KR20050070619A - 컬러필터용 감광성 수지 조성물 - Google Patents

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이천석
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Abstract

본 발명은 컬러필터에 사용되는 알칼리수용액 현상형의 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 카르복실기를 포함한 아크릴계 바인더 수지, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 유도체, 아크릴계 광중합 단량체, 광중합 개시제, 안료, 용매 및 선택적으로 계면활성제를 포함하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물에 관한 것이며, 본 발명의 감광성 수지 조성물은 현상 공정특성이 우수하여, 본 발명의 수지 조성물을 사용하면 고품질의 컬러필터를 생산할 수 있다.

Description

컬러필터용 감광성 수지 조성물{Photosensitive Resin Composition for Color Filter}
본 발명은 컬러필터에 사용되는 알칼리수용액 현상형의 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 단량체로 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트의 유도체를 사용하여 우수한 현상공정 특성을 발현하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
컬러필터는 액정표시장치, 카메라의 광학필터 등에 사용되는 것으로서, 3종이상의 색상으로 착색된 미세한 영역을 고체촬영소자 또는 투명기판 상에 코팅하여 제조된다. 이와 같은 착색박막은 통상 염색법, 인쇄법, 전착법, 안료분산법 등에 의하여 형성된다.
염색법의 경우, 기판 상에 미리 젤라틴 등의 천연 감광성 수지, 아민 변성 폴리비닐 알코올, 아민 변성 아크릴 수지 등의 염색기재를 가진 화상을 형성시킨 후, 직접염료 등의 염료로 염색하여 착색박막을 형성하지만, 다색 박막을 동일 기판 상에 형성하기 위해서는 색상을 변화시킬 때마다 방염가공을 할 필요가 있기 때문에, 공정이 매우 복잡해지고 시간이 지연되는 문제점을 갖고 있다. 또한, 일반적으로 사용하는 염료 및 수지 자체의 선명성과 분산성은 양호하나, 내광성, 내습성 및 가장 중요한 특성인 내열성이 나쁘다는 단점이 있다. 예컨대, 대한민국 특허공개 제 91-4717호와 대한민국 특허공개 제 94-7778호에서는 염료로서 아조 화합물과 아지드 화합물을 사용하고 있지만, 안료형에 비하여 내열성 및 내구성이 떨어지는 단점을 가지고 있다.
인쇄법에서는 열경화성 또는 광경화성 수지에 안료를 분산시킨 잉크를 사용하여 인쇄를 행한 후, 열 또는 광으로 경화시킴으로써 착색박막이 형성된다. 이 방법에 의하면 타 방법에 비해 재료비를 절감할 수는 있지만, 고도로 정밀하고 세밀한 화상 형성이 곤란하고, 또한 형성되는 박막층이 균일하지 못한 단점이 있다. 대한민국 특허공개 제 95-703746호 및 대한민국 특허공개 제 96-11513호에서는 잉크젯 방식을 이용한 컬러필터의 제조방법을 제안하고 있는데, 섬세하고 정확한 색소의 인쇄를 위하여 노즐에서 분사되는 컬러레지스트 조성물이 염료형으로 되어있기 때문에, 염색법과 마찬가지로 내구성 및 내열성이 떨어지게 된다.
이와 달리, 대한민국 특허공개 제 93-700858호, 대한민국 특허공개 제 96-29904호, 및 대한민국 특허공개 제 96-29904호에서는 전기침전법을 이용한 전착법을 제안하고 있는데, 전착법은 정밀한 착색망을 형성할 수 있고, 안료를 사용하므로 내열성 및 내광성이 우수한 특성을 가지고 있으나, 앞으로 화소크기가 정밀하게 되어 전극패턴이 세밀하게 되면, 양쪽끝에 전기저항으로 인한 착색 얼룩이 나타나거나 착색막 두께가 두꺼워져서, 고도의 정밀성을 요구하는 컬러필터에 적용하기는 어렵다.
한편, 안료분산법은 흑색 매트릭스가 제공된 투명한 기질 위에 착색제를 함유하는 광중합성 조성물을 코팅-노광-현상-열경화시키는 일련의 과정을 반복함으로써 착색박막이 형성되는 방법이다. 안료분산법은 컬러필터의 가장 중요한 성질인 내열성 및 내구성을 향상시킬 수 있고 필름의 두께를 균일하게 유지할 수 있다는 장점을 가지고 있다. 예컨대, 대한민국 특허공개 제 92-702502호, 대한민국 특허공고 제 94-5617호, 대한민국 특허공고 제 95-11163호, 대한민국 특허공개 제 95-700359호 등에서는 안료분산을 이용한 컬러레지스트 제조방법이 제안되고 있다.
안료분산법에 따른 컬러필터 제조에 사용되는 착색 감광성 수지 조성물은 일반적으로 바인더 수지, 광중합성 단량체, 광중합 개시제, 에폭시 수지, 용제와 기타 첨가제 등으로 이루어진다. 상기 바인더 수지로서, 예컨대 일본 특허공개 평7-140654호 및 평10-254133호에서는 카르복실기 함유 아크릴계 공중합체를 사용하고 있다.
그러나, 근래의 컬러필터 개발 방향은 높은 색 재현성과 고휘도를 요구하게 되어 안료의 고농도화가 필연적으로 대두되었다. 그 결과, 조성물 중 현상성을 부여하는 아크릴계 바인더 수지의 함량이 감소하게 되어 현상공정 특성이 나빠져서 현상공정 후에도 잔사가 씻겨 나가지 않고 컬러 필더 기판 위에 남아, 후 공정 특성을 방해하게 되었다.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점들을 해결하기 위한 것으로, 아크릴 단량체로서 안료분산액과의 혼화성이 좋은 카르복실기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지를 사용하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물에 경화성능이 우수하고 알카리 현상액에 현상성을 가지는 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트를 변형한 유도체를 단량체로 도입함으로써 패턴의 막 강도를 유지하면서 현상공정 특성 개선을 목적으로 한다.
즉, 본 발명은 카르복실기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지, 하기 화학식 1로 표시되는 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트의 유도체, 아크릴계 광중합 단량체, 광중합 개시제, 안료, 용매 및 선택적으로 계면활성제를 포함하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.
[화학식 1]
이하, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.
본 발명에 사용된 카르복실기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지는 1개 이상의 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체와 이와 공중합이 가능한 다른 에틸렌성 불포화 단량체의 중합시킨 공중합체이다. 이때, 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체의 중량비율은 전체 공중합체 대비 5~50%, 바람직하게는 10~40%의 범위 내에 든다. 상기 카르복실기 함유 아크릴계 바인더 수지의 분자량(Mw)은 3,000~150,000, 바람직하게는 5,000~50,000 이다.
상기 카르복실기를 포함하는 에틸렌성 불포화 단량체로는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산 또는 푸마르산을 사용하는 것이 바람직하며, 이와 공중합이 가능한 다른 에틸렌성 불포화 단량체로는 스티렌, α-메틸 스티렌, 비닐톨루엔, 비닐 벤질 메틸 에테르, 메틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, 부틸 아크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트, 2-히드록시 에틸 아크릴레이트, 2-히드록시 에틸 메타크릴레이트, 2-히드록시 부틸 아크릴레이트, 2-히드록시 부틸 메타크릴레이트, 벤질 아크릴레이트, 벤질 메타크릴레이트, 시클로 헥실 아크릴레이트, 시클로 헥실 메타크릴레이트, 페닐 아크릴레이트, 페닐 메타크릴레이트 등의 불포화 카르본산 에스테르류; 2-아미노 에틸 아크릴레이트, 2-아미노 에틸 메타크릴레이트, 2-디메틸 아미노 에틸 아크릴레이트, 2-디메틸 아미노 에틸 메타크릴레이트 등의 불포화 카르본산 아미노 알킬 에스테르류; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르본산 비닐 에스테르류; 글리시딜 아크릴레이트, 글리시딜 메타크릴레이트 등의 불포화 카르본산 글리시딜 에스테르류; 아크릴로 니트릴, 메타크릴로 니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; 아크릴 아미드, 메타크릴 아미드 등의 불포화 아미드류 등을 예로 들 수 있으며, 이들 중 1종 이상을 사용하는 것이 바람직하다.
상기와 같은 단량체들로 구성된 카르복실기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지의 구체적인 예를 들면, 메타크릴산/벤질 메타크릴레이트 공중합체, 메타크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, 메타크릴산/벤질메타크릴레이트/2-히드록시 에틸 메타크릴레이트 공중합체, 메타크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌/2-히드록시 에틸 메타크릴레이트 공중합체 등이 있다.
상기 카르복실기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지의 사용량은 전체 조성물에 대하여 0.5∼40 중량%인 것이 바람직하다. 첨가량이 0.5 중량% 미만이면 알칼리 현상액에 현상이 되지 않는 문제가 발생하는 반면, 40 중량%를 초과하면 가교성이 부족하여 표면 거칠기가 증가하는 문제점이 있다.
본 발명에서 패턴의 현상공정특성 개선 목적으로 사용된 성분인 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트의 유도체는 하기 화학식 1의 구조를 갖는 단량체로서 경화성능이 뛰어나고, 알칼리 현상액에 용해 가능하다.
상기 화합물의 첨가량은 전체 조성물 대비 0.2~10 중량%인 것이 바람직하다.
본 발명에 사용된 아크릴계 광중합 단량체는 컬러필터용 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 단량체로서, 예를 들면 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 노볼락에폭시아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트 등이 있다. 그 첨가량은 전체 조성물 대비 0.2~10 중량%인 것이 바람직하다.
상기 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트의 유도체와 아크릴계 광중합성 단량체의 총 사용량은 전체 조성물에 대하여 0.5∼20 중량%인 것이 바람직하다. 그 양이 0.5 중량% 미만이면 패턴의 모서리가 깨끗하게 형성되지 않는 문제점이 발생하는 반면, 20 중량%를 초과하면 알칼리 현상액에 현상되지 않는 단점이 있다.
본 발명에 사용되는 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 광중합 개시제로서, 예를 들어 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조 인계 화합물, 트리아진계 화합물 등을 사용할 수 있다.
상기 광중합 개시제의 사용량은 전체 조성물에 대하여 0.1∼10 중량%인 것이 바람직하다. 상기 광중합 개시제의 함량이 0.1 중량% 미만이면 패턴형성 공정에서 노광시 광중합이 충분히 일어나지 못하는 반면, 10 중량%를 초과하면 광중합 후 남은 미반응 개시제가 투과율을 저하시키는 단점이 있다.
상기 광중합 개시제로 사용되는 아세토페논계 화합물의 구체적인 예를 들면, 2,2'-디에톡시아세토페논, 2,2'-디부톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로리오페논, p-t-부틸트리클로로아세토페논, p-t-부틸디클로로아세토페논, 벤조페논, 4-클로로아세토페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등이 있다. 상기 벤조페논계 화합물로는 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸 아미노) 벤조페논 등이 있다. 또한 상기 티오크산톤계 화합물로는 티오크산톤, 2-크롤티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로 티오크산톤 등이 있다. 상기 벤조 인계 화합물로는 벤조 인, 벤조 인 메틸 에테르, 벤조 인 에틸 에테르, 벤조 인 이소프로필 에테르, 벤조 인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등이 있다. 상기 트리아진계 화합물로는 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시 스티릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시 나프틸)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시 페닐)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(p-트릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-피페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로 베틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토 1-일)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시 나프토 1-일)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-4-트리클로로 메틸(피페로닐)-6-트리아진, 2-4-트리클로로 메틸(4'-메톡시 스티릴)-6-트리아진 등이 있다. 그 밖에 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 설포늄 보레이트계 화합물, 디아조계, 비이미다졸계 화합물 등도 광중합 개시제로 사용 가능하다.
본 발명에서 안료로는, 안트라퀴논계 안료, 페릴렌계 등의 축합다환 안료, 프탈로시아닌 안료, 아조계 안료 등의 유기안료 이외에 카본블랙 등의 무기안료도 사용할 수 있으며, 이들 중 어느 한 종을 단독으로 사용하거나 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 안료의 사용량은 전체 조성물 대비 0.1∼40 중량%인 것이 바람직하다. 첨가량이 0.1 중량% 미만이면 착색 효과가 미미한 반면, 40 중량%를 초과하면 현상성능이 급격히 저하하는 단점이 있다.
본 발명에서는 안료 성분이 용매 중에 균일하게 분산되도록 필요에 따라 계면활성제를 사용할 수도 있는데, 이러한 목적으로는 비이온성, 음이온성 또는 양이온성 계면활성제 모두 사용 가능하며, 예를 들면 폴리알킬렌글리콜 및 이의 에스테르 화합물, 폴리옥시알킬렌, 다가 알콜 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알콜알킬렌옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산염, 카르복시산에스테르, 카르복시산염, 알킬아미드알킬렌옥사이드 부가물, 알킬아민 등이 사용될 수 있다. 이들 계면활성제는 1종을 단독으로 사용하거나 또는 2종 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다. 계면활성제가 사용되는 경우 그 첨가량은 5중량% 이하인 것이 바람직하다.
본 발명에 사용 가능한 용매로는 에틸렌글리콜아세테이트, 에틸셀로솔브, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 에틸락테이트, 폴리에틸렌글리콜, 시클로헥사논, 프로필렌글리콜메틸에테르 등이 있으며, 이들 중 어느 한 종을 단독으로 사용하거나 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 용매의 사용량은 전체 조성물에 대하여 20∼90 중량%인 것이 바람직하다. 용매의 함량이 20 중량% 미만이면 수지 조성물의 도포 자체가 어렵고, 90 중량%를 초과하면 두께 3㎛이상의 막에서 평탄성을 유지하기 어려운 단점이 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물은 컬러필터 용의 유리기판 위에 스핀 도포, 롤러 도포, 스프레이 도포 등의 적당한 방법을 사용하여, 예를 들면 0.5~10μm의 두께로 도포된다. 도포 후에는 컬러필터에 필요한 패턴을 형성하도록 활성선을 조사한다. 조사에 사용되는 광원으로서는, 예를 들면 190~450nm, 바람직하게는 200~400nm 영역의 UV 광선을 조사하며, 전자선 및 X선 조사도 적당하다. 광을 조사한 다음, 도포층을 알칼리 현상액으로 처리하면 도포층의 미조사 부분이 용해되고 컬러필터에 필요한 패턴이 형성된다. 이러한 과정을 필요한 색의 수에 따라 반복 수행함으로써, 원하는 패턴을 갖는 컬러필터를 수득할 수 있다. 또한 상기 과정에서, 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 다시 가열하거나 또는 활성선 조사 등에 의해 경화시킴으로써 내크랙성, 내용제성 등을 더욱 향상시킬 수 있다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 하나, 이러한 실시예들은 단지 설명의 목적을 위한 것으로 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다.
실시예 1
(1) 카르복실기 함유 아크릴계 바인더 수지 7.0g
(A')/(B')= 30/70(w/w), 분자량(Mw) = 25,000
(A'): 메타크릴산
(B'): 벤질메타크릴레이트
(2) 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 유도체 1.1g
(3) 아크릴계 광중합 단량체
디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 4.4g
(4) 광중합 개시제
TAZ-110 (미도리 카가쿠사 제품) 0.6g
이가큐어 907 (시바-가이기사 제품) 0.2g
4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 (호도가야사 제품) 0.6g
(5) 안료
디케토-피롤로-피롤 레드(Diketo-Pyrrollo-Pyrole Red) 6.0g
(6) 용매
프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 65g
시클로헥사논 15g
(7) 계면활성제
플루오르계 계면활성제 (FC-430, 3M사 제품) 0.1g
상기 성분들을 사용하여 다음과 같이 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
(1) 용매에 광중합 개시제를 용해시킨 후, 2시간 동안 상온에서 교반하였다.
(2) 카르복실기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 유도체 및 아크릴계 광중합 단량체를 첨가하고 2시간 동안 상온에서 교반하였다.
(3) 안료를 첨가하고 1시간 동안 상온에서 교반하였다.
(4) 계면활성제를 첨가하고 1시간 동안 상온에서 교반하였다.
(5) 3회에 걸친 여과를 행하여 불순물을 제거하였다.
실시예 2
상기 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 유도체의 투입량이 2.2g이고 아크릴계 광중합 단량체의 투입량를 3.3g으로 조정한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방식으로 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
실시예 3
상기 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 유도체의 투입량이 3.3g이고 아크릴계 광중합 단량체의 투입량를 2.2g으로 조정한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방식으로 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
비교예 1
디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 유도체를 사용하지 않고, 대신 아크릴계 광중합 단량체만을 5.5g 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방식으로 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
상기 실시예 1~3 및 비교예 1에서 제조된 감광성 착색 수지 조성물을 사용하여 형성된 패턴의 특성 평가를 다음과 같이 행하였다.
-현상성-
탈지 세척한 두께 1mm의 크롬코팅 유리기판상에 1∼2μm의 두께로 감광성 수지 조성물을 도포하고, EBR(Edge Bead Remover)처리 후, 열풍순환식 건조로 안에서 80℃에서 1분 동안 건조시켜 도막을 수득하였다. 이어서, 도막 위에 포토마스크를 대고 365nm의 파장을 가진 고압 수은램프를 사용하여 노광한 후, 1% KOH계 수용액을 사용하여 30℃, 상압 하에서 60초 동안 현상을 행한 다음, 다시 열풍순환식 건조로 안에서 220℃에서 40분 동안 건조시켜 패턴을 수득하였다. 그런 다음, 잔사의 유무를 할로겐 등 아래에서 육안으로 조사하였다.
○ : 공정성 우수 - 패턴상에 잔사 및 EBR 잔사 없음.
△ : 공정성 양호 - 패턴상에 잔사 및 EBR 잔사가 조금 있음.
× : 공정성 불량 - 패턴상에 잔사가 많이 남아 있음.
- 패턴 표면 거칠기(roughness)
탈지 세척한 두께 1mm의 크롬코팅 유리기판상에 1∼2μm의 두께로 감광성 수지 조성물을 도포하고, 열풍순환식 건조로 안에서 80℃에서 1분 동안 건조시켜 도막을 수득하였다. 이어서, 도막 위에 포토마스크를 대고 365nm의 파장을 가진 고압수은램프를 사용하여 노광한 후, 1% KOH계 수용액을 사용하여 30℃, 1기압 하에서 60초 동안 현상을 행한 다음, 다시 열풍순환식 건조로 안에서 220℃에서 40분 동안 건조시켜 패턴을 수득하였다. 그런 다음, 텐코(TENCO)사에서 제조된 P-10을 이용하여 100μm 크기의 패턴의 모양을 관찰하였다.
○ : 패턴 표면의 거칠기가 40Å미만
△ : 패턴 표면의 거칠기가 40Å∼80Å
× : 패턴 표면의 거칠기가 80Å이상
상기와 같은 평가방법에 따른 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명의 컬러필터용 감광성 수지 조성물은 내화학성, 경화성 및 공정특성이 우수하여 고품질의 컬러필터를 생산할 수 있다.

Claims (5)

  1. 카르복실기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지, 하기 화학식 1로 표시되는 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트의 유도체, 아크릴계 광중합 단량체, 광중합 개시제, 안료, 용매 및 선택적으로 계면활성제를 포함하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물.
    [화학식 1]
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 카르복실기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지는 0.5∼40중량%,
    상기 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트의 유도체는 0.2~10중량%,
    상기 아크릴계 광중합 단량체는 0.2∼10 중량%,
    상기 광중합 개시제는 0.1∼10 중량%,
    상기 안료는 0.1∼40 중량%,
    상기 용매는 20∼90 중량%,및
    상기 계면활성제는 0~5 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 카르복실기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지는 1개 이상의 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체와 이와 공중합이 가능한 다른 에틸렌성 불포화 단량체를 중합시킨 것으로, 상기 1개 이상의 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산 또는 푸마르산이고, 이와 공중합이 가능한 에틸렌성 불포화 단량체는 불포화 카르본산 에스테르류, 불포화 카르본산 아미노 알킬 에스테르류, 카르본산 비닐 에스테르류, 불포화 카르본산 글리시딜 에스테르류, 시안화 비닐 화합물 및 불포화 아미드류로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상이며, 상기 1개 이상의 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체가 상기 카르복실기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지 전체 대비 5~50%이고, 그 분자량이 3,000~150,000인 것을 특징으로 하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 아크릴계 광중합 단량체는 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 노볼락에폭시아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트 또는 1,6-헥산디올디메타크릴레이트이며;
    상기 광중합 개시제는 아세페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조 인계 화합물, 트리아진계 화합물, 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 설포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물 및 비이미다졸계 화합물로 구성된 군중에서 선택된 1종 이상이고;
    상기 안료는 안트라퀴논계 안료, 페릴렌계 안료, 프탈로시아닌계 안료, 아조계 안료 밀 카본블랙으로 구성된 군중에서 선택된 1종 이상이며;
    상기 용매는 에틸렌글리콜아세테이트, 에틸셀로솔브, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 에틸락테이트, 폴리에틸렌글리콜, 시클로헥사논 및 프로필렌글리콜메틸에테르로 구성된 군중에서 선택된 1종 이상이고;
    상기 계면활성제는 폴리알킬렌글리콜과 이들의 에스테르 화합물, 폴리옥시알킬렌, 다가 알콜 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알콜 알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산염, 카르복시산에스테르, 카르복시산염, 알킬아미드알킬렌옥사이드 부가물 및 알킬아민으로 이루어진 군중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물.
  5. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물로 패턴을 형성하여 제조된 컬러필터.
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100655044B1 (ko) * 2005-12-30 2006-12-06 제일모직주식회사 우수한 전기적 특성을 가지는 컬러필터용 감광성 수지조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR100671118B1 (ko) * 2005-07-18 2007-01-17 제일모직주식회사 현상마진이 우수한 컬러필터용 감광성 수지 조성물
KR100796517B1 (ko) * 2006-07-18 2008-01-21 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 이미지센서컬러필터
KR100803899B1 (ko) * 2007-02-13 2008-02-15 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 그 패턴 형성방법, 컬러필터 및이를 구비한 액정표시장치와 촬상소자
KR100881860B1 (ko) * 2007-01-17 2009-02-06 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 이미지센서컬러필터
KR100919715B1 (ko) * 2007-11-30 2009-10-06 제일모직주식회사 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 컬러필터
KR100930670B1 (ko) * 2007-12-31 2009-12-09 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR100956441B1 (ko) * 2007-12-31 2010-05-06 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된컬러필터
KR101047703B1 (ko) * 2007-02-20 2011-07-08 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물 및 컬러필터
KR101152179B1 (ko) * 2010-01-22 2012-06-15 주식회사 케이씨씨 플라스틱 성형품 하도용 조성물 및 이를 포함하는 2액형 도료 조성물
US8486591B2 (en) 2008-10-24 2013-07-16 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition for color filter and color filter prepared using the same
WO2014092258A1 (ko) * 2012-12-13 2014-06-19 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
US9069132B2 (en) 2012-12-26 2015-06-30 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition for light blocking layer and light blocking layer using the same
EP3418782B1 (en) * 2016-12-26 2023-05-03 LG Chem, Ltd. Polarizer protection film, polarizing plate comprising the same, liquid crystal display comprising the polarizing plate, and coating composition for polarizer protecting film

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970012012A (ko) * 1995-08-31 1997-03-29 박홍기 컬러 필터용 감광성 착색조성물
JPH09178932A (ja) * 1995-12-27 1997-07-11 Sekisui Chem Co Ltd 着色感光性樹脂組成物及びカラーフィルタ
JPH10104412A (ja) * 1996-09-26 1998-04-24 Sekisui Finechem Co Ltd 着色感光性樹脂組成物及びカラーフィルター
KR20010018075A (ko) * 1999-08-17 2001-03-05 성재갑 감광성 수지 조성물
KR20010111360A (ko) * 2000-06-10 2001-12-17 성재갑 평판 디스플레이용 감광성 수지 조성물

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970012012A (ko) * 1995-08-31 1997-03-29 박홍기 컬러 필터용 감광성 착색조성물
JPH09178932A (ja) * 1995-12-27 1997-07-11 Sekisui Chem Co Ltd 着色感光性樹脂組成物及びカラーフィルタ
JPH10104412A (ja) * 1996-09-26 1998-04-24 Sekisui Finechem Co Ltd 着色感光性樹脂組成物及びカラーフィルター
KR20010018075A (ko) * 1999-08-17 2001-03-05 성재갑 감광성 수지 조성물
KR20010111360A (ko) * 2000-06-10 2001-12-17 성재갑 평판 디스플레이용 감광성 수지 조성물

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100671118B1 (ko) * 2005-07-18 2007-01-17 제일모직주식회사 현상마진이 우수한 컬러필터용 감광성 수지 조성물
KR100655044B1 (ko) * 2005-12-30 2006-12-06 제일모직주식회사 우수한 전기적 특성을 가지는 컬러필터용 감광성 수지조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR100796517B1 (ko) * 2006-07-18 2008-01-21 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 이미지센서컬러필터
US8735025B2 (en) 2007-01-17 2014-05-27 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition for producing color filter and color filter for image sensor produced using the composition
KR100881860B1 (ko) * 2007-01-17 2009-02-06 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 이미지센서컬러필터
KR100803899B1 (ko) * 2007-02-13 2008-02-15 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 그 패턴 형성방법, 컬러필터 및이를 구비한 액정표시장치와 촬상소자
KR101047703B1 (ko) * 2007-02-20 2011-07-08 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물 및 컬러필터
KR100919715B1 (ko) * 2007-11-30 2009-10-06 제일모직주식회사 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 컬러필터
US8158036B2 (en) 2007-11-30 2012-04-17 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition for color filter and color filter using same
KR100930670B1 (ko) * 2007-12-31 2009-12-09 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR100956441B1 (ko) * 2007-12-31 2010-05-06 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된컬러필터
US8486591B2 (en) 2008-10-24 2013-07-16 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition for color filter and color filter prepared using the same
KR101152179B1 (ko) * 2010-01-22 2012-06-15 주식회사 케이씨씨 플라스틱 성형품 하도용 조성물 및 이를 포함하는 2액형 도료 조성물
WO2014092258A1 (ko) * 2012-12-13 2014-06-19 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
US9069132B2 (en) 2012-12-26 2015-06-30 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition for light blocking layer and light blocking layer using the same
EP3418782B1 (en) * 2016-12-26 2023-05-03 LG Chem, Ltd. Polarizer protection film, polarizing plate comprising the same, liquid crystal display comprising the polarizing plate, and coating composition for polarizer protecting film

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