CN102636829A - 波长可变干涉滤波器、光模块以及光分析装置 - Google Patents
波长可变干涉滤波器、光模块以及光分析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102636829A CN102636829A CN2012100331306A CN201210033130A CN102636829A CN 102636829 A CN102636829 A CN 102636829A CN 2012100331306 A CN2012100331306 A CN 2012100331306A CN 201210033130 A CN201210033130 A CN 201210033130A CN 102636829 A CN102636829 A CN 102636829A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- substrate
- electrode
- movable part
- light
- interference filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 24
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 title abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 191
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 28
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 11
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 5
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 57
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 15
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- -1 potassium alkali-metal Chemical class 0.000 description 3
- 206010042209 Stress Diseases 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical compound O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003556 assay Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229940072033 potash Drugs 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Substances [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000015320 potassium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/001—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements based on interference in an adjustable optical cavity
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
- G01J3/26—Generating the spectrum; Monochromators using multiple reflection, e.g. Fabry-Perot interferometer, variable interference filters
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/46—Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters
- G01J3/50—Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters using electric radiation detectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/06—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the phase of light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Abstract
本发明涉及波长可变干涉滤波器、光模块和光分析装置。该波长可变干涉滤波器具备：第一反射膜，设置在第一基板的与第二基板相对的面上；第二反射膜，设置在第二基板的与第一基板相对的面上；第一电极，设置在第一基板的与第二基板相对的面上；以及第二电极，设置在第二基板的与第一基板相对的面上；并且第二基板具备设置了第二反射膜的可动部、以及保持可动部并允许可动部在基板的厚度方向移动的连接保持部，连接保持部围绕可动部连续地形成且其厚度尺寸小于可动部的厚度尺寸，第二电极设置在第二基板的厚度尺寸比连接保持部大的部分。
Description
技术领域
本发明涉及从入射光中选择射出所需的目标波长的光的波长可变干涉滤波器、具备该波长可变干涉滤波器的光模块以及具备该光模块的光分析装置。
背景技术
现有技术中已知在一对基板相互相对的面上隔着具有规定尺寸的间隙相对配置有反射膜的波长可变干涉滤波器(例如，参照专利文献1)。
在该专利文献1的波长可变干涉滤波器中，在一对基板相互相对的面上，相对配置有驱动电极，通过对各驱动电极施加驱动电压，利用静电引力能够调整间隙间隔。这里，一侧基板具有反射膜的周边部分的厚度比其他部分薄的低刚性部，在该低刚性部分上也设置有驱动电极。此外，通过低刚性部的变形可以确保一侧基板上的反射膜的平坦性。通过这样的结构，波长可变干涉滤波器可以使与间隙间隔相对应的特定波长的光透过。
这样，由于波长可变干涉滤波器通过调整间隙间隔来使所需波长的光透过，所以需要高精度的间隙。
专利文献1：日本特开平7-286809号公报
发明内容
但是，当在基板上成膜形成驱动电极时，内部应力在驱动电极的面方向(沿基板表面的方向)上作用。由驱动电极的成膜方法和膜材质等决定该内部应力的大小及应力作用的方向。这里，在压缩应力作用于形成在一侧基板上的驱动电极的情况下，基板向另一侧基板挠曲成凸状。相反地，在伸展应力作用于形成在一侧基板上的驱动电极的情况下，基板在离开另 一侧基板的方向上挠曲成凸状。特别地，由于基板的低刚性部与其他部分相比刚性较低，所以在低刚性部上形成驱动电极时，基板的挠曲量可能变大。
由此，存在如下问题：如果由于驱动电极的内部应力导致基板挠曲，则在未对驱动电极施加驱动电压的初始状态，在反射膜也发生挠曲，由此波长可变干涉滤波器的分辨率降低。
本发明的目的在于提供一种降低基板上产生的挠曲、提高分辨率的波长可变干涉滤波器、光模块以及光分析装置。
本发明的波长可变干涉滤波器的特征在于具备：第一基板，具有透光性；第二基板，与所述第一基板相对，具有透光性；第一反射膜，设置在所述第一基板的与所述第二基板相对的面上；第二反射膜，设置在所述第二基板的与所述第一基板相对的面上，与所述第一反射膜隔着间隙相对；第一电极，设置在所述第一基板的与所述第二基板相对的面上；以及第二电极，设置在所述第二基板的与所述第一基板相对的面上，其与所述第一电极相对；所述第二基板具备设置有所述第二反射膜的可动部、以及保持所述可动部且允许所述可动部在基板的厚度方向上移动的连接保持部，所述连接保持部围绕所述可动部连续形成且其厚度尺寸小于所述可动部的厚度尺寸，所述第二电极设置在所述第二基板的厚度尺寸大于所述连接保持部的部分上。
这里，由于第二基板的连接保持部以比可动部薄的厚度形成，所以连接保持部的刚性与可动部的刚性相比变低。
在本发明中，第二电极设置在第二基板上的比连接保持部的厚度尺寸大的部分上。因此，由于在连接保持部上没有形成有第二电极(膜)，所以第二电极的内部应力不会作用于连接保持部。因此，可以降低由于内部应力产生的基板挠曲。因此，由于能够抑制基板挠曲引起的反射膜的弯曲(反り，翘曲)，所以可以提高波长可变干涉滤波器的分辨率。
在本发明的波长可变干涉滤波器中，优选所述第二电极设置在所述可动部上。
根据本发明，由于第二电极设置在沿基板的厚度方向可移动地保持的可动部上，所以即使在由于向第一电极及第二电极施加电压而产生的静电引力小的情况下，也可以通过静电引力使可动部向第一基板侧移动。因此，可以向各电极施加小电压，从而能够抑制波长可变干涉滤波器的电力消耗。
优选本发明的波长可变干涉滤波器还具备：支持部，以比所述连接保持部大的厚度尺寸形成，并且支持所述连接保持部；所述第二电极具备围绕所述第二反射膜形成的内侧电极、以及围绕所述内侧电极形成的外侧电极，所述内侧电极设置在所述可动部上，所述外侧电极设置在所述支持部上。
根据本发明，由于第二电极的内侧电极设置在可动部上，第二电极的外侧电极设置在支持部上，所以与将两个电极都设置在可动部上的情况相比，可以减小第二电极赋予可动部的内部应力。因此，可以进一步降低基板的挠曲。
并且，由于仅将第二电极的内侧电极设置在可动部上，所以与将内侧电极及外侧电极都设置在可动部上的情况相比，可以抑制附加给可动部的重量。因此，由于可以减小可动部的惯性，可以提高驱动时反射膜的响应性。
优选本发明的波长可变干涉滤波器还具备：防止挠曲膜，设置在所述第二基板的与所述第一基板相对的面的相反侧的面上，并且在所述防止挠曲膜的面方向上作用的内部应力的方向、与在所述第二反射膜及所述第二电极的面方向上作用的内部应力的方向是同一方向。
在本发明中，防止挠曲膜形成在第二基板的与第一基板相对的面的相反侧的面上，该防止挠曲膜的内部应力与第二反射膜和第二电极的内部应力是同一方向。例如，由于防止挠曲膜的压缩应力作用于第二基板的弯矩与由于第二反射膜和第二电极的压缩应力(将使第二基板向第一基板挠曲成凸状)而作用的弯矩相抵消。因此，由于可以进一步减低第二基板的挠曲，所以可以更进一步提高波长可变干涉滤波器的分辨率。
本发明的光模块的特征在于具备：上述波长可变干涉滤波器；以及光接收单元，接收透过所述波长可变干涉滤波器的检查对象光。
在本发明中，与上述发明相同，由于可以降低由第二基板的挠曲引起的第二反射膜的弯曲，所以可以提高波长可变干涉滤波器的分辨率。由此，也可以高精度地分光所需波长的光。因此，通过光接收单元接收从这样的波长可变干涉滤波器射出的光，光模块可以测定检查对象光中包括的所需波长的光成分的正确光量。
本发明的光分析装置的特征在于具备：上述光模块；以及分析处理部，基于由所述光模块的所述光接收单元接收的光，分析所述检查对象光的光特性。
在本发明中，由于具备包括上述波长可变干涉滤波器的光模块，所以可以实施高精度的光量测定，且根据该测定结果实施光分析处理，从而可以实施正确的光学特性的分析。
附图说明
图1是示出本发明涉及的第一实施方式的测色装置的概略结构的图。
图2是示出上述第一实施方式的标准具的概略结构的俯视图。
图3是示出上述第一实施方式的标准具的概略结构的截面图。
图4是从第二基板侧看上述第一实施方式的第一基板的俯视图。
图5是从第一基板侧看上述第一实施方式的第二基板的俯视图。
图6是示出本发明涉及的第二实施方式的标准具的概略结构的截面图。
图7是示出本发明涉及的变形例的图。
具体实施方式
[第一实施方式]
下面，根据附图对本发明涉及的第一实施方式进行说明。
[1.测色装置的概略结构]
图1是示出本发明涉及的第一实施方式的具备波长可变干涉滤波器的测色装置(光分析装置)的概略结构的图。
如图1所示，该测色装置1具备向检查对象A射出光的光源装置2、作为本发明的光模块的测色传感器3以及控制测色装置1的整体动作的控制装置4。并且，该测色装置1是如下的装置：使检测对象A反射从光源装置2射出的光，在测色传感器3接收被反射后的检查对象光，根据从测色传感器3输出的检测信号，对检查对象光的色度、即检查对象A的颜色进行分析测定。
[2.光源装置的结构]
光源装置2具备光源21、多个透镜22(在图1中仅示出了一个)，其对检测对象A射出白光。并且，在多个透镜22中包括准直透镜，光源装置2通过准直透镜将从光源21射出的白光变为平行光，并从未图示的投射透镜向检测对象A射出。
[3.测色传感器的结构]
如图1所示，测色传感器3具备构成本发明的波长可变干涉滤波器的标准具5、接收透过标准具5的光的作为光接收单元的光接收元件31、改变在标准具5透过的光的波长的电压控制部6。而且，测色传感器3在与标准具5相对的位置上具备将检测对象A反射的反射光(检查对象光)向内部导光的入射光学透镜(未示出)。并且，该测色传感器3通过标准具5，对从入射光学透镜入射的检查对象光中的规定波长的光进行分光，并通过光接收元件31接收分光后的光。
光接收元件31由多个光电转换元件构成，其生成与光接收量相对应的电信号。而且，光接收元件31与控制装置4连接，其将生成的电信号作为光接收信号输出给控制装置4。
(3-1.标准具的结构)
图2是示出标准具5的概略结构的俯视图，图3是示出标准具5的概略结构的截面图。此外，在图3中，设定检测对象光从图中下侧入射。
如图2所示，标准具5是呈正方形的板状光学部件，其一边形成为例如10mm。如图3所示，该标准具5具备第一基板51以及第二基板52。 在本实施方式中，这两块基板51、52使用由SiO2(二氧化硅)构成的石英玻璃基材。此外，各基板51、52也可以分别由例如钠玻璃、结晶玻璃、铅玻璃、钾玻璃、硼硅酸玻璃、无碱玻璃等各种玻璃、水晶等形成。并且，其中，作为各基板51、52的构成材料，可以使用含有例如钠(Na)或钾(K)等碱金属的玻璃，通过由这样的玻璃形成各基板51、52，可以提高后述反射镜56、57和各电极53、54的贴紧性、基板51、52之间的接合强度。并且，这两个基板51、52通过接合后述的接合面513、514而一体地构成。
在第一基板51和第二基板52之间设置有作为第一反射膜的固定反射镜56以及作为第二反射膜的可动反射镜57。这里，固定反射镜56固定在第一基板51的与第二基板52相对的面上，可动反射镜57固定在第二基板52的与第一基板51相对的面52A上。并且，这些固定反射镜56及可动反射镜57隔着反射镜间间隙G而相对配置。
此外，在第一基板51及第二基板52之间设置有用于调整固定反射镜56及可动反射镜57间的反射镜间间隙G的尺寸的第一静电致动器55A及第二静电致动器55B。
(3-1-1.第一基板的结构)
第一基板51通过蚀刻对厚度为例如500μm的石英玻璃基材(SiO2：二氧化硅)进行加工而形成。具体而言，如图3及图4所示，在第一基板51上通过蚀刻形成有电极形成槽511及反射镜固定部512。
电极形成槽511在如图4所示的从厚度方向看标准具5的俯视图(下文中称为标准具俯视图)中，形成为以俯视中心点为中心的圆形。
在标准具俯视图中，反射镜固定部512形成为从电极形成槽511的中心部向第二基板52侧突出。
如图3及图4所示，电极形成槽511在反射镜固定部512的外周缘至电极形成槽511的内周壁面之间形成有环状的电极固定面511A，在电极固定面511A上形成有第一电极53。该第一电极53具备内侧第一电极531及外侧第一电极532。在如图4所示的标准具俯视图(从第二基板52侧看第一基板51的俯视图)中，内侧第一电极531形成为以固定反射镜56的 中心为中心点的环状。在标准具俯视图中，外侧第一电极532与内侧第一电极531同轴，并且形成为与内侧第一电极531相比直径尺寸较大的C字状。
这里，第一电极53只要具有导电性并且通过在它与后述的第二基板52的第二电极54之间施加电压能够在第一电极53和第二电极54之间产生静电引力即可，而没有特别的限定，在本实施方式中，使用ITO(Indium Tin Oxide：氧化铟锡)。并且，也可以使用Au/Cr膜(将铬膜作为底层，且在底层上形成金膜的膜)等金属层叠体。
并且，在第一电极53的上面形成有绝缘膜58。作为绝缘膜58，可以使用SiO2、TEOS(四乙氧基硅烷)等，尤其优选具有与形成第一基板51的玻璃基板相同光学特性的SiO2。在使用SiO2作为绝缘膜58的情况下，由于第一基板51和绝缘膜58之间不存在光的反射等，所以例如如图3所示，在第一基板51上形成了第一电极53之后，可以在第一基板51的与第二基板52相对侧的整个面上形成绝缘膜58。此外，该绝缘膜58是被设置用于防止由第一电极53和第二电极54之间的放电等引起的漏电的膜，其可以由不具有透光性的膜构成，在这种情况下，除去反射镜固定面512A上的绝缘膜58即可。
在图4所示的标准具俯视图中，从内侧第一电极531的外周缘的一部分向标准具5的左上方向延伸形成有内侧第一电极引出部531L。并且，在标准具俯视图中，从外侧第一电极532的外周缘的一部分向标准具5的右下方向延伸形成有外侧第一电极引出部532L。内侧第一电极引出部531L及外侧第一电极引出部532L的前端上形成有内侧第一电极垫531P或外侧第一电极垫532P，内侧第一电极垫531P和外侧第一电极垫532P与电压控制部6(参照图1)连接。当驱动各静电致动器55A、55B时，通过电压控制部6(参照图1)，对内侧第一电极垫531P和外侧第一电极垫532P施加电压。
如上所述，反射镜固定部512与电极形成槽511同轴并且形成为直径尺寸小于电极形成槽511的圆柱状。此外，在本实施方式中，如图3所示，虽然示出了反射镜固定部512的与第二基板52相对的反射镜固定面512A 形成为比电极固定面511A更接近第二基板52的例子，但并不限于此。可以根据反射镜固定面512A上固定的固定反射镜56与第二基板52上形成的可动反射镜57间的反射镜间间隙G的尺寸、第一电极53与第二电极54间的尺寸、以及固定反射镜56和可动反射镜57的厚度尺寸，适当地设定电极固定面511A及反射镜固定面512A的高度位置，而并不仅限于上述的结构。例如，也可以是在使用电介质多层膜反射镜作为反射镜56、57且其厚度尺寸增大的情况下，将电极固定面511A和反射镜固定面512A形成在同一面上的结构、或在电极固定面511A的中心部形成有圆柱凹槽状的反射镜固定槽且在该反射镜固定槽的底面上形成有反射镜固定面512A的结构等。并且，反射镜固定部512的反射镜固定面512A优选考虑透过标准具5的波长范围后设计槽深度。
此外，在反射镜固定面512A上固定有直径大致为3mm的圆形的固定反射镜56。该固定反射镜56是由层叠了TiO2膜和SiO2膜的TiO2-SiO2类电介质多层膜形成的反射镜，其通过溅射等方法形成在反射镜固定面512A上形成的绝缘膜58上。
此外，在本实施方式中，虽然示出了使用TiO2-SiO2类电介质多层膜的反射镜作为固定反射镜56的例子，但也可以是使用可以覆盖作为可分光波长范围的整个可见光区范围的Ag合金单层的反射镜的结构。
这里，在第一基板51中，未形成有电极形成槽511及反射镜固定部512的部分成为第一基板51的接合面513。如图3所示，在形成在该接合面513上的绝缘膜58上分别膜状地形成有接合用的第一接合膜514。该第一接合膜514可以使用将聚硅氧烷用作主要材料的等离子聚合膜等。
(3-1-2.第二基板的结构)
第二基板52通过蚀刻对厚度为例如200μm的石英玻璃基材(SiO2：二氧化硅)进行加工而形成。
并且，如图2及图3所示，在标准具俯视图中，第二基板52上形成有以基板中心点为中心的圆形的位移部521。该位移部521具备圆柱状的可动部522、以及与可动部522同轴的保持可动部522的连接保持部523。
通过对作为第二基板52的形成材料的平板状玻璃基材进行蚀刻而形成槽，从而形成该位移部521。也就是说，通过在第二基板52的不与第一基板51相对的面上、蚀刻形成用于形成连接保持部523的圆环状的凹槽部523A而形成位移部521。
可动板522的厚度尺寸与连接保持部523相比形成得较大，例如，在本实施方式中，形成为与第二基板52的厚度尺寸相同、即200μm。并且，可动板522在与第一基板51相对侧的面52A上具备与反射镜固定部512平行的可动面522A，在该可动面522A上固定有可动反射镜57。
这里，该可动反射镜57是与上述固定反射镜56相同结构的反射镜，例如可以使用直径为3mm的圆形、TiO2-SiO2类电介质多层膜的反射镜。
如图3及图5所示，在可动部522的可动面522A上隔着规定的间隔形成有与第一电极53相对的双重环状的第二电极54。该第二电极54具备：围绕可动反射镜57形成的作为内侧电极的内侧第二电极541、以及围绕内侧第二电极541形成的作为外侧电极的外侧第二电极542。这里，由内侧第一电极531和内侧第二电极541构成第一静电致动器55A，由外侧第一电极532和外侧第二电极542构成第二静电致动器55B。
在如图5所示的标准具俯视图(从第一基板51侧看第二基板52的俯视图)中，内侧第二电极541形成为以可动反射镜57的中心为中心点的环状。在标准具俯视图中，外侧第二电极542与内侧第二电极541同轴并且形成为与内侧第二电极541相比直径尺寸较大的环状，且其与内侧第二电极541连接。
此外，第二电极54可以使用ITO(Indium Tin Oxide：氧化铟锡)、或Au/Cr膜等金属层叠体。
并且，一对第二电极引出部542L从外侧第二电极542的外周缘的一部分向彼此相反的方向延伸形成，在这些第二电极引出部542L的前端形成有第二电极垫542P。更具体地说，在如图5所示的标准具俯视图中，第二电极引出部542L向标准具5的左上方向及右下方向延伸，相对于第二基板52的俯视图中心形成为点对称。
此外，第二电极垫542P与内侧第一电极垫531P及外侧第一电极垫532P同样地与电压控制部6连接，当驱动静电致动器55A时，对第二电极垫542P施加电压。
连接保持部523是围绕可动部522的周围的环状的膜片(diaphragm)，例如其厚度尺寸与可动部522的厚度尺寸相比较薄地形成为30μm。这里，如图3所示，在连接保持部523上未形成第二电极54等膜，因此膜的内部应力不会作用于连接保持部523。
在这样的第二基板52的面52A上，第一基板51的与接合面513相对的区域成为第二基板52上的接合面524。在该接合面524上与第一基板51的接合面513同样地设置有使用聚硅氧烷作为主要材料的第二接合膜525。
(3-2.电压控制部的结构)
电压控制部6根据从控制装置4输入的控制信号，控制对各静电致动器55A、55B的第一电极53及第二电极54施加的电压。
[4.控制装置的结构]
控制装置4控制测色装置1的整体动作。作为该控制装置4，例如可以使用通用个人计算机、便携式信息终端以及测色专用计算机等。
并且，如图1所示，控制装置4包括光源控制部41、测色传感器控制部42以及测色处理部43(分析处理部)等。
光源控制部41与光源装置2连接。并且，光源控制部41例如根据使用者的设定输入，向光源装置2输出规定的控制信号，并使光源装置2射出规定亮度的白色光。
测色传感器控制部42与测色传感器3连接。并且，测色传感器控制部42根据例如使用者的设定输入，设定在测色传感器接收的光的波长，并将用于检测该波长的光的光接收量的控制信号输出给测色传感器3。由此，测色传感器3的电压控制部6根据控制信号，设定向各静电致动器55A、55B施加的电压，以使使用者所需的光的波长透过。
测色处理部43控制测色传感器控制部42，使标准具5的反射镜间间隙变动，以改变透过标准具5的光的波长。并且，测色处理部43根据从 光接收元件31输入的光接收信号，获取透过标准具5的光的光量。并且，测色处理部43根据上述获得的各波长的光的光接收量计算由检查对象A反射的光的色度。
[5.第一实施方式的作用效果]
根据上述第一实施方式涉及的标准具5，可以发挥以下的效果。
也就是说，由于第二电极54设置在第二基板52的连接保持部523以外的部分，所以第二电极54的内部应力不会作用于连接保持部523上。因此，可以防止在第二基板52中的特别是刚性低的连接保持部523受到第二电极54的内部应力的影响，从而可以减小由于内部应力产生的第二基板52的挠曲。因此，由于能够抑制由基板的挠曲引起的反射膜的弯曲，所以可以提高标准具5的分辨率。
由于在连接保持部523上未形成有包括第二电极54的成膜，所以围绕可动部522的周围的膜片(连接保持部523)易于挠曲，从而在将驱动电压施加给第一电极53及第二电极54时很容易进行膜片的驱动控制。
并且，由于通过绝缘膜58覆盖第一电极53，所以在第一电极53及第二电极54之间可以可靠地防止由于放电等引起的电流泄漏，且可以在第一电极53及第二电极54保持与设定电压相对应的所需电荷。由此，可以高精度地控制固定反射镜56及可动反射镜57间的间隙G的间隔，从而能够从标准具5高精度地获得所需波长的光。
此外，由于能够通过电压控制部6控制施加给各个静电致动器55A、55B的电压，所以可以进行更高精度的间隙设定。
[第二实施方式]
下面，根据图6对本发明涉及的第二实施方式进行说明。
上述第一实施方式的标准具5包括的第二电极54形成在可动部522上。
与此相对，本实施方式的标准具包括的第二电极54的内侧第二电极541形成在连接保持部523的内侧、即可动部522，而外侧第二电极542形成在连接保持部523的外侧。并且，在第二基板52的与第一基板51的相反侧的面52B上设置有具有透光性的防止挠曲膜59。
此外，在下面的说明中，对与上述第一实施方式相同的构成要素采用了相同的标号并省略对其的说明。
图6是示出本实施方式中的标准具的概略结构的截面图。
在该标准具5A中，如图6所示，第二基板52的位移部521具备可动部522、保持可动部522的连接保持部523、从连接保持部523的外侧支持连接保持部523的支持部526。
可动部522及连接保护部523与上述第一实施方式同样地构成。也就是说，连接保持部523是围绕可动部522的周围的环状的膜片，可动部522的厚度尺寸与连接保持部523相比形成得较厚。
支持部526是由第二基板52的连接保持部523的外侧的部分并且与第一基板51的电极固定面511A相对的部分构成。该支持部526的厚度尺寸与连接保持部523相比形成得较厚，该厚度尺寸被形成为例如与第二基板52的厚度尺寸相同，即200μm。
第二电极54具备设置在可动部522上的环状的内侧第二电极541、以及设置在支持部526上且围绕连接保持部523的周围的环状的外侧第二电极542。对应这样的第二电极54，第一电极53的内侧第一电极531设置在与内侧第二电极541相对的位置上，而外侧第一电极532设置在与外侧第二电极542相对的位置上。
防止挠曲膜59形成在第二基板52的面52B中的、覆盖可动反射镜57及第二电极54的位置(可动部522的上面及支持部526的上面)。防止挠曲膜59由具有与第二基板52相同折射率的材质构成，在本实施方式中，由与第二基板52相同材质的石英玻璃材料(SiO2：二氧化硅)构成。该防止挠曲膜59在可动反射镜57及第二电极54被成膜形成在第二基板52的与第一基板51相对的一侧的面上时，能够降低由于在可动反射镜57及第二电极54的面方向上作用的内部应力(在本实施方式中为压缩应力)引起的向第一基板51挠曲成凸状的第二基板52的挠曲。
也就是说，在第二基板52的与第一基板51相对的面52A上成膜第二电极54和可动反射镜57时，由于第二电极54和可动反射镜57的内部应力(压缩应力)，第二基板52向第一基板51侧挠曲。
这里，可动反射镜57是TiO2-SiO2类电介质多层膜的情况下，可动反射镜57的各层(TiO2层及SiO2层)的内部应力、厚度尺寸以及各层的俯视图中的面积的积的和作为弯矩作用于第二基板52。当将可动反射镜57作用于第二基板52的弯矩设为M1、可动反射镜57整体的内部应力设为σ1、可动反射镜57的总厚度尺寸设为T1、标准具俯视图中的可动反射镜57的面积设为S1、各TiO2层的内部应力设为σ11、TiO2层的厚度尺寸设为T11、TiO2层的层数设为N11、各SiO2层的内部应力设为σ12、SiO2层的厚度尺寸设为T12、SiO2层的层数设为N12时，下面的关系式(1)成立。
[公式1]
M1∝σ1×T1×S1＝(σ11×T11×N11×S1)+(σ12×T12×N12×S1)...(1)
在本实施方式中，可动反射镜57、第二电极54以及防止挠曲膜59的内部应力分别被设定为压缩应力，即使在例如可动反射镜57的TiO2层以及SiO2层的内部应力分别是伸展应力和压缩应力的情况下，只要可动反射镜57整体的内部应力σ1设定为压缩应力即可。并且，根据上式(1)求得的弯矩M1作为通过可动反射镜57挠曲第二基板52的力作用。
同样地，当将作用于第二基板52的第二电极54的弯矩设为M2、第二电极54的内部应力设为σ2、第二电极54的厚度尺寸设为T2、标准具俯视图中的第二电极54的面积设为S2时，下面的关系式(2)成立。
[公式2]
M2∝σ2×T2×S2...(2)
而且，根据上式(2)求得的弯矩M2作为通过第二电极54挠曲第二基板52的力作用。
如上所述，在可动反射镜57的内部应力σ1和第二电极54的内部应力σ2是同一方向且是压缩应力的情况下，下式(3)的弯矩M3作用在第二基板52上，并且成为使第二基板52向第一基板51侧挠曲的力。
[公式3]
M3＝M1+M2...(3)
防止挠曲膜59是设置用于抵消作用于第二基板52的通过上式(3)求得的弯矩M3的膜，具有与在第二电极54及可动反射镜57的面方向上作用的内部应力(压缩应力)的方向相同的方向的内部应力(压缩应力)。并且，如上所述，防止挠曲膜59被设置在设置有第二电极54及可动反射镜57的面52A的相反侧的面52B上。因此，由于防止挠曲膜59的内部应力而作用于第二基板52的弯矩沿使第二基板52向离开第一基板51的方向动作。
这里，在将防止挠曲膜59的作用于第二基板52的弯矩设为M4、防止挠曲膜59的内部应力(压缩应力)设为σ4、防止挠曲膜59的厚度尺寸设为T4、标准具俯视图中与间隙形成部重叠部分的面积设为S4的情况下，在第二基板52，根据下式(4)求得的弯矩M4作用于第二基板52。因此，通过形成具有下式(5)的关系的防止挠曲膜59，弯矩M4可以抵消通过第二电极54及可动反射镜57作用于第二基板52的弯矩M3，从而使第二基板52不会挠曲。
[公式4]
M4∝σ4×T4×S4...(4)
[公式5]
M4＝M3...(5)
根据上述第二实施方式涉及的标准具5，除上述第一实施方式的效果以外，还可以发挥以下的效果。
也就是说，由于仅仅第二电极54的内侧第二电极541设置在可动部522上，所以与将第二电极54的内侧第二电极541及外侧第二电极542都设置在可动部522上的情况相比，能够抑制附加给可动部522的重量。因此，能够减小可动部522的惯性，由此可以提高驱动时的可动反射镜57的响应性。
此外，由于内侧第二电极541设置在可动部522上、外侧第二电极542设置在支持部526上，所以与将两个电极541、542都设置在可动部522上的情况相比，可以减小第二电极54施加到可动部522的内部应力。因此，可以防止可动部522的弯曲，从而可确保可动反射镜57的平坦性。
这里，防止挠曲膜59成膜形成在第二基板52的与第一基板51相对一侧的相反侧的面上，当成膜形成时，压缩应力作用于防止挠曲膜59的面方向。因此，通过在防止挠曲膜59的面方向作用的压缩应力，第二基板52向与第一基板51的相反侧凸状挠曲，从而可以降低第二基板52向第一基板51的凸状挠曲。
并且，当在第二基板52上成膜形成第二电极54及可动反射镜57时作用于第二基板52的弯矩M3被设定为与在第二基板52上成膜形成挠曲膜59时作用于第二基板52的弯矩M4相同(参照式(5))。因此，可以通过防止挠曲膜59作用于第二基板52的弯矩M4抵消在第二基板52上成膜形成第二电极54及可动反射镜57时作用于第二基板52的弯矩M3。因此，可以可靠地防止初始状态下第二基板52的挠曲，且能够以更高精度设定固定反射镜56和可动反射镜57间的间隙G的间隔，所以可以进一步提高标准具5A的分辨率。
由于防止挠曲膜59与第二基板52同样地由具有光学特性的材质即石英玻璃材料(SiO2)形成，所以可以防止入射到第二基板52的光被防止挠曲膜59和第二基板52之间的接合面反射。因此，可以良好地使来自入射光的特定波长的光透过。
此外，由于使可动部522的厚度尺寸增大相当于形成防止挠曲膜59的量，所以可动部522的刚性变大难以挠曲。因此，可以更可靠地防止可动反射镜57的挠曲。
在第二基板52的连接保持部523上不进行包括第二电极54的成膜。因此，即使在由于第二电极54、可动反射镜57以及防止挠曲膜59的厚度和内部应力的不均而导致应力协调平衡崩溃的情况下，在连接保持部523也不会作用由于成膜引起的内部应力。因此，可以将第二电极54、可动反射镜57以及防止挠曲膜59的内部应力引起的第二基板52的挠曲抑制到最小限度。
[实施方式的变形]
此外，本发明并不仅限于上述实施方式，在可以实现本发明目的的范围内的变形、改良等都包含在本发明中。
在上述第一实施方式中，将构成第二电极54的内侧第二电极541及外侧第二电极542设置在可动部522上，在上述第二实施方式中，分别将内侧第二电极541设置在可动部522上，将外侧第二电极542设置在支持部526上，但并不限于此。例如，如图7所示，也可以在标准具5B中，将内侧第二电极541及外侧第二电极542设置在支持部526上。
并且，在上述各实施方式中，虽然第一电极53及第二电极54分别形成为双重环状，但这些电极53、54的形状并不限于此。第一电极53及第二电极54可以是单一的环状，也可以是三重以上的多重环状。
在上述第二实施方式中，虽然作用于第二电极54、可动反射膜57以及防止挠曲膜59的内部应力以压缩应力作用的方式成膜形成在第二基板52上，但也可以伸展应力作用的方式成膜形成。在这种情况下，也只要作用于第二电极54、可动反射膜57和防止挠曲膜59的内部应力的方向分别是相同方向地成膜形成即可。
在上述第二实施方式中，虽然防止挠曲膜59形成在第二基板52的与第一基板51相反一侧的面52B中的覆盖可动反射镜57及第二电极54的位置上，但防止挠曲膜59也可以形成在除连接保持部523以外的第二基板52的面52B的整个面上。
在上述各实施方式中，虽然只在第一电极53上形成有绝缘膜58，但也可以在第二电极54上形成绝缘膜58。此时，只要使作用于第二电极54、可动反射镜57、绝缘膜58以及防止挠曲膜59的内部应力的方向分别是相同的方向且各个弯矩平衡地形成第二电极54、可动反射镜57、绝缘膜58以及防止挠曲膜59即可。
通过在第二电极54上也形成绝缘膜58，从而在第一电极53和第二电极54之间可以可靠地防止由于放电等引起的电流泄漏。因此，可以在第一电极53及第二电极54中保持与设定电压相对应的所需电荷。由此，可以高精度地控制固定反射镜56及可动反射镜57间的间隙间隔，从而能够高精度地从标准具5获得所需波长的光。
在上述各实施方式中，虽然将固定反射镜56及可动反射镜57形成为圆形，但是固定反射镜56及可动反射镜57的形状并不限于此。可以将固 定反射镜56及可动反射镜57设定为与用途相对应的形状，例如可以设定为矩形。
在上述各实施方式中，虽然通过第一接合膜514及第二接合膜525接合接合面513、524，但并不限于此。例如，也可以不形成第一接合膜514及第二接合膜525，而将接合面513、514活性化，并将活性化后的接合面513、514重叠加压而接合(所谓的常温活性化接合)来进行接合的结构等，也可以使用任何接合方法。
符号说明
1测色装置(光分析装置)
3测色传感器(光模块)
5、5A、5B标准具(波长可变干涉滤波器)
31光接收元件(光接收单元)
43测色处理部(分析处理部)
51第一基板
52第二基板
53第一电极
54第二电极
56固定反射镜(第一反射膜)
57可动反射镜(第二反射膜)
59防止挠曲膜
522可动部
523连接保持部
526支持部
541内侧第二电极(内侧电极)
542外侧第二电极(外侧电极)
G间隙。
Claims (7)
1.一种波长可变干涉滤波器，其特征在于，具备：
第一基板，具有透光性；
第二基板，与所述第一基板相对，具有透光性；
第一反射膜，设置在所述第一基板的与所述第二基板相对的面上；
第二反射膜，设置在所述第二基板的与所述第一基板相对的面上，并且与所述第一反射膜隔着间隙相对；
第一电极，设置在所述第一基板的与所述第二基板相对的面上；以及
第二电极，设置在所述第二基板的与所述第一基板相对的面上，并且与所述第一电极相对，并且
所述第二基板具备设置有所述第二反射膜的可动部、以及保持所述可动部且允许所述可动部在基板厚度方向上移动的连接保持部，
所述连接保持部围绕所述可动部连续形成且其厚度尺寸小于所述可动部的厚度尺寸，
所述第二电极设置在所述第二基板的厚度尺寸大于所述连接保持部的部分上。
2.根据权利要求1所述的波长可变干涉滤波器，其特征在于，
所述第二电极设置在所述可动部上。
3.根据权利要求1所述的波长可变干涉滤波器，其特征在于，还具备：
支持部，其厚度尺寸大于所述连接保持部的厚度尺寸，并且支持所述连接保持部，并且
所述第二电极具备围绕所述第二反射膜形成的内侧电极、以及围绕所述内侧电极形成的外侧电极，
所述内侧电极设置在所述可动部上，
所述外侧电极设置在所述支持部上。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的波长可变干涉滤波器，其特征在于，还具备：
防止挠曲膜，设置在所述第二基板的与所述第一基板相对的面的相反侧的面上，并且
在所述防止挠曲膜的面方向上作用的内部应力的方向、与在所述第二反射膜和所述第二电极的面方向上作用的内部应力的方向为同一方向。
5.一种光模块，其特征在于，具备：
根据权利要求1至4中任一项所述的波长可变干涉滤波器；以及
光接收单元，接收透过所述波长可变干涉滤波器的检查对象光。
6.一种光分析装置，其特征在于，具备：
根据权利要求5所述的光模块；以及
分析处理部，基于由所述光模块的所述光接收单元接收的光，分析所述检查对象光的光特性。
7.一种波长可变干涉滤波器，其特征在于，具备：
第一基板；
第二基板，与所述第一基板相对；
反射膜，设置在所述第二基板的与所述第一基板相对的面上；以及
电极，设置在所述第二基板的与所述第一基板相对的面上，并且
所述第二基板具备设置有所述反射膜和电极的可动部、以及保持所述可动部并且允许所述可动部在基板厚度方向上移动的连接保持部，
所述连接保持部配置在所述可动部的周围，且所述连接保持部的平均厚度尺寸小于所述可动部的设置有所述电极的部位的厚度尺寸。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011029490A JP5909850B2 (ja) | 2011-02-15 | 2011-02-15 | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 |
| JP2011-029490 | 2011-02-15 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN102636829A true CN102636829A (zh) | 2012-08-15 |
| CN102636829B CN102636829B (zh) | 2018-02-13 |
Family
ID=46621288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201210033130.6A Active CN102636829B (zh) | 2011-02-15 | 2012-02-14 | 波长可变干涉滤波器、光模块以及光分析装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US8917451B2 (zh) |
| JP (1) | JP5909850B2 (zh) |
| CN (1) | CN102636829B (zh) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104006880A (zh) * | 2013-02-25 | 2014-08-27 | 精工爱普生株式会社 | 分光测定装置、通信系统以及色彩管理系统 |
| CN104049358A (zh) * | 2013-03-14 | 2014-09-17 | 精工爱普生株式会社 | 干涉滤波器及其制造方法、光学模块、及接合基板 |
| CN110954981A (zh) * | 2018-09-27 | 2020-04-03 | 精工爱普生株式会社 | 光学装置及电子设备 |
| CN113242992A (zh) * | 2018-12-18 | 2021-08-10 | 浜松光子学株式会社 | 控制装置、光学滤光器系统、控制方法 |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5786424B2 (ja) * | 2011-04-11 | 2015-09-30 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び電子機器 |
| JP2012237794A (ja) | 2011-05-10 | 2012-12-06 | Seiko Epson Corp | 光フィルター、光フィルターモジュールおよび光分析装置 |
| JP6119090B2 (ja) | 2011-09-27 | 2017-04-26 | セイコーエプソン株式会社 | 光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器 |
| JP5834718B2 (ja) | 2011-09-29 | 2015-12-24 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器 |
| JP2013238755A (ja) | 2012-05-16 | 2013-11-28 | Seiko Epson Corp | 光学モジュール、電子機器、食物分析装置、分光カメラ、及び波長可変干渉フィルターの駆動方法 |
| JP2014059497A (ja) * | 2012-09-19 | 2014-04-03 | Seiko Epson Corp | 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、電子機器、及びｍｅｍｓデバイス |
| JP6107186B2 (ja) | 2013-02-05 | 2017-04-05 | セイコーエプソン株式会社 | 光学モジュール、電子機器、及び分光カメラ |
| JP2014164068A (ja) * | 2013-02-25 | 2014-09-08 | Seiko Epson Corp | 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、および電子機器 |
| JP6543884B2 (ja) | 2014-01-27 | 2019-07-17 | セイコーエプソン株式会社 | アクチュエーター制御装置、光学モジュール、電子機器、及びアクチュエーター制御方法 |
| JP6413325B2 (ja) | 2014-05-01 | 2018-10-31 | セイコーエプソン株式会社 | アクチュエーター装置、電子機器、及び制御方法 |
| FI126791B (en) * | 2014-12-29 | 2017-05-31 | Teknologian Tutkimuskeskus Vtt Oy | Mirror disk for an optical interferometer, method for manufacturing a mirror disk and optical interferometer |
| JP7006172B2 (ja) * | 2017-11-21 | 2022-01-24 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光学デバイス、光学モジュール、及び電子機器 |
| JP7200842B2 (ja) | 2019-06-21 | 2023-01-10 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター |
| JP7517139B2 (ja) * | 2020-12-24 | 2024-07-17 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変光学フィルター |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20070242920A1 (en) * | 2006-04-18 | 2007-10-18 | Xerox Corporation | Fabry-Perot tunable filter using a bonded pair of transparent substrates |
| JP2009134028A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Seiko Epson Corp | 光学デバイス、波長可変フィルタモジュール、および光スペクトラムアナライザ |
| JP2009251105A (ja) * | 2008-04-02 | 2009-10-29 | Seiko Epson Corp | 光学フィルタ装置 |
| CN101900877A (zh) * | 2009-05-27 | 2010-12-01 | 精工爱普生株式会社 | 光滤波器、光滤波器装置、分析设备以及光滤波器的制造方法 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5142414A (en) * | 1991-04-22 | 1992-08-25 | Koehler Dale R | Electrically actuatable temporal tristimulus-color device |
| FI94804C (fi) | 1994-02-17 | 1995-10-25 | Vaisala Oy | Sähköisesti säädettävä pintamikromekaaninen Fabry-Perot-interferometri käytettäväksi optisessa materiaalianalyysissä |
| JPH11142752A (ja) | 1997-11-05 | 1999-05-28 | Yokogawa Electric Corp | 透過波長可変干渉フィルタ及びこれを用いた分光器 |
| JP4059692B2 (ja) * | 2001-04-24 | 2008-03-12 | シャープ株式会社 | 照明装置およびそれを備える表示装置ならびに導光板 |
| JP3909812B2 (ja) * | 2001-07-19 | 2007-04-25 | 富士フイルム株式会社 | 表示素子及び露光素子 |
| JP2003185941A (ja) | 2001-12-20 | 2003-07-03 | Yokogawa Electric Corp | ファブリペローフィルタ |
| JP2003215473A (ja) | 2002-01-21 | 2003-07-30 | Yokogawa Electric Corp | ファブリペローフィルタ |
| JP5017803B2 (ja) | 2005-06-13 | 2012-09-05 | セイコーエプソン株式会社 | 光学素子および光学装置 |
| JP4466634B2 (ja) * | 2006-01-19 | 2010-05-26 | セイコーエプソン株式会社 | 光学デバイス、波長可変フィルタ、波長可変フィルタモジュール、および光スペクトラムアナライザ |
| JP4561728B2 (ja) * | 2006-11-02 | 2010-10-13 | セイコーエプソン株式会社 | 光学デバイス、光学デバイスの製造方法、波長可変フィルタ、波長可変フィルタモジュール、および光スペクトラムアナライザ |
| JP5369515B2 (ja) | 2008-06-26 | 2013-12-18 | セイコーエプソン株式会社 | 光フィルタとその製造方法及び光学フィルタ装置モジュール |
| JP5151944B2 (ja) * | 2008-12-09 | 2013-02-27 | セイコーエプソン株式会社 | 光フィルタ及びそれを備えた光モジュール |
| JP5707780B2 (ja) | 2010-08-25 | 2015-04-30 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 |
| JP5999213B2 (ja) | 2015-03-04 | 2016-09-28 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 |
-
2011
- 2011-02-15 JP JP2011029490A patent/JP5909850B2/ja active Active
-
2012
- 2012-02-14 US US13/372,946 patent/US8917451B2/en active Active
- 2012-02-14 CN CN201210033130.6A patent/CN102636829B/zh active Active
-
2014
- 2014-11-13 US US14/540,318 patent/US9664890B2/en active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20070242920A1 (en) * | 2006-04-18 | 2007-10-18 | Xerox Corporation | Fabry-Perot tunable filter using a bonded pair of transparent substrates |
| JP2009134028A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Seiko Epson Corp | 光学デバイス、波長可変フィルタモジュール、および光スペクトラムアナライザ |
| JP2009251105A (ja) * | 2008-04-02 | 2009-10-29 | Seiko Epson Corp | 光学フィルタ装置 |
| CN101900877A (zh) * | 2009-05-27 | 2010-12-01 | 精工爱普生株式会社 | 光滤波器、光滤波器装置、分析设备以及光滤波器的制造方法 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104006880A (zh) * | 2013-02-25 | 2014-08-27 | 精工爱普生株式会社 | 分光测定装置、通信系统以及色彩管理系统 |
| CN104049358A (zh) * | 2013-03-14 | 2014-09-17 | 精工爱普生株式会社 | 干涉滤波器及其制造方法、光学模块、及接合基板 |
| CN104049358B (zh) * | 2013-03-14 | 2017-12-01 | 精工爱普生株式会社 | 干涉滤波器及其制造方法、光学模块、及接合基板 |
| CN110954981A (zh) * | 2018-09-27 | 2020-04-03 | 精工爱普生株式会社 | 光学装置及电子设备 |
| CN113242992A (zh) * | 2018-12-18 | 2021-08-10 | 浜松光子学株式会社 | 控制装置、光学滤光器系统、控制方法 |
| CN113242992B (zh) * | 2018-12-18 | 2023-03-10 | 浜松光子学株式会社 | 控制装置、光学滤光器系统、控制方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US9664890B2 (en) | 2017-05-30 |
| US20130044377A1 (en) | 2013-02-21 |
| US8917451B2 (en) | 2014-12-23 |
| US20150070767A1 (en) | 2015-03-12 |
| JP5909850B2 (ja) | 2016-04-27 |
| JP2012168362A (ja) | 2012-09-06 |
| CN102636829B (zh) | 2018-02-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102636829A (zh) | 波长可变干涉滤波器、光模块以及光分析装置 | |
| JP5724557B2 (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、および光分析装置 | |
| CN102608689B (zh) | 波长可变干涉滤波器、光模块以及光分析装置 | |
| US8618463B2 (en) | Optical filter having substrate including surfaces with different heights and optical module provided with same | |
| TWI531821B (zh) | 干涉濾光器、光模組及分析裝置 | |
| JP5779852B2 (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、および光分析装置 | |
| CN102540311B (zh) | 可变波长干涉滤波器、光模块以及光分析装置 | |
| JP5874271B2 (ja) | 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器 | |
| US20120188552A1 (en) | Variable wavelength interference filter, optical module, spectroscopic analyzer, and analyzer | |
| JP2011053510A (ja) | 波長可変干渉フィルター、測色センサー、測色モジュール、および波長可変干渉フィルターの制御方法 | |
| US20120044570A1 (en) | Interference filter, optical module, and analysis device | |
| US20120019827A1 (en) | Interference filter, optical module, and analyzing device | |
| CN102221744A (zh) | 滤光器元件、滤光器模块及分析设备 | |
| JP5617621B2 (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 | |
| JP2012128136A (ja) | 光センサー | |
| JP5673075B2 (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、および光分析装置 | |
| JP2016048187A (ja) | 光学モジュール及び電子機器 | |
| JP2016090251A (ja) | 分光測定装置、及び分光測定方法 | |
| JP2012141347A (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 | |
| JP2011081055A (ja) | 波長可変干渉フィルター、測色センサー、測色モジュール | |
| JP2015143869A (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 | |
| JP2017181361A (ja) | 波長選択装置及び分光測定装置 | |
| JP2016095526A (ja) | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |