JP2011232447A - 光フィルター、光フィルターモジュール、および分析機器 - Google Patents
光フィルター、光フィルターモジュール、および分析機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011232447A JP2011232447A JP2010101092A JP2010101092A JP2011232447A JP 2011232447 A JP2011232447 A JP 2011232447A JP 2010101092 A JP2010101092 A JP 2010101092A JP 2010101092 A JP2010101092 A JP 2010101092A JP 2011232447 A JP2011232447 A JP 2011232447A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- electrode
- optical filter
- electrode pad
- mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00634—Production of filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/001—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements based on interference in an adjustable optical cavity
Abstract
【解決手段】エタロン5は、平面正方形状の板状の光学部材であり、第1基板51および第2基板52を備えている。第1基板51は、第2基板52に対向しない第1突出部513を有しており、この第1突出部513に第1電極パッド541Bが形成されている。また、第2基板52は、第1基板51に対向しない第2突出部524を有しており、この第2突出部524に第2電極パッド542Bが形成されている。
【選択図】図2
Description
このため、第1電極パッドは、第2基板に邪魔されずに露出するので、例えば、光フィルターの第2基板側から第1基板の第1電極パッドに接続端子を接触させることで、確実に外部配線を接続させることができる。同様に、第2電極パッドは、第1基板に邪魔されずに露出するので、例えば、光フィルターの第1基板側から第2基板の第2電極パッドに接続端子を接触させることで、確実に外部の導線を接続させることができる。したがって、配線の接続の信頼性を向上させることができる。
また、光フィルターの製造時、第1電極パッドおよび第2電極パッドに配線を接続する配線作業の作業効率を向上させることができる。
このため、上述したように、第1電極パッドは、第2基板に邪魔されずに露出するので、例えば、光フィルターの第2基板側から第1基板の第1電極パッドに接続端子を接触させることで、確実に外部配線を接続させることができる。同様に、第2電極パッドは、第1基板に邪魔されずに露出するので、例えば、光フィルターの第1基板側から第2基板の第2電極パッドに接続端子を接触させることで、確実に外部の導線を接続させることができる。したがって、配線の接続の信頼性を向上させることができる。
また、光フィルターの製造時、第1電極パッドおよび第2電極パッドに配線を接続する配線作業の作業効率を向上させることができる。
これによれば、各基板の端部に設けられた各電極パッドに対して、対向する基板に邪魔されることなく、より簡単かつ確実に外部配線を接続させることができる。すなわち、接続の信頼性を向上させることができる。
特に、第1電極パッドおよび第2電極パッドの接続面側に空間(以降、電極取出空間ということもある。)が形成されるため、配線作業が容易となり、確実に配線を接続させることができる。
ここで、光フィルターモジュールとしては、例えば、光フィルターにより取り出された光を受光し、その受光量を電気信号として出力する光フィルターモジュールなどが例示できる。
したがって、光フィルターを備えた光フィルターモジュールにおいても、同様に、配線の接続の信頼性を向上させることができるとともに、配線作業の作業効率を向上させることができる。
ここで、分析機器としては、上記のような光フィルターモジュールから出力される電気信号に基づいて、光フィルターモジュールに入射した光の色度や明るさなどを分析する光測定器、ガスの吸収波長を検出してガスの種類を検査するガス検出装置、受光した光からその波長の光に含まれるデータを取得する光通信装置などを例示することができる。
〔1.分析機器の全体構成〕
分析機器1は、図1に示すように、被検査対象Aに光を射出する光源装置2と、本発明の光フィルターモジュール3と、分析機器1の全体動作を制御する制御装置4とを備えている。そして、この分析機器1は、光源装置2から射出される光を被検査対象Aにて反射させ、反射された検査対象光を光フィルターモジュール3にて受光し、光フィルターモジュール3から出力される検出信号に基づいて、検査対象光の色度、すなわち被検査対象Aの色を分析して測定する。
光源装置2は、光源21、複数のレンズ22(図1には1つのみ記載)を備え、被検査対象Aに対して白色光を射出する。また、複数のレンズ22には、コリメーターレンズが含まれており、光源装置2は、光源21から射出された白色光をコリメーターレンズにより平行光とし、図示しない投射レンズから被検査対象Aに向かって射出する。
光フィルターモジュール3は、本発明の光フィルターを構成するエタロン5と、エタロン5を透過する光を受光する受光手段としての受光素子31と、エタロン5で透過させる光の波長を可変する電圧制御手段6と、を備えている。また、光フィルターモジュール3は、エタロン5に対向する位置に、被検査対象Aで反射された反射光(検査対象光)を、内部に導光する図示しない入射光学レンズを備えている。そして、この光フィルターモジュール3は、エタロン5により、入射光学レンズから入射した検査対象光のうち、所定波長の光のみを分光し、分光した光を受光素子31にて受光する。
受光素子31は、複数の光電交換素子により構成されており、受光量に応じた電気信号を生成する。そして、受光素子31は、制御装置4に接続されており、生成した電気信号を受光信号として制御装置4に出力する。
以下、エタロン5の構成を図2から図4に基づいて説明する。なお、図1では、エタロン5に検査対象光が図中下側から入射しているが、図3および図4では、検査対象光が図中上側から入射するものとする。
エタロン5は、図2に示すように、平面視正方形状の板状の光学部材であり、一辺が例えば10mmに形成されている。このエタロン5は、第1基板51、および第2基板52を備えている。これらの2枚の基板51,52は、それぞれ例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラスなどの各種ガラスや、水晶などにより形成されている。
そして、第1基板51および第2基板52は、後述の接合面514,525が接合されることで、一体的に構成されている。なお、図2に示すようなエタロン5を厚み方向から見た平面視(以降、エタロン平面視と称す)において、第1基板51が第2基板52と重なる領域、すなわち第1辺51Aと第2基板の第4辺52Bとの間の第1基板の領域を第1重畳領域FAとし、第2基板52が第1基板51と重なる領域、すなわち第1基板51の第1辺51Aと第4辺52Bとの第2基板の間の領域を第2重畳領域FBとする。
さらに、第1基板51と第2基板52との間には、固定ミラー56および可動ミラー57の間のミラー間ギャップGの寸法を調整するための静電アクチュエーター54が設けられている。
第1基板51は、エタロン平面視において、対向する第1辺51Aおよび第2辺51Bと、これらの辺に直交して互いに対向する他の2辺により平面視略正方形状に形成されている。第1基板51は、厚みが例えば500μmに形成されるガラス基材をエッチングにより加工することで形成される。具体的には、図3、図4に示すように、第1基板51には、エッチングにより電極形成溝511、ミラー固定部512および第1突出部513が形成される。
電極形成溝511は、エタロン平面視において、平面中心点を中心とした円形に形成されている。ミラー固定部512は、前記平面視において、電極形成溝511の中心部から第2基板52側に突出して形成される。
また、第1電極541の上には、絶縁膜543が形成されている。絶縁膜543としては、TEOS(TetraEthoxySilane)が用いられる。
なお、本実施形態では、固定ミラー56として、エタロン5で分光可能な波長域として可視光全域をカバーできるAg合金単層のミラーを用いる例を示すが、これに限定されず、例えば、エタロン5で分光可能な波長域が狭いが、AgC単層ミラーよりも、分光された光の透過率が大きく、透過率の半値幅も狭く分解能が良好な、例えばTiO2−SiO2系誘電体多層膜ミラーを用いる構成としてもよい。ただし、この場合、上述したように、第1基板51のミラー固定面512Aや電極固定面511Aの高さ位置を、固定ミラー56や可動ミラー57、分光させる光の波長選択域などにより、適宜設定する必要がある。
そして、第1パッド固定面513Aにおける第1基板51の一方の頂点付近には、第1電極パッド541Bが形成されている。なお、第1電極パッド541Bは、全体が第1パッド固定面513Aに露出された状態であってもよいし、一部が第1パッド固定面513Aに露出された状態であってもよい。
また、第1基板51には、第1パッド固定面513Aにおける第1基板51の一方の頂点付近から電極固定面511Aに亘って、これら電極固定面511Aおよび第1パッド固定面513Aと同一平面となる底面を有する第1電極導入溝511Cが形成されている。
そして、これらの第1電極導入溝511Cの底面には、第1電極541の外周縁の一部から延出し、第1電極パッド541Bに接続する第1電極引出部541Aが形成される。これにより、第1電極541、第1電極引出部541A、および第1電極パッド541Bは導通され、第1電極541に所定の電圧を印加することができる。これらの第1電極541、第1電極引出部541A、および第1電極パッド541Bは、ITO膜により一体形成される電極であり、第1基板51上にスパッタリングなどの手法により膜状に形成される。
そして、接合面514には、それぞれ、図3、図4に示すように、接合用の第1接合膜581が膜状に形成されている。この第1接合膜581には、主材料としてポリオルガノシロキサンが用いられる。
第2基板52は、対向する第3辺52Aおよび第4辺52Bと、これらの辺に直交して互いに対向する他の2辺により平面視長方形状に形成されている。なお、第1基板51と第2基板52とが貼り合わされたエタロン5が、平面視略正方形状となるように、各基板の大きさが調整される。第2基板52は、厚みが例えば200μmに形成されるガラス基材をエッチングにより加工することで形成される。
具体的には、第2基板52には、図2に示すようなエタロン平面視において、平面中心点を中心とした円形の変位部521が形成される。この変位部521は、円柱状の可動部522と、可動部522と同軸であり可動部522を保持する連結保持部523と、を備えている。
このような変位部521は、図3および図4に示すように、第2基板52の形成素材である平板状のガラス基材に対してエッチングを施すことにより溝を形成することで形成される。すなわち、変位部521は、第2基板52の第1基板51に対向しない入射側面に、連結保持部523を形成するための円環状の凹溝をエッチング形成することで、形成されている。
ここで、この可動ミラー57は、上述した固定ミラー56と同一の構成のミラーが用いられ、本実施形態では、Ag合金単層ミラーが用いられる。また、Ag合金単層ミラーの膜厚寸法は、例えば0.03μmに形成されている。
そして、第2パッド固定面524Aにおける第2基板52の一方の頂点付近には、第2電極パッド542Bが形成されている。
また、第2電極542の外周縁の一部から延出し、第2電極パッド542Bに接続する第2電極引出部542Aが形成される。これにより、第2電極542、第2電極引出部542A、および第2電極パッド542Bは導通され、第2電極542に所定の電圧を印加することができる。これらの第2電極542、第2電極引出部542A、および第2電極パッド542Bは、ITO膜により一体形成される電極であり、第2基板52上にスパッタリングなどの手法により膜状に形成される。
エタロン5では、上述したような第1基板51の接合面514および第2基板52の接合面525を接合することにより一体的に形成される。このようなエタロン5は、第1重畳領域FAと第2重畳領域FBとが対向して接合され、第1突出部513および第2突出部524がこれらの重畳領域から面方向に突出している。この構成を言い換えると、第1基板51の第1辺51Aと第2基板52の第3辺52A、および第1基板51の第2辺51Bと第2基板52の第4辺52Bが重なる状態から、第1基板51を、第2基板52に対して第1辺51Aから第2辺52Bに向かう方向(図2中、矢印の方向)にオフセットした状態で接合された構成である。
したがって、図2に示すように、第1基板51において、第2基板52の第4辺52Bと第1基板51の第2辺51Bとで囲われた部分が上述の第1突出部513となり、第2基板52の第4辺52Bと第1基板51の第1辺51Aとで囲われた領域のうち溝の形成されない領域が第1接合面514となる。また、第2基板52において、第1基板51の第1辺51Aと第2基板52の第3辺52Aとで囲われた部分が上述の第2突出部524となり、第1基板51の第1辺51Aと第2基板の第4辺52Bとで囲われた領域のうち第1基板51の第1接合面514と対向する領域が第2接合面525となる。
このため、第1電極パッド541Bおよび第2電極パッド542Bに、それぞれ電圧制御手段6に接続される導線を接続することで、静電アクチュエーター54を制御することが可能となる。
なお、本実施形態では、1つの第1電極パッド541Bおよび1つの第2電極パッド542Bが設けられるが、2つの第1電極パッド541Bおよび2つの第2電極パッド542Bを設けた構成としてもよい。この場合は、静電アクチュエーター54の駆動時には、2つの第1電極パッド541Bのうちいずれか一方、および2つの第2電極パッド542Bのうちのいずれか一方にのみに電圧が印加される。そして、他方の第1電極パッド541Bおよび第2電極パッド542Bは、第1電極541および第2電極542の電荷保持量を検出するための検出端子として用いられる。
上述のようなエタロン5と電圧制御手段6との接続では、第1電極パッド541Bおよび第2電極パッド542Bに、それぞれ、電圧制御手段6に接続された導線をフレキシブル基板などにより接続する。
ここで、エタロン5の第1基板51の第1突出部513には第2基板52が対向しておらず、第2基板52の第2突出部524には第1基板51が対向していない。このため、エタロン5に導線を接続する際には、第1突出部513の第1パッド固定面513Aに形成された第1電極パッド541Bおよび第2突出部524の第2パッド固定面524Aに形成された第2電極パッド542Bにフレキシブル基板を重ねて接続させるだけでよい。すなわち、対向する基板間に導電性のペーストを流し込むなどの煩雑な作業が不要となり、第1電極パッド541Bや第2電極パッド542Bに直接接続することが可能となる。また、第1突出部513および第2突出部524には、対向する基板がないため作業スペースを大きく取ることができ、エタロン5への配線作業を容易に実施することができる。
電圧制御手段6は、上記エタロン5とともに、本発明の光フィルターを構成する。この電圧制御手段6は、制御装置4からの入力される制御信号に基づいて、静電アクチュエーター54の第1電極541および第2電極542に印加する電圧を制御する。
制御装置4は、分析機器1の全体動作を制御する。
この制御装置4としては、例えば汎用パーソナルコンピューターや、携帯情報端末、その他、測色専用コンピューターなどを用いることができる。
そして、制御装置4は、図1に示すように、光源制御部41、光フィルターモジュール制御部42、および光処理部43などを備えて構成されている。
光源制御部41は、光源装置2に接続されている。そして、光源制御部41は、例えば利用者の設定入力に基づいて、光源装置2に所定の制御信号を出力し、光源装置2から所定の明るさの白色光を射出させる。
光フィルターモジュール制御部42は、光フィルターモジュール3に接続されている。そして、光フィルターモジュール制御部42は、例えば利用者の設定入力に基づいて、光フィルターモジュール3にて受光させる光の波長を設定し、この波長の光の受光量を検出する旨の制御信号を光フィルターモジュール3に出力する。これにより、光フィルターモジュール3の電圧制御手段6は、制御信号に基づいて、利用者が所望する光の波長のみを透過させるよう、静電アクチュエーター54への印加電圧を設定する。
次に、上記エタロン5の製造方法について、図面に基づいて説明する。
エタロン5を製造するためには、第1基板51および第2基板52をそれぞれ形成し、形成された第1基板51と第2基板52とを貼り合わせる。
(5−1.第1基板形成工程)
図5(A)に示す第1基板51の製造素材である石英ガラス基板50(表面粗さRa=1nm以下、厚み500μm)の両面を鏡面研磨し、石英ガラス基板50の両面にレジストを形成する(図示しない)。
次に、同じく第2基板52と対向する側の面50Aに、ミラー固定部512のパターンのレジストを形成し(図示しない)、フッ酸水溶液を用いてエッチングを実施する。これにより、図5(C)に示すように、電極固定面511Aより高い位置にあるミラー固定面512Aを有するミラー固定部512が形成される。そして、第2基板52と対向する側の面50Aに残ったレジストを剥離する。
そして、同じく第2基板52と対向する側の面50Aに、第1電極541だけが露出するパターンのレジストを形成し(図示しない)、厚み0.1μmのTEOS(TetraEthOxySilane)膜をプラズマCVD法により成膜する。そして、レジストを剥離することで、図6(B)に示すように、第1電極541の上に絶縁膜543が形成される。
このようにして、第1基板51に第1薄片50Cが形成された基板が完成する。
図7(A)に示すように、第2基板52の製造素材である石英ガラス基板(表面粗さRa=1nm以下)の両面を鏡面研磨して、厚み200μmの石英ガラス基板60を作製する。
次に、図7(B)に示すように、石英ガラス基板60の両面60A、60Bに、Cr/Au膜61および62をスパッタリングにより成膜する。このときの各膜の厚みは、Cr膜50nm、Au膜500nmである。
次に、石英ガラス基板60をフッ酸水溶液に浸すことで、150μmエッチングする。これにより、図7(D)に示すように、厚さ50μmの連結保持部523および第2薄片60Cが形成される。
そして、図8(A)に示すように、石英ガラス基板60の両面に残ったCr/Au膜61、62を剥離する。
このようにして、第2基板52に第2薄片60Cが形成された基板が完成する。
次に、図9(A)に示すように、上述の第1基板形成工程および第2基板形成工程で形成された各基板を貼り合わせる。具体的には、各基板に形成された第1接合膜581および第2接合膜582を構成するプラズマ重合膜に活性化エネルギーを付与するために、O2プラズマ処理またはUV処理を行う。O2プラズマ処理は、O2流量30cc/分、圧力27Pa、RFパワー200Wの条件で30秒間実施する。また、UV処理は、UV光源としてエキシマUV(波長172nm)を用いて3分間処理を行う。プラズマ重合膜に活性化エネルギーを付与した後、2つの基板のアライメントを行い、第1接合膜581および第2接合膜582を重ね合わせて荷重をかけることにより、基板同士を接合させる。
以上の実施形態によれば、以下の作用効果を奏することができる。
第1基板51の第1電極パッド541Bは、第2基板52に対向していない第1突出部513に設けられている。このため、エタロン平面視において、第1電極パッド541Bは第2基板52に重ならない。すなわち、第1電極パッド541Bが露出するとともに、第1電極パッド541Bの第2基板52側に電極取出空間が形成される。これによれば、第1電極パッド541Bが第2基板52に邪魔されることなく露出するので、第1電極パッド541Bに外部配線となるフレキシブル基板を簡単に接続させることができる。
同様に、第2基板52の第2電極パッド542Bは、第1基板51に対向していない第2突出部524に設けられている。このため、エタロン平面視において、第2電極パッド542Bは第1基板51に重ならない。すなわち、第2電極パッド542Bが露出するとともに、第2電極パッド542Bの第1基板51側に電極取出空間が形成される。これによれば、第2電極パッド542Bが第1基板51に邪魔されることなく露出するので、第2電極パッド542Bに外部配線となるフレキシブル基板を簡単に接続させることができる。
したがって、接続を確実にすることができ、接続の信頼性を向上させることができる。
このように、対向する基板に邪魔されることなく配線作業を容易に行うことができるため、配線を確実に接続させることができ、接続の信頼性がより向上する。
これによれば、エタロン5の第1突出部513に設けられた第1電極パッド541Bおよび第2突出部524に設けられた第2電極パッド542Bは露出しているので、レジストのパターニングの処理が複雑になり作業性が低下するおそれがある。したがって、エタロン5が完成するまでは、第1薄片50Cおよび第2薄片60Cにより、露出している第1電極パッド541Bおよび第2電極パッド542Bを覆うことで、これらを考慮する必要がなく、容易に各処理を実施することができ、作業効率に優れる。
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
Claims (5)
- 第1基板と、
前記第1基板に対向する第2基板と、
前記第1基板に設けられた第1反射膜と、
前記第2基板に設けられ、前記第1反射膜に対向する第2反射膜と、
前記第1基板に設けられた第1電極と、
前記第2基板に設けられ、前記第1電極に対向する第2電極と、
前記第1基板に設けられ、前記第1電極に接続された第1引出配線と、
前記第1基板に設けられ、前記第1引出配線に接続された第1電極パッドと、
前記第2基板に設けられ、前記第2電極に接続された第2引出配線と、
前記第2基板に設けられ、前記第2引出配線に接続された第2電極パッドと、を備え、
厚み方向から見た平面視において、前記第1電極パッドの少なくとも一部は前記第2基板と重なっておらず、
前記平面視において、前記第2電極パッドの少なくとも一部は前記第1基板とは重なっていない
ことを特徴とする光フィルター。 - 請求項1に記載の光フィルターにおいて、
前記第1基板は、前記平面視において、前記第2基板と重なる第1重畳領域とこの第1重畳領域から前記第1基板の面方向に向かって突出する第1突出部とを有し、
前記第2基板は、前記平面視において、前記第1基板と重なる第2重畳領域とこの第2重畳領域から前記第2基板の面方向に向かって突出する第2突出部とを有し、
前記第1突出部に前記第1電極パッドが設けられ、
前記第2突出部に前記第2電極パッドが設けられている
ことを特徴とする光フィルター。 - 請求項2に記載の光フィルターにおいて、
前記第1基板は、第1辺と前記第1辺に平行な第2辺とを有し、
前記第2基板は、第3辺と前記第3辺に平行な第4辺とを有し、
前記第1辺から前記第2辺に向かう方向と前記第3辺から前記第4辺に向かう方向とは同一の方向であり、
前記第1基板は、前記第2基板に対して、前記第1辺から前記第2辺に向かう方向にオフセットして配置され、
前記第1突出部は、前記平面視において、前記第2辺と前記第4辺との間に位置する前記第1基板の領域を有し、
前記第2突出部は、前記平面視において、前記第1辺と前記第3辺との間に位置する前記第2基板の領域を有している
ことを特徴とする光フィルター。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の光フィルターと、
前記光フィルターにより取り出された検査対象光を受光する受光手段と、
を備えることを特徴とする光フィルターモジュール。 - 請求項4に記載の光フィルターモジュールを具備したことを特徴とする分析機器。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010101092A JP2011232447A (ja) | 2010-04-26 | 2010-04-26 | 光フィルター、光フィルターモジュール、および分析機器 |
US13/085,571 US20110261460A1 (en) | 2010-04-26 | 2011-04-13 | Optical filter, optical filter module, and analyzer |
US14/471,366 US20140367035A1 (en) | 2010-04-26 | 2014-08-28 | Optical filter, optical filter module, and analyzer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010101092A JP2011232447A (ja) | 2010-04-26 | 2010-04-26 | 光フィルター、光フィルターモジュール、および分析機器 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014095225A Division JP5765465B2 (ja) | 2014-05-02 | 2014-05-02 | 光フィルターの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011232447A true JP2011232447A (ja) | 2011-11-17 |
Family
ID=44815615
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010101092A Pending JP2011232447A (ja) | 2010-04-26 | 2010-04-26 | 光フィルター、光フィルターモジュール、および分析機器 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20110261460A1 (ja) |
JP (1) | JP2011232447A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013167701A (ja) * | 2012-02-14 | 2013-08-29 | Seiko Epson Corp | 光学フィルターデバイス、及び光学フィルターデバイスの製造方法 |
JP2013178392A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-09 | Seiko Epson Corp | 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器 |
JP2015025990A (ja) * | 2013-07-29 | 2015-02-05 | セイコーエプソン株式会社 | 干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、電子機器、干渉フィルターの製造方法、及びmems素子 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5370246B2 (ja) * | 2009-05-27 | 2013-12-18 | セイコーエプソン株式会社 | 光フィルター、光フィルター装置、分析機器、および光フィルターの製造方法 |
JP6107120B2 (ja) * | 2012-12-20 | 2017-04-05 | セイコーエプソン株式会社 | 光学フィルターデバイス、及び電子機器 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070242920A1 (en) * | 2006-04-18 | 2007-10-18 | Xerox Corporation | Fabry-Perot tunable filter using a bonded pair of transparent substrates |
US20080080026A1 (en) * | 2006-09-26 | 2008-04-03 | Xerox Corporation | Mems fabry-perot inline color scanner for printing applications using stationary membranes |
US20080080027A1 (en) * | 2006-09-26 | 2008-04-03 | Xerox Corporation | Array based sensor to measure single separation or mixed color (or ioi) patches on the photoreceptor using mems based hyperspectral imaging technology |
JP2009134028A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Seiko Epson Corp | 光学デバイス、波長可変フィルタモジュール、および光スペクトラムアナライザ |
JP2009244498A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Seiko Epson Corp | 光学フィルタ装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005165067A (ja) * | 2003-12-03 | 2005-06-23 | Seiko Epson Corp | 波長可変フィルタおよび波長可変フィルタの製造方法 |
JP4259509B2 (ja) * | 2004-12-27 | 2009-04-30 | セイコーエプソン株式会社 | 静電アクチュエータ、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置及び静電デバイス並びにそれらの製造方法 |
JP4607153B2 (ja) * | 2007-07-12 | 2011-01-05 | 株式会社日立製作所 | 微小電気機械システム素子の製造方法 |
-
2010
- 2010-04-26 JP JP2010101092A patent/JP2011232447A/ja active Pending
-
2011
- 2011-04-13 US US13/085,571 patent/US20110261460A1/en not_active Abandoned
-
2014
- 2014-08-28 US US14/471,366 patent/US20140367035A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070242920A1 (en) * | 2006-04-18 | 2007-10-18 | Xerox Corporation | Fabry-Perot tunable filter using a bonded pair of transparent substrates |
US20080080026A1 (en) * | 2006-09-26 | 2008-04-03 | Xerox Corporation | Mems fabry-perot inline color scanner for printing applications using stationary membranes |
US20080080027A1 (en) * | 2006-09-26 | 2008-04-03 | Xerox Corporation | Array based sensor to measure single separation or mixed color (or ioi) patches on the photoreceptor using mems based hyperspectral imaging technology |
JP2009134028A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Seiko Epson Corp | 光学デバイス、波長可変フィルタモジュール、および光スペクトラムアナライザ |
JP2009244498A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Seiko Epson Corp | 光学フィルタ装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013167701A (ja) * | 2012-02-14 | 2013-08-29 | Seiko Epson Corp | 光学フィルターデバイス、及び光学フィルターデバイスの製造方法 |
JP2013178392A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-09 | Seiko Epson Corp | 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器 |
JP2015025990A (ja) * | 2013-07-29 | 2015-02-05 | セイコーエプソン株式会社 | 干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、電子機器、干渉フィルターの製造方法、及びmems素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110261460A1 (en) | 2011-10-27 |
US20140367035A1 (en) | 2014-12-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5641220B2 (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 | |
JP3770326B2 (ja) | 分析装置 | |
JP5370246B2 (ja) | 光フィルター、光フィルター装置、分析機器、および光フィルターの製造方法 | |
JP5928992B2 (ja) | 波長可変干渉フィルターの製造方法 | |
JP5845588B2 (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、光分析装置および波長可変干渉フィルターの製造方法 | |
JP5779852B2 (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、および光分析装置 | |
JP2009282540A (ja) | 光学デバイス、波長可変フィルタ、波長可変フィルタモジュール、および光スペクトラムアナライザ | |
JP5381884B2 (ja) | 波長可変干渉フィルターの製造方法 | |
JP5673049B2 (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 | |
US20140367035A1 (en) | Optical filter, optical filter module, and analyzer | |
JP2012047857A (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 | |
JP5445303B2 (ja) | 光フィルター素子、光フィルターモジュール、および分析機器 | |
JP2012150353A (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、および光分析装置 | |
JP5780273B2 (ja) | 光フィルター、光フィルター装置、および分析機器 | |
JP2012150263A (ja) | 光フィルター、光モジュール、および分析装置 | |
JP5765465B2 (ja) | 光フィルターの製造方法 | |
JP5593671B2 (ja) | 波長可変干渉フィルター、測色センサー、測色モジュール | |
JP5617621B2 (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 | |
JP5703553B2 (ja) | 波長可変干渉フィルター、測色センサー、および測色モジュール | |
JP2012141347A (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 | |
JP2015043103A (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 | |
JP2012150193A (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、および光分析装置 | |
JP6079800B2 (ja) | 波長可変干渉フィルター、測色センサー、および測色モジュール | |
JP5673117B2 (ja) | 光モジュール、および光分析装置 | |
JP2016029491A (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130315 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130927 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131001 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140304 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140502 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20141001 |