,是在分子中具有至少两个马来酰亚胺基的化合物,可以例举:1-甲基-2,4-二马来酰亚胺苯、N,N’-间-苯二马来酰亚胺、N,N’-邻-苯二马来酰亚胺、N,N’-间-甲苯二马来酰亚胺、N,N’-4,4-二苯二马来酰亚胺、N,N’-4,4-(3,3’-二甲基-二亚苯基)二马来酰亚胺、N,N’-4,4-(3,3’-二甲基二苯基甲烷)二马来酰亚胺、N,N’-4,4-(3,3’-二乙基二苯基甲烷)二马来酰亚胺、N,N’-4,4-二苯基甲烷二马来酰亚胺、N,N’-4,4-二苯基丙烷二马来酰亚胺、N,N’-4,4-二苯基醚二马来酰亚胺、N,N’-3,3’-二苯基砜二马来酰亚胺、2,2-二(4-(4-马来酰亚胺苯氧基)苯基)丙烷、2,2-二(3-s-丁基-4-8(4-马来酰亚胺苯氧基)苯基)丙烷、1,1-二(4-(4-马来酰亚胺苯氧基)苯基)癸烷、4,4’-环亚己基-二(1-(4马来酰亚胺苯氧基)-2-环己基苯、2,2-二(4-(4-马来酰亚胺苯氧基)苯基)六氟丙烷等。可以单独使用所述物质,也可以将所述物质组合使用。
所述物质可以单独使用,也可以并用,根据需要,还可以适当使用氢醌、甲基醚氢醌类等阻聚剂。
从光固化性和贮藏稳定性的观点出发,热自由基引发剂(B)的添加量相对于100份自由基聚合性物质(C),为0.05~30份,优选为0.1~20份。从自由基产生效率和固化物物性的观点出发,光产碱剂(A)的添加量相对于100重量份热自由基引发剂(B),优选为1~150重量份,更优选为5~100重量份。
在本发明的感光性树脂组合物中,根据需要,可以添加含有溶剂、增感剂、粘合性赋予剂(硅烷偶联剂等)等。
作为溶剂,可以列举二醇醚类(乙二醇单烷基醚和丙二醇单烷基醚等)、酮类(丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮和环己酮等)、酯类(乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇烷基醚乙酸酯和丙二醇烷基醚乙酸酯等)、芳香族烃类(甲苯、二甲苯等)、醇类(甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、丁醇等)和醚类(四氢呋喃等)。这些物质可以单独使用,也可以混合使用。优选添加溶剂,使得感光性树脂组合物固体成分浓度为1~100重量%,更优选使得感光性树脂组合物固体成分浓度为5~80重量%,特别优选使得感光性树脂组合物固体成分浓度为10~60重量%。
作为增感剂,可以列举例如香豆素酮、芴、噻吨酮、蒽醌、萘骈噻唑啉(naphthiazoline)、双乙酰、联苯甲酰和它们的衍生物、二萘嵌苯、取代的蒽等。增感剂的含有率相对于感光性树脂组合物,优选为0~20重量%,更优选为1~15重量%,特别优选为5~10重量%。
作为粘合性赋予剂,可以列举例如:γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、脲丙基三乙氧基硅烷、三乙酰丙酮铝、乙酰乙酸铝二异丙酯等。粘合性赋予剂的含有率相对于感光性树脂组合物,优选为0~20重量%,更优选为1~15重量%,特别优选为5~10重量%。
在本发明的感光性树脂组合物中,根据使用目的,还可以添加含有无机微粒、颜料、分散剂、消泡剂、整平剂(leveling agent)、触变性赋予剂、滑爽剂、阻燃剂、抗静电剂、抗氧化剂和紫外线吸收剂等。
本发明的感光性树脂组合物由于能通过照射350~500nm的活性光线进行光固化,因此除了通常使用的高压水银灯以外,还可以使用超高压水银灯、金属卤化物灯和高能金属卤化物灯(UV·EB固化技术的最新动向、ラドテツク研究会编、シ一エムシ一出版、138页、2006)。在照射活性光线时和/或照射后,为了使由光产碱剂产生的碱扩散,还可以加热。加热温度根据用途有所不同,通常为30℃~200℃,优选为35℃~150℃,更优选为40℃~120℃。
本发明的感光性树脂组合物通过有氧化还原系引发剂产生自由基,可以使利用通常的光自由基引发剂难以光固化的活性光线衰减的部分及活性光线无法到达的部分固化,因此可以用于涂料、印刷油墨、涂布剂、模塑材料(例如MEMS用材料)、抗蚀剂材料、纳米压印材料、粘合剂、密封剂、光学部件成型材料或建筑材料成型材料。
实施例
下面,通过实施例和制造例对本发明进行具体的说明,但本发明并不限定于此。下面,份表示重量份。
[光产碱剂(A)的制造]
<制造例1>
1-(9-蒽甲基)-1-氮杂双环[2.2.2]辛烷鎓四苯基硼酸盐的合成(A1-1)
在50ml茄形烧瓶中,将2.0g的9-氯甲基蒽(アルドリツチ公司)溶解在氯仿中,向其中缓慢加入1.3g的1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯(在添加后发现有一定程度的发热),直接在室温(约25℃)下搅拌1小时,获得反应液。向加入在100ml茄形烧瓶中的由4.0g四苯基硼酸钠盐和40g水构成的水溶液中,一点一点滴入获得的反应液,再在室温(约25℃)下搅拌1小时,然后通过分液操作除去水层,用水洗涤有机层3次。通过蒸发器浓缩该有机层,获得5.4g白色固体。通过乙腈对该白色固体进行再结晶,获得4.7g光产碱剂(A1-1)(白色固体)。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、DMSO-d6、δ(ppm):8.8(s、1H)、8.3-8.1(m、4H)、7.8-7.5(m、4H)、7.2-7.1(m、8H)、7.0-6.8(m、8H)、6.8-6.7(m、4H)、5.9(s、2H)、3.8-3.7(m、2H)、3.5-3.2(m、6H)、2.8(m、2H)、2.0-1.6(m、8H)},确认了该白色固体为8-(9-蒽甲基)-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓四苯基硼酸盐(A1-1)。
<制造例2>
1-(9-蒽基)甲基-1-氮杂双环[2.2.2]辛烷鎓四苯基硼酸盐的合成(A1-2)
除了将“1.3g的1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯”改变为“1.0g的1-氮杂双环[2.2.2]辛烷”以外,通过与制造例1相同的方法,获得了4.4g光产碱剂(A1-2)(白色固体)。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、DMSO-d6、δ(ppm):8.9(s、1H)、8.7(d、2H)、8.2(d、2H)、7.7(t、2H)、7.6(t、2H)、7.3-7.1(m、8H)、7.0-6.9(m、8H)、6.9-6.8(m、4H)、5.6(s、2H)、3.6-3.4(m、6H)、1.9(m、1H)、1.8-1.6(m、6H)}。确认了该白色固体为9-蒽甲基-1-氮杂双环[2.2.2]辛烷鎓四苯基硼酸盐(A1-2)。
<制造例3>
5-(9-蒽甲基)-1,5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯鎓四苯基硼酸盐的合成(A1-3)
除了将“2.0g的1-氮杂双环[2.2.2]辛烯”改变为“1.1g的1,5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯(サンアプロ株式会社)”以外,通过与制造例1相同的方法获得了4.6g光产碱剂(A1-3)(白色固体)。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、DMSO-d6、δ(ppm):8.8(s、1H)、8.3-8.1(m、4H)、7.8-7.5(m、4H)、7.2-7.1(m、8H)、7.0-6.8(m、8H)、6.8-6.7(m、4H)、5.7(s、2H)、3.8-3.7(t、2H)、3.5(t、2H)、3.4-3.2(m、2H)、2.7(m、2H)、2.2(m、2H)、1.7(m、2H)}。确认了该白色固体为5-(9-蒽甲基)-1,5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯鎓四苯基硼酸盐(A1-3)。
<制造例4>
8-(9-蒽甲基)-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓苯基乙醛酸盐的合成(A1-4)
(1)苯基乙醛酸银的制备
将3.9g苯基乙醛酸(アルドリツチ公司)溶解在20g甲醇中,向其中一点一点加入0.9g氢氧化钠(和光纯药工业株式会社)(发现因中和产生了热量),搅拌1小时,向其中加入10.4g的1mol/L硝酸银水溶液(和光纯药工业株式会社),然后过滤析出的灰色固体,用甲醇洗涤,干燥,从而获得了4.4g苯基乙醛酸银(灰色固体)。
(2)8-(9-蒽甲基)-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓苯基乙醛酸盐的合成:
在50ml茄形烧瓶中,将2.0g的9-氯甲基蒽(アルドリツチ公司)溶解在40g甲醇中,向其中缓慢加入1.3g的1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯(在添加后发现有一定程度的产热),直接在室温(约25℃)下搅拌1小时,获得反应液。向加入在100ml茄形烧瓶中的由3.0g苯基乙醛酸银和20g甲醇构成的分散液中,一点一点滴入获得的反应液,再在室温(约25℃)下搅拌1小时,然后过滤除去产生的灰色固体,得到滤液,用蒸发器浓缩该滤液,获得4.5g褐色固体。用醚/己烷对该褐色固体进行再结晶,从而获得2.6g本发明的光产碱剂(A1-4)(黄色固体)。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、DMSO-d6、δ(ppm):8.8(s、1H)、8.3(d、2H)、8.2(d、2H)、7.8(d、2H)、7.7(t、2H)、7.6(t、2H)、7.5(d、1H)、7.4(t、2H)、5.9(s、2H)、3.8-3.7(m、2H)、3.5-3.4(m、4H)、2.8-2.7(m、2H)、2.0-1.6(m、8H)},确认了该黄色固体为8-(9-蒽甲基)-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓苯基乙醛酸盐(A1-4)。
<制造例5>
N-(9-蒽甲基)-N,N,N-三辛基铵四苯基硼酸盐的合成(A1-5)
除了将“1.0g的1-氮杂双环[2.2.2]辛烷”改变为“3.1g三辛胺(和光纯药工业株式会社)”以外,通过与制造例1相同的方法,获得了6.2g光产碱剂(A1-5)(白色固体)。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、DMSO-d6、δ(ppm):8.9(s、1H)、8.7(d、2H)、8.2(d、2H)、7.7(t、2H)、7.6(t、2H)、7.2-7.0(m、8H)、7.0-6.9(m、8H)、6.9-6.8(m、4H)、5.8(s、2H)、3.4-3.2(m、6H)、1.9-1.6(m、6H)、1.4-1.2(m、30H)、1.0-0.8(t、9H)},确认了该白色固体为N-(9-蒽甲基)-N,N,N-三辛基铵四苯基硼酸盐(A1-5)。
<制造例6>
8-(9-氧代-9H-噻吨-2-基)甲基-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓四苯基硼酸盐的合成(A2-1)
(1)甲基噻吨酮(中间体10)的合成
在三角烧瓶中加入139g硫酸,向其中加入10g二硫代水杨酸(和光纯药工业株式会社),在室温(约25℃)下搅拌约1小时,然后冰浴冷却,获得冷却溶液。接着,将该冷却溶液的液温保持在20℃以下,并一点一点滴入25g甲苯,在滴入后,恢复至室温(约25℃),再搅拌2小时以获得反应液。边搅拌815g加入在烧杯中的水,边缓慢加入获得的反应液,然后过滤析出的黄色固体。在260g二氯甲烷中溶解该黄色固体,加入150g水,再加入6.7g的24%的KOH水溶液,使水层成为碱性,搅拌1小时后,通过分液操作除去水层,用130g的水洗涤有机层三次。接着,用无水硫酸钠干燥有机层,之后蒸馏除去溶剂(二氯甲烷),获得了8.7g中间体(10)(黄色固体)。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、DMSO-d6、δ(ppm):8.4(d、1H)、8.2(s、1H)、7.8-7.7(m、2H)、7.7-7.5(m、3H)、2.4(s、3H)},确认了该中间体(10)为2-甲基噻吨酮与3-甲基噻吨酮的混合物(摩尔比2∶1)。
(2)2-溴甲基噻吨酮(中间体11)的合成
将2.1g中间体(10)(甲基噻吨酮混合物)溶解在120ml环己烷中,向其中加入8.3g的N-溴代丁二酰亚胺(和光纯药株式会社)、0.1g过氧化苯甲酰(和光纯药株式会社)、在回流下反应4小时(3-甲基噻吨酮不反应)、然后蒸馏除去溶剂(环己烷),向其中加入50ml氯仿,使残渣再次溶解,获得氯仿溶液。用30g的水洗涤氯仿溶液三次。通过分液操作除去水层,然后蒸馏除去溶剂(氯仿),获得1.7g褐色固体。使用乙酸乙酯,对所述褐色固体进行再结晶,从而获得1.5g中间体(11)(黄色固体)。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、DMSO-d6、δ(ppm):8.6(s、2H)、7.8-7.5(m、5H)、4.6(s、2H)},确认了该中间体(11)为2-溴甲基噻吨酮。
(3)8-(9-氧代-9H-噻吨-2-基)甲基-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓溴化物(中间体12)的合成
将1.0g中间体(11)(2-溴甲基噻吨酮)溶解在85g二氯甲烷中,向其中滴入0.5g的1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯(DBU,サンアプロ株式会社)(滴入后发热),然后在室温(约25℃)下搅拌1小时,蒸馏除去二氯甲烷,获得2.2g白色固体。在四氢呋喃/二氯甲烷中溶解该白色固体,进行再结晶,获得1.2g中间体(12)(白色固体)。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、CDCl3、δ(ppm):8.6(d、1H)、8.3(d、1H)、7.8(d、1H)、7.8-7.6(m、3H)、7.5(t、1H)、5.1(s、2H)、3.9-3.8(m、6H)、3.0(m、2H)、2.4-2.2(m、2H)、2.0-1.7(m、6H)},确认了该中间体(12)为8-(9-氧代-9H-噻吨-2-基)甲基-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓溴化物。(4)8-(9-氧代-9H-噻吨-2-基)甲基-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓四苯基硼酸盐的合成
在用17g水溶解0.8g四苯基硼酸钠盐(ナカライテスク株式会社)的水溶液中,一点一点滴入1.0g事先在50g氯仿中溶解的中间体(12)(8-(9-氧代-9H-噻吨-2-基)甲基-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓溴化物),然后在室温(约25℃)下搅拌1小时,通过分液操作除去水层,用30g水洗涤有机层3次。通过蒸发器浓缩该有机层,获得黄色固体。通过乙腈/醚对该黄色固体进行再结晶。获得1.3g光产碱剂(A1-6)(微黄色粉末)。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、DMSO-d6、δ(ppm):8.5(d、1H)、8.4(s、1H)、8.0-7.6(m、5H)、7.2-7.1(m、8H)、7.0-6.8(m、8H)、6.8-6.7(m、4H)、5.1(s、2H)、3.8-3.7(m、2H)、3.7-3.5(m、4H)、3.0-2.9(m、2H)、2.1-2.0(m、2H)、1.8-1.5(m、6H)},确认了该微黄色粉末为8-(9-氧代-9H-噻吨-2-基)甲基-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓四苯基硼酸盐(A2-1)。
<制造例7>
8-(4-苯甲酰基苯基)甲基-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓四苯基硼酸盐的合成(A3-1)
(1)4-溴甲基二苯甲酮(中间体20)的合成
在具有回流冷却器的200mL烧瓶中,加入25.1g的4-甲基二苯甲酮(アルドリツク公司)、22.8g的N-溴代丁二酰亚胺(和光纯药株式会社)、0.54g过氧化苯甲酰(含水20%,和光纯药株式会社)和80g乙腈,加热至80℃,在回流下反应2小时,冷却,然后蒸馏除去溶剂,用160g甲醇再结晶,获得26g中间体(20)(白色结晶)。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、CDCl3、δ(ppm):7.9-7.7(m、4H)、7.6(t、1H)、7.55-7.4(m、4H)、4.5(s、2H)},确认了该中间体(H10)为4-溴甲基二苯甲酮。
(2)8-(4-苯甲酰基苯基)甲基-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓溴化物(中间体21)的合成。
将25.8g中间体(20)溶解在100g乙腈中,滴入14.6g的1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯(サンアプロ株式会社)(滴入后发热),然后在室温(约25℃)下搅拌1小时,蒸馏除去乙腈,获得褐色固体。在乙腈中溶解该褐色固体,进行再结晶,获得28.2g中间体(21)(白色固体)。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、CDCl3、δ(ppm):7.9-7.7(d、4H)、7.6-7.3(m、5H)、5.0(s、2H)、3.9-3.6(m、6H)、3.0-2.9(m、2H)、2.3-2.2(m、2H)、1.9-1.7(m、6H)},确认了该中间体(H11)为8-(4-苯甲酰基苯基)甲基-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓溴化物.
(3)8-(4-苯甲酰基苯基)甲基-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓四苯基硼酸盐的合成
在用17g水溶解了0.8g四苯基硼酸钠盐(ナカライテスク株式会社)的水溶液中,一点一点滴入6.8g事先在50g氯仿中溶解的中间体(21)(8-(4-苯甲酰基苯基)甲基-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓溴化物),然后在室温(约25℃)下搅拌2小时,获得反应液。过滤反应液,浓缩滤液,获得黄色油,在乙腈中溶解,进行再结晶,获得7.6g光产碱剂(A3-1)(白色固体)。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、CDCl3、δ(ppm):7.8-7.7(d、4H)、7.6(t、1H)、7.5-7.3(m、10H)、7.1-6.8(m、14H)、4.8(s、2H)、3.9-3.8(m、2H)、3.7-3.5(m、4H)、2.0(m、2H)、1.5-1.1(m、8H)},确认了该白色固体为8-(4-苯甲酰基苯基)甲基-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓四苯基硼酸盐(A3-1)。
<制造例8>
{8-(2-萘甲基)-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓四苯基硼酸盐(A4-1)的合成}
(1)8-(2-萘甲基)-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓溴化物[中间体(30)]的合成:
将“1.1g的2-溴甲基萘[东京化成工业株式会社制造]”溶解在100g乙腈中,向其中滴入14.6g的1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯(サンアプロ(株)制造的“DBU”)(滴入后发热),然后在室温(约25℃)下搅拌18小时,蒸馏除去乙腈,获得白色粉末。在乙腈中溶解该白色粉末,进行再结晶,获得1.3g中间体(30)(白色粉末)。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、DMSO-d6、δ(ppm):8.0-7.4(m、7H)、5.0(s、2H)、3.7-3.2(m、6H)、3.0-2.9(m、2H)、2.1(m、2H)、1.7-1.5(m、8H)},确认了该中间体(30)为8-(9-萘甲基)-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓溴化物。
(2)8-(2-萘甲基)-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓四苯基硼酸盐(A4-1)的合成:
在用17g水溶解了0.8g四苯基硼酸钠盐(ナカライテスク株式会社)的水溶液中,一点一点滴入0.8g事先在50g氯仿中溶解的中间体(30)(8-(9-奈甲基)-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓溴化物),然后在室温(约25℃)下搅拌2小时,获得反应液。过滤获得的反应液,浓缩滤液,获得黄色油,在乙腈中溶解,进行再结晶,获得1.3g光产碱剂(A4-1)(微黄色粉末)。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、DMSO-d6、δ(ppm):8.0-7.4(m、7H)、7.2-7.1(m、8H)、7.0-6.8(m、8H)、6.8-6.7(m、4H)、5.1(s、2H)、3.8-3.3(m、6H)、2.9-2.8(m、2H)、1.9-1.5(m、8H)},确认了该微黄色粉末为8-(2-萘甲基)-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓四苯基硼酸盐(A4-1)。
<制造例9>
{8-(叔丁基-2-萘甲基)-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓四苯基硼酸盐(A4-2)的合成}
(1)叔丁基-2-甲基萘[中间体(31)]的合成:
在200mL烧瓶中,加入7.1g的2-甲基萘[和光纯药株式会社制造]、4.8g叔丁基氯[和光纯药株式会社制造],一点一点滴入0.2g氯化铝[和光纯药株式会社制造],然后在室温(约25℃)下搅拌2小时,获得反应液。在该反应液中加入100ml二氯乙烷,用水洗涤有机层3次。通过蒸发器浓缩该有机层,获得9.7g褐色油。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、DMSO-d6、δ(ppm):8.0-7.4(m、6H)、2.6(s、2H)、1.4(s、9H)},确认了该褐色油为叔丁基-2-甲基萘。
(2)叔丁基-2-溴甲基萘[中间体(32)]的合成:
在具有回流冷却器的200mL烧瓶中,加入9.7g中间体(31){叔丁基-2-甲基萘}、9.6g的N-溴代丁二酰亚胺[和光纯药株式会社制造]、4.8g过氧化苯甲酰[含水20%,和光纯药工业株式会社制造]和100ml氯苯,加热至70℃,在回流下反应6小时,获得反应液。在该反应液中加入50ml二氯乙烷,用水洗涤有机层3次。通过蒸发器浓缩该有机层,获得10.1g白色固体。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、DMSO-d6、δ(ppm):8.0-7.4(m、6H)、4.5(s、2H)、1.4(s、9H)},确认了该褐色油为叔丁基-2-溴甲基萘。
(3)8-(叔丁基-2-萘甲基)-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓溴化物[中间体(33)]的合成:
除了将“1.1g的2-溴代甲基萘[东京化成工业株式会社制造]”改变为2.5g的中间体(32)以外,通过与制造例8(1)相同的方法,获得了2.6g中间体(33)(白色粉末)。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、DMSO-d6、δ(ppm):8.0-7.4(m、6H)、5.0(s、2H)、3.7-3.2(m、6H)、3.0-2.9(m、2H)、2.1(m、2H)、1.7-1.5(m、8H)、1.4(s、9H)},确认了该中间体(33)为8-(叔丁基-9-萘甲基)-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓溴化物。
(4)8-(叔丁基-2-萘甲基)-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓四苯基硼酸盐(A4-2)的合成:
除了将“0.8g中间体(30){8-(9-萘甲基)-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓溴化物}”改变为1.1g中间体(33)以外,通过与制造例8(2)相同的方法,获得了1.6g光产碱剂(A4-2)(微黄色粉末)。通过1H-NMR分析的结果为{300MHz、DMSO-d6、δ(ppm):8.0-7.4(m、6H)、7.2-7.1(m、8H)、7.0-6.8(m、8H)、6.8-6.7(m、4H)、5.1(s、2H)、3.8-3.3(m、6H)、2.9-2.8(m、2H)、1.9-1.5(m、8H)、1.4(s、9H)},确认了该微黄色粉末为8-(2-萘甲基)-1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯鎓四苯基硼酸盐。
[比较例中使用的光产碱剂的制造]
<比较制造例1>
作为光产碱剂,根据非专利文献1(Macromolecules A.Mochizuki,Vol.28,No.1,1995)记载的方法合成{[(4,5-二甲氧基-2-硝基苄基)氧基]羰基}-2,6-二甲基哌啶(简称为DNCDP),用正戊烷和苯再结晶,从而获得了光产碱剂(H-1)。所得DNCDP的收率为65%,熔点为132.8℃,元素分析结果为C:58.12、H:6.90、N:7.94、O:27.04。另外,DNCDP是如果照射活性光线,则能产生仲胺的化合物。
<比较制造例2>
与专利文献2的制造例相同,合成了作为光产碱剂的季铵盐。即,在丙酮(20g)中溶解2-溴代对硝基苯乙酮(2.00g,8.2mmol),向其中缓慢添加溶解在乙腈(5g)中的N,N-二甲基苄胺(1.10g,8.2mmol)溶液,然后在室温下搅拌2小时,析出白色结晶。对其过滤,用丙酮洗涤2次。之后在真空下,在60℃下干燥5小时,获得白色结晶(产量1.59g)。
在甲醇/水(15g/15g)溶液中溶解上述白色结晶(1.00g,作为铵·溴盐,为2.65mmol),向其中缓慢加入溶解在水(5.0g)中的四苯基硼酸钠盐(0.94g,2.65mmol)的溶液。添加并确认析出白色浆液状,在添加后,再在室温下搅拌5小时。将其过滤,在丙酮(20g)中溶解,进行再结晶,从而获得了目标的季铵盐(H-2)(产量1.22g)。
[感光性树脂组合物的制造]
实施例1~7
将3份的光产碱剂(A1-1)~(A1-5)、(A2-1)、(A3-1)、100份聚二季戊四醇五丙烯酸酯(三洋化成工业制造,ネオマ一DA-600)、40份氧化钛(石原产业制造,タイペ一クA-200)、0.5份颜料分散剂(ビツクケミ一公司制造,Disperyk-111)混合,获得颜料分散体,然后混合3份苯甲酰过氧化物(日油制造,ナイパ一BW),制造出感光性树脂组合物Q-1~Q-7。
实施例8~9
将3份光产碱剂(A4-1)、(A4-2),1份二乙基噻吨酮(和光纯药工业株式会社,2,4-二乙基-9H-噻吨-9-酮)、100份聚二季戊四醇五丙烯酸酯(三洋化成工业制造,ネオマ一DA-600)、40份氧化钛(石原产业制造,タイペ一クA-200)、0.5份颜料分散剂(ビツクケミ一公司制造,Disperyk-111)混合,获得颜料分散体,然后混合3份苯甲酰过氧化物(日油制造,ナイパ一BW),制造出感光性树脂组合物Q-8~Q-9。
[比较感光性树脂组合物的制造]
比较例1~3
将3份比较光产碱剂(H-1)~(H-2),100份聚二季戊四醇五丙烯酸酯(三洋化成工业制造,ネオマ一DA-600)、40份氧化钛(石原产业制造,タイペ一クA-200)、0.5份颜料分散剂(ビツクケミ一公司制造,Disperyk-111)混合,获得颜料分散体,然后混合3份苯甲酰过氧化物(日油制造,ナイパ一BW),制造出感光性树脂组合物Q’-1~Q’-2。
将100份聚二季戊四醇五丙烯酸酯(三洋化成工业制造,ネオマ一DA-600)、40份氧化钛(石原产业制造,タイペ一クA-200)、0.5份颜料分散剂(ビツクケミ一公司制造,Disperyk-111)混合,获得颜料分散体,然后混合3份苯甲酰过氧化物(日油制造,ナイパ一BW),制造出感光性树脂组合物Q’-3。
比较例4~6
将3份比较光产碱剂(H-1)~(H-2),1份二乙基噻吨酮(和光纯药工业株式会社,2,4-二乙基-9H-噻吨-9-酮)、100份聚二季戊四醇五丙烯酸酯(三洋化成工业制造,ネオマ一DA-600)、40份氧化钛(石原产业制造,タイペ一クA-200)、0.5份颜料分散剂(ビツクケミ一公司制造,Disperyk-111)混合,获得颜料分散体,然后混合3份苯甲酰过氧化物(日油制造,ナイパ一BW),制造出感光性树脂组合物Q’-4~Q’-5。
将1份二乙基噻吨酮(和光纯药工业株式会社,2,4-二乙基-9H-噻吨-9-酮)、100份聚二季戊四醇五丙烯酸酯(三洋化成工业制造,ネオマ一DA-600)、40份氧化钛(石原产业制造,タイペ一クA-200)、0.5份颜料分散剂(ビツクケミ一公司制造,Disperyk-111)混合,获得颜料分散体,然后混合3份苯甲酰过氧化物(日油制造,ナイパ一BW),制造出感光性树脂组合物Q’-6。
[光产碱剂的摩尔吸光系数的测定]
对于实施例和比较例的感光性树脂组合物中所使用的光产碱剂(A1-1)~(A4-2)和(H-1)~(H-2),测定了它们的摩尔吸光系数ε(365nm、405nm)。发现光产碱剂(A1-1)~(A3-1)能有效吸收365nm和405nm的光。另一方面,在光产碱剂(A4-1)和(A4-2)和比较例感光性树脂组合物中所使用的光产碱剂在365nm下很难吸收。其结果在表1中示出。
测定方法
用50mL的量瓶精密称量约50mg测定试样(光产碱剂),加入约20g乙腈将测定试样溶解后,再加入乙腈,达到标线。用刻度移液管将1mL所述溶液移入20mL的量瓶中,加入乙腈至标线进行稀释,获得规定浓度的乙腈溶液。
在石英池(光路长1cm)中加入所述溶液,通过分光光度计(株式会社岛津制作所,UV-2550),测定200~500nm波长范围内的吸收光谱。根据由光谱得到的吸光度,按照下式计算出摩尔吸光系数。
摩尔吸光系数(ε)=(吸光度)/摩尔浓度(mol/L)
[厚膜固化性的评价]
在厚度0.20mm的无锡钢板上热压上厚度12μm的均质PET(聚对苯二甲酸乙二酯)片,形成PET钢板,使用涂抹器(applicator),以改变膜厚的方式在PET钢板上涂布在实施例和比较例中得到的各感光性树脂组合物,通过下述照射条件进行光固化,测定涂膜的铅笔硬度(JISK5400(1990)),测定了能维持铅笔硬度在2H以上的膜厚。其结果在表1中示出。
照射条件
在带式输送机式UV照射装置(アイグラフイツク株式会社,ECS-151U),使用能透射过300~450nm波长光的滤光片(アイグラフイツク株式会社,365滤光片)用于控制曝光波长,进行曝光。曝光量在365nm下为约0.6J/cm2,在405nm下为约12J/cm2。
表1
根据表1可以确定:本发明的感光性树脂组合物Q-1~Q-9能维持铅笔硬度为2H以上的膜厚全部为50μm以上,都是良好的,此外,比较例的感光性树脂组合物Q’-1~Q’-6能维持铅笔硬度为2H以上的膜厚为25μm以下。为了维持铅笔硬度为2H以上,需要涂膜实现深入至PET钢板表面的深部固化。
如本实施例所明确的,通过使用本发明的感光性树脂组合物,能获得厚膜固化性优异的感光性树脂组合物。本发明的感光性树脂组合物特别适用于因活性光线衰减而无法充分固化至深部的、含有染料或颜料等有色材料及无机颗粒等填充剂的涂料、印刷油墨、涂布剂、抗蚀剂材料等,也特别适用于活性光线无法到达深部从而无法充分固化至深部的、需要以厚膜进行固化的粘合剂、模塑材料(例如MEMS用材料)、纳米压印材料、密封剂或成型材料。
工业实用性
本发明的感光性树脂组合物可以很好地用于涂料、印刷油墨、涂布剂、模塑材料(例如MEMS用材料)、抗蚀剂材料、纳米压印材料、粘合剂、密封剂、光学部件用成型材料或建筑材料用成型材料。
Claims (8)
1.一种感光性树脂组合物,其特征在于,含有光产碱剂(A)、热自由基引发剂(B)以及自由基聚合性物质(C),所述光产碱剂(A)是由通式(1)或通式(2)表示的化合物,并且所述光产碱剂(A)通过活性光线的照射产生碱,
在通式(1)或通式(2)中,Ar表示具有至少1个苯骨架、且可以被选自卤素原子、碳原子数为1~20的烷氧基、硝基、羧基、羟基、巯基、碳原子数为1~20的烷硫基、碳原子数为1~20的烷基硅基、碳原子数为1~20的酰基、氨基、氰基、碳原子数为1~20的烷基、苯基、萘基、苯氧基及苯硫基中的基团取代的芳香族烃基或杂环基;R1和R2各自独立地表示氢原子、碳原子数为1~20的烷基或可以被选自卤素原子、碳原子数为1~20的烷氧基、硝基、羧基、羟基、巯基、碳原子数为1~20的烷硫基、碳原子数为1~20的烷基硅基、碳原子数为1~20的酰基、氨基、氰基、碳原子数为1~20的烷基、苯基、萘基、苯氧基及苯硫基中的基团取代的苯基,R1和R2可以彼此结合形成环结构;m为2~4的整数;R3~R5各自独立地表示可以被选自卤素原子、碳原子数为1~20的烷氧基、硝基、羟基、巯基、碳原子数为1~20的烷硫基、碳原子数为1~20的烷基硅基、碳原子数为1~20的酰基、氨基、氰基、苯氧基及苯硫基中的基团取代的碳原子数为1~20的烷基、苯基或萘基,R3~R5可以彼此结合形成环结构;X-表示阴离子。
2.如权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,通式(1)或通式(2)中的Ar具有1~4个苯环骨架。
3.如权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其中,通式(1)或通式(2)中的Ar是从由通式(3)表示的化合物除去R6~R15中任一个后的1价残基、从由通式(4)表示的化合物除去R16~R23中的任一个后的1价残基或从由通式(5)表示的化合物除去R24~R33中的任一个后的1价残基,
在通式(3)中,取代基R6~R15为选自氢原子、卤素原子、碳原子数为1~20的烷氧基、硝基、羧基、羟基、巯基、碳原子数为1~20的硅烷基、碳原子数为1~20的酰基、氨基、氰基、碳原子数为1~20的烷基、苯基及萘基中的基团,
在通式(4)中,取代基R16~R23为选自氢原子、卤素原子、碳原子数为1~20的烷氧基、硝基、羧基、羟基、巯基、碳原子数为1~20的硅烷基、碳原子数为1~20的酰基、氨基、氰基、碳原子数为1~20的烷基、苯基及萘基中的基团,
在通式(5)中,取代基R24~R33为选自氢原子、卤素原子、碳原子数为1~20的烷氧基、硝基、羧基、羟基、巯基、碳原子数为1~20的硅烷基、碳原子数为1~20的酰基、氨基、氰基、碳原子数为1~20的烷基、苯基及萘基中的基团。
4.如权利要求1~3任一项所述的感光性树脂组合物,其中,在通式(1)中,m为2或4。
5.如权利要求1~4任一项所述的感光性树脂组合物,其中,所述热自由基引发剂(B)是有机过氧化物和/或偶氮化合物。
6.如权利要求1~5任一项所述的感光性树脂组合物,其中,所述自由基聚合性物质(C)是N-乙烯基化合物、单官能(甲基)丙烯酸酯单体、多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物或马来酰亚胺化合物。
7.如权利要求1~6任一项所述的感光性树脂组合物,其中,所述感光性树脂组合物还含有添加剂(D),该添加剂(D)为选自无机微粒、颜料、分散剂、消泡剂、整平剂、粘着性赋予剂、触变性赋予剂、滑爽剂、阻燃剂、抗静电剂、抗氧化剂及紫外线吸收剂中的至少1种。
8.如权利要求1~7任一项所述的感光性树脂组合物,该感光性树脂组合物用作涂料、印刷油墨、涂布剂、模塑材料、抗蚀剂材料、纳米压印材料、粘合剂、密封剂、光学部件用成型材料或建筑材料用成型材料。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009034893 | 2009-02-18 | ||
JP2009-034893 | 2009-02-18 | ||
PCT/JP2010/000759 WO2010095390A1 (ja) | 2009-02-18 | 2010-02-09 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102307909A true CN102307909A (zh) | 2012-01-04 |
CN102307909B CN102307909B (zh) | 2014-05-07 |
Family
ID=42633680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201080007012.7A Expired - Fee Related CN102307909B (zh) | 2009-02-18 | 2010-02-09 | 感光性树脂组合物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5662929B2 (zh) |
KR (1) | KR101631346B1 (zh) |
CN (1) | CN102307909B (zh) |
WO (1) | WO2010095390A1 (zh) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104254581B (zh) * | 2012-04-03 | 2016-12-14 | 3M创新有限公司 | 包含光产碱剂的可交联组合物 |
CN106883210A (zh) * | 2017-02-03 | 2017-06-23 | 江南大学 | 一种碳负离子型光产碱剂及其制备方法 |
CN112940019A (zh) * | 2019-11-26 | 2021-06-11 | 中蓝晨光化工研究设计院有限公司 | 一种四苯基硼酸盐的制备方法 |
CN114105943A (zh) * | 2020-09-01 | 2022-03-01 | 深圳有为技术控股集团有限公司 | 3-位取代硫杂蒽酮化合物及其制备方法和光聚合体系应用 |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010143560A1 (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | 三洋化成工業株式会社 | 感光性組成物 |
JP2012168526A (ja) * | 2011-01-26 | 2012-09-06 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
US20140045966A1 (en) * | 2011-03-07 | 2014-02-13 | Shihei Motofuji | Photosensitive composition. cured article, and method for producing actinically cured article |
JP5938989B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2016-06-22 | Jsr株式会社 | 多層レジストプロセス用無機膜形成組成物及びパターン形成方法 |
JP2012216627A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Jsr Corp | ナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物及びパターン形成方法 |
JP5757421B2 (ja) * | 2011-09-02 | 2015-07-29 | スリーボンドファインケミカル株式会社 | 光硬化性組成物 |
JP5989469B2 (ja) * | 2011-09-06 | 2016-09-07 | 三洋化成工業株式会社 | 感光性組成物 |
JP5780919B2 (ja) * | 2011-10-26 | 2015-09-16 | サンアプロ株式会社 | 塩基発生剤 |
EP2980180A4 (en) * | 2013-03-28 | 2016-09-14 | San Apro Ltd | PHOTO BASE GENERATOR |
KR102305831B1 (ko) | 2013-07-18 | 2021-09-27 | 세메다인 가부시키 가이샤 | 광경화성 조성물, 경화물 및 그의 제조 방법, 그리고 관련 제품 및 그의 제조 방법 |
US9718999B2 (en) | 2013-12-13 | 2017-08-01 | Cemedine Co., Ltd | Photocurable composition having adhesive properties |
EP3098226B1 (en) | 2014-01-24 | 2018-12-12 | FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation | Borate-based base generator, and base-reactive composition comprising such base generator |
JP6500458B2 (ja) * | 2015-01-29 | 2019-04-17 | 三菱ケミカル株式会社 | 感光性樹脂組成物、それで構成される硬化部材、及びそれを備えた画像表示装置 |
JP6822401B2 (ja) | 2015-07-24 | 2021-01-27 | 富士フイルム和光純薬株式会社 | 化合物、耐酸性を有する塩基または/およびラジカル発生剤、ならびに該塩基または/およびラジカル発生剤を含有する硬化性樹脂組成物 |
JP2017066370A (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 株式会社Adeka | 組成物 |
CN112004837B (zh) * | 2018-04-23 | 2022-12-30 | 株式会社可乐丽 | 聚合物以及使用了该聚合物的氧吸收剂和树脂组合物 |
KR102560728B1 (ko) * | 2018-11-14 | 2023-07-27 | 주식회사 엘지화학 | 임프린팅용 조성물 및 이를 이용한 광학 기재의 제조 방법 |
CN113355948A (zh) * | 2021-06-24 | 2021-09-07 | 广东壮丽彩印股份有限公司 | 一种超疏水纸及其制备方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005275258A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ホログラム記録材料、ホログラム記録方法及び光記録媒体 |
JP2007045900A (ja) * | 2005-08-09 | 2007-02-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 回路接続材料並びに回路端子の接続構造体及び接続方法 |
JP2009244745A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びネガ型パターン形成方法 |
JP2009265294A (ja) * | 2008-04-24 | 2009-11-12 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08211604A (ja) * | 1995-02-02 | 1996-08-20 | Konica Corp | 感光性組成物、感光性平版印刷版及びその現像方法 |
JP2000169821A (ja) | 1998-09-30 | 2000-06-20 | Three Bond Co Ltd | 紫外線硬化性異方導電接着剤 |
JP4201778B2 (ja) * | 2005-03-24 | 2008-12-24 | 株式会社ノリタケスーパーアブレーシブ | ワイヤソー |
EP1975710B1 (en) | 2007-03-30 | 2013-10-23 | FUJIFILM Corporation | Plate-making method of lithographic printing plate precursor |
-
2010
- 2010-02-09 KR KR1020117021544A patent/KR101631346B1/ko active IP Right Grant
- 2010-02-09 WO PCT/JP2010/000759 patent/WO2010095390A1/ja active Application Filing
- 2010-02-09 JP JP2011500489A patent/JP5662929B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-02-09 CN CN201080007012.7A patent/CN102307909B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005275258A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ホログラム記録材料、ホログラム記録方法及び光記録媒体 |
JP2007045900A (ja) * | 2005-08-09 | 2007-02-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 回路接続材料並びに回路端子の接続構造体及び接続方法 |
JP2009244745A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びネガ型パターン形成方法 |
JP2009265294A (ja) * | 2008-04-24 | 2009-11-12 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104254581B (zh) * | 2012-04-03 | 2016-12-14 | 3M创新有限公司 | 包含光产碱剂的可交联组合物 |
CN106883210A (zh) * | 2017-02-03 | 2017-06-23 | 江南大学 | 一种碳负离子型光产碱剂及其制备方法 |
CN112940019A (zh) * | 2019-11-26 | 2021-06-11 | 中蓝晨光化工研究设计院有限公司 | 一种四苯基硼酸盐的制备方法 |
CN114105943A (zh) * | 2020-09-01 | 2022-03-01 | 深圳有为技术控股集团有限公司 | 3-位取代硫杂蒽酮化合物及其制备方法和光聚合体系应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2010095390A1 (ja) | 2012-08-23 |
JP5662929B2 (ja) | 2015-02-04 |
KR101631346B1 (ko) | 2016-06-16 |
CN102307909B (zh) | 2014-05-07 |
WO2010095390A1 (ja) | 2010-08-26 |
KR20110116232A (ko) | 2011-10-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102307909B (zh) | 感光性树脂组合物 | |
JP6833171B2 (ja) | フルオレン類光開始剤、その製造方法、それを有する光硬化性組成物、及び光硬化分野におけるフルオレン類光開始剤の使用 | |
JP5367572B2 (ja) | 芳香族スルホニウム塩化合物 | |
TW452575B (en) | New Α-aminoacetophenone photoinitiators and photopolymerizable compositions comprising these photoinitiators | |
CA2452566C (en) | Sulfonium salts, methods for their preparation and use thereof as photoinitiators for radiation curable systems | |
KR20120031055A (ko) | 감광성 조성물 | |
JP6924754B2 (ja) | スルホニウム塩、光酸発生剤、光硬化性組成物、及びその硬化体 | |
Wang et al. | Remarkable versatility of silane/iodonium salt as redox free radical, cationic, and photopolymerization initiators | |
CN108957952A (zh) | 固化性组合物、固化膜、显示面板、及固化物的制造方法 | |
JP6124013B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
JP5448157B2 (ja) | 芳香族スルホニウム塩化合物 | |
CN109134712B (zh) | 芴类多官能度光引发剂、其制备方法及其应用 | |
Czech et al. | Application of selected 2-methylbenzothiazoles AS cationic photoreactive crosslinkers for pressure-sensitive adhesives based on acrylics | |
CN102834431A (zh) | 自由基聚合性树脂、自由基聚合性树脂组合物、及其固化物 | |
CN102471253B (zh) | 固化性组合物、连接结构体及含有巯基的(甲基)丙烯酸酯化合物 | |
JP2017214547A (ja) | 活性エネルギー線重合開始剤、活性エネルギー線硬化性組成物、硬化物及びベンゾインチオエーテル化合物 | |
Dong et al. | Efficient Benzodioxole‐based unimolecular photoinitiators: From synthesis to photopolymerization under UV‐A and visible LED light irradiation | |
JP2023024144A (ja) | 硬化性組成物、硬化物、硬化膜、表示パネル、及び硬化物の製造方法 | |
JP6247875B2 (ja) | スルホニウム塩型カチオン発生剤及びそれを含むカチオン重合性組成物 | |
JP2021006517A (ja) | 化合物 | |
TW202212337A (zh) | 組合物、硬化物及硬化物之製造方法 | |
JP4463648B2 (ja) | 光ラジカル発生剤、感光性樹脂組成物及び、物品 | |
TWI638012B (zh) | Polyoxyalkylene copolymer and antistatic agent containing the above polyoxyalkylene copolymer | |
TWI837310B (zh) | 化合物 | |
CN101624406A (zh) | 含n-烷基取代咔唑配体的茂铁盐光引发剂及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20140507 Termination date: 20210209 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |