CN101436561A - 磁力驱动构件、基板传送单元及基板处理装置 - Google Patents

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CN101436561A CNA2008101720818A CN200810172081A CN101436561A CN 101436561 A CN101436561 A CN 101436561A CN A2008101720818 A CNA2008101720818 A CN A2008101720818A CN 200810172081 A CN200810172081 A CN 200810172081A CN 101436561 A CN101436561 A CN 101436561A
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金炯拜
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柳承洙
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Abstract

本发明提供一种采用直接驱动方式、能够简化驱动机构的结构并能更稳定地传送基板的磁力驱动构件，以及利用该磁力驱动构件的基板传送单元和具有该基板传送单元的基板处理装置。所述传送基板的基板传送单元包括：轴，相互并排配置，用于传送基板；第一磁力构件，设置在所述轴的一端上；第二磁力构件，与所述第一磁力构件相对设置，并进行磁耦合，而且沿其圆周面形成多个突出部；动力传递构件，通过与在所述第二磁力构件中相邻的任意两个所述第二磁力构件上形成的所述突出部的啮合，在所述第二磁力构件之间传递转动力；以及驱动构件，向任意一个所述第二磁力构件提供转动力。

Description

磁力驱动构件、基板传送单元及基板处理装置
技术领域
本发明涉及对基板进行处理的装置，特别涉及利用磁耦合提供驱动力的磁力驱动构件、利用磁力驱动构件传送在制造晶片或平板显示元件中使用的基板的基板传送单元以及具有基板传送单元的基板处理装置。
背景技术
最近，信息处理设备正在向功能多样化和信息处理速度高速化快速发展。这种信息处理装置具有显示运转信息的显示面板。以往在显示面板中主要使用阴极射线管显示器，但最近随着技术的快速发展，使用轻而且占用空间小的液晶显示(LCD)的平板显示面板急剧增加。
为了制造平板显示装置，要进行蒸镀、氧化、扩散、蚀刻、清洗等多种工序，平板显示装置中使用的基板由传送单元在进行各工序的处理单元之间或处理单元内进行传送。
传送单元具有：并排配置并转动的轴；以及设置成插入各轴并与轴一起转动的辊。轴一般以两端被支撑的状态进行转动，来传递驱动构件的转动力，设置在轴上的辊与轴一起转动，同时传送基板。
以往，为了把驱动构件的转动力传递到轴上，主要采用齿轮这种利用机械接触方式的动力传递机构，但机械接触方式存在的问题是，在动力传递过程中，因齿轮的磨损等会产生很多微粒。因此，最近主要采用利用磁力的动力传递机构，即，不进行直接接触，就把驱动构件的转动力传递到轴上。
发明内容
本发明的目的是提供一种可以简化动力传递机构的结构、降低费用、而且提高空间的灵活使用程度的磁力驱动构件，以及利用该磁力驱动构件的基板传送单元和具有该基板传送单元的基板处理装置。
本发明另一个目的是提供一种可以稳定传送基板的磁力驱动构件，以及利用该磁力驱动构件的基板传送单元和具有该基板传送单元的基板处理装置。
本发明的目的不限于此，对于没有提及的其他目的，本领域技术人员从以下的说明中应该可以充分理解。
为了实现所述目的，本发明提供一种传送基板的基板传送单元，其特征在于包括：轴，相互并排配置，用于传送基板；第一磁力构件，设置在所述轴的一端上；第二磁力构件，与所述第一磁力构件相对设置，并进行磁耦合，而且沿其圆周面形成多个突出部；动力传递构件，通过与在所述第二磁力构件中相邻的任意两个所述第二磁力构件上形成的所述突出部的啮合，在所述第二磁力构件之间传递转动力；以及驱动构件，向任意一个所述第二磁力构件提供转动力。
在具有上述结构的本发明的基板传送单元中，所述突出部为链轮的齿形，所述动力传递构件为与所述突出部即链轮的齿形啮合的链条。
所述突出部沿圆周方向形成凹凸形，所述动力传递构件为与凹凸形的所述突出部啮合的带。
所述突出部为直齿圆柱齿轮形状，所述动力传递构件为与所述直齿圆柱齿轮形状的所述突出部啮合的齿轮。
所述第一磁力构件和第二磁力构件分别具有：外壳；以及多块磁铁，配置在所述外壳内；其中，所述第一磁力构件的所述磁铁和所述第二磁力构件的所述磁铁相对配置并具有不同的极性。
所述第一磁力构件和第二磁力构件分别具有：外壳；多块板状磁铁，在所述外壳内配置成环形；其中，所述第一磁力构件的所述磁铁配置成相邻的磁铁之间具有不同的极性，所述第二磁力构件的所述磁铁配置成相邻的磁铁之间具有不同的极性，所述第一磁力构件和第二磁力构件相对配置的所述磁铁具有不同的极性。
为了实现所述目的，本发明还提供一种基板处理装置，其特征在于包括：工序室，进行基板处理工序；轴，并排配置在所述工序室内，设置有与基板接触的多个辊，用于传送基板；第一磁力构件，为圆板形，设置在所述轴的一端上；第二磁力构件，为圆板形，在所述工序室的外侧与所述第一磁力构件相对设置；动力传递构件，在所述第二磁力构件之间传递转动力；以及驱动构件，向任意一个所述第二磁力构件提供转动力；其中，在所述第二磁力构件的圆周面上，沿圆周方向具有多个突出部，所述动力传递构件通过与在相邻的任意两个所述第二磁力构件上形成的所述突出部的啮合，来传递转动力。
在具有上述结构的本发明的基板处理装置中，所述突出部为链轮的齿形，所述动力传递构件为与所述突出部即链轮的齿形啮合的链条。
所述突出部沿圆周方向形成凹凸形，所述动力传递构件为与凹凸形的所述突出部啮合的带。
所述突出部为直齿圆柱齿轮形状，所述动力传递构件为与所述直齿圆柱齿轮形状的所述突出部啮合的齿轮。
所述第一磁力构件和第二磁力构件分别具有：圆板形的外壳；板状磁铁，在所述外壳内配置成环形；其中，所述第一磁力构件的所述磁铁配置成相邻的磁铁之间具有不同的极性，所述第二磁力构件的所述磁铁配置成相邻的磁铁之间具有不同的极性，所述第一磁力构件和第二磁力构件相对配置的所述磁铁具有不同的极性。
为了实现所述目的，本发明还提供一种磁力驱动构件，向与其磁耦合的从动磁力构件提供转动力，其特征在于包括：圆板形的能够转动的外壳；以及配置在所述外壳内的多块磁铁；其中，所述外壳具有沿圆周面突出的多个突出部，其上作用有能使所述外壳转动的外力。
在具有上述结构的本发明的磁力驱动构件中，所述多个突出部为链轮的齿形。
所述多个突出部沿圆周方向为凹凸形。
所述多个突出部为直齿圆柱齿轮形状。
所述多个磁铁在所述外壳内配置成环形。
所述多个磁铁配置成相邻磁铁之间具有不同的极性。
按照本发明，可以简化动力传递机构的结构。
并且，按照本发明，可以降低基板处理装置的制造费用，减少基板处理装置的设备占有面积，并提高空间的灵活使用度。
此外，按照本发明可以实现稳定地传送基板。
附图说明
图1是表示本发明一个实施方式的基板处理装置的图。
图2是表示图1中的基板传送单元的一个实施方式的图。
图3是图2中的第一磁力构件的剖面图。
图4是沿图3中的A—A’线的剖面图。
图5是图2中的第二磁力构件的立体图。
图6是图5中的第二磁力构件的剖面图。
图7是沿图6中的B—B’线的剖面图。
图8是沿图2中的C—C’线的剖面图。
图9是表示图1中的基板传送单元的另一个实施方式的图。
图10是图9中的第二磁力构件的立体图。
图11是图10中的第二磁力构件的剖面图。
图12是沿图11中的D—D’线的剖面图。
图13是沿图9中的E—E’线的剖面图。
图14是表示图1中的基板传送单元的又一个实施方式的图。
图15是图14中的第二磁力构件的立体图。
图16是图15中的第二磁力构件的剖面图。
图17是沿图16中的F—F’线的剖面图。
图18是沿图14中的G—G’线的剖面图。
附图标记说明
22  室
100  基板传送单元
110  轴
120  第一磁力构件
124、134  磁铁
130、130’、130”  第二磁力构件
138a、138b、138’、138”  突出部
140、140’、140”  动力传递构件
150  驱动构件
具体实施方式
下面参照附图对本发明优选实施方式的磁力驱动构件、利用该磁力驱动构件的基板传送单元以及具有该基板传送单元的基板处理装置进行详细说明。首先，对于相同的构成要素，各图的附图标记尽可能相同。此外，在本发明的说明中，省略对与本发明的要点无影响的相关的公知结构或功能的具体说明。
实施方式
在本实施方式中，以制造平板显示装置中使用的玻璃基板为例，对基板S进行说明。可是基板S也可以是除了上述玻璃基板以外的在制造半导体设备中使用的晶片。
图1是表示本发明一个实施方式的基板处理装置1的图。如图1所示，基板处理装置1具有：多个室10、22、24、30；基板传送单元100；以及清洗单元200、300。各室10、22、24、30提供进行基板处理工序的空间。基板传送单元100使基板S在室10、22、24、30之间以及在室10、22、24、30内向一个方向移动。清洗单元200、300在室22、24内对用基板传送单元100传送的基板S进行清洗。
下面对上述构成要素进行详细说明。
各室10、22、24、30的内部是空的，大体为六面体形状。室10、22、24、30并排配置成一列。在各室10、22、24、30的一个侧壁上，设有把基板S送入室10、22、24、30的送入口12，在与此相对的另一个侧壁上，设有把基板S从室10、22、24、30送出的送出口14。基板S通过送入口12和送出口14，顺序从位于最前面的室传递到位于最后面的室。在各室10、22、24、30内对基板S进行规定的工序。在室10、22、24、30中至少一个室22、24中，进行清洗工序。在位于进行清洗工序的室22前方的室10中，进行蚀刻工序，在位于进行清洗工序的室24后方的室30中，可以进行干燥工序。
按照一个例子，第一清洗室22、第二清洗室24和干燥室30顺序配置成一列。第一清洗室22和第二清洗室24设置清洗单元200、300。提供给第一清洗室22的清洗单元是刷式清洗构件200，提供给第二清洗室24的清洗单元是流体供给喷嘴(Fluid Supply Nozzle)300。
基板S被传送到第一清洗室22和第二清洗室24进行清洗后，传送到干燥室30进行干燥。刷式清洗构件200利用刷子的物理接触力，对基板S上的区域进行清洗。流体供给喷嘴300把没有从第一清洗室22去除的微粒以及用刷式清洗构件200从基板S去除但残留在基板S上或基板S上部的微粒，从基板S上去除。流体供给喷嘴300把高压气体提供给去离子水，使去离子水成为喷雾状态后，把喷雾状态的去离子水喷射到基板S上。流体供给喷嘴300可以使用一个方向的长度长的狭缝喷嘴。
干燥室30中设置有向基板S提供干燥气体的干燥喷嘴30a。干燥喷嘴30a提供加热的空气或加热的氮气等非活性气体，可以对基板S进行干燥。干燥喷嘴30a在有选择地把异丙醇(Iso-Propyl Alcohol，IPA)这样的有机溶剂提供给基板S后，把上述的加热的空气等提供给基板S，可以对基板S进行干燥。干燥喷嘴30a可以使用一个方向的长度长的狭缝喷嘴。
图2是表示图1的基板传送单元100一个实施方式的图。
如图2所示，基板传送单元100有多个轴110。轴110在室22内相互平行并排配置。轴110设置在从与送入口(图1的附图标记12)相邻的位置到与送出口(图1的附图标记14)相邻的位置。在各轴110上沿其长度方向设置多个辊112。辊112与基板的下面接触。利用轴110的转动，辊112转动，基板S以其下面与辊112接触的状态沿轴110的排列方向直线移动。轴110可以水平配置成把基板S在水平状态下传送。也可以使轴110的一端和另一端位于相互不同的高度，有选择地把基板S在倾斜的状态下传送。
第一磁力构件120分别设置在配置于室22内侧的轴110的一端上。第二磁力构件130设置成在室22外侧与第一磁力构件120相对。在第一磁力构件120的内部和第二磁力构件130的内部装有后面叙述的磁铁124、134。利用磁铁124、134相互之间的磁力，第一磁力构件120和第二磁力构件130进行磁耦合(Magnetic Coupling)。
如图3和图4所示，第一磁力构件120分别具有外壳122和磁铁124。外壳122为圆板形，外壳122的中心以与轴110的中心对齐的状态连接在轴110的一端上。外壳122可以用聚氯乙烯(PVC)材质制造。在外壳122的内部提供设置磁铁124的空间。如图4所示，大体可以有8块磁铁124，也可以提供与此不同数量的磁铁124。各磁铁124为圆板形，以外壳122的中央为中心排列成环形。相邻的磁铁124从磁铁124的排列平面上来看，配置成具有不同的极性。即，具有N极极性的磁铁124和具有S极极性的磁铁124交替配置。并且，在磁铁124的一侧，为了增加在磁铁124之间传递的磁力，可以配置不锈钢材质的加强板125。
在室22外侧设有第二磁力构件130，它与第一磁力构件120一一对应，并与第一磁力构件120相对。如图5～图7所示，第二磁力构件130具有圆板形的外壳132，在外壳132内部有磁铁134。磁铁134为圆板形，磁铁134的配置结构与第一磁力构件120的磁铁124的配置结构相似。但是，第二磁力构件130的磁铁134配置成与第一磁力构件120的磁铁124具有不同的极性。即，第二磁力构件130的磁铁134中，具有N极极性的磁铁134配置成与第一磁力构件120的具有S极极性的磁铁124相对，第二磁力构件130的磁铁134中，具有S极极性的磁铁134配置成与第一磁力构件120具有N极极性的磁铁124相对。利用这种磁铁124、134的配置结构，在第一磁力构件120和第二磁力构件130之间，产生磁引力，利用此力使第一磁力构件120和第二磁力构件130进行磁耦合。并且，在磁铁134的一侧，为了增加在磁铁134之间传递的磁力，可以配置不锈钢材质的加强板135。
此外，如图2所示，与第一磁力构件120磁耦合的第二磁力构件130分别用转动轴136和轴承构件137支撑，可以转动。各第二磁力构件130分别从相邻配置的第二磁力构件130传递转动力。转动力在第二磁力构件130之间的传递由动力传递构件140进行，驱动构件150把转动力提供给第二磁力构件130中的任意一个第二磁力构件130。如果驱动构件150的转动力被提供给任意一个第二磁力构件130，则在相邻配置的第二磁力构件130之间，由动力传递构件140传递转动力，第二磁力构件130的转动力被传递给与第二磁力构件130磁耦合的第一磁力构件120。利用这种驱动机构，把驱动构件150的转动力最终传递给与第一磁力构件120结合的轴110，由此使与轴110上的辊112接触并被支撑的基板S向一个方向传送。
作为用于把驱动构件150的转动力在第二磁力构件130之间进行传递的驱动机构，可以采用链轮驱动方式、带驱动方式、齿轮系(Gear Train)驱动方式等直接驱动方式。所谓直接驱动方式是指把驱动构件150的转动力至少直接传递给一个第二磁力构件130，在第二磁力构件130之间也是直接传递转动力的驱动方式。而间接驱动方式是把驱动构件150的转动力经过带—带轮组件这样的中间媒介件，间接传递给第二磁力构件130的驱动方式。
为了利用直接驱动方式把驱动构件150的转动力传递给第二磁力构件130，在第二磁力构件130的圆周面上必须形成突出部，以便产生使第二磁力构件130转动的外力，动力传递构件140必须与在相邻的某两个第二磁力构件130上形成的突出部啮合。
例如在图2所示的链轮驱动方式下，突出部是链轮的齿形，动力传递构件140是与链轮的齿形啮合的链条。如图5～图7所示，可以在外壳132的圆周面上沿圆周方向以一定间隔形成链轮的齿形138a、138b，可以沿外壳132的转动轴方向形成并排两列的结构。如图8所示，动力传递构件140即链条与在相邻的某两个第二磁力构件130上形成的链轮的齿形138a、138b啮合。另一方面，驱动构件150可以把转动力直接传递给第二磁力构件130中的任何一个，此外作为链轮驱动方式，也可以把转动力传递给第二磁力构件130。
下面对用于把驱动构件150的转动力传递给第二磁力构件130之间的驱动机构，以带驱动方式和齿轮系驱动方式为例进行说明。
首先参照图9～图13对带驱动方式进行说明。其中与图2、图5～图8所示的构成要素相同的构成要素，采用相同的附图标记，并省略对它们的具体说明。
如图9所示，在室22的外侧设有第二磁力构件130’，它与第一磁力构件120一一对应，并与第一磁力构件120相对。如图10～图12所示，第二磁力构件130’有圆板形的外壳132，在外壳132的内部有磁铁134。各磁铁134为圆板形，以外壳132的中央为中心排列成环形。从排列磁铁134的平面上看，相邻的磁铁134配置成具有不同的极性。并且第二磁力构件130’的磁铁134配置成具有与第一磁力构件120的磁铁124不同的极性。利用这种配置磁铁124、134的结构，在第一磁力构件120和第二磁力构件130’之间产生磁引力，利用此力使第一磁力构件120和第二磁力构件130’进行磁耦合。并且在磁铁134的一侧，为了增加在磁铁134之间传递的磁力，可以配置不锈钢材质的加强板135。
此外如图9所示，与第一磁力构件120磁耦合的各第二磁力构件130’用转动轴136和轴承构件137支撑，可以转动。各第二磁力构件130’从相互邻接配置的第二磁力构件130’传递转动力。在第二磁力构件130’之间传递转动力由动力传递构件140’进行，驱动构件150把转动力提供给第二磁力构件130’中的任意一个第二磁力构件130’。
作为用于把驱动构件150的转动力在第二磁力构件130’之间传递的驱动机构，可以采用带驱动方式。在图9所示的带驱动方式下，作用有使第二磁力构件130’转动的外力的突出部138’，是在外壳132的圆周面上形成的凹凸形，动力传递构件140’是与凹凸形的突出部138’啮合的带。如图10～图12所示，凹凸形的突出部138’在外壳132的圆周面上沿圆周方向形成。从排列磁铁134的平面上看，突出部138’的凹部和凸部形成有相同的宽度。在动力传递构件140’即带的内侧面形成与外壳132的圆周面上的凹凸形对应的凹凸形，如图13所示，带140’与在相邻的某两个第二磁力构件130’上形成的凹凸形的突出部138’啮合。
下面参照图14～图18对齿轮系驱动方式进行说明。其中与图2、图5～图8所示的构成要素相同的构成要素采用相同的附图标记，并省略对它们的具体说明。
如图14所示，在室22的外侧设有第二磁力构件130”，它与第一磁力构件120一一对应，并与第一磁力构件120相对。如图15～图17所示，第二磁力构件130”具有圆板形的外壳132，在外壳132的内部有磁铁134。各磁铁134为圆板形，以外壳132的中央为中心排列成环形。在排列磁铁134的平面上看，相邻的磁铁134配置成具有不同的极性。并且第二磁力构件130”的磁铁134配置成具有与第一磁力构件120的磁铁124不同的极性。利用这种配置磁铁124、134的结构，在第一磁力构件120和第二磁力构件130”之间产生磁引力，利用此力使第一磁力构件120和第二磁力构件130”进行磁耦合。并且在磁铁134的一侧，为了增加在磁铁134之间传递的磁力，可以配置不锈钢材质的加强板135。
此外如图14所示，与第一磁力构件120磁耦合的各第二磁力构件130”，利用转动轴136和轴承构件137支撑，可以转动。各第二磁力构件130”从相互邻接配置的第二磁力构件130”传递转动力。在第二磁力构件130”之间传递转动力由动力传递构件140”进行，驱动构件150向第二磁力构件130”中的任意一个第二磁力构件130”提供转动力。
作为用于把驱动构件150的转动力在第二磁力构件130”之间进行传递的驱动机构，可以采用齿轮系驱动方式。在图14所示的齿轮系驱动方式下，作用有使第二磁力构件130”转动的外力的突出部138”是在外壳132的圆周面上形成的直齿圆柱齿轮形状，动力传递构件140”是与直齿圆柱齿轮形状的突出部138”啮合的齿轮。如图15～图17所示，直齿圆柱齿轮形状的突出部138”在外壳132的圆周面上沿圆周方向形成。如图18所示，作为动力传递构件的齿轮140”位于相邻的任意两个第二磁力构件130”之间，与在第二磁力构件130”上形成的直齿圆柱齿轮形状的突出部138”啮合。
如上所述，作为用于把驱动构件150的转动力在第二磁力构件130之间传递的驱动机构，通过采用链轮驱动方式、带驱动方式、齿轮系驱动方式等直接驱动方式，与现有的利用带—带轮组件的间接驱动方式相比，具有可以简化在第二磁力构件之间传递转动力的驱动机构的结构的优点。
并且，通过简化驱动机构，可以降低基板处理装置的制造费用，减少基板处理装置的设备占有面积，提高空间的灵活使用程度。
此外，利用链轮驱动方式、带驱动方式、齿轮系驱动方式等直接驱动方式，在第二磁力构件之间传递转动力，与现有的间接驱动方式相比，可以更稳定地传送基板。
另一方面，在上述实施方式中提及的第一磁力构件和第二磁力构件，相当于权利要求中的磁力从动构件和磁力驱动构件。
以上的说明不过是体现本发明技术思想的一个例子，具有本发明技术领域普通技术知识的人员，在不脱离本发明本质特性的范围内，可以对本发明进行各种改进和变形。因此，本发明中公开的实施方式不是用于限定本发明的技术思想的，而是用于进行说明的，所以本发明技术思想的范围并不限定于上述实施方式。本发明的保护范围必须根据权利要求的范围来解读，所有与本发明相同技术范围内的技术思想，都应当包括在本发明权利要求的范围内。

Claims (17)

1.一种传送基板的基板传送单元，其特征在于包括：
轴，相互并排配置，用于传送基板；
第一磁力构件，设置在所述轴的一端上；
第二磁力构件，与所述第一磁力构件相对设置，并进行磁耦合，而且沿其圆周面具有多个突出部；
动力传递构件，通过与在所述第二磁力构件中相邻的任意两个所述第二磁力构件上形成的所述突出部的啮合，在所述第二磁力构件之间传递转动力；以及
驱动构件，向任意一个所述第二磁力构件提供转动力。
2.根据权利要求1所述的基板传送单元，其特征在于，
所述突出部为链轮的齿形，
所述动力传递构件为与所述突出部即链轮的齿形啮合的链条。
3.根据权利要求1所述的基板传送单元，其特征在于，
所述突出部沿圆周方向形成凹凸形，
所述动力传递构件为与凹凸形的所述突出部啮合的带。
4.根据权利要求1所述的基板传送单元，其特征在于，
所述突出部为直齿圆柱齿轮形状，
所述动力传递构件为与所述直齿圆柱齿轮形状的所述突出部啮合的齿轮。
5.根据权利要求1所述的基板传送单元，其特征在于，
所述第一磁力构件和第二磁力构件分别具有：
外壳；以及
多块磁铁，配置在所述外壳内；其中，
所述第一磁力构件的所述磁铁和所述第二磁力构件的所述磁铁相对配置并具有不同的极性。
6.根据权利要求1所述的基板传送单元，其特征在于，
所述第一磁力构件和第二磁力构件分别具有：
外壳；
板状磁铁，在所述外壳内配置成环形；其中，
所述第一磁力构件的所述磁铁配置成相邻的磁铁之间具有不同的极性，所述第二磁力构件的所述磁铁配置成相邻的磁铁之间具有不同的极性，所述第一磁力构件和第二磁力构件相对配置的所述磁铁具有不同的极性。
7.一种基板处理装置，其特征在于包括：
工序室，进行基板处理工序；
轴，并排配置在所述工序室内，设置有与基板接触的多个辊，用于传送基板；
第一磁力构件，为圆板形，设置在所述轴的一端上；
第二磁力构件，为圆板形，在所述工序室的外侧与所述第一磁力构件相对设置；
动力传递构件，在所述第二磁力构件之间传递转动力；以及
驱动构件，向任意一个所述第二磁力构件提供转动力；其中，
在所述第二磁力构件的圆周面上，沿圆周方向具有多个突出部，所述动力传递构件通过与在相邻的任意两个所述第二磁力构件上形成的所述突出部的啮合，来传递转动力。
8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，
所述突出部为链轮的齿形，
所述动力传递构件为与所述突出部即链轮的齿形啮合的链条。
9.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，
所述突出部沿圆周方向形成凹凸形，
所述动力传递构件为与凹凸形的所述突出部啮合的带。
10.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，
所述突出部为直齿圆柱齿轮形状，
所述动力传递构件为与所述直齿圆柱齿轮形状的所述突出部啮合的齿轮。
11.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，
所述第一磁力构件和第二磁力构件分别具有：
圆板形的外壳；
板状磁铁，在所述外壳内配置成环形；其中，
所述第一磁力构件的所述磁铁配置成相邻的磁铁之间具有不同的极性，所述第二磁力构件的所述磁铁配置成相邻的磁铁之间具有不同的极性，所述第一磁力构件和第二磁力构件相对配置的所述磁铁具有不同的极性。
12.一种磁力驱动构件，向与其磁耦合的从动磁力构件提供转动力，其特征在于包括：
圆板形的能够转动的外壳；以及
配置在所述外壳内的多块磁铁；其中，
所述外壳具有沿圆周面突出的多个突出部，其上作用有能使所述外壳转动的外力。
13.根据权利要求12所述的磁力驱动构件，其特征在于，所述多个突出部为链轮的齿形。
14.根据权利要求12所述的磁力驱动构件，其特征在于，所述多个突出部沿圆周方向为凹凸形。
15.根据权利要求12所述的磁力驱动构件，其特征在于，所述多个突出部为直齿圆柱齿轮形状。
16.根据权利要求13至15中任意一项所述的磁力驱动构件，其特征在于，所述多个磁铁在所述外壳内配置成环形。
17.根据权利要求16所述的磁力驱动构件，其特征在于，所述多个磁铁配置成相邻磁铁之间具有不同的极性。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103950686A (zh) * 2014-04-30 2014-07-30 谢娟 一种玻璃流水线用传动轮
CN106429291A (zh) * 2016-11-08 2017-02-22 天奇自动化工程股份有限公司 磁性积放辊筒
CN107076515A (zh) * 2014-10-30 2017-08-18 阿自倍尔株式会社 温度管理装置、输送装置及输送台
CN109071127A (zh) * 2017-02-24 2018-12-21 Abb瑞士股份有限公司 辅助输送机和对应的输送系统
CN110944604A (zh) * 2017-07-25 2020-03-31 汉阳大学校产学协力团 支架传递装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0524644Y2 (zh) * 1987-07-21 1993-06-23
JP3193308B2 (ja) * 1996-10-16 2001-07-30 住友ゴム工業株式会社 翼列付きベルト、および、翼列付きベルトの製造方法
JP3489725B2 (ja) * 1999-05-19 2004-01-26 ノーリツ鋼機株式会社 感光材料の搬送装置
JP3884622B2 (ja) * 2001-02-26 2007-02-21 大日本スクリーン製造株式会社 基板搬送装置およびそれを用いた基板処理装置、ならびに基板処理方法
KR100454909B1 (ko) * 2002-02-22 2004-11-06 엘지전자 주식회사 하드디스크 드라이버의 로딩/언로딩 장치
KR100815922B1 (ko) * 2002-05-07 2008-03-24 주식회사 포스코 선재의 균일 냉각을 위한 선재 냉각 장치의 롤러 배열방법
JP2003341835A (ja) * 2002-05-27 2003-12-03 Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd 基板のガス処理装置
JP4286035B2 (ja) * 2003-03-19 2009-06-24 大日本スクリーン製造株式会社 基板搬送装置
KR20060022010A (ko) * 2004-09-06 2006-03-09 삼성전자주식회사 반도체 연마설비의 패드 컨디셔닝 장치
JP2006121967A (ja) * 2004-10-28 2006-05-18 Iseki & Co Ltd 苗移植機
JP2006206218A (ja) * 2005-01-26 2006-08-10 Maruyasu Kikai Kk ガラス基板等の搬送システム
KR100904451B1 (ko) * 2005-03-18 2009-06-24 세메스 주식회사 컨베이어 장치 및 컨베이어 방법
KR20070045537A (ko) * 2005-10-27 2007-05-02 세메스 주식회사 기판 이송 시스템
JP2006081555A (ja) * 2005-12-16 2006-03-30 Mitsubishi Agricult Mach Co Ltd 移植機における縦送りベルトローラ

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103950686A (zh) * 2014-04-30 2014-07-30 谢娟 一种玻璃流水线用传动轮
CN107076515A (zh) * 2014-10-30 2017-08-18 阿自倍尔株式会社 温度管理装置、输送装置及输送台
CN106429291A (zh) * 2016-11-08 2017-02-22 天奇自动化工程股份有限公司 磁性积放辊筒
CN109071127A (zh) * 2017-02-24 2018-12-21 Abb瑞士股份有限公司 辅助输送机和对应的输送系统
US10745212B2 (en) 2017-02-24 2020-08-18 Abb Schweiz Ag Auxiliary conveyor and corresponding conveying system
CN110944604A (zh) * 2017-07-25 2020-03-31 汉阳大学校产学协力团 支架传递装置

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