KR100550938B1 - 광중합성 감광 수지 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은
(1) 하기 화학식 1, 화학식 2 및 화학식 3의 화합물들이 공중합된
카도(cardo)계 바인더 수지 1-40 중량부,
(2) 아크릴계 광중합성 단량체 1-20 중량부,
(3) 광중합 개시제 0.1-10 중량부,
(4) 지환족 에폭시 수지 0.1-10 중량부,
(5) 안료 1-40 중량부,
(6) 용매 20-80 중량부,
[화학식 1]
Figure 111999018453719-pat00001
[화학식 2]
Figure 111999018453719-pat00002
[화학식 3]
Figure 111999018453719-pat00003
(상기 식에서 R은 수소, C1-10 의 알킬기, 페닐기, 벤질기 또는 C1-8의 에톡시기로 구성되는 그룹으로부터 선택되며; X는 할로겐 원자를 나타낸다.)
를 함유하는 것을 특징으로 하는 광중합성 감광 수지 조성물에 관한 것으로서, 패턴성 및 현상성이 우수해서 액정 디스플레이의 칼라 필터 제조에 유용하게 사용될 수 있다.
카도(cardo)계 바인더 수지, 아크릴계 광중합성 단량체, 광중합 개시제, 지환족 에폭시 수지, 안료, 에테르계 용매,

Description

광중합성 감광 수지 조성물{PHTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION}
본 발명은 컬러 필터에 사용되는 알카리성 수용액 현상형의 광중합성 감광 수지 조성물에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 상기 광중합성 감광 수지 조성물 제조시 지환족 에폭시 수지를 사용하여 측면 입자 제거(Edge Bead Remover;이하 'EBR'이라 칭함) 특성, 현상성 및 패턴성을 향상시킨 것을 특징으로 하는 광중합성 감광 수지 조성물에 관한다.
통상적으로 칼라 필터는 액정 표시 장치, 카메라의 광학 필터등에 사용되는 것으로서 3종이상의 색상으로 착색된 미세한 영역을 고체 촬영소자 또는 투명 기판상에 코팅하여 제조된다. 상기와 같은 착색 박막은 염색법, 인쇄법, 안료분산법, 전착법등에 의하여 제조된다.
염색법은 기판상에 미리 젤라틴등의 천연 광중합성 감광 수지 조성물 수지, 아민 변성 폴리비닐 알코올, 아민 변성 아크릴 수지등의 염색 기재를 가진 화상을 형성시킨 후 직접염료등의 염료로 염색하여 실행하지만, 다색을 동일 기판상에 형성시킬 필요가 있기 때문에 색상을 변화시킬 때마다 방염 가공을 할 필요가 있고, 공정이 매우 복잡하며 장시간이 소요된다는 문제점을 갖고 있다. 또한 일반적으로 사용하는 염료 및 수지 자체의 선명성 및 분산성등은 좋으나 내광성, 내습성 및 가장 중요한 성질인 내열성이 나쁘다는 단점이 있다. 예를 들어, 대한민국 특허 공보 제 91-4717호와 대한민국 특허 공보 제 94-7778호에는 염료로써 아조화합물과 아지드화합물을 쓰고 있지만 안료형 화합물에 비하여 내열성 및 내구성이 떨어지는 단점을 가지고 있다.
인쇄법에서는 열경화 또는 광경화 수지에 안료를 분산시킨 잉크를 사용하고, 인쇄후 열 또는 빛으로 경화시켜 박막을 제조하므로 타 방법에 비하여 재료 비용이 절감될 수는 있지만, 고도로 정밀하고 세밀한 화상 형성이 곤란하고, 또한 형성되는 박막층이 균일하지 못한 단점이 있다. 예를 들어, 대한민국 특허 공개 95-703746호, 대한민국 특허 공개 96-11513호에서는 잉크젯 방식을 이용한 컬러 필터의 제조 방법을 제시하고 있다. 섬세하고 정확한 색소의 인쇄를 위하여 노즐에서 분사되는 칼라레지시트 조성물이 염료형으로 되어있기 때문에 염색법과 마찬가지로 내구성 및 내열성이 떨어진다.
대한민국 특허 공개 제 93-700858호, 대한민국 특허 공개 제 96-29904호, 대한민국 특허 공개 제 96-29904호에서는 전기 침전법을 이용한 전착법을 제시하고 있는데 전착법은 정밀한 착색막을 형성시킬 수 있고, 안료를 사용하므로 내열성 및 내광성이 우수한 특성을 가지고 있으나, 앞으로 화소크기가 정밀하게 되어 전극 패턴이 세밀하게 되면 양쪽끝에 전기 저항으로 인한 착색 얼룩이 나타나거나 착색막 두께가 두꺼워져서 고도의 정밀성을 요구하는 칼라 필터에 적용시키기가 어렵다.
안료 분산법은 흑색 매트릭스가 제공된 투명한 기질위에 착색제를 함유하는 광중합성 조성물의 코팅, 상 노출, 현상, 그리고 열경화시키는 일련의 단계를 반복함으로써 형성되는 방법이다. 상기의 안료 분산법은 칼라 필터의 가장 중요한 성질인 내열성 및 내구성을 향상시키며 필름의 두께를 균일하게 유지시킬 수 있다는 장점을 가지고 있다.
예를 들어, 대한민국 특허 공개 제 92-702502호, 대한민국 특허 공고 제 94-5617호, 대한민국 특허 공고 제 95-11163호, 대한민국 특허 공개 제 95-700359호에서는 안료 분산을 이용한 칼라레지스트 제조 방법이 제시되고 있다.
안료 분산법에 사용되는 광중합성 감광 수지 조성물은 일반적으로 바인더 수지, 광중합성 단량체, 광중합 개시제, 에폭시 수지, 용제와 기타 첨가제 등으로 이루어진다. 안료 분산법에 쓰이는 바인더 수지로서는 예를 들어, 일본 특개소 60-237403에 개시된 광중합성 감광 수지 조성물 폴리이미드수지, 일본 특개평 1-200353, 동 4-7373, 동 4-91173호 등에 제시된 아크릴계 중합체와 아지드 화합물로 이루어진 광중합성 감광 수지 조성물 수지, 일본 특개평 1-152449에 제시된 아크릴레이트 단량체, 유기 중합체 결합제, 및 광중합 개시제로 이루어진 라디칼 중합형의 광중합성 감광 수지 조성물 수지, 일본 특개평 4-163552과 대한민국 특허공보 92-5780에 개시된 페놀수지, N-메틸올 구조를 갖는 가교제 및 광산 발생제로 이루어진 광중합성 감광 수지 조성물 수지등의 여러 가지가 제시되고 있다. 그러나, 안료 분산법에 따른 바인더 수지로서 광중합성 감광 수지 조성물 폴리이미드 또는 페놀계의 수지를 사용하는 것은 내열성은 높지만 감도가 낮으며 유기 용매로 현상하는 등의 문제점이 있다. 또한 아지드 화합물을 감광제로 하는 종래의 시스템은 감도가 낮고 내열성이 떨어지거나 또는 노출시 산소의 영향을 받는 문제가 있다. 이를 피하기 위해 산소 차단막을 설치하거나 불활성 가스중에 노출시키는 것이 필요한데, 이 경우에는 공정이 복잡해지고 장치가 비싸지는 등의 문제가 있다. 또한 노출로 인해 생성된 산을 이용하여 화상을 형성시키는 광중합성 감광 수지 조성물 수지는 고감도이며 노출될때 산소의 영향을 받지 않는 이점이 있지만 노출과 현상 과정에서 가열 공정이 필요하며 가열 시간이 패턴 형성에 대해 민감한 반응을 보이므로 공정 관리가 곤란하다는 문제점이 있다.
이러한 문제를 해결하기 위해 일본 특개평 7-64281, 동 7-64282, 동 8-278630, 동 6-1938, 동 5-339356, 대한민국 특허공개 95-702313에서는 카도계를 지닌 바인더 수지를 이용한 컬러 필터의 제조 기술이 제한되어 있다. 일반적으로 카도계를 지닌 수지는 고감도이면서 산소의 영향을 받지 않고 내열성, 내수축성, 투명성등이 좋다. 카도계바인더 수지의 내화학성을 보충하기 위하여 에폭시기를 도입하였지만 내화학성을 평가하는 기준에는 미흡하였기 때문에 별도의 에폭시 수지를 도입하는 것이 바람직하다.
또한 광중합성 감광 수지 조성물 자체내에 알카리 현상 수용액과 반응할 장소가 없기 때문에 현상성이 나빠져서 현상후 잔사가 남을 경우가 많다. 이러한 경우 현상성을 높이기 위해 일본 특개평 4-363311에서는 카도계의 바인더수지를 산무수물로 처리하여 알카리 용해성 수지로 제조하여 현상성을 향상시켰다. 현상성을 더욱 높이기 위하여 일본 특개평 5-70528에서는 광중합성 단량체도 산무수물 처리시켜 현상성을 향상시키는 방법을 제시하고 있다. 그러나 지환족 에폭시 수지을 산무수물로 처리하여 내화학성을 향상시켰으나, 도포후 라인의 오염을 방지하기 위한 EBR 공정시 발생할 수 있는 잔사가 현상후에도 남아있게 된다는 문제점이 있다. 이외에도 상기 막의 평활성 불량에 의한 현상 상태상의 문제점을 해소시키기 위한 노력들이 요구되고 있다.
본 발명의 목적은 상기 요구에 부응하기 위하여 지환족 에폭시 수지를 사용하여 EBR 특성이 우수하며 잔사를 획기적으로 감소시킨 광중합성 감광 수지 조성물을 제공하는 것이다.
즉, 본 발명은
(1) 하기 화학식 1, 화학식 2 및 화학식 3의 화합물들이 공중합된
카도(cardo)계 바인더 수지 1-40 중량부,
(2) 아크릴계 광중합성 단량체 1-20 중량부,
(3) 광중합 개시제 0.1-10 중량부,
(4) 지환족 에폭시 수지 0.1-10 중량부,
(5) 안료 1-40 중량부,
(6) 용매 20-80 중량부,
[화학식 1]
Figure 111999018453719-pat00004
[화학식 2]
Figure 111999018453719-pat00005
[화학식 3]
Figure 111999018453719-pat00006
(상기 식에서 R은 수소, C1-10 의 알킬기, 페닐기, 벤질기 또는 C1-8의 에톡시기로 구성되는 그룹으로부터 선택되며; X는 할로겐 원자를 나타낸다.)
를 함유하는 것을 특징으로 하는 광중합성 감광 수지 조성물을 제공하는 것이다.
이하 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명에서 상기 카도(cardo)계 바인더 수지(1)는 하기 화학식 1-3의 화합물들이 공중합된 것이다.
Figure 111999018453719-pat00007
Figure 111999018453719-pat00008
Figure 111999018453719-pat00009
(상기 식에서 R은 수소, C1-10 의 알킬기, 페닐기, 벤질기 또는 C1-8의 에톡시기이며; X는 할로겐 원자를 나타낸다.)
본 발명에서 상기 카도계 바인더 수지(1)를 구성하는 각 화합물의 조성비는 화학식 1 화합물 : 화학식 2 화합물 : 화학식 3 화합물 = 1몰 : 2-4몰 : 2-8몰이며, 바인더 수지의 분자량은 1000-20000이다. 상기 성분(1)을 알칼리 용해성 수지로 만들기 위하여 하기 화학식 4의 산무수물로 처리한다.
Figure 111999018453719-pat00010
(상기 식에서 R1, R2은 각각 독립적으로 수소, C1-10의 알킬기, 알릴기, 페닐 기, 벤질기 또는 C1-8의 에톡시기를 나타낸다.)
본 발명에서 상기 아크릴계 광중합성 단량체(2)는 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 트리메틸롤프로판트리아크릴레이트, 노블락에폭시아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트 단량체로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 단량체가 사용된다. 상기 성분(2)를 알칼리 용해성 단량체로 만들기 위하여 산무수물로 처리한다.
본 발명에서 상기 광중합 개시제(3)는 아세토페논계의 유도체로서 2, 2'-디에톡시아세토페논, 2,2'-디부톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로리오페논, p-t-부틸트리클로로아세토페논, p-t-부틸디클로로아세토페논, 벤조페논, 4-클로로아세토페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온으로 구성된 그룹으로부터 선택된 아세토페논계 유도체가 사용된다.
본 발명에서 상기 지환족 에폭시 수지(4)로서는 하기 화학식 5의 지환족 에폭시 수지가 바람직하다.
Figure 111999018453719-pat00011
(상기 식에서 R은 치환된 에스테르 그룹을 함유하는 C1-10의 알킬기, C1-10의 알케닐기, 히드록실기, 알콕시기이다)
상기 에폭시 수지가 용이하게 알카리 수용액에 용해되도록 산무수물로 처리해 준다.
본 발명에서 상기 안료(5)로서는 안트라퀴논계 안료, 페릴렌계 등의 축합다환 안료, 프탈로시아닌 안료, 아조안료로 구성된 그룹으로부터 선택된 유기 안료 이외에 카본 블랙등의 무기안료를 사용할 수 있는데, 이들을 단독 또는 둘이상 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서 상기 용매(6)로서는 에틸렌글리콜아세테이트, 에틸셀로솔브, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 에틸락테이트, 폴리에틸렌글리콜, 시클로헥사논, 프로필렌글리콜메틸에테르로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 용매가 사용될 수 있는데, 이들을 단독으로 또는 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 성분들 이외에 안료를 혼합물에 분산시키기 위하여 분산제가 사용된다. 상기 분산제는 미리 안료 표면에 처리하여, 즉 안료에 내부 첨가하여 사용될 수 있거나 또는 안료에 외부 첨가하는 형태로 사용될 수 있다.
상기 분산제는 비이온성, 음이온성 또는 양이온성 분산제가 사용될 수 있는데, 바람직하게는 폴리알킬렌글리콜 및 이의 에스테르, 폴리옥시알킬렌, 다가 알콜 에스테르 알킬렌 옥시드 부가물, 알콜알킬렌옥시드 부가물, 설폰산 에스테르, 설폰산염, 카복실산에스테르, 카복실산염, 알킬아미드알킬렌옥시드 부가물, 알킬아민으로 구성된 그룹으로 부터 선택된 하나 이상의 분산제가 사용될 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 상기 분산제의 바람직한 사용량은 안료 1중량부에 대하여 0-20중량부이다.
본 발명의 광중합성 감광 수지 조성물은 스핀 도포, 롤러 도포, 스프레이 도포등의 적당한 방법을 사용하여 0.5-10 μm의 두께로 칼라 필터용 유리 기판위에 도포될 수 있다. 도포후 칼라 필터에 필요한 패턴을 형성하도록 활성선을 조사한다. 조사에 사용되는 광원으로서는 190-450nm 영역의 UV가 좋은데, 바람직하게는 200-400nm영역의 UV를 조사하며 전자선 및 X선 조사도 사용될 수 있다. 상기와 같이 조사한후, 도포층을 현상액으로 처리하면 도포층의 미조사부분이 용해되고 칼라 필터에 필요한 패턴이 형성된다. 필요한 색의 수에 따라 상기와 같은 공정을 반복 실행하면 원하는 패턴을 갖는 칼라 필터를 수득할 수 있다. 또한 상기 공정에서 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 다시 가열하거나 활성선 조사등에 의해 경화시키면 내크랙성(crack resistence) 및 내용제성등을 향상시킬 수 있다.
이하 실시예를 들어 본 발명을 구체화할 것이며, 다음의 실시예는 어디까지 나 본 발명을 예시하기 위한 목적으로 기재된 것이지 본 발명의 보호 범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.
실시예
본 발명의 실시예에서는 아래의 성분들을 이용하여 광중합성 감광 수지 조성물을 제조하였다.
용매
에틸렌글리콜아세테이트 62g
시클로헥사논 16g
광중합성 단량체
디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 2g
1,6-헥산디올 디아크릴레이트 1.3g
광중합성 개시제
TAZ-110 (MIDORI KAGAKU사 제품) 0.3g
이가큐어 907 (시바-가이기사 제품) 0.3g
4,4'-디메틸벤조페논 0.1g
바인더 수지
(A)/(B)/(C) = 1/2/2 몰비로 이루어진 카도계 수지 10g
상기 바인더 수지에서 (A) 9,9'비스(4-하이드록시페닐)플루오렌,
(B) 에피클로로히드린,
(C) 아크릴산
이며, 분자량은 4000이며 53%로 프로필렌글리콜모노에틸아세테이트에 녹아있음.
안료
프탈로시안 그린 7g
에폭시 수지 1g
초산 무수물로 처리한 지환족 에폭시 수지 (CELLOXIDE-2021, 대판유기화학)
계면활성제
플루오르계 계면활성제(FC-170, 3M사 제품) 0.05g
산화방지제
이르가녹스 1010 (시바가이기사 제품) 0.1g
실시예1
용매에 광중합 개시제를 용해시킨 후 2시간동안 상온에서 교반한다음, 광중합성 단량체 및 바인더 수지를 첨가하여 2시간 동안 상온에서 교반한다.
이어서 상기 반응물에 안료, 계면활성제 및 기타 첨가제등을 첨가한후, 1시간 동안 상온에서 교반한다. 3회에 걸친 여과에 의해 불순물을 제거하여 본 발명의 광중합성 감광 수지 조성물을 제조하고 제반 물성을 평가하여 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
삭제
삭제
비교예 1
에폭시 수지로 비페닐 에폭시 수지 (YK-4000HK, 일본 화약 제품)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
비교예 2
에폭시 수지를 넣지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
삭제
삭제
실시예 및 제조예에서 제조된 광중합성 감광 수지 조성물에 대하여 제반 물성을 평가하여 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
현 상 성 EBR 특성 내화학성 표면 거칠기
실시예 1 ○ ○ ○ ○
비교예 1 ○ × ○ ○
비교예 2 ○ △ ○ ○
[물성 평가 방법]
* 현상성
크롬이 코팅된 두께 1mm의 유리기판상에 1∼2μm의 두께로 광중합성 감광 수지 조성물수지조성물을 도포하고, 열풍순환식 건조로안에서 일정시간(1분), 일정온도(80℃)로 건조시켜 도막을 수득하였다. 계속해서 도막위에 포토마스크를 대고 365nm의 파장을 가진 고압수은램프를 사용하여 노출시킨 후 1% Na2CO3수용액을 사용하여 30℃, 상압하에서 60초동안 현상을 행하였다. 현상후 열풍순환식 건조로안에서 일정시간(30분), 일정온도(230℃)에서 건조시켜 패턴을 수득하여 현상부위의 잔사 발생 여부를 광학현미경 및 전자현미경으로 관찰하였다.
○ 현상성 우수 : 패턴상에 잔사가 전혀 남지 않음
△ 현상성 양호 : 패턴상에 잔사가 조금 남음
× 현상성 불량 : 패턴상에 잔사가 많이 남음
*EBR 특성
크롬이 코팅된 두께 1㎜의 유리 기판상에 1-2㎛의 두께로 감광성 수지 조성물을 도포한후 1-10분 동안 방치시키고 그후 EBR 용액에 1-30초 동안 침지시키고 다시 1-30초 동안 세정시켜 상온에서 건조시켰다. 이를 할로겐등에서 육안으로 잔사 발생여부를 관찰 하였다.
○ EBR 특성 우수; EBR 침지 부분에 잔사가 전혀 남지 않음
△ EBR 특성 양호; EBR 침지 부분에 잔사가 조금 남음
× EBR 특성 불량; EBR 침지 부분에 잔사가 많이 남음
*내화학성
탈지 세척시킨 두께 2㎜의 크롬 코팅된 유리 기판상에 1-2㎛의 두께로 감광성 수지 조성물을 도포하고 열풍 순환식 건조로 안에서 80℃, 1분 동안 건조시켜 도막을 수득하였다. 계속해서 365㎚의 파장을 가진 초고압 수은 램프로 조사하고, 1% Na2CO3수용액을 사용하여 30℃, 상압하에서 60초동안 현상을 행한후 다시 열풍 순환식 건조로 안에서 230℃, 30분 동안 건조시켜 패턴을 수득하였다. 이 패턴을 5%의 황상 수용액, 5%의 NaCl 수용액, NMP, XYLENE, IPA에 30분 동안 침지시키고 건조시킨후 패턴의 변화 및 색차를 관찰하였다.
○ : 패턴의 변화가 없으며, 색차(ΔE)가 3.0 이하
△ : 패턴의 변화가 조금 있거나, 색차(ΔE)가 3.0-5.0
× : 패턴의 변화가 많거나, 색차(ΔE)가 5.0 이상
(패턴의 변화 : 패턴의 부풀음, 박리, 용융 현상)
*패턴 표면 거칠기
크롬이 코팅된 두께 1mm의 유리기판상에 1∼2μm의 두께로 광중합성 감광 수지 조성물수지조성물을 도포하고, 열풍순환식 건조로안에서 일정시간(1분), 일정온도(80℃)로 건조시켜 도막을 수득하였다. 계속해서 도막위에 포토마스크를 대고 365nm의 파장을 가진 고압 수은 램프를 사용하여 노출시킨 후 1%의 Na2CO3수용액을 사용하여 30℃, 상압하에서 60초동안 현상을 행하였다. 열풍순환식 건조로안에서 일정시간(30분), 일정온도(230℃)로 건조시켜 패턴을 수득하였다.
상기 수득된 코팅층에 대하여 TENCO사에서 나온 P-10를 이용하여 100㎛ 크기의 패턴의 모양을 관찰하였다.
○ : 패턴 표면의 거칠기(roughness)가 60Å미만
△ : 패턴 표면의 거칠기(roughness) 가 60-100Å
× : 패턴 표면의 거칠기(roughness)가 100Å이상
상기 표 1의 결과를 통하여 확인되는 바와 같이, 본 발명의 광중합성 감광 수지 조성물은 패턴의 표면 거칠기가 감소하여 현상성이 향상되고 얼룩 발생이 저하되며 EBR 특성 및 내화학성이 우수한 이점을 갖는다.

Claims (4)

  1. (1) 하기 화학식 1, 화학식 2 및 화학식 3의 화합물들이 공중합된
    카도(cardo)계 바인더 수지 1-40 중량부,
    (2) 아크릴계 광중합성 단량체 1-20 중량부,
    (3) 광중합 개시제 0.1-10 중량부,
    (4) 지환족 에폭시 수지 0.1-10 중량부,
    (5) 안료 1-40 중량부,
    (6) 용매 20-80 중량부,
    를 함유하는 것을 특징으로 하는 광중합성 감광 수지 조성물
    [화학식 1]
    Figure 111999018453719-pat00012
    [화학식 2]
    Figure 111999018453719-pat00013
    [화학식 3]
    Figure 111999018453719-pat00014
    (상기 식에서 R은 수소, C1-10 의 알킬기, 페닐기, 벤질기 또는 C1-8의 에톡시기로 구성되는 그룹으로부터 선택되며; X는 할로겐 원자를 나타낸다.)
  2. 제 1항에 있어서, 상기 카도계 바인더 수지가 화학식 1-3의 화합물이 화학식 1 화합물 : 화학식 2 화합물 : 화학식 3 화합물 = 1몰 : 2-4몰 : 2-8몰의 조성비로 공중합된 것임을 특징으로 하는 광중합성 감광 수지 조성물.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 지환족 에폭시 수지(4)가 하기 화학식 5의 화합물인 것을 특징으로 하는 광중합성 감광 수지 조성물.
    [화학식 5]
    Figure 111999018453719-pat00015
    (상기 식에서 R은 치환된 에스테르 그룹을 함유하는 C1-10의 알킬기, C1-10의 알케닐기, 히드록실기, 알콕시기이다.)
  4. 제 1항에 있어서, 광중합성 감광 수지 조성물을 구성하는 바인더 수지, 광중합성 단량체, 에폭시 수지를 하기 화학식 4의 산무수물로 처리하는 것을 특징으로 하는 광중합성 감광 수지 조성물.
    [화학식 4]
    Figure 111999018453719-pat00016
    (상기 식에서 R1, R2은 각각 독립적으로 수소, C1-10의 알킬기, 알릴기, 페닐기, 벤질기 또는 C1-8의 에톡시기를 나타낸다.)
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