CN101783397A - 有机el器件制造装置、成膜装置及其成膜方法、液晶显示基板制造、定位装置及定位方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种降低基板和掩模的挠曲或荫罩的翘曲的影响，能够高精度地蒸镀、或者通过将驱动部等配置在大气侧从而降低真空内的粉尘和气体的发生，生产性高或维修保养性高，工作效率高的有机EL器件制造装置或成膜装置。而且提供能够高精度地定位的定位装置以及定位方法。本发明的第一特征在于使荫罩以下垂的姿势进行与基板的对位并将蒸镀材料蒸镀在基板上。另外，第二特征在于用使光入射到设置于荫罩上的定位用的贯通孔的透过型进行定位。再有，第三特征在于降低荫罩的翘曲进行蒸镀。

Description

有机EL器件制造装置、成膜装置及其成膜方法、液晶显示基板制造、定位装置及定位方法

技术领域

本发明涉及有机EL器件制造装置、成膜装置及其成膜方法、液晶显示基板制造装置以及定位装置及定位方法，尤其涉及适用于大型基板的定位的有机EL器件制造装置以及成膜装置以及液晶显示基板制造装置。

背景技术

作为制造有机EL器件的有力的方法有真空蒸镀法。真空蒸镀法需要基板和掩模的定位。随着逐年处理基板的大型化，6G一代基板规格成为1500mm×1800mm。若基板规格大型化，掩模当然也大型化，其尺寸达到2000mm×2000mm程度。尤其是，若使用钢制的掩模，则其重量在有机器将中达到300kg。一直以来，使基板以及掩模处于水平来实施定位(对位)。而且，由于大型化，定位精度也变得严格，其要求较高。作为与这种定位相关的现有技术，有下述的专利文献1、2。另外，关于定位的补正，在专利文献2中公开了在水平的定位方面加进定位检测量与实际的补正量之差来进行定位的方法。

专利文献1：日本特开2006-302896号公报

专利文献2：日本特开2008-004358号公报

然而，专利文献1公开的将基板和掩模横置进行对位的方法如图14所示，基板以及掩模因其薄度和自重而产生较大地挠曲。如果该挠曲是均匀的，考虑到这种情况也可以制作掩模，但是若中心挠曲相对变大，基板规格变大则制作变得困难。另外，一般情况下，其中心点的挠曲量在将基板的挠曲设为d1、将掩模的挠曲设为d2时，则为d1＞d2。若基板挠曲大，则基板蒸镀面与掩模接触进行定位时，对在前工序中蒸镀的有机膜产生接触伤，因此在定位时需要使基板和掩模较大地分离。但是，若分离到景深以上进行定位，则精度变差，存在成为不良产品的问题。特别是显示装置用基板不能得到高质量的图像。

为了对付该问题，有使基板和掩模大致垂直地进行蒸镀的方法。通过使其垂直，从而能够大幅度地减少因基板和荫罩的自重引起的挠曲。但是，荫罩其掩模部薄至20～50μm，其制造时如图1所示，掩模整体从中心向周围发生翘曲，其影响在掩模部端部较大。图11夸张地描述了该状态，从而可知在基板和荫罩之间产生数十μm的间隙，该间隙引起蒸镀模糊，存在不能高精度地进行蒸镀的问题。

另外，如图15所示，专利文献1所记载的现有方法为了防止蒸镀材料附着在定位标记上，使用所谓反射型光学系统，该反射型光学系统配置了在与蒸镀侧相反的一侧，接受从垂直或斜方向照明的光源及其反射的摄像机，检测定位标记进行定位。在现有的有机EL器件制造装置中，将如图3的引出图所示，设置在钢制掩模上的四边形的凹部和设置在透明基板上的金属部作为定位标记，以金属部来到四边形的中心的方式定位。然而，反射型光学系统存在如下问题，并存在不能精度良好地定位的问题。(1)由于掩模表面进行了镜面精加工而引起晕光，因此不能提高照明强度，若变低则无法检测金属部。(2)为了定位时不损伤基板表面而需要在与掩模之间设置0.5mm左右的间隙，但是反射型光学系统由于景深变小而导致图像成为模糊。

其次，在专利文献1所公开的方法中，由于将对基板和掩模进行定位的整个机构设置在真空内，因此有可能产生伴随着驱动部等的移动的粉尘以及热量或者来自通往驱动部等的配线的气体、来自润滑剂的气体、来自部件表面的气体使真空度降低。第一，通往真空内的粉尘其粉尘附着在基板和掩模上引起蒸镀不良，第二，发热助长掩模的热膨胀使蒸镀规格发生变化，并且，第三，气体使真空度下降，因此均存在使成品率即生产性下降的问题。

另外，由于对基板和掩模进行定位的整个机构设置在真空内，因此存在一旦在驱动部等发生故障，则维修需要时间，装置的工作效率下降之类的问题。

发明内容

因此，本发明的第一目的在于，提供降低基板和掩模的挠曲，可高精度地蒸镀的有机EL器件制造装置及成膜装置以及液晶显示基板制造装置。

另外，本发明的第二目的在于，提供降低荫罩的翘曲的影响，可高精度地蒸镀的有机EL器件制造装置、成膜装置及其成膜方法。

再有，本发明的第三目的在于，提供可精度良好地定位的定位装置以及定位方法。

另外，本发明的第四目的在于，提供使用上述定位装置或定位方法，可高精度地蒸镀的有机EL器件制造装置以及成膜装置。

再有，本发明的第五目的在于，提供通过将驱动部等配置在大气侧从而降低真空内的粉尘或气体的发生，且生产性高的有机EL器件制造装置以及成膜装置。

另外，本发明的第六目的在于，提供通过将驱动部等配置在大气侧从而提高维修性、提高工作效率的有机EL器件制造装置以及成膜装置。

为了实现上述任一目的，第一特征是，具有：将基板保持为立起的姿势的基板保持机构；将荫罩保持为下垂的姿势的荫罩下垂机构；对设置在上述基板和荫罩上的定位标记进行摄像的定位光学机构；以上述下垂姿势的状态驱动上述荫罩的定位驱动机构；以及，基于上述定位光学机构的结果控制上述定位驱动机构的控制机构。

另外，为了实现上述任一目的，在第一特征的基础上，第二特征是，上述荫罩下垂机构具有将上述荫罩可旋转地支撑在上述荫罩或保持上述荫罩的定位基座上的多个旋转支撑部，上述定位驱动机构具有驱动上述多个旋转支撑部中至少一处的主动旋转支撑部的主动驱动机构，上述有机EL器件制造装置还具有使上述主动旋转支撑部以外的其他旋转支撑部即从动旋转支撑部跟随上述主动旋转支撑部的动作而动作的定位从动机构。

再有，为了实现上述任一目的，在第二特征的基础上，第三特征是，在上述荫罩或保持上述荫罩的定位基座的上部、两端侧设置两处上述主动旋转支撑部。

另外，为了实现上述任一目的，在第二特征基础上，第四特征是，上述定位驱动机构具有上述主动驱动机构和左右从动机构；上述主动驱动机构具有对上述两处独立地沿上下方向进行驱动的上下驱动机构、和对上述两处中的一处沿左右方向进行驱动的左右驱动机构；上述左右从动机构使上述另一处跟随上述左右方向的动作而动作。

另外，为了实现上述任一目的，在第一至第四特征的基础上，第五特征是，上述定位驱动机构以及定位从动机构设置在上述真空室之外。

再有，为了实现上述任一目的，在第一至第五特征的基础上，第六特征是，将上述定位驱动机构设置在上述荫罩的上部侧，将上述定位从动机构设置在上述荫罩的下部侧。

另外，为了实现上述任一目的，在第一至第六特征的基础上，第七特征是，上述基板保持机构具有将上述基板从水平状立起的机构。

另外，为了实现上述任一目的，在第一至第六特征的基础上，第八特征是，上述基板保持机构具有使上述基板在立起的状态与荫罩接近或密合的机构。

再有，为了实现上述任一目的，第九特征是，在具有在真空室内进行基板和荫罩的定位的定位机构，并具有将蒸发源内的蒸镀材料蒸镀在基板上的真空蒸镀室的成膜装置中，具有：载置上述基板并将上述基板保持为立起的姿势的基板保持架；以与上述立起的姿势的上述基板相面对的方式保持上述荫罩的荫罩保持机构；以及降低上述荫罩的翘曲造成的影响的补正机构。

另外，为了实现上述任一目的，在第九特征的基础上，第十特征是，上述补正机构保持上述基板的基板架或者具有按压上述荫罩的按压机构。

再有，为了实现上述任一目的，在第十特征的基础上，第十一特征是，上述补正机构具有测定上述基板架与上述荫罩间的距离的测定机构，基于上述测定机构结果或者基于预定的补正量控制上述按压机构。

另外，为了实现上述任一目的，在第十一特征的基础上，第十二特征是，上述按压机构按压上述基板架的按压位置为上述基板的端部蒸镀部的外侧周围，或者，上述按压机构按压上述荫罩的按压位置为与上述基板的端部蒸镀部的外侧周围相对应的位置。

再有，为了实现上述任一目的，在第十二特征的基础上，第十三特征是，上述按压位置为设置在上述基板架或上述荫罩的四个拐角附近的四个部位。

另外，为了实现上述任一目的，第十四特征是，在真空室内进行基板和荫罩的定位，将蒸镀材料蒸镀在上述基板上的成膜方法中，具有补正上述荫罩所具有的翘曲的补正工程。

再有，为了实现上述任一目的，在第十四特征的基础上，第十五特征是，上述补正工序是通过按压保持基板的基板架或按压上述荫罩而进行的工序。

另外，为了实现上述任一目的，在第十四特征的基础上，第十六五特征是，上述补正工序在进行定位之前、或者进行定位之后实施。

再有，为了实现上述任一目的，在第十四至第十六特征的基础上，第十七特征是，在进行定位之后具有使上述基板整体与荫罩密合的工序。

另外，为了实现上述任一目的，在第十特征的基础上，第十八特征是，上述补正机构设置在中空箱内，具有将一端与上述中空箱连接、将另一端向大气敞开的中空的连接部，借助于上述连接部敷设上述补正机构所需要的配线。

再有，为了实现上述任一目的，在第九特征的基础上，第十九特征是，具有使上述基板架和上述补正机构从水平的状态成为立起的状态的基板回旋机构。

另外，为了实现上述任一目的，在第十九特征的基础上，第二十特征是，上述基板回旋机构是使上述连接部回旋的机构

再有，为了实现上述任一目的，第二十一特征是，上述荫罩具有定位用的贯通孔；上述定位部具有定位光学系统和控制部，该定位光学系统具有使光从上述贯通孔的一端侧入射的光源、和对上述另一端进行摄像的摄像机构，该控制部基于上述摄像机构的输出进行定位。

另外，为了实现上述任一目的，在上述第二十一特征的基础上，第二十二特征是，上述贯通孔是贯通上述荫罩的前后的孔，上述定位光学系统至少具有对上述基板进行处理时遮蔽处理材料附着到上述贯通孔的遮蔽机构。

再有，为了实现上述任一目的，在上述第二十二特征的基础上，第二十三特征是，上述定位光学系统具有使上述遮蔽机构在进行处理时向处理位置、即进行定位时向定位位置移动的遮蔽移动机构。

另外，为了实现上述任一目的，在上述第二十一特征的基础上，第二十四特征是，上述贯通孔的一端为定位用的开口部，在另一端开口部连接或插入光纤，将上述光纤的另一端与光源或摄像机构连接。

再有，为了实现上述任一目的，在上述第二十二特征的基础上，第二十五特征是，上述贯通孔的一端为定位用的开口部，上述贯通孔具有L字部。

另外，为了实现上述任一目的，第二十六特征是，具有定位光学系统，该定位光学系统具备对设置在上述基板和荫罩上的定位标记照射光的光源、和对上述定位标记进行摄像的摄像机构，上述光学定位机构具有使上述光源或摄像机构中的至少一方追随上述基板或上述荫罩的定位动作而移动的追随机构。

再有，为了实现上述任一目的，在上述第二十六特征的基础上，第二十七特征是，上述追随机构是与驱动上述定位动作的驱动部的移动联动的机构。

另外，为了实现上述任一目的，第二十八特征是，具有定位光学系统，该定位光学系统具备对设置在基板和荫罩上的定位标记照射光的光源、和对上述定位标记进行摄像的摄像机构，分别对应地设置多个上述定位标记，相对各定位标记设置多个上述定位光学系统，基于上述多个摄像机构的输出，以上述基板的中心位置为基准进行定位。

再有，为了实现上述任一目的，在上述第二十八特征的基础上，第二十九特征是，上述多个为四个，将上述定位标记设置在上述基板以及上述荫罩的四个拐角附近。

另外，为了实现上述任一目的，在上述第二十一至二十九特征的基础上，第三十特征是，上述定位是将上述基板以及荫罩立起设置。

再有，为了实现上述任一目的，在上述第二十一至三十特征的基础上，第三十一特征是，上述定位在真空室内进行，具有将蒸发源内的蒸镀材料蒸镀在基板上的真空蒸镀室。

另外，为了实现上述任一目的，在上述第三十一特征的基础上，第三十二特征是，将上述定位光学系统中至少上述摄像机构内置从上述真空室的上部的大气侧突出的凹部，并在上述凹部前端设置光学窗口。

再有，为了实现上述任一目的，在上述第三十一特征的基础上，第三十三特征是，上述遮蔽移动机构具有：设置在大气侧的驱动机构；以及，借助于真空密封机构连接上述驱动机构和上述遮蔽机构的连接机构。

另外，为了实现上述任一目的，在上述第三十一特征的基础上，第三十四特征是，上述定位装置具有：为了进行上述定位而驱动上述荫罩的驱动机构；以及，连接上述荫罩或保持上述荫罩的定位基座与上述驱动机构的定位轴，上述驱动机构设置在大气侧，上述定位轴借助于真空密封机构而动作。

最后，为了实现上述任一目的，在上述第三十一特征的基础上，第三十五特征是，成膜装置使用有机EL作为上述蒸镀材料，。

本发明具有如下效果。

根据本发明，能够提供降低基板和掩模的挠曲，可高精度地蒸镀的有机EL器件制造装置或成膜装置以及液晶显示基板制造装置。

另外，根据本发明，能够提供降低荫罩的翘曲的影响，可高精度地蒸镀的有机EL器件制造装置、成膜装置及其制造方法以及成膜方法。

再有，根据本发明，能够提供可精度良好地定位的定位装置以及定位方法。

另外，根据本发明，能够提供使用上述定位装置或定位方法，可高精度地蒸镀的有机EL器件制造装置以及成膜装置。

再有，根据本发明，能够提供通过将驱动部等配置在大气侧从而降低真空内的粉尘或气体的发生，且生产性高的有机EL器件制造装置或成膜装置。

另外，根据本发明，能够提供通过将驱动部等配置在大气侧从而提高了维修性、提高了工作效率的有机EL器件制造装置或成膜装置。

附图说明

图1是表示本发明的实施方式的有机EL器件制造装置的图。

图2是表示本发明的实施方式的搬送室2和处理室1的结构概要的图。

图3是表示本发明的实施方式的搬送室和处理室的结构的模式图和动作说明图。

图4是表示本发明的实施方式的定位部的结构的图。

图5是表示本发明的实施方式的荫罩的图。

图6是表示本发明的实施方式的定位光学系统的基本结构的图。

图7是表示本发明的其他实施方式的定位光学系统的基本结构的图。

图8是表示本发明的实施方式的基板回旋接近机构的结构的图。

图9是表示本发明的实施方式的施加了补正荫罩的翘曲的补正机构的处理的动作的流程的图。

图10是表示本发明的实施方式所具有的基板旋转机构、基板密合机构以及基板端部密合机构的图。

图11是表示本发明的实施方式的补正机构的第一实施方式的图。

图12是表示具有本发明的实施方式的补正机构的第二实施方式的定位部的图。

图13是表示本发明的实施方式的补正机构的第二实施方式的图。

图14是表示现有技术(水平定位)的课题的图。

图15是说明现有技术(由反射型光学系统得到的定位)课题的图。

图中：

1-处理室，1bu-真空蒸镀室，2-搬送室，3-负载线束(ロ一ドクラスタ)，6-基板，6m-基板的定位标记，7-蒸镀部，8-定位部，9-处理交接部，60-控制装置，71-蒸发源，81-荫罩，81a～d-旋转支撑部，81m-荫罩的定位标记，81k-设置在荫罩框架上的贯通孔，82-定位基座，83-定位驱动部，83Z-Z轴驱动部，83X-X轴驱动部，84-定位从动部，85-定位光学系统，85as-遮蔽型臂，85c-摄像机，85cm-摄像机侧反射镜，85k-光源，85km-光源侧反射镜，85r-粗略定位光学系统，91-基板架，93-基板回旋转机构，93h-基板回旋驱动部，93A-基板回旋转接近机构，93G-基板接近机构(93g基板接近驱动部)，94-基板端部密合机构，94A～94D-补正机构，94H-补正机构箱，94K-测定传感器部，94P-按压机构部，94S-补正机构密封部，100-有机EL器件的制造装置，A～D-线束。

具体实施方式

使用图1对本发明的第一实施方式进行说明。有机EL器件制造装置并不是仅形成发光材料层(EL层)并用电极夹住的构造，而是将各种各样的材料做成薄膜在阳极上形成空穴注入层或输送层、在阴极上形成电子注入层或输送层等而成的多层构造，并对基板进行洗净。图1表示该制造装置的一个例子。

本实施方式的有机EL器件制造装置100大致包括：搬入处理对象的基板6的负载线束3，处理上述基板6的四个线束(A～D)、各线束间或线束与负载线束3或下一个工序(密封工序)之间所设的六个交接室。在本实施方式中，将基板的蒸镀面作为上面搬送，蒸镀时将基板立起来进行蒸镀。

负载线束3包括：为了维持真空在前后具有闸阀10的负载锁闭室31；以及，从负载锁闭室31接收基板6(以下简称为基板)并回转而将基板6搬入交接室4a的搬送机器人5。各0及各交接室4在前后具有闸阀10，一边控制该闸阀10的开闭维持真空一边向负载线束3或下一个线束等交接基板。

各线束(A～D)具备：具有一台搬送机器人5的搬送室2；从搬送机器人5接收基板，在进行规定的处理的图面上沿上下配置的两个处理室1(第一添加字a～d表示线束，第二添加字u、d表示上侧下侧)。在搬送室2和处理室1之间设有闸阀10。

图2表示搬送室2和处理室1的结构的概要。处理室1的结构根据处理内容而不同，但是以在真空中蒸镀发光材料并形成EL层的真空蒸镀室1bu为例进行说明。图3是此时搬送室2b和真空蒸镀室1bu的结构的模式图和动作说明图。图2中的搬送机器人5具有使整体可上下移动(参照图3的箭头59)且可左右回旋的连杆构造的臂57，在其前端分上下两段具有两个基板搬送用的梳齿状把手58。一根把手的情况下，在搬入搬出处理期间需要：用于将基板交接到下一个工序的旋转动作、用于从上一个工序接收基板的旋转动作、以及伴随于此的闸阀的开闭动作，但是通过做成上下两段，从而保持搬入一方把手的基板并用不保持基板的把手进行从真空蒸镀室搬出基板的动作后，能够连续进行搬入动作。

是做成两根把手还是做成一根把手根据所要求的生产能力决定。在以后的说明中，为了使说明变得简单而用一根把手进行说明。

另一方面，真空蒸镀室1bu大致包括：使发光材料升华而使其蒸镀在基板6上的蒸镀部7；进行基板6与荫罩的对位、使基板6的必要的部分蒸镀的定位部8；以及进行搬送机器人5和基板的交接，并使基板6向蒸镀部7移动的处理交接部9。定位部8和处理交接部9设有右侧R线和左侧L线这两个系统。

于是，本实施方式中的处理的基本方法是，在一方的线(例如R线)进行蒸镀期间，在另一方的线进行基板的搬入板出，使基板6和荫罩81定位，从而完成蒸镀的准备。通过交替进行该处理，能够减少未蒸镀在基板就无用地升华的时间。

首先，第一，对作为本发明的第一特征的定位部8的实施方式进行说明。在本实施方式中，如图4所示，将基板6和荫罩大致垂直地起立来进行。而且，用于定位的机构部尽可能设置在真空蒸镀室1的外侧的大气侧，具体地说，设置在真空蒸镀室1的上部臂1T上或下壁部1Y下。而且，必须设置在真空蒸镀室1bu内是指从大气部设置凸部并设在其内部。

在本实施方式中，定位时，固定基板6，使荫罩81移动并进行对位，以便能够蒸镀在基板6的必要的部分。

以下对定位部8的机构和其动作进行说明。

定位部8包括：荫罩81；固定荫罩81的定位基座82；保持定位基座82且规定定位基座82即荫罩81在XZ平面的姿势的定位驱动部83；从下方支撑定位基座82且与定位驱动部83协作并规定荫罩81的姿势的定位从动部84；检测设置在基板6和上述荫罩81上的后述的定位标记的定位光学系统85；以及，处理定位标记的影像，求出定位量并控制定位驱动部83的控制装置60(参照图8)。

首先，图5表示荫罩81。荫罩81由掩模81M和框架81F构成，例如对G6的基板的规格1500mm×1800mm的尺寸为2000mm×2000mm左右，其重量也达到300kg。在掩模81M上具有用于规定蒸镀位置的窗口。例如形成发出红(R)光的蒸镀膜时，在与R对应的部分具有窗口。该窗口的大小根据颜色而不同，但平均是宽度30μm、高度150μm左右。掩模81M的厚度是50μm左右，今后还有变薄的倾向。另一方面，在掩模81M上，设有四处精密定位标记81m、两处粗略定位标记81mr，共计在六处设有定位标记81m。与此相对应，在基板上也设有四处精密定位标记6ms、两处粗略定位标记6mr，共计在六处设有定位标记6m。

定位基座82具有保持荫罩81的上部以及下部的保持部82u、82d，荫罩81的里侧成为回字那样的空洞，以便能够蒸镀在基板6上。而且，定位基座82在其四个拐角附近利用设置在上部两处81a、81b、设置在该两处各自之下的81c、81d共计四处的旋转支撑部可旋转自如地支撑。

其次，对规定荫罩81的姿势的定位驱动部83和定位从动部84进行说明。首先，对四个旋转支撑部的动作进行说明，对驱动四个旋转支撑部或跟随旋转支撑部的动作而动作的定位驱动部83和定位从动部84的结构和动作进行说明。

若使上述四个旋转支撑部中的旋转支撑部81a在Z方向主动动作(积极地驱动)，使旋转支撑部81b在Z方向以及X方向主动动作，则旋转支撑部81a借助于定位基座82在X方向从动，旋转支撑部81c、81d进行由上述主动动作的复合作用形成的以旋转支撑部81a为支点的从动旋转。

连接各旋转支撑部和后述的驱动部或从动部的作用点的定位轴83a、84a通过花键轴83s、84s不会倾斜，而是沿Z方向垂直而且/或者沿X方向平行移动。因此，各旋转支撑部相对于定位基座82可旋转地安装。因而，上述的旋转支撑部81c、81d的从动旋转成为被分解到X方向以及Z方向的动作。

即，在本实施方式中，利用旋转支撑部81a、81b在Z方向的移动进行Z位置的补正，而且利用两者之差进行旋转补正，并且利用旋转支撑部81b在X方向的移动进行X位置补正。而且，旋转支撑部81a、81b这两者间的间距长具有对相同方向的动作能够精度良好地进行旋转补正的优点。

驱动上述的旋转支撑部81a、81b荫罩驱动部83包括：左驱动部83L，其设置在真空蒸镀室1bu的上部壁1T(也参照图2)上的大气中，且具有使旋转支撑部81a在Z方向移动的Z驱动部83Z；以及右驱动部83R，其具有使旋转支撑部81b与左驱动部83L同样地在Z方向移动的Z驱动部83Z和使上述Z驱动部整体在X方向(图中Z的左方向)移动的X驱动部83X。左右驱动部83L、83R的Z驱动部基本上是相同的结构，因此标注相同符号，而且省略一部分符号。以下带有符号、省略符号的部件在机构部中都一样。

以左驱动部83L为例对Z驱动部83Z进行说明。Z驱动部83Z如上所述，固定在沿X方向在轨道83r上从动的Z驱动部固定板83k上，利用Z方向驱动马达83zm并借助于滚珠螺杆83n、锥形件83t使连接棒83j在Z方向移动。定位轴83a通过在其上部连接的连接棒83j在Z方向移动。锥形件83t是为了利用定位基座82等的重力防止上述Z方向的运动损失而设置的部件，其结果，滞后现象消失，具有迅速向目标值收敛的效果。另外，各定位轴83a借助于波纹管83v动作，该波纹管83v将一端固定在真空蒸镀室1bu的上部壁1T上所设的密封部(未图示)上。

右驱动部83R除了上述Z驱动部83Z外还具有X驱动部83X，该X驱动部固定在真空蒸镀室1bu的上部壁1T上，且沿X轴轨道83r驱动搭载了Z驱动部83Z的Z驱动部固定板83k。X驱动部83X的驱动方法是使X方向驱动马达83xm的旋转力借助于滚珠螺杆83n等基本上与Z轴驱动部83Z相同，但是其驱动力需要使定位基座82旋转驱动以及借助于定位基座使其他驱动部或从动部移动的动力。由于右驱动部83R的定位轴83a也在X方向移动，因此该波纹管83v也具有对X方向的自由度，伸缩的同时在左右具有柔软性。

定位从动轴84具有可使各自的定位轴84a沿Z方向、Y方向移动的左右的从动部84L、84R，以便能够对应旋转支撑部81c、81d的上述的从动旋转。从动部在中心部设在一处即可，但是在本实施方式中，为了使其稳定地动作而设在两处。两从动部基本上左右线对称地具有同一构造，因此以84R为代表进行说明。定位轴84a借助于在真空蒸镀室1bu的下部壁1Y上所设的、密封部84c上的、一端被固定波纹管83v和同样地密封了处理室1bu内真空波纹管84v、花键轴84s，固定在X轴从动板84k上。。于是，X方向的从动在敷设于固定定位从动部84的定位支撑部固定台84b上的轨道84r上移动来进行，上述Z方向的从动通过上述花键84s来进行。

上述的定位部的实施方式中，通过将四处旋转支撑部81中设置在真空蒸镀室上部的两处旋转支撑部向Z方向、而且其中一处在X方向实施主动驱动(积极驱动)，从而实施荫罩的定位。除此之外还可举出各种驱动方法。例如在上部三处设置旋转支撑部，使中央的旋转支撑部旋转，用左右的旋转支撑部在Z方向和X方向上主动或从动并进行定位。在下部至少设置一处从动部。或者，与上述实施方式同样地设置两处上部旋转支撑部，使旋转、Z方向以及X方向的主动动作集中到其中一处，此外还有作为从动的方法。另外，在上述实施方式中，基本上是将上部作为主动，将下部作为从动，但是与之相反也可以。

在上述定位部8的实施方式中，将定位驱动部83、定位从动部84、定位光学系统85设置在真空蒸镀室1bu的上部或下部的大气侧，但是也可以设置在真空蒸镀室1bu的侧壁的大气侧，当然，分散到上部、下部以及侧壁部也可以。

其次，对作为本发明的特征的定位光学系统85的一个实施方式进行说明。本实施方式的定位光学系统为了能够分别独立地拍摄上述的定位标记，而由与四个精密定位标记81ms相对的四个精密定位光学系统85s、与两个粗略定位标记81mr相对的两个粗略定位光学系统85r共计六个光学系统构成。

图6表示六个定位光学系统的基本结构。光学系统的基本结构具有所谓的透过型的结构，该透过型结构隔着荫罩81在定位基座82侧设置了在前端具有光学窗口85ws且固定在真空蒸镀室1bu的上部1T上并借助于光学窗口85w进行照射的光源85k、和固定在后述的遮断臂85as上的光源侧反射镜85k；在基板6侧设置了从摄像机容纳筒85t伸出的臂85a上所安装的摄像机侧反射镜85cm以及容纳在摄像机容纳筒85t内的作为摄像机构的摄像机85c。摄像机容纳筒85t、臂85a等利用波纹管85v等可移动到虚线所示的臂85a位置，以免妨碍基板成为垂直姿势时的轨道K。

由于是透过型，因而为了光能够通过而在掩模81M上设置四边形的贯通孔的定位标记81m，并且在框架81F上也设置圆筒状的贯通孔81k。另一方面，基板6的定位标记6m与在光透过性的基板上形成金属性的四边形的荫罩的定位标记81m相比较是非常小的标记。

若设置贯通孔81k，则如果蒸镀时蒸镀材料进入贯通孔并被蒸镀在定位标记上，从下一个工序开始不能定位。为了防止该现象而进行遮蔽以免在蒸镀时蒸镀材料进入贯通孔81k。在本实施方式中，由于定位时安装了光源反射镜的臂遮断蒸镀时对蒸镀有效的区域，因此可以移动该臂，而且做成具有蒸镀时遮蔽贯通孔81k的构造的遮蔽型臂85as。遮蔽型臂85as利用设置在大气侧的被驱动马达(未图示)上下驱动的连接棒85b进行伸缩，借助于将其一端固定在密封部85s上的波纹管85v而被驱动。图6所示的虚线表示遮蔽状态，实线表示定位状态。

图7表示其它实施方式。如图7(a)所示，如果荫罩的框架81F的厚度充分，则可以在框架81F上设置L字型的贯通孔81k，还可以将光源85k与光源侧反射镜85km一起装在内部。该场合，由于框架81F自身起了遮蔽体的作用，因而不需要遮蔽型臂。

另外，如图7(b)所示，定位时光源侧反射镜85km未遮断蒸镀区域的场合，能够将遮蔽型臂固定在定位基座82上，能够一直处于遮蔽状态。

另外，如图7(b)所示，也可以在摄像机侧加长摄像机容纳筒85t，将光源反射镜85km内置。

再有，如图7(c)所示，将光纤85f的一端以遮蔽的状态固定在光源侧开口部，将另一端与设置在大气侧的光源85k连接。在本实施方式中，能够将作为发热体的光源以简单的构造设置在大气侧，不需要设置特别的遮蔽体。

再有，以其它目的设置在真空蒸镀室1bu的构造物如果在蒸镀时起到遮蔽体的作用就不需要重新设置遮蔽体。

另一方面，摄像机容纳筒85t如图4所示，具有从真空蒸镀室1bu的上部1T突出的构造，在前端设置光学窗口85w，并将摄像机85c维持在大气侧，并且能够对定位标记6m、81m摄像(序号参照图6)。

另外，虽然在蒸镀面侧设置了光源，但是也可以改变位置而设置摄像机。

精密定位光学系统85s和粗略定位光学系统85r在结构上的不同点是，前者是为了高精度地定位，具有缩小视野而以高分别率对定位进行摄像的高放大率透镜85h。伴随于此，图3所示的基板以及荫罩的定位标记6m、81m的尺寸不同。在精密定位的场合，视野与粗略定位的场合相比较小一个量级以上，最终可以实现μm级的定位。

因此，精密定位时，需要不脱离视野地与荫罩81的定位标记81m的移动一致，精密定位光学系统85s也追随地进行移动。使分别固定摄像机85c和光源85k的固定板85p、85ps与Z驱动部固定板83k或X轴从动板84k连接并随其移动。另外，对于粗略定位光学系统85r，为了在初期的安装时能够进行位置调整而设置摄像机对位载物台85d。

在上述实施方式中，使用了六个定位光学系统，但是根据定位的要求精度，不必设置粗略定位光学系统，并且即使在精密定位光学系统中也不需要四个，包含粗略、精密在内最低有两个即可。

其次，对作为本发明的第三特征的在实施定位前将基板立起，定位结束后，使基板6接近荫罩的机构的一个实施方式进行说明。图3所示的处理交接部9具有：与搬送机器人5的梳齿状把手58不干涉就可交接基板6的梳齿状把手91；以及，由固定并载置位于上述梳齿状把手91上的基板6且使该基板6回旋并立起的基板回旋机构93、和使基板6进一步接近定位部8的基板接近机构93G构成的基板回旋接近机构93A。作为进行上述固定的机构，考虑到在真空中的情况，用静电吸附或机械的夹具等构成，至少设置在将基板立起时的上部侧94u 。

图8详细地表示了基板回旋接近机构93A，而且是表示避免了源自配线的覆盖材料等的外部气体的问题、或配管疲劳发生损伤的流体泄漏的危险等的真空内配线·配管机构的应用的图。

首先，对基板回旋接近机构93A进行说明。基板回旋接近机构93包括：载置基板6的载置台93d；蒸镀时对基板6进行冷却的冷却套管93j；使基板6、载置台93d以及冷却套管93j成为一体而旋转的基板回旋驱动部93b；以及，可旋转地支撑冷却套管94j等的旋转支撑台93k。在冷却套管93j上敷设有冷却水管43、44。另外，基板回旋驱动部93b具有：设置在大气侧的回旋用马达93sm；利用旋转马达93sm并借助于齿轮93h₁、93h₂向箭头A方向回旋的中空的第一连杆41；以及，以具有与第一连杆的中空部连接的中空部的方式固定在第一连杆41上，且以沿着上述冷却套管93j的侧面部的方式设置的第二连杆42。还有，第一连杆借助于将一端固定在真空蒸镀室1bu的侧壁上所设的密封部93s上的波纹管93v，利用旋转支撑台93k可旋转地支撑。还有，回旋用马达93sm用设置在大气侧的控制装置60控制。

在上述中，通过仅用图3所示的固定机构94中设置在基板上部的固定机构94u支撑立起的基板6，从而消除了基板6因自重而挠曲。该挠曲被消除后，用设置在基板下部的固定机构94d固定整体也可以。若垂直地将基板6立起，则有可能在基板6和载置台93d之间产生微小间隙，因而使其稍微倾斜例如1度左右而稳定地载置的同时，能够可靠地消除这些挠曲。

在本实施方式中，由于将基板蒸镀面作为上面进行搬送，因而只要将基板6立起便能够定位。

其次，对基板接近机构93G进行说明。基板接近机构93G(基板接近驱动部93g)具有固定基板回旋驱动部93b且在轨道93r上向箭头B方向移动的回旋驱动部载置台93t、借助于滚珠螺杆93n驱动回旋驱动部载置台93t的接近用马达93d。通过用控制装置60控制这种机构，从而使基板6接近荫罩81，如果需要能够使其密合。

根据上述实施方式，能够消除蒸镀时基板的挠曲。另外，能够保持基板和荫罩不接触的距离并定位，然后通过使基板与荫罩接触或密合，从而能够减少蒸镀时的污点，可以实现高精度的蒸镀。

再有，基板回旋接近机构93A具有避免了源自配线的覆盖材料等的外部气体的问题、或配管疲劳发生损伤的流体泄漏的危险等的真空内配线·配管机构。真空内配线·配管机构40由上述第一连杆41以及第二连杆42构成，在其中空部，为了在冷却套管93j中流动冷却水，配置有供给用冷却水配管43和回收用冷却水配管44。各连杆由对锈具有足够的强度的金属例如不锈钢、铝等构成，第一连杆41的中空部的回旋用马达93sm侧在大气中敞开。上述两根冷却水配管一般由在大气中使用的具有柔软性的材料构成或由金属构成，配置成由第一连杆41以及第二连杆42形成的L字状以免在连杆内具有可挠部，可挠部设置在大气侧，若使用后者则能够构成疲劳损伤更少的配管。而且，使上述真空蒸镀室1bu的侧壁的连接部比冷却套管93j的连接部低，万一冷却水从冷却水配管43、44泄漏也会向大气侧排出。

根据本实施方式的真空内配线·配管机构40，在将一端向大气侧敞开、将另一端连接在移动部上的连杆机构的中空部设置配管，上述连杆机构的旋转部被真空密封，完全与真空侧遮断，因而万一从冷却水配管漏水也不会向真空侧漏水，而且也不需要使连杆机构的中空部处于真空。再有，由于用不锈钢或铝构成连杆机构，因而外部气体的发生也较少。而且，由于真空内配线·配管机构构成基板回旋驱动部的一部分，因而能够将整体做成简单的结构。上述例子是将配管敷设在连杆内的例子，即使将信号线配置在连杆内，也能够提供不会使从信号线发生的外部气体到达真空内的结构。因此，能够保持高真空，能够进行可靠性高的蒸镀处理。

其次，以定位动作为主体对具有上述的定位部8、定位光学系统85S以及基板回旋接近机构93A的真空蒸镀室中的处理动作进行说明。

以下表示基板被搬入真空蒸镀室1bu后的处理流程。(1)首先，将搬入了图3所示的R线的基板6的上部固定在基板载置台上，然后大致垂直地立起并消除挠曲。(2)在离基板6一定距离的状态下，利用粗略定位标记实施粗略定位，检测粗略定位中的位置偏移，求出粗略补正量。基于(2)的该粗略补正量使荫罩81在图4所示ZX平面移动进行粗略对位。(3)在保持一定距离的状态下，用精密定位标记实施精密定位，检测精密定位中的位置偏移，求出补正量。(4)基于该精密补正量使荫罩81在图4所示ZX平面移动进行精密对位。(5)使基板6与荫罩81密合。(6)检测(3)的定位结果(位置偏移)。(7)如果位置偏移量在容许范围，则等待图3所示的L线的基板的蒸镀结束。(8)L线的蒸镀结束后，使蒸发源71移动到R线进行蒸发。(9)如果(7)中位置偏移量在容许范围外，则是两者分离一次，为了进行精密定位而返回(3)。

在上述过程中，粗略定位的对位用两台摄像机85c摄像，如设置在基板6上的图3的引出图所示那样，能够对荫罩81和基板6的定位标记81mr、6mr进行摄像，并以两个定位标记的中间点为基准进行根本意义的对位。另一方面，精密定位在基板的四个拐角附近设置四个定位标记，以基板的中心点为基准进行补正。针对理论上用两个确定根本意义，四个信息过多。这是因为，通过以基板的中心点为中心进行决定以便根据四个拐角的信息使四个拐角的偏移为最小量，从而基板6和荫罩81的偏移变小，作为产品会加大可有效地使用的面积。如粗略定位那样以上部中心点为基准，则下部侧的歪斜变大，作为产品可利用的面积变小。

根据以上说明的本实施方式，能够提供能以垂直或大致垂直的状态对基板以及荫罩定位的有机EL器件制造装置。其结果，可排除因基板或荫罩的自重引起的挠曲产生的影响，可消除因位置偏移或基板和荫罩不能接近引起的膜污点，可高精度地蒸镀，能够提供可制造高质量的基板的有机EL器件制造装置。

另外，根据本实施方式，在定位所需要的机构中，通过将驱动装置设置在大气中来抑制粉尘或气体的发生，可降低粉尘或气体引起的蒸镀不良，能够提供生产性高的EL器件制造装置。

再有，根据本实施方式，在定位所需要的机构中，通过将驱动装置或发热的机构或大多数的定位光学系统构成要素设置在大气中，从而能够提供维修保养性良好、工作效率高的有机EL器件制造装置。

另外，通过实施以基板为中心的定位，作为产品可实现有效面积大的蒸镀，即能够提供成品率高、即生产性高的EL器件制造装置。

再有，根据以上实施方式，通过将定位标记做成透过型，从而能够提供能可靠地检测基板和荫罩的可靠性高EL器件制造装置。

至此说明的实施方式是将基板6和荫罩81立起进行定位，然后保持立起的状态并进行蒸镀的实施例。不一定必须以立起状态进行蒸镀，通过附加将荫罩交接到基板侧的机构，保持定位后的状态，使其暂时处于水平然后蒸镀也可以。例如，其第一方法是利用图8所示的基板回旋机构93使其再次处于水平，从上部进行蒸镀的方法。

作为第二方法是将图3所示的两个处理线中的一个线作为定位专用线(例如R线)、将另一个线(L线)作为蒸镀专用线的方法。是用R线定位后，利用搬送机器人5移动到L线，然后用设置在L线上的基板回旋机构93回旋180度，从下部进行蒸镀的方法。在本方法中，虽然花费一些处理时间，但是可以在定位专用线的两侧设置蒸镀专用线而交替地进行处理。

在上述水平地进行蒸镀的实施方式中也能够得到与在立起的状态下进行蒸镀的实施方式同样的效果。

在以上说明的实施方式中，对将基板水平地搬送到处理交接部的情况进行了说明，但也可以垂直地搬送基板，然后实施定位。

再有，根据本实施方式，在定位所需要的机构中，能够提供将不能在真空中设置的驱动装置能设置在大气中的有机EL器件制造装置。

再有，上述定位机构还能够应用于在大气中进行的液晶显示装置等的定位。

另外，通过实施以基板为中心的定位，作为产品可实现有效面积大的蒸镀，即能够提供成品率高、即生产性高的EL器件制造装置。

再有，根据以上实施方式，通过将定位标记做成透过型，从而能够提供能可靠检测基板和荫罩的可靠性高EL器件制造装置。

至此说明的实施方式是将基板6和荫罩81立起进行定位，然后保持立起的状态并进行蒸镀的实施例。不一定必须以立起状态进行蒸镀，通过附加将荫罩交接到基板侧的机构，保持定位后的状态，使其暂时处于水平然后蒸镀也可以。例如，其第一方法是利用图8所示的基板回旋机构93使其再次处于水平，从上部进行蒸镀的方法。

作为第二方法是将图3所示的两个处理线中的一个线作为定位专用线(例如R线)、将另一个线(L线)作为蒸镀专用线的方法。用R线定位后，利用搬送机器人5移动到L线。然后用设置在L线上的基板回旋机构93回旋180度，从下部进行蒸镀的方法。在本方法中，虽然花费一些处理时间，但是可以在定位专用线的两侧设置蒸镀专用线而交替地进行处理。

在上述水平地进行蒸镀的实施方式中也能够得到与在立起的状态下进行蒸镀的实施方式同样的效果。

在以上说明的实施方式中，对将基板水平地搬送到处理交接部的情况进行了说明，但也可以垂直地搬送基板，然后实施定位。

以上说明的实施方式以立起的状态实施了定位，但是将定位标记做成透过型，伴随于此为了进行蒸镀而具有遮蔽构造，将定位光学系统设置在大气侧，而且该光学系统追随荫罩和基板的定位动作，设置四个定位并以基板的中心位置为基准进行对位等也能够适用于水平地进行定位的方法或构造。

其次，对作为本发明的第四特征的具有补正荫罩的翘曲的基板端部密合机构的一个实施方式进行说明。图9表示基板被搬入上述的真空蒸镀室1bu后的处理程序，并且表示施加了补正荫罩的翘曲的处理的处理流程。在本实施方式中，如图9所示，为了即使基板规格大，基板和荫罩间的间隙也能够以数μm蒸镀，而采用以下方法：(1)将基板搬入处理交接部9，然后(2)将上述基板大致垂直地立起，接着(3)使基板接近直到离荫罩81一定距离例如0.5mm的位置，(4)补正荫罩的翘曲引起的与基板的间隙，(5)在该状态下进行定位。定位结束后，(6)使基板6与荫罩81密合，(7)将蒸镀材料蒸镀在基板上。

蒸镀结束后，(8)将基板6从荫罩81离开一定距离，(9)解除(4)的补正，(10)使基板及其他处于水平，(11)将基板从处理交接部9搬出。

在上述步骤中，在(5)的定位前实施了步骤(4)，但是也可以在定位后或步骤(6)后实施，另外，在(8)之后实施了步骤(9)，但是也可以在(8)之前实施。

于是，对实现上述本实施方式的步骤中(2)～(6)以及(8)～(10)步骤的结构以及动作依次进行说明。图10表示的是具有实现上述步骤中(2)(10)的基板回旋机构93、实现(3)(6)(8)的基板接近机构93G、以及实现(4)(9)的基板端部密合机构94的图3所示的处理交接部9，而且是表示适用于消除了源自配线的覆盖材料的外部气体的问题的真空内配线机构的图。

首先，使用图10对实现(2)(10)的基板回旋机构93进行说明。基板回旋机构93具有使载置并保持搬入到处理交接部9的基板6的基板架91、基板6以及后述的基板端部密合机构94为一体地在实施定位前大致垂直地立起，定位结束后返回水平状态的功能。作为进行上述固定的机构，考虑到是在真空中的情况而由静电吸附或机械的夹具等构成。

在图10中，回旋机构93大致包括：使作为回旋对象的基板6、基板端部密合机构94及基板架等的回旋部回旋的真空内配线连杆结构93L，以及借助于上述机构将上述回旋物向箭头A方向回旋驱动的基板回旋驱动部93b。

真空内配线连杆机构93L包括第一连杆93L1和第二连杆93L2以及将它们从真空侧隔离且将其内部维持在大气氛围的密封部93S。上述第一连杆93L1将一端支撑在回旋支撑台93k，将另一端以具有中空部的方式连接在后述的基板端部密合部94上。上述第二连杆93L2设置在相对于上述基板端部密合机构94与上述第一连杆93L1相反的一侧，将一端与第一连杆93L1同样以具有中空部的方式连接在上述基板端部密合机构94上，将另一端部连接在图1所示的设置在分隔部11上的支撑部11A上。上述密封部93S由将一端连接在上述基板端部密合机构的连接部上、将另一端分别连接在真空蒸镀室1bu的侧壁和支撑部11A上的第一密封部93S1和第二密封部93S2构成。各密封部93S1、93S2具有连接各两端的波纹管93Sv1、93Sv2，而且，各密封部93S1、93S2的基板端部密合机构94侧的连接部可旋转地支撑第一连杆93L1和第二连杆93L2。

在上述实施方式中，为了在连杆内敷设配线94f而将连杆内做成真空，但由于密封部93S以包含各连杆的方式构成，因此在连杆和真空密封部之间敷设配线也可以。该场合，不必将连杆做成真空。

另一方面，基板回旋驱动部93b具有：设置在大气侧的回旋用马达93m；将回旋用马达93sm的回旋传递到上述第一连杆93L1的齿轮93h₁、93h₂；以及支撑第一连杆L1的一端的旋转支撑台93k。还有，回旋用马达93sm用设置在大气侧的控制装置60控制。

另外，图10是真空蒸镀室1bu的R线，以图1所示的分隔部11为面对象中心，L线也配置有同一结构。因此，R线的第一连杆93L1、基板端部密封机构94、第二连杆93L2以及L线的第一连杆93L1、基板端部密封机构94、第二连杆93L2的中空部成为借助于设置在分隔部11上的支撑部11A而在大气中连接的构造。第二连杆93L2不一定必须是中空的，但如后述那样，第二连杆93L2必须在分隔部11的中空部向图10所示的B方向移动，因此有能在移动部出现粉尘，因此采用形成支撑部11A的中空部的一部分，且与大气连接的构造。

在上述中，若将基板6垂直地立起，则在基板6和基板架91之间也有可能产生微小的间隙，因此使其稍微倾斜例如1度左右而稳定地载置的同时，能够利用基板的自重可靠地消除基板的挠曲。在本实施方式中，由于将基板蒸度面作为上面进行搬送，因而只要将基板立起便能够进行上述的定位。

第二，对于实现步骤(5)的定位的结构和动作已经使用图4进行了说明，因而这里省略。

其次，使用图10对使(3)(6)(8)的基板6与荫罩81密合的基板接近机构93G的结构以及动作进行说明。基板接近机构93G是通过使基板回旋机构93整体地向箭头B方向前后移动，从而使基板6首先接近到至荫罩81一定距离的部位，然后使其密合，蒸镀后返回到原位置的机构。因此，基板接近机构93G(基板接近驱动部93g)具有：载置基板回旋机构93的回旋驱动部载置台93t；回旋驱动部载置台93t行驶用的轨道93r；以及借助于滚珠螺杆93n驱动回旋驱动部载置台93t的接近用马达93m。分隔部11的中空部也具有跟随回旋驱动部载置台93t的动作而动作，并使基板回旋机构93的第二连杆93L2向B方向移动的轨道(未图示)。就轨道而言，其工作长度是高度2mm左右。通过用控制装置60控制这种机构，从而能够使基板6与荫罩81接近、密合以及脱离。

根据上述实施方式，能够消除蒸镀时基板的挠曲。而且，保持基板与荫罩不接触的距离例如0.5mm左右的同时能够进行定位，然后通过使基板与荫罩密合，从而能够减少蒸镀中的污点，可实现高精度的蒸镀。

最后，使用图10对实现使(4)(9)的荫罩的翘曲引起的与基板的间隙进一步密合的基板端部密合机构94进行说明。即使通过基板接近机构93G使基板6与荫罩81密合，也会如图11所示由于荫罩81具有的翘曲而在基板端部在蒸镀区域和荫罩81上产生数十μm的间隙。于是，在本实施方式中，测定基板架91与荫罩81间的距离，按压基板架91的上述端部蒸镀区域的外侧周围，补正基板6与荫罩81间的间隙，使基板6沿着荫罩81密合。

图10表示实现它的基板端部密合机构94的实施方式。基板端部密合机构94为了补正荫罩的翘曲使其沿着基板，在箱94H的内部上部设置两处、在下部设置两处、共计设置四处补正机构94A～94D。共计四处的补正机构94A～94D中用上部两处补正上部的翘曲，用下部两处补正下部的翘曲，用右部两处补正右部的翘曲，并且用左部两处补正左部的翘曲。

图11是表示补正机构94A～94D的一个实施方式的结构的图。以94A为代表来表示。由于各机构的结构都相同因此各机构要素的添加字(A～D)省略。补正机构94A包括：测定上述距离的测定传感器部94k；按压基板架91的按压机构部94P；以及进行真空密封的密封部94S。密封部94S由设置在箱94H和基板架91上的密封件94s1、94s2、和连接它们的密封用波纹管94sv。传感器部94k包括：测定至荫罩81的距离的激光距离计94kr；为了确保光程而设置在基板架91上的光程坑94kh及光学窗口94kw。另一方面，按压机构部(按压机构)94P包括：基板架的按压部94pp；其前端部可转动地安装在该按压部上的按压棒94pb；将该按压棒向前后移动的滚珠螺杆94pn；螺母94pt；螺母导向件94pg；以及驱动滚珠螺杆的伺服马达94pm。

控制装置60基于来自激光距离计94kr的检测结果按压基板架91，以使基板6沿着荫罩81。作为目标间隙例如在10μm以下。没有达到目标间隙以下时，取四个间隙的平均值进行补正。

根据上述实施方式的基板端部密封机构，能够使基板高精度地沿着荫罩所具有的翘曲，其结果，即使在基板端部也能够消除膜污点且高精度地蒸镀。

在上述实施方式中，在四处补正了荫罩的翘曲，但是上部的翘曲比目标间隙小的话侧在上部中央设置一处也可以。

另外，在上述实施方式中，将基板端部密合机构94和基板架91一体化，但是例如基板端部密合机构的传感器部分别测量基板架与荫罩81的距离的话，则能够根据它们的差来测定基板与荫罩间的距离，因而不一定必须一体化。该场合，例如也可以使基板端部密合机构94在基板的上部具有回旋轴从上部回旋并使其沿着基板架91，在大致垂直地立起的基板架91上进行端部密合补正。

再有，在上述实施方式中，用传感器测定基板架与荫罩的距离作为补正量，但对大多数的荫罩预先测定上述距离，根据其统计上的处理的距离作为补正量也可以。

即使在以上的实施方式中也能够得到与详细说明的实施方式同样的效果。

另外，在图10所示的实施方式中，箱94H内部如在基板回旋机构93处说明的那样，借助于第一连杆93L1向大气侧敞开。其结果，伴随着按压，马达等的粉尘向大气排出，不会给真空蒸镀带来恶劣影响。另外，由于实现了将通往马达的驱动线以及来自传感器部的信号线94f借助于箱94H和第一连杆93L1连接在控制装置上的真空内部配线机构，因而不会发生由于源自配线的覆盖材料的外部气体而导致真空度降低的问题。再有，将上述箱94H和上述连杆用对锈具有足够的强度的金属例如不锈钢、铝等构成，因而不会产生外部气体。

因此，根据本实施方式，能够保持高真空，能够进行可靠性高的蒸镀处理。

以上说明的实施方式的基板端部密合机构使基板沿着荫罩，反之，也可以使荫罩沿着基板。

图12表示的是表示基板端部密合机构的第二实施方式的定位部8，图13表示的是按压荫罩81的四角的补正机构。在图12、13中，具有与第一实施方式相同功能的部件附注同一符号。

在图12中，L字状的补正机构箱94H具有设置在荫罩的四角(94A、94D未图示)且将一端在按压荫罩的部位进行真空密封的图13所示的密封部94S，并具有将另一端与大气侧连接的构造。

四个补正机构基本上具有同一构造，因而以上侧的补正机构为例进行说明。在图13中，与图11的不同点是：在荫罩上设置光程坑94kh和光学窗口94kw；激光距离计94kr测定至基板架91的距离；密封部94S设置在补正机构箱94H与荫罩间。对于其他方面，基本上与图11相同。

在该第二实施方式中也与第一实施方式同样，能够保持高真空，能够进行可靠性高的蒸镀处理。

另外，在上述说明中，以有机EL器件为例进行了说明，但是进行与有机EL器件具有相同背景的蒸镀处理的成膜装置以及成膜方法也可适用。

另外，在上述说明中，以有机EL器件为例进行了说明，但是进行与有机EL器件具有相同背景的蒸镀处理的成膜装置以及成膜方法也可适用。

再有，上述定位机构在大气中进行的液晶显示装置等的定位也可适用。

Claims (57)

1.一种有机EL器件制造装置，在真空室内进行基板和荫罩的定位，并具有将蒸发源内的蒸镀材料蒸镀在基板上的真空蒸镀室，其特征在于，

具有：将上述基板保持为立起的姿势的基板保持机构；将上述荫罩保持为下垂的姿势的荫罩下垂机构；对设置在上述基板和荫罩上的定位标记进行摄像的定位光学机构；以上述下垂姿势的状态驱动上述荫罩的定位驱动机构；以及，基于上述定位光学机构的结果控制上述定位驱动机构的控制机构。

2.根据权利要求1所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述荫罩下垂机构具有将上述荫罩可旋转地支撑在上述荫罩或保持上述荫罩的定位基座上的多个旋转支撑部，上述定位驱动机构具有驱动上述多个旋转支撑部中至少一处的主动旋转支撑部的主动驱动机构，上述有机EL器件制造装置还具有使上述主动旋转支撑部以外的其他旋转支撑部即从动旋转支撑部跟随上述主动旋转支撑部的动作而动作的定位从动机构。

3.根据权利要求2所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

在上述荫罩或保持上述荫罩的定位基座的上部、两端侧设置两处上述主动旋转支撑部。

4.根据权利要求3所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述定位驱动机构具有上述主动驱动机构和左右从动机构；

上述主动驱动机构具有对上述两处独立地沿上下方向进行驱动的上下驱动机构、和对上述两处中的一处沿左右方向进行驱动的左右驱动机构；

上述左右从动机构使上述另一处跟随上述左右方向的动作而动作。

5.根据权利要求1～4任一项所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述定位驱动机构以及定位从动机构设置在上述真空室之外。

6.根据权利要求1～4任一项所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

将上述定位驱动机构设置在上述荫罩的上部侧，将上述定位从动机构设置在上述荫罩的下部侧。

7.根据权利要求1～4任一项所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

将上述定位驱动机构和上述定位从动机构设置在上述荫罩的侧面部。

8.根据权利要求2所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述旋转支撑部用上述定位驱动机构以及定位从动机构和定位轴连接。

9.根据权利要求8所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述定位轴具有约束其相对于上下方向平行地移动的约束机构。

10.根据权利要求9所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述约束机构是设置在上述定位轴上的花键。

11.根据权利要求8所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述定位轴借助于真空密封机构和波纹管与上述旋转支撑部连接。

12.根据权利要求1～4任一项所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述基板保持机构具有将上述基板从水平状态立起的竖立机构。

13.根据权利要求12所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述控制机构使用上述竖立机构倾斜微小角度。

14.根据权利要求1～4任一项所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述基板保持机构具有在将上述基板立起的状态下使其与荫罩接近或密合的机构。

15.一种成膜装置，在真空室内进行基板和荫罩的定位，并具有将蒸发源内的蒸镀材料蒸镀在基板上的真空蒸镀室，其特征在于，

具有：将上述基板保持为立起的姿势的基板保持机构；利用将上述荫罩可旋转地支撑在上述荫罩或保持上述荫罩的定位基座上的多个旋转支撑部将上述荫罩保持为下垂的姿势的荫罩下垂机构；对设置在上述基板和荫罩上的定位标记进行摄像的定位光学机构；具有使上述多个旋转支撑部的至少一处的主动旋转支撑部以上述下垂姿势的状态驱动上述荫罩的主动驱动机构的定位驱动机构；使上述主动旋转支撑部以外的其他旋转支撑部即从动旋转支撑部跟随上述主动旋转支撑部的动作而动作的定位从动机构；以及，基于上述定位光学机构的结果控制上述定位驱动机构的控制机构。

16.根据权利要求15所述的成膜装置，其特征在于，

在上述荫罩或保持上述荫罩的定位基座的上部、两侧部设置两处上述主动旋转支撑部。

17.根据权利要求16所述的成膜装置，其特征在于，

上述定位驱动机构具有上述主动驱动机构和左右从动机构；

上述主动驱动机构具有对上述两处独立地沿上下方向进行驱动的上下驱动机构、和对上述两处中的一处沿左右方向进行驱动的左右驱动机构；

上述左右从动机构使上述另一处跟随上述左右方向的动作而动作。

18.根据权利要求15～17任一项所述的成膜装置，其特征在于，

上述定位驱动机构以及定位从动机构设置在上述真空室之外。

19.一种液晶显示基板制造装置，进行基板和荫罩的定位，并将液体涂敷在上述基板，其特征在于，

具有：将上述基板保持为立起的姿势的基板保持机构；利用将上述荫罩可旋转地支撑在上述荫罩或保持上述荫罩的定位基座上的多个旋转支撑部将上述荫罩保持为下垂的姿势的荫罩下垂机构；对设置在上述基板和荫罩上的定位标记进行摄像的定位光学机构；具有使上述多个旋转支撑部的至少一处的主动旋转支撑部以上述下垂姿势的状态驱动上述荫罩的主动驱动机构的定位驱动机构；使上述主动旋转支撑部以外的其他旋转支撑部即从动旋转支撑部跟随上述主动旋转支撑部的动作而动作的定位从动机构；以及，基于上述定位光学机构的结果控制上述定位驱动机构的控制机构。

20.根据权利要求19所述的液晶显示基板制造装置，其特征在于，

在上述荫罩或保持上述荫罩的定位基座的上部、两侧部设置两处上述主动旋转支撑部。

21.根据权利要求20所述的液晶显示基板制造装置，其特征在于，

上述定位驱动机构具有上述主动驱动机构和左右从动机构；

上述主动驱动机构具有对上述两处独立地沿上下方向进行驱动的上下驱动机构、和对上述两处中的一处沿左右方向进行驱动的左右驱动机构；

上述左右从动机构使上述另一处跟随上述左右方向的动作而动作。

22.一种有机EL器件制造装置，具有在真空室进行基板和荫罩的定位的定位机构、和将蒸发源内的蒸镀材料蒸镀在基板上的真空蒸镀室，其特征在于

具有：载置上述基板并保持为立起的姿势的基板架；以与上述立起的姿势的上述基板相面对的方式保持上述荫罩的荫罩保持机构；以及降低上述荫罩的翘曲造成的影响的补正机构。

23.根据权利要求22所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述补正机构具有按压上述基板架的按压机构。

24.根据权利要求22所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述补正机构具有按压上述荫罩的按压机构。

25.根据权利要求24所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述补正机构具有测定上述基板架与上述荫罩间的距离的测定机构，基于上述测定机构结果控制上述按压机构。

26.根据权利要求23或24所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述补正机构基于预定的补正量控制上述按压机构。

27.根据权利要求23所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述按压机构按压上述基板架的按压位置为上述基板的端部蒸镀部的外侧周围。

28.根据权利要求24所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述按压机构按压上述荫罩的按压位置为与上述基板的端部蒸镀部的外侧周围相对应的位置。

29.根据权利要求27或28所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述按压位置为设置在上述基板架或上述荫罩的四个拐角附近的四个部位。

30.根据权利要求23或24所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述补正机构设置在中空箱上，具有将一端与上述中空箱连接、将另一端向大气敞开的中空的连接部，借助于上述连接部敷设上述补正机构所需要的配线。

31.根据权利要求22所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

具有使上述基板架和上述补正机构从水平的状态成为立起的状态的基板回旋机构。

32.根据权利要求31所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述基板回旋机构是使上述连接部回旋的机构。

33.一种成膜装置，具有在真空室进行基板和荫罩的定位的定位机构、和将蒸发源内的蒸镀材料蒸镀在基板上的真空蒸镀室，其特征在于，

具有：载置上述基板并保持为立起的姿势的基板架；以与上述立起的姿势的上述基板相面对的方式保持上述荫罩的荫罩保持机构；以及降低上述荫罩的翘曲造成的影响的补正机构。

34.一种成膜方法，在真空室内进行基板和荫罩的定位，将蒸镀材料蒸镀在上述基板上，其特征在于，

具有补正上述荫罩所具有的翘曲的补正工序。

35.根据权利要求34所述的成膜方法，其特征在于，

上述补正工序是按压保持基板的基板架或按压上述荫罩的工序。

36.根据权利要求34或35所述的成膜方法，其特征在于，

上述补正工序在进行定位之前实施。

37.根据权利要求34或35所述的成膜方法，其特征在于，

上述补正工序在进行定位之后实施。

38.根据权利要求34或35任意一项所述的成膜方法，其特征在于，

具有使上述基板整体在进行了定位之后与荫罩密合的工序。

39.一种定位装置，进行基板和荫罩的定位，其特征在于，

上述荫罩具有定位用的贯通孔；上述定位部具有定位光学系统和控制部，该定位光学系统具有使光从上述贯通孔的一端侧入射的光源、和对上述另一端进行摄像的摄像机构，该控制部基于上述摄像机构的输出进行定位。

40.根据权利要求39所述的定位装置，其特征在于，

上述贯通孔是贯通上述荫罩的前后的孔，上述定位光学系统具有至少对上述基板进行处理时遮蔽处理材料附着到上述贯通孔的遮蔽机构。

41.根据权利要求40所述的定位装置，其特征在于，

上述定位光学系统具有使上述遮蔽机构在进行处理时向处理位置移动，并在进行定位时向定位位置移动的遮蔽移动机构。

42.根据权利要求41所述的定位装置，其特征在于，

在上述遮蔽机构上设置使来自光源的光和/或向摄像机构反射的光进行反射的反射镜。

43.根据权利要求39所述的定位装置，其特征在于，

上述贯通孔的一端为定位用的开口部，在另一端开口部连接或插入光纤，将上述光纤的另一端与光源或摄像机构连接。

44.根据权利要求39所述的定位装置，其特征在于，

上述贯通孔的一端为定位用的开口部，上述贯通孔具有L字部。

45.根据权利要求44所述的定位装置，其特征在于，

在上述L字部的拐角设置反射镜。

46.一种定位装置，进行基板和荫罩的定位，其特征在于，

具有定位光学系统，该定位光学系统具备对设置在上述基板和荫罩上的定位标记照射光的光源、和对上述定位标记进行摄像的摄像机构，上述定位光学系统具有使上述光源或摄像机构中的至少一方追随上述基板或上述荫罩的定位动作而移动的追随机构。

47.根据权利要求46所述的定位装置，其特征在于，

上述追随机构是与驱动上述定位动作的驱动部的移动联动的机构。

48.一种定位装置，进行基板和荫罩的定位，其特征在于，

具有定位光学系统，该定位光学系统具备对设置在上述基板和荫罩上的定位标记照射光的光源、和对上述定位标记进行摄像的摄像机构，分别对应地设置多个(至少三处以上)上述定位标记，相对各定位标记设置多个上述定位光学系统，具有基于上述多个摄像机构的输出，以上述基板的中心位置为基准进行定位的控制机构。

49.根据权利要求48所述的定位装置，其特征在于，

上述多个为四个，将上述定位标记设置在上述基板以及上述荫罩的四个拐角附近。

50.一种成膜装置，具有在真空室内进行基板和荫罩的定位的定位装置、和将蒸发源内的蒸镀材料蒸镀在基板上的真空蒸镀室，其特征在于，

作为上述定位装置，使用了权利要求39至49所述的定位装置。

51.根据权利要求50所述的成膜装置，其特征在于，

上述定位装置立起设置。

52.根据权利要求50所述的成膜装置，其特征在于，

将上述定位光学系统中至少上述摄像机构内置从上述真空室的上部的大气侧突出的凹部，并在上述凹部前端设置光学窗口。

53.根据权利要求50所述的成膜装置，其特征在于，

上述遮蔽移动机构具有：设置在大气侧的驱动机构；以及，借助于真空密封机构连接上述驱动机构和上述遮蔽机构的连接机构。

54.根据权利要求50所述的成膜装置，其特征在于，

上述定位装置具有：为了进行上述定位而驱动上述荫罩的驱动机构；以及，连接上述荫罩或保持上述荫罩的定位基座与上述驱动机构的定位轴，上述驱动机构设置在大气侧，上述定位轴借助于真空密封机构而动作。

55.根据权利要求50所述的成膜装置，其特征在于，

上述成膜装置是使用了有机EL作为上述蒸镀材料的有机EL器件制造装置。

56.一种定位方法，对与基板和荫罩相对应地设置的一组定位标记照射光，并对被照射的上述定位标记进行摄像，基于上述摄像机构的输出进行定位，其特征在于，

在基板的周边部设置多个(至少三处以上)上述一组的定位标记，基于上述多个定位标记的检测结果，以上述基板的中心位置为基准进行定位。

57.根据权利要求56所述的定位方法，其特征在于，

上述多个为四处，上述周边部为基板的四个拐角附近。

Images