KR100671107B1 - 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙매트릭스 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (6)
- 전체 감광성 수지 조성물 100중량부에 대해, 하기 [화학식 1] ~ [화학식 3]의 성분이 공중합된 카도계 바인더 수지 1∼40 중량부; 아크릴계 광중합성 모노머 1∼20 중량부; 광중합개시제 0.1∼10 중량부; 에폭시화물 0∼10 중량부; 블랙안료 5∼20 중량부; 용매 20∼80 중량부; 및 비닐기 또는 (메타)크릴록시기를 가지는 실란계 커플링제 0.01∼1 중량부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물[화학식 1](A)[화학식 2](B)[화학식 3](C)CH2=CR'COOH상기 화학식 3에서, R'는 수소원자, 탄소수 1∼10의 알킬기, 알릴기, 페닐기, 벤질기 또는 에톡시기(-OC2H5)를 나타낸다.
- 제 1항에 있어서, 상기 카도계 바인더 수지의 성분 (A):(B):(C)는 1몰 : 2~4몰 : 2~8몰의 비로 공중합된 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제 1항에 있어서, 상기 카도계 바인더 수지의 분자량은 1,000 ~ 20,000인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제 1항에 있어서, 상기 실란계 커플링제의 함량이 전체 감광성 수지 조성물 100중량부에 대해 0.05~0.5 중량부인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제 1항에 있어서, 상기 비닐기를 가지는 실란계 커플링제는 비닐 트리메톡시 실란, 비닐 트리에톡시 실란 또는 비닐트리스(β-메톡시 에톡시) 실란이 사용되고, 상기 (메타)크릴록시기를 가지는 실란계 커플링제는 3-메타크릴록시 프로필 메틸 디메톡시 실란, 3-메타크릴록시 프로필 메틸 디에톡시 실란, 3-메타크릴록시 프로필 트리메톡시 실란, 3-메타크릴록시 프로필 트리에톡시 실란, 3-아크릴록시 프로필 트리메톡시 실란 또는 3-아크릴록시 프로필 메틸 디메톡시 실란이 사용되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 1의 조성물 의해 제조되어 디스플레이 장치용으로 사용되는 것을 특징으로 하는 블랙매트릭스.
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5908720A (en) | 1995-10-13 | 1999-06-01 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive resin composition for forming light shielding films, black matrix formed by the same, and method for the production thereof |
KR20000055255A (ko) * | 1999-02-04 | 2000-09-05 | 유현식 | 감광성 수지 조성물 및 블랙매트릭스 |
KR20020027271A (ko) * | 2000-10-06 | 2002-04-13 | 마쯔모또 에이찌 | 감방사선성 수지 조성물, 그의 경화물 및 소자 |
KR20040026113A (ko) * | 2002-07-10 | 2004-03-27 | 스미또모 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 폴리카복실산 수지 및 이를 함유하는 감광성 수지 조성물 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5908720A (en) | 1995-10-13 | 1999-06-01 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive resin composition for forming light shielding films, black matrix formed by the same, and method for the production thereof |
KR20000055255A (ko) * | 1999-02-04 | 2000-09-05 | 유현식 | 감광성 수지 조성물 및 블랙매트릭스 |
KR20020027271A (ko) * | 2000-10-06 | 2002-04-13 | 마쯔모또 에이찌 | 감방사선성 수지 조성물, 그의 경화물 및 소자 |
KR20040026113A (ko) * | 2002-07-10 | 2004-03-27 | 스미또모 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 폴리카복실산 수지 및 이를 함유하는 감광성 수지 조성물 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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