CN101174047B - 显示装置及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示装置及其制造方法，该显示装置包括彼此面对的第一基底和第二基底、设置在第一基底上的感测电极以及设置在第二基底上的分隔件。分隔件随着外力施加到分隔件而连接到感测电极，并具有形成在分隔件的面对感测电极的表面上的凹凸部分。可选择地，分隔件具有导体和容纳导体的槽，导体随着外力施加到导体而接触感测电极。

Description

显示装置及其制造方法

本申请要求于2006年10月31日提交的第10-2006-0106668号韩国专利申请的优先权，由此通过用于各种目的的引用包含该申请，就像在这里完全提出一样。

技术领域

本发明涉及一种显示装置及其制造方法。更具体地讲，本发明涉及一种整体形成的显示装置和触摸面板及其制造方法。

背景技术

显示图像的显示装置还可包括触摸面板。通常，触摸面板允许用户用他的手或者物体输入命令，而不需要使用诸如键盘或鼠标的输入装置。当用户接触触摸面板时，显示装置检测触摸面板上的触点，并相应于命令在屏幕上输出图像。

因此，触摸面板型显示装置包括触摸面板和显示面板。触摸面板接收来自用户的命令，并检测触点。随后，显示面板相应于命令在屏幕上输出图像。

如上所述，由于触摸面板型显示装置包括触摸面板和显示面板，所以显示装置较厚。此外，由于彼此独立地制造触摸面板和显示面板，所以会增加制造成本并会延长制造时间。

发明内容

本发明提供了一种显示装置，在该显示装置中，触摸面板与显示面板一体地形成。

本发明还提供了一种制造该显示装置的方法。

将在随后的描述中阐述本发明的另外的特征，本发明的另外的特征从描述中将部分地变得清楚，或者可以通过实践本发明而获知。

本发明公开了一种显示装置，该显示装置包括：第一基底和第二基底，彼此面对；像素电极，设置在第一基底上；感测电极，在第一基底上与像素电极隔开；第一分隔件，设置在第二基底上。第一分隔件在第一分隔件的面对感测电极的表面上包括凹凸部分，第一分隔件响应外力连接到感测电极。

本发明还公开了一种显示装置，该显示装置包括：第一基底和第二基底，彼此面对；像素电极，设置在第一基底上；感测电极，在第一基底上与像素电极隔开；第一分隔件，设置在第二基底上。第一分隔件包含导电聚合物，第一分隔件响应外力连接到感测电极。

本发明还公开了一种显示装置，该显示装置包括：第一基底和第二基底，彼此面对；像素电极，设置在第一基底上；感测电极，在第一基底上与像素电极隔开；第一分隔件，设置在第二基底上。第一分隔件包括槽和设置在槽中的导体，导体响应外力连接到感测电极。

本发明还公开了一种制造显示装置的方法。在第一基底上形成彼此隔开的像素电极和感测电极。在第二基底上形成第一绝缘层。将第一绝缘层图案化，以形成第一分隔件，第一分隔件在第一分隔件的上表面上具有凹凸部分。在第二基底形成共电极，共电极覆盖第一分隔件的上表面。将第一基底和第二基底彼此结合，第一分隔件面对感测电极的上表面，并与感测电极的上表面隔开。

本发明还公开了一种制造显示装置的方法。在第一基底上形成彼此隔开的像素电极和感测电极。在第二基底上形成绝缘层。将绝缘层图案化，以形成具有槽的第一分隔件和与第一分隔件隔开的第二分隔件。在第一分隔件和第二分隔件上形成导电层，以覆盖第二基底。将导电层图案化，以形成共电极和导体，共电极暴露第二分隔件，导体容纳在槽中。将第一基底和第二基底彼此结合，第一分隔件面对感测电极的上表面，并与感测电极的上表面隔开。

应该理解的是，上述的总体描述和下面的详细描述都是示例性的和示出性的，并意图提供对所要求保护的本发明的进一步的解释。

附图说明

包括的附图用于提供对本发明进一步的理解，且附图包含在本说明书中并构成本说明书的一部分，附图示出了本发明的实施例，且与描述一起用于解释本发明的原理。

图1是示出根据本发明示例性实施例的显示装置的平面图。

图2是沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。

图3A、图3B、图3C和图3D是示出制造图2中的显示装置的方法的剖视图。

图4是根据本发明另一示例性实施例的沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。

图5A、图5B、图5C和图5D是示出制造图4中的显示装置的方法的剖视图。

图6是根据本发明另一示例性实施例的沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。

图7A、图7B和图7C是示出制造图6中的显示装置的方法的剖视图。

图8是根据本发明另一示例性实施例的沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。

图9A、图9B和图9C是示出制造图8中的显示装置的方法的剖视图。

图10是根据本发明另一示例性实施例的沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。

图11A、图11B和图11C是示出根据本发明不同示例性实施例的形成在图10中的分隔件中的第一槽的形状的平面图。

图12A、图12B、图12C和图12D是示出制造图10中的显示装置的方法的剖视图。

具体实施方式

在下文中，参照附图更充分地描述本发明，本发明的实施例示出在附图中。然而，本发明可以以许多不同的形式实施，且不应该被解释为局限于在此阐述的实施例。相反，提供这些实施例，使得本公开是彻底的，并将把本发明的范围充分传达给本领域技术人员。在附图中，为了清楚起见，会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。附图中相同的标号表示相同的元件。

应该理解的是，当元件或层被称作“在”另一元件或层“上”或者“连接到”另一元件或层时，该元件或层可以直接在该另一元件或层上，或者直接连接到该另一元件或层，或者可存在中间元件或中间层。相反，当元件或层被称作“直接在”另一元件或层“上”或者“直接连接到”另一元件或层时，不存在中间元件或中间层。

图1是示出根据本发明示例性实施例的显示装置的平面图。

参照图1，显示装置包括彼此面对的第一基底100和第二基底200。第一基底100包括栅极线110和数据线140。栅极线110沿着行方向延伸，数据线140沿着列方向延伸。栅极线110和数据线140彼此交叉，从而限定像素区PA。图1示出了一个像素区，但是在显示装置中设置了多条栅极线、数据线和多个像素区。由于所有的像素区PA大体上具有相同的结构和相同的功能，所以下面的描述集中在图1中示出的单个像素区PA上。

像素区PA包括薄膜晶体管T、像素电极160和感测电极170。薄膜晶体管T包括栅电极111、源电极141和漏电极142。栅电极111从栅极线110分出，源电极141从数据线140分出，漏电极142与源电极141隔开。像素电极160位于像素区PA中，像素电极160通过第一接触孔h1连接到漏电极142。

像素区PA包括与栅极线110和数据线140分开的第一感测线116s和第二感测线146s。第一感测线116s和栅极线110可形成在同一层上，第二感测线146s和数据线140可形成在同一层上。第一感测线116s大体上平行于栅极线110，第二感测线146s大体上平行于数据线140，并与第一感测线116s绝缘。感测电极170与像素电极160隔开，并形成在第一感测线116s和第二感测线146s彼此交叉的区域附近。感测电极170分别通过第二接触孔h2和第三接触孔h3连接到第一感测线116s和第二感测线146s。

第二基底200包括共电极240、第一分隔件250和第二分隔件270。共电极240对应于像素电极160，共电极240可以基本上覆盖第二基底200的整个表面。对应于感测电极170布置第一分隔件250，对应于薄膜晶体管T的沟道区布置第二分隔件270。

图2是沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。

参照图2，栅电极111形成在第一基底100上，并被栅极绝缘层120覆盖，栅极绝缘层120可覆盖第一基底100。半导体层图案130形成在栅极绝缘层120上，并包括有源图案131和欧姆接触图案132。有源图案131具有沟道区，当薄膜晶体管T工作时在沟道区中形成沟道。欧姆接触图案132被划分成两部分，源电极141和漏电极142分别沿着所述划分的部分形成。源电极141和漏电极142被钝化层150覆盖，钝化层150可覆盖第一基底100。钝化层150包括暴露漏电极142的第一接触孔h1。彼此隔开的像素电极160和感测电极170形成在钝化层150上。

光阻挡层图案210形成在第二基底200上。光阻挡层图案210覆盖与薄膜晶体管T对应的区域和像素区PA的边界，光阻挡层图案210阻挡对应的区域中的光的透射。光阻挡层图案210在像素区PA中开口，滤色器220布置在所述开口部分中。滤色器220包括对应于光的三原色的红色、绿色和蓝色滤色器，根据各个像素区PA交替地排列所述滤色器。基于三原色的组合显示颜色图像。保护层(overcoat layer)230形成在光阻挡层图案210和滤色器220上，并使第二基底200的表面平坦化。

第一分隔件250形成在保护层230上，并在面对感测电极170的同时与感测电极170隔开。第一分隔件250包括绝缘体，所述绝缘体朝第一基底100突出，且在它的上表面上具有凹凸部分260。共电极240覆盖第一分隔件250并形成在第二基底200上。因为第一分隔件250被共电极240覆盖，所以包括共电极240的第一分隔件250具有导电性。第二分隔件270形成在共电极240上，并在与薄膜晶体管T的沟道区对应的区域中接触第一基底100的表面。第二分隔件270还可位于与栅极线110或数据线140对应的位置。第二分隔件270保持第一基底100和第二基底200之间的间隔。

当显示装置工作时，参考电压被施加到第一感测线116s和第二感测线146s。当用户触摸屏幕的一部分以执行特定命令时，与屏幕的被触摸的部分对应的第一分隔件250接触感测电极170。由于第一分隔件250被导电的共电极240覆盖，所以接触部分的电阻值改变。此外，由于感测电极170分别通过第二接触孔h2和第三接触孔h3连接到第一感测线116s和第二感测线146s，所以参考电压在接触部分处改变。

因此，可通过检测参考电压的变化来检测屏幕的被用户触摸的部分。当检测到被触摸的部分时，确定用户选择的命令，随后显示对应于该命令的图像信息。

为了显示图像信息，栅极信号和数据信号分别被施加到栅极线110和数据线140。栅极信号导通薄膜晶体管T，与数据信号对应的数据电压响应栅极信号被施加到像素电极160。与此同时，共电压被施加到共电极240。根据将要显示的图像信息，在每帧中，数据电压会改变，共电压保持不变。数据电压和共电压之间的差建立第一基底100和第二基底200之间的电场。

该电场对设置在第一基底100和第二基底200之间的显示器件(displaymeans)施加影响。显示器件根据显示装置的类型而不同。例如，在液晶显示器中，显示器件是液晶，液晶层300置于第一基底100和第二基底200之间。液晶层300包括液晶，液晶的取向根据电场的强度和方向而改变。穿过液晶层300照射到外部的光的量根据液晶的取向而改变，相应于光的量显示图像。

根据上述示例性实施例，因为起触摸面板和显示面板作用的元件设置在第一基底100和第二基底200之间，所以不需要单独的触摸面板。

在上述的操作中，第一分隔件250会频繁地接触感测电极170。因为重复接触，所以共电极240会由于重复接触的冲击而与第一分隔件250的表面分离。形成在第一分隔件250中的凹凸部分260可防止共电极240与第一分隔件250分离。即，凹凸部分260可增大共电极240和第一分隔件250之间的接触面积，以防止分离。此外，虽然共电极240会局部地与第一分隔件250分离，但是凹凸部分260的增大的接触面积可允许共电极240继续用于检测接触位置。

在这点上，对凹凸部分260的形状没有限制，只要凹凸部分260增大共电极240和第一分隔件250之间的接触面积即可。即，凹凸部分260可具有弯曲的凹部和凸部交替地布置的波纹形形状。此外，凹凸部分260可具有尖锐的线性凹部和凸部交替地布置的锯齿形形状。

当第一分隔件250、感测电极170、第一感测线116s和第二感测线146s执行触摸面板的功能时，这些组件没有基于位置的限制。因此，第一分隔件250、感测电极170、第一感测线116s和第二感测线146s可位于与图1和图2中示出的位置不同的位置。例如，第一感测线116s和第二感测线146s可以位于被光阻挡层图案210隐藏的区域中。在这种情况下，像素区PA中挡光部分的面积减小，从而增大了开口率。

图3A、图3B、图3C和图3D是示出制造图2中的显示装置的方法的剖视图。

参照图3A，在第一基底100上形成栅极导电层，并将栅极导电层图案化，以形成栅电极111。在栅极导电层的图案化工艺过程中，还形成栅极线110和第一感测线116s。随后形成栅极绝缘层120和半导体层图案130。在半导体层图案130上形成数据导电层，并将数据导电层图案化，以形成源电极141和漏电极142。在数据导电层的图案化工艺过程中，还形成数据线140和第二感测线146s。

在源电极141和漏电极142上形成钝化层150。在钝化层150上形成透明导电层，并将透明导电层图案化，以形成像素电极160和感测电极170。

参照图3B，在第二基底200上形成光阻挡层，并将光阻挡层图案化，以形成光阻挡层图案210。在光阻挡层图案210上形成颜色光致抗蚀剂层，并将颜色光致抗蚀剂层图案化，以形成滤色器220。在光阻挡层图案210和滤色器220上形成保护层230。

将感光绝缘层涂覆在保护层230上。随后对感光绝缘层执行曝光和显影工艺，从而形成具有凹凸部分260的第一分隔件250。为了形成凹凸部分260，可对将形成有凹凸部分260的区域执行半色调曝光工艺。下面将详细描述半色调曝光工艺。

参照图3C，在第二基底200上沉积透明导电层。透明导电层覆盖第一分隔件250，所以第一分隔件250具有导电性。透明导电层本身对应于共电极240。可选择地，可以蚀刻透明导电层的一部分，以形成共电极240。在这种情况下，可以通过蚀刻工艺使共电极240和覆盖第一分隔件250的部分彼此隔开。在液晶装置中，共电极240可具有通过去除透明导电层的预定区域形成的切口(cutout)。切口将像素区PA划分成多个范围(domain)，从而为液晶装置提供了宽视角。

在共电极240上涂覆绝缘层，并将绝缘层图案化，从而形成第二分隔件270。第二分隔件270与第一分隔件250隔开。

参照图3D，将第一基底100与第二基底200结合，使得第一基底100和第二基底200彼此面对，并在第一基底100和第二基底200之间形成液晶层300。在该结合工艺过程中，调整第一基底100和第二基底200，使得第一分隔件250与感测电极170的上表面隔开。

图4是根据本发明另一示例性实施例的沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。

参照图4，显示装置包括第一基底100、第二基底200以及置于第一基底100和第二基底200之间的液晶层300。栅电极111、半导体层图案130、源电极141、漏电极142、像素电极160和感测电极170形成在第一基底100上。光阻挡层图案210、滤色器220、保护层230、共电极240、第一分隔件250和第二分隔件270形成在第二基底200上。

第一分隔件250和第二分隔件270形成在保护层230上。第一分隔件250在它的表面上具有凹凸部分260，并与感测电极170隔开。第二分隔件270接触第一基底100。共电极240覆盖第一分隔件250，当对共电极240的覆盖第一分隔件250的部分施加外力时，该部分接触感测电极170。此外，共电极240暴露第二分隔件270，而不是覆盖第二分隔件270。因此，第二分隔件270具有绝缘特性。第二分隔件270可由于外部冲击而从一侧到另一侧地摆动，使得第二分隔件270可从它的位置移动，并可接触第一基底100上的导电部分。在这种情况下，由于第一基底100会与第二基底200电短路，所以第二分隔件270可具有绝缘特性以防止这种短路。

图5A、图5B、图5C和图5D是示出制造图4中的显示装置的方法的剖视图。

参照图5A，可以通过前面的实施例中描述的方法来制造第一基底100，并在第二基底200上形成光阻挡层图案210、滤色器220和保护层230。在保护层230上涂覆感光绝缘层250′，对感光绝缘层250′执行曝光工艺。

在曝光工艺过程中，执行半色调曝光工艺。半色调曝光工艺可以利用具有透射部分11、中间透射(intermediate transmitting)部分12和非透射部分13的光掩模10。透射部分11透射光，非透射部分13阻挡光。中间透射部分12部分地透射光。具有中间透射部分12的光掩模可包括缝隙掩模或半色调掩模。

缝隙掩模包括形成在中间透射部分12中的多个缝隙，可通过调节缝隙之间的间隔来控制透射光的量。半色调掩模的中间透射部分12包含部分地透射光的材料，可根据材料的组分来控制透射光的量。

参照图5B，对感光绝缘层250′执行显影工艺。通过浸渍或喷射方案(scheme)将显影剂设置到第二基底200上来执行显影工艺。显影剂与感光绝缘层250′的被曝光的部分反应，从而去除该部分。

在显影工艺过程中，从与透射部分11对应的区域中完全去除感光绝缘层250′。此外，从与中间透射部分12对应的区域中部分地去除感光绝缘层250′，从而形成具有凹凸部分260的第一分隔件250。然而，在与非透射部分13对应的区域中保留感光绝缘层250′，从而形成比第一分隔件250高的第二分隔件270。

如上所述，通过利用一个光掩模执行单个曝光工艺，可以同时形成第一分隔件250和第二分隔件270，从而减少了工艺步骤的数量并降低了制造成本。

在第二基底200上沉积透明导电层240′，从而覆盖第一分隔件250和第二分隔件270。

参照图5C，将透明导电层240′图案化，以形成共电极240。共电极240覆盖第一分隔件250，所以第一分隔件250具有导电性。此外，共电极240暴露第二分隔件270，所以第二分隔件270具有绝缘特性。通过图案化工艺，共电极240可具有通过去除透明导电层240′的预定区域而形成的切口，从而液晶装置可具有宽视角。

参照图5D，将第一基底100与第二基底200结合，使得第一基底100和第二基底200彼此面对，并在第一基底100与第二基底200之间形成液晶层300。在该结合工艺过程中，调整第一基底100和第二基底200，使得第一分隔件250与感测电极170的上表面隔开。

图6是根据本发明另一示例性实施例的沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。

参照图6，显示装置包括第一基底100、第二基底200以及置于第一基底100和第二基底200之间的液晶层300。栅电极111、半导体层图案130、源电极141、漏电极142、像素电极160和感测电极170形成在第一基底100上。光阻挡层图案210、滤色器220、保护层230、共电极240、第一分隔件250和第二分隔件270形成在第二基底200上。

第一分隔件250和第二分隔件270形成在共电极240上。第一分隔件250包含导电聚合物，所以即使第一分隔件250不被共电极240覆盖，第一分隔件250本身也具有导电性。第二分隔件270包含与第一分隔件250的材料不同的材料，并具有绝缘特性。

第一分隔件250可包含通过热固化互联的环氧树脂和通过光固化互联的丙烯酰树脂(acryl resin)。此外，第一分隔件250可包含透明的导电聚合物聚乙撑二氧噻吩-聚苯乙烯磺酸盐(polyethylene dioxythiophene-polystyrenesulfonate)。聚乙撑二氧噻吩-聚苯乙烯磺酸盐用下面的化学式表示。

<化学式>

在该化学式中，n和n′表示正整数。

第一分隔件250具有平坦的上表面，在第一分隔件250上没有形成另外的凹凸部分。这是因为第一分隔件250是导电的，不存在导电部分与第一分隔件250分离的潜在问题。

图7A、图7B和图7C是示出制造图6中的显示装置的方法的剖视图。

参照图7A，制造第一基底100，在第二基底200上形成光阻挡层图案210、滤色器220、保护层230和共电极240。在共电极240上形成导电聚合物层，并将导电聚合物层图案化，以形成第一分隔件250。当该导电层具有感光性时，图案化工艺包括对该导电层进行的曝光和显影。另外，在该导电层上可形成光致抗蚀剂层图案，可利用光致抗蚀剂层图案作为蚀刻掩模来蚀刻该导电层。

参照图7B，在共电极240上形成绝缘层，并对该绝缘层执行曝光和显影工艺，以形成第二分隔件270。因为第一分隔件250和第二分隔件270包含彼此不同的材料，所以它们通过单独的图案化工艺形成。

参照图7C，将第一基底100与第二基底200结合，使得第一基底100和第二基底200彼此面对，并在第一基底100与第二基底200之间形成液晶层300。

图8是根据本发明另一示例性实施例的沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。

参照图8，显示装置包括第一基底100、第二基底200以及置于第一基底100和第二基底200之间的液晶层300。栅电极111、半导体层图案130、源电极141、漏电极142、像素电极160和感测电极170形成在第一基底100上。光阻挡层图案210、滤色器220、保护层230、共电极240、第一分隔件250和第二分隔件270形成在第二基底200上。

共电极240形成在第一分隔件250和第二分隔件270之间，使得共电极240覆盖第一分隔件250。第一分隔件250包含导电聚合物，并在它的表面上具有凹凸部分260。虽然第一分隔件250导电，但是第一分隔件250可被共电极240覆盖，以增加第一分隔件250的导电性。包括凹凸部分260，使得共电极240的覆盖第一分隔件250的部分不会与第一分隔件250分离。

图9A、图9B和图9C是示出制造图8中的显示装置的方法的剖视图。

参照图9A，制造第一基底100，在第二基底200上形成光阻挡层图案210、滤色器220和保护层230。在保护层230上形成导电聚合物层，并将导电聚合物层图案化，以形成第一分隔件250。在图案化工艺过程中，可利用缝隙掩模或半色调掩模来执行曝光，使得在第一分隔件250的表面上形成凹凸部分。在第二基底200上沉积透明导电层，从而形成覆盖第一分隔件250的共电极240。

参照图9B，在共电极240上形成绝缘层，并将绝缘层图案化，以形成第二分隔件270。因为在形成第一分隔件250之后且在形成第二分隔件270之前形成共电极240，所以在垂直结构中，共电极240位于第一分隔件250和第二分隔件270之间。

参照图9C，将第一基底100与第二基底200结合，使得第一基底100和第二基底200彼此面对，并在第一基底100与第二基底200之间形成液晶层300。

图10是根据本发明另一示例性实施例的沿着图1中的线I-I′截取的剖视图。

参照图10，显示装置包括第一基底100、第二基底200以及置于第一基底100和第二基底200之间的液晶层300。栅电极111、半导体层图案130、源电极141、漏电极142、像素电极160和感测电极170形成在第一基底100上。光阻挡层图案210、滤色器220和保护层230形成在第二基底200上。共电极240、第一分隔件250和第二分隔件270形成在保护层230上。

第一分隔件250包括：绝缘体253，具有第一槽265；导体254，插入到形成有第一槽265的区域中。绝缘体253的上表面接触感测电极170。因为第一槽265的深度d1大于导体254的厚度d2，所以导体254与感测电极170隔开的距离为深度d1与厚度d2之差。然而，当用户按压屏幕时，即，对屏幕施加外力时，绝缘体253被压缩，使得导体254可接触感测电极170。结果，施加到感测电极170的参考电压改变，从而可以检测屏幕上的触摸位置。

导体254的厚度d2应当是第一槽265的深度d1的至少一半。如果导体254太薄，则当对导体254施加外力时，导体254不会接触感测电极170。相反，如果导体254太厚，则即使不对导体254施加外力，导体254也会接触感测电极170。

可通过同一工艺同时形成第二分隔件270和第一分隔件250。结果，第二分隔件270具有与第一分隔件250的材料相同的材料，且第二分隔件270和第一分隔件250大体上具有相同的高度。第二分隔件270可具有可选的第二槽275。第二槽275减小了第二分隔件270与第一基底100的表面之间的接触面积。在这种情况下，可以获得下面的优点。

第二分隔件270会由于外力而从它的位置移动。然而，因为第二分隔件270具有恒定的弹性，所以在去除外力之后，第二分隔件270可以返回到它的初始位置。第二分隔件270的回复力根据第二分隔件270与第一基底100的表面之间的接触部分上的摩擦力而改变。如果该摩擦力较小，则第二分隔件270可以更容易地返回到它的初始位置。该摩擦力随着第二分隔件270与第一基底100的表面之间的接触面积减小而减小。因此，可选的第二槽275减小了该摩擦力，使得第二分隔件270可以更容易地返回到它的初始位置。

图11A、图11B和图11C是示出根据本发明不同示例性实施例的形成在图10中的分隔件中的第一槽的形状的平面图。

参照图11A、图11B和图11C，第一槽265可具有各种形状，例如圆柱形、十字形、“X”形以及“X”形和十字形的组合。只要第一槽265可以容纳导体254，则第一槽265就可以具有任何形状。如果包括可选的第二槽275，则可选的第二槽275可具有与第一槽265的形状相同的形状。即，只要第二槽275减小了第二分隔件270与第一基底100的表面之间的摩擦力，第二槽275就也可以具有任何形状。

图12A、图12B、图12C和图12D是示出制造图10中的显示装置的方法的剖视图。

参照图12A，制造第一基底100，在第二基底200上形成光阻挡层图案210、滤色器220和保护层230。在保护层230上形成绝缘层，并将绝缘层图案化，以形成第一分隔件250和第二分隔件270。第一分隔件250包括绝缘体253，绝缘体253在其上部上具有第一槽265。在第二分隔件270的上部上形成可选的第二槽275。因为第一分隔件250和第二分隔件270由绝缘层形成，所以第一分隔件250和第二分隔件270大体上具有相同的高度。

如上所述，因为绝缘层被图案化，使得第一分隔件250和第二分隔件270具有相同的高度，所以与执行图案化工艺使得第一分隔件250和第二分隔件270具有彼此不同的高度的情况相比，可以容易地执行该工序。

参照图12B，在包括第一槽265和第二槽275的第二基底200上沉积透明导电层240′。

参照图12C，将透明导电层240′图案化，以形成共电极240。在图案化工艺过程中，在第一槽265中保留透明导电层240′，从而形成导体254。此外，从第二分隔件270的表面去除透明导电层240′，使得共电极240不覆盖第二分隔件270。

参照图12D，将第一基底100与第二基底200结合，使得第一基底100和第二基底200彼此面对，并在第一基底100与第二基底200之间形成液晶层300。

根据上述示例性实施例，该触摸面板型显示装置不需要另外的触摸面板。此外，在用作触摸面板的分隔件中，凹凸部分或凹槽可形成在分隔件的表面上，从而提高了检测触摸部分的能力。

对本领域技术人员将清楚的是，在不脱离本发明的精神或范围的情况下，可以对本发明做出各种修改和变化。因此，只要对本发明的修改和变化落入权利要求及其等同物的范围内，本发明就意图覆盖这些修改和变化。

Claims (9)

1.一种显示装置，包括：

第一基底和第二基底，彼此面对；

像素电极，设置在第一基底上；

感测电极，设置在第一基底上，并与像素电极隔开；

第一分隔件，设置在第二基底上，且在第一分隔件的面对感测电极的表面上包括凹凸部分，其中，第一分隔件响应外力连接到感测电极；

共电极，设置在第二基底上，并覆盖第一分隔件的面对感测电极的表面。

2.如权利要求1所述的显示装置，还包括设置在第二基底上并与第一分隔件隔开的第二分隔件，其中，第二分隔件保持第一基底与第二基底之间的间隔。

3.如权利要求2所述的显示装置，其中，共电极设置在第二基底和第二分隔件之间。

4.如权利要求2所述的显示装置，其中，共电极暴露第二分隔件。

5.如权利要求1所述的显示装置，还包括设置在第一基底和第二基底之间的液晶层。

6.一种制造显示装置的方法，包括：

在第一基底上形成彼此隔开的像素电极和感测电极；

在第二基底上形成第一绝缘层；

将第一绝缘层图案化，以形成第一分隔件，第一分隔件在第一分隔件的上表面上包括凹凸部分；

在第二基底形成共电极，并覆盖第一分隔件的上表面；

将第一基底和第二基底结合在一起，第一分隔件面对感测电极的上表面，并与感测电极的上表面隔开。

7.如权利要求6所述的方法，还包括：

在共电极上形成第二绝缘层；

将第二绝缘层图案化，以形成第二分隔件，其中，第二分隔件与第一分隔件隔开，并保持第一基底和第二基底之间的间隔。

8.如权利要求6所述的方法，其中，将第一绝缘层图案化的步骤还包括形成与第一分隔件隔开的第二分隔件，其中，第二分隔件保持第一基底和第二基底之间的间隔，

其中，形成共电极的步骤包括：

在第一分隔件和第二分隔件上形成导电层，以覆盖第二基底；

将导电层图案化，从而去除第二分隔件上的导电层。

9.一种制造显示装置的方法，包括：

在第一基底上形成彼此隔开的像素电极和感测电极；

在第二基底上形成导电聚合物层；

将导电聚合物层图案化，以形成第一分隔件，第一分隔件在第一分隔件的上表面上包括凹凸部分；

在第二基底形成共电极，并覆盖第一分隔件的上表面；

将第一基底和第二基底结合在一起，第一分隔件面对感测电极的上表面，并与感测电极的上表面隔开。

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