CN101278239A - 带金属配线的基板的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供带金属配线的基板的制造方法，其包括如下工序：(a)在基板上涂布含有(A)碱可溶性树脂、(B)含醌二叠氮基的化合物和(C)溶剂的正型感光性树脂组合物，形成涂膜的工序；(b)将上述涂膜进行减压干燥而形成感光层的工序；(c)将上述感光层进行图案曝光后，进行显影而形成倒梯形抗蚀图案的工序；(d)对通过上述(c)工序得到的具有倒梯形抗蚀图案的基板蒸镀金属的工序；和(e)通过举离操作，由在上述(d)工序进行了金属蒸镀的基板将倒梯形抗蚀图案和其上的金属蒸镀膜一起除去的工序。本发明利用设有以通用正型光致抗蚀剂得到的倒梯形抗蚀图案的基板，可以廉价且生产率良好地制造上述基板。

Description

带金属配线的基板的制造方法
技术领域
本发明涉及在液晶显示器(LCD)、有机电致发光(有机EL)显示器、等离子体显示面板(PDP)等平板显示器的制作中有用的带金属配线的基板的制造方法。更详细地说，本发明涉及使用正型感光性树脂组合物得到具有倒梯形抗蚀图案(レジストパタ一ン)的基板，并用该基板通过举离法(リフトオフ法)制造上述带金属配线的基板的方法。
背景技术
通过举离法在基板上形成金属配线时，通常使用截面能够形成倒梯形抗蚀图案的抗蚀材料。
例如，通过举离法形成导体图案时，通过如下的一系列工序在基板上形成导体图案，即，(1)使用负型感光性树脂组合物在基板上形成抗蚀膜的工序；(2)将该抗蚀膜曝光成图案状，进行显影，形成负型抗蚀图案(负像)的工序；(3)在包括负型抗蚀图案上的基板整个面上蒸镀金属，形成蒸镀膜的工序；(4)将基板整体浸渍于溶液中，使负型抗蚀图案膨润溶解的工序。在上述工序(4)中，位于负型抗蚀图案上的蒸镀膜也被除去，基板上的蒸镀膜残留成图案状。
图1(a)、图1(b)和图1(c)所示为采用举离法的图案形成工序的一例。
在上述工序(2)中，如图1(a)所示，如果在基板1上形成截面为倒梯形的负型抗蚀图案2，在下面的工序(3)中于基板整个面上形成金属蒸镀膜，则如图1(b)所示，在基板1上和负型抗蚀图案2上分别独立地形成蒸镀膜3和蒸镀膜3’。因此，在工序(4)中如果除去负型抗蚀图案2，则位于其上的蒸镀膜3’也被一起除去，如图1(c)所示，在基板1上只残留蒸镀膜3的图案。
抗蚀图案为矩形、正梯形、下摆翻边状(スソ引き状)等截面形状时，在上述工序(3)中，在基板整个面上形成金属蒸镀膜，则在抗蚀图案侧面也形成蒸镀膜，所以基板上的蒸镀膜和抗蚀图案上的蒸镀膜被连接地形成。因此，如果在工序(4)中除去抗蚀图案，则不仅是形成于其上的蒸镀膜，而且与其连接的基板上的蒸镀膜的一部分或全部也被剥离除去。
以往，作为能够形成倒梯形抗蚀图案的光致抗蚀剂，主要使用负型光致抗蚀剂。已知例如利用举离法的图案形成用负型感光性组合物，其特征在于：含有(X)通过光线曝光或者通过与曝光接续的热处理进行交联的成分、(Y)碱可溶性树脂以及(Z)吸收曝光光线的化合物中的至少一种，而且以碱性水溶液作为显影液(例如参照专利文献1)。
然而，使用负型光致抗蚀剂的方法曝光后必须进行烘烤处理，或者需要长的曝光时间，具有生产率低、且光致抗蚀剂本身较贵等问题。
另一方面，一直以来认为，用通常的正型光致抗蚀剂来形成倒梯形抗蚀图案是困难的。因此，通过研究抗蚀组合物、工序等，提出了形成倒梯形抗蚀图案的方法。例如，提出了如下方法：使用图像反转型的正型抗蚀剂，形成倒梯形的抗蚀图案，进而通过举离法形成膜图案的方法(例如参照专利文献2)；使用内面被粗化的透明基板，利用由其产生的光反射，即使是正型抗蚀组合物也能够形成倒梯形抗蚀图案的方法(例如参照专利文献3)；在正型抗蚀膜上层叠环化橡胶类负型抗蚀膜，由此使得剥离操作容易的利用举离法的图案形成方法(例如参照专利文献4)。
然而，这些方法具有操作复杂、而且难以形成形状良好的抗蚀图案等的缺点。
专利文献1：日本特开平10-213902号公报
专利文献2：日本特开平8-120443号公报
专利文献3：日本特开平9-185174号公报
专利文献4：日本特开平9-283414号公报
发明内容
本发明是基于上述情况而完成的，其目的在于提供：利用设有以通用且便宜的正型光致抗蚀剂、以简单的操作得到的倒梯形抗蚀图案的基板，通过举离法廉价且生产率良好地制造带金属配线的基板的方法。
本发明人为了达成上述目的反复进行了精心研究，结果发现，通过使用正型感光性树脂组合物、在基板上涂布形成涂膜、将该涂膜减压干燥，由此可以容易地形成倒梯形的抗蚀图案，能够达成该目的，基于该认识完成了本发明。
即，本发明提供：
(1)带金属配线的基板的制造方法，其包括如下工序：(a)在基板上涂布含有(A)碱可溶性树脂、(B)含醌二叠氮基的化合物和(C)溶剂的正型感光性树脂组合物，形成涂膜的工序；(b)将上述涂膜进行减压干燥而形成感光层的工序；(c)将上述感光层进行图案曝光后，进行显影而形成倒梯形抗蚀图案的工序；(d)对具有通过上述(c)工序得到的倒梯形抗蚀图案的基板蒸镀金属的工序；以及(e)通过举离操作，从在上述(d)工序进行了金属蒸镀的基板将倒梯形抗蚀图案和其上的金属蒸镀膜一起除去的工序；
(2)上述(1)所述的制造方法，其中，在到达压力为5～4000Pa的条件下进行(b)工序的减压干燥；
(3)具有倒梯形抗蚀图案的基板的制造方法，其包括如下工序：
(a)在基板上涂布含有(A)碱可溶性树脂、(B)含醌二叠氮基的化合物和(C)溶剂的正型感光性树脂组合物，形成涂膜的工序；(b)将上述涂膜进行减压干燥而形成感光层的工序；以及(c)将上述感光层进行图案曝光后，显影而形成倒梯形抗蚀图案的工序。
根据本发明，可以廉价且生产率良好地制造带金属配线的基板。
附图说明
图1(a)、图1(b)和图1(c)是说明采用举离法的图案形成工序的一例的图。图2(a)和图2(b)为抗蚀图案截面形状不同的例子的说明图。图中符号1表示基板，2表示负型抗蚀图案，3、3’表示蒸镀膜。
具体实施方式
本发明的带金属配线的基板的制造方法具有以下所示的(a)工序、(b)工序、(c)工序、(d)工序和(e)工序。
在本说明书中，倒梯形的抗蚀图案是指，如图2(a)所示，对于基板上的抗蚀图案的截面形状，抗蚀图案与基板之间形成的角度α能够满足0°＜α＜90°的抗蚀图案。
[(a)工序]
该工序是在基板上涂布含有(A)碱可溶性树脂、(B)含醌二叠氮基的化合物和(C)溶剂的正型感光性树脂组合物，形成涂膜的工序。
上述(A)成分的碱可溶性树脂只要是可溶解于由碱性水溶液等形成的显影液的树脂就没有特别限定。作为该树脂，可列举公知的感光性树脂组合物中使用的树脂，例如酚醛清漆树脂(ノボラツク樹脂)、甲阶酚醛树脂、丙烯酸类树脂、聚乙烯醇、苯乙烯-丙烯酸共聚物、羟基苯乙烯聚合物、聚乙烯基羟基苯甲酸酯等。其中，优选酚醛清漆树脂。这些树脂可以单独使用1种，还可以将2种以上组合使用。
上述酚醛清漆树脂是通过将酚化合物和醛化合物缩合而得到的酚醛清漆型的酚醛树脂。
用于制造酚醛清漆树脂的酚化合物可以是一元酚，也可以是间苯二酚等二元以上的多元酚。
作为一元酚化合物的具体例子，可列举例如苯酚；邻甲酚、对甲酚、间甲酚等甲酚；3，5-二甲苯酚、2，5-二甲苯酚、2，3-二甲苯酚、3，4-二甲苯酚等二甲苯酚；2-乙基苯酚、3-乙基苯酚、4-乙基苯酚、2-丙基苯酚、3-丙基苯酚、4-丙基苯酚、2-叔丁基苯酚、3-叔丁基苯酚、4-叔丁基苯酚、3，5-二乙基苯酚、2，5-二乙基苯酚、2-叔丁基-4-甲基苯酚、2-叔丁基-5-甲基苯酚、6-叔丁基-3-甲基苯酚、2，3，5-三甲基苯酚、2，3，5-三乙基苯酚等烷基苯酚；对甲氧基苯酚、间甲氧基苯酚、对乙氧基苯酚、间乙氧基苯酚、2，3-二甲氧基苯酚、2，5-二甲氧基苯酚、3，5-二甲氧基苯酚等烷氧基苯酚；2-苯基苯酚、3-苯基苯酚、4-苯基苯酚等芳基苯酚；邻异丙烯基苯酚、对异丙烯基苯酚、2-甲基-4-异丙烯基苯酚、2-乙基-4-异丙烯基苯酚等烯基苯酚；等。
作为多元酚化合物的具体例子，可列举间苯二酚、2-甲基间苯二酚、4-甲基间苯二酚、5-甲基间苯二酚、2-甲氧基间苯二酚、4-甲氧基间苯二酚；氢醌；儿茶酚、4-叔丁基儿茶酚、3-甲氧基儿茶酚；4，4’-二羟基联苯、双酚A；连苯三酚；间苯三酚；等。
这些酚化合物中，优选邻甲酚、间甲酚、对甲酚、2，5-二甲苯酚、3，5-二甲苯酚、2，3，5-三甲基苯酚。
酚化合物可以单独使用1种，还可以将2种以上组合使用。
与酚化合物缩合的醛化合物可以是脂肪族醛、脂环式醛和芳香族醛中的任何一种。
作为脂肪族醛的具体例子，可列举甲醛、低聚甲醛、三噁烷、乙醛、丙醛、正丁醛、异丁醛、三甲基乙醛、正己醛、丙烯醛、巴豆醛等。
作为脂环式醛的具体例子，可列举环己基甲醛、环戊基甲醛、糠醛、呋喃基丙烯醛等。
作为芳香族醛的具体例子，可列举苯甲醛、邻甲苯甲醛、间甲苯甲醛、对甲苯甲醛、对乙基苯甲醛、2，4-二甲基苯甲醛、2，5-二甲基苯甲醛、3，4-二甲基苯甲醛、3，5-二甲基苯甲醛、邻氯苯甲醛、间氯苯甲醛、对氯苯甲醛、邻羟基苯甲醛、间羟基苯甲醛、对羟基苯甲醛、邻甲氧基苯甲醛、间甲氧基苯甲醛、对甲氧基苯甲醛、对苯二醛、苯基乙醛、α-苯基丙醛、β-苯基丙醛、桂皮醛等。
这些醛化合物可以单独使用1种，也可以将2种以上组合使用。
在酚醛清漆树脂的制造中酚化合物和醛化合物的缩合反应在酸性催化剂存在的条件下、用公知的方法进行即可。作为酸性催化剂，可以使用盐酸、硫酸、甲酸、乙酸、草酸、对甲苯磺酸等。通过所述反应得到的缩合反应产物可以直接作为酚醛清漆树脂使用。
碱可溶性树脂可以将低分子量成分分离除去后使用。作为除去低分子量成分的方法，可以列举例如在具有不同溶解性的2种溶剂中分离树脂的液-液分离法，通过离心分离除去低分子量成分的方法，薄膜蒸馏法等。
例如，为上述酚醛清漆树脂时，将所得缩合反应产物溶解于良溶剂，例如甲醇、乙醇等醇溶剂；丙酮、甲基乙基酮等酮溶剂；乙二醇单乙醚乙酸酯等烷撑二醇溶剂；四氢呋喃等醚溶剂；等。接着，注入水中使其沉淀，由此可以得到除去了低分子量成分的酚醛清漆树脂。
本发明中优选使用的碱可溶性酚醛清漆树脂的重均分子量通常为2,000～20,000，优选2,500～12,000，进一步优选3,000～8,000。重均分子量可以通过如下方法测定：以单分散的聚苯乙烯为标准试样，以四氢呋喃(THF)作为洗脱液，通过凝胶渗透色谱(GPC)法测定。
作为本发明中使用的正型感光性树脂组合物中的(B)成分的含醌二叠氮基的化合物，可以使用以往在醌二叠氮-酚醛清漆树脂类抗蚀剂中使用的公知的感光剂。
含醌二叠氮基的化合物，一般优选通过使萘醌二叠氮磺酰氯、苯醌二叠氮磺酰氯等的酰卤和具有能够与其进行缩合反应的官能团(羟基、氨基等，优选羟基)的化合物反应而得到的醌二叠氮磺酸酯。
作为酰卤，具体可列举优选的1，2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯、1，2-萘醌二叠氮-4-磺酰氯、1，2-萘醌二叠氮-6-磺酰氯等。
此外，作为在本发明中优选使用的具有能够与酰卤进行缩合反应的羟基的化合物，可列举例如2，3，4-三羟基二苯甲酮、2，4，4’-三羟基二苯甲酮、2，3，4，4’-四羟基二苯甲酮、2，2’，4，4’-四羟基二苯甲酮、2，2’，3，4，4’-五羟基二苯甲酮等多羟基二苯甲酮；没食子酸甲酯、没食子酸乙酯、没食子酸丙酯等没食子酸酯；2，2-双(4-羟基苯基)丙烷、2，2-双(2，4-二羟基苯基)丙烷等多羟基双苯基烷烃；三(4-羟基苯基)甲烷、1，1，1-三(4-羟基-3-甲基苯基)乙烷、1，1，1-三(4-羟基苯基)乙烷、1，1-双(4-羟基-3-甲基苯基)-1-(4-羟基苯基)乙烷、双(4-羟基-3-甲基苯基)-2-羟基-4-甲氧基苯基甲烷、4，4’-(1-(4-(1-(4-羟基苯基)-1-甲基乙基)苯基)亚乙基)双酚等多羟基三苯基烷烃；1，1，2，2-四(4-羟基苯基)乙烷、1，1，2，2-四(3-甲基-4-羟基苯基)乙烷、1，1，3，3-四(4-羟基苯基)丙烷等多羟基四苯基烷烃；α，α，α’，α’-四(4-羟基苯基)-3-二甲苯、α，α，α’，α’-四(4-羟基苯基)-4-二甲苯、α，α，α’，α’-四(3-甲基-4-羟基苯基)-3-二甲苯等多羟基四苯基二甲苯；2，6-双(2，4-二羟基苄基)对甲酚、2，6-双(2，4-二羟基-3-甲基苄基)对甲酚、4，6-双(4-羟基苄基)间苯二酚、4，6-双(4-羟基-3-甲基苄基)间苯二酚、4，6-双(4-羟基苄基)-2-甲基间苯二酚、4，6-双(4-羟基-3-甲基苄基)-2-甲基间苯二酚等酚化合物和甲醛的三聚体；上述酚化合物和甲醛的四聚体；酚醛清漆树脂；等。
以上的酰卤和具有羟基的化合物，可以单独使用1种或将2种以上组合使用。
例如，酰卤和具有羟基的化合物的反应通常在二噁烷、N-甲基吡咯烷酮、二甲基乙酰胺等有机溶剂中，在三乙醇胺、碳酸碱金属盐或碳酸氢碱金属盐这样的碱性缩合剂存在的条件下进行。所得醌二叠氮磺酸酯的酯化率优选为50摩尔％以上，更优选为60摩尔％以上。酯化率是通过酰卤和具有羟基的化合物的配合比决定的。
相对于上述(A)成分的碱可溶性树脂100质量份，该(B)成分的含醌二叠氮基的化合物的配合量通常为5～50质量份，优选为15～40质量份，更优选为20～40质量份。如果(B)成分的配合量在上述范围内，则可以得到倒梯形抗蚀图案形成性更好，而且有效灵敏度与残膜率、图像分辨性等抗蚀特性的平衡优异的正型感光性树脂组合物。
本发明中使用的正型感光性树脂组合物中的(C)成分的溶剂只要溶解碱可溶性树脂和含醌二叠氮基的化合物，就没有特别限定。例如，可以使用烷撑二醇类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂、烃类溶剂、酮类溶剂、酰胺类溶剂等。
这些溶剂可以单独使用1种或将2种以上组合使用。
溶剂的含量考虑后述的感光性树脂组合物的固体成分含量进行适当设定即可。
作为烷撑二醇类溶剂的具体例子，可列举乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚等乙二醇烷基醚；丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚等丙二醇单烷基醚；乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇单乙醚乙酸酯等乙二醇单烷基醚乙酸酯；丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯等丙二醇单烷基醚乙酸酯；等。
作为醚类溶剂的具体例子，可列举四氢呋喃等。
作为酯类溶剂的具体例子，可列举乙酸乙酯、乙酸正丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯等。
作为烃类溶剂的具体例子，可列举甲苯、二甲苯等芳香族烃等。
作为酮类溶剂的具体例子，可列举甲基乙基酮、2-庚酮、环己酮等。
作为酰胺类溶剂的具体例子，可列举N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。
根据需要，可以使本发明所使用的正型感光性树脂组合物含有公知的各种添加剂，例如表面活性剂、提高该组合物与基板之间的密合性的密合促进剂、染料、灵敏度促进剂、增塑剂、稳定剂等。
作为本发明中能够使用的表面活性剂，可列举硅氧烷类表面活性剂、氟类表面活性剂、烃类表面活性剂。这些表面活性剂可以单独使用1种，还可以将2种以上组合使用。
作为硅氧烷类表面活性剂，可列举具有硅氧烷键的表面活性剂。作为其具体例子，可列举SH28PA、SH29PA、SH30PA，聚醚改性硅油SF84 10、同一系列的SF8427、同一系列的SH8400，ST80PA、ST83PA、ST86PA[以上为东レ·ダウコ一ニング·シリコ一ン公司制]；KP321、KP323、KP324、KP340、KP341[以上为信越シリコ一ン公司制]；TSF400、TSF401、TSF410、TSF4440、TSF4445、TSF4446[以上为东芝シリコ一ン公司制]等。
作为氟类表面活性剂，可列举具有氟碳链的表面活性剂。作为其具体例子，可列举フロリナ一ト[商品名]FC-430、フロリナ一トFC-431[以上为住友スリ一エム公司制]；サ一フロン[商品名]S-141、サ一フロンS-145、サ一フロン S-381、サ一フロン S-393[以上为旭硝子公司制]；エフトツプ[商品名]EF301、エフトツプEF303、エフトツプEF351、エフトツプEF352[以上为ジエムコ公司制]；メガフアツク[商品名]F171、メガフアツクF172、メガフアツクF173、R-30[以上为大日本油墨化学工业株式会社制]等。
此外，还可以使用具有氟原子(氟碳链)的硅氧烷类表面活性剂。作为其具体例子，可列举メガフアツク[商品名]R08、メガフアツクF470、メガフアツクF471、メガフアツクF472SF、メガフアツクF475等。
作为烃类表面活性剂，可列举具有聚氧乙烯链的表面活性剂。作为其具体例子，可列举聚氧乙烯十二烷基醚、聚氧乙烯十八烷基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯等。
相对于正型感光性树脂组合物，这些表面活性剂的使用量为100～5,000质量ppm，优选200～2,000质量ppm。以该范围使用表面活性剂，涂布膜不发生涂布不均，是优选的。
作为密合促进剂，可列举例如密胺化合物和硅烷化合物。
作为密胺化合物的具体例子，可列举Cymel-300、303[日本サイテツクインダストリ一ズ公司制]；MW-30MH、MW-30、MS-11、MS-001、MX-750、MX-706[以上为三和ケミカル公司制]等。相对于碱可溶性树脂100质量份，蜜胺化合物的使用量通常为20质量份以下，优选0.5～18质量份，进一步优选1～15质量份。
另一方面，作为硅烷化合物的具体例子，可列举乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧丙基甲基二甲氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷等。
相对于碱可溶性树脂100质量份，硅烷化合物的使用量通常为2质量份以下，优选0.001～1质量份，进一步优选0.005～0.8质量份。
作为染料的例子，可列举三苯基甲烷类染料、花青染料、重氮染料、苯乙烯基染料等。
作为灵敏度促进剂，可以使用作为上述感光剂的构成成分所列举的具有羟基的化合物。作为灵敏度促进剂的具体例子，可列举多羟基二苯甲酮类、没食子酸酯类、多羟基双苯基烷烃类、多羟基三苯基烷烃类、多羟基四苯基烷烃类等。其中，特别优选多羟基三苯基烷烃类、多羟基二苯甲酮类等。
本发明中使用的正型感光性树脂组合物可以通过如下方法制备：将上述的碱可溶性树脂、含醌二叠氮基的化合物、还有根据需要的表面活性剂、密合促进剂、染料、灵敏度促进剂、增塑剂、稳定剂等的添加剂与溶剂混合，使用各种混合机或分散剂进行混合溶解。对各成分的混合顺序等没有限定。
对本发明中使用的正型感光性树脂组合物的固体成分含量(溶剂以外的成分含量)没有特别限定，通常调整到6～30质量％、优选7～25质量％、进一步优选8～20质量％。通过将固体成分含量设定在该范围内，可以不产生涂布不均地形成涂布膜。
在(a)工序中，作为所使用的基板，没有特别限定，可列举硅基板、玻璃基板、ITO膜形成基板、铬膜形成基板、树脂基板等公知的基板。其中，在本发明方法中，大型基板通常具有正方形或长方形，适合采用至少一边的长度为800mm以上、优选至少一边的长度为1000mm以上的大型基板。
作为在这些基板上涂布上述正型感光性树脂组合物的方法，可以是以往进行的涂布方法中的任何一种，可以采用例如喷涂法、辊涂法、旋转涂布法、非旋转狭缝涂布(スピンレススリツトコ一ト)法等各种方法。
这些方法中，优选非旋转狭缝涂布法。非旋转狭缝涂布法通过使供给正型感光性树脂组合物的狭缝移动，从而不接触狭缝地将该感光性树脂组合物涂布到基板上。
采用非旋转狭缝涂布法进行涂布时，采用非旋转涂布机(スピンレスコ一タ一)[东京应化工业社制]、台式涂布机(テ一ブルコ一タ一)[中外炉工业社制]、线性涂布机(リニアコ一タ一)[大日本スクリ一ン制造社制]、头式涂布机(ヘツドコ一タ一)[平田机工社制]、狭缝口模涂布机(スリツトダイコ一タ一)[东レエンジニアリング公司制]、东丽狭缝涂布机(東レスリツトコ一タ一)[东レ公司制]等的市售涂布机即可。
这样在基板上形成正型感光性树脂组合物的涂膜。
[(b)工序]
该工序是将上述(a)工序中形成于基板上的涂膜进行减压干燥，从而形成感光层的工序。
减压干燥可以使用公知的减压干燥装置进行。减压干燥的条件通过到达压力、装置的压力条件达到到达压力的时间来规定。减压干燥通常在室温下、到达压力5～4,000Pa、优选10～1,000Pa、更优选20～300Pa的条件下进行即可。该到达压力小于5Pa时是不实用的，而超过4,000Pa则有难以形成倒梯形抗蚀图案的趋势。应说明的是，在本说明书中，“减压”是指使压力降低到13,000Pa以下。对减压干燥所需要的时间没有特别限制，考虑膜厚、基板大小、感光性树脂组合物的溶剂量、减压泵的排气能力、减压部分的容积等任意设定即可，通常为1秒～30分钟，优选5秒～10分钟，更优选5秒～5分钟，特别优选30秒～2分钟。
经减压干燥的涂膜，根据需要进行预烘而形成无流动性的感光层。上述预烘通常在60～120℃加热10～600秒左右来进行。该感光层的厚度通常为0.5～5μm左右，优选0.8～4μm。
[(c)工序]
该工序是将上述(b)工序中形成的感光层进行图案曝光后，进行显影而形成倒梯形抗蚀图案的工序。
具体地说，通常隔着掩模图案对该感光层照射活性光线，在感光层中形成规定形状的潜像图案(图案曝光)。接着，将该潜像图案在碱性显影液中进行显影而形成所需的抗蚀图案。
对本发明中使用的活性光线的种类没有特别限定，可列举例如可见光线、紫外线、远紫外线、X射线等，特别优选可见光线、紫外线。照射的光线量可以考虑感光层的使用目的、膜的厚度等进行任意设定。
对潜像图案的显影中使用的碱性显影液没有特别限定。作为该显影液中使用的碱性成分的具体例子，可列举氢氧化四甲铵、碳酸钠、碳酸氢钠、氢氧化钠、氢氧化钾等。这些显影液通常制成0.1～5质量％的水溶液使用。
图案显影后，通常用水洗涤，进而用压缩空气或压缩氮气进行风干。接着，根据需要，通过热板、烘箱等加热装置将该图案在规定温度例如100～250℃下加热(后烘)规定时间，例如在热板上加热2～60分钟左右，在烘箱中加热2～90分钟左右，由此可以得到目的抗蚀图案。
如此得到的抗蚀图案具有倒梯形的截面形状。
[(d)工序]
该工序是对通过上述(c)工序得到的具有倒梯形抗蚀图案的基板蒸镀金属的工序。
金属蒸镀通常对具有倒梯形抗蚀图案的基板的整个面，在垂直方向蒸镀金属即可。由此，在基板的整个面上形成金属蒸镀膜。作为蒸镀对象的金属，可列举例如铂(Pt)、金(Au)、钯(Pd)、铬(Cr)、镍(Ni)、铝(Al)、银(Ag)、钽(Ta)、钨(W)、铜(Cu)、钛(Ti)、铟(In)、锡(Sn)、镁(Mg)等金属，或者含有这些金属元素的合金。这些金属可以分别单独使用或将2种以上混合使用。
金属蒸镀通常使用市售的真空蒸镀装置进行即可。作为蒸镀条件，没有特别限定，例如在真空度1×10-3～1×10-6Pa、蒸镀速度0.1～10nm/秒的范围适当选定即可。蒸镀时间根据金属蒸镀膜的膜厚适当设定即可。
作为金属蒸镀膜的膜厚，没有特别限定，通常为5～1000nm。
[(e)工序]
该工序是通过举离操作，由在上述(d)工序进行了金属蒸镀的基板将倒梯形抗蚀图案和其上的金属蒸镀膜一起除去的工序。
通过上述(d)工序在基板整个面上形成金属蒸镀膜，则如图1(b)所示，在基板上和在倒梯形抗蚀图案上分别独立地形成金属蒸镀膜。通过举离操作，将所述抗蚀图案和其上的金属蒸镀膜一起除去，则在基板上残留具有规定图案的金属蒸镀膜。残留的金属蒸镀膜构成金属配线。
举离操作根据以往公知的方法进行即可。例如，将在(d)工序中得到的形成有金属蒸镀膜的基板在23～150℃的温度下，在二甲亚砜、N-甲基吡咯烷酮、丙酮、二甲基乙酰胺、丙二醇甲基醚、单乙醇胺、γ-丁内酯或它们的混合溶剂中或者市售的抗蚀剂用剥离液中，通常浸渍1～30分钟左右，将抗蚀图案以及在其上的金属蒸镀膜一起除去即可。浸渍基板时，可以根据需要进行搅拌。
如上操作，得到所需的带金属配线的基板。在本发明中，由于利用设有以通用且便宜的正型光致抗蚀剂、以简单的操作得到的倒梯形抗蚀图案的基板，所以可以廉价且生产率良好地制造带金属配线的基板。
此外，作为本发明的一个方案，提供一种具有倒梯形抗蚀图案的基板的制造方法，该方法包括如下工序：(a)在基板上涂布含有(A)碱可溶性树脂、(B)含醌二叠氮基的化合物和(C)溶剂的正型感光性树脂组合物，形成涂膜的工序；(b)将上述涂膜进行减压干燥而形成感光层的工序；(c)将上述感光层进行图案曝光后，进行显影而形成倒梯形抗蚀图案的工序。所述方法具有对本发明的带金属配线的基板的制造方法所说明的上述(a)工序到(c)工序，可以根据这些工序的上述记载容易地实施。根据本发明得到的具有倒梯形抗蚀图案的基板，在本发明的带金属配线的基板的制造方法等中，除了用作举离用抗蚀图案之外，还可以很好地用作有机电致发光显示装置的隔板材料(隔壁材料)等。
实施例
下面，通过实施例更详细地说明本发明，但本发明并不受这些例子的任何限定。
实施例1
(1)正型感光性树脂组合物的制备
将以下成分混合，得到正型感光性树脂组合物(抗蚀剂溶液)，所述成分为：将间甲酚/对甲酚的混合甲酚(质量混合比＝5∶5)与甲醛在草酸存在的条件下缩聚得到的酚醛清漆树脂(重均分子量＝约5500)17.7质量份、由2，3，4，4’-四羟基二苯甲酮和1，2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯得到的酯化率为70摩尔％的含醌二叠氮基的化合物4.3质量份、具有硅氧烷键的硅氧烷类表面活性剂“SH29PA”[东レ·ダウコ一ニング·シリコ一ン公司制]0.05质量份、丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)107.4质量份。
(2)倒梯形抗蚀图案的形成
使用狭缝涂布机在玻璃基板上涂布上述(1)中得到的抗蚀剂溶液，接着在室温(23℃)、到达压力266Pa的条件下进行25秒减压干燥。接着，在110℃、常压下于热板上加热(预烘)150秒，形成膜厚2.1μm的感光层(抗蚀剂膜)。从该抗蚀剂膜之上，用线宽10μm的线与间隔图案(line and space pattern)的掩模，用镜面投影对准曝光器“MPA7000”[商品名，キヤノン公司制]进行曝光，得到潜像图案。曝光量是使线的线宽为10μm的能量。曝光后，用2.38质量％氢氧化四甲铵水溶液进行70秒显影处理，得到具有抗蚀图案的基板。
用扫描型电子显微镜[日本电子社制“JSM-5400”]观察该基板上的抗蚀图案截面(倍率：15,000倍)，结果如图2(a)所示，为倒梯形。
(3)金属蒸镀膜图案的形成
接着，用市售的真空蒸镀装置(アルバツク机工公司制)，在真空度1×10-4Pa、蒸镀速度4nm/秒的条件下，在上述(2)所得的基板的整个面上真空蒸镀膜厚200nm的铝膜。将蒸镀有该铝膜的基板在40℃的二甲亚砜中浸渍1分钟，将抗蚀图案和其上的铝膜剥离。对于剥离后的基板，通过光学显微镜观察金属蒸镀膜的图案(倍率：200倍)，结果观察到：抗蚀图案被无残渣地剥离，并且在基板上形成所需的金属蒸镀膜图案(金属配线)。即，得到所需的带金属配线的基板。
在表1中，示出减压干燥处理时的到达压力和处理时间、以及抗蚀图案的截面形状和剥离后的金属蒸镀膜的图案形状的评价结果。对于抗蚀图案的截面形状，将形成有倒梯形抗蚀图案的情况评价为良好，将形成有正梯形抗蚀图案的情况评价为不良。对于剥离后的金属蒸镀膜的图案形状，将抗蚀图案被无残渣地剥离，并且在基板上形成所需的金属蒸镀膜图案的情况评价为良好；将抗蚀图案无法干净地剥离而残留有残渣等，或者虽然抗蚀图案能够剥离但应残留在基板上的金属蒸镀膜也被剥离，无法形成所需的金属蒸镀膜图案的情况评价为不良。
实施例2、3
除了改变减压干燥时的到达压力之外，用与实施例1相同的方法分别得到带金属配线的基板。
将减压干燥处理时的到达压力和处理时间、以及抗蚀图案的截面形状和剥离后的金属蒸镀膜图案形状的评价结果示于表1。
比较例1
除了不实施减压干燥之外，用与实施例1相同的方法得到带金属配线的基板。
将抗蚀图案的截面形状和剥离后的金属蒸镀膜图案形状的评价结果示于表1。
比较例2
除了改变减压干燥时的到达压力之外，用与实施例1相同的方法得到带金属配线的基板。
将减压干燥处理时的到达压力和处理时间、以及抗蚀图案的截面形状和剥离后的金属蒸镀膜图案形状的评价结果示于表1。
由表1可知，在进行规定的减压干燥处理形成感光层的实施例1～3中，基板上的抗蚀图案形成倒梯形，形成良好的金属蒸镀膜图案；另一方面，不进行这样的减压干燥处理的比较例1和2中，形成正梯形的抗蚀图案，金属蒸镀膜图案不良。
表1
Figure A20068003626100161
抗蚀图案的截面形状  良好：倒梯形，不良：正梯形
剥离后的金属蒸镀膜图案形状  良好：图案形成良好，不良：图案形成不良
产业实用性
根据本发明，提供利用设有以通用且便宜的正型光致抗蚀剂、以简单的操作得到的倒梯形抗蚀图案的基板，通过举离法来廉价且生产率良好地制造带金属配线的基板的方法。

Claims (3)

1. 带金属配线的基板的制造方法，其包括如下工序：
(a)在基板上涂布含有(A)碱可溶性树脂、(B)含醌二叠氮基的化合物和(C)溶剂的正型感光性树脂组合物，形成涂膜的工序；
(b)将上述涂膜进行减压干燥而形成感光层的工序；
(c)将上述感光层进行图案曝光后，进行显影而形成倒梯形抗蚀图案的工序；
(d)对通过上述(c)工序得到的具有倒梯形抗蚀图案的基板蒸镀金属的工序；和
(e)通过举离操作，由在上述(d)工序进行了金属蒸镀的基板将倒梯形抗蚀图案和其上的金属蒸镀膜一起除去的工序。
2. 权利要求1所述的制造方法，其中，在到达压力为5～4000Pa的条件下进行(b)工序的减压干燥。
3. 具有倒梯形抗蚀图案的基板的制造方法，其包括如下工序：
(a)在基板上涂布含有(A)碱可溶性树脂、(B)含醌二叠氮基的化合物和(C)溶剂的正型感光性树脂组合物，形成涂膜的工序；
(b)将上述涂膜进行减压干燥而形成感光层的工序；和
(c)将上述感光层进行图案曝光后，进行显影而形成倒梯形抗蚀图案的工序。
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