KR102343241B1 - 표시 장치 및 이의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 제1 기판, 상기 제1 기판에 대향하는 제2 기판, 상기 제1 기판과 상기 제2 기판 사이에 배치된 액정층, 및 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 사이의 셀 갭을 유지하는 복수의 스페이서들을 포함한다. 상기 복수의 스페이서들 각각은 상기 제1 기판 상에 돌출된 스페이서 본체부, 및 상기 스페이서 본체부로부터 돌출된 복수의 기둥부들 및 상기 복수의 기둥부들 각각의 상단에 배치되어, 상기 제2 기판 하부에 접촉하는 복수의 접합부들을 포함하는 스페이서 패턴부를 포함한다.

Description

표시 장치 및 이의 제조 방법{DISPLAY DEVICE AND FABRICATION METHOD OF THE SAME}
본 발명은 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 벤딩에 따른 기판의 오정렬이 개선된 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
종래의 평판형 표시장치에 이어서, 최근에 다양한 형상을 갖는 표시장치들이 개발되고 있다. 예를 들어, 벤딩된 표시 장치, 접히는 표시 장치, 말리는 표시 장치, 및 신축성을 갖는 표시 장치가 개발되고 있다. 이러한 표시 장치들은 미리 설정된 형태 또는 사용자의 요구에 따라 다양한 형태로 변형될 수 있어, 상기 표시 장치들은 보다 다양한 방식으로 사용자에게 화상의 정보를 제공할 수 있다.
본 발명의 목적은 커브드 형상을 가지는 구조에서 상부 기판과 하부 기판 사이의 오정렬을 방지하여 표시품질을 개선할 수 있는 표시장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 공정이 간단해지고 제조 비용이 절감될 수 있는 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 제1 기판, 상기 제1 기판에 대향하는 제2 기판, 상기 제1 기판과 상기 제2 기판 사이에 배치된 액정층, 및 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 사이의 셀 갭을 유지하는 복수의 스페이서들을 포함한다. 상기 복수의 스페이서들 각각은 상기 제1 기판 상에 돌출된 스페이서 본체부, 및 상기 스페이서 본체부로부터 돌출된 복수의 기둥부들 및 상기 복수의 기둥부들 각각의 상단에 배치되어, 상기 제2 기판 하부에 접촉하는 복수의 접합부들을 포함하는 스페이서 패턴부를 포함한다.
상기 복수의 접합부들 각각은 상기 스페이서의 최외각에 정의되어, 상기 제2 기판 하부와 접착되는 접합면을 포함할 수 있다.
상기 접합면은 상기 스페이서의 최외각에서 상기 스페이서 본체부 방향으로 함몰된 것일 수 있다.
상기 접합면은 상기 스페이서 본체부 상면과 평행하고 플랫(flat)한 것일 수 있다.
상기 접합면의 면적은 상기 기둥부의 상기 스페이서 본체부 상면과 평행한 단면의 단면적보다 넓을 수 있다.
상기 복수의 접합부들 각각은 상기 기둥부로부터 상측으로 갈수록 직경이 커지는 것일 수 있다.
상기 스페이서는 탄성 변형이 가능한 물질을 포함할 수 있다.
상기 스페이서는 실리콘계 고분자 화합물을 포함할 수 있다.
상기 스페이서는 폴리디메틸실록산(PDMS: Polydimethylsiloxane)을 포함할 수 있다.
상기 제1 기판 및 상기 제2 기판은 일 방향을 따라 휘어질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 일 방향을 따라 휘어지고, 화소가 배치되는 표시 기판, 상기 표시 기판과 대향하고, 상기 표시 기판과 결합하여 상기 일 방향을 따라 휘어지는 대향 기판, 및 상기 표시 기판 및 상기 대향 기판의 간격을 유지하는 상기 복수의 스페이서들을 포함한다. 상기 복수의 스페이서들 각각은 상기 제1 기판 상에 돌출된 스페이서 본체부, 상기 스페이서 본체부로부터 돌출된 복수의 기둥부들, 및 상기 복수의 기둥부들 각각의 상단에 배치되는 복수의 접합부들을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법은 화소가 구비된 제1 기판 및 상기 제1 기판에 대향하는 제2 기판을 준비하는 단계, 상기 제1 기판 상에 유기물질을 도포하여 유기물질층을 형성하는 단계, 상기 유기물질층을 패터닝하여 복수의 스페이서들을 형성하는 단계, 및 상기 복수의 스페이서들을 사이에 두고 상기 제1 기판과 상기 제2 기판이 마주하도록 결합하는 단계를 포함한다. 상기 복수의 스페이서들을 형성하는 단계는 상기 유기물질층을 패터닝하여 상기 제1 기판 상에 돌출된 스페이서 본체부를 형성하는 단계, 및 상기 스페이서 본체부 상부를 패터닝하여, 상기 스페이서 본체부로부터 돌출된 복수의 기둥부들 및 상기 복수의 기둥부들 각각의 상단에 복수의 접합부들을 형성하는 단계를 포함한다.
상기 유기물질층은 실리콘계 고분자 화합물을 포함할 수 있다.
상기 유기물질층은 폴리디메틸실록산(PDMS: Polydimethylsiloxane)을 포함할 수 있다.
상기 복수의 스페이서들을 형성하는 단계는 상기 스페이서 본체부의 형상에 대응하는 제1 홈이 정의된 제1 몰드를 이용하여 상기 유기물질층을 가압하는 단계, 상기 가압된 유기물질층을 부분적으로 경화하여 상기 스페이서 본체부를 형성하는 단계, 상기 복수의 기둥부들 및 상기 복수의 접합부들의 형상에 대응하는 제2 홈이 정의된 제2 몰드를 이용하여 상기 스페이서 본체부의 상부를 가압하는 단계, 및 상기 가압된 스페이서 본체부의 상부를 경화하여 상기 복수의 기둥부들 및 상기 복수의 접합부들을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법은 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판에 외력을 가하여 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판이 일 방향을 따라 커브드 시키는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 벤딩에 따른 상부 기판과 하부 기판의 오정렬이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법은 공정이 간소화되고 재료가 절감되어 제조 비용이 절감될 수 있다.
도 1a는 본 발명의 일 실시 예에 따른 표시 장치의 사시도이다.
도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 측면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 구조를 대략적으로 나타낸 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 평면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 화소 영역을 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 5는 도 4의 -Ⅰ'에 대응하는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치 중 일부 구조를 나타낸 단면도이다.
도 7a 내지 도 7c는 도 6의 A 부분을 확대한 단면도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치 중 일부 구조를 나타낸 단면도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 순서도이다.
도 10a 내지 도 10c는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 순차적으로 나타낸 단면도들이다.
도 11a 내지 도 11g는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법 중 일부 단계를 순차적으로 나타낸 단면도들이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명한다. 본 명세서에서, 어떤 구성요소(또는 영역, 층, 부분 등)가 다른 구성요소 "상에 있다", "연결 된다", 또는 "결합 된다"고 언급되는 경우에 그것은 다른 구성요소 상에 직접 연결/결합될 수 있거나 또는 그들 사이에 제3의 구성요소가 배치될 수도 있다는 것을 의미한다.
동일한 도면부호는 동일한 구성요소를 지칭한다. 또한, 도면들에 있어서, 구성요소들의 두께, 비율, 및 치수는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. "및/또는"은 연관된 구성들이 정의할 수 있는 하나 이상의 조합을 모두 포함한다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
또한, "아래에", "하측에", "위에", "상측에" 등의 용어는 도면에 도시된 구성들의 연관관계를 설명하기 위해 사용된다. 상기 용어들은 상대적인 개념으로, 도면에 표시된 방향을 기준으로 설명된다.
"포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 보다 상세하게 설명한다. 이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에 대해서 설명한다.
도 1a는 본 발명의 일 실시 예에 따른 표시 장치의 사시도이다. 도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 측면도이다.
도 1a 및 도 1b를 참조하면, 표시 장치(100)는 영상이 표시되는 표시 영역(DA)을 갖고, 표시 장치(100)는 휘어진 형상을 갖는다. 따라서, 표시 장치(100)는 곡면의 형상을 갖는 표시 영역(DA)을 이용하여 입체감, 몰입감 및 임장감이 향상된 영상을 표시할 수 있다.
표시 장치(100)는 제1 기판(110), 제2 기판(120) 및 액정층(LCL)을 포함할 수 있다. 제2 기판(120)은 제1 기판(110)에 대향하여 제1 기판(110)과 결합되고, 액정층(LCL)은 제1 기판(110)과 제2 기판(120) 사이에 개재된다. 제1 기판(110)은 화소가 배치되는 표시 기판이고, 제2 기판(120)은 제1 기판(110)에 대향하는 대향 기판일 수 있다.
표시 장치(100)는 제1 기판(110) 및 제2 기판(120) 외에 다른 구성 요소들을 더 포함할 수 있으나, 본 발명이 상기 구성 요소들에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 표시 장치(100)는 제1 기판(110) 및 제2 기판(120) 측으로 광을 출력하는 백라이트 어셈블리(미도시)를 더 포함할 수 있으나, 본 발명이 상기 백라이트 어셈블리의 구조에 한정되지는 않는다.
표시 장치(100)는 평면상에서 제1 방향(D1)을 따라 휘어진다. 이에 따라, 제1 기판(110)의 일부 또는 전부(全部)는 제1 방향(D1)을 따라 휘어진 형상을 갖고, 표시 영역(DA)은 제1 방향(D1)을 따라 굴곡진 곡면 형상 형상을 가질 수 있다. 또한, 제2 기판(120)은 제1 기판(110)과 함께 휘어진 형상을 가질 수 있다.
제1 기판(110) 및 제2 기판(120)이 제1 방향(D1)을 따라 함께 휘어질 경우, 제1 기판(110)은 제1 곡률 반경(R1)을 가지고, 제2 기판(120)은 제1 곡률 반경(R1)과 상이한 제2 곡률 반경(R2)을 갖는 것일 수 있다. 제1 기판(110) 및 제2 기판(120)이 서로 다른 곡률 반경으로 휘어짐에 따라, 제1 기판(110) 및 제2 기판(120)에 국부적으로 스트레스가 집중될 수 있다. 이에 따라, 제1 기판(110) 및 제2 기판(120) 간에 셀 갭이 불균일해지는 영역이 발생할 수 있고, 제1 기판(110) 및 제2 기판(120) 간에 오정렬(miss-alignment)이 발생될 수 있다. 즉, 제1 방향(D1)으로 휘어지기 전 제1 기판(110) 및 제2 기판(120)이 정확하게 정렬되더라도, 제1 방향(D1)으로 휘어짐에 따라 발생하는 곡률 차이로 인해 오정렬이 발생할 수 있다. 이하에서는 오정렬에 의해 표시영역(DA)에서 표시되는 영상의 표시품질이 저하되는 것이 방지될 수 있는 표시 장치(100)의 구조가 설명된다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 구조를 대략적으로 나타낸 사시도이다. 도 3은 도 2에 도시된 표시 장치의 평면도이다. 이하, 도 2 및 도 3을 참조하여 본 실시예에 따른 표시 장치를 설명한다.
본 실시예에 따른 표시 장치는 서로 마주하는 제1 기판(110), 제2 기판(120), 제1 기판(110)과 제2 기판(200) 사이에 개재된 액정층(LCL), 및 제1 기판(110)과 제2 기판(120) 사이에 배치된 복수의 스페이서(CS)를 포함한다. 표시 장치는 평면상에서 복수 개의 화소 영역들(PXA) 및 복수 개의 화소 영역들(PXA)에 인접한 주변 영역(SA)을 포함할 수 있다. 주변 영역(SA)은 복수 개의 화소 영역들(PXA)의 경계를 이룰 수 있다.
제1 기판(110)은 제1 베이스 기판, 제1 베이스 기판 상에 배치된 복수 개의 절연층들 및 복수 개의 도전층들을 포함할 수 있다. 복수 개의 도전층들은 복수 개의 신호라인들 및 복수 개의 화소들(PX)을 구성한다. 평면상에서 복수 개의 신호라인들은 주변 영역(SA)에 중첩하고, 복수 개의 화소들(PX)은 복수 개의 화소영역들(PXA)에 중첩 포함할 수 있다. 복수 개의 절연층들은 코팅, 증착 공정에 의해 형성될 수 있다.
복수 개의 신호라인들은 절연 교차하는 복수 개의 게이트 라인들(GL) 및 복수 개의 데이터 라인들(DL)을 포함한다. 복수 개의 게이트 라인들(GL)은 게이트 신호들을 수신하고, 복수 개의 데이터 라인들(DL)은 데이터 전압들을 수신한다. 복수 개의 화소들(PX)은 복수 개의 게이트 라인들(GL) 중 대응하는 게이트 라인에 각각 연결되고, 복수 개의 데이터 라인들(DL) 중 대응하는 데이터 라인에 각각 연결된다. 도시되지는 않았으나, 복수 개의 화소들(PX) 각각은 대응하는 게이트 라인과 대응하는 데이터 라인에 연결된 박막 트랜지스터 및 박막 트랜지스터에 연결된 커패시터를 포함한다.
제2 기판(120)은 제2 베이스 기판, 및 복수 개의 절연층들을 포함할 수 있다.
스페이서(CS)는 제1 기판(110)과 제2 기판(120) 사이의 셀갭을 유지시킨다. 본 발명의 일 실시예에 따른 스페이서(CS)는 제1 기판(110)으로부터 돌출된 것일 수 있다. 다만, 이에 한정되지 않고, 스페이서(CS)는 제2 기판(120)으로부터 돌출된 것일 수도 있다. 또는, 스페이서(CS)는 제1 기판(110) 및 제2 기판(120) 각각으로부터 돌출된 두 개의 서브 스페이서들이 접촉하고 있는 구조일 수 있다.
도 3에 도시된 것과 같이, 스페이서(CS)는 주변 영역(SA)에 중첩하게 배치될 수 있다. 스페이서(CS)는 복수 개로 제공될 수 있다. 복수 개의 스페이서(CS)들은 일정한 간격으로 배치될 수 있다. 또는, 복수 개의 스페이서(CS)들은 규칙성 없이 분산되어 배치될 수 있다. 스페이서(CS)는 셀 갭을 유지할 수 있는 적절한 범위의 수가 배치될 수 있다. 예를 들어, 화소 셋당 하나의 스페이서(CS)를 가지도록 배치될 수 있다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 화소 영역을 개략적으로 나타낸 평면도이다. 도 5는 도 4의 -Ⅰ'에 대응하는 단면도이다. 이하, 도 4 및 도 5를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 화소에 대해 설명한다.
본 실시예에서 PLS(Plane to Line Switching) 모드의 화소를 예시적으로 설명하고 있으나, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 VA(Vertical Alignment)모드, PVA(Patterned Vertical Alignment) 모드, IPS(in-plane switching) 모드 또는 FFS(fringe-field switching) 모드 등의 화소를 포함할 수 있다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 표시 장치(10)는 제1 기판(100), 제1 기판(100)과 대향하는 제2 기판(200), 제1 기판(100)과 제2 기판(200) 사이에 형성되는 액정층(LCL) 및 스페이서(CS)를 포함한다.
제1 기판(110)은 제1 베이스 기판(SUB1), 박막 트랜지스터(TFT), 화소 전극(PE) 및 공통 전극(CE)을 포함한다.
제1 베이스 기판(SUB1)은 플라스틱 기판, 유리 기판, 석영 기판 등일 수 있다. 제1 베이스 기판(SUB1)은 투명한 절연 기판일 수 있다.
제1 베이스 기판(SUB1) 상에 게이트 라인(GL) 및 데이터 라인(DL)이 형성될 수 있다. 게이트 라인(GL)은 복수 개일 수 있고, 복수 개의 게이트 라인들(GL)은 제1 베이스 기판(SUB1) 상에 일 방향으로 연장되어 형성된다. 데이터 라인(DL)은 복수 개일 수 있고, 복수 개의 데이터 라인들(DL)은 각각 게이트 라인(GL)과 게이트 절연층(GI)을 사이에 두고 일 방향에 교차하는 방향으로 연장되어 제공된다.
박막 트랜지스터(TFT)는 게이트 전극(GE), 반도체 패턴(SM), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함한다.
게이트 전극(GE)은 게이트 라인(GL)으로부터 분지되거나 게이트 라인(GL)의 일부 영역 상에 제공된다. 게이트 전극(GE)은 금속으로 이루어질 수 있다. 게이트 전극(GE)은 복수 개의 층으로 구성될 수 있다. 게이트 전극(GE)은 예를 들어 니켈, 크롬, 몰리브덴, 알루미늄, 티타늄, 구리, 텅스텐 및 이들을 포함하는 합금으로 이루어질 수 있다.
게이트 전극(GE) 상에는 게이트 절연층(GI)이 형성된다. 게이트 절연층(GI)은 제1 베이스 기판(SUB1)의 전면에 제공되며, 게이트 라인(GL) 전극층 및 게이트 전극(GE)을 커버한다.
반도체 패턴(SM)은 게이트 절연층(GI) 상에 제공된다. 반도체 패턴(SM)은 게이트 절연층(GI)을 사이에 두고 게이트 전극(GE) 상에 제공되어, 일부 영역이 게이트 전극(GE)과 중첩된다.
소스 전극(SE)은 데이터 라인(DL)에서 분지되어 제공된다. 소스 전극(SE)은 일부 영역이 게이트 전극(GE)과 중첩한다.
드레인 전극(DE)은 반도체 패턴(SM)을 사이에 두고 소스 전극(SE)으로부터 이격되어 제공된다. 드레인 전극(DE)은 일부 영역이 게이트 전극(GE)과 중첩하도록 제공된다.
소스 전극(SE)과 드레인 전극(DE)은 복수 개의 층으로 구성될 수도 있다. 소스 전극(SE)과 드레인 전극(DE)은 예를 들어, 니켈, 크롬, 몰리브덴, 알루미늄, 티타늄, 구리, 텅스텐 및 이들을 포함하는 합금으로 이루어질 수 있다.
공통 전극(CE)은 화소 전극(PE)과 전계를 형성함으로써 액정층(LCL)을 구동한다.
공통 전극(CE)은 제1 절연층(INL1) 상에 형성될 수 있다. 제1 절연층(INL1)은 복수 개의 층들을 포함할 수 있고, 복수 개의 층들은 유기막 및 또는 무기막을 포함할 수 있다.
공통 전극(CE)은 투명 도전성 물질로 형성될 수 있다. 공통 전극(CE)은 예를 들어, ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), ITZO(indium tin zinc oxide) 등의 도전성 금속 산화물로 형성될 수 있다. 공통 전극(CE)은 다양한 방법으로 형성될 수 있으며, 예를 들어 포토리소그래피 공정을 이용하여 형성될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에서는 화소 전극(PE)이 공통 전극(CE)상에 형성되는 것으로 설명하였으나, 화소 전극(PE)은 공통 전극(CE)의 하부에 형성될 수도 있다.
화소 전극(PE)은 콘택홀(CH)에 의해 드레인 전극(DE)에 연결된다.
화소 전극(PE)은 복수 개의 슬릿들(SLT), 및 복수 개의 슬릿들(SLT)과 교번하게 배치된 복수 개의 가지부들(BP)을 포함할 수 있다.
화소 전극(PE)은 제2 절연층(INL2) 상에 형성될 수 있다. 제2 절연층(INL2)은 복수 개의 층들을 포함할 수 있고, 복수 개의 층들은 유기막 및 또는 무기막을 포함할 수 있다. 제2 절연층(INL2)은 박막 트랜지스터(TFT)를 보호할 수 있으며, 박막 트래지스터(TFT)가 배치된 제1 베이스 기판(SUB1)의 상면을 평탄하게 유지시켜줄 수 있다.
화소 전극(PE)은 투명한 도전성 물질로 형성될 수 있다. 보다 구체적으로, 화소 전극(PE)은 투명 도전성 산화물(Transparent Conductive Oxide)로 형성될 수 있다. 화소 전극(PE)은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), ITZO(indium tin zinc oxide) 등으로 형성될 수 있다. 화소 전극(PE)은 다양한 방법으로 형성될 수 있으며, 예를 들어 포토리소그래피 공정을 이용하여 형성될 수 있다.
도시하지는 않았으나, 제2 절연층(INL2) 상에 화소 전극(PE)을 보호하는 보호막이 배치될 수도 있다. 보호막 상에는 제1 배향막(ALN1)이 형성될 수 있다. 제1 배향막(ALN1)은 예를 들어 액정층(LCL)의 액정 분자를 프리틸트하기 위한 것일 수 있다.
제1 배향막(ALN1)은 단일 배향층으로 형성될 수 있고, 기초 배향막 및 배향 형성층으로 형성될 수도 있다.
제2 기판(120)은 제2 베이스 기판(SUB2), 블랙 매트릭스(BM) 및 컬러 필터(CF)를 포함한다. 다만 이에 한정하는 것은 아니고, 블랙 매트릭스(BM) 및 컬러 필터(CF)는 제1 기판(110)에 포함될 수도 있다.
제2 베이스 기판(SUB2)은 플라스틱 기판, 유리 기판, 석영 기판 등일 수 있다. 제2 베이스 기판(SUB2)은 투명한 절연 기판일 수 있다.
블랙 매트릭스(BM)는 제1 기판(110)의 차광 영역에 대응하여 배치된다. 차광 영역은 데이터 라인(DL), 박막 트랜지스터(TFT) 및 게이트 라인(GL)이 형성된 영역으로 정의될 수 있다. 차광 영역은 주변 영역(SA)에 대응될 수 있다. 차광 영역에는 통상적으로 화소 전극(PE)이 형성되지 않으므로, 액정 분자가 배향되지 않아 빛샘이 발생할 수 있다. 따라서, 블랙 매트릭스(BM)는 차광 영역에 배치되어 빛샘을 차단한다. 블랙 매트릭스(BM)는 컬러 필터(CF)를 형성하는 단계 이전, 이후 또는 동시에 형성될 수 있다. 블랙 매트릭스(BM)는 광을 흡수하는 차광층을 형성하고 차광층을 포토리소래피를 이용하여 패터닝함으로써 형성할 수 있으며, 선택적으로 다른 방법, 예를 들어 잉크젯 방법 등으로도 형성할 수 있다.
컬러 필터(CF)는 제2 베이스 기판(SUB2) 상에 배치되며, 액정층(LCL)을 투과하는 광에 색을 제공한다. 컬러 필터(CF)는 제2 베이스 기판(SUB2) 상에 적색, 녹색, 청색, 또는 기타 색을 나타내는 컬러층을 형성하고, 컬러층을 포토리소그래피를 이용하여 패터닝함으로써 형성될 수 있다. 컬러 필터(CF)의 형성 방법은 이에 한정되는 것은 아니며, 잉크젯 방법 등으로 형성할 수도 있다.
블랙 매트릭스(BM) 및 컬러 필터(CF) 상에는 평탄화층(OC)이 배치될 수 있다. 평탄화층(OC)은 제2 기판(120)을 평탄화할 수 있다.
평탄화층(OC) 상에는 제2 배향막(ALN2)이 형성될 수 있다. 제2 배향막(ALN2)은 예를 들어 액정층(LCL)의 액정 분자를 프리틸트하기 위한 것일 수 있다.
제2 배향막(ALN2)은 단일 배향층으로 형성될 수 있고, 기초 배향막 및 배향 형성층으로 형성될 수도 있다.
액정층(LCL)은 유전율 이방성을 가지는 복수의 액정 분자들을 포함한다. 액정층(LCL)의 액정 분자들은 제1 기판(110)의 화소 전극(PE)과 공통 전극(CE) 사이에 전계가 인가되면, 제1 기판(110)과 제2 기판(120) 사이에서 특정 방향으로 회전하며, 이에 따라 액정층(LCL)으로 입사되는 광의 투과도를 조절한다.
스페이서(CS)는 제1 기판(110) 및 제2 기판(120) 사이의 간격을 유지한다. 스페이서(CS)는 외부의 충격을 흡수하는 역할을 할 수 있다.
스페이서(CS)의 높이는 제1 기판(110) 및 제2 기판(120) 사이의 셀 갭일 수 있다. 이에 따라 스페이서(CS)는 제1 기판(110) 및 제2 기판(120)과 접촉할 수 있다. 스페이서(CS)는 표시 장치의 셀 갭을 유지하는 기능을 한다.
스페이서(CS)는 제1 기판(110) 상에 배치될 수 있다. 예를 들어, 스페이서(CS)는 제2 절연층(INL2) 상에 배치될 수 있다. 보다 구체적으로, 스페이서(CS)는 제2 절연층(INL2) 상에 배치되는 제1 배향막(ALN1) 상에 배치될 수 있다.
스페이서(CS)는 스페이서 본체부(CS-B) 및 스페이서 패턴부(CS-H)를 포함한다.
스페이서 본체부(CS-B)는 제1 기판(110)으로부터 돌출된 기둥 형상의 지지부일 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에서 스페이서 본체부(CS-B)가 원뿔대 형상인 것으로 예시적으로 도시하였으나, 스페이서 본체부(CS-B)는 셀 갭을 유지하기 위한 다양한 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 스페이서 본체부(CS-B)는 원기둥, 다각기둥, 또는 다각뿔대 중 어느 하나의 형상을 가질 수도 있다.
스페이서 패턴부(CS-H)는 스페이서 본체부(CS-B)의 상부에 배치된다. 스페이서 패턴부(CS-H)는 스페이서 본체부(CS-B)의 상부에 배치되어, 스페이서(CS) 중 제2 기판(120)과 접촉하는 부분에 해당한다. 스페이서(CS)의 세부 구조에 대해서는 후술한다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치 중 일부 구조를 나타낸 단면도이다. 도 7a 내지 도 7c는 도 6의 A 부분을 확대한 단면도이다. 도 8은 도 6에 도시된 표시 장치 중 일부 구성이 벤딩된 것을 도시한 단면도이다.
이하, 도 6, 도 7a 내지 도 7c 및 도 8을 참조하여 본 발명의 스페이서(CS)에 대해서 설명한다.
도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 스페이서(CS)는 제1 기판 및 제2 기판 사이에 복수로 배치된다. 스페이서(CS)는 셀 갭을 유지하기 위한 적절한 수 범위에서 배치될 수 있다.
스페이서(CS)는 탄성 변형이 가능한 물질을 포함할 수 있다. 구체적으로, 스페이서(CS)는 실리콘계 고분자 화합물을 포함할 수 있다. 스페이서(CS)는 폴리디메틸실록산(PDMS: Polydimethylsiloxane)을 포함할 수 있다. 다만, 이에 한정되지 않고, 스페이서(CS)는 탄소 나노 튜브(CNT)를 포함할 수도 있다. 스페이서(CS)는 탄성 변형이 가능한 유기물, 무기물, 또는 유무기 복합 물질을 포함할 수 있다.
스페이서(CS)는 실질적으로 셀 갭을 일정하게 스페이서 본체부(CS-B) 및 제2 기판과의 접착력을 확보하기 위한 스페이서 패턴부(CS-H)를 포함한다.
스페이서 본체부(CS-B)는 제1 기판에서 돌출된 것일 수 있다. 보다 구체적으로, 스페이서 본체부(CS-B)는 제1 배향막(ALN1) 상에서 돌출된 것일 수 있다.
스페이서 패턴부(CS-H)는 스페이서 본체부(CS-B)의 상부에 배치되어, 스페이서(CS) 중 제2 기판(120)과 접촉하는 부분에 해당한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에 있어서, 스페이서 패턴부(CS-H)는 소정의 접착력을 가져, 스페이서(CS)가 제2 기판(120)에 접착되도록 한다.
도 6 및 도 7a를 참조하면, 스페이서 패턴부(CS-H)는 스페이서 본체부(CS-B)로부터 돌출된 복수의 기둥부(CS-C)들 및 복수의 기둥부(CS-C)들 각각의 상단에 배치되는 복수의 접합부(CS-A)들을 포함한다.
복수의 접합부(CS-A)들 각각은 스페이서(CS)의 최외각에 정의되어, 제2 기판 하부와 접착되는 접합면(CS-AS)을 포함할 수 있다. 접합면(CS-AS)은 제2 기판의 최하부 구성인 제2 배향막(ALN2)에 접착될 수 있다.
접합면(CS-AS)은 스페이서(CS)의 최외각에서, 스페이서 본체부(CS-B) 방향으로 함몰된 것일 수 있다. 접합면(CS-AS)은 접합부(CS-A)에서 기둥부(CS-C) 내부로 오목하게 함몰된 형상을 가질 수 있다.
접합면(CS-AS)의 전체 면적은 기둥부(CS-C)의 단면적보다 넓을 수 있다. 기둥부(CS-C)의 단면적은 스페이서 본체부(CS-B)의 상면과 평행한 면으로 기둥부(CS-C)를 절단했을 경우의 면적을 의미하는 것일 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서, 접합면(CS-AS)은 기둥부(CS-C) 내부 방향으로 함몰되어 있어, 기둥부(CS-C)의 단면적보다 면적이 넓을 수 있다.
도 6 및 도 7b를 참조하면, 스페이서 패턴부(CS-H)에서 접합부(CS-A1)는 기둥부(CS-C)의 상부에 배치되고, 상측으로 갈수록 직경이 커지는 형상을 가질 수 있다. 즉, 기둥부(CS-C) 상부에 버섯(mushroom) 형상의 접합부(CS-A1)가 배치된 것일 수 있다. 이 때, 접합면(CS-AS1)은 스페이서 본체부(CS-B)의 상면과 평행하고, 플랫(flat)할 수 있다. 접합부(CS-A1)가 상측으로 갈수록 직경이 커지는 형상을 가지므로, 접합면(CS-AS1)의 면적은 기둥부(CS-C)의 단면적보다 넓을 수 있다.
도 6 및 도 7c를 참조하면, 스페이서 패턴부(CS-H)에서 접합부(CS-A2)는 기둥부(CS-C)의 상부에서 상측으로 갈수록 직경이 커지는 형상을 가질 수 있다. 또한, 접합부(CS-A2)에서 접합면(CS-AS2)이 기둥부(CS-C) 내부 방향으로 함몰되어 있을 수 있다. 접합부(CS-A2)가 상측으로 갈수록 직경이 커지는 형상을 가지고, 접합면(CS-AS2)이 기둥부(CS-C) 내부로 함몰되어 있어, 접합면(CS-AS2)의 면적은 기둥부(CS-C)의 단면적보다 크게 넓을 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 접합부(CS-A)는 나노미터 또는 마이크로미터 단위의 직경을 가지는 접합면(CS-AS)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 접합면(CS-AS)의 면적은 수 나노제곱미터 내지 수 마이크로제곱미터 일 수 있다.
스페이서 패턴부(CS-H)에 포함되는 기둥부(CS-C) 및 접합부(CS-A) 구성은 게코 도마뱀의 발바닥에 형성된 미세한 섬모 형상을 생체 모방 기술로 구현한 것으로, 게코 도마뱀의 발바닥에 형성된 미세한 섬모 형상과 동일하거나 유사한 형상일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 스페이서(CS)는 상부에 소정의 접착력을 가지는 스페이서 패턴부를 포함하여, 상부 기판에 접착될 수 있다. 스페이서 패턴부는 스페이서 본체부의 상부에서 수 나노제곱미터 내지 수 마이크로제곱미터의 면적을 가지는 접합면을 가지는 미세 섬모 구조를 형성하여, 상부 기판에 접착되는 것일 수 있다. 스페이서 패턴부에 포함되는 기둥부 및 접합부 구성은 게코 도마뱀의 발바닥에 형성된 미세한 섬모 형상을 생체 모방 기술로 구현한 것으로, 기둥부 및 접합부 구성 형상을 통해 반 데르 발스(Van der Waals) 결합에 의한 강한 접착력을 가질 수 있다. 반 데르 발스 결합은, 두 원자가 가까이 접근하였을 때 각 원자의 핵을 둘러싸고 있는 전자구름에 변동이 발생하고, 이로 인해 약한 정전기적 인력이 생겨서 두 원자가 접착력을 가지게 되는 원리이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 스페이서는 반 데르 발스 결합을 통해 상부 기판과의 접착력을 확보하여, 별도의 접착제 없이도 상부 기판과 하부 기판을 고정할 수 있고, 표시 장치의 오정렬(miss-alignment)을 방지할 수 있다. 또한, 접착제가 사용되지 않아, 접착제를 통한 접착 공정에서 발생하는 열 등으로 인해 상부 기판의 배향막이 손상되는 것을 방지할 수 있다.
도 8을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 스페이서 패턴부(CS-H)가 소정의 접착력을 가져 제2 기판의 배향막(ALN2)에 접착되어, 표시 장치가 벤딩되더라도 스페이서(CS)가 제2 기판의 정 위치에 부착되어 있을 수 있다. 또한, 스페이서(CS)가 폴리디메틸실록산(PDMS) 등의 탄성을 지니는 물질을 포함하므로, 벤딩에 의해 스페이서(CS)의 형상이 변경될 수 있어, 변형에 의해 스페이서(CS)가 정 위치에서 벗어나는 것이 방지될 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 벤딩에 의한 하부 기판과 상부 기판의 오정렬(miss-alignment)을 방지할 수 있다.
이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법에 대해서 설명한다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 순서도이다. 도 10a 내지 도 10c는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 순차적으로 나타낸 단면도들이다. 이하, 도 8 및 도 9a 내지 도 9c를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법에 대해서 설명한다. 한편, 도 5에서 설명한 바와 동일한 구성에 대해서는 동일한 참조 부호를 부여하고 중복된 설명은 생략한다.
도 9 및 도 10a를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법은 제1 기판(110) 및 제2 기판(120)을 준비하는 단계(S100) 및 제1 기판(110) 상에 유기물질층(200)을 형성하는 단계(S200)를 포함한다.
제1 기판(110)은 박막 트랜지스터(TFT) 및 커패시터가 배치되는 화소 기판일 수 있다. 제2 기판(120)은 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)이 배치되는 대향 기판일 수 있다. 다만 이는 예시적인 것이고, 제1 기판(110) 및 제2 기판(120)의 구성은 필요에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 예를 들어, 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)는 제1 기판(110) 상에 배치될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법은 제1 기판(110) 상에 유기물질을 도포하여 유기물질층(200)을 형성하는 단계를 포함한다. 유기물질은 경화되었을 때 소정의 탄성 변형이 가능한 물질일 수 있다. 예를 들어, 유기물질은 실리콘계 고분자 화합물을 포함할 수 있다. 유기물질은 폴리디메틸실록산(PDMS: Polydimethylsiloxane)을 포함할 수 있다.
도 9 및 도 10b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법은 유기물질층을 패터닝하여 복수의 스페이서들을 형성하는 단계(S300)를 포함한다.
스페이서(CS)는 스페이서 본체부(CS-B) 및 스페이서 패턴부(CS-H)를 포함한다. 스페이서(CS) 형성 단계에서, 유기물질층(200)을 패터닝하여 스페이서 본체부(CS-B)를 형성하고, 스페이서 본체부(CS-B)의 상부를 패터닝하여 스페이서 패턴부(CS-H)를 형성하는 단계를 포함한다. 스페이서(CS)의 세부 형성 단계에 대해서는 후술한다.
도 9 및 도 10c를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법은 제1 기판(110)과 제2 기판(120)을 결합하는 단계(S400)를 포함한다.
제1 기판(110)과 제2 기판(120)은 복수의 스페이서(CS)들을 사이에 두고 결합될 수 있다. 이 때, 스페이서(CS)의 상부에는 소정의 접착력을 가지는 스페이서 패턴부(CS-H)가 형성되어 있어, 제2 기판(120)에 스페이서(CS)가 접착될 수 있다. 보다 구체적으로, 제2 기판(120)에 포함된 제2 배향막(ALN2)에 스페이서(CS)가 접착될 수 있다.
표시 장치의 제조 방법에서, 액정층(LCL)은 제1 기판(110)과 제2 기판(120)을 각각 제조한 후, 셀 갭이 정의되도록 제1 기판(110)과 제2 기판(120)을 결합시키고, 셀 갭에 액정 물질을 주입하여 제조될 수 있다. 또는, 제1 기판(110)과 제2 기판(120) 중 어느 하나의 일면 상에 액정 물질을 위치시키고, 액정 물질을 사이에 두고 제1 기판(110)과 제2 기판(120)을 결합하여 제조될 수도 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법에서는, 결합한 제1 기판(110) 및 제2 기판(120)에 외력을 가하여 벤딩시키는 단계(S500)를 더 포함할 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 표시 장치의 제조 방법으로 형성된 표시 장치는 제1 방향(DR1: 도 1 참조)를 따라 커브드 된 표시 장치일 수 있다.
도 11a 내지 도 11g는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법 중 일부 단계를 순차적으로 도시한 단면도들이다. 이하에서는 도 11a 내지 도 11g를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치 중 스페이서(CS)의 형성 방법에 대해서 설명한다.
도 11a를 참조하면, 제1 기판 상에 유기물질층(200)이 형성된다. 유기물질층(200)은 제1 기판의 최상층인 제1 배향층(ALN1) 상에 형성될 수 있다.
도 11b 및 도 11c를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 스페이서의 형성 방법에서는 유기물질층(200)에 제1 몰드(M1)를 통해 가압하는 단계를 포함할 수 있다. 제1 몰드(M1)에는 제1 홈(H1)이 정의되어 있을 수 있다. 제1 홈(H1)은 스페이서 본체부(CS-B: 도 6 참조)의 형상에 대응하는 형상을 가질 수 있다. 제1 홈(H1)은 스페이서 본체부(CS-B)의 형상보다 높은 높이의 기둥 형상을 가지는 것일 수 있다. 제1 홈(H1)이 정의된 제1 몰드(M1)로 가압함에 따라, 유기물질층(200)에 포함된 유기 물질이 제1 홈(H1) 내부로 이동하여, 스페이서 본체부(CS-B)의 형상에 대응되는 유기물 패턴이 형성될 수 있다. 도 11c에서는 제1 홈(H1) 내부로 이동하지 않은 유기물질층(200) 일부가 평탄한 층을 유지하는 것으로 도시되었으나, 이에 한정되지 않고 도 6에서와 같이 평탄한 층이 형성되지 않을 수도 있다.
도 11c 및 도 11d를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 스페이서의 형성 방법에서는 제1 몰드(M1)에 의해 가압된 유기물질층(200)을 부분적으로 경화하는 단계를 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서, 경화하는 단계는 열 경화 또는 광 경화 공정을 포함할 수 있다.
유기물질층(200)을 경화하는 단계에서, 형성된 유기물 패턴을 전부 경화하지 않고 부분적으로 경화한다. 즉, 경화 단계에서 형성된 유기물 패턴의 상부 일부분은 경화하지 않고, 상부 일부분을 제외한 하부 부분을 경화할 수 있다. 이에 따라, 경화된 하부 부분은 스페이서 본체부(CS-B)를 형성하고, 미경화 상부 패턴(CS-PH)에서는 유기 물질이 미경화된 상태로 남아있을 수 있다.
도 11e 및 도 11f를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 스페이서의 형성 방법에서는 미경화 상부 패턴(CS-PH)을 제2 몰드(M2)를 통해 가압하는 단계를 포함할 수 있다. 제2 몰드(M2)에는 제2 홈(H2)이 정의되어 있을 수 있다. 제2 홈(H2)은 스페이서 본체부(CS-B) 상에 형성되는 스페이서 패턴부(CS-H)의 형상에 대응하는 형상을 가질 수 있다. 즉, 제2 홈(H2)은 스페이서 본체부(CS-B) 상에 형성되는 복수의 기둥부들(CS-C: 도 7a 참조) 및 복수의 접합부들(CS-A: 도 7a 참조)의 형상에 대응하는 형상을 가질 수 있다. 제2 홈(H2)은 복수의 기둥부들 및 복수의 접합부들 형상에 대응하는 다양한 형상을 가질 수 있다.
도 11f 및 도 11g를 참조하면, 가압된 미경화 상부 패턴(CS-PH)을 경화하여 스페이서 패턴부(CS-H)를 형성할 수 있다. 스페이서 패턴부(CS-H)는 복수의 기둥부들 및 복수의 접합부들을 포함하는 것일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법에서, 스페이서는 두 번의 임프린트(imprint) 공정에 의해 형성될 수 있다. 즉, 첫번째 임프린트 공정을 통해 스페이서 본체부가 형성되고, 형성된 스페이서 본체부의 상부에 두번째 임프린트 공정을 진행하여 스페이서 패턴부를 형성할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법에서, 스페이서를 임프린트 공정으로 형성함에 따라, 공정이 간단해지고 공정상 필요한 재료가 절감되어 제조 비용이 절감될 수 있다. 또한, 간단한 공정으로 상부 기판과의 접착력이 확보된 스페이서를 형성할 수 있다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술 분야에 통상의 지식을 갖는 자라면, 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.
제1 기판: 110 제2 기판: 120
스페이서: CS 스페이서 본체부: CS-B
스페이서 패턴부: CS-H 기둥부: CS-C
접합부: CS-A

Claims (19)

  1. 제1 기판;
    상기 제1 기판에 대향하는 제2 기판;
    상기 제1 기판과 상기 제2 기판 사이에 배치된 액정층; 및
    상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 사이의 셀 갭을 유지하는 복수의 스페이서들을 포함하고,
    상기 복수의 스페이서들 각각은
    상기 제1 기판 상에 돌출된 스페이서 본체부; 및
    상기 스페이서 본체부로부터 돌출된 복수의 기둥부들 및 상기 복수의 기둥부들 각각의 상단에 배치되어, 상기 제2 기판 하부에 접촉하는 복수의 접합부들을 포함하는 스페이서 패턴부를 포함하고,
    상기 복수의 접합부들 각각은 상기 스페이서의 최외각에 정의되어, 상기 제2 기판 하부와 접착되는 접합면을 포함하고,
    상기 접합면의 면적은 상기 기둥부의 상기 스페이서 본체부 상면과 평행한 단면의 단면적보다 넓은 표시 장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 접합면은
    상기 스페이서의 최외각에서 상기 스페이서 본체부 방향으로 함몰된 표시 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 접합면은
    상기 스페이서 본체부 상면과 평행하고 플랫(flat)한 표시 장치.
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 접합부들 각각은
    상기 기둥부로부터 상측으로 갈수록 직경이 커지는 표시 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 스페이서는 탄성 변형이 가능한 물질을 포함하는 표시 장치.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 스페이서는 실리콘계 고분자 화합물을 포함하는 표시 장치.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 스페이서는 폴리디메틸실록산(PDMS: Polydimethylsiloxane)을 포함하는 표시 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 제1 기판 및 상기 제2 기판은 일 방향을 따라 휘어지는 표시 장치.
  11. 일 방향을 따라 휘어지고, 화소가 배치되는 표시 기판;
    상기 표시 기판과 대향하고, 상기 표시 기판과 결합하여 상기 일 방향을 따라 휘어지는 대향 기판; 및
    상기 표시 기판 및 상기 대향 기판의 간격을 유지하는 복수의 스페이서들을 포함하고,
    상기 복수의 스페이서들 각각은
    상기 표시 기판 상에 돌출된 스페이서 본체부;
    상기 스페이서 본체부로부터 돌출된 복수의 기둥부들; 및
    상기 복수의 기둥부들 각각의 상단에 배치되는 복수의 접합부들을 포함하고,
    상기 복수의 접합부들 각각은 상기 스페이서의 최외각에 정의되어, 상기 대향 기판 하부와 접착되는 접합면을 포함하고,
    상기 접합면의 면적은 상기 기둥부의 상기 스페이서 본체부 상면과 평행한 단면의 단면적보다 넓은 표시 장치.
  12. 삭제
  13. 제11항에 있어서,
    상기 접합면은
    상기 스페이서 상부에서 상기 스페이서 본체부 방향으로 함몰된 표시 장치.
  14. 삭제
  15. 화소가 구비된 제1 기판 및 상기 제1 기판에 대향하는 제2 기판을 준비하는 단계;
    상기 제1 기판 상에 유기물질을 도포하여 유기물질층을 형성하는 단계;
    상기 유기물질층을 패터닝하여 복수의 스페이서들을 형성하는 단계; 및
    상기 복수의 스페이서들을 사이에 두고 상기 제1 기판과 상기 제2 기판이 마주하도록 결합하는 단계를 포함하고,
    상기 복수의 스페이서들을 형성하는 단계는
    상기 유기물질층을 패터닝하여 상기 제1 기판 상에 돌출된 스페이서 본체부를 형성하는 단계; 및
    상기 스페이서 본체부 상부를 패터닝하여, 상기 스페이서 본체부로부터 돌출된 복수의 기둥부들 및 상기 복수의 기둥부들 각각의 상단에 복수의 접합부들을 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 복수의 접합부들 각각은 상기 스페이서의 최외각에 정의되어, 상기 제2 기판 하부와 접착되는 접합면을 포함하고,
    상기 접합면의 면적은 상기 기둥부의 상기 스페이서 본체부 상면과 평행한 단면의 단면적보다 넓은 표시 장치의 제조 방법.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 유기물질층은 실리콘계 고분자 화합물을 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 유기물질층은 폴리디메틸실록산(PDMS: Polydimethylsiloxane)을 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  18. 제15항에 있어서,
    상기 복수의 스페이서들을 형성하는 단계는
    상기 스페이서 본체부의 형상에 대응하는 제1 홈이 정의된 제1 몰드를 이용하여 상기 유기물질층을 가압하는 단계;
    상기 가압된 유기물질층을 부분적으로 경화하여 상기 스페이서 본체부를 형성하는 단계;
    상기 복수의 기둥부들 및 상기 복수의 접합부들의 형상에 대응하는 제2 홈이 정의된 제2 몰드를 이용하여 상기 스페이서 본체부의 상부를 가압하는 단계; 및
    상기 가압된 스페이서 본체부의 상부를 경화하여 상기 복수의 기둥부들 및 상기 복수의 접합부들을 형성하는 단계를 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  19. 제15항에 있어서,
    상기 제1 기판 및 상기 제2 기판에 외력을 가하여 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판이 일 방향을 따라 커브드 시키는 단계를 더 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
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