CN101900877A - 光滤波器、光滤波器装置、分析设备以及光滤波器的制造方法 - Google Patents

光滤波器、光滤波器装置、分析设备以及光滤波器的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种能够防止反射镜的带电而使反射镜彼此粘贴消除的光滤波器、光滤波器装置、分析设备以及光滤波器的制造方法。本发明的光滤波器(1)具备：相互地面对配置的第一基板(2)及第二基板(3)；在第一基板(2)的第二基板(3)侧所设置的第一反射镜(4A)及第一电极(6A)；在第二基板(3)的第一基板(2)侧所设置的第二反射镜(4B)及第二电极(6B)，并且第一反射镜(4A)和第二反射镜(4B)由配线(10A、10B)连接。

Description

光滤波器、光滤波器装置、分析设备以及光滤波器的制造方法
技术领域
本发明涉及光滤波器、光滤波器装置、分析设备以及光滤波器的制造方法。
背景技术
以往，作为从入射光中选择出目标波长的光而使其射出的光滤波器公知有以下结构的光滤波器，即，将一对基板相面对配置，并在这些基板的相面对的各个面上设置反射镜，且在这些反射镜的周围分别设置电极并且至少在一个反射镜的周围设置隔膜部(ダイアフラム部)。这样的光滤波器能够选择性地取出与相面对的反射镜之间的间隙所对应的波长的光。就反射镜之间的间隙而言，通过对设置在一个基板上的固定电极和设置在另一个基板上的可动电极施加电压而能够由静电驱动将间隙控制到所希望的值。
在光滤波器的制造工序中，在接合一对基板时使用了通过在真空中使接合表面由粒子束和等离子体进行蚀刻且激活从而进行基板彼此的接合的表面激活接合(专利文献1)。
专利文献1：特开2008-116669号公报
但是，在通过表面激活接合而使基板彼此接合的情况下存在以下的问题，即，由于粒子束、等离子体或在基板支承所使用的静电吸盘(チヤツク)等而反射镜带电，并在使基板彼此贴合时由于在反射镜上所带电的电荷产生的静电引力就将反射镜彼此粘贴。
发明内容
本发明是鉴于上述的现有技术的问题点而提出的，其目的之一在于提供一种能够防止反射镜的带电而使反射镜彼此粘贴消除的光滤波器、光滤波器装置、分析设备以及光滤波器的制造方法。
本发明的光滤波器，其特征在于，为了解决上述课题，具备：相互地面对配置的第一基板及第二基板；在第一基板的第二基板侧所设置的第一反射镜及第一电极；在第二基板的第一基板侧所设置的第二反射镜及第二电极，并且第一反射镜和第二反射镜由配线连接。
根据本发明，由于第一反射镜和第二反射镜经由配线连接，因此反射镜彼此电短路而可使反射镜之间的电位差消除。由此能够防止由反射镜的带电引起的反射镜彼此的粘贴、并能够对反射镜之间的间隙进行高精度地控制。因此能够得到可靠性高的光滤波器。
另外，优选光滤波器还具有：从第一反射镜到第一基板的接合区域为止所引出的第一配线、和从第二反射镜到第二基板的接合区域为止所引出的第二配线，在接合区域中第一配线和第二配线彼此连接。
根据本发明，由于将基板彼此贴合的同时将第一配线和第二配线连接，因此成为能够以简单的工序可制造的光滤波器。
另外，优选第一反射镜及第二反射镜中的任一个与外部连接端子连接。
根据本发明，在第一反射镜及第二反射镜所带电的电荷能够由外部连接端子释放。
本发明的光滤波器，其特征在于，为了解决上述课题，具备：相互地面对配置的第一基板及第二基板；在第一基板的第二基板侧所设置的第一反射镜及第一电极；在第二基板的第一基板侧所设置的第二反射镜及第二电极，并且第一反射镜和第二反射镜分别与外部连接端子连接。
根据本发明，由于第一反射镜及第二反射镜的各自与不同的外部连接端子分别连接，因此能够由各外部连接端子向第一反射镜及第二反射镜输入接地电位，从而能够使反射镜之间的电位差消除。由此，能够防止反射镜彼此的粘贴，并且能够对反射镜之间的间隙进行高精度的控制。因此，能够得到可靠性高的光滤波器。
另外，优选第一反射镜及第二反射镜经由配线与外部连接端子分别连接。
根据本发明，将通常在基板的中央部所配置的反射镜和在基板周缘部所配置的外部连接端子能够经由配线得以准确地连接。另外，在基板上的各构件的设计自由度提高。
另外，优选在第一配线及第二配线的连接部位形成：在其内部具有弹性体的突起(バンプ)结构。
根据本发明，由于在第一配线及第二配线的连接部位形成有在其内部具有弹性体的突起结构，因此能够准确且良好地进行配线彼此的连接。
另外，优选第一反射镜及第二反射镜以包括导电膜的方式构成。
根据本发明，由于第一反射镜及第二反射镜以包括导电膜的方式构成，因此，通过形成使反射镜彼此短路的结构从而能够消除反射镜彼此的电位差。
另外，优选所述第一反射镜及所述第二反射镜具备：具有透光性的所述导电膜和电介质膜的层叠结构。
根据本发明，能够抑制在电介质膜的表面上的电荷带电。
另外，优选形成有通过将与外部连接端子连接的配线切断后所残留的的残留部。
根据本发明，由于形成有通过将与各反射镜分别连接的外部连接端子彼此连接的配线切断后所残留的残留部，因此在后述的制造时使与各反射镜分别连接的外部连接端子彼此通过配线被连接。由此能够消除在制造时由各反射镜的带电引起的粘贴。
本发明的光滤波器装置，其特征在于具备：本发明的光滤波器、和对透过光滤波器的光进行接收的受光元件。
根据本发明，能够得到通过将透过光滤波器的光由受光元件接收从而能够生成电信号的光滤波器装置。
本发明的分析设备，其特征在于具备：本发明的光滤波器；受光元件，其对透过光滤波器的光进行接收；驱动电路部，其对光滤波器的第一反射镜和第二反射镜的间隙进行驱动；测定电路部，其根据由受光元件生成的电信号，对所透过的所述光的光量进行测定。
根据本发明，得到一种分析设备，其中由测定对象反射的光被入射到光滤波器，由驱动电路部对光滤波器的反射镜之间的间隙进行控制，透过了被间隙控制后的光滤波器的光由受光元件接收，在受光元件中生成与受光量相应的电信号，且根据测定电路部中所生成的电信号对所透过的光的光量进行测定。由此能够对光滤波器的反射镜之间的间隙进行高精度的控制。
本发明的光滤波器的制造方法，其特征在于，为了解决上述课题其具备：在第一基板及第二基板的相面对侧将第一反射镜或第二反射镜形成的工序；在第一反射镜及第二反射镜的周围形成电极的工序；将与第一反射镜及第二反射镜连接的配线进行形成的工序；将第一基板及第二基板接合的工序，并在将第一基板和第二基板接合的工序中将第一反射镜和第二反射镜经由配线连接。
根据本发明，由于在将第一基板和第二基板接合的工序中将第一反射镜和第二反射镜经由配线连接，因此能够使反射镜彼此电短路而使反射镜之间的电位差消除。由此能够防止反射镜彼此的粘贴，并对反射镜之间的间隙能够进行高精度的控制。因此能够得到可靠性高的光滤波器。
另外，优选在将与第一反射镜及第二反射镜连接的配线进行形成的工序中，按照从第一反射镜到第一基板的接合区域为止引出的方式形成第一配线、并且按照从第二反射镜到第二基板的接合区域为止引出的方式形成第二配线，在将第一基板及第二基板接合的工序中，使第一配线和第二配线连接。
根据本发明，经由在接合区域中形成的第一配线及第二配线而使第一反射镜和第二反射镜连接，因此能够在基板彼此接合的同时使配线彼此准确地连接，由此实现反射镜彼此的电连接。另外，该连接状态在完成光滤波器后的状态中也能确保。
另外，优选在形成第一配线或第二配线时，在以后的将第一基板及第二基板接合的工序中在第一配线及第二彼此被连接的部位，形成在其内部具有弹性体的突起结构。
根据本发明，由于在第一配线及第二配线彼此被连接的部位形成了突起结构，因此能够提高各配线彼此的连接可靠性。
另外，优选在使第一基板及第二基板接合之后将配线切断。
根据本发明，由于在使第一基板及第二基板接合之后，将使第一反射镜及第二反射镜连接的配线进行切断，因此各反射镜被电分离，从而可以提供分别独立的电位。由此对反射镜彼此的间隙能够进行更高精度的控制。
本发明的光滤波器的制造方法，其特征在于，为了解决上述课题其具备：在第一基板及第二基板的相面对面侧将第一反射镜及第二反射镜形成的工序；在第一反射镜及第二反射镜的周围形成电极的工序；将与第一反射镜及第二反射镜连接的配线进行形成的工序；和将第一基板及第二基板接合的工序，并且在将第一基板及第二基板接合的工序中，在对配线输入了电位的状态下，使第一基板及第二基板进行接合。
根据本发明，由于在将第一基板及第二基板接合的工序中，在对配线输入了电位的状态下，使第一基板及第二基板进行接合，因此在第一基板和第二基板的接合时能够使反射镜彼此为同电位。由此能够防止反射镜彼此粘贴，并能够对反射镜之间的间隙进行高精度的控制。因此能够得到可靠性高的光滤波器。
另外，优选在第一基板及第二基板的任一个上形成与第一反射镜及第二反射镜连接的一对外部连接端子，并经由这些一对外部连接端子对第一反射镜及第二反射镜输入电位。
根据本发明，由于设置与各反射镜连接的外部连接端子，因此能够对每个反射镜提供独立的电位。由此能够对反射镜彼此的间隙进行高精度的控制。
附图说明
图1是表示第一实施方式的光滤波器的剖面图。
图2是表示构成第一实施方式的光滤波器的第一基板的平面图。
图3是表示构成第一实施方式的光滤波器的第二基板的平面图。
图4是表示第一实施方式的光滤波器的制造方法的流程图。
图5是表示第一实施方式的光滤波器的制造方法的工序图。
图6是表示第二实施方式的光滤波器的剖面图。
图7是表示构成第二实施方式的光滤波器的第一基板的平面图。
图8是表示构成第二实施方式的光滤波器的第二基板的平面图。
图9是表示构成第三实施方式的光滤波器的第一基板的剖面图。
图10是表示构成第三实施方式的光滤波器的第二基板的平面图。
图11是表示第三实施方式的光滤波器的制造方法的工序图。
图12是表示本发明的分析设备即测色设备的实施方式的图。
图中：1、31-光滤波器，2-第一基板，3-第二基板，4A-反射镜(第一反射镜、可动反射镜)，4B-反射镜(第二反射镜、固定反射镜)，6A-第一电极，6B-第二电极，10A-第一配线，10B-第二配线，10a-连接部，10b-连接部，14a、14b、14c、14d-电极焊盘(外部连接端子)，16-导电膜，25-连接配线(配线)，25a-残留部，30-测色设备(分析设备)，32-受光元件，33-光滤波器装置，34-驱动电路部，35-测定电路部。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。另外，在以下的说明所使用的附图中，为了使各构件成为能够识别的尺寸，对各构件的缩小比例尺进行了适当地变更。
(第一实施方式)
图1是表示本发明的第一实施方式即光滤波器的剖面图，图2是构成光滤波器的第一基板2从接合面2b侧观看到的平面图，图3是构成光滤波器的第二基板3从接合面3a侧观看到的平面图。
图1～图3中所示的本实施方式的光滤波器1是空气隙式静电驱动型的标准具(エタロン)元件。
光滤波器1具备：第一基板2、在与第一基板相面对的状态下所接合的第二基板3。
如图1以及图2中所示，在第一基板2中设置有：在与第二基板3相面对的一侧的接合面2b的中央部所设置的平面视圆形状的反射镜4A(第一反射镜)；在第一基板2的反射镜4A的周围所设置的大致圆环状的电极6A；在第一基板2内且与电极6A的外周部大致对应的位置上通过蚀刻(选择去除)所形成的薄壁(薄肉)的圆环状的隔膜部8；在电极6A的周围所设置的接合用金属膜9A；从反射镜4A至比第一电极6A更靠外侧的接合区域(与隔膜部8在平面视中不重叠的区域)为止所引出的第一配线10A；至少其连接部11a被从第一电极6A引出到上述接合区域的基板间导通配线11A。
如图1以及图3中所示，在第二基板3中设置有：在第二基板3的中央形成的第一凹部5的底部，按照与所述反射镜4A隔着第一间隙G1相面对的方式所设置的平面视圆形状的反射镜4B(第二反射镜)；在第二基板3的第一凹部5的周围所形成的底浅的圆环状的第二凹部7，按照与所述电极6A隔着第二间隙G2相面对的方式所设置的大致圆环状的电极6B；在电极6B的周围所设置的接合用金属膜9B；从反射镜4B至比第二电极6B更靠外侧的接合区域(与凹部5、7在平面视中不重叠的区域)为止所引出的第二配线10B；在接合面3a的边缘所形成的多个电极焊盘14a、14b、14c；在与电极焊盘14a连接的一侧的相反侧的端部具有与所述基板间导通配线11A的连接部11a电连接的连接部11b的基板间导通配线11B。0033
第一基板2及第二基板3大概呈平面视矩形状或正方形状，并成为第二基板3的一部分从第一基板2伸出的尺寸。优选第一基板2及第二基板3由具有光透过性且具有绝缘性的材料形成，尤其由玻璃等透明材料构成。
作为该玻璃，具体而言可适当使用钠玻璃、晶体化(結晶化)玻璃、石英玻璃、铅玻璃、钾玻璃、硼硅酸玻璃、硼硅酸钠玻璃、无碱性玻璃(焦アルカリガラス)等。
如此，通过使得第一基板2及第二基板3均采用具有光透过性的材料，从而能够将电磁波中的所希望波长区域(带域)的电磁波或可见光线作为入射光而加以使用。
另外，若使第一基板2及第二基板3均由半导体材料例如硅形成，则作为入射光可以使用近红外光线。
反射镜4A、4B通过使高折射率层和低折射率层以交替方式层叠多个后的电介质多层膜4、和由ITO等透明金属材料形成的导电膜16而成。而且，这些反射镜4A、4B中，一反射镜4A被设置在可变形的第一基板2上，因此称为可动反射镜；另一反射镜4B被设置在不变形的第二基板3上，因此称为固定反射镜。
在该光滤波器1在可见光线区域或红外线区域中使用的情况下，作为电介质多层膜的高折射率层的形成材料，例如使用氧化钛(Ti2O)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铌(Nb2O5)等。另外，在光滤波器1在紫外线的区域中使用的情况下，作为形成高折射率层的材料，例如使用氧化铝(Al2O3)、氧化铪(HfO2)、氧化锆(ZrO2)、氧化钍(ThO2)等。
另一方面，作为电介质多层膜的低折射率层的形成材料，例如使用氟化镁(MgF2)、氧化硅(SiO2)等。
就该高折射率层和低折射率层的层数及厚度而言，基于所需要的光学特性进行适当设定。一般在使用电介质多层膜的情况下为了得到其光学特性，所需要的层数为12层以上。在这些电介质多层膜4、4上分别形成导电膜16、16。
作为导电膜16的材料，可列举例如ITO或其它透明导电膜、或薄金属膜等。通过这样的导电膜16覆盖电介质多层膜4、4的整体表面，由此在后面所述的制造时在使基板2、3彼此接合之际能够防止反射镜4A、4B的带电。而且，这些导电膜16分别连接有配线10A、10B。
第一配线10A及第二配线10B在各自前端所设置的连接部10a、10b被相互连接，由此成为反射镜4A、4B彼此电连接的状态。这些配线10A、10B中的第二配线10B还与接地用的电极焊盘14b(外部连接端子)连接。
第一电极6A及第二电极6B隔着第二间隙G2按相互面对的方式配置，并构成根据所输入的驱动电压在这些电极6A、6B之间产生静电力且使反射镜4A、4B在相互面对的状态下相对移动的静电致动器的一部分。由此，电极6A、6B使隔膜部8在图1中的上下方向(z方向)变位，而使反射镜4A、4B之间的第一间隙G1发生变化，从而射出与该第一间隙G1所对应的波长的光。
作为形成电极6A、6B的材料只要具有导电性即可，并不受特别的限定，例如可使用Cr、Al、Al合金、Ni、Zn、Ti、Au等金属或将碳、钛等分散的树脂、多结晶硅(多晶硅)、非晶硅(アモルフアスシリコン)等硅、以及氮化硅、ITO等透明导电材料等。
电极6A经由基板间导通配线11A、11B与电极焊盘14a连接，电极6B经由配线17与电极焊盘14c连接。这些电极焊盘14a、14c与电源(未图示)连接。
另外，在电极6A、6B的周向的一部分可分别形成有间隙部18，与反射镜4A、4B连接的第一配线10A及第二配线10B在这些间隙部18内穿过而分别被引出到电极6A、6B的外侧。
就本发明的电源而言，通过在电极6A、6B上施加电压作为驱动信号，而使电极6A、6B驱动，并在这些电极之间产生所希望的静电力。另外，在该电源上连接有控制装置(未图示)，并通过由该控制装置对电源进行控制，从而能够对电极6A、6B之间的电位差进行调整。
隔膜部8与未形成该隔膜部8的第一基板2的其它部位相比其厚度较薄。这样，在与第一基板2中的其它部位相比厚度较薄的部位就具有弹性(可挠性)而可以变形(可以变位)，由此，该隔膜部8通过使第一间隙G1发生变化而使反射镜4A、4B之间的间隔变化为与所希望的波长的光所对应的间隔，从而具有射出所希望波长的光的波长选择功能。
隔膜部8的形状和厚度等只要能够射出所希望的波长范围的光即可，具体而言，考虑反射镜4A、4B之间的间隔的变化量以及变化速度等，并根据该光滤波器1中所要求的出射光的波长范围来进行设定。
隔膜部8是通过将第一基板2从面2a侧蚀刻(选择去除)而得以形成的，但为了吸收所发生的挠曲而抑制该挠曲传输到反射镜4A，具有充分的厚度为好，也可以通过将第一基板2从面2a以及面2b的双方开始蚀刻(选择去除)而形成。
在本实施方式的光滤波器1中，由隔着在各基板2、3之间所形成的第二间隙G2而相面对地设置的电极6A、6B、以及隔膜部8构成光滤波器1的静电致动器。
对具有这种结构的光滤波器1的动作(作用)进行说明。
若通过未图示的通电电路而在第一电极6A和第二电极6B之间施加电压，则第一电极6A和第二电极6B按相互逆极性的方式带电，从而在两者之间产生库仑力(静电引力)。此时未图示的检测电路对隔膜部8的变位状态进行检测，根据其检测结果，未图示的控制机构对通电电路的驱动进行控制。
通过该库仑力，使隔膜部8朝向第二电极6B向下方向移动(变位)。由此第一间隙G1及第二间隙G2的尺寸发生变化。
另一方面，如图1中所示，若从光滤波器1的上方朝向第一间隙G1照射光L，则光L透过第一基板2、反射镜4A而入射到第一间隙G1。
如上所述，在反射镜4A和反射镜4B之间光反复反射的过程中，不满足与反射镜4A和反射镜4B之间的第一间隙G1的尺寸所对应的干涉条件的波长的光急剧衰减，而仅留下满足该干涉条件的波长的光，且最终从光滤波器1射出。
因此，若通过使在第一电极6A及第二电极6B之间所施加的电压变更而将第一间隙G1进行变更(即变更干涉条件)，则能够使透过光滤波器1的光的波长变更。
接着，对本实施方式的光滤波器的制造方法进行说明。图4是表示本实施方式的光滤波器的制造方法的流程图，图5是制造方法的工序图。
如图4中所示，光滤波器的制造方法具备：反射镜及导电膜形成工序S1；电极其它端子等形成工序S2；和基板接合工序S3。
首先，当形成光滤波器1时，准备如图5(a)中所示那样施行了规定加工的第一基板2及第二基板3。在第一基板2中形成隔膜部8，在第二基板3中预先形成第一凹部5及第二凹部7。
接着，在反射镜以及导电膜形成工序S1中，首先如图5(b)中所示，在第一基板2的中央部形成电介质多层膜4，并且在第二基板3的第一凹部5的中央部形成电介质多层膜4。然后，在各电介质多层膜4、4上按覆盖这些电介质多层膜4、4的整体表面方式形成导电膜16、16。
其次，在电极其它端子形成工序S2中，如图5(c)中所示，在第一基板2及第二基板3的各接合面2b、3a上，将电极6A、6B、第一配线10A、第二配线10B、接合用金属膜9A、9B、基板间导通配线11A、11B(未图示)以及电极焊盘14c(未图示电极焊盘14a以及14b)分别图案化形成。
在基板接合工序S3中，利用表面激活接合装置(未图示)进行基板2、3的接合。表面激活接合是指通过对成为接合面的面在减压下(真空中)进行表面处理，而使接合面的原子变成容易化学结合的激活的状态，之后在常温那样的低温下进行接合。
具体而言，首先将基板2、3放入表面激活接合装置的真空室中，朝向上部吸盘使第一基板2由静电力吸附而得以固定，在下部台座上搭载第二基板3。然后，如图5(d)所示，将第一基板2的接合面2b和第二基板3的接合面3a按相面对的方式进行对位，且进行接合。
当基板2、3彼此对位时，使第一配线10A的连接部10a和第二配线10B的连接部10b在平面视时为一致；就未图示的基板间导通配线11A的连接部11a和基板间导通配线11B的连接部11b而言，在平面视时为一致。
然后，在真空中(减压下)对成为接合面的接合用金属膜9A、9B的表面分别利用粒子束和等离子体等进行溅射，从而使它们激活。由此接合用金属膜9A、9B上的污染物等被去除，并成为使具有悬键的原子露出的状态。
按照处于这样的状态下的接合用金属膜9A、9B的表面彼此接触(压接)的方式在常温下压按(押し当てる)第一基板2和第二基板3，从而能够将接合用金属膜9A、9B彼此(即基板2、3彼此)简单且牢固地接合。在接合的同时，第一基板2侧的可动反射镜4A和第二基板3侧的固定反射镜4B经由连接部10a、10b电连接。
根据本实施方式的光滤波器1及其制造方法，通过使一对相面对的反射镜4A、4B彼此在基板接合工序中S3中电短路而使反射镜4A、4B之间的电位差消除，从而能够消除在接合时的反射镜4A、4B彼此的粘贴。
在上述的接合工序中，由于在基板2、3的接合面的表面激活处理中所使用的粒子束和等离子体或在真空室内的上部吸盘处固定第一基板2时的静电吸盘等而引起反射镜4A、4B分别带电，从而反射镜4A、4B之间产生电位差。于是，在使基板2、3接合时，由于在反射镜4A、4B带电的电荷所产生的静电引力，从而反射镜4A、4B彼此粘贴。
因而，在本实施方式中，在基板接合时通过使第一配线10A及第二配线10B的连接部10a、10b连接而使反射镜4A、4B彼此短路，从而使通过表面激活处理等所带电的反射镜4A、4B的电位差消除。由此能够使接合后的反射镜4A、4B彼此的粘贴消除。另外，就完成后的结构而言，由于反射镜4A、4B彼此处于短路的状态，因此能够防止由静电致动器的驱动引起的反射镜4A、4B的带电。另外，优选将电极焊盘14b接地而使在反射镜4A、4B所带电的电荷向外部放出。由此，能够对反射镜4A、4B之间的间隙进行高精度的控制，并能够提高光滤波器的可靠性。
另外，在本实施方式中，将从反射镜4B引出的第一配线10A与电极焊盘14b连接，但是也可以与接合用金属膜9B接合。此时将接合用金属膜9B接地。
(第二实施方式)
接着，使用图6～图8对本发明的第二实施方式进行说明。图6是表示第二实施方式的光滤波器的剖面图，图7是将构成第二实施方式的光滤波器的第一基板从接合面侧进行表示的平面图，图8是将第二基板从接合面侧进行表示的平面图。
以下所述的本实施方式的光滤波器的基本结构与前面的实施方式大致相同，但是在基板间的导通由突起连接来实现这一点上是不同的。因此，在以下的说明中，对与前面的实施方式不同的结构进行详细的说明，并省略共同部位的说明。另外，在说明所使用的各附图中，对与图1～图5共同的结构要件赋予相同的符号。
如图6～图8中所示，本实施方式的光滤波器1具备：第一基板2，其在接合面2b上配置有可动反射镜4A、第一电极6A、基板间导通配线11A、第一配线10A；第二基板3，其在接合面3a上设置有固定反射镜4B、第二电极6B、基板间导通配线11B、第二配线10B。在这些接合面2b、3a上的与相面对的基板接合的部分处分别形成有能够进行氮化硅(シリコン窒化)膜等的表面激活接合的电介质膜(未图示)。
在本实施方式的第一基板2上所设置的第一配线10A及基板间导通配线11A中，在这些配线的一个端部(与反射镜4A及第一电极6A连接的一侧相反侧的端部)侧，设置有在其内侧具有弹性体19的突起连接部21、22。这些突起连接部21、22与在第二基板3上所设置的第二配线10B的连接部10b以及基板间导通配线11B的连接部11b连接。这里，作为第一配线10A以及基板间导通配线11A的材料优选使用Au，以在连接时使突起容易变形。
另外，将第二配线10B、基板间导通配线11B、各电极焊盘14a、14b、14c以及配线17在第二电极3的接合面3a所设置的槽23内形成，并且第一基板2侧的突起连接部21、22在进入各槽23内的状态下与所对应的连接部10b、11b分别连接。
在制造具有这种突起连接结构的光滤波器1的情况下，当经由在第一基板2和第二基板3的接合面2b、3a上所设置的氮化硅膜(未图示)而使第一基板2及第二基板3彼此表面激活接合时，各滤波器区域A内的第一配线10A的突起连接部21与连接部10b接触、并且基板间导通配线11A的突起连接部22与基板间导通配线11B的连接部11b接触，通过基板2、3彼此的按压而这些突起连接部21、22变形，因此在对第一间隙G1不带来影响的状态下将可动反射镜4A和固定反射镜4B电连接。
根据本实施方式的结构，由于具有以弹性体19为核心(コア)的突起连接部21(22)，因此能够在压扁(押し潰し)突起连接部21(22)的同时使基板2、3彼此接合，从而经由突起连接部21将反射镜4A、4B彼此准确地连接。另外，突起连接部21、22为所谓树脂核心突起，因此能够防止这些突起连接部21、22的电接点由伴随光滤波器1动作中的温度上升的热变形等而被破坏。
(第三实施方式)
接着，利用附图9及图10对本发明的第三实施方式进行说明。图9是表示第三实施方式的光滤波器的剖面图，图10(a)是将构成第三实施方式的光滤波器的第一基板从接合面侧进行表示的平面图，图10(b)是将第二基板从接合面侧进行表示的平面图。
本实施方式的光滤波器，如图9中所示，成为在完成后的状态下反射镜4A、4B彼此被绝缘的结构，这一点与前面的各实施方式不同。
如图9中所示，可动反射镜4A经由第一配线10A的突起连接部21及第二配线10B的连接部10b与第二基板3侧的电极焊盘14b连接。另一方面，在第一基板2上所设置的第一电极6A经由基板间导通配线11A的突起连接部22以及基板间导通配线11B的连接部11b与第二基板3侧的电极焊盘14a连接。
如图10(a)、(b)中所示，在本实施方式的第二基板3中，除了与第一电极6A连接的电极焊盘14a、与可动反射镜4A连接的电极焊盘14b、与第二电极6B连接的电极焊盘14c之外，还设置有与固定反射镜4B连接的电极焊盘14d；并成为各反射镜4A、4B分别与不同的电极焊盘14b、14d连接的结构。在这些电极焊盘14b、14d中输入同电位，从而能够防止由静电致动器的驱动所引起的反射镜4A、4B的带电。
接着，利用附图11对本实施方式的光滤波器的制造方法的一例进行说明。图11(a)是表示玻璃晶片(ガラスウエハ)W1的平面图，图11(b)是表示玻璃晶片W2的平面图。
在本实施方式中，利用玻璃晶片W1、W2将多个光滤波器1一并形成。玻璃晶片W1、W2被个片化(個片化)后就成为光滤波器1的第一基板2或第二基板3的部分。另外，在图11(a)、(b)中将滤波器区域A(对应一个滤波器1的区域)放大表示。
首先，准备如图11(a)、(b)中所示的预先施行了规定加工的玻璃晶片W1、W2。在各玻璃晶片W1、W2中形成隔膜部8和凹部5、7等，并在接合时各自相面对的面侧的各滤波器区域A中形成上述的各结构构件。
具体而言，在玻璃晶片W1的各滤波器区域A内形成：第一电极6A、可动反射镜4A、具有突起连接部21的第一配线10A、和具有突起连接部22的基板间导通配线11A等；并且在玻璃晶片W2的各滤波器区域A内形成第二电极6B、固定反射镜4B、第二配线10B、基板间导通配线11B、配线17以及多个电极焊盘14a、14b、14c、14d。
在本实施方式的玻璃晶片W1、W2上，在各滤波器区域A的周围分别设置切割(ダイシング)区域B。这里，在玻璃晶片W2侧的各切割区域B中将使各滤波器区域A内所形成的电极焊盘14b和电极焊盘14d连接的连接配线25在与各电极焊盘等同时进行图案化形成。
接着，对各玻璃晶片W1、W2的接合面(各接合面2b、3a)施行表面激活处理之后将各个接合面重合而进行接合。如上所述，由于在玻璃晶片W2上形成有按每个滤波器区域A连接电极焊盘14b、14d的连接配线25，因此将玻璃晶片W1、W2彼此接合时能够使可动反射镜4A和固定反射镜4B电连接。在使反射镜4A、4B彼此短路而形成同电位的状态下进行基板2、3彼此的接合，从而能够消除反射镜4A、4B彼此的粘贴。
接着，将各玻璃晶片W1、W2彼此沿着图11中的切割线D按每个滤波器区域A进行个片化。由于在接合后进行切割，因此连接配线25被切断而使电极焊盘14b和电极焊盘14d电分离，所以能够将分别独立的电位向各反射镜4A、4B提供。
由此，能够进行基于电极焊盘14b、14d的电容量检测的间隙测定。另外，通过将连接配线25的配线图案进行变形，从而在切割时也能够使电极焊盘14b、14d彼此保持电连接的状态。这能够通过将连接配线25在滤波器区域A内形成而得以实现。
另外，如图10(b)中所示，在本实施方式的光滤波器的第二基板3上，将电极焊盘14b、14d彼此连接的连接配线25的一部分作为残留部25a、25a存在。
接着，作为应用例对具备上述本发明的光滤波器的分析设备即测色设备30进行说明。
该测色设备30具备：具有光滤波器31(本发明的光滤波器1)和受光元件32的光滤波器装置33；以及具有驱动电路部34和测定电路部35的电路部36。作为受光元件32能够使用例如光电二极管等。另外，电路部36也可以具有放大电路部。就该测色设备30(分析设备)而言，从测定对象物M反射的光被入射到光滤波器31中，由驱动电路部34对光滤波器31的第一反射镜及第二反射镜之间的间隙进行控制，透过了被间隙控制后的光滤波器31的光由受光元件32接收，由受光元件32生成与受光量相应的电信号，并根据测定电路部35中生成的电信号来对所透过的光的光量进行测定。另外，也可以在测色设备30中内置光源40。
作为上述应用例而例示了分析设备(即测色设备30)，但是该分析设备也可以适用在通过对煤气(ガス)特有的吸收波长进行检测来进行煤气检测的煤气检测设备等中。另外，分析设备也可以适用于由光滤波器等光传递介质所传递的光中取出所希望的波长的光设备等中。另外，分析设备也可以适用于超频谱摄像机(ハイパ一スペクトルカメラ)等中。
以上，参照附图对本发明所涉及的适当的实施方式进行了说明，但当然本发明并不限于所涉及的例子。对于本技术领域的技术人员而言，在权利要求范围中所述的技术思想的范畴内，能够容易想到各种变形例或修正例是显然的，并且可认为有关那些变形例或修正例当然属于本发明的技术范围。
另外，在前面的各实施方式中，所述反射镜具有由电介质膜和导电膜构成的层叠结构，但是也可以仅由Ag等金属膜来构成反射镜。
另外，前面的各实施方式的光滤波器可以应用于例如测色传感器、光通信传感器、气体传感器等中。

Claims (17)

1.一种光滤波器，其特征在于，具备：
相互地面对配置的第一基板及第二基板；
在所述第一基板的所述第二基板侧所设置的第一反射镜及第一电极；和
在所述第二基板的所述第一基板侧所设置的第二反射镜及第二电极，
所述第一反射镜和所述第二反射镜经由配线连接。
2.根据权利要求1所述的光滤波器，其特征在于，具有：
从所述第一反射镜至所述第一基板的接合区域为止所引出的第一配线；和
从所述第二反射镜至所述第二基板的接合区域为止所引出的第二配线，
在所述接合区域中所述第一配线及所述第二配线彼此连接。
3.根据权利要求1或2所述的光滤波器，其特征在于，
所述第一反射镜及所述第二反射镜中的任一个与外部连接端子连接。
4.一种光滤波器，其特征在于，具备：
相互地面对配置的第一基板及第二基板；
在所述第一基板的所述第二基板侧所设置的第一反射镜及第一电极；和
在所述第二基板的所述第一基板侧所设置的第二反射镜及第二电极，
并且，所述第一反射镜和所述第二反射镜分别与外部连接端子连接。
5.根据权利要求4所述的光滤波器，其特征在于，
所述第一反射镜及所述第二反射镜经由配线与所述外部连接端子分别连接。
6.根据权利要求2或3所述的光滤波器，其特征在于，
在所述第一配线及所述第二配线的连接部位形成有：在其内部具有弹性体的突起结构。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的光滤波器，其特征在于，
所述第一反射镜及所述第二反射镜以包括导电膜的方式构成。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的光滤波器，其特征在于，
所述第一反射镜及所述第二反射镜具备：所述导电膜和电介质膜的层叠结构，所述导电膜具有透光性。
9.根据权利要求4所述的光滤波器，其特征在于，
形成有残留部，该残留部是将与所述外部连接端子所连接的配线切断后所残留的。
10.一种光滤波器装置，其特征在于，具备：
权利要求1至9中任一项所述的光滤波器；
受光元件，其对透过了所述光滤波器的光进行接收。
11.一种分析设备，其特征在于，具备：
权利要求1至9中任一项所述的光滤波器；
受光元件，其对透过了所述光滤波器的光进行接收；
驱动电路部，其对所述光滤波器的第一反射镜和第二反射镜的间隙进行驱动；和
测定电路部，其根据由所述受光元件所生成的电信号，对所透过的所述光的光量进行测定。
12.一种光滤波器的制造方法，其特征在于，具备：
在第一基板及第二基板的相面对侧将第一反射镜或第二反射镜形成的工序；
在所述第一反射镜及所述第二反射镜的周围形成电极的工序；
将与所述第一反射镜及所述第二反射镜连接的配线进行形成的工序；和
将所述第一基板及所述第二基板接合的工序，
在将所述第一基板和所述第二基板接合的工序中，使所述第一反射镜和所述第二反射镜经由所述配线连接。
13.根据权利要求12所述的光滤波器的制造方法，其特征在于，
在将与所述第一反射镜及所述第二反射镜连接的配线进行形成的工序中，按照从所述第一反射镜至所述第一基板的接合区域为止引出的方式形成第一配线，并且按照从所述第二反射镜至所述第二基板的接合区域为止引出的方式形成第二配线，
在将所述第一基板及所述第二基板接合的工序中，使所述第一配线和所述第二配线连接。
14.根据权利要求13所述的光滤波器的制造方法，其特征在于，
在将所述第一配线或所述第二配线进行形成时，
在以后的将所述第一基板及所述第二基板接合的工序中在所述第一配线及所述第二配线彼此被连接的部位，形成突起结构，该突起结构在其内部具有弹性体。
15.根据权利要求12或13所述的光滤波器的制造方法，其特征在于，
在使所述第一基板及所述第二基板接合之后，切断所述配线。
16.一种光滤波器的制造方法，其特征在于，具备：
在第一基板及第二基板的相面对面侧将第一反射镜或第二反射镜形成的工序；
在所述第一反射镜及所述第二反射镜的周围形成电极的工序；
将与所述第一反射镜及所述第二反射镜连接的配线进行形成的工序；和
将所述第一基板及所述第二基板接合的工序，
在将所述第一基板及所述第二基板接合的工序中，在对所述配线输入了电位的状态下，使所述第一基板及所述第二基板接合。
17.根据权利要求16所述的光滤波器的制造方法，其特征在于，
在所述第一基板及所述第二基板的任一个上形成与所述第一反射镜及所述第二反射镜连接的一对外部连接端子，并且经由这些所述一对外部连接端子对所述第一反射镜及所述第二反射镜输入电位。
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Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102608753A (zh) * 2011-01-20 2012-07-25 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光模块、光分析装置以及分析装置
CN102636829A (zh) * 2011-02-15 2012-08-15 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光模块以及光分析装置
CN102645740A (zh) * 2011-02-17 2012-08-22 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光模块及光分析装置
CN102645741A (zh) * 2011-02-16 2012-08-22 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光模块以及光分析设备
CN102736156A (zh) * 2011-04-11 2012-10-17 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光模块以及电子设备
CN102798972A (zh) * 2011-05-25 2012-11-28 精工爱普生株式会社 滤光器、滤光器模块以及光分析装置
CN102902059A (zh) * 2011-07-26 2013-01-30 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、滤光器模块以及光分析装置
CN103257386A (zh) * 2012-02-16 2013-08-21 精工爱普生株式会社 干涉滤波器、光学模块以及电子设备
CN103424864A (zh) * 2012-05-18 2013-12-04 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光学滤波器装置、光学模块及设备
CN104007499A (zh) * 2013-02-25 2014-08-27 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、滤光器设备、光模块以及电子设备
CN104007497A (zh) * 2013-02-22 2014-08-27 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、滤光器设备、光模块及电子设备
CN104060221A (zh) * 2013-03-23 2014-09-24 京瓷晶体元件有限公司 光学器件制造方法
CN104345366A (zh) * 2013-08-07 2015-02-11 精工爱普生株式会社 光学滤波器、光模块、电子设备及光学滤波器的制造方法
CN104880818A (zh) * 2014-02-28 2015-09-02 精工爱普生株式会社 滤光器、光学模块、电子设备及滤光器的制造方法
CN104880817A (zh) * 2014-02-28 2015-09-02 精工爱普生株式会社 滤光器、光学模块及电子设备
WO2020110106A1 (en) * 2018-11-26 2020-06-04 Unispectral Ltd. A tunable filter having different gaps
CN112777562A (zh) * 2019-11-07 2021-05-11 躍旺创新股份有限公司 致动器及包含致动器的芯片

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5370246B2 (ja) 2009-05-27 2013-12-18 セイコーエプソン株式会社 光フィルター、光フィルター装置、分析機器、および光フィルターの製造方法
JP5780273B2 (ja) * 2009-05-27 2015-09-16 セイコーエプソン株式会社 光フィルター、光フィルター装置、および分析機器
JP5673117B2 (ja) * 2011-01-18 2015-02-18 セイコーエプソン株式会社 光モジュール、および光分析装置
JP5716412B2 (ja) 2011-01-24 2015-05-13 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置
JP5845588B2 (ja) * 2011-02-09 2016-01-20 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルター、光モジュール、光分析装置および波長可変干渉フィルターの製造方法
JP5842338B2 (ja) * 2011-02-17 2016-01-13 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルター、光モジュール、および電子機器
JP5807353B2 (ja) * 2011-03-18 2015-11-10 セイコーエプソン株式会社 光フィルター及び光フィルターモジュール並びに分析機器及び光機器
JP5747623B2 (ja) * 2011-04-11 2015-07-15 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び電子機器
JP5899645B2 (ja) * 2011-04-14 2016-04-06 セイコーエプソン株式会社 干渉フィルター、光モジュール、及び電子機器
JP5790116B2 (ja) * 2011-04-20 2015-10-07 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び電子機器
JP5821293B2 (ja) * 2011-06-01 2015-11-24 セイコーエプソン株式会社 光フィルター、光フィルターモジュール、光分析装置および光フィルターの製造方法
JP6119090B2 (ja) 2011-09-27 2017-04-26 セイコーエプソン株式会社 光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器
JP5874271B2 (ja) * 2011-09-27 2016-03-02 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器
JP5834718B2 (ja) 2011-09-29 2015-12-24 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器
JP5879910B2 (ja) * 2011-10-18 2016-03-08 セイコーエプソン株式会社 光フィルター、光フィルターモジュール、分析機器、及び光機器
US8736939B2 (en) 2011-11-04 2014-05-27 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Matching layer thin-films for an electromechanical systems reflective display device
JP6019863B2 (ja) * 2012-07-18 2016-11-02 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、および電子機器、並びに波長可変干渉フィルターの製造方法
JP2014164018A (ja) * 2013-02-22 2014-09-08 Seiko Epson Corp 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器
JP6140493B2 (ja) * 2013-03-23 2017-05-31 京セラ株式会社 光学デバイスの製造方法
FI125690B (en) * 2013-06-18 2016-01-15 Teknologian Tutkimuskeskus Vtt Oy Mirror for Fabry-Perot interferometer and method for its manufacture
JP6135365B2 (ja) * 2013-07-29 2017-05-31 セイコーエプソン株式会社 干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、電子機器、干渉フィルターの製造方法、及びｍｅｍｓ素子
JP6264810B2 (ja) 2013-09-27 2018-01-24 セイコーエプソン株式会社 干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器
JP2015068885A (ja) * 2013-09-27 2015-04-13 セイコーエプソン株式会社 干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器
JP5962797B2 (ja) * 2015-02-26 2016-08-03 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置
JP2017005423A (ja) * 2015-06-08 2017-01-05 セイコーエプソン株式会社 撮像装置および電子機器
CN106331442B (zh) * 2015-07-02 2021-01-15 松下知识产权经营株式会社 摄像装置
JP2017013408A (ja) 2015-07-02 2017-01-19 株式会社リコー 被処理物改質装置、被処理物改質システム、画像形成システムおよび画像形成方法
JP5958620B2 (ja) * 2015-07-30 2016-08-02 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び電子機器
JP6332343B2 (ja) * 2016-06-29 2018-05-30 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置
JP7025903B2 (ja) * 2017-11-24 2022-02-25 浜松ホトニクス株式会社 電気的検査方法
JP6601521B2 (ja) * 2018-03-12 2019-11-06 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置
FI20205917A1 (en) 2020-09-22 2022-03-23 Teknologian Tutkimuskeskus Vtt Oy Capacitively controlled Fabry-Perot interferometer

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1979256A (zh) * 2005-12-07 2007-06-13 中国科学院半导体研究所 宽频域的硅基微机械可调谐光滤波器的制作方法
CN101004476A (zh) * 2006-01-19 2007-07-25 精工爱普生株式会社 光学设备、波长可变滤波器、波长可变滤波器模块及光谱分析器
JP2008116669A (ja) * 2006-11-02 2008-05-22 Seiko Epson Corp 光学デバイス、光学デバイスの製造方法、波長可変フィルタ、波長可変フィルタモジュール、および光スペクトラムアナライザ
US20080291374A1 (en) * 2007-05-22 2008-11-27 Himax Display, Inc. Structure of a display panel

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4269481A (en) * 1979-07-06 1981-05-26 Rockwell International Corporation Multiple-cavity electro-optic tunable filter
US4247166A (en) * 1979-08-15 1981-01-27 Rockwell International Corporation Single plate birefringent optical filter
US4508964A (en) * 1982-09-29 1985-04-02 Rockwell International Corporation Electro-optically tuned rejection filter
GB8621439D0 (en) * 1986-09-05 1986-10-15 Secr Defence Electro-optic device
US5068749A (en) * 1990-08-31 1991-11-26 Bell Communications Research, Inc. Electronically tunable polarization-independent liquid crystal optical filter
JP3724245B2 (ja) 1999-03-04 2005-12-07 セイコーエプソン株式会社 光スイッチング素子および画像表示装置
US6400738B1 (en) * 2000-04-14 2002-06-04 Agilent Technologies, Inc. Tunable Fabry-Perot filters and lasers
JP2004212638A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Fuji Photo Film Co Ltd 光変調素子及び平面表示素子
JP2005037762A (ja) * 2003-07-17 2005-02-10 Sun Tec Kk 光学素子、波長可変光フィルタ、光アドドロップモジュールおよび波長可変光源
JP4489393B2 (ja) 2003-08-21 2010-06-23 オリンパス株式会社 半導体装置
US7466726B2 (en) * 2003-10-14 2008-12-16 Polaronyx, Inc. Fast continuously wavelength tuning single frequency fiber laser using tunable polymer optical filters
JP2005165067A (ja) * 2003-12-03 2005-06-23 Seiko Epson Corp 波長可変フィルタおよび波長可変フィルタの製造方法
US7142346B2 (en) * 2003-12-09 2006-11-28 Idc, Llc System and method for addressing a MEMS display
US7265477B2 (en) * 2004-01-05 2007-09-04 Chang-Feng Wan Stepping actuator and method of manufacture therefore
JP4210245B2 (ja) * 2004-07-09 2009-01-14 セイコーエプソン株式会社 波長可変フィルタ及び検出装置
US7734131B2 (en) * 2006-04-18 2010-06-08 Xerox Corporation Fabry-Perot tunable filter using a bonded pair of transparent substrates
US7527998B2 (en) 2006-06-30 2009-05-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method of manufacturing MEMS devices providing air gap control
JP4910645B2 (ja) 2006-11-06 2012-04-04 株式会社日立製作所 画像信号処理方法、画像信号処理装置、表示装置
JP5130729B2 (ja) * 2007-01-31 2013-01-30 セイコーエプソン株式会社 アクチュエータ、アクチュエータの製造方法、光スキャナおよび画像形成装置
US8559090B2 (en) * 2008-07-31 2013-10-15 Lightwaves 2020, Inc. Tunable optical filter and method of manufacture thereof
JP5798709B2 (ja) * 2009-03-04 2015-10-21 セイコーエプソン株式会社 光フィルター及びそれを備えた光モジュール
JP5370246B2 (ja) 2009-05-27 2013-12-18 セイコーエプソン株式会社 光フィルター、光フィルター装置、分析機器、および光フィルターの製造方法
JP6010275B2 (ja) * 2010-03-15 2016-10-19 セイコーエプソン株式会社 光フィルター並びにそれを用いた分析機器及び光機器
JP2011232447A (ja) * 2010-04-26 2011-11-17 Seiko Epson Corp 光フィルター、光フィルターモジュール、および分析機器
JP5673049B2 (ja) * 2010-12-08 2015-02-18 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置
JP5834418B2 (ja) * 2011-02-04 2015-12-24 セイコーエプソン株式会社 光フィルター、光フィルターモジュール、分析機器及び光機器

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1979256A (zh) * 2005-12-07 2007-06-13 中国科学院半导体研究所 宽频域的硅基微机械可调谐光滤波器的制作方法
CN101004476A (zh) * 2006-01-19 2007-07-25 精工爱普生株式会社 光学设备、波长可变滤波器、波长可变滤波器模块及光谱分析器
JP2008116669A (ja) * 2006-11-02 2008-05-22 Seiko Epson Corp 光学デバイス、光学デバイスの製造方法、波長可変フィルタ、波長可変フィルタモジュール、および光スペクトラムアナライザ
US20080291374A1 (en) * 2007-05-22 2008-11-27 Himax Display, Inc. Structure of a display panel

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102608753A (zh) * 2011-01-20 2012-07-25 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光模块、光分析装置以及分析装置
CN102636829A (zh) * 2011-02-15 2012-08-15 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光模块以及光分析装置
US9664890B2 (en) 2011-02-15 2017-05-30 Seiko Epson Corporation Variable wavelength interference filter, optical module, and optical analyzer
CN102645741A (zh) * 2011-02-16 2012-08-22 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光模块以及光分析设备
CN105022160A (zh) * 2011-02-16 2015-11-04 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光模块以及光分析设备
CN102645741B (zh) * 2011-02-16 2016-11-23 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光模块以及光分析设备
CN102645740A (zh) * 2011-02-17 2012-08-22 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光模块及光分析装置
CN102736156A (zh) * 2011-04-11 2012-10-17 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光模块以及电子设备
CN105334561B (zh) * 2011-04-11 2018-07-17 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光模块以及电子设备
CN105334561A (zh) * 2011-04-11 2016-02-17 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光模块以及电子设备
CN102736156B (zh) * 2011-04-11 2015-12-16 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光模块以及电子设备
CN102798972A (zh) * 2011-05-25 2012-11-28 精工爱普生株式会社 滤光器、滤光器模块以及光分析装置
CN102798972B (zh) * 2011-05-25 2016-08-17 精工爱普生株式会社 滤光器、滤光器模块以及光分析装置
CN102902059A (zh) * 2011-07-26 2013-01-30 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、滤光器模块以及光分析装置
CN102902059B (zh) * 2011-07-26 2017-04-12 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、滤光器模块以及光分析装置
CN103257386A (zh) * 2012-02-16 2013-08-21 精工爱普生株式会社 干涉滤波器、光学模块以及电子设备
CN103424864A (zh) * 2012-05-18 2013-12-04 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、光学滤波器装置、光学模块及设备
CN104007497A (zh) * 2013-02-22 2014-08-27 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、滤光器设备、光模块及电子设备
CN104007499A (zh) * 2013-02-25 2014-08-27 精工爱普生株式会社 波长可变干涉滤波器、滤光器设备、光模块以及电子设备
CN104060221A (zh) * 2013-03-23 2014-09-24 京瓷晶体元件有限公司 光学器件制造方法
CN104345366A (zh) * 2013-08-07 2015-02-11 精工爱普生株式会社 光学滤波器、光模块、电子设备及光学滤波器的制造方法
CN104345366B (zh) * 2013-08-07 2017-12-05 精工爱普生株式会社 光学滤波器、光模块、电子设备及光学滤波器的制造方法
CN104880817A (zh) * 2014-02-28 2015-09-02 精工爱普生株式会社 滤光器、光学模块及电子设备
CN104880818A (zh) * 2014-02-28 2015-09-02 精工爱普生株式会社 滤光器、光学模块、电子设备及滤光器的制造方法
WO2020110106A1 (en) * 2018-11-26 2020-06-04 Unispectral Ltd. A tunable filter having different gaps
CN112777562A (zh) * 2019-11-07 2021-05-11 躍旺创新股份有限公司 致动器及包含致动器的芯片

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Publication number Publication date
JP5370246B2 (ja) 2013-12-18
US9069160B2 (en) 2015-06-30
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