CN101978780A - 有机电致发光元件 - Google Patents
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Abstract
一种有机电致发光元件,其是依次层叠功能层、透明的第一电极、发光层及第二电极而构成的,在所述功能层的与所述第一电极相反侧的表面形成高度为0.5μm~100μm的多个凹凸部,所述第一电极的折射率n1、所述功能层的折射率n2满足下式(1)。0.3≥n1-n2≥0式(1)。
Description
技术领域
本发明涉及有机电致发光元件、照明装置、显示装置及其制造方法。
背景技术
有机电致发光(Electro Luminescence:简称EL)元件包括含有有机物的发光层和夹持该发光层的一对电极而构成。对有机EL元件施加电压时,从阴极注入电子,同时从阳极注入空穴,上述电子与空穴在发光层结合而发光。从发光层发出的光从一对电极中的至少一个电极取出。因此,光取出侧的电极使用透明电极。透明电极例如由氧化铟锡(ITO:Indium TinOxide)等金属氧化物构成。通常,用于透明电极的金属氧化物的折射率比设置有有机EL元件的基板的折射率高,所以在透明电极与基板的界面产生全反射。由发光层发出的大部分光因上述反射等而不能被取出到有机EL元件外,光取出效率并不高。为此,提出了具有抑制上述反射的构造的有机EL元件。例如,有使用了设置有显示聚光性的聚光层的玻璃基板的有机EL元件(例如参考日本专利公开2003-86353号公报)。该聚光层包括微透镜等聚光性构造物与覆盖聚光性构造物的透明性树脂。透明性树脂使用折射率比聚光性构造物高的树脂。通过将上述聚光层设置于玻璃基板来抑制在玻璃基板表面产生的全反射,从而获得光取出效率的提高。
发明内容
即使将上述聚光层设置于玻璃基板,也在聚光层与玻璃基板的界面产生全反射,所以来自有机EL元件的光取出效率并不够高,谋求光取出效率更高的有机EL元件。
本发明的目的在于提供光取出效率高的有机EL元件、照明装置、显示装置及其制造方法。
本发明是一种有机电致发光元件,其是依次层叠功能层、透明的第一电极、发光层与第二电极而构成的,
在功能层的与所述第一电极相反一侧的的表面形成有高度为0.5μm~100μm的多个凹凸部,
所述第一电极的折射率n1、所述功能层的折射率n2满足下式(1)。
0.3≥n1-n2≥0…式(1)
另外,本发明是一种有机电致发光元件,其还包括相接地设置于所述功能层的与所述第一电极相反一侧的表面的低折射率层而构成,
所述第一电极的折射率n1、所述功能层的折射率n2及所述低折射率层的折射率n3满足下式(2)。
n1≥n2>n3…(2)
另外,本发明是一种有机电致发光元件,其中,所述功能层的所述第一电极侧的表面中心线平均粗糙度Ra为10nm以下。
另外,本发明是一种有机电致发光元件,其中,所述凹凸部的配置间隔为0.5μm~100μm。
另外,本发明是一种有机电致发光元件,其中,所述各凹凸部的表面形状为凹面或凸面。
另外,本发明是一种有机电致发光元件,其中,所述凹面或凸面是半球面。
另外,本发明是一种有机电致发光元件,其中,所述各凹凸的表面形状分别由多个平面构成。
另外,本发明是一种有机电致发光元件,其中,所述各凹凸部的形状是彼此不规则的。
另外,本发明是具有所述有机电致发光元件的照明装置。
另外,本发明是具有多个所述有机电致发光元件的显示装置。
另外,本发明是一种有机电致发光元件的制造方法,其中,所述有机电致发光元件是依次层叠低折射率层、功能层、透明的第一电极、发光层与第二电极而构成的,所述第一电极的折射率n1、所述功能层的折射率n2及所述低折射率层的折射率n3满足下式(3),
所述方法包括下述工序:
在表面形成高度为0.5μm~100μm的多个凹凸部,形成低折射率层的工序;
在所述低折射率层的形成所述多个凹凸部的表面涂布含有形成功能层的材料的涂布液,形成功能层的工序;
形成第一电极的工序;
形成发光层的工序;
形成第二电极的工序。
另外,本发明涉及一种有机电致发光元件的制造方法,其中,在所述形成低折射率层的工序中,利用刻印法形成多个凹凸部。
另外,本发明是一种有机电致发光元件的制造方法,其中,在所述形成低折射率层的工序中,利用光刻法选择性地除去所述低折射板的表面部,形成多个凹凸部。
另外,本发明是一种有机电致发光元件的制造方法,其中,在所述形成低折射率层的工序中,利用干蚀刻选择性地除去所述低折射板的表面部,形成凹凸部。
附图说明
图1是简略地表示本发明的一个实施方案的有机EL元件1的图。
图2是简略地表示本发明的其他实施方案的有机EL元件11的图。
图3是简略地表示本发明的又一其他实施方案的有机EL元件21的图。
符号说明
1,11,21有机EL元件
2,22低折射率层
3,13功能层
4,14第一电极
5,15发光层
6,16第二电极
7,17空穴注入层
具体实施方式
图1是简略地表示本发明的一个实施方案的有机电致发光元件(以下有时称为有机EL元件)1的图。有机EL元件1是至少依次层叠低折射率层2、功能层3、透明的第一电极4、发光层5及第二电极6而构成的。在所述功能层3的与第一电极相反侧的表面形成高度为0.5μm~100μm的多个凹凸部。另外,所述第一电极的折射率n1、所述功能层的折射率n2满足下式(1)。
0.3≥n1-n2≥0…式(1)
进而,所述第一电极的折射率n1、所述功能层的折射率n2及所述低折射率层的折射率n3满足下式(2)。
n1≥n2>n3…(2)
在第一电极4与第二电极6之间,不限于设置一层发光层5,也可以设置多个发光层及/或与发光层不同的多个层。本实施方案的有机EL元件1在第一电极4与发光层5之间设置有空穴注入层7。低折射率层2相接地设置在所述功能层3的与第一电极4相反一侧的表面。本实施方案中,低折射率层2与功能层3的层叠体作为基板8发挥功能。本实施方案的有机EL元件1是基板8、第一电极4、空穴注入层7、发光层5、第二电极6依次相接地层叠而构成的。需要说明的是,本实施方案中,基板8与第一电极4相接,但也可以在基板8与第一电极4之间设置例如薄绝缘层或屏障层等。
本实施方案的第一电极4显示透光性,且作为阳极发挥功能,第二电极6反射可见光,且作为阴极发挥功能。基板8显示透光性。因此,从发光层5向第一电极4发射的光通过第一电极4及基板8向外取出。从发光层5向第二电极6发射的光被第二电极6反射,通过第一电极4及基板8向外取出。即,本实施方案的有机EL元件1是从基板8取出光的底部发光型元件。
作为变形例,可以构成以第一电极为阴极、以第二电极为阳极的底部发光型的有机EL元件,也可以构成第二电极使用显示透光性的电极,从第二电极侧取出光的两面发光的有机EL元件。
如式(1)所示,由于功能层3与第一电极4的折射率之差较小,所以可以降低在功能层3与第一电极4的界面的反射率,同时可以抑制全反射。由此,可以有效地从第一电极4向功能层3传播光。
功能层3的表面形成有高度为0.5μm~100μm的多个凹凸部,所以在功能层3与低折射率层2的界面,光发生散射或折射或者聚光。由此,可以抑制在功能层3与低折射率层2的界面的反射,使从第一电极4向功能层3入射的光有效地入射到低折射率层2。各凹凸部的高度优选为0.7μm~50μm,较优选为1μm~30μm。需要说明的是,所谓高度,是垂直于功能层3的第一电极4侧的表面方向上的各凹凸部的高度。
此处所说的凹凸高度,是指平均高度,可以用触针式的凹凸测定装置等进行测定。
如式(2)所示,低折射率层2的折射率比第一电极4及功能层3低,特别是比功能层3更接近于空气的折射率,所以可以抑制在与空气的界面上产生的全反射,并可以有效地将入射到低折射率层2的光取出到外面。进而,在低折射率层2与空气的界面形成高度为0.5μm~100μm的多个凹凸部,由此可以更有效地将入射到低折射率层2的光取出到外面。
如以上所说明,通过使发光层5发出的光依次传播到第一电极4、功能层3、低折射率层2、空气,可以提高光的取出效率。
现有技术中,由于将聚光性构造物设置于玻璃基板,所以一部分光在聚光层与玻璃基板的界面发生反射,但本实施方案的有机EL元件1中,将与现有技术的聚光性构造物相对应的构造制作于低折射率层2,并使用将现有技术中的聚光性构造物与玻璃基板一体形成的低折射率层2,由此消除现有技术产生的在聚光层与玻璃基板的界面的反射,提高光的取出效率。
功能层3的第一电极4侧表面的凹凸影响层叠于该功能层3表面的第一电极4的平坦性。第一电极4的平坦性低时,有可能因第一电极4的突起而产生短路。因此,第一电极4的中心线平均粗糙度Ra优选较小,为了形成上述第一电极4,所述功能层3的所述第一电极4侧的表面中心线平均粗糙度Ra优选较小。功能层3的第一电极4侧的表面中心线平均粗糙度Ra优选为100nm以下,较优选为50nm以下,更优选为10nm以下,进一步优选为3nm以下。
各凹凸部的配置间隔例如为0.4μm~200μm,优选为0.5μm~100μm,更优选为0.8μm~50μm。通过以上述间隔分别配置凹凸部,从而使散射、折射、聚光的效果增大,可以实现光取出效率的提高。
各凹凸部的表面形状为凹面或凸面。由此,功能层3作为多个微透镜发挥功能。功能层3的低折射率层2侧的表面形成向第一电极4侧凹陷的多个凹面时,对于发光层5而言,功能层3作为多个凹镜发挥功能。功能层3的低折射率层2侧的表面形成向低折射率层2侧突出的多个凸面时(参见图1),对于发光层5而言,功能层3作为多个凸镜发挥功能。如上所述,由于各凹凸部作为透镜发挥功能,所以散射、折射、聚光的效果增大,可以获得光取出效率的提高。
所述凹面或凸面优选为半球面。通过具有上次半球面的凹面或凸面,散射、折射、聚光的效果增大,可以提高光取出效率。
作为变形例,各凹凸部的表面可以分别由多个平面构成。例如,各凹凸部的表面由不包括多角锥的底面的多个平面构成。
作为变形例,所述各凹凸部的形状可以为彼此规则的,也可以为不规则的,优选为彼此不规则的。例如,如果各凹凸部是彼此具有规则性的形状,则被取出的光的特性显示波长依赖性,但通过将各凹凸部的形状设定为彼此不规则,可以减小对取出的光特性的波长依赖性。例如,在基板上形成多个有机EL元件,各有机EL元件以规定的光谱发光时,可以对应主要透过各凹凸部的光的光谱,将各凹凸部设定为规定的形状,以降低主要透过的光的反射。例如,可以使红色的光主要透过的各凹凸部与蓝色的光主要透过的各凹凸部的形状彼此不同。
然后,详细说明有机EL元件1的制造方法及构成的详细情况。本实施方案的有机EL元件1的制造方法是下述有机电致发光元件的制造方法,所述电致发光元件是至少依次层叠低折射率层、功能层、透明的第一电极、发光层及第二电极而构成的,所述第一电极的折射率n1、所述功能层的折射率n2及所述低折射率层的折射率n3满足下式(3),
所述方法包括下述工序:在表面形成高度为0.5μm~100μm的多个凹凸部,形成低折射率层的工序;在所述低折射率层的形成有所述多个凹凸部的表面涂布含有形成功能层的材料的涂布液,形成功能层的工序;形成第一电极的工序;形成发光层的工序;以及形成第二电极的工序。需要说明的是,本实施方案的有机EL元件的制造方法还包括在第一电极与发光层之间形成空穴注入层的工序。
<低折射率层>
低折射率层优选使用可见光区域的光透过率高、且在形成有机EL元件的工序中不发生变化的折射率层,可以为刚性板,也可以为挠性板,例如优选使用玻璃板、塑料板、高分子薄膜及硅板、以及层叠它们得到的层叠板等。作为构成塑料板或高分子薄膜的树脂,优选用下述的涂布法形成例如发光层5及空穴注入层7等的膜时不溶解于所使用的涂布液的树脂。具体而言,可以举出低密度或高密度的聚乙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-丁烯共聚物、乙烯-己烯共聚物、乙烯-辛烯共聚物、乙烯-降冰片烯共聚物、乙烯-DMON共聚物(DMON是二亚甲基八氢萘的简称。)、聚丙烯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物、离子键树脂等聚烯烃系树脂;聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂;尼龙-6、尼龙-6,6、间二甲苯二胺-己二酸缩聚物;聚甲基甲基丙烯酰亚胺等酰胺系树脂;聚丙烯酸甲酯等丙烯酸系树脂;聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-丙烯腈-丁二烯共聚物、聚丙烯腈等苯乙烯-丙烯腈系树脂;三醋酸纤维素、二醋酸纤维素等疏水化纤维素系树脂;聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚偏氟乙烯、聚四氟乙烯等含卤树脂;聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物、纤维素衍生物等氢键性树脂;聚碳酸酯树脂、聚砜树脂、聚醚砜树脂、聚醚醚酮树脂、聚苯醚树脂、聚氧化甲烯树脂(polymethylene oxide resin)、聚芳酯树脂、液晶树脂等工程塑料系树脂等。
低折射率层要求在有机EL元件的制作工艺中的耐热性,所以上述树脂中优选玻璃化温度Tg为150℃以上的树脂,较优选180℃以上的树脂,更优选200℃以上的树脂。
低折射率层可以含有难以通过有机EL元件的气氛中所含的氧及水蒸气等的隔绝性高的部件。例如优选使用包括金属、金属氧化物、金属氮化物、金属碳化物及金属氧氮化物等无机物的无机层、所述无机层与有机层的层叠体、或无机-有机混合层等。作为无机层,优选为薄膜层且在空气中稳定的无机层,具体而言,可以举出二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化铟、氧化锡、氧化钛、氧化锌、铟锡氧化物(ITO)、氮化铝、氮化硅、碳化硅、氧氮化硅及它们的组合的薄膜层。较优选包括氮化铝、氮化硅、氧氮化硅的薄膜层,更优选为氧氮化硅的薄膜层。
低折射率层只要满足式(2),就可以根据功能层3及第一电极4的折射率从列举的物质中适当选择。低折射率层由多个部件构成时的低折射率层的折射率是低折射率层整体的折射率的值。
低折射率层的折射率n3由构成低折射率层的部件确定,例如,在玻璃的情况下为约1.5,在聚碳酸酯的情况下为1.58,在聚对苯二甲酸乙二醇酯的情况下为1.49,在聚醚砜的情况下为1.65,在聚萘二甲酸乙二醇酯的情况下为1.50。
作为形成多个凹凸部的方法,可以举出刻印法(压花加工法)、光刻法、干蚀刻法、用具有凹凸的构件削去表面的方法、利用自身组织化形成凹凸构造的方法等。从高精度地形成符合设计的凹凸构造的观点来看,优选使用刻印法(压花加工法)、光刻法及干蚀刻法。
例如刻印法中,通过使表面形成有多个凹凸的模具挤压于膜,可以将模具的表面形状转印到低折射率层。光刻法中,例如涂布光固性树脂,然后选择性地对涂布后的膜照射光,进而进行显影,由此选择性地除去涂布后的膜的表面部,从而可以得到表面形成有多个凹凸的低折射率层。例如,于玻璃基板涂布光致抗蚀剂,选择性地除去涂布后的膜,在玻璃基板的表面上形成形成有多个孔的掩模,进而利用干蚀刻或湿蚀刻选择性地除去玻璃基板的表面,由此可以得到形成有多个凹凸的玻璃基板、即低折射率层。干蚀刻法中,通过削去玻璃基板及树脂膜等的表面,可以得到低折射率层。
<功能层>
作为功能层,优选使用可见光区域的光透过率高且在形成有机EL元件的工序中不变化的功能层,可以为刚性,也可以为挠性。功能层由例如无机聚合物及无机-有机混合材料等构成。无机-有机混合材料中也可以含有以分子水平混合了无机与有机的化合物、及在有机物中分散无机物的混合物等。由于与透明电极的折射率差较小者能抑制全反射,所以功能层的折射率优选1.75以上。
从制造工序的简单性考虑,优选涂布含有形成功能层的材料的涂布液来形成功能层。在表面形成有高度为0.5μm~100μm的多个凹凸部的低折射率层涂布涂布液时,在低折射率层的凹凸填充涂布液,进而将其固化时,可以容易地得到形成有高度为0.5μm~100μm的多个凹凸部的功能层。如上所述,通过使用涂布法,可以平坦地形成第一电极4侧的功能层3的表面。涂布液可以为溶液,也可以为分散液,是根据需要添加有机溶剂、表面活性剂、密接增强剂、交联剂、增感剂、感光剂了的液状的组合物,作为其例,可以举出在硅系无机聚合物、含有芳香族的单体热塑性树脂中分散了高折射率纳米粒子的组合物;在光固性单体中分散了高折射率纳米粒子的组合物;在热固性单体中分散了高折射率纳米粒子的组合物等。在低折射率层涂布含有形成功能层的材料的涂布液的涂布膜可以通过实施光照射、加热、干燥、加压等处理来使其固化。
功能层可以含有难以通过有机EL元件的气氛所含的氧及水蒸气等的隔绝性高的部件。作为隔绝性高的部件,可以举出例如包括金属、金属氧化物、金属氮化物、金属碳化物及金属氧氮化物等无机物的无机层、所述无机层与有机层的层叠体、或无机-有机混合层等。作为无机层,优选为薄膜层且在空气中稳定的无机层,作为其例,可以举出二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化铟、氧化锡、氧化钛、氧化锌、铟锡氧化物、氮化铝、氮化硅、碳化硅、氧氮化硅及它们的组合的薄膜层。较优选为包括氮化铝、氮化硅、氧氮化硅的薄膜层,更优选为氧氮化硅的薄膜层。需要说明的是,功能层只要满足式(1)及式(2),就可以根据低折射率层2及第一电极4的折射率从列举的物质中适当选择。功能层的折射率优选满足式(1)及式(2)的关系,且为1.75以上。功能层由多个部件构成时的功能层的折射率是功能层整体的折射率的值。
功能层的折射率n2根据构成功能层的部件确定,例如在硅系无机聚合物的情况下,为1.75~2.0,在聚合物中分散了TiO2的混合物的情况下,为1.8~2.0。
<第一电极>
本实施方案的第一电极4由显示透光性及导电性的薄膜来实现,例如由金属氧化物膜及金属薄膜等构成,作为其例,可以举出氧化铟、氧化锌、氧化锡、铟锡氧化物(Indium Oxide:简称ITO)、铟锌氧化物(Indium Zinc Oxide:简称IZO)、金、铂、银、铜等的薄膜,优选ITO、IZO、氧化锡等的薄膜。作为第一电极4,可以使用聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物等的有机透明导电膜。第一电极4的厚度可以考虑光透过性与导电性适当设定,通常为10nm~10μm左右,优选为20nm~1μm,更优选为50nm~500nm。
作为第一电极的形成方法,可以举出真空蒸镀法、溅射法、离子镀法、镀敷法等。
第一电极的折射率n1由构成第一电极的部件确定,例如在ITO的情况下为2.0,在IZO的情况下为1.9~2.0,在聚噻吩或其衍生物等的有机透明导电膜的情况下为约1.7。
<空穴注入层>
作为构成空穴注入层的空穴注入材料,可以举出苯基胺系化合物、星射型(starburst)胺系化合物、酞菁系化合物、氧化钒、氧化钼、氧化钌、氧化铝等氧化物、无定形碳、聚苯胺、聚噻吩衍生物等。
空穴注入层可以如下成膜,例如将含有形成空穴注入层的材料的涂布液涂布于第一电极4上。作为涂布涂布液的方法,可以举出旋涂法、浇铸法、微凹版涂布法、凹版涂布法、棒涂法、辊涂法、线棒涂布法、浸渍涂布法、喷涂法、丝网印刷法、苯胺印刷法、胶版印刷法、喷墨打印法等。
<发光层>
发光层含有发出荧光及/或磷光的有机物而构成,或含有该有机物与掺杂剂而构成。掺杂剂例如以提高发光效率或改变发光波长等目的而添加。用于发光层的有机物可以为低分子化合物或高分子化合物的任一种。作为构成发光层的发光材料,例如可以举出以下的材料。
作为色素系的发光材料,例如可以举出环戊胺衍生物、四苯基丁二烯衍生物化合物、三苯基胺衍生物、噁二唑衍生物、吡唑并喹啉衍生物、二苯乙烯基苯衍生物、二苯乙烯基亚芳基衍生物、吡咯衍生物、噻吩环化合物、吡啶环化合物、紫环酮衍生物、苝衍生物、低聚噻吩衍生物、噁二唑二聚物、吡唑啉二聚物。
作为金属络合物系的发光材料,可以举出中心金属具有Ir、Pt、Al、Zn、Be等、或Tb、Eu、Dy等稀土类金属,配位基具有噁二唑、噻二唑、苯基吡啶、苯基苯并咪唑、喹啉构造等的金属络合物,例如可以举出铱络合物、铂络合物等具有来自三重态激发状态的发光的金属络合物、羟基喹啉铝(alumiquinolinol)络合物、苯并羟基喹啉铍(benzoquinolinolberyllium)络合物、苯并噁唑锌络合物、苯并噻唑锌络合物、偶氮甲基锌络合物、卟啉锌络合物、铕络合物等。
作为高分子系发光材料,可以举出聚对苯乙烯衍生物、聚噻吩衍生物、聚对苯衍生物、聚硅烷衍生物、聚乙炔衍生物、聚芴衍生物及聚乙烯基咔唑衍生物等、以及将上述色素系发光材料或金属络合物系发光材料高分子化而成的材料等。
上述发光材料中,作为发出蓝色光的材料,可以举出二苯乙烯基亚芳基衍生物、噁二唑衍生物及它们的聚合物、聚乙烯基咔唑衍生物、聚对苯衍生物、聚芴衍生物等。其中,优选高分子材料的聚乙烯基咔唑衍生物、聚对苯衍生物或聚芴衍生物等。
作为发光为绿色的材料,可以举出喹吖酮衍生物、香豆素衍生物及它们的聚合物、聚对苯乙烯衍生物、聚芴衍生物等。其中,优选高分子材料的聚对苯乙烯衍生物、聚芴衍生物等。
作为发光为红色的材料,可以举出香豆素衍生物、噻吩环化合物及它们的聚合物、聚对苯乙烯衍生物、聚噻吩衍生物、聚芴衍生物等。其中,优选高分子材料的聚对苯乙烯衍生物、聚噻吩衍生物、聚芴衍生物等。
作为发光为白色的材料,可以混合上述发光为蓝色、绿色、红色的材料进行使用。可以将1分子内具有上述分别发光为蓝色、绿色、红色的多种材料的各成分的材料用作发光为白色的材料,例如可以将聚合作为单体的各色的材料成分得到的聚合物用作发光为白色的材料进行使用。通过层叠以彼此不同的发光颜色发光的多个层,可以实现发出白色光的元件。
作为掺杂材料,例如可以举出苝衍生物、香豆素衍生物、红荧烯衍生物、喹吖酮衍生物、方酸(squarylium)衍生物、卟啉衍生物、苯乙烯系色素、丁省衍生物、吡唑啉酮衍生物、十环烯、吩噁嗪酮等。需要说明的是,上述发光层的厚度通常为约2nm~2000nm。
作为含有有机物的发光层的成膜方法,可以举出在空穴注入层7涂布含有发光材料的涂布液的方法、真空蒸镀法、转印法等。作为含有发光材料的涂布液的溶剂,可以为溶解发光材料的液体,例如可以举出氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷等氯系溶剂;四氢呋喃等醚系溶剂;甲苯、二甲苯等芳香族烃系溶剂;丙酮、甲乙酮等酮系溶剂;乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙基溶纤剂乙酸酯等酯系溶剂。
作为涂布含有发光材料的涂布液的方法,可以举出旋涂法、浇铸法、微凹版涂布法、凹版涂布法、棒涂法、辊涂法、线棒涂法、浸渍涂布法、狭缝涂布法、毛细管涂布法、喷涂法、喷嘴涂布法等涂布法、毛细管涂布法、丝网印刷法、苯胺印刷法、胶版印刷法、反转印刷法、喷墨打印法等涂布法。从容易形成图案或分别涂布多种颜色的观点来看,优选凹版印刷法、丝网印刷法、苯胺印刷法、胶版印刷法、反转印刷法、喷墨打印法等涂布法。另外,当为升华性低分子化合物时,可以使用真空蒸镀法。进而,利用用激光进行的转印或热转印等方法,也可以在所希望之处形成发光层。
<第二电极>
第二电极6在本实施方案中作为阴极发挥功能,作为上述第二电极的材料,优选功函数小、容易向发光层注入电子的材料,还优选导电度高的材料。具体而言,可以使用碱金属、碱土金属、过渡金属及III-B族金属等金属,更具体而言,可以使用锂、钠、钾、铷、铯、铍、镁、钙、锶、钡、铝、钪、钒、锌、钇、铟、铈、钐、铕、铽、镱等金属,或上述金属中2种以上的合金、或上述金属中的一种以上与金、银、铂、铜、锰、钛、钴、镍、钨、锡中的1种以上的合金、或石墨或石墨层间化合物等。作为合金的例子,可以举出镁-银合金、镁-铟合金、镁-铝合金、铟-银合金、锂-铝合金、锂-镁合金、锂-铟合金、钙-铝合金等。从第二电极取出光时,第二电极必须是透明的,上述透明的第二电极由层叠由上述材料形成的薄膜与包括导电性金属氧化物或导电性有机物等的薄膜得到的层叠体构成。
作为以上说明的实施方案中的低折射率层2、功能层3、第一电极4的组合,优选玻璃基板、无机聚合物及ITO,更优选树脂、无机聚合物、ITO。
本实施方案的有机EL元件1在第一电极4与第二电极6之间配置空穴注入层7与发光层5,但有机EL元件1的构成不现定于图1所示的构成。以下说明有机EL元件的第一电极与第二电极之间的元件构成的一例。需要说明的是,第一电极如果透明,则可以为阳极及阴极的任一个,所以在以下的说明中,不特定第一电极及第二电极的极性来说明元件构成之一例。另外,用树脂等的例如膜形成低折射率层2时,可以在玻璃等基板上设置低折射率层。
如上所述,在阳极与阴极之间可以设置至少一层发光层,在阳极与阴极之间可以设置多个发光层、及/或与发光层不同的一层或多层。
作为设置于阴极与发光层之间的层,可以举出电子注入层、电子传输层、空穴阻挡层等。在阴极与发光层之间设置电子注入层与电子传输层两者时,将位于靠近阴极侧的层称为电子注入层,将位于靠近发光层侧的层称为电子传输层。
电子注入层是具有改善来自阴极的电子注入效率的功能的层。电子传输层是具有改善来自阴极或电子注入层、或靠近阴极的电子传输层的电子注入的功能的层。空穴阻挡层是具有挡住空穴传输的功能的层。需要说明的是,电子注入层或电子传输层有时兼具空穴阻挡层。
作为设置于阳极与发光层之间的层,可以举出空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层等。在阳极与发光层之间设置空穴注入层与空穴传输层两者时,将位于靠近阳极侧的层称为空穴注入层,将位于靠近发光层侧的层称为空穴传输层。
空穴注入层是具有改善来自阳极的空穴注入效率的功能的层。空穴传输层是具有改善来自阳极或空穴注入层、或靠近阳极的空穴传输层的空穴注入的功能的层。电子阻挡层是具有挡住电子传输的功能的层。空穴注入层或空穴传输层有时兼具电子阻挡层。
有时将电子注入层及空穴注入层统称为电荷注入层,有时将电子传输层及空穴传输层统称为电荷传输层。
以下给出有机EL元件能采用的层构成的具体一例。
a)阳极/空穴传输层/发光层/阴极
b)阳极/发光层/电子传输层/阴极
c)阳极/空穴传输层/发光层/电子传输层/阴极
d)阳极/电荷注入层/发光层/阴极
e)阳极/发光层/电荷注入层/阴极
f)阳极/电荷注入层/发光层/电荷注入层/阴极
g)阳极/电荷注入层/空穴传输层/发光层/阴极
h)阳极/空穴传输层/发光层/电荷注入层/阴极
i)阳极/电荷注入层/空穴传输层/发光层/电荷注入层/阴极
j)阳极/电荷注入层/发光层/电荷传输层/阴极
k)阳极/发光层/电子传输层/电荷注入层/阴极
l)阳极/电荷注入层/发光层/电子传输层/电荷注入层/阴极
m)阳极/电荷注入层/空穴传输层/发光层/电荷传输层/阴极
n)阳极/空穴传输层/发光层/电子传输层/电荷注入层/阴极
o)阳极/电荷注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电荷注入层/阴极
(此处,符号“/”表示夹持该符号“/”的2个层邻接层叠。以下相同。)
本实施方案的有机EL元件可以具有2层以上的发光层。作为具有2层发光层的有机EL元件的具体例,可以举出具有下述层构成的元件:
p)阳极/电荷注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电荷注入层/电极/电荷注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电荷注入层/阴极。
作为具有3层以上发光层的有机EL元件,可以举出具有下述层构成的元件:以(电极/电荷注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电荷注入层)为一个重复单元时,像q)阳极/电荷注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电荷注入层/重复单元/重复单元/…/阴极那样,含有2个以上重复单元。
上述层构成p及q中,阳极、电极、阴极、发光层以外的各层可以根据需要省略。
在从基板8取出光的底部发光型有机EL元件中,以发光层为基准,均由透明的层构成配置于基板8侧的层。如下所述,以发光层为基准,从与基板相反的一侧取出光的所谓的顶部发光型有机EL元件中,以发光层为基准,均由透明的层构成配置在与基板相反的一侧的层。
为了进一步提高与电极的密接性、改善来自电极的电荷注入,有机EL元件可以与电极邻接设置膜厚为2nm以下的绝缘层,为了提高界面的密接性或防止混合等,可以在邻接的所述各层的界面插入薄缓冲层。
以下,说明各层的具体构成。需要说明的是,关于发光层5及空穴注入层7,前面已说明,所以省略重复说明。阳极及/或阴极可以分别使用前面说明的第一电极或第二电极,所以省略重复说明。
<空穴传输层>
作为构成空穴传输层的空穴传输材料,可以举出聚乙烯基咔唑或其衍生物、聚硅烷或其衍生物、侧链或主链具有芳香族胺的聚硅氧烷衍生物、吡唑啉衍生物、芳基胺衍生物、芪衍生物、三苯基二胺衍生物、聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物、聚芳基胺或其衍生物、聚吡咯或其衍生物、聚(对苯乙烯)或其衍生物、或者聚(2,5-噻吩乙烯)或其衍生物等。
在上述空穴传输材料中,作为空穴传输材料,优选聚乙烯基咔唑或其衍生物、聚硅烷或其衍生物、侧链或主链上具有芳香族胺化合物基的聚硅氧烷衍生物、聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物、聚芳基胺或其衍生物、聚(对苯乙烯)或其衍生物、或者聚(2,5-噻吩乙烯)或其衍生物等高分子空穴传输材料,更优选聚乙烯基咔唑或其衍生物、聚硅烷或其衍生物、侧链或主链具有芳香族胺的聚硅氧烷衍生物等。在低分子的空穴传输材料的情况下,优选分散于高分子粘合剂进行使用。
作为空穴传输层的成膜方法,用低分子的空穴传输材料时,可以举出由与高分子粘合剂的混合溶液进行成膜的方法,对于高分子的空穴传输材料,可以举出由溶液进行成膜的方法。
作为用于由溶液进行成膜的溶剂,只要是溶解空穴传输材料的溶剂即可,可以举出氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷等氯系溶剂;四氢呋喃等醚系溶剂;甲苯、二甲苯等芳香族烃系溶剂;丙酮、甲乙酮等酮系溶剂;乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙基溶纤剂乙酸酯等酯系溶剂。
作为由溶液进行的成膜方法,可以举出旋涂法、浇铸法、微凹版涂布法、凹版涂布法、棒涂法、辊涂法、线棒涂法、浸渍涂布法、喷涂法、丝网印刷法、苯胺印刷法、胶版印刷法、喷墨打印法等涂布法。
作为混合的高分子粘合剂,优选不极度抑制电荷传输的粘合剂,还优选使用对可见光的吸收弱的粘合剂。作为该高分子粘合剂,可以举出聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚硅氧烷等。
作为空穴传输层的膜厚,因所用的材料而最佳值不同,选择膜厚使驱动电压与发光效率达到适当的值,必需为至少不发生针孔的厚度,过厚时,元件的驱动电压变高而不优选。因此,作为空穴传输层的膜厚,例如为1nm~1μm,优选为2nm~500nm,更优选为5nm~200nm。
<电子注入层>
作为构成电子注入层的电子注入材料,根据发光层的种类,可以举出碱金属、碱土金属、或含有1种以上所述金属的合金、或所述金属的氧化物、卤化物及碳氧化物、或所述物质的混合物等。作为碱金属或其氧化物、卤化物、碳氧化物,可以举出锂、钠、钾、铷、铯、氧化锂、氟化锂、氧化钠、氟化钠、氧化钾、氟化钾、氧化铷、氟化铷、氧化铯、氟化铯、碳酸锂等。作为碱土金属或其氧化物、卤化物、碳氧化物的例子,可以举出镁、钙、钡、锶、氧化镁、氟化镁、氧化钙、氟化钙、氧化钡、氟化钡、氧化锶、氟化锶、碳酸镁等。电子注入层可以是层叠2层以上的层叠体。作为层叠体的具体例,可以举出LiF/Ca等。电子注入层由蒸镀法、溅射法、印刷法等形成。作为电子注入层的膜厚,优选1nm~1μm左右。
<电子传输层>
作为构成电子传输层的电子传输材料,可以举出噁二唑衍生物、蒽醌二甲烷或其衍生物、苯醌或其衍生物、萘醌或其衍生物、蒽醌或其衍生物、四氰基蒽醌二甲烷或其衍生物、芴酮衍生物、二苯基二氰基乙烯或其衍生物、联苯醌衍生物或8-羟基喹啉或其衍生物的金属络合物、聚喹啉或其衍生物、聚喔喹啉或其衍生物、聚芴或其衍生物等。
上述材料中,作为电子传输材料,优选噁二唑衍生物、苯醌或其衍生物、蒽醌或其衍生物、或者8-羟基喹啉或其衍生物的金属络合物、聚喹啉或其衍生物、聚喔喹啉或其衍生物、聚芴或其衍生物,更优选2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4一噁二唑、苯醌、蒽醌、三(8-羟基喹啉)铝、聚喹啉。
图2简略地表示本发明的其他实施方案的有机EL元件11。本实施方案的有机EL元件11是至少依次层叠功能层13、透明的第一电极14、发光层15与第二电极16构成的有机电致发光元件,在与所述第一电极14相反侧的所述功能层13的表面形成高度为0.5μm~100μm的多个凹凸部,所述第一电极14的折射率n1、所述功能层的折射率n2满足上述式(1)。本实施方案的有机EL元件11可以与上述相同地在第一电极14与第二电极16之间设置与发光层15不同的层,可以如上所述采取多种层构成。在本实施方案的有机EL元件11在基板18的表面上依次相接地设置第二电极16、空穴注入层14、发光层15、第一电极14及功能层13。
本实施方案的有机EL元件11是由发光层15发出的光通过第一电极14及功能层13取出到外面的所谓的顶部发光型的元件。
本实施方案的基板8可以透明,也可以不透明,是由例如与上述低折射率层2相同的部件构成的板体。本实施方案的第一电极14可以使用上述实施方案的第一电极4,还可以与上述实施方案说明的透明的第二电极6相同,使用层叠碱金属、碱土金属、过渡金属及III-B族金属等金属的薄膜与包括导电性金属氧化物或导电性有机物等的薄膜得到的层叠体。另外,本实施方案的第二电极16可以透明,也可以不透明,也可以使用上述实施方案的第一电极4或第二电极6。另外,可以在第二电极16的一个表面设置由例如金属等反射光的部件构成的反射层。
本实施方案的功能层13由于与上述实施方案的功能层3相同,所以省略重复说明。本实施方案的功能层13使用与上述实施方案的功能层3相同的制法形成凹凸部后,可以贴合于第一电极12。另外,可以使用与上述实施方案中形成低折射率层2的方法相同的方法在功能层3形成多个凹凸部,贴合于第一电极12,还可以直接形成于第一电极14。
上述构成的有机EL元件11中,由于第一电极14与功能层13的折射率之差小,所以可以降低功能层13与第一电极14的界面的反射率,同时可以抑制全反射。由此,光有效地从第一电极4向功能层入射。另外,功能层13的表面形成高度为0.5μm~100μm的多个凹凸部,所以与上述相同地入射到功能层13的光被有效地取出到外面。如以上所说明,通过使从发光层15发出的光依次有效地向第一电极14、功能层13、空气传播,可以提高光的取出效率。
图3是简略地表示本发明的其他实施方案的有机EL元件21的图。
本实施方案的有机EL元件21是在图2所示的上述实施方案的有机EL元件11上进一步增加低折射率层22得到的顶部发光型元件,由于与上述实施方案的有机EL元件11相比,只有低折射率层22不同,所以省略重复说明,仅对低折射率层22进行说明。
本实施方案的低折射率层22作为将水及氧等从有机EL元件21阻断的密封膜发挥功能,例如优选使用包括金属、金属氧化物、金属氮化物、金属碳化物或金属氧氮化物等的无机层、或者组合所述无机层与有机层得到的层、或者无机-有机混合层等。作为无机层,优选为薄膜层且在空气中稳定的层,具体而言,可以举出二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化铟、氧化锡、氧化钛、氧化锌、铟锡氧化物、氮化铝、氮化硅、碳化硅、氧氮化硅及它们的组合的薄膜层。较优选包括氮化铝、氮化硅、氧氮化硅的薄膜层,更优选为氧氮化硅的薄膜层。低折射率层22利用真空蒸镀法、溅射法以及将金属薄膜热压接的层合法等覆盖第二电极16、空穴注入层17、发光层15、第一电极14及功能层13而形成。
本实施方案的低折射率层22的折射率n3满足上述式(2)。由此,与图1所示的有机EL元件1相同,从发光层15发出的光依次有效地向第一电极14、功能层13、低折射率层22、空气传播,可以提高光的取出效率。
通过使用上述各实施方案的有机EL元件1、11,可以实现具有有机EL元件的照明装置或具有多个有机EL元件的显示装置。
上述各实施方案的有机EL元件可以用作照明装置、面状光源、段式显示装置及点矩阵显示装置的光源以及液晶显示装置的背光,可以特别优选用于照明装置。
使用本实施方案的有机EL元件作为面状光源时,例如从层叠方向的一侧观察面状的阳极与阴极为彼此重合地配置即可。另外,为了作为段式显示装置的光源构成以规定的图案发光的有机EL元件,有下述方法:将通过光的窗以规定的图案形成的掩模设置在所述面状光源的表面的方法;极厚地形成应消光的部位的有机物层从而实质上不发光的方法;用规定的图案形成阳极及阴极中的至少一个电极的方法。用上述方法形成以规定图案发光的有机EL元件,同时以对几个电极选择性地施加电压的方式实施配线,由此可以实现能显示数字或文字、简单符号等的段式显示装置。为了制成点矩阵显示装置的光源,可以将阳极与阴极分别形成为带状,从层叠方向的一侧观察为彼此垂直地配置即可。为了实现能部分彩色显示、多色显示的点矩阵显示装置,可以采用分涂发光颜色不同的多种发光材料的方法以及使用滤光器及荧光转化过滤器等的方法。点矩阵显示装置可以进行无源驱动,也可以与TFT等组合进行有源驱动。上述显示装置可以用作计算机、电视机、便携终端、手机、车导航仪、摄像机的取景器等的显示装置。
进而,所述面状光源是自发光薄型光源,可以优选用作液晶显示装置的背光或者面状的照明装置。另外,如果使用挠性基板,也可以用作曲面状的光源或显示装置。
实施例1
<基板的制作>
在5cm×5cm玻璃基板上通过旋涂将具有与玻璃基板(折射率1.52)大致相同的折射率的透明的正型光致抗蚀剂材料(东京应化工业公司制、商品名“TFR970”,折射率1.59)以膜厚5μm进行成膜;在热板上于110℃下加热110秒。使用直径为8.5μm的圆形可透光区域被随机配置的光掩模,照射50mJ/cm2的I线。在室温下用0.55%的KOH水溶液显影(80秒),在热板上于220℃下加热1分钟,使其回流,在光致抗蚀剂膜的表面形成高度为0.5~4.5μm的不规则的凹凸构造(低折射率层的形成)。在凹凸构造上旋涂折射率为1.8的高折射率涂布膜形成液(RASA工业公司制、商品名“RASA TI”),在热板上于200℃下加热固化5分钟(功能层的形成)。此时,功能层最表面的中心线粗糙度Ra为2.8nm。然后,将基板在120℃下加热,同时在功能层上以300nm的膜厚旋涂ITO(折射率2.0),溅射成膜成5cm×2cm的带状(DC溅射法、成膜压力0.25Pa、功率0.25kW)(透明电极的形成)。然后,在烘箱中于200℃下进行退火处理40分钟。将基板用50℃的强碱性洗剂、冷水、50℃的温水进行超声波洗涤,从50℃的温水中取出,进而在烘箱中干燥。然后,进行UV臭氧洗涤20分钟,得到透明的第一电极。
<有机EL元件制作>
将使用直径为0.45μm的过滤器过滤聚(3,4)乙撑二氧噻吩/聚苯乙烯磺酸(STARCK公司制、商品名:AI4083)的悬浮液的液体旋涂在所述洗涤过的基板上,以65nm的厚度涂布,形成薄膜。在大气气氛下,在热板上于200℃下热处理15分钟,形成空穴注入层。然后,作为白色高分子有机EL发光层材料,将萨美讯(サメイシヨン)制WP1330溶解于甲苯,制作0.8质量%的高分子溶液,将该高分子溶液旋涂在形成有空穴注入层的基板上,以80nm的膜厚进行制膜。然后,在氮气氛下的热板上于130℃下热处理30分钟,形成发光层。将形成发光层的基板导入真空蒸镀机,作为阴极依次分别以10nm、100nm的厚度将Ba、Al蒸镀成5cm×2cm的带状,使其与ITO的图案垂直,形成第二电极。形成第二电极的工序中,真空度达到1×10-4Pa以下后开始金属的蒸镀。最后,在惰性气体中,以第一电极与第二电极垂直的部分为中心用玻璃板覆盖,进而用光固性树脂覆盖4边后,照射UV,使光固性树脂固化,制作有机EL元件。
(比较例1)
<基板的制作>
在5cm×5cm玻璃基板(折射率1.52)上,与实施例1相同地操作,形成ITO薄膜。
<EL元件的制作>
在形成ITO薄膜的基板上,与实施例1相同地操作,制作有机EL元件。
<有机EL元件的发光特性的评价>
评价实施例1及比较例1得到的有机EL元件的发光特性。测定对元件整体施加8V电压时的正面发光辉度。辉度计使用BM-8。比较例1的有机EL元件中,辉度为4865cd/m2,相对于此,实施例1的有机EL元件中为5578cd/m2。如上所述,在本发明的有机电致发光元件中,确认通过具有功能层及低折射率层,光取出效率提高。
实施例2
<基板的制作>
在相当于底折射率层的三和普斯特(Frost)株式会社制5cm×5cm单面磨砂玻璃基板(折射率1.52)的磨砂加工面上,重复8次依次进行以下的工序(1)~(3)的处理,形成折射率为1.98的功能层。(1)旋涂折射率为1.8的高折射率涂布膜形成用液(RASA工业公司制、商品名“RASA TI”)的工序。(2)在热板上于150℃下加热1分钟的工序。(3)在热板上于380℃下加热固化1分钟的工序。磨砂玻璃基板的磨砂加工面的凹凸构造中,Rz=1.998μm,功能层最表面的中心线粗糙度Ra为8.8nm。然后,将基板在120℃加热,同时将膜厚为300nm的ITO(折射率2.0)在功能层上溅射成膜(DC溅射法、成膜压力0.25Pa、功率0.25kW)成5cm×2cm的带状,形成折射率为2.0的透明电极。然后,在烘箱中于200℃下进行退火处理40分钟,得到带有透明的第一电极的基板。
<评价PL的光取出效率>
作为绿色高分子有机EL发光层材料,将萨美讯制GP1300溶解于甲苯,调制1.2质量%的高分子溶液,再将其通过旋涂涂布于上述得到的基板的ITO薄膜上。所得涂布膜的膜厚为100nm。从绿色高分子有机EL发光层侧照射365nm的紫外线,测定来自基板背面的绿色发光PL强度。PL强度为3020(任意单位)。需要说明的是,PL是光致发光的简称,利用光激发发光材料,检测发光材料特有的发光。光取出效率的评价可以将PL发光假定为EL发光进行评价。此处,对发光层照射365nm的UV照射,由此测定利用积分球检测到的从发光材料发出并照射到整个基板的光的强度。
比较例2
<基板的制作>
在5cm×5cm玻璃基板(折射率1.52)上,与实施例2相同地形成ITO薄膜。
<评价PL的光取出效率>
在上述得到的基板ITO上,与实施例2相同地操作,涂布绿色高分子有机EL发光层材料。从绿色高分子有机EL发光层侧照射365nm的紫外线,测定来自基板背面的绿色发光PL强度。PL强度为2271(任意单位)。
实施例2得到的PL强度是比较例2得到的PL强度的1.33倍。使用实施例2得到的基板与实施例1相同地制作有机EL元件时,通过具有功能层及低折射率层,元件的光取出效率提高。
产业上的可利用性
根据本发明,可以实现光取出效率高的有机电致发光元件。
Claims (14)
1.一种有机电致发光元件,其是依次层叠功能层、透明的第一电极、发光层和第二电极而构成的,
在所述功能层的与所述第一电极相反侧的表面形成有高度为0.5μm~100μm的多个凹凸部,
所述第一电极的折射率n1、所述功能层的折射率n2满足下式(1),
0.3≥n1-n2≥0 …式(1)。
2.如权利要求1所述的有机电致发光元件,其还含有相接地设置于所述功能层的与所述第一电极相反侧的表面的低折射率层而构成,
所述第一电极的折射率n1、所述功能层的折射率n2及所述低折射率层的折射率n3满足下式(2),
n1≥n2>n3 …(2)。
3.如权利要求1或2所述的有机电致发光元件,其中,所述功能层的所述第一电极侧的表面中心线平均粗糙度Ra为10nm以下。
4.如权利要求1~3中任一项所述的有机电致发光元件,其中,所述凹凸的配置间隔为0.5μm~100μm。
5.如权利要求1~4中任一项所述的有机电致发光元件,其中,所述各凹凸部的表面形状分别为凹面或凸面。
6.如权利要求5所述的有机电致发光元件,其中,所述凹面或凸面是半球面。
7.如权利要求1~4中任一项所述的有机电致发光元件,其中,所述各凹凸部的表面形状分别由多个平面构成。
8.如权利要求1~4中任一项所述的有机电致发光元件,其中,所述各凹凸部的形状彼此不规则。
9.一种照明装置,其具有权利要求1~8中任一项所述的有机电致发光元件。
10.一种显示装置,其具有多个权利要求1~8中任一项所述的有机电致发光元件。
11.一种有机电致发光元件的制造方法,其中,所述有机电致发光元件是依次层叠低折射率层、功能层、透明的第一电极、发光层及第二电极而构成的,所述第一电极的折射率n1、所述功能层的折射率n2及所述低折射率层的折射率n3满足下式(3),
所述方法包括下述工序:
在表面形成高度为0.5μm~100μm的多个凹凸部,形成低折射率层的工序;
在所述低折射率层的形成有所述多个凹凸部的表面涂布含有形成功能层的材料的涂布液,形成功能层的工序;
形成第一电极的工序;
形成发光层的工序;以及
形成第二电极的工序。
12.如权利要求11所述的有机电致发光元件的制造方法,其中,在所述形成低折射率层的工序中,用刻印法形成多个凹凸部。
13.如权利要求11所述的有机电致发光元件的制造方法,其中,在所述形成低折射率层的工序中,利用光刻法选择性地除去所述低折射板的表面部,形成多个凹凸部。
14.如权利要求11所述的有机电致发光元件的制造方法,其中,在所述形成低折射率层的工序中,利用干蚀刻选择性地除去所述低折射板的表面部,形成凹凸部。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20110216 |