CN101211812B - 基板处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种基板处理装置。反转装置包括固定板、以与固定板的一面相对向的方式设置的第一可动板、以与固定板的另一面相对向的方式设置的第二可动板以及旋转式促动器。旋转式促动器使第一可动板、第二可动板以及固定板围绕水平轴旋转。第一可动板与固定板之间的距离以及第二可动板与固定板之间的距离设定得与搬入搬出基板的主机械手的两个手部的高度差大致相等。

Description

基板处理装置
技术领域
本发明涉及一种对基板实施处理的基板处理装置。
背景技术
一直以来，为了对半导体晶片、光掩模用玻璃基板、液晶显示装置用玻璃基板、光盘用玻璃基板等基板进行种种处理，而使用基板处理装置。
例如，在对基板的背面进行清洗处理的基板处理装置中，设置有用于使基板的表面和背面反转的基板反转装置。例如，在JP特开2006-12880号公报中公开有具备基板反转装置的基板处理装置。
在这种基板处理装置中，在对基板的背面进行清洗处理之前，利用基板反转装置使基板以背面朝向上方的方式反转。此外，在对基板的背面进行清洗处理之后，利用基板反转装置使该基板以表面朝向上方的方式再次反转。
将基板搬入基板反转装置以及从基板反转装置搬出基板的操作通常由搬运机械手来完成。在搬运机械手中，用于保持基板的两个手部以上下重叠的方式设置。例如，在搬运机械手用下侧的手部保持反转前的基板的状态下，用上侧的手部将反转后的基板从基板反转装置搬出，在用下侧的手部将反转前的基板搬入基板反转装置时，进行下述动作。首先，上侧的手部在位于基板反转装置的高度的状态前进到基板反转装置内，并保持反转后的基板来后退。接着，为了使下侧的手部位于基板反转装置的高度而使上下的手部上升之后，下侧的手部前进到基板反转装置内，并将反转前的基板装载在基板反转装置内。
这样，利用一个手部将反转后的基板从基板反转装置搬出之后，为了将反转前的基板搬入基板反转装置，而必须使上下的手部在上下方向移动。因此，从基板反转装置搬出基板以及将基板搬入基板反转装置都需要一定的时间。其结果妨碍了基板处理装置的生产效率。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种能够迅速地进行基板的搬入和搬出的反转装置、以及具备该反转装置的基板处理装置。
(1)本发明的一个方面的反转装置，包括：第一保持机构，其能够将基板以垂直于第一轴的状态进行保持；第二保持机构，其能够将基板以垂直于第一轴的状态进行保持；支承构件，其用于支承第一以及第二保持机构，并使第一以及第二保持机构在第一轴的方向上重叠；旋转装置，其使支承构件与第一以及第二保持机构一起围绕与第一轴近似垂直的第二轴一体地旋转，所述第一保持机构构成为相对所述第二保持机构独立地保持基板，所述第二保持机构构成为相对所述第一保持机构独立地保持基板。
在该反转装置中，通过第一以及第二保持机构的至少一个将基板保持在与第一轴垂直的状态。在该状态下，通过旋转装置将第一以及第二保持机构一体地围绕与第一轴近似垂直的第二轴旋转。由此，将由第一保持机构或者第二保持机构保持的基板反转。
在使用两个搬运保持部将基板搬入搬出反转装置时，能够通过两个搬运保持部中的一个将反转后的基板从第一保持机构或者第二保持机构中的一个搬出，并通过两个搬运保持部中的另一个将反转前的基板搬入到第一保持机构或者第二保持机构中的另一个。此时，第一保持机构和第二保持机构以与第一轴的方向重叠的方式被支承。因此，由于将两个搬运保持部以在与第一轴平行的方向上重叠的方式配置，所以几乎不使两个搬运保持部在与第一轴平行的方向上移动就能够将基板搬出或者搬入第一保持机构或第二保持机构。由此，能够迅速地将基板搬出搬入反转装置。
此外，通过将两个搬运保持部以在与第一轴平行的方向上重叠的方式配置，从而通过两个搬运保持部能够将两张基板同时搬入第一以及第二保持机构，并且，通过两个搬运保持部能够将两张基板同时搬出第一以及第二保持机构。由此，能够迅速地将基板搬出搬入反转装置，并且，能够高效地使多个基板反转。
(2)第一以及第二保持机构包括具有与第一轴垂直的一面以及另一面的共用的反转保持构件，第一保持机构包括：多个第一支承部，其设置在共用的反转保持构件的一面上，用于支承基板的外周部；第一反转保持构件，其以与共用的反转保持构件的一面相对向的方式设置；多个第二支承部，其设置在第一反转保持构件的与共用的反转保持构件相对向的面上，用于支承基板的外周部；第一驱动机构，其使第一反转保持构件以及共用的反转保持构件中的至少一个移动，以便有选择地转移到第一反转保持构件和共用的反转保持构件在第一轴的方向上相互离开的状态、或第一反转保持构件和共用的反转保持构件相互接近的状态，第二保持机构包括：多个第三支承部，其设置在共用的反转保持构件的另一面上，用于支承基板的外周部；第二反转保持构件，其以与共用的反转保持构件的另一面相对向的方式设置；多个第四支承部，其设置在第二反转保持构件的与共用的反转保持构件相对向的面上，用于支承基板的外周部；第二驱动机构，其使第二反转保持构件以及共用的反转保持构件中的至少一个移动，以便有选择地转移到第二反转保持构件和共用的反转保持构件在第一轴的方向上相互离开的状态、或第二反转保持构件和共用的反转保持构件相互接近的状态。
此时，在第一反转保持构件与共用的反转保持构件相互离开的状态下，基板被搬入到在共用的反转保持构件的一面上设置的多个第一支承部和在与共用的反转保持构件相对向的第一反转保持构件的面上设置的多个第二保持部之间。在该状态下，以使第一反转保持构件以及共用的反转保持构件相互接近的方式，通过第一驱动机构移动第一反转保持构件以及共用的反转保持构件中的至少一个。由此，通过多个第一以及第二支承部来保持基板的外周部。
在该状态下，通过旋转装置使第一反转保持构件、第二反转保持构件以及共用的反转保持构件围绕第二轴一体地旋转。由此，反转由第一反转保持构件以及共用的反转保持构件所保持的基板。
此外，在第二反转保持构件与共用的反转保持构件相互离开的状态下，基板被搬入到在共用的反转保持构件的另一面上设置的多个第三支承部和在与共用的反转保持构件相对向的第二反转保持构件的面上设置的多个第四保持部之间。在该状态下，以使第二反转保持构件以及共用的反转保持构件相互接近的方式，通过第二驱动机构移动第二反转保持构件以及共用的反转保持构件中的至少一个。由此，通过多个第三以及第四支承部来保持基板的外周部。
在该状态下，通过旋转装置使第一反转保持构件、第二反转保持构件以及共用的反转保持构件围绕第二轴一体地旋转。由此，反转由第二反转保持构件以及共用的反转保持构件所保持的基板。
(3)第一以及第二保持机构分别保持由搬运装置的第一以及第二搬运保持部搬入的基板，第一保持机构对基板的保持位置和第二保持机构对基板的保持位置之间的距离，近似等于搬运装置的第一搬运保持部对基板的保持位置和第二搬运保持部对基板的保持位置之间的距离。
此时，几乎不必使搬运装置的第一以及第二搬运保持部沿与第一轴平行的方向移动就能够通过第一以及第二搬运保持部中的一个将反转后的基板从第一以及第二保持机构中的一个搬出，并通过第一以及第二搬运保持部中的另一个将反转前的基板搬入第一以及第二保持机构中的另一个。由此，能够迅速地将基板搬出搬入反转装置。
此外，通过第一以及第二搬运保持部能够同时将两张基板搬入第一以及第二保持机构，并能够通过第一以及第二搬运保持部同时将两张基板搬出第一以及第二保持机构。由此，能够迅速地将基板搬出搬入反转装置，并且，能够高效地使多个基板反转。
(4)共用的反转保持构件、第一反转保持构件以及第二反转保持构件可以具有搬运装置的第一以及第二保持部沿第一轴的方向能够通过的切口区域。
此时，即使在与第一轴平行的方向上的多个第一、第二、第三以及第四支承部的长度较短，搬运装置的第一以及第二搬运保持部也能够通过共用的反转保持构件、第一反转保持构件以及第二反转保持构件的切口区域而移动。由此，第一以及第二搬运保持部不接触共用的反转保持构件、第一反转保持构件以及第二反转保持构件，就能将基板装载在多个第一、第二、第三以及第四支承部中的任一个上。
此外，第一以及第二搬运保持部不接触共用的反转保持构件、第一反转保持构件和第二反转保持构件就能够从多个第一、第二、第三以及第四支承部中的任一个上接收基板。
由此，能够缩短在与第一轴平行的方向上的多个第一、第二、第三以及第四支承部的长度，从而可以使反转装置小型化。
(5)本发明的其他方面的基板处理装置，对具有表面和背面的基板进行处理，该基板处理装置具有：反转装置，其使基板的表面和背面反转；搬运装置，其具有第一以及第二搬运保持部，对反转装置搬入或搬出基板，反转装置包括：第一保持机构，其能够将基板以垂直于第一轴的状态进行保持；第二保持机构，其能够将基板以垂直于第一轴的状态进行保持；支承构件，其支承第一以及第二保持机构，并使第一以及第二保持机构在第一轴的方向上重叠；旋转装置，其使支承构件与第一以及第二保持机构一起围绕与第一轴近似垂直的第二轴一体地旋转，所述第一保持机构构成为相对所述第二保持机构独立地保持基板，所述第二保持机构构成为相对所述第一保持机构独立地保持基板。
在该基板处理装置中，通过搬运装置的第一以及第二搬运保持部将基板搬出搬入反转装置。在反转装置中，被搬入的基板通过第一以及第二保持机构被保持为垂直于第一轴的状态。在该状态下，通过旋转装置使第一以及第二保持机构围绕与第一轴近似垂直的第二轴一体旋转。由此，反转由第一以及第二保持机构保持的基板。
此时，能够通过第一以及第二搬运保持部中的一个从第一以及第二保持机构中的一个搬出反转后的基板，并通过第一以及第二搬运保持部中的另一个将反转后的基板搬入第一以及第二保持机构中的另一个。此外，第一以及第二保持机构以在第一轴的方向重叠的方式被支承。因此，通过将第一以及第二搬运保持部以在第一轴平行的方向重叠的方式配置，从而几乎不使第一以及第二搬运保持部在与第一轴平行的方向移动就能够将基板搬出或者搬入第一以及第二保持机构。由此，能够迅速地将基板搬出搬入反转装置。因此，能够提高基板处理装置的生产率。
此外，通过将第一以及第二搬运保持部以在与第一轴平行的方向上重叠的方式配置，从而通过第一以及第二搬运保持部能够将两张基板同时搬入第一以及第二保持机构，并且，通过第一以及第二搬运保持部能够将两张基板同时搬出第一以及第二保持机构。
由此，能够迅速地将基板搬出搬入反转装置，同时，能够高效地使多个基板反转。因此，能够提高基板处理装置的生产率。
(6)第一保持机构对基板的保持位置和第二保持机构对基板的保持位置之间的距离近似等于搬运装置的第一搬运保持部对基板的保持位置和第二搬运保持部对基板的保持位置之间的距离。
此时，不必使搬运装置的第一以及第二搬运保持部在与第一轴平行的方向上移动就能够通过第一以及第二搬运保持部中的一个将反转后的基板从第一以及第二保持机构搬出，并且，通过第一以及第二搬运保持部的另一个将反转后的基板搬入第一以及第二保持机构中的另一个。由此，能够迅速地将基板搬出搬入反转装置。
此外，通过第一以及第二搬运保持部能够同时将两张基板搬入第一以及第二保持机构，并能够通过第一以及第二搬运保持部同时将两张基板搬出第一以及第二保持机构。由此，能够迅速地将基板搬出搬入反转装置，同时，能够高效地使多个基板反转。
(7)第一以及第二保持机构包括具有与第一轴垂直的一面以及另一面的共用的反转保持构件，第一保持机构包括：多个第一支承部，其设置在共用的反转保持构件的一面上，用于支承基板的外周部；  第一反转保持构件，其以与共用的反转保持构件的一面相对向的方式设置；多个第二支承部，其设置在第一反转保持构件的与共用的反转保持构件相对向的面上，用于支承基板的外周部；第一驱动机构，其使第一反转保持构件以及共用的反转保持构件中的至少一个移动，以便有选择地转移到第一反转保持构件和共用的反转保持构件在第一轴的方向上相互离开的状态、或第一反转保持构件和共用的反转保持构件相互接近的状态，第二保持机构包括：多个第三支承部，其设置在共用的反转保持构件的另一面上，用于支承基板的外周部；第二反转保持构件，其以与共用的反转保持构件的另一面相对向的方式设置；多个第四支承部，其设置在第二反转保持构件的与共用的反转保持构件相对向的面上，用于支承基板的外周部；第二驱动机构，其使第二反转保持构件以及共用的反转保持构件中的至少一个移动，以便有选择地转移到第二反转保持构件和共用的反转保持构件在第一轴的方向上相互离开的状态、或第二反转保持构件和共用的反转保持构件相互接近的状态。
此时，在第一反转保持构件与共用的反转保持构件相互离开的状态下，基板被搬入到在共用的反转保持构件的一面上设置的多个第一支承部和在与共用的反转保持构件相对向的第一反转保持构件的面上设置的多个第二保持部之间。在该状态下，以使第一反转保持构件以及共用的反转保持构件相互接近的方式，通过第一驱动机构移动第一反转保持构件以及共用的反转保持构件中的至少一个。由此，通过多个第一以及第二支承部来保持基板的外周部。
在该状态下，通过旋转装置使第一反转保持构件、第二反转保持构件以及共用的反转保持构件围绕第二轴一体旋转。由此，反转由第一反转保持构件以及共用的反转保持构件所保持的基板。
此外，在第二反转保持构件与共用的反转保持构件相互离开的状态下，基板被搬入到在共用的反转保持构件的另一面上设置的多个第三支承部和在与共用的反转保持构件相对向的第二反转保持构件的面上设置的多个第四保持部之间。在该状态下，以使第二反转保持构件以及共用的反转保持构件相互接近的方式，通过第二驱动机构移动第二反转保持构件以及共用的反转保持构件中的至少一个。由此，通过多个第三以及第四支承部来保持基板的外周部。
在该状态下，通过旋转装置使第一反转保持构件、第二反转保持构件以及共用的反转保持构件围绕第二轴一体旋转。由此，反转由第二反转保持构件以及共用的反转保持构件所保持的基板。
(8)共用的反转保持构件、第一反转保持构件以及第二反转保持构件具有搬运装置的第一以及第二搬运保持部沿第一轴的方向能够通过的切口区域。
此时，即使在与第一轴平行的方向上的多个第一、第二、第三以及第四支承部的长度较短，搬运装置的第一以及第二搬运保持部也能够通过共用的反转保持构件、第一反转保持构件以及第二反转保持构件的切口区域而移动。由此，第一以及第二搬运保持部不接触共用的反转保持构件、第一反转保持构件以及第二反转保持构件，就能将基板装载在多个第一、第二、第三以及第四支承部中的任一个上。
此外，第一以及第二搬运保持部不接触共用的反转保持构件、第一反转保持构件和第二反转保持构件就能够从多个第一、第二、第三以及第四支承部中的任一个上接收基板。
由此，能够缩短在与第一轴平行的方向上的多个第一、第二、第三以及第四支承部的长度，从而可以使反转装置小型化。
(9)搬运装置包括使第一以及第二搬运保持部进退的进退机构，第一以及第二搬运保持部各自具有沿进退方向延伸的多个保持部分，共用的反转保持构件、第一反转保持构件以及第二反转保持构件的切口区域包括第一以及第二搬运保持部的多个保持部分能够通过的多个切口部。
此时，第一以及第二搬运保持部通过进退机构的进退动作而进入反转装置的第一以及第二保持机构或者从第一以及第二保持机构推出。此时，第一以及第二搬运保持部能够以沿进退方向延伸的多个保持部分通过切口区域的多个切口部的方式进行进退。
(10)多个第一支承部的前端和多个第四支承部的前端之间的距离以及多个第二支承部的前端和多个第三支承部的前端之间的距离，设定为与搬运装置的第一搬运保持部对基板的保持位置和第二搬运保持部对基板的保持位置之间的距离近似相等。
此时，不必使搬运装置的第一以及第二搬运保持部沿与第一轴平行的方向移动就能够通过第一以及第二搬运保持部中的一个从多个第一以及第四支承部中的一个接收基板，并通过第一以及第二搬运保持部中的另一个将反转前的基板装载在多个第一以及第四支承部的另一个上。
此外，不必使搬运装置的第一以及第二搬运保持部沿与第一轴平行的方向移动就能够通过第一以及第二搬运保持部中的一个从多个第二以及第三支承部中的一个接收基板，并通过第一以及第二搬运保持部中的另一个将反转前的基板装载在多个第二以及第三支承部中的另一个上。
进而，能够通过第一以及第二搬运保持部同时将两张基板装载在多个第一以及第四支承部上，并能够通过第一以及第二搬运保持部从多个第一以及第四支承部同时接收两张基板。此时，能够通过第一以及第二搬运保持部将两张基板同时装载在多个第二以及第三支承部上，并能够通过第一以及第二搬运保持部从多个第二以及第三支承部同时接收两张基板。
(11)共用的反转保持构件固定在支承构件上，第一驱动机构使第一反转保持构件与共用的反转保持构件相对地移动，以便有选择地转移到第一反转保持构件和共用的反转保持构件相互离开的状态、或第一反转保持构件和共用的反转保持构件相互接近的状态，第二驱动机构使第二反转保持构件与共用的反转保持构件相对地移动，以便有选择地转移到第二反转保持构件和共用的反转保持构件相互离开的状态、或第二反转保持构件和共用的反转保持构件相互接近的状态。
此时，利用第一驱动机构使第一反转保持构件以接近共用的反转保持构件的方式移动，由此，通过多个第一以及第二支承部保持基板。此外，利用第二驱动机构使第二反转保持构件以接近共用的反转保持构件的方式移动，由此，通过多个第三以及第四支承部保持基板。由此，能够以简单的机构反转基板。
(12)共用的反转保持构件包括：第三反转保持构件，其以与第一反转保持构件相对向的方式设置；第四反转保持构件，其以与第二反转保持构件相对向的方式设置，多个第一支承部设置在第三反转保持构件的与第一反转保持构件相对向的面上，多个第三支承部设置在第四反转保持构件的与第二反转保持构件对向的面上，第一驱动机构使第一反转保持构件以及第三反转保持构件中的至少一个移动，以便有选择地转移到第一反转保持构件和第三反转保持构件相互离开的状态、或第一反转保持构件和第三反转保持构件相互接近的状态，第二驱动机构使第二反转保持构件以及第四反转保持构件中的至少一个移动，以便有选择地转移到第二反转保持构件和第四反转保持构件相互离开的状态、或第二反转保持构件和第四反转保持构件相互接近的状态。
此时，利用第一驱动机构使第一以及第三反转保持构件以相互接近的方式移动，由此，通过多个第一以及第二支承部保持基板。此外，利用第二驱动机构使第二以及第四反转保持构件以相互接近的方式移动，由此通过多个第三以及第四支承部保持基板。
由此，能够对第一保持机构保持基板的保持位置和第二保持机构保持基板的保持位置之间的间隔进行任意地调整。
(13)基板处理装置还包括清洗基板背面的第一清洗处理部，搬运装置可以在反转装置和第一清洗处理部之间搬运基板。
此时，通过反转装置而被反转为背面朝上的基板，由搬运装置搬运到第一清洗处理部。在第一清洗处理部中，朝上的基板的背面被清洗。在第一清洗处理部中被清洗后的基板由搬运装置搬运到反转装置中，再由反转装置再次反转为表面朝上。
(14)基板处理装置还包括清洗基板表面的第二清洗处理部，搬运装置在反转装置、第一清洗处理部以及第二清洗处理部之间搬运基板。
此时，表面朝上的基板由搬运装置搬运到第二清洗处理部。在第二清洗处理部中，朝上的基板的表面被清洗。
根据本发明，能够迅速地将基板搬出搬入反转装置。因此，能够提高基板处理装置的生产率。
附图说明
图1A、图1B是示出第一实施方式的基板处理装置的结构的图。
图2是示出第一实施方式的基板处理装置的结构的图。
图3A、图3B是示出主机械手的详细结构的图。
图4A、图4B是示出反转单元的详细结构的图。
图5A～图5C是示出反转单元的动作的图。
图6D～图6F是示出反转单元的动作的图。
图7G～图7I是示出反转单元的动作的图。
图8A～图8D是示出主机械手搬入搬出基板的动作的图。
图9是示出表面清洗单元的结构的图。
图10是示出背面清洗单元的结构的图。
图11A、图11B是示出本发明第二实施方式的基板处理装置的结构的图。
图12A～图12D是示出第二实施方式的反转单元的动作的图。
图13E～图13G是示出第二实施方式的反转单元的动作的图。
图14A、图14B是示出第三实施方式的反转单元的结构的图。
具体实施方式
下面，参照附图说明本发明的一实施方式的反转装置以及具备该反转装置的基板处理装置。
在以下的说明中，所称的基板是指半导体晶片、液晶显示装置用玻璃基板、PDP(等离子显示面板)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盘用玻璃基板等。
此外，在以下的说明中，将形成有电路图案等各种图案的基板的面称为表面，将其相反侧的面称为背面。此外，将基板的朝下的一面称为向下面，将基板的朝上的一面称为向上面。
(1)第一实施方式
下面，参照附图说明第一实施方式的基板处理装置。
(1-1)基板处理装置的结构
图1A是本发明的第一实施方式的基板处理装置的俯视图，图1B是从箭头X方向观察图1A的基板处理装置的示意性侧视图。此外，图2是示意性地示出图1A的A-A线剖面的图。
如图1A所示，基板处理装置100具有分度器区10以及处理区11。分度器区10以及处理区11相互并列地设置。
在分度器区10中设置有多个运载器装载台40、分度器机械手IR以及控制部4。在各运载器装载台40上装载有多级收纳多张基板W的运载器C。分度器机械手IR以能够沿箭头U(图1A)的方向移动、能够围绕铅垂轴旋转且能够沿上下方向升降的方式构成。在分度器机械手IR上下设置有用于交接基板W的手部IRH1、IRH2。手部IRH1、IRH2保持基板W的向下面的周边部以及外周端部。控制部4由包含CPU(中央运算处理装置)的计算机等构成，对基板处理装置100内的各部进行控制。
如图1B所示，在处理区11设置有多个表面清洗单元SS(在本例中为4个)、多个背面清洗单元SSR(在本例中为4个)以及主机械手MR。多个表面清洗单元SS上下层叠配置在处理区11的一个侧面侧，多个背面清洗单元SSR上下层叠配置在处理区11的另一个侧面侧。主机械手MR设置在多个表面清洗单元SS和多个背面清洗单元SSR之间。主机械手MR以能够绕铅垂轴旋转且能够沿上下方向升降的方式构成。此外，在主机械手MR上下设置有用于交接基板W的手部MRH1、MRH2。手部MRH1、MRH2保持基板W的向下面的周边部以及外周端部。关于主机械手MR的详细结构在后面叙述。
如图2所示，在分度器区10和处理区11之间上下设置有用于使基板W反转的反转单元RT1、RT2以及用于在分度器机械手IR和主机械手MR之间进行基板的交接的基板装载部PASS1、PASS2。反转单元RT1设置在基板装载部PASS1、PASS2的上方，反转单元RT2设置在基板装载部PASS1、PASS2的下方。关于反转单元RT1、RT2的详细结构在后面叙述。
上侧的基板装载部PASS1在将基板W从处理区11向分度器区10搬运时使用，下侧的基板装载部PASS2在将基板W从分度器区10向处理区11搬运时使用。
在基板装载部PASS1、PASS2上设置有检测基板W的有无的光学式的传感器(未图示)。由此，能够判断在基板装载部PASS1、PASS2上是否装载有基板W。此外，在基板装载部PASS1、PASS2上设置有支承基板W的向下面的多个支承销51。在分度器机械手IR和主机械手MR之间交接基板W时，基板W暂时被装载在基板装载部PASS1、PASS2的支承销51上。
(1-2)基板处理装置的动作概要
接着，参照图1A～图2说明基板处理装置100的动作概要。另外，下面说明的基板处理装置100的各构成要素的动作都由图1A的控制部4来控制。
首先，分度器机械手IR使用下侧的手部IRH2从装载在运载器装载台40上的1个运载器C中取出未处理的基板W。在此时刻，基板W的表面朝向上方。分度器机械手IR的手部IRH2保持基板W的背面的周边部以及外周端部。分度器机械手IR沿箭头U的方向移动并围绕铅垂轴转动，而将未处理的基板W装载在基板装载部PASS2上。
装载在基板装载部PASS2上的基板W由主机械手MR接受，然后被搬入表面清洗单元SS。在表面清洗单元SS中，对基板W的表面进行清洗处理。以下，将基板W的表面的清洗处理称为表面清洗处理。另外，关于表面清洗单元SS的表面清洗处理的详细过程在后面叙述。
表面清洗处理后的基板W由主机械手MR从表面清洗单元SS搬出，然后被搬入反转单元RT1。在反转单元RT1中，表面朝上的基板W被反转，以使背面朝上。关于反转单元RT1、RT2的详细动作在后面叙述。反转后的基板W由主机械手MR从反转单元RT1被搬出，然后被搬入背面清洗单元SSR。在背面清洗单元SSR中，对基板W的背面进行清洗处理。以下，将基板W的背面的清洗处理称为背面清洗处理。另外，关于背面清洗单元SSR的背面清洗处理的详细过程在后面叙述。
背面清洗处理后的基板W由主机械手MR从背面清洗单元SSR搬出，然后被搬入反转单元RT2。在反转单元RT2中，背面朝上的基板W被反转，以使得表面朝上。反转后的基板W由主机械手MR从反转单元RT2被搬出，然后被装载在基板装载部PASS1上。装载在基板装载部PASS 1上的基板W由分度器机械手IR接受，然后被收纳在运载器C内。
(1-3)主机械手的结构
在此，对主机械手MR的详细结构进行说明。图3A是主机械手MR的侧视图，图3B是主机械手MR的俯视图。
如图3A以及图3B所示，主机械手MR具有基座部21，并设置有相对基座部21能升降并能转动的升降转动部22。在升降转动部22上经由多关节型臂AM1而连接着手部MRH1，经由多关节型臂AM2而连接着手部MRH2。
升降转动部22通过在基座部21内设置的升降驱动机构25而在上下方向升降，并且通过在基座部21内设置的转动驱动机构26而围绕铅垂轴转动。多关节型臂AM1、AM2分别被未图示的驱动机构独立地驱动，而使手部MRH1、MRH2分别保持为一定姿势并在水平方向上进退。手部MRH1、MRH2分别相对升降转动部22设置在一定高度上，手部MRH1相比MRH2位于更上方。手部MRH1和手部MRH2的高度差M1(图3A)被维持为恒定。
手部MRH1、MRH2具有相互相同的形状，分别形成为近似U字形状。手部MRH1具有沿其进退方向延伸的两个爪部H11，手部MRH2具有沿其进退方向延伸的两个爪部H12。此外，在手部MRH1、MRH2上分别设有多个支承销23。在本实施方式中，沿在手部MRH1、MRH2的上表面上装载的基板W的外周大致均等地分别安装有4个支承销23。通过该4个支承销23保持基板W的向下面的周边部以及外周端部。
在此，参照图1A、图1B以及图2对本实施方式的主机械手MR的动作顺序进行说明。
首先，主机械手MR通过手部MRH2从基板装载部PASS2接收未处理的基板W。接着，主机械手MR通过手部MRH1从表面清洗单元SS中的任一个搬出表面清洗处理后的基板W，将在手部MRH2上保持的基板W搬入该表面清洗单元SS。然后，主机械手MR通过手部MRH2从反转单元RT1将背面朝上的基板W搬出，并将在手部MRH1上保持的表面朝上的基板W搬入反转单元RT1。
接着，主机械手MR通过手部MRH1从背面清洗单元SSR中的任一个搬出背面清洗处理后的基板W，将在手部MRH2上保持的基板W搬入该背面清洗单元SSR。然后，主机械手MR通过手部MRH2从反转单元RT2将表面朝上的基板W搬出，并将在手部MRH1上保持的背面朝上的基板W搬入反转单元RT2。然后，主机械手MR将手部MRH2保持的基板W装载在基板装载部PASS1上，接着通过手部MRH2从基板装载部PASS2接收未处理的基板W。主机械手MR连续地进行这样一系列动作。
(1-4)反转单元的详细结构
接着，说明反转单元RT1、RT2的详细结构。反转单元RT1、RT2相互具有相同的结构。图4A为反转单元RT1、RT2的侧视图。图4B是反转单元RT1、RT2的立体图。
如图4A所示，反转单元RT1、RT2包含支承板31、固定板32、一对直线导轨33a、33b、一对支承构件35a、35b、一对汽缸37a、37b、第一可动板36a、第二可动板36b以及旋转式促动器(rotary actuator)38。
支承板31以沿上下方向延伸的方式设置，并安装有固定板32，该固定板32从支承板31的一面的中央部沿水平方向延伸。在固定板32一面侧的支承板31的区域，设置有沿垂直于固定板32的方向延伸的直线导轨33a。此外，在固定板32的另一面侧的支承板31的区域，设置有沿垂直于固定板32的方向延伸的直线导轨33b。直线导轨33a、33b相对固定板32相互对称地设置。
在固定板32的一面侧，以沿平行于固定板32的方向延伸的方式设置有支承构件35a。支承构件35a经由连接构件34a以能够滑动的方式安装在直线导轨33a上。在支承构件35a上连接有汽缸37a，支承构件35a通过该汽缸37a沿直线导轨33a升降。此时，支承构件35a维持一定的姿势并沿垂直于固定板32的方向移动。此外，在支承构件35a上以与固定板32的一面相对向的方式安装有第一可动板36a。
在固定板32的另一面侧，以沿平行于固定板32的方向延伸的方式设置有支承构件35b。支承构件35b经由连接构件34b以能够滑动的方式安装在直线导轨33b上。在支承构件35b上连接有汽缸37b，支承构件35b通过该汽缸37b沿直线导轨33b升降。此时，支承构件35b维持一定的姿势并沿垂直于固定板32的方向移动。此外，在支承构件35b上以与固定板32的另一面相对向的方式安装有第二可动板36b。
在本实施方式中，第一可动板36a以及第二可动板36b在距离固定板32最远的状态下，第一可动板36a与固定板32之间的距离M2以及第二可动板36b与固定板32之间的距离M3被设定为与图3A所示的主机械手MR的手部MRH1和手部MRH2的高度差M1大致相等。
旋转式促动器38使支承板31围绕水平轴HA旋转。由此，与支承板31连接的第一可动板36a、第二可动板36b以及固定板32围绕水平轴HA旋转。
如图4B所示，第一可动板36a、固定板32以及第二可动板36b相互具有近似相同的形状。
第一可动板36a具有：沿支承构件35a延伸的中央支承部361a；以及在中央支承部361a的两侧且平行于中央支承部361a延伸的侧边部362a、363a。侧边部362a、363a相对中央支承部361a相互对称地设置。中央支承部361a以及侧边部362a、363a在支承板31(图4A)侧的一端部相互连接。由此，第一可动板36a形成为近似E字状，在中央支承部361a与侧边部362a、363a之间形成条纹状的切口区域。
固定板32具有与第一可动板36a的中央支承部361a以及侧边部362a、363a相当的中央支承部321以及侧边部322、323，并且它们在支承板31侧的一端部相互连接在一起。由此，固定板32形成为近似E字状，在中央支承部321与侧边部322、323之间形成条纹状的切口区域。
第二可动板36b具有：与第一可动板36a的中央支承部361a以及侧边部362a、363a相当的中央支承部361b以及侧边部362b、363b，并且它们在支承板31侧的一端部相互连接在一起。由此，第二可动板36b形成为近似E字状，在中央支承部361a与侧边部362b、363b之间形成条纹状的切口区域。
此外，如图4A所示，在与第一可动板36a相对向的固定板32的一面上设置有多个支承销39a，在其另一面上设置有多个支承销39b。此外，在与固定板32相对向的第一可动板36a的一面上设置有多个支承销39c，与固定板32相对向的第二可动板36b的一面上设置有多个支承销39d。
在本实施方式中，支承销39a、支承销39b、支承销39c、支承销39d各设置有6根。这些支承销39a、39b、39c、39d以沿着被搬入反转单元RT1、RT2的基板W的外周的方式配置。此外，支承销39a、39b、39c、39d相互具有相同的长度。因此，在第一可动板36a以及第二可动板36b在距离固定板32最远的状态下，支承销39a的前端与支承销39d的前端之间的距离以及支承销39b与支承销39c之间的距离被设定为与图3所示的主机械手MR的手部MRH1和手部MRH2的高度差M1大致相等。
另外，第一可动板36a与固定板32之间的距离M2以及第二可动板36b与固定板32之间的距离M3也可以进行适当变更。但是，在第一可动板36a以及第二可动板36b距离固定板32最远的状态下，支承销39c与支承销39d之间的距离被设定为大于手部MRH1和手部MRH2的高度差M1。
(1-5)反转单元的动作
接着，说明反转单元RT1、RT2的动作。图5A～图7I是用于说明反转单元RT1、RT2的动作的图。另外，如上所述，将基板W搬入反转单元RT1、RT2通过主机械手MR的手部MRH1来进行，从反转单元RT1、RT2搬出基板W通过主机械手MR的手部MRH2来进行。
如图5A所示，在第一可动板36a、固定板32以及第二可动板36b被维持在水平姿势的状态下，保持着基板W的主机械手MR的手部MRH1前进到第一可动板36a和固定板32之间。接着，如图5B所示，使手部MRH1下降。此时，如图5C所示，手部MRH1的爪部H11通过固定板32的中央支承部321与侧边部322、323之间的切口区域而下降。由此，被手部MRH1保持的基板W装载在固定板32的支承销39a上。
另外，在反转单元RT1中，表面朝上的基板W被装载在支承销39a上，而在反转单元RT2中，背面朝上的基板W被装载在支承销39a上。
接着，如图6D所示，支承构件35a通过汽缸37a(图4A)而下降。由此，第一可动板36a下降，第一可动板36a与固定板32之间的分离距离变短。第一可动板36a下降给定距离之后，基板W的周边部以及外周端部由固定板32的支承销39a和第一可动板36a的支承销39c保持。在该状态下，如图6E所示，第一可动板36a、固定板32以及第二可动板36b通过旋转式促动器38一体地围绕水平轴HA旋转180度。由此，由支承销39a和支承销39c保持的基板W被反转。此时，在反转单元RT1中，基板W的背面朝上，在反转单元RT2中基板W的表面朝上。
接着，如图6F所示，支承构件35a通过汽缸37a而下降。由此，第一可动板36a下降，第一可动板36a与固定板32之间的分离距离变长。因此，基板W成为被第一可动板36a的支承销39c支承的状态。
在该状态下，如图7G所示，主机械手MR的手部MRH2向第一可动板36a的下方前进。接着，如图7H所示，使手部MRH2上升。此时，如图7I所示，手部MRH2的爪部H12通过第一可动板36a的中央支承部361a和侧边部362a、363a之间的切口区域而上升。由此，基板W被手部MRH2接收。其后，手部MRH2从反转单元RT1、RT2退出，将基板搬出反转单元RT1、RT2。
另外，在图5A～图7I中示出了如下情况，即在第一可动板36a位于固定板32的上方的状态搬入基板W，第二可动板36b位于固定板32的上方的状态搬出基板W。但是，如后面所述，在第二可动板36b位于固定板32的上方的状态下搬出基板W之后，在第二可动板36b位于固定板32的上方的状态下搬入基板W，在第一可动板36a位于固定板32的上方的状态搬出基板W。
此时，第二支承构件35b通过汽缸37b而下降，由此，基板被第二可动板36b的支承销39d和固定板32的支承销39b被保持。并且，在该状态下，通过旋转式促动器38使第一可动板36a、固定板32以及第二可动板36b反转，从而基板W被反转。其后，在汽缸37b的作用下，使第二支承构件35b下降，由此，处于基板W被支承销39d支承的状态，从而通过手部MRH2将基板W从支承销39d上搬出。
(1-6)利用主机械手搬入搬出基板
接下来，说明在从反转单元RT1、RT2搬出基板W到将新的基板W搬入反转单元RT1、RT2为止的期间的主机械手MR的动作。
图8A～图8D是用于说明由主机械手MR搬入搬出基板W的动作的图。如上所述，主机械手MR通过手部MRH2从反转单元RT1、RT2搬出反转后的基板W，然后通过手部MRH1将反转前的基板W搬入反转单元RT1、RT2。因此，在即将把基板W搬入或者搬出反转单元RT1、RT2之前，如图8A所示，主机械手MR的手部MRH1处于保持反转前的基板W的状态，手部MRH2处于不保持基板W的状态。
如图8B所示，手部MRH2在前进的同时进行上升，由此由手部MRH2接收支承销39c上的基板W。此时，手部MRH1与手部MRH2之间的高度差被维持为一定，因此伴随手部MRH2的上升，手部MRH1也上升。
接着，如图8C所示，在保持手部MRH1、MRH2的高度的状态下，使手部MRH2后退，同时使手部MRH1前进。在此，在本实施方式中，第一可动板36a和固定板32之间的距离M2(图4A)以及第二可动板36b和固定板32之间的距离M3(图4A)被设定为与手部MRH1和手部MRH2的高度差M1大致相等。因此，在手部MRH2处于位于第一可动板36a和固定板32之间这样的高度时，手部MRH1处于位于第二可动板36b与固定板32之间这样的高度。因此，手部MRH1通过前进而在第二可动板36b与固定板32之间移动。
接着，如图8D所示，使手部MRH1在下降的同时进行后退。由此，基板W被装载在支承销39b上。此时，伴随着手部MRH1下降，手部MRH2也下降。
这样，由主机械手MR进行向反转单元RT1、RT2搬入基板及从反转单元RT1、RT2搬出基板W的动作。其后，反转单元RT1、RT2使新搬入的基板W反转。即，基板相对反转单元RT1、RT2的搬入搬出，在第一可动板36a位于固定板32的上方的状态和第二可动板36b位于固定板32的上方的状态之间交互地进行。
(1-7)表面清洗单元以及背面清洗单元的详细结构
接着，说明如图1所示的表面清洗单元SS以及背面清洗单元SSR。图9是用于说明表面清洗单元SS的结构的图，图10是用于说明背面清洗单元SSR的结构的图。在图9所示的表面清洗单元SS以及图10所示的背面清洗单元SSR中，进行利用清洗刷的基板W的清洗处理(下面称为擦洗处理)。
首先，利用图9说明表面清洗单元SS的详细结构。如图9所示，表面清洗单元SS具备旋转卡盘61，该旋转卡盘61将基板W保持为水平，并使基板W围绕通过基板W的中心的铅垂轴旋转。旋转卡盘61被固定在通过卡盘旋转驱动机构62而旋转的旋转轴63的上端。
如上所述，表面朝上的基板W被搬入表面清洗单元SS中。在进行擦洗处理以及冲洗处理时，通过旋转卡盘61吸附保持基板W的背面。
在旋转卡盘61的外方设置有马达64。在马达64上连接有转动轴65。在转动轴65上，臂66沿水平方向延伸，并在臂66的前端设置有近似圆筒形状的刷清洗件70。另外，旋转卡盘61的上方设置有喷液喷嘴71，该喷液喷嘴71用于向由旋转卡盘61保持的基板W的表面供给清洗液或冲洗液(纯水)。在喷液喷嘴71上连接有供给管72，通过该供给管72而有选择地向喷液喷嘴71供给清洗液或冲洗液。
在擦洗处理时，马达64使转动轴65旋转。由此，臂66在水平面内转动，刷清洗件70以转动轴65为中心在基板W的外方位置和基板W的中心位置之间移动。在马达64上设置有未图示的升降机构。升降机构通过使转动轴65上升或下降，从而使刷清洗件70在基板W的外方位置和基板W的中心上方位置下降或上升。
在擦洗处理开始时，通过旋转卡盘61旋转表面朝上状态的基板W。此外，通过供给管72将清洗液或者冲洗液供给到喷液喷嘴71。由此，向旋转的基板W的表面供给清洗液或者冲洗液。在此状态，通过转动轴65以及臂66摇动以及升降刷清洗件70。由此，对基板W的表面实施擦洗处理。另外，由于在表面清洗单元SS中使用吸附式的旋转卡盘61，所以也可以同时清洗基板W的周边部以及外周端部。
接着，利用图10，说明背面清洗单元SSR与图9所示的表面清洗单元SS的不同点。如图10所示，背面清洗单元SSR具备保持基板W的外周端部的机械卡盘式的旋转卡盘81，来替代通过真空吸附来保持基板W的向下面的旋转卡盘61。在实施擦洗处理以及冲洗处理时，在基板W被旋转卡盘61上的旋转式保持销82保持其向下面的周边部以及外周端部的状态下，使用基板W维持水平姿势的同时进行旋转。
如上所示，背面朝上状态的基板W被搬入背面清洗单元SSR。因此，基板W在背面朝上的状态下通过旋转卡盘81来保持。并且，对基板W的背面实施上述同样的擦洗处理。
(1-8)第一实施方式的效果
在第一实施方式中，在使主机械手MR的手部MRH2后退，而从反转单元RT1、RT2搬出反转后的基板W时，不用使主机械手MR的手部MRH1沿上下方向移动，而在原高度使其前进，由此将反转前的基板W搬入反转单元RT1、RT2。
此时，由于没有必要在从反转单元RT1、RT2搬出基板W之后到将基板W搬入反转单元RT1、RT2期间调整手部MRH1、MRH2的高度，因此能够迅速将基板W搬入或搬出反转单元RT1、RT2。由此，能够提高在基板处理装置100中的生产率。
此外，在第一实施方式中，由于反转单元RT1、RT2的第一可动板36a、第二可动板36b以及固定板32上形成有条纹状的切口区域，所以主机械手MR的手部MRH1、MRH2通过该切口区域而可以沿上下方向移动。
此时，即使支承销39a、39b、39c、39d的长度变短，通过使手部MRH1、MRH2通过该切口区域下降，手部MRH1、MRH2不接触第一可动板36a、第二可动板36b以及固定板32就可以将基板W装载在支承销39a、39b、39c、39d上。此外，即使支承销39a、39b、39c、39d的长度变短，通过使手部MRH1、MRH2通过该切口区域上升，手部MRH1、MRH2不接触第一可动板36a、第二可动板36b以及固定板32就可以接受被装载在支承销39a、39b、39c、39d上的基板W。由此，可以使反转单元RT1、RT2小型化。
此外，在第一实施方式中，由反转单元RT1保持的基板W在位于水平轴HA的上方的位置的状态下成为表面朝上的状态，在位于水平轴HA的下方的位置的状态下成为背面朝上的状态。此外，由反转单元RT2保持的基板W在位于水平轴HA的上方的位置的状态下成为背面朝上的状态，在位于水平轴HA的下方的位置的状态下成为表面朝上的状态。
为此，通过掌握基板W是位于水平轴HA上方的位置还是位于水平轴HA下方，而可以判断该基板W的哪个面朝上。因此，即使基板处理装置100的动作因例如停电等而停止，也可以瞬时判断被保持在反转单元RT1、RT2上的基板W的哪个面朝上。
(2)第二实施方式
下面，说明本发明的第二实施方式的基板处理装置与第一实施方式的基板处理装置的不同点。
(2-1)基板处理装置的结构
图11A是本发明的第二实施方式的基板处理装置的俯视图，图11B是示意地表示图11A的B-B线剖面的图。如图11A以及图11B所示，第二实施方式的基板处理装置100a分别包含有反转单元RT1、RT2以及基板装载部PASS1、PASS2各两个。
(2-2)主机械手的动作
接着，参照图11A、图11B说明第二实施方式的主机械手MR的动作概要。主机械手MR利用手部MRH1、MRH2分别从基板装载部PASS1接受未处理的基板W。接着，主机械手MR将在手部MRH1、MRH2上保持的两张基板W按顺序搬入到两个表面清洗单元SS中。接着，主机械手MR通过手部MRH1、MRH2从两个表面清洗单元SS中按顺序搬出表面清洗处理后的两张基板W。
然后，主机械手MR将在手部MRH1、MRH2上保持的两张基板W搬入到一个反转单元RT1中。接着，主机械手MR通过手部MRH1、MRH2从另一个反转单元RT1上搬出背面朝上的两张基板W。然后，主机械手MR将在手部MRH1、MRH2上保持的两张基板W按顺序搬入到两个背面清洗单元SSR中。接着，主机械手MR通过手部MRH1、MRH2从两个背面清洗单元SSR中按顺序搬出背面清洗处理后的两张基板W。
接着，主机械手MR将在手部MRH1、MRH2上保持的两张基板W搬入到一个反转单元RT2中。接着，主机械手MR通过手部MRH1、MRH2从另一个反转单元RT2中搬出表面朝上的两张基板W。然后，主机械手MR将在手部MRH1、MRH2上保持的两张基板W分别装载在两个基板装载部PASS2上。主机械手MR连续地进行这样一系列的动作。
(2-3)反转单元的动作
接着，说明反转单元RT1、RT2的动作。图12A～图13G是用于说明反转单元RT1、RT2的动作的图。如图12A所示，保持着基板W的手部MRH1、MRH2同时前进到第一可动板36a和固定板32之间以及第二可动板36b和固定板32之间的。并且，如图12B所示，手部MRH1、MRH2在同时下降并后退。由此，基板W被装载在支承销39a、39d上。此时，在反转单元RT1中，表面朝上的基板W被装载在支承销39a、39d上，在反转单元RT2中，背面朝上的基板W被装载在支承销39a、39d上。
接着，如图12C所示，支承构件35a在汽缸37a(图4A)的作用下下降，并且，支承构件35b在汽缸37b(图4A)的作用下上升。由此，一个基板W由第一可动板36a的支承销39c和固定板32的支承销39a保持，另一个基板W由第二可动板36b的支承销39d和固定板32的支承销39b保持。
在该状态下，如图12D所示，第一可动板36a、固定板32以及第二可动板36b在旋转式促动器38的作用下一体地围绕水平轴HA旋转180度。由此，由支承销39a、39c保持的基板W以及由支承销39b、39d保持的基板W被反转。此时，在反转单元RT1中基板W的背面朝上，在反转单元RT2中基板W的表面朝上。
接着，如图13E所示，支承构件35a在汽缸37a的作用下下降，并且，支承构件35b在汽缸37b的作用下上升。由此，第一可动板36a下降，并且第二可动板36b上升。因此，一个基板W成为被第一可动板36a的支承销39c支承的状态，而另一个基板W成为由固定板32的支承销39b支承的状态。
在该状态下，如图13F所示，手部MRH1、MRH2前进并上升到被支承销39b支承的基板W的下方以及被支承销39c支承的基板W的下方。由此，被支承销39b支承的基板W由手部MRH1接受，被支承销39c支承的基板W由手部MRH2接受。其后，如图13G所示，手部MRH1、MRH2同时后退，由此将两张基板W搬出反转单元RT1、RT2。
(2-4)第二实施方式的效果
在第二实施方式中，利用主机械手MR的手部MRH1、MRH2将两张基板W同时搬入到反转单元RT1、RT2，然后反转单元RT1、RT2使两张基板W同时反转。其后，利用主机械手MR的手部MRH1、MRH2将两张基板W同时搬出反转单元RT1、RT2。
在该情况下，能够迅速将基板W搬入或搬出反转单元RT1、RT2，并且可以高效地反转多张基板W。由此，能够提高在基板处理装置100a中的生产率。
(3)第三实施方式
下面，说明本发明的第三实施方式的基板处理装置与第一实施方式的基板处理装置的不同点。第三实施方式的基板处理装置中，替代反转单元RT1、RT2而具备下述的反转单元RT1a、RT2a。
图14A是反转单元RT1a、RT2a的侧视图，图14B是反转单元RT1a、RT2a的立体图。利用图14A以及图14B说明反转单元RT1a、RT2a与反转单元RT1、RT2的不同点。另外，反转单元RT1a、RT2a相互具有相同的结构。
如图14A以及图14B所示，反转单元RT1a、RT2a包含第三可动板41a、第四可动板41b、一对直线导轨42a、42b、以及一对汽缸43a、43b来替代固定板32。
第三可动板41a以与第一可动板36a相对向的方式设置，并经由连接构件44a以能够滑动的方式安装在直线导轨42a上。第四可动板41b以与第二可动板36b相对向的方式设置，并经由连接构件44b以能够滑动的方式安装在直线导轨42b上。第三可动板41a以及第四可动板41b分别具有与第一可动板36a以及第二可动板36b相同的形状。
直线导轨42a、42b分别沿垂直于第三可动板41a以及第四可动板41b的方向延伸。第三可动板41a在汽缸43a的作用下沿直线导轨42a升降，第四可动板41b在汽缸43b的作用下沿直线导轨42b升降。此外，在第三可动板41a的与第一可动板36a相对向的一面上设置有多个支承销39a，在第四可动板41b的与第二可动板36b相对向的一面上设置有多个支承销39b。
另外，第一可动板36a、第二可动板36b、第三可动板41a以及第四可动板41b各自之间的分离距离，在第三可动板41a与第二可动板36b离开最远且第四可动板41b与第一可动板36a离开最远的状态下，能够在支承销39c的前端与支承销39d的前端之间的距离大于手部MRH1和手部MRH2之间的高度差M1、并且支承销39a的前端与支承销39b的前端之间的距离小于手部MRH1和手部MRH2之间的高度差M1的范围内进行任意地设定。
在反转单元RT1a、RT2a中，保持被搬入第一可动板36a和第三可动板41a之间的基板W时，通过汽缸37a、43a而使第一可动板36a与第三可动板41a以相互接近的方式进行升降。由此，由支承销39a、39c来保持基板W。此外，在解除支承销39a、39c对基板W的保持时，通过汽缸37a、43a使第一可动板36a与第三可动板41a以相互远离的方式进行升降。
此外，在保持被搬入第二可动板36b和第四可动板41b之间的基板W时，通过汽缸37b、43b使第二可动板36b与第四可动板41b以相互接近的方式进行升降。由此，由支承销39b、39d来保持基板W。此外，在解除支承销39b、39d对基板W的保持时，通过汽缸37b、43b使第二可动板36b与第四可动板41b以相互远离的方式进行升降。
在第三实施方式中，也与第一实施方式同样地，使主机械手MR的手部MRH2后退而从反转单元RT1a、RT2a搬出反转后的基板W时，不必使主机械手MR的手部MRH1上下移动，而在原来的高度使其前进，由此能够将反转前的基板W搬入反转单元RT1a、RT2a中。
由此，由于没有必要在从将基板W从反转单元RT1a、RT2a搬出后到将基板W搬入反转单元RT1a、RT2a的期间内调整手部MRH1、MRH2的高度，因此能够迅速地进行将基板W搬入或搬出反转单元RT1a、RT2a的操作。由此，能够提高基板处理装置100中的生产率。
此外，在第三实施方式中，由于可以分别独立地驱动第一可动板36a、第二可动板36b、第三可动板41a以及第四可动板41b，所以能够任意地调整由支承销39a、39c保持的基板W的保持位置与由支承销39b、39d保持的基板W的保持位置之间的间隔。
另外，在上述的第二实施方式中，可以采用反转单元RT1a、RT2a来替代反转单元RT1、RT2。
(4)其他的实施方式
在上述第一～第三实施方式中，在基板W的表面清洗处理后进行基板W的背面清洗处理，但是不仅限于此，也可以在基板W的背面清洗处理后进行基板W的表面清洗处理。此时，在对基板W实施背面清洗处理之前，该基板W通过反转单元RT1(或者反转单元RT1a)以背面朝上的方式被反转。并且，在对基板W实施了背面清洗处理之后，该基板W通过反转单元RT2(或者反转单元RT2a)以表面朝上的方式被反转。然后，对基板W实施表面清洗处理。
此外，在上述第一～第三实施方式中，在表面清洗单元SS以及背面清洗单元SSR中，使用清洗刷来清洗基板W的表面以及背面，但是不仅限于此，还可以使用药液来清洗基板W的表面以及背面。
此外，在上述第一～第三实施方式中，通过反转单元RT1(或者反转单元RT1a)来反转背面清洗处理前的基板W，通过反转单元RT2(或者反转单元RT2a)来反转背面清洗处理后的基板W。但不仅限于此，也可以通过反转单元RT2(或者反转单元RT2a)来反转背面清洗处理前的基板W，通过反转单元RT1(或者反转单元RT1a)来反转背面清洗处理后的基板W。
此外，在上述第一以及第三实施方式中，通过主机械手MR的手部MRH1将基板W搬入反转单元RT1、RT2(或者反转单元RT1a、RT2a)，通过主机械手MR的手部MRH2将基板W从反转单元RT1、RT2(或者反转单元RT1a、RT2a)搬出，但也可以通过主机械手MR的手部MRH2将基板W搬入反转单元RT1、RT2(或者反转单元RT1a、RT2a)，通过主机械手MR的手部MRH1将基板W从反转单元RT1、RT2(或者反转单元RT1a、RT2a)搬出。
此时，在反转单元RT1、RT2(反转单元RT1a、RT2a)中，反转前的基板W成为保持在水平轴HA下方的状态，反转后的基板W成为保持在水平轴HA上方的状态。
此外，在上述第一以及第三实施方式中，主机械手MR从反转单元RT1、RT2(或者反转单元RT1a、RT2a)搬出反转后的基板W之后，将反转前的基板W搬入反转单元RT1、RT2(或者反转单元RT1a、RT2a)，但是并不仅限于此，也可以将反转前的基板W搬入反转单元RT1、RT2(或者反转单元RT1a、RT2a)之后，从反转单元RT1、RT2(或者反转单元RT1a、RT2a)搬出反转后的基板W。
此外，在上述第一～第三实施方式中，通过反转单元RT1(或者反转单元RT1a)来反转背面清洗处理前的基板W，通过反转单元RT2(或者反转单元RT2a)来反转背面清洗处理后的基板W，但是也可以通过共用的反转单元来反转背面清洗处理前的基板W以及背面清洗处理后的基板W。
此外，在上述第一以及第二实施方式中，支承销39a、39b、39c、39d相互具有相同的长度，但是在第一可动板36a以及第二可动板36b离开固定板32最远的状态下，能够在支承销39c的前端与支承销39d的前端之间的距离大于手部MRH1和手部MRH2之间的高度差M1、并且支承销39a的前端与支承销39b的前端之间的距离小于手部MRH1和手部MRH2之间的高度差M1的范围内，对各支承销39a、39b、39c、39d的长度进行任意地设定。
同样，在上述第三实施方式中，在第三可动板41a和第二可动板36b离开最远、并且第四可动板41b和第一可动板36a离开最远的状态下，能够在支承销39c的前端与支承销39d的前端之间的距离大于手部MRH1和手部MRH2之间的高度差M1、并且支承销39a的前端与支承销39b的前端之间的距离小于手部MRH1和手部MRH2之间的高度差M1的范围内，对各支承销39a、39b、39c、39d的长度进行任意地设定。
此外，在上述第一实施方式中，固定板32被固定在支承板31上，并且第一可动板36a以及第二可动板36b以相对支承板31能够自由移动的方式设置，但也可以是第一可动板36a以及第二可动板36b被固定在支承板31上，固定板32以相对支承板31能够自由移动的方式设置。
此外，在上述第一～第三实施方式中，作为分度器机械手IR以及主机械手MR，使用通过关节运动来直线地进行手部的进退动作的多关节型搬运机械手，但是不仅限于此，还可以采用相对基板W使手部直线滑动而进行进退动作的直动型搬运机械手。
此外，分度器机械手IR以及主机械手MR的动作顺序也可以根据反转单元RT1、RT2、表面清洗单元SS以及背面清洗单元SSR的处理速度等进行适当变更。
此外，反转单元RT1、RT2(或者反转单元RT1a、RT2a)、表面清洗单元SS、背面清洗单元SSR以及基板装载部PASS1、PASS2的个数也可以根据它们的处理速度等进行适当变更。
(5)本发明的各组成要素与实施方式的各要素的对应
下面，说明本发明的各组成要素与实施方式的各要素的对应的例子，但是本发明并不仅限于下述的例子。
在上述的实施方式中，反转单元RT1、RT2、RT1a、RT2a是反转装置的例子，固定板32、第一可动板36a、支承销39a、39c、汽缸37a、43a以及第三可动板41a是第一保持机构的例子，固定板32、第二可动板36b、支承销39b、39d、汽缸37b、43b以及第四可动板41b是第二保持机构的例子，支承板31是支承构件的例子，旋转式促动器38是旋转装置的例子，固定板32、第三可动板41a以及第四可动板41b是共用的反转保持构件的例子，第一可动板36a是第一反转保持构件的例子，第二可动板36b是第二反转保持构件的例子，支承销39a是第一支承部的例子，支承销39c是第二支承部的例子，支承销39b是第三支承部的例子，支承销39d是第四支承部的例子，汽缸37a、43a是第一驱动机构的例子，汽缸37b、43b是第二驱动机构的例子。
此外，主机械手MR是搬运装置的例子，手部MRH1是第一搬运保持部的例子，手部MRH2是第二搬运保持部的例子，爪部H11、H12是保持部分的例子，第三可动板41a是第三反转保持构件的例子，第四可动板41b是第四反转保持构件的例子，背面清洗单元SSR是第一清洗处理部的例子，表面清洗单元SS是第二清洗处理部的例子。
作为本发明的各构成要素，也可以使用具有本发明所述的构成或者功能的其他各种要素。

Claims (14)

1.一种反转装置，其特征在于，包括：
第一保持机构，其能够将基板以垂直于第一轴的状态进行保持；
第二保持机构，其能够将基板以垂直于所述第一轴的状态进行保持；
支承构件，其用于支承所述第一以及第二保持机构，并使所述第一以及第二保持机构在所述第一轴的方向上重叠；
旋转装置，其使所述支承构件与所述第一以及第二保持机构一起围绕与所述第一轴垂直的第二轴一体地旋转，
所述第一保持机构构成为相对所述第二保持机构独立地保持基板，所述第二保持机构构成为相对所述第一保持机构独立地保持基板。
2.如权利要求1所述的反转装置，其特征在于，
所述第一以及第二保持机构包括具有与所述第一轴垂直的一面以及另一面的共用的反转保持构件，
所述第一保持机构包括：
多个第一支承部，其设置在所述共用的反转保持构件的所述一面上，用于支承基板的外周部；
第一反转保持构件，其以与所述共用的反转保持构件的所述一面相对向的方式设置；
多个第二支承部，其设置在所述第一反转保持构件的与所述共用的反转保持构件相对向的面上，用于支承基板的外周部；
第一驱动机构，其使所述第一反转保持构件以及所述共用的反转保持构件中的至少一个移动，以便有选择地转移到所述第一反转保持构件和所述共用的反转保持构件在所述第一轴的方向上相互离开的状态、或所述第一反转保持构件和所述共用的反转保持构件相互接近的状态，
所述第二保持机构包括：
多个第三支承部，其设置在所述共用的反转保持构件的所述另一面上，用于支承基板的外周部；
第二反转保持构件，其以与所述共用的反转保持构件的所述另一面相对向的方式设置；
多个第四支承部，其设置在所述第二反转保持构件的与所述共用的反转保持构件相对向的面上，用于支承基板的外周部；
第二驱动机构，其使所述第二反转保持构件以及所述共用的反转保持构件中的至少一个移动，以便有选择地转移到所述第二反转保持构件和所述共用的反转保持构件在所述第一轴的方向上相互离开的状态、或所述第二反转保持构件和所述共用的反转保持构件相互接近的状态。
3.如权利要求2所述的反转装置，其特征在于，
所述第一以及第二保持机构分别保持由搬运装置的第一以及第二搬运保持部搬入的基板，
所述第一保持机构对基板的保持位置和所述第二保持机构对基板的保持位置之间的距离，等于所述搬运装置的所述第一搬运保持部对基板的保持位置和所述第二搬运保持部对基板的保持位置之间的距离。
4.如权利要求3所述的反转装置，其特征在于，
所述共用的反转保持构件、所述第一反转保持构件以及所述第二反转保持构件具有所述搬运装置的所述第一以及第二保持部沿所述第一轴的方向能够通过的切口区域。
5.一种基板处理装置，对具有表面和背面的基板进行处理，其特征在于，该基板处理装置具有：
反转装置，其使基板的所述表面和所述背面反转，该反转装置包括：第一保持机构，其能够将基板以垂直于第一轴的状态进行保持；第二保持机构，其能够将基板以垂直于所述第一轴的状态进行保持；支承构件，其支承所述第一以及第二保持机构，并使所述第一以及第二保持机构在所述第一轴的方向上重叠；旋转装置，其使所述支承构件与所述第一以及第二保持机构一起围绕与所述第一轴垂直的第二轴一体地旋转；
搬运装置，其具有第一以及第二搬运保持部，对所述反转装置搬入或搬出基板，
所述第一保持机构构成为相对所述第二保持机构独立地保持基板，所述第二保持机构构成为相对所述第一保持机构独立地保持基板。
6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
所述第一保持机构对基板的保持位置和所述第二保持机构对基板的保持位置之间的距离，等于所述搬运装置的所述第一搬运保持部对基板的保持位置和所述第二搬运保持部对基板的保持位置之间的距离。
7.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
所述第一以及第二保持机构包括具有与所述第一轴垂直的一面以及另一面的共用的反转保持构件，
所述第一保持机构包括：
多个第一支承部，其设置在所述共用的反转保持构件的所述一面上，用于支承基板的外周部；
第一反转保持构件，其以与所述共用的反转保持构件的所述一面相对向的方式设置；
多个第二支承部，其设置在所述第一反转保持构件的与所述共用的反转保持构件相对向的面上，用于支承基板的外周部；
第一驱动机构，其使所述第一反转保持构件以及所述共用的反转保持构件中的至少一个移动，以便有选择地转移到所述第一反转保持构件和所述共用的反转保持构件在所述第一轴的方向上相互离开的状态、或所述第一反转保持构件和所述共用的反转保持构件相互接近的状态，
所述第二保持机构包括：
多个第三支承部，其设置在所述共用的反转保持构件的所述另一面上，用于支承基板的外周部；
第二反转保持构件，其以与所述共用的反转保持构件的所述另一面相对向的方式设置；
多个第四支承部，其设置在所述第二反转保持构件的与所述共用的反转保持构件相对向的面上，用于支承基板的外周部；
第二驱动机构，其使所述第二反转保持构件以及所述共用的反转保持构件中的至少一个移动，以便有选择地转移到所述第二反转保持构件和所述共用的反转保持构件在所述第一轴的方向上相互离开的状态、或所述第二反转保持构件和所述共用的反转保持构件相互接近的状态。
8.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，
所述共用的反转保持构件、所述第一反转保持构件以及所述第二反转保持构件具有所述搬运装置的所述第一以及第二搬运保持部沿所述第一轴的方向能够通过的切口区域。
9.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，
所述搬运装置包括使所述第一以及第二搬运保持部进退的进退机构，
所述第一以及第二搬运保持部各自具有沿进退方向延伸的多个保持部分，
所述共用的反转保持构件、所述第一反转保持构件以及所述第二反转保持构件的切口区域包括所述第一以及第二搬运保持部的所述多个保持部分能够通过的多个切口部。
10.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，
所述多个第一支承部的前端和所述多个第四支承部的前端之间的距离以及所述多个第二支承部的前端和所述多个第三支承部的前端之间的距离，设定为与所述搬运装置的所述第一搬运保持部对基板的保持位置和所述第二搬运保持部对基板的保持位置之间的距离相等。
11.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，
所述共用的反转保持构件固定在所述支承构件上，
所述第一驱动机构使所述第一反转保持构件与所述共用的反转保持构件相对地移动，以便有选择地转移到所述第一反转保持构件和所述共用的反转保持构件相互离开的状态、或所述第一反转保持构件和所述共用的反转保持构件相互接近的状态，
所述第二驱动机构使所述第二反转保持构件与所述共用的反转保持构件相对地移动，以便有选择地转移到所述第二反转保持构件和所述共用的反转保持构件相互离开的状态、或所述第二反转保持构件和所述共用的反转保持构件相互接近的状态。
12.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，
所述共用的反转保持构件包括：
第三反转保持构件，其以与所述第一反转保持构件相对向的方式设置；
第四反转保持构件，其以与所述第二反转保持构件相对向的方式设置，
所述多个第一支承部设置在所述第三反转保持构件的与所述第一反转保持构件相对向的面上，
所述多个第三支承部设置在所述第四反转保持构件的与所述第二反转保持构件对向的面上，
第一驱动机构使所述第一反转保持构件以及所述第三反转保持构件中的至少一个移动，以便有选择地转移到所述第一反转保持构件和所述第三反转保持构件相互离开的状态、或所述第一反转保持构件和所述第三反转保持构件相互接近的状态，
第二驱动机构使所述第二反转保持构件以及所述第四反转保持构件中的至少一个移动，以便有选择地转移到所述第二反转保持构件和所述第四反转保持构件相互离开的状态、或所述第二反转保持构件和所述第四反转保持构件相互接近的状态。
13.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
该基板处理装置还包括清洗基板背面的第一清洗处理部，
所述搬运装置在所述反转装置和所述第一清洗处理部之间搬运基板。
14.如权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，
该基板处理装置还包括清洗基板表面的第二清洗处理部，
所述搬运装置在所述反转装置、所述第一清洗处理部以及所述第二清洗处理部之间搬运基板。
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