KR100934318B1 - 기판처리장치 - Google Patents

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KR100934318B1
KR100934318B1 KR1020070132047A KR20070132047A KR100934318B1 KR 100934318 B1 KR100934318 B1 KR 100934318B1 KR 1020070132047 A KR1020070132047 A KR 1020070132047A KR 20070132047 A KR20070132047 A KR 20070132047A KR 100934318 B1 KR100934318 B1 KR 100934318B1
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이치로 미츠요시
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다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤
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Abstract

반전유닛은, 고정판, 고정판의 일면에 대향하도록 설치된 제1가동판, 고정판의 다른 면에 대향하도록 설치된 제2가동판및 로터리 액츄에이터를 포함한다. 로터리 액츄에이터는, 제1가동판, 제2가동판및 고정판을 수평축의 주위에서 회전시킨다. 제1가동판과 고정판과의 사이의 거리 및 제2가동판과 고정판과의 사이의 거리는, 기판의 반출입을 실시하는 메인로봇의 2개의 핸드의 높이의 차이와 대략 같게 설정되어 있다.
반전유닛, 액츄에이터

Description

기판처리장치{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}
본 발명은, 기판에 처리를 행하는 기판처리장치에 관한 것이다.
종래, 반도체웨이퍼, 포토마스크용 유리기판, 액정표시장치용 유리기판, 광디스크용 유리기판 등의 기판에 여러가지의 처리를 실시하기 위해서, 기판처리장치가 이용되고 있다.
예를 들면, 기판의 이면에 세정처리를 실시하는 기판처리장치에는, 기판의 표면과 이면을 반전시키기 위한 기판반전장치가 설치된다. 예를 들면, 일본국 특허공개 2006－12880호 공보에는, 기판반전장치를 갖춘 기판처리장치가 기재되어 있다.
이러한 기판처리장치에서는, 기판의 이면에 세정처리를 실시하기 전에 기판반전장치에 의해 기판을 이면이 윗쪽을 향하도록 반전시킨다. 또한, 기판의 이면에 세정처리를 한 후에는, 기판반전장치에 의해 그 기판을 표면이 윗쪽을 향하도록 재차 반전시킨다.
기판반전장치로의 기판의 반입 및 기판반전장치로부터의 기판의 반출은, 통상, 반송로봇에 의해 행해진다. 반송로봇에는, 기판을 파지하기 위한 2개의 핸드가 상하로 겹쳐지도록 설치되어 있다. 예를 들면, 반송로봇이 아래의 핸드에서 반전 전의 기판을 파지한 상태에서, 기판반전장치로부터 위의 핸드로 반전 후의 기판을 반출하고, 아래의 핸드로 기판반전장치에 반전 전의 기판을 반입하는 경우에는, 다음의 동작을 한다. 우선, 위의 핸드가 기판반전장치의 높이에 위치하는 상태에서 기판반전장치내로 전진하여, 반전 후의 기판을 파지해 후퇴한다. 이어서, 아래의 핸드가 기판반전장치의 높이에 위치하도록 상하의 핸드가 상승한 후, 아래의 핸드가 기판반전장치내로 전진하여, 반전 전의 기판을 기판반전장치 내에 재치한다.
이와 같이, 한쪽의 핸드에 의해 기판반전장치로부터 반전 후의 기판을 반출한 후에 반전 전의 기판을 기판반전장치에 반입하기 위해서 상하의 핸드를 상하방향으로 이동시킬 필요가 있다. 따라서, 기판반전장치로부터의 기판의 반출 및 기판반전장치로의 기판의 반입에 일정한 시간을 필요로 한다. 그 결과, 기판처리장치에 있어서의 처리율의 향상을 방해할 수 있다.
본 발명의 목적은, 기판의 반입 및 반출을 신속히 실시하는 것이 가능한 반전장치 및 그것을 갖춘 기판처리장치를 제공하는 것이다.
(1) 본 발명의 한 특징에 따른 반전장치는, 기판을 제1축과 수직인 상태로 파지하는 제1파지기구와, 기판을 제1축과 수직인 상태로 파지하는 제2파지기구와, 제1 및 제2파지기구를 제1축의 방향과 겹쳐지도록 지지하는 지지부재(支持部材)와, 지지부재를 제1 및 제2파지기구와 함께 제1축과 대략 수직인 제2축의 주위에서 일체적으로 회전시키는 회전장치를 갖추는 것이다.
이 반전장치에 있어서는, 제1 및 제2파지기구의 적어도 한쪽에 의해 기판이 제1축과 수직인 상태로 파지된다. 그 상태에서, 회전장치에 의해 제1 및 제2파지기구가 제1축과 대략 수직인 제2축의 주위에서 일체적으로 회전된다. 그로써, 제1파지기구 또는 제2파지기구에 의해 파지된 기판이 반전된다.
2개의 반송파지부를 이용해 이 반전장치에 대한 기판의 반출입을 실시하는 경우, 2개의 반송파지부의 한쪽에 의해 제1 및 제2파지기구의 한쪽으로부터 반전 후의 기판을 반출하고, 2개의 반송파지부의 다른 쪽에 의해 제1 및 제2파지기구의 다른 쪽으로 반전 전의 기판을 반입할 수가 있다. 이 경우, 제1 및 제2파지기구는 제1축의 방향과 겹쳐지도록 지지되어 있다. 그 때문에, 2개의 반송파지부를 제1축과 평행한 방향으로 겹쳐지도록 배치함으로써, 2개의 반송파지부를 제1축과 평행한 방향으로 거의 이동시키지 않고 제1 및 제2파지기구로의 기판의 반출입이 가능해진다. 그로써, 반전장치에 대한 기판의 반출입을 신속히 실시하는 것이 가능해진다.
또한, 2개의 반송파지부를 제1축과 평행한 방향으로 겹쳐지도록 배치하는 것에 의하여, 2개의 반송파지부에 의해 2매의 기판을 제1 및 제2파지기구에 동시에 반입하는 것이 가능해짐과 동시에, 2개의 반송파지부에 의해 2매의 기판을 제1 및 제2파지기구로부터 동시에 반출하는 것이 가능해진다. 그로써, 반전장치에 대한 기판의 반출입을 신속히 실시하는 것이 가능해짐과 동시에, 복수의 기판을 효율적으로 반전시키는 것이 가능하게 된다.
(2) 제1 및 제2파지기구는, 제1축에 수직인 일면(一面) 및 다른 면을 가지는 공통의 반전파지부재를 포함하고, 제1파지기구는, 공통의 반전파지부재의 일면에 설치되어 기판의 바깥둘레부를 지지하는 복수의 제1지지부와, 공통의 반전파지부재의 일면에 대향하도록 설치된 제1반전파지부재와, 공통의 반전파지부재에 대향하는 제1반전파지부재의 면에 설치되어 기판의 바깥둘레부를 지지하는 복수의 제2지지부와, 제1반전파지부재와 공통의 반전파지부재가 제1축의 방향에 있어서 서로 이간(離間)한 상태와 제1반전파지부재와 공통의 반전파지부재가 서로 근접한 상태로 선택적으로 이행하도록 제1반전파지부재 및 공통의 반전파지부재의 적어도 한쪽을 이동시키는 제1구동기구를 포함하고, 제2파지기구는, 공통의 반전파지부재의 다른 면에 설치되어, 기판의 바깥둘레부를 지지하는 복수의 제3지지부와, 공통의 반전파지부재의 다른 면에 대향하도록 설치된 제2반전파지부재와, 공통의 반전파지부재에 대향하는 제2반전파지부재의 면에 설치되어 기판의 바깥둘레부를 지지하는 복수의 제4지지부와, 제2반전파지부재와 공통의 반전파지부재가 제1축의 방향에 있어서 서로 이간한 상태와 제2반전파지부재와 공통의 반전파지부재가 서로 근접한 상태로 선택적으로 이행하도록 제2반전파지부재 및 공통의 반전파지부재의 적어도 한쪽을 이동시키는 제2구동기구를 포함해도 좋다.
이 경우, 제1반전파지부재와 공통의 반전파지부재가 서로 이간한 상태로, 공통의 반전파지부재의 일면에 설치된 복수의 제1지지부와, 공통의 반전파지부재에 대향하는 제1반전파지부재의 면에 설치된 복수의 제2지지부와의 사이에 기판이 반입된다. 그 상태에서, 제1반전파지부재 및 공통의 반전파지부재가 서로 근접하도록, 제1구동기구에 의해 제1반전파지부재 및 공통의 반전파지부재의 적어도 한쪽이 이동된다. 그로써, 복수의 제1 및 제2지지부에 의해 기판의 바깥둘레부가 파지된다.
이 상태에서, 회전장치에 의해 제1반전파지부재, 제2반전파지부재 및 공통의 반전파지부재가 제2축의 주위에서 일체적으로 회전된다. 그로써, 제1반전파지부재 및 공통의 반전파지부재에 의해 파지된 기판이 반전된다.
또한, 제2반전파지부재와 공통의 반전파지부재가 서로 이간한 상태에서, 공통의 반전파지부재의 다른 면에 설치된 복수의 제3지지부와, 공통의 반전파지부재에 대향하는 제2반전파지부재의 면에 설치된 복수의 제4지지부와의 사이에 기판이 반입된다. 그 상태에서, 제2반전파지부재 및 공통의 반전파지부재가 서로 가까워지도록 제2반전파지부재 및 공통의 반전파지부재의 적어도 한쪽이 제2구동기구에 의해 이동된다. 그로써, 복수의 제3 및 제4지지부에 의해 기판의 바깥둘레부가 파지 된다.
이 상태에서, 회전장치에 의해 제1반전파지부재, 제2반전파지부재 및 공통의 반전파지부재가 제2축의 주위에서 일체적으로 회전된다. 그로써, 제2반전파지부재 및 공통의 반전파지부재에 의해 파지된 기판이 반전된다.
(3) 제1 및 제2파지기구는, 반송장치의 제1 및 제2반송파지부에 의해 반입되는 기판을 각각 파지하여, 제1파지기구에 의한 기판의 파지위치와 제2파지기구에 의한 기판의 파지위치와의 사이의 거리가 반송장치의 제1반송파지부에 의한 기판의 파지위치와 제2반송파지부에 의한 기판의 파지위치와의 사이의 거리에 거의 동일해도 좋다.
이 경우, 반송장치의 제1 및 제2반송파지부를 제1축과 평행한 방향으로 거의 이동시키지 않고, 제1 및 제2반송파지부의 한쪽에 의해 제1 및 제2파지기구의 한쪽으로부터 반전 후의 기판을 반출하고, 제1 및 제2반송파지부의 다른 쪽에 의해 제1 및 제2파지기구의 다른 쪽으로 반전 전의 기판을 반입할 수가 있다. 그로써, 반전장치에 대한 기판의 반출입을 더 신속히 실시하는 것이 가능해진다.
또한, 제1 및 제2반송파지부에 의해 2매의 기판을 제1 및 제2파지기구에 동시에 반입하는 것이 가능해짐과 동시에, 제1 및 제2반송파지부에 의해 2매의 기판을 제1 및 제2파지기구로부터 동시에 반출하는 것이 가능해진다. 그로써, 반전장치에 대한 기판의 반출입을 신속히 실시하는 것이 가능해짐과 동시에, 복수의 기판을 효율적으로 반전시킬 수가 있다.
(4) 공통의 반전파지부재, 제1반전파지부재 및 제2반전파지부재는, 반송장치 의 제1 및 제2반송파지부가 제1축의 방향으로 통과할 수 있는 노치영역을 가져도 좋다.
이 경우, 제1축과 평행한 방향에 있어서의 복수의 제1, 제2, 제3 및 제4지지부의 길이가 짧아도, 반송장치의 제1 및 제2반송파지부가 공통의 반전파지부재, 제1반전파지부재 및 제2반전파지부재의 노치영역을 지나 이동할 수가 있다. 그로써, 제1 및 제2반송파지부가 공통의 반전파지부재, 제1반전파지부재 및 제2반전파지부재에 접촉하지 않고 복수의 제1, 제2, 제3 및 제4지지부 중 어느 쪽인가에 기판을 재치할 수 있다.
또한, 제1 및 제2반송파지부가 공통의 반전파지부재, 제1반전파지부재 및 제2반전파지부재에 접촉하지 않고 복수의 제1, 제2, 제3 및 제4지지부 중 어느 쪽인가로 기판을 받을 수가 있다.
그로써, 제1축과 평행한 방향에 있어서의 제1, 제2, 제3 및 제4지지부의 길이를 짧게 할 수가 있어서, 반전장치의 소형화가 가능해진다.
(5) 본 발명의 다른 특징에 따른 기판처리장치는, 표면(表面) 및 이면(裏面)을 가지는 기판에 처리를 실시하는 기판처리장치로서, 기판의 표면과 이면을 반전시키는 반전장치와 제1 및 제2반송파지부를 가지며, 반전장치에 대해서 기판을 반입 및 반출하는 반송장치를 갖추고, 반전장치는, 기판을 제1축과 수직인 상태로 파지하는 제1파지기구와, 기판을 제1축과 수직인 상태로 파지하는 제2파지기구와, 제1 및 제2파지기구를 제1축의 방향과 겹쳐지도록 지지하는 지지부재와, 지지부재를 제1 및 제2파지기구와 함께 제1축과 대략 수직인 제2축의 주위에서 일체적으로 회 전시키는 회전장치를 갖추는 것이다.
이 기판처리장치에 있어서는, 반송장치의 제1 및 제2반송파지부에 의해 반전장치에 대한 기판의 반출입이 행해진다. 반전장치에 있어서는, 반입된 기판이 제1또는 제2파지기구에 의해 제1축과 수직인 상태로 파지된다. 그 상태에서, 회전장치에 의해 제1 및 제2파지기구가 제1축과 대략 수직인 제2축의 주위에서 일체적으로 회전된다. 그로써, 제1또는 제2파지기구에 의해 파지된 기판이 반전된다.
이 경우, 제1 및 제2반송파지부의 한쪽에 의해 제1 및 제2파지기구의 한쪽에 의해 반전 후의 기판을 반출하고, 제1 및 제2반송파지부의 다른 쪽에 의해 제1 및 제2파지기구의 다른 쪽으로 반전 후의 기판을 반입할 수가 있다. 또한, 제1 및 제2파지기구는 제1축의 방향으로 겹쳐지도록 지지되어 있다. 그 때문에, 제1 및 제2반송파지부를 제1축과 평행한 방향으로 겹쳐지도록 배치함으로써, 제1 및 제2반송파지부를 제1축과 평행한 방향으로 거의 이동시키지 않고 제1 및 제2파지기구로의 기판의 반출입이 가능해진다. 그로써, 반전장치에 대한 기판의 반출입을 신속히 실시하는 것이 가능해진다. 따라서, 기판처리장치에 있어서의 처리율을 향상시킬 수가 있다.
또한, 제1 및 제2반송파지부를 제1축과 평행한 방향으로 겹쳐지도록 배치함으로써, 제1 및 제2반송파지부에 의해 2매의 기판을 제1 및 제2파지기구에 동시에 반입하는 것이 가능해짐과 동시에, 제1 및 제2반송파지부에 의해 2매의 기판을 제1 및 제2파지기구로부터 동시에 반출하는 것이 가능해진다.
그로써, 반전장치에 대한 기판의 반출입을 신속히 실시할 수가 있는 것과 동 시에, 복수의 기판을 효율적으로 반전시킬 수가 있다. 그 결과, 기판처리장치에 있어서의 처리율을 향상시킬 수가 있다.
(6) 제1파지기구에 의한 기판의 파지위치와 제2파지기구에 의한 기판의 파지위치와의 사이의 거리가 반송장치의 제1반송파지부에 의한 기판의 파지위치와 제2반송파지부에 의한 기판의 파지위치와의 사이의 거리와 거의 동일해도 좋다.
이 경우, 반송장치의 제1 및 제2반송파지부를 제1축과 평행한 방향으로 이동시키지 않고, 제1 및 제2반송파지부의 한쪽에 의해 제1 및 제2파지기구의 한쪽으로부터 반전 후의 기판을 반출함과 함께 제1 및 제2반송파지부의 한쪽에 의해 제1 및 제2파지기구의 한쪽에 반전 후의 기판을 반입하는 것이 가능하다. 그로써, 반전장치에 대한 기판의 반출입을 신속히 실시하는 것이 가능해진다.
또한, 제1 및 제2반송파지부에 의해 2매의 기판을 제1 및 제2파지기구에 동시에 반입하는 것이 가능해짐과 동시에, 제1 및 제2반송파지부에 의해 2매의 기판을 제1 및 제2파지기구로부터 동시에 반출하는 것이 가능해진다. 그로써, 반전장치에 대한 기판의 반출입을 신속히 실시하는 것이 가능해짐과 동시에, 복수의 기판을 효율적으로 반전시킬 수가 있다.
(7) 제1 및 제2파지기구는, 제1축에 수직인 일면 및 다른 면을 가지는 공통의 반전파지부재를 포함하고, 제1파지기구는, 공통의 반전파지부재의 일면에 설치되어, 기판의 바깥둘레부를 지지하는 복수의 제1지지부와, 공통의 반전파지부재의 일면에 대향하도록 설치된 제1반전파지부재와, 공통의 반전파지부재에 대향하는 제1반전파지부재의 면에 설치되어, 기판의 바깥둘레부를 지지하는 복수의 제2지지부 와, 제1반전파지부재와 공통의 반전파지부재가 제1축의 방향에 있어서 서로 이간한 상태와 제1반전파지부재와 공통의 반전파지부재가 서로 근접한 상태로 선택적으로 이행하도록 제1반전파지부재 및 공통의 반전파지부재의 적어도 한쪽을 이동시키는 제1구동기구를 포함하고, 제2파지기구는, 공통의 반전파지부재의 다른 면에 설치되어, 기판의 바깥둘레부를 지지하는 복수의 제3지지부와, 공통의 반전파지부재의 다른 면에 대향하도록 설치된 제2반전파지부재와, 공통의 반전파지부재에 대향하는 제2반전파지부재의 면에 설치되어, 기판의 바깥둘레부를 지지하는 복수의 제4지지부와, 제2반전파지부재와 공통의 반전파지부재가 제1축의 방향에 있어서 서로 이간한 상태와 제2반전파지부재와 공통의 반전파지부재가 서로 근접한 상태로 선택적으로 이행하도록 제2반전파지부재 및 공통의 반전파지부재의 적어도 한쪽을 이동시키는 제2구동기구를 포함해도 좋다.
이 경우, 제1반전파지부재와 공통의 반전파지부재가 서로 이간한 상태에서, 공통의 반전파지부재의 일면에 설치된 복수의 제1지지부와 공통의 반전파지부재에 대향하는 제1반전파지부재의 면에 설치된 복수의 제2지지부와의 사이에 기판이 반입된다. 그 상태에서, 제1반전파지부재 및 공통의 반전파지부재가 서로 근접하도록, 제1구동기구에 의해 제1반전파지부재 및 공통의 반전파지부재의 적어도 한쪽이 이동된다. 그로써, 복수의 제1 및 제2지지부에 의해 기판의 바깥둘레부가 파지된다.
이 상태에서, 회전장치에 의해 제1반전파지부재, 제2반전파지부재 및 공통의 반전파지부재가 제2축의 주위에서 일체적으로 회전된다. 그로써, 제1반전파지부재 및 공통의 반전파지부재에 의해 파지된 기판이 반전된다.
또한, 제2반전파지부재와 공통의 반전파지부재가 서로 이간한 상태에서, 공통의 반전파지부재의 다른 면에 설치된 복수의 제3지지부와, 공통의 반전파지부재에 대향하는 제2반전파지부재의 면에 설치된 복수의 제4지지부와의 사이에 기판이 반입된다. 그 상태에서, 제2반전파지부재 및 공통의 반전파지부재가 서로 가까워지도록 제2반전파지부재 및 공통의 반전파지부재의 적어도 한쪽이 제2구동기구에 의해 이동된다. 그로써, 복수의 제3 및 제4지지부에 의해 기판의 바깥둘레부가 파지된다.
이 상태에서, 회전장치에 의해 제1반전파지부재, 제2반전파지부재 및 공통의 반전파지부재가 제2축의 주위에서 일체적으로 회전된다. 그로써, 제2반전파지부재 및 공통의 반전파지부재에 의해 파지된 기판이 반전된다.
(8) 공통의 반전파지부재, 제1반전파지부재 및 제2반전파지부재는, 반송장치의 제1 및 제2반송파지부가 제1축의 방향으로 통과할 수 있는 노치영역을 가져도 좋다.
이 경우, 제1축과 평행한 방향에 있어서의 복수의 제1, 제2, 제3 및 제4지지부의 길이가 짧아도, 반송장치의 제1 및 제2반송파지부가 공통의 반전파지부재, 제1반전파지부재 및 제2반전파지부재의 노치영역을 지나 이동할 수가 있다. 그로써, 제1 및 제2반송파지부가 공통의 반전파지부재, 제1반전파지부재 및 제2반전파지부재에 접촉하지 않고 복수의 제1, 제2, 제3 및 제4지지부의 어느 쪽인가로 기판을 재치할 수 있다.
또한, 제1 및 제2반송파지부가 공통의 반전파지부재, 제1반전파지부재 및 제2반전파지부재에 접촉하지 않고 복수의 제1, 제2, 제3 및 제4지지부의 어느 쪽인가로 기판을 받을 수가 있다.
그로써, 제1축과 평행한 방향에 있어서의 제1, 제2, 제3 및 제4지지부의 길이를 짧게 할 수가 있어서, 반전장치의 소형화가 가능해진다.
(9) 반송장치는, 제1 및 제2반송파지부를 진퇴시키는 진퇴기구(進退機構)를 포함하고, 제1 및 제2반송파지부의 각각은, 진퇴방향으로 뻗는 복수의 파지부분을 가지며, 공통의 반전파지부재, 제1반전파지부재 및 제2반전파지부재의 노치영역은, 제1 및 제2반송파지부의 복수의 파지부분이 통과할 수 있는 복수의 노치부분을 포함해도 좋다.
이 경우, 제1 및 제2반송파지부는, 진퇴기구에 의해 진퇴됨으로써, 반전장치의 제1 및 제2파지기구에 진입 또는 제1 및 제2파지기구로부터 퇴출한다. 그때에는, 진퇴방향으로 뻗는 복수의 파지부분이 노치영역의 복수의 노치부분을 통과하도록 제1 및 제2반송파지부가 진퇴할 수가 있다.
(10) 복수의 제1지지부의 선단과 복수의 제4지지부의 선단과의 사이의 거리 및 복수의 제2지지부의 선단과 복수의 제3지지부의 선단과의 사이의 거리가 반송장치의 제1반송파지부에 의한 기판의 파지위치와 제2반송파지부에 의한 기판의 파지위치와의 사이의 거리에 대략 같게 설정되어도 좋다.
이 경우, 반송장치의 제1 및 제2반송파지부를 제1축과 평행한 방향으로 이동시키지 않고, 제1 및 제2반송파지부의 한쪽에 의해 복수의 제1 및 제4지지부의 한 쪽으로부터 기판을 받는 것과 동시에 제1 및 제2반송파지부의 다른 쪽에 의해 복수의 제1 및 제4지지부의 다른 쪽으로 반전 전의 기판을 재치할 수가 있다.
또한, 반송장치의 제1 및 제2반송파지부를 제1축과 평행한 방향으로 이동시키지 않고, 제1 및 제2반송파지부의 한쪽에 의해 복수의 제2및 제3지지부의 한쪽으로부터 기판을 받는 것과 동시에 제1 및 제2반송파지부의 다른 쪽에 의해 복수의 제2및 제3지지부의 다른 쪽으로 반전 전의 기판을 재치할 수가 있다.
게다가, 제1 및 제2반송파지부에 의해 2매의 기판을 복수의 제1 및 제4지지부에 동시에 재치하는 것이 가능해짐과 동시에, 제1 및 제2반송파지부에 의해 2매의 기판을 복수의 제1 및 제4지지부로부터 동시에 받는 것이 가능해진다. 또한, 제1 및 제2반송파지부에 의해 2매의 기판을 복수의 제2및 제3지지부에 동시에 재치하는 것이 가능해짐과 동시에, 제1 및 제2반송파지부에 의해 2매의 기판을 복수의 제2및 제3지지부로부터 동시에 받는 것이 가능해진다.
(11) 공통의 반전파지부재는 지지부재에 고정되고, 제1구동기구는, 제1반전파지부재와 공통의 반전파지부재가 서로 이간한 상태와 제1반전파지부재와 공통의 반전파지부재가 서로 근접한 상태로 선택적으로 이행하도록 제1반전파지부재를 공통의 반전파지부재에 상대적으로 이동시키고, 제2구동기구는, 제2반전파지부재와 공통의 반전파지부재가 서로 이간한 상태와 제2반전파지부재와 공통의 반전파지부재가 서로 근접한 상태로 선택적으로 이행하도록 제2반전파지부재를 공통의 반전파지부재에 상대적으로 이동시켜도 좋다.
이 경우, 제1구동기구에 의해 제1반전파지부재가 공통의 반전파지부재에 가 까워지도록 이동됨으로써, 기판이 복수의 제1 및 제2지지부에 의해 파지된다. 또한, 제2구동기구에 의해 제2반전파지부재가 공통의 반전파지부재에 가까워지도록 이동됨으로써, 기판이 복수의 제3 및 제4지지부에 의해 파지된다. 그로써, 간단한 구성으로 기판을 반전시킬 수가 있다.
(12) 공통의 반전파지부재는, 제1반전파지부재에 대향하도록 설치된 제3반전파지부재와 제2반전파지부재에 대향하도록 설치된 제4반전파지부재를 포함하고, 복수의 제1지지부는, 제1반전파지부재에 대향하는 제3반전파지부재의 면에 설치되며, 복수의 제3지지부는, 제2반전파지부재에 대향하는 제4반전파지부재의 면에 설치되고, 제1구동기구는, 제1반전파지부재와 제3반전파지부재가 서로 이간한 상태와 제1반전파지부재와 제3반전파지부재가 서로 근접한 상태로 선택적으로 이행하도록 제1반전파지부재 및 제3반전파지부재의 적어도 한쪽을 이동시키고, 제2구동기구는, 제2반전파지부재와 제4반전파지부재가 서로 이간한 상태와 제2반전파지부재와 제4반전파지부재가 서로 근접한 상태로 선택적으로 이행하도록 제2반전파지부재 및 제4반전파지부재의 적어도 한쪽을 이동시켜도 좋다.
이 경우, 제1구동기구에 의해 제1 및 제3반전파지부재가 서로 가까워지도록 이동됨으로써, 기판이 복수의 제1 및 제2지지부에 의해 파지된다. 또한, 제2구동기구에 의해 제2및 제4반전파지부재가 서로 가까워지도록 이동됨으로써, 기판이 복수의 제3 및 제4지지부에 의해 파지된다.
그로써, 제1파지기구에 의한 기판의 파지위치와 제2파지기구에 의한 기판의 파지위치와의 간격을 임의적으로 조정하는 것이 가능해진다.
(13) 기판의 이면을 세정하는 제1세정처리부를 더 갖추고, 반송장치는, 반전장치와 제1세정처리부와의 사이에 기판을 반송해도 좋다.
이 경우, 반전장치에 의해 이면이 윗쪽에 향하도록 반전된 기판이, 반송장치에 의해 제1세정처리부로 반송된다. 제1세정처리부에 있어서는, 윗쪽으로 향해진 기판의 이면이 세정된다. 제1세정처리부에 의한 세정 후의 기판은 반송장치에 의해 반전장치로 반송되어, 표면이 윗쪽을 향하도록 반전장치에 의해 재차 반전된다.
(14) 기판의 표면을 세정하는 제2세정처리부를 더 갖추고, 반송장치는, 반전장치, 제1세정처리부 및 제2세정처리부의 사이에 기판을 반송해도 좋다.
이 경우, 표면이 윗쪽으로 향해진 기판이 반송장치에 의해 제2세정처리부에 반송된다. 제2세정처리부에 있어서는, 윗쪽으로 향해진 기판의 표면이 세정된다.
본 발명에 의하면, 반전장치에 대한 기판의 반출입을 신속히 실시하는 것이 가능해진다. 따라서, 기판처리장치에 있어서의 처리율을 향상시킬 수가 있다.
이하, 본 발명의 일 실시의 형태에 관한 반전장치 및 그것을 갖춘 기판처리장치에 대해 도면을 참조하면서 설명한다.
이하의 설명에 있어서, 기판이란, 반도체웨이퍼, 액정표시장치용 유리기판, PDP(플라스마 디스플레이 패널)용 유리기판, 포토마스크(photomask)용 유리기판, 광디스크용 기판 등을 말한다.
또한, 이하의 설명에서는, 회로패턴 등의 각종 패턴이 형성되는 기판의 면을 표면(表面)이라고 칭하고, 그 반대측의 면을 이면(裏面)이라고 칭한다. 또한, 하부로 향해진 기판의 면을 하면(下面)이라고 칭하고, 윗쪽으로 향해진 기판의 면을 상면(上面)이라고 칭한다.
(1) 제1의 실시의 형태
이하, 제1의 실시의 형태에 관한 기판처리장치에 대해 도면을 참조하면서 설명한다.
(1－1) 기판처리장치의 구성
도 1(a)은 본 발명의 제1의 실시의 형태에 관한 기판처리장치의 평면도이며, 도 1(b)은 도 1(a)의 기판처리장치를 화살표 X의 방향으로부터 본 모식적 측면도이다. 또한, 도 2는, 도 1(a)의 A－A선단면을 모식적으로 나타내는 도이다.
도 1(a)에 나타내는 것과 같이, 기판처리장치(100)는, 인덱서블록(10) 및 처리블록(11)을 가진다. 인덱서블록(10) 및 처리블록(11)은, 서로 병렬로 설치되어 있다.
인덱서블록(10)에는, 복수의 캐리어재치대(40), 인덱서로봇(IR) 및 제어부(4)가 설치되어 있다. 각 캐리어재치대(40) 상에는, 복수매의 기판(W)을 다단으로 수납하는 캐리어(C)가 재치된다. 인덱서로봇(IR)은, 화살표 U(도 1(a))의 방향으로 이동할 수 있고 연직축의 주위로 회전할 수 있는 동시에 상하방향으로 오르내릴 수 있게 구성되어 있다. 인덱서로봇(IR)에는, 기판(W)을 수수하기 위한 핸드(IRH1, IRH2)가 상하로 설치되어 있다. 핸드(IRH1, IRH2)는, 기판(W)의 하면의 가장자리부 및 외주단부(外周端部)를 파지한다. 제어부(4)는, CPU(중앙연산처리장 치)를 포함한 컴퓨터 등으로 이루어져, 기판처리장치(100) 내의 각 부(部)를 제어한다.
도 1(b)에 나타내는 것과 같이, 처리블록(11)에는, 복수의 표면세정유닛(SS)(본례에서는 4개), 복수의 이면세정유닛(SSR)(본례에서는 4개) 및 메인로봇(MR)이 설치되어 있다. 복수의 표면세정유닛(SS)은 처리블록(11)의 한쪽의 측면 측에 상하로 적층 배치되고 있으며, 복수의 이면세정유닛(SSR)은 처리블록(11)의 다른 쪽의 측면 측에 상하로 적층 배치되어 있다. 메인로봇(MR)은, 복수의 표면세정유닛(SS)과 복수의 이면세정유닛(SSR)의 사이에 설치되어 있다. 메인로봇(MR)은, 연직축의 주위로 회전할 수 있으면서 상하방향으로 오르내릴 수 있게 구성되어 있다. 또한, 메인로봇(MR)에는, 기판(W)을 주고 받기 위한 핸드(MRH1, MRH2)가 상하로 설치되어 있다. 핸드(MRH1, MRH2)는 기판(W)의 하면의 가장자리부 및 외주단부를 파지한다. 메인로봇(MR)의 상세한 사항에 대하여는 후술한다.
도 2에 나타내는 것과 같이, 인덱서블록(10)과 처리블록(11)과의 사이에는, 기판(W)을 반전시키기 위한 반전유닛(RT1, RT2) 및 인덱서로봇(IR)과 메인로봇(MR)의 사이에 기판의 수수를 행하기 위한 기판재치부(PASS1, PASS2)가 상하로 설치되어 있다. 반전유닛(RT1)은 기판재치부(PASS1, PASS2)의 윗쪽에 설치되어 있으며, 반전유닛(RT2)은 기판재치부(PASS1, PASS2)의 하부에 설치되어 있다. 반전유닛(RT1, RT2)의 상세한 사항에 대하여는 후술한다.
위쪽의 기판재치부(PASS1)는, 기판(W)을 처리블록(11)으로부터 인덱서블록(10)으로 반송할 때에 이용되고, 아래쪽의 기판재치부(PASS2)는, 기판(W)을 인덱 서블록(10)으로부터 처리블록(11)으로 반송할 때에 이용된다.
기판재치부(PASS1, PASS2)에는, 기판(W)의 유무를 검출하는 광학식의 센서(도시하지 않음)가 설치되어 있다. 그로써, 기판재치부(PASS1, PASS2)에 있어서 기판(W)이 재치되고 있는지 아닌지의 판정을 실시하는 것이 가능해진다. 또한, 기판재치부(PASSl, PASS2)에는, 기판(W)의 하면을 지지하는 복수 개의 지지핀(51)이 설치되어 있다. 인덱서로봇(IR)과 메인로봇(MR)의 사이에서 기판(W)의 수수를 하려면, 기판(W)이 일시적으로 기판재치부(PASS1, PASS2)의 지지핀(51) 상에 재치된다.
(1－2) 기판처리장치의 동작의 개요
다음으로, 도 1 및 도 2를 참조해 기판처리장치(100)의 동작의 개요에 대해 설명한다. 또한 이하에 설명하는 기판처리장치(100)의 각 구성요소의 동작은, 도 1의 제어부(4)에 의해 제어된다.
우선, 인덱서로봇(IR)은, 캐리어재치대(40) 상에 재치된 캐리어(C)의 하나로부터 아래쪽의 핸드(IRH2)를 이용해 처리되지 않은 기판(W)을 꺼낸다. 이 시점에서는, 기판(W)의 표면이 윗쪽으로 향해지고 있다. 인덱서로봇(IR)의 핸드(IRH2)는, 기판(W)의 이면의 가장자리부 및 외주단부를 파지한다. 인덱서로봇(IR)은, 화살표 U의 방향으로 이동하면서 연직축의 주위로 회동하여, 처리되지 않은 기판(W)을 기판재치부(PASS2)에 재치한다.
기판재치부(PASS2)에 재치된 기판(W)은, 메인로봇(MR)에 의해 수수되고, 이어서 표면세정유닛(SS)에 반입된다. 표면세정유닛(SS)에 있어서는, 기판(W)의 표면에 세정처리를 한다. 이하, 기판(W)의 표면의 세정처리를 표면세정처리라고 부른 다. 또한 표면세정유닛(SS)에 의한 표면세정처리의 상세한 사항에 대하여는 후술한다.
표면세정처리 후의 기판(W)은, 메인로봇(MR)에 의해 표면세정유닛(SS)으로부터 반출되고, 이어서 반전유닛(RT1)에 반입된다. 반전유닛(RT1)에 있어서는, 표면이 윗쪽으로 향해진 기판(W)이, 이면이 윗쪽을 향하도록 반전된다. 반전유닛(RT1, RT2)의 동작의 자세한 것은 후술한다. 반전 후의 기판(W)은, 메인로봇(MR)에 의해 반전유닛(RT1)으로부터 반출되고, 이어서 이면세정유닛(SSR)에 반입된다. 이면세정유닛(SSR)에 있어서는, 기판(W)의 이면에 세정처리를 한다. 이하, 기판(W)의 이면의 세정처리를 이면세정처리라고 부른다. 또한 이면세정유닛(SSR)에 의한 이면세정처리의 상세한 사항에 대하여는 후술한다.
이면세정처리 후의 기판(W)은, 메인로봇(MR)에 의해 이면세정유닛(SSR)으로부터 반출되고, 이어서 반전유닛(RT2)에 반입된다. 반전유닛(RT2)에 있어서는, 이면이 윗쪽으로 향해진 기판(W)이, 표면이 윗쪽을 향하도록 반전된다. 반전 후의 기판(W)은, 메인로봇(MR)에 의해 반전유닛(RT2)으로부터 반출되어 기판재치부(PASS1)에 재치된다. 기판재치부(PASS1)에 재치된 기판(W)은, 인덱서로봇(IR)에 의해 수취되어 캐리어(C)내에 수납된다.
(1－3) 메인로봇의 상세
여기서, 메인로봇(MR)의 상세한 구성에 대해 설명한다. 도 3(a)은, 메인로봇(MR)의 측면도이며, 도 3(b)은 메인로봇(MR)의 평면도이다.
도 3(a) 및 도 3(b)에 나타내는 것과 같이, 메인로봇(MR)은 베이스부(21)를 갖추고, 베이스부(21)에 대해서 오르내릴 수 있으면서 회동할 수 있게 승강회동부(昇降回動部)(22)가 설치되어 있다. 승강회동부(22)에는, 다관절형(多關節型) 암(AM1)을 통하여 핸드(MRH1)가 접속되며, 다관절형 암(AM2)을 통하여 핸드(MRH2)가 접속되어 있다.
승강회동부(22)는, 베이스부(21)내에 설치된 승강구동기구(25)에 의해 상하방향으로 오르내리는 것과 동시에, 베이스부(21)내에 설치된 회동구동기구(26)에 의해 연직축의 주위로 회동된다. 다관절형 암(AM1,AM2)은, 각각 도시하지 않은 구동기구에 의해 독립적으로 구동되고, 핸드(MRH1, MRH2)를 각각 일정 자세로 파지하면서 수평방향으로 진퇴시킨다. 핸드(MRH1, MRH2)는, 각각 승강회동부(22)에 대해서 일정한 높이로 설치되어 있으며, 핸드(MRH1)는 (MRH2)보다 윗쪽에 위치하고 있다. 핸드(MRH1)와 핸드(MRH2)와의 높이의 차이 M1(도 3(a))은 일정하게 유지된다.
핸드(MRH1, MRH2)는 서로 같은 형상을 가지며, 각각 대략 U자 모양으로 형성되어 있다. 핸드(MRH1)는 그 진퇴방향으로 뻗는 2개의 조부(爪部)(H11)를 가지며, 핸드(MRH2)는 그 진퇴방향으로 뻗는 2개의 조부(爪部)(H12)를 가진다. 또한, 핸드(MRH1, MRH2) 상에는, 각각 복수의 지지핀(23)이 장착되고 있다. 본 실시의 형태에서는, 핸드(MRH1, MRH2)의 상면에 재치되는 기판(W)의 바깥둘레에 따라 거의 균등하게 각각 4개의 지지핀(23)이 장착되어 있다. 이 4개의 지지핀(23)에 의해 기판(W)의 하면의 가장자리부 및 외주단부가 파지된다.
여기서, 도 1 및 도 2를 참조하면서 본 실시의 형태에 있어서의 메인로봇(MR)의 동작순서에 대하여 설명한다.
우선, 메인로봇(MR)은 핸드(MRH2)에 의해 기판재치부(PASS2)로부터 처리되지 않은 기판(W)을 수수한다. 다음으로, 메인로봇(MR)은 핸드(MRH1)에 의해 표면세정유닛(SS)의 어느 쪽인가로부터 표면세정처리 후의 기판(W)을 반출하고, 그 표면세정유닛(SS)에 핸드(MRH2)로 파지하는 기판(W)을 반입한다. 다음으로, 메이로봇(MR)은 핸드(MRH2)에 의해 반전유닛(RT1)으로부터 이면이 윗쪽으로 향해진 기판(W)을 반출하고, 핸드(MRH1)로 파지하는 표면이 윗쪽으로 향해진 기판(W)을 반전유닛(RT1)에 반입한다.
다음으로, 메인로봇(MR)은 핸드(MRH1)에 의해 이면세정유닛(SSR)의 어느 쪽인가로부터 이면세정처리 후의 기판(W)을 반출하고, 그 이면세정유닛(SSR)에 핸드(MRH2)로 파지하는 기판(W)을 반입한다. 이어서, 메인로봇(MR)은 핸드(MRH2)에 의해 반전유닛(RT2)으로부터 표면이 윗쪽으로 향해진 기판(W)을 반출하여, 핸드(MRH1)로 파지하는 이면이 윗쪽으로 향해진 기판(W)을 반전유닛(RT2)으로 반입한다. 다음으로, 메인로봇(MR)은 핸드(MRH2)로 파지하는 기판(W)을 기판재치부(PASS1)에 재치하고, 이어서 핸드(MRH2)에 의해 기판재치부(PASS2)로부터 처리되지 않은 기판(W)을 받는다. 메인로봇(MR)은, 이러한 일련의 동작을 연속적으로 실시한다.
(1－4) 반전유닛의 상세
다음으로, 반전유닛(RT1, RT2)의 상세한 사항에 대하여 설명한다. 반전유닛(RTl, RT2)은 서로 같은 구성을 가진다. 도 4(a)는 반전유닛(RT1, RT2)의 측면도이며, 도 4(b)는 반전유닛(RT1, RT2)의 사시도이다.
도 4(a)에 나타내는 것과 같이, 반전유닛(RT1, RT2)은, 지지판(31), 고정판(32), 1쌍의 리니어가이드(33a, (33b)), 1쌍의 지지부재(35a, 35b), 1쌍의 실린더(37a, 37b), 제1가동판(36a), 제2가동판(36b) 및 로터리 액츄에이터(38)를 포함한다.
지지판(31)은 상하방향으로 뻗도록 설치되고 있으며 지지판(31)의 일면의 중앙부로부터 수평방향으로 뻗도록 고정판(固定板)(32)이 장착되어 있다. 고정판(32)의 일면측에서의 지지판(31)의 영역에는, 고정판(32)에 수직인 방향으로 뻗는 리니어가이드(33a)가 설치되어 있다. 또한, 고정판(32)의 다른 면 측에서의 지지판(31)의 영역에는, 고정판(32)에 수직인 방향으로 뻗는 리니어가이드(33b)가 설치되어 있다. 리니어가이드(33a, (33b))는, 고정판(32)에 관해서 서로 대칭으로 설치되어 있다.
고정판(32)의 일면측에 있어서, 고정판(32)에 평행한 방향으로 뻗도록 지지부재(35a)가 설치되어 있다. 지지부재(35a)는 연결부재(34a)를 통하여 리니어가이드(33a)에 슬라이딩할 수 있게 장착되어 있다. 지지부재(35a)에는 실린더(37a)가 접속되고 있으며, 이 실린더(37a)에 의해 지지부재(35a)가 리니어가이드(33a)에 따라 오르내리게 된다. 이 경우, 지지부재(35a)는 일정 자세를 유지하면서 고정판(32)에 수직인 방향으로 이동한다. 또한, 지지부재(35a)에는, 고정판(32)의 일면에 대향하도록 제1가동판(36a)이 장착되어 있다.
고정판(32)의 다른 면 측에 있어서, 고정판(32)에 평행한 방향으로 뻗도록 지지부재(35b)가 설치되어 있다. 지지부재(35b)는 연결부재(34b)를 통하여 리니어 가이드(33b)에 슬라이딩할 수 있게 장착되어 있다. 지지부재(35b)에는 실린더(37b)가 접속되고 있으며, 이 실린더(37b)에 의해 지지부재(35b)가 리니어가이드(33b)를 따라 오르내리게 된다. 이 경우, 지지부재(35b)는 일정 자세를 유지하면서 고정판(32)에 수직인 방향으로 이동한다. 또한, 지지부재(35b)에는, 고정판(32)의 다른 면에 대향하도록 제2가동판(36b)이 장착되어 있다.
본 실시의 형태에서는, 제1가동판(36a) 및 제2가동판(36b)이 고정판(32)으로부터 가장 떨어진 상태에서, 제1가동판(36a)과 고정판(32)의 사이의 거리 M2 및 제2가동판(36b)과 고정판(32)의 사이의 거리 M3는, 도 3에 나타낸 메인로봇(MR)의 핸드(MRH1)와 핸드(MRH2)와의 높이의 차이 M1와 대략 같게 설정되어 있다.
로터리 액츄에이터(38)는, 지지판(31)을 수평축(HA)의 주위로 회전시킨다. 그로써, 지지판(31)에 연결되고 있는 제1가동판(36a), 제2가동판(36b) 및 고정판(32)이 수평축(HA)의 주위에서 회전한다.
도 4(b)에 나타내는 것과 같이, 제1가동판(36a), 고정판(32) 및 제2가동판(36b)은 서로 거의 같은 형상을 가진다.
제1가동판(36a)은, 지지부재(35a)를 따라 뻗는 중앙지지부(361a) 및 중앙지지부(361a)의 양측방에서 중앙지지부(361a)로 평행하게 뻗는 측변부(側邊部)(362a, 363a)를 가진다. 측변부(362a, 363a)는, 중앙지지부(361a)에 관해서 서로 대칭으로 설치되어 있다. 중앙지지부(361a) 및 측변부(362a, 363a)는, 지지판(31)(도 4(a)) 측의 일단부에 있어 서로 연결되어 있다. 그로써, 제1가동판(36a)은 대략 E자 모양으로 형성되어 있으며, 중앙지지부(361a)와 측변부(362a, 363a)와의 사이에 스트라 이프형상의 노치영역이 형성되어 있다.
고정판(32)은, 제1가동판(36a)의 중앙지지부(361a) 및 측변부(362a, 363a)에 상당하는 중앙지지부(321) 및 측변부(322, 323)를 가지며, 이들은 지지판(31)측의 일단부에 있어서 서로 연결되어 있다. 그로써, 고정판(32)은 대략 E자 모양으로 형성되고 있으며, 중앙지지부(321)와 측변부(322, 323)의 사이에 스트라이프형상의 노치영역이 형성되어 있다.
제2가동판(36b)은, 제1가동판(36a)의 중앙지지부(361a) 및 측변부(362a, 363a)에 상당하는 중앙지지부(361b) 및 측변부(362b, 363b)를 가지고, 이들은 지지판(31)측의 일단부에 있어 서로 연결되어 있다. 그로써, 제2가동판(36b)은 대략 E자 모양으로 형성되고 있으며, 중앙지지부(361a)와 측변부(362b, 363b)와의 사이에 스트라이프형상의 노치영역이 형성되어 있다.
또한, 도 4(a)에 나타내는 것과 같이, 제1가동판(36a)과 대향하는 고정판(32)의 일면에는 복수의 지지핀(39a)이 설치되고, 그 외면에는 복수의 지지핀(39b)이 설치되어 있다. 또한, 고정판(32)과 대향하는 제1가동판(36a)의 일면에는 복수의 지지핀(39c)이 설치되고, 고정판(32)과 대향하는 제2가동판(36b)의 일면에는 복수의 지지핀(39d)이 설치되어 있다.
본 실시의 형태에 있어서는, 지지핀(39a, 39b, 39c, 39d)이 각각 6개 설치되어 있다. 이러한 지지핀(39a, 39b, 39c, 39d)은, 반전유닛(RT1, RT2)에 반입되는 기판(W)의 바깥둘레를 따르도록 배치되어 있다. 또한, 지지핀(39a, 39b, 39c, 39d)은 서로 같은 길이를 가진다. 그 때문에, 제1가동판(36a) 및 제2가동판(36b)이 고 정판(32)으로부터 가장 떨어진 상태에서의 지지핀(39a)의 선단과 지지핀(39d)의 선단과의 사이의 거리 및 지지핀(39b)의 선단과 지지핀(39c)의 선단과의 사이의 거리는, 도 3에 나타낸 메인로봇(MR)의 핸드(MRH1)와 핸드(MRH2)와의 높이의 차이 M1와 대략 같다.
또한, 제1가동판(36a)과 고정판(32)의 사이의 거리 M2 및 제2가동판(36b)과 고정판(32)의 사이의 거리 M3는 적절히 변경해도 좋다. 다만, 제1가동판(36a) 및 제2가동판(36b)이 고정판(32)으로부터 가장 떨어진 상태에서의 지지핀(39c)의 선단과 지지핀(39d)의 선단과의 사이의 거리는, 핸드(MRH1)와 핸드(MRH2)와의 높이의 차이 M1보다 커지도록 설정된다.
(1－5) 반전유닛의 동작
다음으로, 반전유닛(RT1, RT2)의 동작에 대해 설명한다. 도 5~도 7은 반전유닛(RT1, RT2)의 동작에 대해 설명하기 위한 도이다. 또한, 상기와 같이, 반전유닛(RT1, RT2)으로의 기판(W)의 반입은 메인로봇(MR)의 핸드(MRH1)에 의해 행해지고, 반전유닛(RT1, RT2)으로부터의 기판(W)의 반출은 메인로봇(MR)의 핸드(MRH2)에 의해 행해진다.
도 5(a)에 나타내는 것과 같이, 제1가동판(36a), 고정판(32) 및 제2가동판(36b)이 수평자세로 유지된 상태에서, 기판(W)을 파지한 메인로봇(MR)의 핸드(MRH1)가 제1가동판(36a)과 고정판(32)의 사이로 전진한다. 이어서, 도 5(b)에 나타내는 것과 같이, 핸드(MRH1)가 하강한다. 이 경우, 도 5(c)에 나타내는 것과 같이, 핸드(MRH1)의 조부(爪部)(H11)는, 고정판(32)의 중앙지지부(321)와 측변 부(322, 323)의 사이의 노치영역을 지나 하강한다. 그로써, 핸드(MRH1)에 파지된 기판(W)이 고정판(32)의 지지핀(39a) 상에 재치된다.
또한, 반전유닛(RT1)에 있어서 표면이 윗쪽으로 향해진 기판(W)이 지지핀(39a)상에 재치되고, 반전유닛(RT2)에 있어서는 이면이 윗쪽으로 향해진 기판(W)이 지지핀(39a) 상에 재치된다.
이어서, 도 6(d)에 나타내는 것과 같이, 지지부재(35a)가 실린더(37a)(도 4(a))에 의해 하강된다. 그로써, 제1가동판(36a)이 하강하여, 제1가동판(36a)과 고정판(32)의 이간거리가 짧아진다. 제1가동판(36a)이 소정의 거리 하강하면, 기판(W)의 가장자리부 및 외주단부가 고정판(32)의 지지핀(39a)과 제1가동판(36a)의 지지핀(39c)에 의해 파지된다. 그 상태에서, 도 6(e)에 나타내는 것과 같이, 제1가동판(36a), 고정판(32) 및 제2가동판(36b)이 로터리 액츄에이터(38)에 의해 일체적으로 수평축(HA)의 주위로 180도 회전된다. 그로써, 지지핀(39a)과 지지핀(39c)에 의해 파지된 기판(W)이 반전된다. 이 경우, 반전유닛(RT1)에 있어서 기판(W)의 이면이 윗쪽으로 향해지고, 반전유닛(RT2)에 있어서는 기판(W)의 표면이 윗쪽으로 향해진다.
이어서, 도 6(f)에 나타내는 것과 같이, 지지부재(35a)가 실린더(37a)에 의해 하강된다. 그로써, 제1가동판(36a)이 하강하여, 제1가동판(36a)과 고정판(32)의 이간거리가 길어진다. 그 때문에, 기판(W)은 제1가동판(36a)의 지지핀(39c)에 지지된 상태가 된다.
그 상태에서, 도 7(g)에 나타내는 것과 같이, 메인로봇(MR)의 핸드(MRH2)가 제1가동판(36a)의 하부로 전진한다. 이어서, 도 7(h)에 나타내는 것과 같이, 핸드(MRH2)가 상승한다. 이 경우, 도 7(i)에 나타내는 것과 같이, 핸드(MRH2)의 조부(H12)는, 제1가동판(36a)의 중앙지지부(361a)와 측변부(362a, 363a)의 사이의 노치영역을 지나 상승한다. 그로써, 기판(W)이 핸드(MRH2)에 의해 수수된다. 그 후, 핸드(MRH2)가 반전유닛(RT1, RT2)으로부터 후퇴하여, 기판(W)이 반전유닛(RT1, RT2)으로부터 반출된다.
또한, 도 5~도 7에 있어서는, 제1가동판(36a)이 고정판(32)의 윗쪽에 위치하는 상태로 기판(W)이 반입되고, 제2가동판(36b)이 고정판(32)의 윗쪽에 위치하는 상태로 기판(W)이 반출되는 경우에 대해 나타냈다. 그렇지만, 후술하는 것처럼, 제2가동판(36b)이 고정판(32)의 윗쪽에 위치하는 상태에서 기판(W)이 반출된 후에는, 제2가동판(36b)이 고정판(32)의 윗쪽에 위치하는 상태로 기판(W)이 반입되고, 제1가동판(36a)이 고정판(32)의 윗쪽에 위치하는 상태로 기판(W)이 반출된다.
그 경우에는, 실린더(37b)에 의해 제2지지부재(35b)가 하강됨으로써, 기판(W)이 제2가동판(36b)의 지지핀(39d)과 고정판(32)의 지지핀(39b)에 의해 파지된다. 그리고, 그 상태에서 로터리 액츄에이터(38)에 의해 제1가동판(36a), 고정판(32) 및 제2가동판(36b)이 반전되어 기판(W)이 반전된다. 그 후, 실린더(37b)에 의해 제2지지부재(35b)가 하강됨으로써 기판(W)이 지지핀(39d)에 지지된 상태가 되어, 핸드(MRH2)에 의해 기판(W)이 지지핀(39d) 상으로부터 반출된다.
(1－6) 메인로봇에 의한 기판의 반출입
다음으로, 반전유닛(RT1, RT2)으로부터 기판(W)을 반출하고 나서 새로운 기 판(W)을 반전유닛(RTl, RT2)에 반입할 때까지의 메인로봇(MR)의 동작에 대해 설명한다.
도 8은, 메인로봇(MR)에 의한 기판(W)의 반출입동작에 대해 설명하기 위한 도이다. 상기와 같이, 메인로봇(MR)은, 핸드(MRH2)에 의해 반전 후의 기판(W)을 반전유닛(RT1, RT2)으로부터 반출하고, 핸드(MRH1)에 의해 반전 전의 기판(W)을 반전유닛(RT1, RT2)에 반입한다. 따라서, 반전유닛(RT1, RT2)에 대한 기판(W)의 반출입을 실시하기 직전에는, 도 8(a)에 나타내는 것과 같이, 메인로봇(MR)의 핸드(MRH1)가 반전 전의 기판(W)을 파지한 상태이며, 핸드(MRH2)가 기판(W)을 파지하고 있지 않는 상태이다.
도 8(b)에 나타내는 것과 같이, 핸드(MRH2)가 전진함과 함께 상승함으로써, 지지핀(39c) 상의 기판(W)이 핸드(MRH2)에 의해 수수된다. 이때, 핸드(MRH1)와 핸드(MRH2)의 높이의 차이 M1는 일정하게 유지되므로, 핸드(MRH2)의 상승에 수반해 핸드(MRH1)도 상승한다.
다음으로, 도 8(c)에 나타내는 것과 같이, 핸드(MRH1, MRH2)의 높이가 유지된 상태로, 핸드(MRH2)가 후퇴함과 동시에 핸드(MRH1)가 전진한다. 여기서, 본 실시의 형태에서는, 제1가동판(36b)과 고정판(32)의 사이의 거리 M2(도 4) 및 제2가동판(36b)과 고정판(32)의 사이의 거리 M3(도 4)는 핸드(MRH1)와 핸드(MRH2)와의 높이의 차이 M1와 대략 같게 설정되어 있다. 그 때문에, 핸드(MRH2)가 제1가동판(36a)과 고정판(32)의 사이에 위치하는 것 같은 높이에 있는 경우에는, 핸드(MRH1)는 제2가동판(36b)과 고정판(32)의 사이에 위치하는 것과 같은 높이에 있 다. 따라서, 핸드(MRH1)는 전진하는 것으로써 제2가동판(36b)과 고정판(32)의 사이로 이동한다.
다음으로, 도 8(d)에 나타내는 것과 같이, 핸드(MRH1)가 하강함과 함께 후퇴한다. 그로써, 지지핀(39b) 상에 기판(W)이 재치된다. 이때, 핸드(MRH1)의 하강에 수반해 핸드(MRH2)도 하강한다.
이처럼 하여, 메인로봇(MR)에 의한 반전유닛(RT1, RT2)으로의 기판(W)의 반출입이 행해진다. 그 후, 반전유닛(RT1, RT2)은 새롭게 반입된 기판(W)을 반전시킨다. 즉, 반전유닛(RT1, RT2)에 대한 기판(W)의 반출입은, 제1가동판(36a)이 고정판(32)의 윗쪽에 위치하는 상태와 제2가동판(36b)이 고정판(32)의 윗쪽에 위치하는 상태와의 사이에서 교대로 행해진다.
(1－7) 표면세정유닛 및 이면세정유닛의 상세
다음으로, 도 1에 나타낸 표면세정유닛(SS) 및 이면세정유닛(SSR)에 대하여 설명한다. 도 9는 표면세정유닛(SS)의 구성을 설명하기 위한 도이며, 도 10은 이면세정유닛(SSR)의 구성을 설명하기 위한 도이다. 도 9에 나타내는 표면세정유닛(SS) 및 도 10에 나타내는 이면세정유닛(SSR)에서는, 브러쉬를 이용한 기판(W)의 세정처리(이하, 스크럽 세정처리라고 부른다)를 한다.
우선, 도 9를 이용해 표면세정유닛(SS)의 상세한 사항에 대하여 설명한다. 도 9에 나타내는 것과 같이, 표면세정유닛(SS)은, 기판(W)을 수평으로 파지하는 것과 동시에 기판(W)의 중심을 통과하는 연직축의 주위로 기판(W)을 회전시키기 위한 스핀척(61)을 구비한다. 스핀척(61)은, 척 회전구동기구(62)에 의해 회전되는 회전 축(63)의 상단에 고정되어 있다.
상기와 같이, 표면세정유닛(SS)에는 표면이 윗쪽으로 향해진 상태의 기판(W)이 반입된다. 스크럽 세정처리 및 린스처리를 실시하는 경우에는, 스핀척(61)에 의해 기판(W)의 이면이 흡착 파지된다.
스핀척(61)의 바깥쪽에는, 모터(64)가 설치되어 있다. 모터(64)에는, 회동축(65)가 접속되어 있다. 회동축(65)에는, 암(66)이 수평방향으로 뻗도록 연결되고, 암(66)의 선단에 대략 원통형상의 브러쉬 세정구(洗淨具)(70)가 설치되어 있다. 또한, 스핀척(61)의 윗쪽에는, 스핀척(61)에 의해 파지된 기판(W)의 표면을 향해 세정액 또는 린스액(순수)을 공급하기 위한 액토출(液吐出)노즐(71)이 설치되어 있다. 액토출노즐(71)에는 공급관(72)이 접속되고 있어 이 공급관(72)을 통해 액토출노즐(71)에 세정액 및 린스액이 선택적으로 공급된다.
스크럽 세정처리시에는, 모터(64)가 회동축(65)을 회전시킨다. 이로써, 암(66)이 수평면내에서 회동하여, 브러쉬 세정구(70)가 회동축(65)을 중심으로서 기판(W)의 바깥쪽 위치와 기판(W)의 중심의 윗쪽위치와의 사이에 이동한다. 모터(64)에는, 도시하지 않는 승강기구가 설치되어 있다. 승강기구는, 회동축(65)을 상승 및 하강시키는 것으로써, 기판(W)의 바깥쪽 위치 및 기판(W)의 중심의 윗쪽위치에서 브러쉬 세정구(70)를 하강 및 상승시킨다.
스크럽 세정처리의 개시시에는, 표면이 윗쪽으로 향해진 상태의 기판(W)이 스핀척(61)에 의해 회전된다. 또한, 공급관(72)을 통해 액토출노즐(71)에 세정액 또는 린스액이 공급된다. 이로써, 회전하는 기판(W)의 표면에 세정액 또는 린스액 이 공급된다. 이 상태에서, 브러쉬 세정구(70)가 회동축(65) 및 암(66)에 의해 요동(搖動) 및 승강(昇降) 동작된다. 그로써, 기판(W)의 표면에 대해서 스크럽 세정처리를 한다. 또한 표면세정유닛(SS)에 있어서는 흡착식의 스핀척(61)을 이용하고 있기 때문에, 기판(W)의 가장자리부 및 외주단부도 동시에 세정할 수가 있다.
다음으로, 도 10을 이용하여, 이면세정유닛(SSR)이 도 9에 나타낸 표면세정유닛(SS)과 다른 점을 설명한다. 도 10에 나타내는 것과 같이, 이면세정유닛(SSR)은, 기판(W)의 하면을 진공 흡착에 의해 파지하는 흡착식의 스핀척(61) 대신에, 기판(W)의 외주단부를 파지하는 메카척식(式)의 스핀척(81)을 갖춘다. 스크럽 세정처리 및 린스처리를 실시하는 경우에, 기판(W)은 스핀척(61) 상의 회전식파지핀(82)에 의해 그 하면의 가장자리부 및 외주단부가 파지된 상태로 수평자세를 유지하면서 회전된다.
상기와 같이, 이면세정유닛(SSR)에는, 이면이 윗쪽으로 향해진 상태의 기판(W)이 반입된다. 그 때문에, 기판(W)은 이면이 윗쪽으로 향해진 상태에서 스핀척(81)에 의해 파지된다. 그리고, 기판(W)의 이면에 대해서, 상기와 같은 스크럽 세정처리를 한다.
(1－8) 제1의 실시의 형태의 효과
제1의 실시의 형태에서는, 메인로봇(MR)의 핸드(MRH2)를 후퇴시켜 반전유닛(RT1, RT2)으로부터 반전 후의 기판(W)을 반출할 때에, 메인로봇(MR)의 핸드(MRH1)를 상하방향으로 이동시키지 않고 그대로의 높이로 전진시킴으로써 반전유닛(RT1, RT2)에 반전 전의 기판(W)을 반입할 수가 있다.
이 경우, 반전유닛(RT1, RT2)으로부터 기판(W)을 반출하고 나서 반전유닛(RT1, RT2)에 기판(W)을 반입할 때까지의 사이에 핸드(MRH1, MRH2)의 높이를 조정할 필요가 없기 때문에, 반전유닛(RT1, RT2)으로의 기판(W)의 반출입을 신속히 실시할 수가 있다. 그로써, 기판처리장치(100)에 있어서의 처리율을 향상시킬 수가 있다.
또한, 제1의 실시의 형태에서는, 반전유닛(RT1, RT2)의 제1가동판(36a), 제2가동판(36b) 및 고정판(32)에 스트라이프형상의 노치영역이 형성되고 있기 때문에, 메인로봇(MR)의 핸드(MRH1, MRH2)가 그 노치영역을 지나 상하방향으로 이동할 수가 있다.
이 경우, 지지핀(39a, 39b, 39c, 39d)의 길이가 짧아도, 핸드(MRHl, MRH2)가 노치영역을 지나 하강함으로써, 핸드(MRH1, MRH2)가 제1가동판(36a), 제2가동판(36b) 및 고정판(32)에 접촉하지 않고, 지지핀(39a, 39b, 39c, 39d) 상에 기판(W)을 재치할 수가 있다. 또한, 지지핀(39a, 39b, 39c, 39d)의 길이가 짧아도, 핸드(MRH1, MRH2)가 노치영역을 지나 상승함으로써, 핸드(MRH1, MRH2)가 제1가동판(36a), 제2가동판(36b) 및 고정판(32)에 접촉하지 않고, 지지핀(39a, 39b, 39c, 39d) 상에 재치된 기판(W)을 받을 수가 있다. 이로써, 반전유닛(RT1, RT2)의 소형화가 가능해진다.
또한, 제1의 실시의 형태에서는, 반전유닛(RT1)에 의해 파지되는 기판(W)은, 수평축(HA)보다 윗쪽에 위치하는 상태에서는 표면이 윗쪽으로 향해진 상태가 되고, 수평축(HA)보다 하부에 위치하는 상태에서는 이면이 윗쪽으로 향해진 상태가 된다. 또한, 반전유닛(RT2)에 의해 파지되는 기판(W)은, 수평축(HA)보다 윗쪽에 위치하는 상태에서는 이면이 윗쪽으로 향해진 상태가 되고, 수평축(HA)보다 하부에 위치하는 상태에서는 표면이 윗쪽으로 향해진 상태가 된다.
그 때문에, 기판(W)이 수평축(HA)보다 윗쪽에 위치하는지 수평축(HA)보다 하부에 위치하는지를 파악함으로써, 그 기판(W)의 어느 쪽 면이 윗쪽으로 향해지고 있는지를 판별할 수가 있다. 따라서, 예를 들면 정전 등에 의해 기판처리장치(100)의 동작이 정지해도, 반전유닛(RT1, RT2)에 파지된 기판(W)의 어느 쪽 면이 윗쪽으로 향해지고 있을까를 순간적으로 판별할 수가 있다.
(2)제2의 실시의 형태
이하, 본 발명의 제2의 실시의 형태에 관한 기판처리장치에 대하여, 제1의 실시의 형태에 관한 기판처리장치와 다른 점을 설명한다.
(2－1) 기판처리장치의 구성
도 11(a)은 본 발명의 제2의 실시의 형태에 관한 기판처리장치의 평면도이며, 도 11(b)은 도 11(a)의 B－B선단면을 모식적으로 나타내는 도이다. 도 11(a) 및 도 11(b)에 나타내는 것과 같이, 제2의 실시의 형태에 관한 기판처리장치(100a)는, 반전유닛(RT1, RT2) 및 기판재치부(PASSl, PASS2)를 각각 2개씩 갖춘다.
(2－2) 메인로봇의 동작
다음으로, 도 11을 참조하면서 제2의 실시의 형태에 있어서의 메인로봇(MR)의 동작의 개요에 대해 설명한다. 메인로봇(MR)은, 핸드(MRH1, MRH2)에 의해 2개의 기판재치부(PASS1)로부터 각각 처리되지 않은 기판(W)을 받는다. 이어서, 메인로 봇(MR)은 핸드(MRH1, MRH2)로 파지하는 2매의 기판(W)을 표면세정유닛(SS)의 2개에 순서대로 반입한다. 다음으로, 메인로봇(MR)은 핸드(MRH1, MRH2)에 의해 2개의 표면세정유닛(SS)으로부터 표면세정처리 후의 2매의 기판(W)을 순서대로 반출한다.
다음으로, 메인로봇(MR)은 핸드(MRH1, MRH2)로 파지하는 2매의 기판(W)을 반전유닛(RT1)의 한쪽으로 반입한다. 다음으로, 메인로봇(MR)은 핸드(MRH1, MRH2)에 의해 반전유닛(RT1)의 다른 쪽으로부터 이면이 윗쪽으로 향해진 2매의 기판(W)을 반출한다. 다음으로, 메인로봇(MR)은 핸드(MRH1, MRH2)로 파지하는 2매의 기판(W)을 이면세정유닛(SSR)의 2개에 순서대로 반입한다. 다음으로, 메인로봇(MR)은 핸드(MRH1, MRH2)에 의해 2개의 이면세정유닛(SSR)으로부터 이면세정처리 후의 2매의 기판(W)을 순서대로 반출한다.
다음으로, 메인로봇(MR)은 핸드(MRH1, MRH2)로 파지하는 2매의 기판(W)을 반전유닛(RT2)의 한쪽으로 반입한다. 다음으로, 메인로봇(MR)은 핸드(MRH1, MRH2)에 의해 반전유닛(RT2)의 다른 쪽으로부터 표면이 윗쪽으로 향해진 2매의 기판(W)을 반출한다. 다음으로, 메인로봇(MR)은 핸드(MRH1, MRH2)로 파지하는 2매의 기판(W)을 2개의 기판재치부(PASS2)에 각각 재치한다. 메인로봇(MR)은, 이러한 일련의 동작을 연속적으로 실시한다.
(2－3) 반전유닛의 동작
다음으로, 반전유닛(RT1, RT2)의 동작에 대해 설명한다. 도 12 및 도 13은, 반전유닛(RT1, RT2)의 동작에 대해 설명하기 위한 도이다.
도 12(a)에 나타내는 것과 같이, 제1가동판(36a)과 고정판(32)의 사이 및 제 2가동판(36b)과 고정판(32)의 사이에 기판(W)을 파지한 핸드(MRH1, MRH2)가 동시에 전진한다. 그리고, 도 12(b)에 나타내는 것과 같이, 핸드(MRH1, MRH2)가 동시에 하강함과 함께 후퇴한다. 그로써, 지지핀(39a, 39d) 상에 기판(W)이 재치된다. 이 경우, 반전유닛(RT1)에 있어서는 표면이 윗쪽으로 향해진 기판(W)이 지지핀(39a, 39d) 상에 재치되어 반전유닛(RT2)에 있어서는 이면이 윗쪽으로 향해진 기판(W)이 지지핀(39a, 39d) 상에 재치된다.
이어서, 도 12(c)에 나타내는 것과 같이, 지지부재(35a)가 실린더(37a)(도 4(a))에 의해 하강됨과 동시에, 지지부재(35b)가 실린더(37b)(도 4(a))에 의해 상승된다. 그로써, 한쪽의 기판(W)이 제1가동판(36a)의 지지핀(39c)과 고정판(32)의 지지핀(39a)에 의해 파지되고 다른 쪽의 기판(W)이 제2가동판(36b)의 지지핀(39d)과 고정판(32)의 지지핀(39b)에 의해 파지된다.
그 상태에서, 도 12(d)에 나타내는 것과 같이, 제1가동판(36a), 고정판(32) 및 제2가동판(36b)이 로터리 액츄에이터(38)에 의해 일체적으로 수평축(HA)의 주위에서 180도 회전된다. 그로써, 지지핀(39a, 39c)에 의해 파지된 기판(W) 및 지지핀(39b, 39d)에 의해 파지된 기판(W)이 반전된다.
이 경우, 반전유닛(RT1)에 있어서는 기판(W)의 이면이 윗쪽으로 향해지고, 반전유닛(RT2)에 있어서는 기판(W)의 표면이 윗쪽으로 향해진다.
이어서, 도 13(e)에 나타내는 것과 같이, 지지부재(35a)가 실린더(37a)에 의해 하강됨과 동시에, 지지부재(35b)가 실린더(37b)에 의해 상승된다. 그로써, 제1가동판(36a)이 하강함과 함께 제2가동판(36b)이 상승한다. 그 때문에, 한쪽의 기 판(W)은 제1가동판(36a)의 지지핀(39c)에 지지된 상태가 되고, 다른 쪽의 기판(W)은 고정판(32)의 지지핀(39b)에 지지된 상태가 된다.
그 상태에서, 도 13(f)에 나타내는 것과 같이, 핸드(MRH1, MRH2)가 지지핀(39b)에 지지된 기판(W)의 하부 및 지지핀(39c)에 지지된 기판(W)의 하부로 전진함과 함께 상승한다. 그로써, 지지핀(39b)에 지지된 기판(W)이 핸드(MRH1)에 의해 수취되고 지지핀(39c)에 지지된 기판(W)이 핸드(MRH2)에 의해 수수된다. 그 후, 도 13(g)에 나타내는 것과 같이, 핸드(MRH1, MRH2)가 동시에 후퇴함으로써, 2매의 기판(W)이 반전유닛(RT1, RT2)으로부터 반출된다.
(2－4) 제2의 실시의 형태의 효과
제2의 실시의 형태에서는, 메인로봇(MR)의 핸드(MRH1, MRH2)에 의해 2매의 기판(W)이 반전유닛(RT1, RT2)에 동시에 반입되고, 반전유닛(RT1, RT2)은 2매의 기판(W)을 동시에 반전시킨다. 그 후, 메인로봇(MR)의 핸드(MRH1, MRH2)에 의해 2매의 기판(W)이 반전유닛(RT1, RT2)으로부터 동시에 반출된다.
이 경우, 반전유닛(RT1, RT2)으로의 기판(W)의 반출입을 신속히 실시할 수가 있는 것과 동시에, 복수의 기판(W)을 효율적으로 반전시킬 수가 있다. 그로써, 기판처리장치(100a)에 있어서의 처리율을 향상시킬 수가 있다.
(3) 제3의 실시의 형태
이하, 본 발명의 제3의 실시의 형태에 관한 기판처리장치에 대하여, 제1의 실시의 형태에 관한 기판처리장치와 다른 점을 설명한다. 제3의 실시의 형태에 관한 기판처리장치는, 반전유닛(RT1, RT2) 대신에, 이하에 나타내는 반전유닛(RT1a, RT2a)을 갖춘다.
도 14(a)는, 반전유닛(RT1a, RT2a)의 측면도이며, 도 14(b)는, 반전유닛(RT1a, RT2a)의 사시도이다. 도 14(a) 및 도 14(b)를 이용하여, 반전유닛(RT1a, RT2a)이 반전유닛(RT1, RT2)과 다른 점을 설명한다. 또한, 반전유닛(RT1a, RT2a)은 서로 같은 구성을 가진다.
도 14(a) 및 도 14(b)에 나타내는 것과 같이, 반전유닛(RT1a, RT2a)은, 고정판(32) 대신에, 제3가동판(41a), 제4가동판(41b), 1쌍의 리니어가이드(42a, 42b) 및 1쌍의 실린더(43a, 43b)를 포함한다.
제3가동판(41a)은, 제1가동판(36a)에 대향하도록 설치되고, 연결부재(44a)를 통하여 리니어가이드(42a)에 슬라이딩할 수 있게 장착되어 있다. 제4가동판(41b)은, 제2가동판(36b)에 대향하도록 설치되고, 연결부재(44b)를 통하여 리니어가이드(42b)에 슬라이딩할 수 있게 장착되어 있다. 제3가동판(41a) 및 제4가동판(41b)은 각각 제1가동판(36a) 및 제2가동판(36b)과 같은 형상을 가진다.
리니어가이드(42a, 42b)는, 각각 제3가동판(41a) 및 제4가동판(41b)에 수직인 방향으로 뻗어 있다. 제3가동판(41a)은 실린더(43a)에 의해 리니어가이드(42a)를 따라 오르내리고, 제4가동판(41b)은 실린더(43b)에 의해 리니어가이드(42b)를 따라 오르내리게 된다. 또한, 제1가동판(36a)에 대향하는 제3가동판(41a)의 일면에는 복수의 지지핀(39a)이 설치되고 있으며, 제2가동판(36a)에 대향하는 제4가동판(41b)의 일면에는 복수의 지지핀(39b)이 설치되어 있다.
또한, 제1가동판(36a), 제2가동판(36b), 제3가동판(41a) 및 제4가동판(41b) 의 각각의 이간거리는, 제3가동판(41a)과 제2가동판(36b)이 가장 떨어지는 것과 동시에 제4가동판(41b)와 제1가동판(36a)이 가장 떨어진 상태에서, 지지핀(39c)의 선단과 지지핀(39d)의 선단과의 사이의 거리가 핸드(MRH1)와 핸드(MRH2)와의 높이의 차이 M1보다 크게 되는 한편 지지핀(39a)의 선단과 지지핀(39b)의 선단과의 사이의 거리가 핸드(MRH1)와 핸드(MRH2)와의 높이의 차이 M1보다 작아지는 범위에서 임의로 설정할 수 있다.
반전유닛(RT1a, RT2a)에 있어서는, 제1가동판(36a)과 제3가동판(41a)과의 사이에 반입된 기판(W)을 파지할 때에, 실린더(37a, 43a)에 의해 제1가동판(36a) 및 제3가동판(41a)이 서로 가까워지도록 오르내린다. 그로써, 지지핀(39a, 39c)에 의해 기판(W)이 파지된다. 또한, 지지핀(39a, 39c)에 의한 기판(W)의 파지를 해제할 때에는, 실린더(37a, 43a)에 의해 제1가동판(36a) 및 제3가동판(41a)이 서로 멀어지도록 오르내린다.
또한, 제2가동판(36b)과 제4가동판(41b)과의 사이에 반입된 기판(W)을 파지 하는 경우에는, 실린더(37b, 43b)에 의해 제2가동판(36b) 및 제4가동판(41b)이 서로 가까워지도록 오르내린다. 그로써, 지지핀(39b, 39d)에 의해 기판(W)이 파지된다. 또한, 지지핀(39b, 39d)에 의해 기판(W)의 파지를 해제할 경우에는, 실린더(37b, 43b)에 의해 제2가동판(36b) 및 제4가동판(41b)이 서로 멀어지도록 오르내린다.
제3의 실시의 형태에 있어서도, 제1의 실시의 형태와 동일하게, 메인로봇(MR)의 핸드(MRH2)를 후퇴시켜 반전유닛(RT1a, RT2a)으로부터 반전 후의 기판(W) 을 반출할 때에, 메인로봇(MR)의 핸드(MRH1)를 상하방향으로 이동시키지 않고 그대로의 높이에서 전진시킴으로써 반전유닛(RT1a, RT2a)에 반전 전의 기판(W)을 반입할 수가 있다.
그로써, 반전유닛(RT1a, RT2a)으로부터 기판(W)을 반출하고 나서 반전유닛(RT1a, RT2a)에 기판(W)을 반입할 때까지의 사이에 핸드(MRH1, MRH2)의 높이를 조정할 필요가 없기 때문에, 반전유닛(RT1a, RT2a)으로의 기판(W)의 반출입을 신속히 실시할 수가 있다. 그로써, 기판처리장치(100)에서의 처리율을 향상시킬 수가 있다.
또한, 제3의 실시의 형태에서는, 제1가동판(36a), 제2가동판(36b), 제3가동판(41a) 및 제4가동판(41b)을 각각 독립적으로 구동할 수가 있으므로, 지지핀(39a, 39c)에 의한 기판(W)의 파지위치와 지지핀(39b, 39d)에 의한 기판(W)의 파지위치와의 간격을 임의적으로 조정하는 것이 가능해진다.
또한 상기 제2의 실시의 형태에 있어서, 반전유닛(RT1, RT2) 대신에 반전유닛(RT1a, RT2a)를 이용해도 좋다.
(4) 다른 실시의 형태
상기 제1~제3의 실시의 형태에서는, 기판(W)의 표면세정처리 후에 기판(W)의 이면세정처리를 실시하지만, 이에 한하지 않고, 기판(W)의 이면세정처리 후에 기판(W)의 표면세정처리를 실시해도 좋다. 이 경우, 기판(W)에 이면세정처리가 행해지기 전에, 그 기판(W)은 반전유닛(RT1)(또는 반전유닛RT1a)에 의해 이면이 윗쪽을 향하도록 반전된다. 그리고, 기판(W)에 이면세정처리가 행해진 후, 그 기판(W)은 반전유닛(RT2)(또는 반전유닛(RT2a))에 의해 표면이 윗쪽을 향하도록 반전된다. 그 후, 기판(W)에 표면세정처리가 행해진다.
또한, 상기 제1~제3의 실시의 형태에서는, 표면세정유닛(SS) 및 이면세정유닛(SSR)에 있어서, 브러쉬를 이용해 기판(W)의 표면 및 이면을 세정하지만, 이에 한정하지 않고, 약액을 이용해 기판(W)의 표면 및 이면을 세정해도 좋다.
또한, 상기 제1~제3의 실시의 형태에서는, 반전유닛(RT1)(또는 반전유닛RT1a)에 의해 이면세정처리전의 기판(W)을 반전하고, 반전유닛(RT2)(또는 반전유닛(RT2a))에 의해 이면세정처리 후의 기판(W)을 반전하지만, 이에 한정되지 않고, 반전유닛(RT2)(또는 반전유닛(RT2a))에 의해 이면세정처리전의 기판(W)을 반전하고, 반전유닛(RT1)(또는 반전유닛RT1a)에 의해 이면세정처리 후의 기판(W)을 반전해도 좋다.
또한, 상기 제1 및 제3의 실시의 형태에서는, 메인로봇(MR)의 핸드(MRH1)에 의해 반전유닛(RT1, RT2(또는 반전유닛(RT1a, RT2a))에 기판(W)을 반입하고, 메인로봇(MR)의 핸드(MRH2)에 의해 반전유닛(RT1, RT2(또는 반전유닛(RT1a, RT2a))으로부터 기판(W)을 반출하지만, 메인로봇(MR)의 핸드(MRH2)에 의해 반전유닛(RT1, RT2(또는 반전유닛(RT1a, RT2a))에 기판(W)을 반입하고, 메인로봇(MR)의 핸드(MRH1)에 의해 반전유닛(RT1, RT2(또는 반전유닛(RT1a, RT2a))으로부터 기판(W)을 반출해도 좋다.
이 경우, 반전유닛(RT1, RT2(반전유닛(RT1a, RT2a))에 있어서는, 반전 전의 기판(W)은 수평축(HA)보다 하부에서 파지된 상태가 되고, 반전 후의 기판(W)은 수 평축(HA)보다 윗쪽에서 파지된 상태가 된다.
또한, 상기 제1 및 제3의 실시의 형태에서는, 메인로봇(MR)이, 반전유닛(RT1, RT2(또는 반전유닛(RT1a, RT2a))으로부터 반전 후의 기판(W)을 반출한 후, 반전유닛(RT1, RT2(또는 반전유닛(RT1a, RT2a))에 반전 전의 기판(W)을 반입하지만, 이에 한정하지 않고, 반전유닛(RT1, RT2(또는 반전유닛(RT1a, RT2a))에 반전 전의 기판(W)을 반입한 후, 반전유닛(RT1, RT2(또는 반전유닛(RT1a, RT2a))으로부터 반전 후의 기판(W)을 반출해도 좋다.
또한, 상기 제1~제3의 실시의 형태에서는, 이면세정처리전의 기판(W)을 반전유닛(RT1)(또는 반전유닛RT1a)에 의해 반전하고, 이면세정처리 후의 기판(W)을 반전유닛(RT2)(또는 반전유닛(RT2a))에 의해 반전하지만, 이면세정처리전의 기판(W) 및 이면세정처리 후의 기판(W)을 공통의 반전유닛에 의해 반전해도 좋다.
또한, 상기 제1 및 제2의 실시의 형태에서는, 지지핀(39a, 39b, 39c, 39d)이 서로 동일한 길이를 가지지만, 제1가동판(36a) 및 제2가동판(36b)이 고정판(32)으로부터 가장 떨어진 상태에서, 지지핀(39c)의 선단과 지지핀(39d)의 선단과의 사이의 거리가 핸드(MRH1)와 핸드(MRH2)와의 높이의 차이 M1보다 크면서 지지핀(39a)의 선단과 지지핀(39b)의 선단과의 사이의 거리가 핸드(MRH1)와 핸드(MRH2)와의 높이의 차이 M1보다 작아지는 범위로 각 지지핀(39a, 39b, 39c, 39d)의 길이를 임의로 설정할 수 있다.
동일하게, 상기 제 3의 실시의 형태에 대하여, 제3가동판(41a)과 제2가동판(36b)이 가장 떨어지는 것과 동시에 제4가동판(41b)와 제1가동판(36a)이 가장 떨 어진 상태에서, 지지핀(39c)의 선단과 지지핀(39d)의 선단의 사이의 거리가 핸드(MRH1)와 핸드(MRH2)와의 높이의 차이 M1보다 크게 되는 한편 지지핀(39a)의 선단과 지지핀(39b)의 선단과의 사이의 거리가 핸드(MRH1)와 핸드(MRH2)와의 높이의 차이 M1보다 작아지는 범위에서 각 지지핀(39a, 39b, 39c, 39d)의 길이를 임의로 설정할 수 있다.
또한, 상기 제1의 실시의 형태에서는, 고정판(32)이 지지판(31)에 고정되고, 제1가동판(36a) 및 제2가동판(36b)이 지지판(31)에 대해서 이동할 수 있게 설치되어 있지만, 제1가동판(36a) 및 제2가동판(36b)이 지지판(31)에 고정되고, 고정판(32)이 지지판(31)에 대해서 이동할 수 있게 설치되어도 좋다.
또한, 상기 제1~제3의 실시의 형태에서는, 인덱서로봇(IR) 및 메인로봇(MR)으로서, 관절을 움직임으로써, 직선적으로 핸드의 진퇴동작을 실시하는 다관절형 반송로봇을 사용하고 있지만, 이에 한정되지 않고, 기판(W)에 대해서 핸드를 직선적으로 슬라이드시켜 진퇴동작을 실시하는 직동형(直動型) 반송로봇을 사용해도 좋다.
또한, 인덱서로봇(IR) 및 메인로봇(MR)의 동작순서는, 반전유닛(RT1, RT2), 표면세정유닛(SS) 및 이면세정유닛(SSR)의 처리속도 등에 따라 적절히 변경해도 좋다.
또한, 반전유닛(RT1, RT2(또는 반전유닛(RT1a, RT2a)), 표면세정유닛(SS), 이면세정유닛(SSR) 및 기판재치부(PASS1, PASS2)의 개수는, 이들의 처리속도 등에 따라 적절히 변경해도 좋다.
(5) 청구항의 각 구성요소와 실시의 형태의 각 요소와의 대응
이하, 청구항의 각 구성요소와 실시의 형태의 각 요소와의 대응의 예에 대해 설명하지만, 본 발명은 아래와 같은 예로 한정되지 않는다.
상기 실시의 형태에서는, 반전유닛(RT1, RT2, RT1a, RT2a)이 반전장치의 예이며, 고정판(32), 제1가동판(36a), 지지핀(39a, 39c), 실린더(37a, 43a) 및 제3가동판(41a)이 제1파지기구의 예이며, 고정판(32), 제2가동판(36b), 지지핀(39b, 39d), 실린더(37b, 43b) 및 제4가동판(41b)이 제2파지기구의 예이며, 지지판(31)이 지지부재의 예이며, 로터리 액츄에이터(38)가 회전장치의 예이며, 고정판(32), 제3가동판(41a) 및 제4가동판(41b)이 공통의 반전파지부재의 예이며, 제1가동판(36a)이 제1반전파지부재의 예이며, 제2가동판(36b)이 제2반전파지부재의 예이며, 지지핀(39a)이 제1지지부의 예이며, 지지핀(39c)이 제2지지부의 예이며, 지지핀(39b)이 제3지지부의 예이며, 지지핀(39d)이 제4지지부의 예이며, 실린더(37a, 43a)가 제1구동기구의 예이며, 실린더(37b, 43b)가 제2구동기구의 예이다.
또한, 메인로봇(MR)이 반송장치의 예이며, 핸드(MRH1)가 제1반송파지부의 예이며, 핸드(MRH2)가 제2반송파지부의 예이며, 조부(H11, H12)가 파지부분의 예이며, 제3가동판(41a)이 제3반전파지부재의 예이며, 제4가동판(41b)이 제4반전파지부재의 예이며, 이면세정유닛(SSR)이 제1세정처리부의 예이며, 표면세정유닛(SS)이 제2세정처리부의 예이다.
청구항의 각 구성요소로서, 청구항에 기재되어 있는 구성 또는 기능을 가지는 다른 여러가지의 요소를 이용할 수도 있다.
도 1은, 제1의 실시의 형태에 관한 기판처리장치의 구성을 나타내는 도이다.
도 2는, 제1의 실시의 형태에 관한 기판처리장치의 구성을 나타내는 도이다.
도 3은, 메인로봇의 상세한 사항을 나타내는 도이다.
도 4는, 반전유닛의 상세한 사항을 나타내는 도이다.
도 5는, 반전유닛의 동작을 나타내는 도이다.
도 6은, 반전유닛의 동작을 나타내는 도이다.
도 7은, 반전유닛의 동작을 나타내는 도이다.
도 8은, 메인로봇에 의한 기판의 반출입동작을 나타내는 도이다.
도 9는, 표면세정유닛의 구성을 나타내는 도이다.
도 10은, 이면세정유닛의 구성을 나타내는 도이다.
도 11은, 본 발명의 제2의 실시의 형태에 관한 기판처리장치의 구성을 나타내는 도이다.
도 12는, 제2의 실시의 형태에 있어서의 반전유닛의 동작을 나타내는 도이다.
도 13은, 제2의 실시의 형태에 있어서의 반전유닛의 동작을 나타내는 도이다.
도 14는, 제3의 실시의 형태에 있어서의 반전유닛의 구성을 나타내는 도이다.

Claims (14)

  1. 기판의 외주부(外周部)에 접촉함으로써 기판을 파지하는 제1파지기구와,
    기판의 외주부에 접촉함으로써 기판을 파지하는 제2파지기구와,
    상기 제1 및 제2파지기구에 의해 각각 파지되는 기판이 서로 평행하게 되면서, 상기 제1 및 제2파지기구에 의해 각각 파지되는 기판에 수직인 제1축의 방향에서 상기 제1 및 제2파지기구가 겹쳐지도록 상기 제1 및 제2파지기구를 지지하는 지지부재(支持部材)와,
    상기 지지부재를 상기 제1 및 제2파지기구와 함께 상기 제1축과 수직인 제2축의 주위로 일체적으로 회전시키는 회전장치를 갖추는, 반전장치(反轉裝置).
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 및 제2파지기구는, 상기 제1축에 수직인 일면(一面) 및 다른 면을 가지는 공통의 반전파지부재를 포함하고,
    상기 제1파지기구는,
    상기 공통의 반전파지부재의 상기 일면에 설치되어 기판의 바깥둘레부를 지지하는 복수의 제1지지부와,
    상기 공통의 반전파지부재의 상기 일면에 대향하도록 설치된 제1반전파지부재와,
    상기 공통의 반전파지부재에 대향하는 상기 제1반전파지부재의 면에 설치되어 기판의 바깥둘레부를 지지하는 복수의 제2지지부와,
    상기 제1반전파지부재와 상기 공통의 반전파지부재가 상기 제1축의 방향에 있어서 서로 이간한 상태와 상기 제1반전파지부재와 상기 공통의 반전파지부재가 서로 근접한 상태로 선택적으로 이행하도록 상기 제1반전파지부재 및 상기 공통의 반전파지부재의 적어도 한쪽을 이동시키는 제1구동기구를 포함하고,
    상기 제2파지기구는,
    상기 공통의 반전파지부재의 상기 다른 면에 설치되어, 기판의 바깥둘레부를 지지하는 복수의 제3지지부와,
    상기 공통의 반전파지부재의 상기 다른 면에 대향하도록 설치된 제2의 반전파지부재와,
    상기 공통의 반전파지부재에 대향하는 상기 제2반전파지부재의 면에 설치되어 기판의 바깥둘레부를 지지하는 복수의 제4지지부와,
    상기 제2반전파지부재와 상기 공통의 반전파지부재가 상기 제1축의 방향에 있어서 서로 이간한 상태와 상기 제2반전파지부재와 상기 공통의 반전파지부재가 서로 근접한 상태로 선택적으로 이행하도록 상기 제2반전파지부재 및 상기 공통의 반전파지부재의 적어도 한쪽을 이동시키는 제2구동기구를 포함한, 반전장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1 및 제2파지기구는, 반송장치의 제1 및 제2반송파지부에 의해 반입되는 기판을 각각 파지하고,
    상기 제1파지기구에 의한 기판의 파지위치와 상기 제2파지기구에 의한 기판의 파지위치와의 사이의 거리가 상기 반송장치의 상기 제1반송파지부에 의한 기판의 파지위치와 상기 제2반송파지부에 의한 기판의 파지위치와의 사이의 거리와 동일한, 반전장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 공통의 반전파지부재, 상기 제1반전파지부재 및 상기 제2반전파지부재는, 상기 반송장치의 상기 제1 및 제2반송파지부가 상기 제1축의 방향으로 통과할 수 있는 노치영역을 가지는, 반전장치.
  5. 표면 및 이면을 가지는 기판에 처리를 실시하는 기판처리장치로서,
    기판의 상기 표면과 상기 이면을 반전시키는 반전장치와,
    제1 및 제2반송파지부를 가지며, 상기 반전장치에 대해서 기판을 반입 및 반출하는 반송장치를 갖추며,
    상기 반전장치는,
    기판의 외주부에 접촉함으로써 기판을 파지하는 제1파지기구와,
    기판의 외주부에 접촉함으로써 기판을 파지하는 제2파지기구와,
    상기 제1 및 제2파지기구에 의해 각각 파지되는 기판이 서로 평행하게 되면서, 상기 제1 및 제2파지기구에 의해 각각 파지되는 기판에 수직인 제1축의 방향에서 상기 제1 및 제2파지기구가 겹쳐지도록 상기 제1 및 제2파지기구를 지지하는 지지부재와, 상기 지지부재를 상기 제1 및 제2파지기구와 함께 상기 제1축과 수직인 제2축의 주위에서 일체적으로 회전시키는 회전장치를 갖추는, 기판처리장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제1파지기구에 의한 기판의 파지위치와 상기 제2파지기구에 의한 기판의 파지위치와의 사이의 거리가 상기 반송장치의 상기 제1반송파지부에 의한 기판의 파지위치와 상기 제2반송파지부에 의한 기판의 파지위치와의 사이의 거리와 동일한, 기판처리장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 제1 및 제2파지기구는, 상기 제1축에 수직인 일면 및 다른 면 을 가지는 공통의 반전파지부재를 포함하고,
    상기 제1파지기구는,
    상기 공통의 반전파지부재의 상기 일면에 설치되어 기판의 바깥둘레부를 지지하는 복수의 제1지지부와,
    상기 공통의 반전파지부재의 상기 일면에 대향하도록 설치된 제1의 반전파 지부재와,
    상기 공통의 반전파지부재에 대향하는 상기 제1반전파지부재의 면에 설치되어 기판의 바깥둘레부를 지지하는 복수의 제2지지부와,
    상기 제1반전파지부재와 상기 공통의 반전파지부재가 상기 제1축의 방향에 있어서 서로 이간한 상태와 상기 제1반전파지부재와 상기 공통의 반전파지부재가 서로 근접한 상태로 선택적으로 이행하도록 상기 제1반전파지부재 및 상기 공통의 반전파지부재의 적어도 한쪽을 이동시키는 제1구동기구를 포함하고,
    상기 제2파지기구는,
    상기 공통의 반전파지부재의 상기 다른 면에 설치되어 기판의 바깥둘레부를 지지하는 복수의 제3지지부와,
    상기 공통의 반전파지부재의 상기 다른 면에 대향하도록 설치된 제2반전파지부재와,
    상기 공통의 반전파지부재에 대향하는 상기 제2반전파지부재의 면에 설치되어, 기판의 바깥둘레부를 지지하는 복수의 제4지지부와,
    상기 제2반전파지부재와 상기 공통의 반전파지부재가 상기 제1축의 방향에 있어서 서로 이간한 상태와 상기 제2반전파지부재와 상기 공통의 반전파지부재가 서로 근접한 상태로 선택적으로 이행하도록 상기 제2반전파지부재 및 상기 공통의 반전파지부재의 적어도 한쪽을 이동시키는 제2구동기구를 포함한, 기판처리장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 공통의 반전파지부재, 상기 제1반전파지부재 및 상기 제2반전파지부재는, 상기 반송장치의 상기 제1 및 제2반송파지부가 상기 제1축의 방향으로 통과할 수 있는 노치영역을 가지는, 기판처리장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 반송장치는, 상기 제1 및 제2반송파지부를 진퇴시키는 진퇴기구(進退機構)를 포함하고,
    상기 제1 및 제2반송파지부의 각각은, 진퇴방향으로 뻗는 복수의 파지부분을 가지며,
    상기 공통의 반전파지부재, 상기 제1반전파지부재 및 상기 제2반전파지부재의 노치영역은, 상기 제1 및 제2반송파지부의 상기 복수의 파지부분이 통과할 수 있는 복수의 노치부분을 포함한, 기판처리장치.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 복수의 제1지지부의 선단과 상기 복수의 제4지지부의 선단과의 사이의 거리 및 상기 복수의 제2지지부의 선단과 상기 복수의 제3지지부의 선단과의 사이의 거리가 상기 반송장치의 상기 제1반송파지부에 의한 기판의 파지위치와 상기 제2반송파지부에 의한 기판의 파지위치와의 사이의 거리와 동일하게 설정된, 기판처리장치.
  11. 제7항에 있어서,
    상기 공통의 반전파지부재는 상기 지지부재에 고정되고,
    상기 제1구동기구는, 상기 제1반전파지부재와 상기 공통의 반전파지부재가 서로 이간한 상태와 상기 제1반전파지부재와 상기 공통의 반전파지부재가 서로 근접한 상태로 선택적으로 이행하도록 상기 제1반전파지부재를 상기 공통의 반전파지부재에 상대적으로 이동시키고,
    상기 제2구동기구는, 상기 제2반전파지부재와 상기 공통의 반전파지부재가 서로 이간한 상태와 상기 제2반전파지부재와 상기 공통의 반전파지부재가 서로 근접한 상태로 선택적으로 이행하도록 상기 제2반전파지부재를 상기 공통의 반전파지부재에 상대적으로 이동시키는, 기판처리장치.
  12. 제7항에 있어서,
    상기 공통의 반전파지부재는, 상기 제1반전파지부재에 대향하도록 설치된 제3반전파지부재와,
    상기 제2반전파지부재에 대향하도록 설치된 제4반전파지부재를 포함하고,
    상기 복수의 제1지지부는, 상기 제1반전파지부재에 대향하는 상기 제 3반전파지부재의 면에 설치되고,
    상기 복수의 제3지지부는, 상기 제2반전파지부재에 대향하는 상기 제4반전파지부재의 면에 설치되며,
    상기 제1구동기구는, 상기 제1반전파지부재와 상기 제 3반전파지부재가 서로 이간한 상태와 상기 제1반전파지부재와 상기 제 3반전파지부재가 서로 근접한 상태로 선택적으로 이행하도록 상기 제1반전파지부재 및 상기 제 3반전파지부재의 적어도 한쪽을 이동시키고,
    상기 제2구동기구는, 상기 제2반전파지부재와 상기 제4반전파지부재가 서로 이간한 상태와 상기 제2반전파지부재와 상기 제4반전파지부재가 서로 근접한 상태로 선택적으로 이행하도록 상기 제2반전파지부재 및 상기 제4반전파지부재의 적어도 한쪽을 이동시키는, 기판처리장치.
  13. 제5항에 있어서,
    기판의 이면을 세정하는 제1세정처리부를 더 갖추고,
    상기 반송장치는, 상기 반전장치와 상기 제1세정처리부와의 사이에서 기판을 반송하는, 기판처리장치.
  14. 제13항에 있어서,
    기판의 표면을 세정하는 제2세정처리부를 더 갖추고,
    상기 반송장치는, 상기 반전장치, 상기 제1세정처리부 및 상기 제2세정처리부의 사이에서 기판을 반송하는, 기판처리장치.
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