KR960703923A - 오르토스피로에스테르 화합물과, 수지 조성물 및 경화물 - Google Patents

오르토스피로에스테르 화합물과, 수지 조성물 및 경화물 Download PDF

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Abstract

내열성이 우수하며 경화시에 있어서의 체적팽창율이 큰 신규한 오르토스피로에스테르 화합물을 제공한다. 또 이 오르토스피로에스테르 화합물을 함유하며, 내열성이 우수한 저경화수축성 수지 조성물을 제공함과 아울러, 그 경화물을 제공한다. 또한 에틸렌성 불포화 이중결합과 카르복실기를 갖는 광 혹은 열로 중합하는 중합성 화합물에 광중합 개시제 및 증감제 혹은 열에 의하여 라디칼을 발생하는 중합 개시제와 오르토스피로에스테르 화합물과를 배합하여 이루어지는 감광성 혹은 열경화성의 저경화수축성 수지 조성물을 제공한다.
이들 저경화수축성 수지 조성물은 치수 정밀도가 요구되는 성형재, 봉지재, 접착제, 코팅재 등의 용도에 유용하지만, 그 외에도 칼라필터용 보호막, 잉크, 터치 패널용 절연스페이서 등의 화상형성용 재료를 제조하기 위한 재료로서도 유용하다.

Description

오르토스피로에스테르 화합물과, 수지 조성물 및 경화물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 실시예 1에서 얻어진 오르토스피로에스테르 화합물의 적외선 흡수스펙트럼을 나타낸 그래프이다,
제 2 도는 실시예 1에서 얻어진 오르토스피로에스테르 화합물의 핵자기 공명스펙트럼을 나타낸 그래프이다,
제 3 도는 실시예 2에서 얻어진 오르토스피로에스테르 화합물의 적외선 흡수스펙트럼을 나타낸 그래프이다,
제 4 도는 실시예 2에서 얻어진 오르토스피로에스테르 화합물의 핵자기 공명스펙트럼을 나타낸 그래프이다.

Claims (8)

  1. 하기 일반식(Ⅰ)
    (단, 식중 A는
    (단, 식중 R은 수소 또는 저급알킬기를 나타낸다)를 나타내며, m은 0~10이며, 또 q는 2~10의 정수를 나타낸다)로 표현되는 오르토스피로에스테르 화합물.
  2. 하기 ⒜와, ⒝ 및/또는 ⒞ 성분 ⒜ 청구항 1에 기재된 오르토스피로에스테르 화합물, ⒝ 유기다염기산계 경화제 또는 페놀계 경화제, ⒞ 경화촉진제를 함유하는 저경화수축성 수지 조성물.
  3. 하기 ⒜와, ⒟와, ⒝ 및/또는 ⒞ 성분 ⒜ 청구항 1에 기재된 오르토스피로에스테르 화합물, ⒝ 유기다염기산계 경화제 또는 페놀계 경화제, ⒞ 경화촉진제, ⒟ 옥실란기를 갖는 에폭시수지를 함유하는 저경화수축성 에폭시수지.
  4. 제3항에 있어서, ⒜/⒟ (중량비)가 10/90~70/30의 범위인 것을 특징으로 하는 저경화수축성 수지 조성물.
  5. 제2항 또는 제3항에 기재된 저경화수축성 수지 조성물을 경화시켜서 이루어지는 경화물.
  6. (A) 에틸렌성 불포화 이중결합과 카르복실기를 갖는 광중합성 화합물 100중량부당, (B) 광중합개시제 및 증감제를 0.1~30중량부와; (C) 하기 일반식⑶
    (단, 식중 p는 3~5의 정수이다)로 표현되는 오르토스피로에스테르기를 1분자중에 2개 이상 갖는 오르토스피로에스테르 화합물을 5~100중량부를 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성의 저경화수축성 수지 조성물.
  7. (A) 에틸렌성 불포화 이중결합과 카르복실기를 갖는 열중합성 화합물 100중량부당, (B) 열에 의하여 라디칼을 발생하는 중합 개시제 0.1~10중량부와; (C) 하기 일반식⑶
    (단, 식중 p는 3~5의 정수이다)로 표현되는 오르토스피로에스테르기를 1분자중에 2개 이상 갖는 오르토스피로에스테르 화합물을 5~100중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 열경화성의 저경화수축성 수지 조성물.
  8. 제7항 또는 제8항에 기재된 저경화수축성 수지 조성물을 경화시켜서 얻어진 것을 특징으로 하는 경화물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960700398A 1993-07-20 1994-07-19 오르토스피로에스테르화합물,이를함유하는저경화수축성수지조성물및경화물 KR100326009B1 (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100550938B1 (ko) * 1999-12-28 2006-02-13 제일모직주식회사 광중합성 감광 수지 조성물

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100562180B1 (ko) * 1997-01-29 2006-07-03 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 화학증폭형포지티브레지스트조성물
WO1999050322A1 (fr) * 1998-03-27 1999-10-07 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Copolymere, son procede de preparation et composition de produit de reserve
US6124076A (en) 1998-07-01 2000-09-26 Lucent Technologies Inc. Material exhibiting compensation for polymerization-induced shrinkage and recording medium formed therefrom
KR100552914B1 (ko) * 1998-07-10 2006-06-28 제일모직주식회사 칼러레지스트수지조성물
US7014521B1 (en) 1999-08-05 2006-03-21 Canon Kabushiki Kaisha Display panel having a color filter and a protective layer of heat melted material and method of manufacturing the display panel
JP2002241473A (ja) * 2001-02-16 2002-08-28 Taiyo Ink Mfg Ltd 熱硬化性エポキシ樹脂組成物とその成形体および多層プリント配線板
JP2007131831A (ja) * 2005-11-09 2007-05-31 Cheil Industries Inc ベンゼン化合物で表面処理されたカーボンブラック及びこれを利用したカラーフィルター用ブラックマトリックスに用いるカーボンブラック分散液組成物
KR100655045B1 (ko) * 2005-12-30 2006-12-06 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙 매트릭스
KR100725023B1 (ko) * 2006-10-16 2007-06-07 제일모직주식회사 카도계 수지를 함유한 수지 조성물 및 그에 의한 패턴의 제조방법, 이를 이용한 컬러필터
CN102436142B (zh) 2010-09-29 2013-11-06 第一毛织株式会社 黑色光敏树脂组合物以及使用其的光阻层
KR101367253B1 (ko) 2010-10-13 2014-03-13 제일모직 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
KR101486560B1 (ko) 2010-12-10 2015-01-27 제일모직 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
KR101453769B1 (ko) 2010-12-24 2014-10-22 제일모직 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러 필터
KR101344786B1 (ko) 2011-12-02 2013-12-26 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한　컬러필터
CN103176365A (zh) * 2011-12-22 2013-06-26 深圳富泰宏精密工业有限公司 菲林及其制作方法，应用该菲林进行遮蔽的方法
KR20140076320A (ko) 2012-12-12 2014-06-20 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙 스페이서
CN114479559A (zh) * 2020-11-12 2022-05-13 宸鸿科技(厦门)有限公司 形成绝缘层的墨水组成物、方法和触控面板

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5640329A (en) * 1979-09-12 1981-04-16 Sharp Corp Control unit
US4368314A (en) * 1980-08-29 1983-01-11 Toagoesi Chemical Industry Co., Ltd. Curable composition comprising spiro-orthoester compound
JPS5857423A (ja) * 1981-09-30 1983-04-05 Toshiba Corp 低収縮性エポキシ樹脂組成物
US4574132A (en) * 1984-11-09 1986-03-04 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army General purpose expandable adhesive
JPS61243869A (ja) * 1985-04-19 1986-10-30 Taiyo Ink Seizo Kk レジストインキ組成物
JPS61264016A (ja) * 1985-05-17 1986-11-21 Toagosei Chem Ind Co Ltd 低収縮性熱硬化型樹脂組成物
US4738899A (en) * 1986-07-08 1988-04-19 Claire Bluestein Transparent abrasion-resistant flexible polymeric coating
JPS6317908A (ja) * 1986-07-11 1988-01-25 Toagosei Chem Ind Co Ltd 紫外線又は電子線硬化性組成物
US4707534A (en) * 1986-12-09 1987-11-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Glycidylethers of fluorene-containing bisphenols
JPH0273823A (ja) * 1988-09-09 1990-03-13 Nippon Steel Chem Co Ltd 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JPH02116851A (ja) * 1988-10-26 1990-05-01 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及び感光性フイルム
JPH02117913A (ja) * 1988-10-26 1990-05-02 Nippon Steel Chem Co Ltd エポキシ樹脂組成物
JPH02247654A (ja) * 1989-03-20 1990-10-03 Unitika Ltd アルカリ現像型感光性樹脂組成物
JPH02274720A (ja) * 1989-04-17 1990-11-08 Nikka Chem Co Ltd 低収縮性熱硬化性樹脂組成物
JP2764480B2 (ja) * 1991-05-17 1998-06-11 日本化薬株式会社 カラーフィルター用光重合組成物
JPH04345608A (ja) * 1991-05-23 1992-12-01 Nippon Kayaku Co Ltd カラーフィルター用材料及びその硬化物
JP2975173B2 (ja) * 1991-06-06 1999-11-10 日本化薬株式会社 カラーフイルターの保護膜用材料及びその硬化物
JP2859761B2 (ja) * 1991-07-03 1999-02-24 日本化薬株式会社 放射線硬化性樹脂組成物及びその硬化物
JP2591392B2 (ja) * 1991-11-26 1997-03-19 信越化学工業株式会社 熱硬化性樹脂組成物及び半導体装置
US5369192A (en) * 1993-06-28 1994-11-29 Minnesota Mining And Manufacturing Company Binder resin for resin transfer molding preforms

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100550938B1 (ko) * 1999-12-28 2006-02-13 제일모직주식회사 광중합성 감광 수지 조성물

Also Published As

Publication number Publication date
KR100326009B1 (ko) 2002-05-10
WO1995003310A1 (fr) 1995-02-02
US5710234A (en) 1998-01-20

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