JP2005050708A - 光学素子用基板及び有機エレクトロルミネッセンス素子並びに有機エレクトロルミネッセンス表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 可視光を透過する光透明性基板内に、可視光を散乱する光散乱性部および可視光を透過する光透過性開口部を具備する光学素子基板を有機エレクトロルミネッセンス素子の光取り出し基板として使用する。これにより、基板外部への光取り出し効率が増加し、高輝度の輝度の有機エレクトロルミネッセンス素子が得られる。
【選択図】 図1
Description
この例のように有機エレクトロルミネッセンス素子の素子構造としては、正孔輸送(注入)層、電子輸送性発光層の2層型、又は正孔輸送(注入)層、発光層、電子輸送(注入)層の3層型等がよく知られている。こうした積層型構造素子では、注入された正孔と電子の再結合効率を高めるため、素子構造やこのような素子の形成方法の工夫がなされている。しかしながら、有機エレクトロルミネッセンス素子においてはキャリア再結合の際にスピン統計の依存性より一重項生成の確率に制限があり、したがって発光確率に上限が生じる。この上限の値は凡そ25%とされている。
また、特許文献5の特開2002−260866号公報には、少なくとも正孔を注入する陽極と、発光領域を有する発光層と、電子を注入する陰極を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子が記載され、この電極のうちの少なくとも一方の電極が、光透過性を具備し、この透過性電極は、その内部に、発光層から放射される光の角度を変換する手段を含有した構成が記載されている(図1、発明の詳細な手段、段落番号0026:請求項1)。
さらに、特開2002−260845号公報には、基板と、複数個の光変換手段とを備えた、前期基板の片面上に直接または下地層を介して設けられた1個または複数個の有機エレクトロルミネッセンス発光素子の発明が記載され、この前記1個または複数個の有機エレクトロルミネッセンス発光素子の各々に対して、複数個の光角度変換手段が設けられている。この公報には、光角度変換手段が、透明物質、または不透明粒子、または空気層の外形の長手方向が前記基板の厚さ方向に向いている構成とした旨、記載されている(この公報の請求項8)。
また、一般に、有機エレクトロルミネッセンス層内を金属電極(陰極)面方向に向かう伝播光は、金属電極により大きな伝播損失を受ける。このため効率良くこの伝播光を取り出すためには、短い間隔で隔壁を配置する必要がある。そのため特許文献4の発明では、素子の発光部の面積を減少させることとなり、大きな改善効果を上げることはできない。
また、特許文献5の発明の構成では、電界を印加できない場所の面積が増加するため、前記発明同様に、大きな改善効果を上げることはできない。
さらに、特許文献6の発明の構成では、臨界角以上の高角度で発光した光を効率良く取り出すことが出来ない。また、特許文献6では基板内全体にこの光角度変換手段を分散すると、性能が向上する旨の記載が成されている(この公報の図10の説明部分の段落番号0032および図10)が、散乱体が基板の厚み方向に多数存在すると、基板が白色化し、発光した光の色純度が低下するという課題が存在する。
このように、有機エレクトロルミネッセンス素子の光の取り出しは未だ不十分である。
本発明は、このように、空気/ガラス界面で全反射される臨界角以上の発光光を如何に効率よく散乱させ臨界角より小さい角度で出射させるかに着目して成されたものである。
本発明の目的は、有機エレクトロルミネッセンス素子の光取り出し効率を向上させた光学素子基板(発光素子基板)を提供することにある。
W/L ≦ tan(arcsin(n1/n2))・・・(1)
(前記式中、n1は空気の屈折率を表し、n2は光透明性基板の屈折率を表す。)
図1は本発明の光学素子用基板を示す模式的断面図である。図1に示されるように、本発明による光学素子基板は、可視光を透過する光透明性基板内に、可視光を散乱する光散乱性部および可視光を透過する光透過性開口部とを具備している。なお図1では、基板面に対して垂直方向に切断した断面図を示している。この図では、基板面方向に対しては、以下に説明する図3〜図7に例示するような形状を有していることが好ましい。なお図3〜図7の形状は単なる例示であり、本発明は、光散乱性部あるいは光透過性開口部が基板面方向に孤立して形成されているのであればよく、これら図3〜図7に例示した形状に拘束されない。
なお、この周期性は、基板面内で複数存在してもかまわない。この周期性は場所によって異なっていてもよく、基板面内の方向によって、異なっていてもよい。また、光透過性開口部の幅は、100nm以上、20μm以下、好ましくは、110nm以上、10μm以下であることが望ましい。
有機エレクトロルミネッセンス素子を本発明の光学素子用基板上に形成する場合、基板の平滑性を確保するために、光散乱性部が光透明性基板中に埋め込まれた構成や光散乱性部の端が光透明性基板の表面と位置が一致している構成が望ましい。
前記した溝を形成する方法として、この溝をパターン状に形成する方法を採用した場合、公知の方法、たとえば光感光材料を用いた通常の露光プロセスを利用することができる。また、この溝をパターン状に形成する方法として、各種の印刷プロセスを利用してもよい。
図12はこのような溝を形成する際に、マスクを用いた露光プロセスを図示したものである。このマスクを用いた露光プロセスでは、目的とする溝のピッチやラインとスペース(溝の幅と溝間隔)の比を任意に設計することができる。
有機エレクトロルミネッセンス素子に含まれる回折格子の作成に使用する場合、可視光と同程度の波長のレーザー光源を使用することが好ましい。このため、このプロセスには、YAGレーザー、YAGレーザー倍波、YAGレーザー3倍波、色素レーザー、He−Neレーザー、Arイオンレーザー、Krイオンレーザー、Cu蒸気レーザー、He−Cdレーザー、N2 レーザー、等の光源があげられる。
光源として、Hg−Xeランプ(波長:250nm)を使用した。この際、マスクパターンは、周期1.0μm、ライン幅0.75μmであり、スペース幅が0.25μmのストライプ状のものを使用した。このマスクを使用し、1回露光した後にマスクを90°回転させて、再度同じ条件で露光を行った。このような露光後に、アルカリ現像液で処理し、レジストパターンを形成した。SEM観察の結果、目的とする格子状パターンが作製できていることを確認した。作成したレジストパターン付き石英基板を反応性ガスエッチング(サムコRIE10NR)によりエッチングした。エッチングは反応性ガスとして、CF4 (圧力4Pa、流量20SCCM)を使用して、出力100Wの条件でエッチングを行った。2080秒間、このエッチングを行い、石英基板に10000Åの深さの溝を掘った。
作製したこの素子に5mA/cm2 の直流を印加したところ、275cd/m2 の発光が得られた。比較例1の有機EL素子と比べて、発光効率が向上していることが確認された。
光散乱性部を具備しないこと以外はすべて実施例1で作製した有機エレクトロルミネッセンス素子と同様にして素子を作製した。この素子に5mA/cm2 の直流を印加したところ、190cd/m2 の発光が得られた。
ビームスプリッタでレーザー光をニ光束に分岐し、さらにミラーを使用して基板表面上で交差角約31度となるように干渉露光(レーザー照射強度:100mW/cm2 で露光時間15秒)を行った。このような露光を1回行った後に、基板を90°回転させて、再度同じ条件下で露光を行った。
20、21、22、23、24、25、26、27、28、29、200、201 光散乱性部
30、31、32、33、34、35、36、37、38、39、300、301 光透過性開口部
40 平坦化層
41 深さ(L)
42 周期(W)
50 陽極
60 発光中心
61 臨界角
62 出射光
70 有機エレクトロルミネッセンス層
71 照射光
72 フォトマスク
73、74、75 感光性材料
80 レーザー光源
81 ビームスプリッタ
82 ビームエキスパンダ
83 レーザー光束
84 ミラー
90 溝
91 光散乱性材料
500、501 陰極
510 有機層
520 陽極
530 発光層
540 正孔輸送層
Claims (10)
- 可視光を透過する光透明性基板内に、可視光を散乱する光散乱性部および可視光を透過する光透過性開口部を具備する光学素子用基板であり、前記光散乱性部の基板厚み方向の長さLおよび前記光透過性開口部の幅Wが、下記式(1)により求められることを特徴とする光学素子用基板。
W/L ≦ tan(arcsin(n1/n2))・・・(1)
(前記式中、n1は空気の屈折率を表し、n2は光透明性基板の屈折率を表す。) - 前記光散乱性部の一方の端面が、光透明性基板面と同一である請求項1記載の光学素子用基板。
- 前記光透過性開口部が少なくとも1つの前記光散乱部で分節されることにより、光透明性基板内に形成され、
前記光透過性開口部が基板の面方向に周期性を有して配置されていることを特徴とする請求項1または2記載の光学素子用基板。 - 前記光学素子用基板が、少なくとも1つの表示画素を形成するための光学素子用基板であって、当該表示画素内で、前記光散乱性部が、少なくとも一方向に延長されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の光学素子用基板。
- 前記光散乱性部が、前記表示画素を分節する壁状構造体であることを特徴とする請求項4記載の光学素子用基板。
- 前記壁状構造体で分節されることにより形成された前記光透過性開口部が、基板の面方向に周期性を有して配置されていることを特徴とする請求項5記載の光学素子用基板。
- 前記光透過性開口部の幅Wが、100nm以上20μm以下である請求項1乃至6記載のいずれか1項に記載の光学素子用基板。
- 前記光透過性開口部が基板の面方向に周期性を有して配置された光学素子用基板であって、分節する壁の厚みとこれに隣接する光透過性開口部の一つの幅の合量が、130nm以上25μm以下である請求項3または6記載の光学素子用基板。
- 前記光学素子用基板、陽極および少なくとも発光層からなる有機層と、陰極とを具備する有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記有機エレクトロルミネッセンス素子を複数具備した有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
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