CN101226328B - 用于制备滤色片的感光树脂组合物和图像传感器用滤色片 - Google Patents

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Abstract

提供了一种感光树脂组合物，该组合物可用碱性水溶液显影并适合于制备图像传感器用滤色片。所述组合物含有碱溶性树脂、可光聚合的单体、光聚合引发剂、着色剂和溶剂。作为着色剂，颜料和染料组合使用。使用该组合物能形成显示优异的颜色再现性和对比度的微细像素。因此，该组合物可以用于制备图像传感器的高分辨率滤色片。

Description

用于制备滤色片的感光树脂组合物和图像传感器用滤色片
相关申请的交叉参考
本非临时申请要求2007年1月17日提交的韩国专利申请No.10-2007-0005042的优先权，该申请在此全文引入作为参考。
技术领域
本发明涉及一种可用碱性水溶液显影且适合用于制备图像传感器用滤色片的感光树脂组合物。
背景技术
图像传感器是由几百万个光电元件组成的装置。图像传感器根据光的强度将光转换成电信号。使用这种图像传感器使数字输入装置能够在将图像数字化成数字图像之前记录图像。随着近来科技的快速发展，对用于各种安全系统和数码相机的图像传感器的需求呈指数增长。
图像传感器包括像素阵列，即，以二维矩阵形式排列的多个像素，每个图像传感器包括光检测器和传输/信号输出装置。根据应用于图像传感器的传输/信号输出装置，图像传感器大致分为两种类型，即电荷耦合装置(CCD)图像传感器和互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器。
CMOS图像传感器的结构如图1所示。图像传感器的滤色片的作用是将入射光分离成红色光(R)、绿色光(G)和蓝色光(B)组分，并将分离的组分传输到每个像素相应的光电二极管。
研究和开发已集中在用于制备仅仅用于液晶显示器而非图像传感器的滤色片的与水溶性碱性显影剂相容的感光树脂组合物。
最近，一种用来提高图像处理装置特别是数码相机的图像质量的手段是，将像素一边的长度从3-5μm降低到1μm。这些条件需要显著改进的像素材料。
在公开了用于制备图像传感器的滤色片的组合物的专利公开中，韩国专利公开No.2006-0052171以及日本专利公开No.2004-341121涉及约为2.0μm×2.0μm的微细图案的形成方法。这些方法的特征是用染料替代颜料作为着色剂，以形成高密度的像素。然而，由于染料受光和热的影响很大，由该组合物形成的微细像素长期可靠性很差。(数据显示了1小时至最多20小时情况下的可靠性)。日本专利公开平7-1 72032涉及一种使用黑色矩阵(blackmatrix)形成微细R、G和B像素以防止各像素之间的颜色混合和像素位错的方法。然而，该方法需要附加步骤以形成黑色矩阵，并且基本上不可能完善地形成黑色矩阵。另外，黑色矩阵会导致低开口率(opening ratio)。
当前，对具有优异的颜色特性的组合物的需求持续增长，以制造具有有很高的颜色再现性和对比度的高品质图像的图像传感器。尤其是，需要降低绿色光和蓝色光的透光率曲线会合的交叉点的透光率至40％或更低，同时，需要将RGB组合物在各波长区域(交叉干扰(cross talk))中的透光率值最小化，即400-550nm波长范围内红色组合物的透光率、400-460nm和620-700nm波长范围内绿色组合物的透光率以及520-700nm波长范围内蓝色组合物的透光率。
发明内容
根据本发明的一方面，提供了一种用于制备滤色片的感光树脂组合物，该组合物含有碱溶性树脂、可光聚合的单体、光聚合引发剂、着色剂和溶剂，其中颜料和染料用作着色剂。本发明的感光树脂组合物可用于形成显示出很高的颜色再现性和对比度的超微细像素。此外，颜料和染料可以高度耐热和耐光，且该树脂组合物可以用于形成达1.0μm2，例如1.7μm2的超微细正方形像素的图案，而在未曝光区域没有任何残留。
本发明的感光树脂组合物可以含有(1)约0.5重量％至约30重量％的碱溶性树脂，(2)约0.5重量％至约30重量％的可光聚合的单体，(3)约0.1重量％至10重量％的光聚合引发剂，(4)约0.1重量％至约40重量％的颜料，(5)约0.1％至约20重量％的染料，和(6)余量的溶剂。
所述染料可以含有选自由式1、式2、式3和式4表示的化合物中的至少一种化合物：
Figure S2008100007950D00031
在式1中，各R1独立地为H或CH3，各R2独立地为C1-C10烷基，各Y独立地为N、O或S，各Z独立地为N、O、S或C，n为1-3，且X为卤素、ClO4、PF6、SbF6、BF4或
Figure S2008100007950D00033
在式2中，R1、R2、Y、Z、n和X与式1定义的相同；
Figure S2008100007950D00034
在式3中，M为Cu、Zn、V＝O、Fe、Ni、Co、In-Cl、In-烷基或In-烷氧基，且各X独立地为H、F、Cl、Br或I；以及
在式4中，M和X与式3定义的相同。
根据本发明的另一方面，提供了用于图像传感器的滤色片，该滤色片包括使用该感光树脂组合物形成的图案。
附图说明
图1是CMOS图像传感器的横截面示意图；
图2是使用实施例1中制备的组合物形成的像素图案的扫描电子显微镜照片(SEM)的顶视图；
图3是使用对比例1中制备的组合物形成的像素图案的扫描电子显微镜照片(SEM)的顶视图。
具体实施方式
在下文，本发明的详细描述中将更全面地描述本发明，其中，描述了一些但不是本发明所有的实施方式。实际上，本发明可以用许多不同的形式来实现，而不应理解为限制成本文所陈述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本公开满足可适用的法律要求。
本发明中使用的碱溶性树脂为含羧基的丙烯酸粘合剂树脂。特别地，所述含羧基的丙烯酸粘合剂树脂为具有一个或多个羧基的烯键式不饱和单体与其它能与所述具有一个或多个羧基的烯键式不饱和单体共聚的烯键式不饱和单体的共聚物。
在所述含羧基的丙烯酸粘合剂树脂中，所述具有一个或多个羧基的烯键式不饱和单体的含量为约10重量％至约40重量％，例如，约20-30重量％。
所述具有一个或多个羧基的烯键式不饱和单体可以为丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸、衣康酸、富马酸、或它们的混合物。
能与具有一个或多个羧基的烯键式不饱和单体共聚的烯键式不饱和单体的例子包括但不限于：苯乙烯化合物，如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯和乙烯基苄基甲基醚；不饱和羧酸酯，如丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸-2-羟乙酯、甲基丙烯酸-2-羟乙酯、丙烯酸-2-羟丁酯、甲基丙烯酸-2-羟丁酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸苄酯、丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸环己酯、丙烯酸苯酯和甲基丙烯酸苯酯；不饱和羧酸氨基烷基酯，如丙烯酸-2-氨乙酯、甲基丙烯酸-2-氨乙酯、丙烯酸-2-二甲基氨乙酯和甲基丙烯酸-2-二甲基氨乙酯；羧酸乙烯酯，如乙酸乙烯酯和苯甲酸乙烯酯；不饱和羧酸缩水甘油酯，如丙烯酸缩水甘油酯和甲基丙烯酸缩水甘油酯；丙烯腈化合物，如丙烯腈和甲基丙烯腈；不饱和酰胺，如丙烯酰胺和甲基丙烯酰胺。所述含羧基的丙烯酸粘合剂树脂中可以包括选自上述烯键式不饱和单体中的一种或几种单体。
所述含羧基的丙烯酸粘合剂树脂的重均分子量(MW)为约10000至约70000，例如，约20000至约50000。
所述含羧基的丙烯酸粘合剂树脂的例子包括但不限于：甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸-2-羟乙酯共聚物和甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯/甲基丙烯酸-2-羟乙酯共聚物。
以组合物的总重量为基准，该组合物中含羧基的丙烯酸粘合剂树脂的含量可以为约0.5重量％至30重量％。当含羧基的丙烯酸粘合剂树脂在组合物中的含量小于约0.5重量％时，用碱性显影溶液可能不会使该组合物显影。同时，当含羧基的丙烯酸粘合剂树脂在组合物中的含量超过约30重量％时，该组合物交联较差，表面变得粗糙。
所述含羧基的丙烯酸粘合剂树脂在确定使用所述组合物形成的像素的分辨率中通常是最重要因素。例如，当使用甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物作为含羧基的丙烯酸粘合剂树脂时，使用所述组合形成的像素的分辨率主要取决于共聚物的酸值和分子量。实验结果显示，当共聚物中甲基丙烯酸和甲基丙烯酸苄酯的摩尔比为约25∶75，共聚物的酸值为约80至约120，并且该共聚物的重均分子量为约20000至约40000时，能够得到最佳的分辨率结果。
本发明可以使用常规的丙烯酸可光聚合的单体。适用于本发明的可光聚合的单体的例子包括但不限于：乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、1，4-丁二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、季戊四醇六丙烯酸酯、双酚A二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、酚醛环氧丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、二甲基丙烯酸丙二醇酯、1，4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1，6-己二醇二甲基丙烯酸酯等，以及它们的混合物。
以组合物的总重量为基准，所述组合物中的丙烯酸可光聚合单体的含量可以为约0.5重量％至约30重量％。当丙烯酸可光聚合单体的含量小于约0.5重量％时，由组合物形成的像素的边缘可能是不规则的。同时，当丙烯酸可光聚合单体的含量大于约30重量％时，用碱性显影溶液可能不会使该组合物显影。
本发明可以使用常规的光聚合引发剂。适用于本发明的光聚合引发剂的例子包括但不限于：三嗪化合物、苯乙酮化合物、二苯甲酮化合物、噻吨酮化合物、二苯乙醇酮化合物等，以及它们的混合物。
以组合物的总重量为基准，所述组合物中光聚合引发剂的含量可以为约0.1重量％至约10重量％。光聚合引发剂的用量小于约0.1重量％在经曝光形成图案时导致不充分的光聚合反应。但是，如果光聚合引发剂的用量超过约10重量％，未反应的引发剂在光聚合反应之后会留在组合物中，使透光率变差。
适用于本发明的三嗪化合物的例子包括但不限于：2，4，6-三氯均三嗪、2-苯基-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(3’，4’-二甲氧基苯乙烯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4’-甲氧基萘基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(对甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(对苯乙烯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-对苯基-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、双(三氯甲基)-6-苯乙烯基均三嗪、2-(萘并-1-基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-甲氧基萘并-1-基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-4-三氯甲基(胡椒基)-6-三嗪、2-4-三氯甲基-(4’-甲氧基苯乙烯基)-6-三嗪等，以及它们的混合物。
适用于本发明的苯乙酮化合物的例子包括但不限于：2，2’-二乙氧基苯乙酮、2，2’-二丁氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、对叔丁基三氯苯乙酮、对叔丁基二氯苯乙酮、二苯甲酮、4-氯苯乙酮、4，4’-二甲氨基二苯甲酮、4，4’-二氯二苯甲酮、3，3’-二甲基-2-甲氧基二苯甲酮、2，2’-二氯4-苯氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-吗啉基-1-丙酮、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮等，以及它们的混合物。
适用于本发明的二苯甲酮化合物的例子包括但不限于：二苯甲酮、苯甲酰苯甲酸酯、苯甲酰苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、羟基二苯甲酮、丙烯酸酯化的二苯甲酮、4，4’-双(二甲氨基)二苯甲酮、4，4’-双(二乙氨基)二苯甲酮等，以及它们的混合物。
适用于本发明的噻吨酮化合物的例子包括但不限于：噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、2，4-二异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮等，以及它们的混合物。
适用于本发明的二苯乙醇酮化合物的例子包括但不限于：二苯乙醇酮、二苯乙醇酮甲基醚、二苯乙醇酮乙基醚、二苯乙醇酮异丙基醚、二苯乙醇酮异丁基醚、苯甲基二甲基缩酮等，以及它们的混合物。
其它化合物也可以用于光聚合引发剂，例如但不限于：咔唑化合物、二酮化合物、硼酸锍化合物、重氮化合物、联咪唑化合物(biimidazole compound)等，以及它们的混合物。
三嗪化合物可以特别用于形成超微细正方形像素图案而在未曝光区域没有任何残留物。而且，发明人发现具有约340nm至约380nm的最大吸收波长(λmax)的三嗪化合物对像素图案的性能影响最大。基于此发现完成了本发明。
可以特别用于本发明的三嗪化合物由式5、式6、式7和式8表示：
Figure S2008100007950D00082
Figure S2008100007950D00083
Figure S2008100007950D00084
适用于本发明的颜料的例子包括但不限于红色颜料、绿色颜料、蓝色颜料、黄色颜料和紫色颜料。这些颜料的例子包括蒽醌颜料、稠环颜料(例如，二萘嵌苯颜料)、酞菁颜料和偶氮颜料，这些颜料可以单独使用或混合使用。使用两种或更多种颜料的混合物可以用于调节最大吸收波长、交叉点(crosspoint)、交叉干扰(cross talk)以及其它条件。
例如，颜料可以选自各由式9、式10和式11表示的锌酞菁、Pigment Blue60和Pigment Blue 80：
Figure S2008100007950D00092
通过使用式9、式10或式11的化合物作为颜料，可以很容易地调节组合物的最大透光率(Tmax)和交叉干扰。
用于本发明的所述颜料的初级粒子直径可以为约10nm至约70nm。使用初级粒子直径小于约10nm的颜料会使含有该颜料的分散体不稳定，而使用初级粒子直径大于约70nm的颜料会不利地导致使用本发明的组合物形成的像素的分辨率降低。
优选将颜料引入组合物中之前将所述颜料预先分散。在此情况下，对所述颜料的二级粒子直径没有特别的限制，并且考虑到使用组合物形成的像素的分辨率，可以为例如小于约200nm。
如果需要，颜料分散体还可以含有分散剂以均质地分散颜料。所述分散剂可以是任何非离子分散剂、阴离子分散剂和阳离子分散剂。这种分散剂的例子包括但不限于：聚烷撑二醇及其酯、聚氧化烯、多元醇酯、烯化氧加成物、醇烯化氧加成物(alcohol alkylene oxide adduct)、磺酸酯、磺酸盐、羧酸酯、羧酸盐、烷基酰胺烯化氧加成物、烷基胺等。这些分散剂可以单独使用或者两种或更多种组合使用。可以用于本发明的示例分散剂在2007年1月5日提交的共同拥有的韩国专利申请10-2007-0001200中有描述，该全部公开的内容在此引入作为参考。
除本文提到的分散剂之外，或者作为本文提到的分散剂的替代品，与本发明使用的碱溶性树脂相同的化合物可以用作分散剂，以改善颜料分散体的稳定性以及使用组合物形成的像素的图案化能力(patternability)。
以组合物的总重量为基准，组合物中所述颜料的含量可以为约0.1重量％至约40重量％。小于约0.1重量％的颜料用量使颜料的着色效果很小。同时，超过约40重量％的颜料用量导致组合物的显影性显著变差。
适用于本发明组合物的染料的例子包括但不限于吡唑偶氮、苯胺偶氮、三苯甲烷、蒽醌、蒽吡啶酮(anthrapyridone)、苯亚甲基、氧杂菁(oxonol)、吡唑-三嗪、吡啶酮偶氮(pyridone azo)、花青、吩噻嗪、吡咯并三唑(pyrrolotriazole)偶氮甲碱、呫吨、酞菁、苯并吡喃靛蓝(benzopyranindigo)染料等、以及它们的混合物。本发明示例的组合物可以含有选自式1、式2、式3和式4的化合物中的至少一种化合物：
Figure S2008100007950D00101
在式1中，各R1独立地为H或CH3，各R2独立地为C1-C10烷基，各Y独立地为N、O或S，各Z独立地为N、O、S或C，n为1-3，且X为卤素、ClO4、PF6、SbF6、BF4或
Figure S2008100007950D00111
在式2中，R1、R2、Y、Z、n和X与式1定义的相同；
在式3中，M为Cu、Zn、V＝O、Fe、Ni、Co、In-Cl、In-烷基或In-烷氧基，且各X独立地为H、F、Cl、Br或I；以及
在式4中，M和X与式3定义的相同。
以组合物的总重量为基准，组合物中所述染料的含量为约0.1重量％至约20重量％。小于约0.1重量％的染料用量会使颜色再现性以及使用组合物形成的图案的对比度变差。同时，大于约20重量％的染料用量可以导致使用组合物形成的图案的耐光性和耐热性很差。
适用于本发明的溶剂的例子包括，乙二醇乙酸酯、乙基溶纤剂、丙二醇甲基醚乙酸酯、乳酸乙酯、聚乙二醇、环己酮、丙二醇甲基醚、3-乙氧基丙酸乙酯等。这些溶剂可以单独使用或者两种或更多种混合使用。
以组合物的总重量为基准，组合物中所述溶剂的含量可以为约20重量％至约90重量％。
如果需要，还可以向组合物中加入选自丙二酸、3-氨基-1，2-丙二醇和氟化的表面活性剂中的至少一种添加剂，以防止在涂覆过程中形成瑕疵和污迹，控制校平过程(leveling process)并避免由于组合物未完全显影而产生的残留物。
将本发明的感光树脂组合物以约0.5μm至约1μm的厚度施用于图像传感器的滤色片用的晶片上。通过任何适当的涂覆技术例如，旋转涂覆或狭缝涂覆(slit coating)来进行施用。
然后，用光照射涂覆后的晶片，以形成制备图像传感器用滤色片所必须的图案。使用365nm的I-线作为照射光源。用碱性显影溶液将涂层显影，以溶解涂层的未曝光部分，从而形成制备图像传感器用滤色片所必须的图案。该步骤根据R、G和B颜色的数量重复进行，以产生具有所需图案的滤色片。此时，显影后形成的图案可以通过另外加热或用光化射线照射来固化，以进一步提高滤色片的物理性能，例如，抗龟裂性和耐溶剂性。
下文中，将通过以下实施例更加详细地说明本发明。然而，给出这些实施例只是为了说明的目的而不应当理解为限制本发明的范围。
实施例
实施例1
(1)碱溶性树脂  5g
(A’)/(B’)＝25/75(重量/重量)，重均分子量(Mw)＝25000
(A’)：甲基丙烯酸
(B’)：甲基丙烯酸苄酯
(2)可光聚合的单体
二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)     4.1g
(3)光聚合引发剂
TPP(Ciba Specialty)            0.2g
(4)颜料分散体                  46.8g
红色(BT-CF，Ciba Specialty)    6.2g
黄色(2RP-CF，Ciba Specialty)   2.8g
分散剂                         2.4g
与(1)相同的碱溶性树脂的分散体  5.4g
(5)染料
NIR680C(KISCO)                 0.6g
(6)溶剂
丙二醇单甲醚乙酸酯             19.4g
3-乙氧基丙酸乙酯               23.8g
(7)添加剂
氟化的表面活性剂(F-475)        0.1g
依照以下步骤，使用上述组分制备感光树脂组合物：
(1)将光聚合引发剂溶解于溶剂中，并将该溶液在室温下搅拌2小时；
(2)将含羧基的丙烯酸粘合剂树脂和可光聚合的单体加入到步骤(1)制得的溶液中，然后在室温下搅拌2小时；
(3)将颜料分散体加入到步骤(2)得到的混合物中，然后在室温下搅拌1小时；
(4)将表面活性剂加入到步骤(3)得到的混合物中，然后在室温下搅拌1小时；和
(5)将步骤(4)中得到的混合物过滤三次，以除去其中存在的杂质。
使用旋转涂布机(1H-DX2，Mikasa)将制成的组合物涂覆在作为基片的6”-晶片上，在100℃下干燥180秒。用配备有标线的I-线光学步进曝光机(NSR i10C，Nikon，日本)将涂覆后的晶片曝光250ms，在所述I-线光学步进曝光机中提供了具有各种尺寸的图案，然后在室温下用2.38％的四甲基氢氧化铵(TMAH)溶液显影120秒。清洗显影后的结构，并在200℃的高温下在板上干燥300秒，以形成图案。在扫描电子显微镜(SEM)下观察该图案，以测定该图案的分辨率。通过扫描电子显微镜(SEM)观察的图案的横截面示于图2中。使用ST4000-DLX(KMAC)测量涂层厚度。观察到的像素图案(1μm×1μm)的横截面为接近正方形的轮廓。其它评价结果概括在表1中。
实施例2-10
重复实施例1的步骤，不同的是按表1所示来改变染料和颜料的种类。结果概括在表1中。
对比例1-3
按照实施例1的方式形成图案，不同的是仅使用红色颜料(对比例1)、仅使用绿色颜料(对比例2)和仅使用蓝色颜料(对比例3)而不使用任何染料。通过扫描电子显微镜(SEM)取得图案的横截面。对比例1中形成的图案的横截面示于图3中。观察像素图案(1μm×1μm)的横截面基本上是圆形。其它评价结果概括在表1中。
表1
  染料(商品名)   颜料 轮廓*1) 像素图案残留物*2) 分辨率(μm)*
实施例1实施例2实施例3实施例4实施例5实施例6实施例7实施例8实施例9实施例10对比例1对比例2对比例3   NIR680C(KISCO)ADS680BP(ADS)GPX-201(ADEKA)NIR680C(KISCO)ADS680BP(ADS)GPX-201(ADEKA)NK-9151(Hayashibara)NIR680C(KISCO)NK-9151(Hayashibara)GPX-201(ADEKA)---   红(R254，Y139)红(R254，Y139)红(R254，Y139)绿(G36，Y139)绿(G36，Y139)绿(G36，G7，Y139)绿(G36，G7，Y139)蓝(B15:6，V23)蓝(B15:6，V23)蓝(B15:6，V23)红(R254，Y139)绿(G36，Y139)蓝(B15:6，V23)   ○○○○○○○○○○××△     ○△△○○○○○○○△△△     1×11×11.2×1.21.4×1.41×11×11×11×11×11.2×1.25×55×53×3
注：*分辨率表示可辨别的最小像素尺寸
*1)轮廓的评价
通过扫描电子显微镜(SEM)观察使用适当照射剂量形成的像素图案的横截面(1μm×1μm)。基于下列标准来评价图案轮廓：
○-接近正方形的轮廓
△-微圆形轮廓
×-基本上圆形的轮廓
*2)残留物
用SEM观察使用适当照射剂量形成的像素图案的横截面(1μm×1μm)。基于下列标准评价图案：
○-未曝光区域没有残留物
△-未曝光区域有微少残留物
×-未曝光区域中明显观察到残留物
表1的结果表明，与对比例1-3中制备的组合物相比较，实施例1-10形成的图案显示了在轮廓、残留物的存在和分辨率方面具有优异的性能。
从上述描述显而易见，使用本发明的感光树脂组合物能形成超微细像素的图案，例如1×1μm至1.7×1.7μm的像素图案。因此，本发明的感光树脂组合物可有效地用于制备高分辨率的图像传感器用滤色片。
对于本领域的技术人员来说，可以受益于本发明以上描述中呈现的教导而联想到本发明的很多修改和其它的实施方式。因此，可以理解，本发明并不限于所公开的特定的实施方式，而且其修改和其它实施方式应包括在所附权利要求书的范围内。虽然在本文中使用了特定术语，但是这些术语仅以一般的描述性的意义来使用，而不是为了限制本发明，本发明的范围限定在权利要求书中。

Claims (12)

1.一种用于制备滤色片的感光树脂组合物，该组合物含有碱溶性树脂、可光聚合的单体、光聚合引发剂、作为着色剂的颜料和染料、以及溶剂，其中，该组合物含有(1)0.5重量％至30重量％的碱溶性树脂，(2)0.5重量％至30重量％的可光聚合的单体，(3)0.1重量％至10重量％的光聚合引发剂，(4)0.1重量％至40重量％的颜料，(5)0.1重量％至20重量％的染料，和(6)余量的溶剂；所述染料含有选自由式1、式2、式3和式4表示的化合物中的至少一种化合物：
Figure FSB00000447176600011
式1中，各R1独立地为H或CH3，各R2独立地为C1-C10烷基，各Y独立地为N、O或S，各Z独立地为N、O、S或C，n为1-3，且X为卤素、ClO4、PF6、SbF6、BF4或
Figure FSB00000447176600012
Figure FSB00000447176600013
式2中，R1、R2、Y、Z、n和X与式1定义的相同；
式3中，M为Cu、Zn、V＝O、Fe、Ni、Co、In-Cl、In-烷基或In-烷氧基，且各X独立地为H、F、Cl、Br或I；以及
Figure FSB00000447176600021
式4中，M和X与式3定义的相同。
2.根据权利要求1所述的感光树脂组合物，其中，所述颜料选自由式9、式10和式11表示的化合物：
Figure FSB00000447176600022
3.根据权利要求1所述的感光树脂组合物，其中，所述光聚合引发剂为三嗪化合物。
4.根据权利要求3所述的感光树脂组合物，其中，所述三嗪化合物具有340nm至380nm的最大吸收波长λmax。
5.根据权利要求1所述的感光树脂组合物，其中，该组合物还含有选自丙二酸、3-氨基-1，2-丙二醇和氟化的表面活性剂中的至少一种添加剂。
6.根据权利要求1所述的感光树脂组合物，其中，所述碱溶性树脂含有甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物，该共聚物中甲基丙烯酸与甲基丙烯酸苄酯的摩尔比为25∶75，且该共聚物的酸值为80至120，并且重均分子量为20000至40000。
7.一种图像传感器用滤色片，该滤色片包括用感光树脂组合物形成的图案，所述感光树脂组合物含有碱溶性树脂、可光聚合的单体、光聚合引发剂、作为着色剂的颜料和染料、以及溶剂；
该组合物含有(1)0.5重量％至30重量％的碱溶性树脂，(2)0.5重量％至30重量％的可光聚合的单体，(3)0.1重量％至10重量％的光聚合引发剂，(4)0.1重量％至40重量％的颜料，(5)0.1重量％至20重量％的染料，和(6)余量的溶剂；
其中，所述染料含有选自由式1、式2、式3和式4表示的化合物中的至少一种化合物：
式1中，各R1独立地为H或CH3，各R2独立地为C1-C10烷基，各Y独立地为N、O或S，各Z独立地为N、O、S或C，n为1-3，且X为卤素、ClO4、PF6、SbF6、BF4或
Figure FSB00000447176600032
式2中，R1、R2、Y、Z、n和X与式1定义的相同；
Figure FSB00000447176600041
式3中，M为Cu、Zn、V＝O、Fe、Ni、Co、In-Cl、In-烷基或In-烷氧基，且各X独立地为H、F、Cl、Br或I；以及
式4中，M和X与式3定义的相同。
8.根据权利要求7所述的滤色片，其中，所述颜料选自由式9、式10和式11表示的化合物：
Figure FSB00000447176600043
9.一种用于图像传感器用滤色片的涂覆基片，该涂覆基片包括：
基片；和
位于所述基片表面上的基本上为正方形的像素的图案，该像素的尺寸为1×1μm至1.7×1.7μm，该图案由感光树脂组合物形成；
所述感光树脂组合物含有碱溶性树脂、可光聚合的单体、光聚合引发剂、作为着色剂的颜料和染料、以及溶剂；
该组合物含有(1)0.5重量％至30重量％的碱溶性树脂，(2)0.5重量％至30重量％的可光聚合的单体，(3)0.1重量％至10重量％的光聚合引发剂，(4)0.1重量％至40重量％的颜料，(5)0.1重量％至20重量％的染料，和(6)余量的溶剂；
其中，所述染料包括选自由式1、式2、式3和式4表示的化合物中的至少一种化合物：
式1中，各R1独立地为H或CH3，各R2独立地为C1-C10烷基，各Y独立地为N、O或S，各Z独立地为N、O、S或C，n为1-3，且X为卤素、ClO4、PF6、SbF6、BF4或
Figure FSB00000447176600052
Figure FSB00000447176600053
式2中，R1、R2、Y、Z、n和X与式1定义的相同；
Figure FSB00000447176600061
式3中，M为Cu、Zn、V＝O、Fe、Ni、Co、In-Cl、In-烷基或In-烷氧基，且各X独立地为H、F、Cl、Br或I；以及
Figure FSB00000447176600062
式4中，M和X与式3定义的相同。
10.根据权利要求9所述的涂覆基片，其中，所述颜料选自由式9、式10和式11表示的化合物中：
Figure FSB00000447176600063
11.一种图像传感器，该传感器包括用感光树脂组合物制成的滤色片，所述感光树脂组合物含有碱溶性树脂、可光聚合的单体、光聚合引发剂、作为着色剂的颜料和染料、以及溶剂；
该组合物含有(1)0.5重量％至30重量％的碱溶性树脂，(2)0.5重量％至30重量％的可光聚合的单体，(3)0.1重量％至10重量％的光聚合引发剂，(4)0.1重量％至40重量％的颜料，(5)0.1重量％至20重量％的染料，和(6)余量的溶剂；
其中，所述染料包括选自由式1、式2、式3和式4表示的化合物中的至少一种化合物：
Figure FSB00000447176600071
式1中，各R1独立地为H或CH3，各R2独立地为C1-C10烷基，各Y独立地为N、O或S，各Z独立地为N、O、S或C，n为1-3，且X为卤素、ClO4、PF6、SbF6、BF4或
Figure FSB00000447176600072
式2中，R1、R2、Y、Z、n和X与式1定义的相同；
Figure FSB00000447176600081
式3中，M为Cu、Zn、V＝O、Fe、Ni、Co、In-Cl、In-烷基或In-烷氧基，且各X独立地为H、F、Cl、Br或I；以及
Figure FSB00000447176600082
式4中，M和X与式3定义的相同。
12.根据权利要求11所述的图像传感器，其中，所述颜料选自由式9、式10和式11表示的化合物中：
Figure FSB00000447176600083
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108475018A (zh) * 2016-03-08 2018-08-31 三星Sdi株式会社 感光树脂组合物、及使用其的黑色柱状间隔物和彩色滤光片

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008242311A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Sumitomo Chemical Co Ltd 着色感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた色フィルタアレイ及び固体撮像素子
JP2008242324A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Sumitomo Chemical Co Ltd 着色感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた色フィルタアレイ、固体撮像素子およびカメラシステム
TWI456345B (zh) * 2008-06-03 2014-10-11 Sumitomo Chemical Co 著色硬化性組成物
KR20100033928A (ko) * 2008-09-22 2010-03-31 후지필름 가부시키가이샤 착색 감광성 조성물, 컬러필터, 및 액정 표시 장치
US8486591B2 (en) * 2008-10-24 2013-07-16 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition for color filter and color filter prepared using the same
JP5554106B2 (ja) * 2009-03-31 2014-07-23 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子、および液晶表示装置
US8354208B2 (en) * 2009-03-31 2013-01-15 Fujifilm Corporation Colored curable composition, method for producing color filter, color filter, solid-state image pickup device, and liquid crystal display device
JP5306952B2 (ja) * 2009-09-29 2013-10-02 太陽ホールディングス株式会社 感光性樹脂組成物及びその硬化物、並びにプリント配線板
KR20110098638A (ko) 2010-02-26 2011-09-01 후지필름 가부시키가이샤 착색 경화성 조성물, 컬러필터와 그 제조방법, 고체촬상소자 및 액정표시장치
JP5554089B2 (ja) * 2010-02-26 2014-07-23 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに液晶表示装置
KR101277721B1 (ko) * 2010-04-07 2013-06-24 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
JP5722269B2 (ja) * 2011-04-05 2015-05-20 富士フイルム株式会社 着色組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、液晶表示装置、固体撮像素子、並びに、新規なジピロメテン系金属錯体化合物又はその互変異性体
US8282862B1 (en) * 2011-06-23 2012-10-09 Cheil Industries, Inc. Triphenylmethane based complex dye, photosensitive resin composition for color filter including the same and color filter prepared using the same
KR101759234B1 (ko) 2011-09-05 2017-07-19 삼성디스플레이 주식회사 색필터 조성물
JP2013073104A (ja) * 2011-09-28 2013-04-22 Fujifilm Corp 着色組成物、着色パターン、カラーフィルタ、その製造方法、パターン形成方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
KR101935464B1 (ko) 2011-10-26 2019-01-07 삼성디스플레이 주식회사 색필터 및 색필터 표시판
KR101674990B1 (ko) 2012-12-07 2016-11-10 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20140083615A (ko) 2012-12-26 2014-07-04 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20140083620A (ko) * 2012-12-26 2014-07-04 제일모직주식회사 차광층용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
KR101992866B1 (ko) 2013-02-06 2019-06-25 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물
KR20140100261A (ko) * 2013-02-06 2014-08-14 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물
KR101992867B1 (ko) 2013-03-29 2019-06-25 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물
KR101768255B1 (ko) * 2013-08-21 2017-08-14 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 컬러필터
TWI505455B (zh) * 2013-09-27 2015-10-21 Maxchip Electronics Corp 光感測器
KR101603565B1 (ko) * 2015-09-10 2016-03-16 영창케미칼 주식회사 컬러필터 이미지 센서용 현상액 조성물
WO2018186397A1 (ja) * 2017-04-07 2018-10-11 富士フイルム株式会社 光電変換素子、光センサ、撮像素子、および、化合物

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1188908A (zh) * 1997-12-26 1998-07-29 中国科学院感光化学研究所 金属表面精密光刻成像材料及其制法和用途
US6589672B1 (en) * 1999-04-26 2003-07-08 Fuji Electric Co., Ltd Blue color filter and organic electroluminescent device using same

Family Cites Families (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR910004717B1 (ko) 1988-02-13 1991-07-10 제일합섬 주식회사 네가형 감광성 수지 조성물
EP0337951A3 (de) 1988-04-15 1991-04-24 Ciba-Geigy Ag Farbige Polymermikropartikel
US5278009A (en) * 1990-06-20 1994-01-11 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Color filter and method of producing the same
JP2968349B2 (ja) * 1991-02-01 1999-10-25 日本ペイント株式会社 多色表示装置の製造方法
KR940005617B1 (ko) 1991-12-30 1994-06-21 제일합섬 주식회사 액정 디스플레이의 컬러필터제조용 고투명 감광성 수지조성물
KR100226845B1 (ko) 1992-09-15 1999-10-15 구자홍 자기헤드
KR950011163B1 (ko) 1992-11-26 1995-09-28 제일합섬주식회사 액정디스플레이용 칼라레지스트(colorresist)의 제조방법
JP3351790B2 (ja) 1992-12-24 2002-12-03 住友化学工業株式会社 カラーフイルター用感光性樹脂組成物
JP3455915B2 (ja) 1993-09-24 2003-10-14 Ｊｓｒ株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ
JPH07172032A (ja) 1993-12-20 1995-07-11 Ricoh Co Ltd プリンタ制御装置
EP0725315B1 (en) 1995-01-25 2001-05-02 Nippon Paint Co., Ltd. Photosensitive resin composition and method for forming pattern using the same
JPH09203806A (ja) 1996-01-29 1997-08-05 Mitsubishi Chem Corp カラーフィルター用ネガ型感光性組成物
JP3824285B2 (ja) 1997-03-14 2006-09-20 富士写真フイルム株式会社 感放射線性着色組成物
DE60020762T2 (de) * 1999-02-25 2006-05-04 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Lichtempfindliche Harzzusammensetzung, Farbfilter und dafür geeignetes Copolymerharz
JP4518651B2 (ja) * 2000-08-22 2010-08-04 大日本印刷株式会社 着色レジスト材セット及びカラーフィルタ
WO2002067022A1 (en) * 2001-02-23 2002-08-29 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Color filter
JP3909809B2 (ja) 2001-04-16 2007-04-25 富士フイルム株式会社 フタロシアニン化合物を含む着色組成物、インクジェット用インク、インクジェット記録方法及びオゾンガス褪色耐性の改良方法
AU2002255353A1 (en) * 2001-05-15 2002-11-25 Showa Denko K. K. Photosensitive coloring compositon, color filter using the compositon and method of producing the same
JP4383007B2 (ja) 2001-06-22 2009-12-16 富士フイルム株式会社 フタロシアニン化合物、それを含む着色画像形成組成物、インク、インクジェット用インク、インクジェット記録方法及びオゾンガス褪色耐性の改良方法
JP2003161828A (ja) 2001-09-17 2003-06-06 Dainippon Ink & Chem Inc 顔料分散組成物、顔料分散レジスト、およびカラーフィルター
JP2003167113A (ja) 2001-11-30 2003-06-13 Dainippon Ink & Chem Inc カラーフィルター用光重合性着色組成物、カラーフィルター
MXPA05004015A (es) * 2002-10-28 2005-06-08 Ciba Sc Holding Ag Mejora en la estabilidad al almacenamiento de fotoiniciadores.
JP4393104B2 (ja) 2003-05-07 2010-01-06 富士フイルム株式会社 Ｌｃｄ用硬化性緑色組成物およびカラーフィルタ
JP2004341121A (ja) 2003-05-14 2004-12-02 Fujifilm Arch Co Ltd イメージセンサーカラーフィルタ用光硬化性組成物、並びに、イメージセンサーカラーフィルタおよびその製造方法
KR20050069024A (ko) * 2003-12-30 2005-07-05 주식회사 코오롱 칼라 필터용 감광성 착색 수지 조성물 및 이에 사용되는안료 분산액
KR20050070619A (ko) * 2003-12-30 2005-07-07 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물
CA2552905A1 (en) * 2004-01-26 2005-08-04 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Photosensitive resin composition and cured product thereof
JP2006047686A (ja) 2004-08-04 2006-02-16 Jsr Corp カラーフィルタ用感放射線性組成物、その調製法、カラーフィルタおよびカラー液晶表示装置
US20080206658A1 (en) * 2004-09-03 2008-08-28 Huntsman International Llc Compositions Containing Anthraquinone Dyes
JP4357392B2 (ja) * 2004-09-03 2009-11-04 富士フイルム株式会社 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法
US7731791B2 (en) * 2004-10-01 2010-06-08 Ciba Specialty Chemicals Corporation Use of pyrimido[5,4-g]pteridines as shading component in color filter colorant compositions
US8153706B2 (en) * 2004-10-25 2012-04-10 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Polymeric colorants having pigment and dye components and corresponding ink compositions
KR101186536B1 (ko) 2004-10-29 2012-10-08 후지필름 가부시키가이샤 염료함유 네가티브형 경화성 조성물, 컬러필터 및 그제조방법
KR100614400B1 (ko) * 2004-12-30 2006-08-21 제일모직주식회사 내화학약품성이 우수한 감광성수지 조성물
KR100662178B1 (ko) 2005-03-04 2006-12-27 제일모직주식회사 고-색재현 컬러필터 제조용 감광성 수지 조성물
KR101258169B1 (ko) * 2005-04-28 2013-04-25 후지필름 가부시키가이샤 착색 경화성 조성물, 컬러필터 및 그 제조방법
KR101304263B1 (ko) * 2005-06-03 2013-09-05 후지필름 가부시키가이샤 안료함유 열경화성 조성물, 및, 컬러필터, 화상기록재료,및, 컬러필터의 제조방법
WO2007091631A1 (ja) * 2006-02-10 2007-08-16 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha 新規ポルフィラジン色素、インク、インクセット及び着色体
KR100871313B1 (ko) 2006-10-23 2008-12-01 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 그것을 사용한 컬러필터
KR100920603B1 (ko) * 2006-12-28 2009-10-08 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 그로부터 제조되는 컬러필터
US8486591B2 (en) * 2008-10-24 2013-07-16 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition for color filter and color filter prepared using the same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1188908A (zh) * 1997-12-26 1998-07-29 中国科学院感光化学研究所 金属表面精密光刻成像材料及其制法和用途
US6589672B1 (en) * 1999-04-26 2003-07-08 Fuji Electric Co., Ltd Blue color filter and organic electroluminescent device using same

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP特开2000-309726A 2000.11.07

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108475018A (zh) * 2016-03-08 2018-08-31 三星Sdi株式会社 感光树脂组合物、及使用其的黑色柱状间隔物和彩色滤光片
CN108475018B (zh) * 2016-03-08 2022-04-15 三星Sdi株式会社 感光树脂组合物、使用其的黑色柱状间隔物、及彩色滤光片

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