KR20070097885A - 포토 마스크, 그를 이용한 액정표시장치 및 그 제조 방법 - Google Patents

포토 마스크, 그를 이용한 액정표시장치 및 그 제조 방법 Download PDF

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KR20070097885A
KR20070097885A KR1020060028730A KR20060028730A KR20070097885A KR 20070097885 A KR20070097885 A KR 20070097885A KR 1020060028730 A KR1020060028730 A KR 1020060028730A KR 20060028730 A KR20060028730 A KR 20060028730A KR 20070097885 A KR20070097885 A KR 20070097885A
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김창수
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엘지.필립스 엘시디 주식회사
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Abstract

본 발명은 포토 마스크 및 그를 이용한 액정표시장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명은 슬릿을 통해 회절에 의한 빛의 간섭을 이용하여 엠보싱 패턴을 포함한 감광막을 형성할 수 있는 포토 마스크를 제공하고, 상기 포토 마스크를 이용하여 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서 형성을 통해 상기 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서와 박막 트랜지스터 어레이 기판과의 접촉 면적을 감소시킴으로써 눌림 불량을 개선할 수 있는 액정표시장치 및 그 제조 방법을 제공한다.
포토 마스크, 눌림 불량, 컬럼 스페이서, 엠보싱 패턴, 회절 노광, 간섭

Description

포토 마스크, 그를 이용한 액정표시장치 및 그 제조 방법{Photo mask, liquid crystal display device and fabrication method thereof}
도 1은 종래의 액정표시장치를 도시한 단면도.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 제 1, 2 실시예에 따른 포토 마스크를 나타낸 평면도.
도 3a 및 도 3b는 도 2a 및 도 2b를 I-I', Ⅱ-Ⅱ'로 절취한 포토 마스크의 단면도.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 제 1, 2 실시예에 따른 제 1 및 제 2 포토 마스크를 이용하여 형성된 엠보싱 패턴을 포함한 감광막의 평면도.
도 5은 도 4a를 Ⅲ-Ⅲ'로 절취한 엠보싱 패턴을 포함한 감광막의 단면도.
도 6은 본 발명에 따른 포토 마스크를 이용하여 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서가 형성된 트위스트 네마틱 모드(TN mode;Twisted Nematic mode) 액정표시장치를 도시한 단면도.
도 7a 내지 도 7g는 본 발명에 따른 포토 마스크를 이용하여 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서가 형성된 컬러필터 어레이 기판의 제조 방법을 설명하기 위한 공정단면도.
< 도면의 주요부분에 대한 설명>
100, 200 : 포토 마스크 110, 210, 310, 410 : 기판
120, 220 : 제 1 금속패턴 130, 230 : 슬릿
150, 250 : 제 2 금속패턴 320a, 420a, 560a : 엠보싱 패턴
320, 420 : 감광막 500 : 상부 기판
510 : 제 1 기판 520 : 블랙 매트릭스
530 : 컬러필터층 540 : 오버코트층
550 : 공통 전극 560 : 컬럼 스페이서
600 : 하부 기판 610 : 제 2 기판
620 : 게이트 전극 640 : 액티브층
650 : 소스 전극 660 : 드레인 전극
680 : 화소 전극 700 : 액정층
710 : 액정
본 발명은 포토 마스크 및 그를 이용한 액정표시장치 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 특히 컬럼 스페이서에 의한 눌림 불량을 개선할 수 있는 액정표시장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
최근에 액정표시장치(Liquid Crystal display Device; 이하 LCD)는 소비전력이 낮고, 휴대성이 양호한 기술집약적이며 부가가치가 높은 차세대 첨단 디스플레 이 소자로 각광받고 있다.
통상의 액정표시장치는 전계를 이용하여 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상을 표시하게 된다.
도 1은 종래의 액정표시장치를 도시한 단면도이다.
도시된 바와 같이, 컬러필터 어레이 기판(10) 및 박막트랜지스터 어레이 기판(30)이 서로 일정 간격 이격되어 있고, 두 기판(10, 30) 사이에는 액정층(50)이 형성되어 있다.
상기 박막트랜지스터 어레이 기판(30)의 투명 기판(31) 상에는 금속과 같은 도전성 물질로 이루어진 게이트 전극(32)이 형성되어 있고, 상기 게이트 전극(32)을 포함한 기판(31) 전면에 걸쳐 게이트 절연막(34)이 형성되어 있다.
상기 게이트 절연막(34) 상부의 게이트 전극(32)과 대응되는 영역에는 채널층(36a), 오믹콘택층(36b)이 차례대로 적층된 액티브층(36)이 형성되어 있고, 상기 액티브층(36)의 상부에는 서로 일정 간격 이격된 소스 전극 및 드레인 전극(38, 40)이 형성되어 있고, 상기 소스 전극 및 드레인 전극(38, 40) 간의 이격 구간에는 채널층(36a)의 일부를 노출시킨 채널(ch;channel)이 형성되어 있다.
이때, 상기 게이트 전극(32), 액티브층(36), 상기 소스 전극 및 드레인 전극(38, 40)은 박막트랜지스터(T)를 이룬다.
도면으로 제시하지 않았지만, 상기 게이트 전극(32)과 연결되어 제 1 방향으로 게이트라인이 형성되고, 상기 제 1 방향과 교차되는 제 2 방향으로 상기 소스 전극(38)과 연결되는 데이터라인이 형성되고, 상기 게이트라인 및 데이터라인이 교 차되는 영역은 화소영역(P)으로 정의된다.
또한, 상기 박막트랜지스터(T) 상부에는 드레인 콘택홀(44)을 가지는 보호층(42)이 형성되어 있고, 화소영역(P)에는 일정 간격 이격되며 드레인 콘택홀(44)을 통해 상기 드레인 전극(40)과 전기적으로 연결되는 투명 도전성 물질인 화소 전극(46)이 형성되어 있다.
상기 컬러필터 어레이 기판(10)의 투명 기판(11) 하부에는 상기 화소 전극(46)과 대응되는 위치에 특정 파장대의 빛만을 걸러주는 컬러필터층(14)이 형성된다. 상기 컬러필터층(14) 상의 경계부에는 빛샘 현상(light leakage) 및 박막트랜지스터(T)로의 광유입을 차단하는 블랙 매트릭스(12)가 형성되어 있다.
상기 블랙 매트릭스(12) 및 컬러필터층(14) 하부에는 상기 컬러필터층(14)의 단차를 제거하여 기판(11)을 평탄화하기 위한 오버코트층(OC;Over Coat Layer)(16)이 형성된다.
상기 오버코트층(16) 하부에는 투명한 도전성 금속으로 이루어진 공통 전극(18)이 형성되어 있고, 상기 공통 전극(18) 하부의 상기 박막트랜지스터(T)와 대응되는 영역에는 마스크 공정으로 패터닝된 컬럼 스페이서(C/S;Column Spacer)(20)가 형성된다.
한편, 상기 컬러필터 어레이 기판(10) 및 박막트랜지스터 어레이 기판(30) 사이의 셀 갭을 이루는 영역에는 액정층(50)이 형성되어 있으며, 상기 액정층(50)의 누설을 방지하기 위해, 상기 두 기판(10, 30)의 가장자리는 도시되지는 않았지만 씰 패턴에 의해 봉지되어 있다.
상기 컬럼 스페이서(20)는 상기 컬러필터 어레이 기판(10)과 박막 트랜지스터 어레이 기판(30) 사이의 일정한 셀 갭을 유지하는 역할을 하며, 상기 공통 전극(18)이 형성된 기판(11) 상에 유기 고분자 물질을 코팅한 후, 이를 선택적으로 제거하는 사진 식각 공정(Photolithography)에 의해 형성된다. 상기 컬럼 스페이서(20)는 유기 고분자 물질 중 일반적으로 수지(resin)로 형성된다.
종래에는 산포 방식을 이용한 볼 스페이서(ball spacer)를 이용하였으나 최근에는 액정표시장치가 대면적화되고 셀 갭이 낮아짐에 따라 보다 안정적인 셀 갭을 유지하기 위하여 볼 스페이서 대신에 상기 컬럼 스페이서(20)를 주로 사용한다.
상기 컬럼 스페이서(20)는 일반적으로 도시되지 않는 마스크를 이용해서 형성된다. 상기 컬럼 스페이서(20)가 상기 마스크를 통해 형성될 경우, 상기 박막트랜지스터 어레이 기판(30)과 상기 컬럼 스페이서(20)와의 접촉 면적이 넓어 외부에서 액정패널에 압력이 가해지게 되면 눌림 불량이 발생된다.
액정표시장치에서 눌림 불량은 전체 패널 면적에 대한 컬럼 스페이서의 밀도에 비례하게 되고 액정패널 내에 복수개의 컬럼 스페이서가 형성된다. 결국, 상기 컬럼 스페이서가 증가하게 되면 액정표시장치의 눌림 불량현상은 이에 비례하게 된다.
현재 컬럼 스페이서 구조를 이용하여 중력 방향으로 액정이 흘러내리는 중력 불량 또는 외부의 압력에 의한 눌림 불량을 개선하려는 연구가 활발히 진행 중에 있지만 상기 마스크를 이용할 경우, 제조 공정 시 상기 컬럼 스페이서(20)와 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판(30)과의 접촉 면적을 통제할 수 없기 때문에 눌림 불 량을 개선하는데 어려움을 안고 있다.
따라서, 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판과의 접촉 면적이 감소될 수 있는 컬럼 스페이서를 제작할 수 있는 포토 마스크의 제작이 선행되어야 하며, 이를 이용한 액정표시장치의 눌림 불량 개선이 요구된다.
본 발명은 눌림 불량을 개선할 수 있는 액정표시장치 및 그 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 포토 마스크는, 기판; 상기 기판 하부의 회절투과부 내부에 형성되며 일정 간격의 슬릿을 포함하여 나란하게 형성되어 다각형 형상을 이루는 복수개의 제 1 금속패턴; 및 상기 회절투과부 외부의 전면에 걸쳐 형성되며 상기 제 1 금속패턴과 일정 간격 이격되어 형성된 제 2 금속패턴을 포함한다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정표시장치는, 제 1 기판 상에 일정 간격 이격되어 형성된 블랙 매트릭스; 상기 블랙 매트릭스 경계부의 하부에 형성된 컬러필터층; 상기 컬러필터층 하부에 형성되며 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서; 상기 제 1 기판과 대향되어 합착된 제 2 기판; 및 상기 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 형성된 액정층을 포함한다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조 방법은, 제 1 기판 상에 일정 간격 이격되도록 블랙 매트릭스를 패터닝하여 형성하는 단계와, 상기 블랙 매트릭스 경계부의 상기 제 1 기판 상에 컬러필터층을 패터닝하여 형성하는 단계와, 상기 컬러필터층을 포함한 상기 제 1 기판 상의 전면에 형성된 감광막 상에 회절에 의한 빛의 간섭을 이용한 포토 마스크를 통한 노광 및 현상으로 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서를 형성하는 단계와, 상기 제 1 기판과 대향되도록 제 2 기판을 합착하는 단계 및 상기 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함한다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 제 1, 2 실시예에 따른 포토 마스크를 나타낸 평면도이고, 도 3a 및 도 3b는 도 2a 및 도 2b를 I-I', Ⅱ-Ⅱ'로 절취한 포토 마스크의 단면도이다.
도 2a 및 도 3a에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 제 1 포토 마스크(100)는 투명한 제 1 기판(110)과, 상기 제 1 기판(110) 하부의 원형 회절투과부(E) 내부에 형성되며 일정 간격(d1)의 제 1 슬릿(130)을 포함하여 나란하게 형성되어 삼각형 형상을 이루는 복수개의 제 1 금속패턴(120)과, 상기 원형 회절투과부(E) 외부의 전면에 걸쳐 형성되며 상기 제 1 금속패턴(120)과 일정 간격 이격되어 형성된 제 2 금속패턴(150)을 포함하여 형성된다.
상기 원형 회절투과부(E)는 컬럼 스페이서(미도시)를 형성하기 위한 것이다.
상기 제 1 금속패턴(120)은 스트라이프(Stripe) 형태로 형성되며, 나란한 두 개의 제 1 금속패턴(120) 사이에 일정 간격(d1)을 갖는 제 1 슬릿(130)이 형성되게 된다.
상기 제 1 금속패턴(120)과 제 2 금속패턴(150)은 빛을 완전히 차단하는 차단부(F)로 형성되며, 상기 원형 회절투과부(E) 내의 일정 간격(d1)을 갖는 제 1 슬릿(130)과 제 1 금속패턴(120)을 제외한 부분(140)은 빛을 완전히 투과하는 투과부(G)로 형성된다.
상기 제 1 기판(110)는 빛을 완전히 투과시킬 수 있는 석영으로 이루어지며, 상기 투과부(G)는 투명한 석영 기판(110)으로만 형성되며, 상기 차단부(F)의 제 1 금속패턴(120)과 제 2 금속패턴(150)은 투명한 석영 기판(110) 하부에 광을 완전히 차단하는 특성을 가진 크롬(Cr)으로 형성된다.
도 2b 및 도 3b에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 제 2 포토 마스크(200)는 투명한 제 2 기판(210)과, 상기 제 2 기판(210) 하부의 사각형 회절투과부(E') 내부에 형성되며 일정 간격(d2)의 제 2 슬릿(230)을 포함하여 나란하게 형성되어 사각형 형상을 이루는 복수개의 제 1 금속패턴(220)과, 상기 사각형 회절투과부(E') 외부의 전면에 걸쳐 형성되며 상기 제 1 금속패턴(220)과 일정 간격 이격되어 형성된 제 2 금속패턴(250)으로 형성된다.
사각형 회절투과부(E')는 상기 원형 회절투과부(E)와 마찬가지로 도시되지 않은 컬럼 스페이서를 형성하기 위한 것이다.
상기 제 1 포토 마스크(100)와 마찬가지로 상기 제 1 금속패턴(220)은 스트라이프(Stripe) 형태로 형성되며, 나란한 두 개의 제 1 금속패턴(220) 사이에 일정 간격(d2)을 갖는 제 2 슬릿(230)이 형성되게 된다.
여기서, 상기 제 1 금속패턴(220)과 제 2 금속패턴(250)은 빛을 완전히 차단 하는 차단부(F')로 형성되며, 상기 사각형 회절투과부(E') 내의 일정 간격(d2)을 갖는 슬릿(230)과 제 1 금속패턴(220)을 제외한 부분(240)은 빛을 완전히 투과하는 투과부(G')로 형성된다.
상기 제 2 기판(210)은 빛을 완전히 투과시킬 수 있는 석영으로 이루어지며, 상기 투과부(G')는 투명한 석영 기판(210)으로만 형성되며, 상기 차단부(F')의 제 1 금속패턴(220)과 제 2 금속패턴(245)은 투명한 석영 기판(210) 하부에 광을 완전히 차단하는 특성을 가진 크롬(Cr)으로 형성된다.
상기 본 발명의 제 1, 2 실시예에 따른 제 1 및 제 2 포토 마스크(100, 200)는 감광성 수지층 노광 시 상기 원형 회절투과부(E) 또는 사각형 회절투과부(E') 내의 일정 간격(d1, d2)을 갖는 제 1 및 제 2 슬릿(130, 230)을 통해 회절에 의한 빛의 간섭을 이용하도록 설계된다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 제 1, 2 실시예에 따른 제 1 및 제 2 포토 마스크를 이용하여 형성된 엠보싱 패턴을 포함한 감광막의 평면도이고, 도 5은 도 4a를 Ⅲ-Ⅲ'로 절취한 엠보싱 패턴을 포함한 감광막의 단면도이다.
도 4a 및 도 5에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 제 1 포토 마스크(100)를 이용해서 기판(310) 상에 네거티브 감광성 물질로 형성된 감광막(미도시) 노광 시 상기 제 1 포토 마스크(100)의 원형 회절투과부(E) 내의 두 개의 나란한 제 1 금속패턴(120) 사이에 형성된 일정 간격(d1)을 갖는 제 1 슬릿(130)을 통해 회절에 의한 빛의 간섭을 이용함으로써, 상기 원형 회절투과부(E)에 대응되는 영역의 네거티브 감광막 중 회절에 의한 빛의 보강 간섭이 발생된 부 분에 엠보싱 패턴(320a)이 형성된다.
결과적으로, 상기 제 1 포토 마스크(100)는 상기 엠보싱 패턴(320a)을 포함한 감광막(320)을 형성하게 된다.
상기 엠보싱 패턴(320a)을 포함한 감광막(320)은 원 기둥 형상으로 형성되며, 상기 엠보싱 패턴(320a)은 상기 엠보싱 패턴(320a) 간 소정 간격의 피치(pitch)(l1)를 갖는 구조로 형성된다. 상기 엠보싱 패턴(320a)은 상기 감광막(320) 상부 표면적의 1/3 내지 1/2의 면적을 차지하도록 형성된다.
도 4b에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 제 2 포토 마스크(200)를 이용해서 기판(410) 상에 형성된 네거티브 감광막 물질로 형성된 감광막(420) 노광 시, 상기 제 2 포토 마스크(200)의 사각형 회절투과부(E') 내의 두 개의 나란한 제 1 금속패턴(220) 사이에 형성된 일정 간격(d2)을 갖는 제 2 슬릿(230)을 통해 회절에 의한 빛의 간섭을 이용함으로써, 상기 사각형 회절투과부(E')에 대응되는 영역의 네거티브 감광막 중 회절에 의한 빛의 보강 간섭이 발생된 부분에 엠보싱 패턴(420a)이 형성된다.
결과적으로 상기 제 2 포토 마스크(200)에 의해 엠보싱 패턴(420a)이 형성된다.
상기 엠보싱 패턴(420a)을 포함한 감광막(420)은 사각기둥 형상으로 형성되며, 상기 엠보싱 패턴(420a)은 상기 엠보싱 패턴(420a) 간 소정 간격의 피치(pitch)(l2)를 갖는 구조로 형성된다. 이때, 상기 엠보싱 패턴(420a)은 상기 감광막(420)의 상부 표면적의 1/3 내지 1/2의 면적을 차지하도록 형성된다.
도면에 도시되지 않았으나, 상기 본 발명의 제 2 실시예에 따른 제 2 포토 마스크(200)를 이용한 엠보싱 패턴(420a)을 포함한 감광막(420)의 단면도는 상기 본 발명의 제 1 실시예에 따른 포토 마스크(100)를 이용한 엠보싱 패턴(320a)을 포함한 감광막(320)에서와 동일하다.
상기 본 발명에 따른 제 1 및 제 2 포토 마스크(100, 200)를 이용하여 형성된 상기 엠보싱 패턴(320a, 420a)을 포함한 감광막(320, 420)의 엠보싱 패턴(320a, 420a) 간 피치(l1, l2)는 상기 제 1 및 제 2 슬릿(130, 230)의 간격(d1, d2)에 비례하며, 상기 제 1 및 제 2 슬릿(130, 230)의 간격(d1, d2)은 형성하고자 하는 엠보싱 패턴(320a, 420a) 간 피치(l1, l2)에 따라 조절 가능하다.
상기 네거티브 감광성 수지층 상에 원형 회절투과부(E) 또는 사각형 회절투과부(E') 내에 두 개의 나란한 제 1 금속패턴(120, 220) 사이에 형성된 일정 간격(d1, d2)을 갖는 제 1 및 제 2 슬릿(130, 230)을 이용한 제 1 및 제 2 포토 마스크(100, 200)를 통해 회절에 의한 빛의 간섭을 이용하여 엠보싱 패턴(320a, 420a)을 포함한 수지층(320, 420)을 형성함으로써, 상부 표면의 접촉 면적을 엠보싱 패턴(320a, 420a)이 차지하는 면적으로 줄일 수 있다.
또한, 제 1 및 제 2 슬릿(130, 230)의 간격(d1, d2)을 조절하여 감광막(320, 420)의 상부 접촉 면적을 통제할 수 있다.
상기 제 1 및 제 2 포토 마스크(100, 200)를 이용하여 형성된 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서를 포함하는 액정표시장치 및 그 제조 과정을 간략하게 설명해 보기로 한다.
도 6은 본 발명에 따른 포토 마스크를 이용하여 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서가 형성된 트위스트 네마틱 모드(TN mode;Twisted Nematic mode) 액정표시장치를 도시한 단면도이다.
도 6에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 제 1 및 제 2 포토 마스크(100, 200)를 이용한 액정표시장치는 상부 기판(500)과 하부 기판(600)이 서로 일정 간격 이격되어 있고, 상기 두 기판(500, 600) 사이에 액정층(700)이 형성된다.
상기 하부 기판(600)의 투명한 유리로 형성된 제 1 기판(610) 상의 화소부에는 게이트 전극(620), 액티브층(640), 소스 전극(650) 및 드레인 전극(660)을 포함하는 박막트랜지스터(T)가 형성된다. 상기 박막트랜지스터(T)는 액정에 신호전압을 인가하고 차단하는 스위칭 소자이다.
도면에 도시되지 않았지만, 상기 게이트 전극(620)과 연결되어 제 1 방향으로 게이트라인이 형성되고, 이 제 1 방향과 교차되는 제 2 방향으로 상기 소스 전극(650)과 연결되는 데이터라인이 형성되고, 이 게이트라인 및 데이터라인이 교차되는 영역은 화소영역(P)으로 정의된다.
또한, 상기 박막트랜지스터(T) 상부의 제 2 기판(610) 전면에 걸쳐 상기 박막트랜지스터(T)를 보호하며 드레인 전극(660)의 표면 일부를 노출시키는 콘택홀(675)을 가지는 보호층(670)이 형성된다. 상기 보호층(670)은 실리콘 산화막(SiO2), 실리콘 질화막(SiNx) 또는 이들의 이중층으로 형성된다.
상기 보호층(670) 상의 화소영역(P)에는 상기 콘택홀(675)을 통해 상기 드레 인 전극(660)과 전기적으로 연결되는 화소 전극(680)이 패터닝되어 형성된다.
상기 화소 전극(680)은 상기 상부 기판(500)의 컬러필터층(530)과 대응되는 영역에 형성된다. 상기 화소 전극(680)은 투명 도전성 물질로 형성되며, ITO 또는 IZO로 형성된다.
상기 상부 기판(500)의 투명한 유리로 형성된 제 2 기판(510) 하부에는 외광 및 산란광을 흡수하는 빛샘 차단 역할을 하기 위하여 하부 기판(600)의 박막트랜지스터(T) 형성부, 게이트라인 및 데이터라인과 대응되는 영역에 블랙 매트릭스(520)가 형성된다.
또한, 상기 블랙 매트릭스(520)는 후속 공정에서 형성되는 컬퍼필터층(530)의 경계부에 형성되어 컬러필터층(530) 사이의 혼색을 방지한다. 상기 블랙 매트릭스(520)는 크롬(Cr), 크롬(Cr)/크롬옥사이드(CrOx) 또는 폴리머 계열 수지 등으로 형성된다.
상기 블랙 매트릭스(520) 하부에는 적(Red), 녹(Green), 청(Blue)의 컬러필터층(530)이 각각 패터닝되어 형성된다. 상기 컬러필터층(530)은 지지체인 아크릴 수지 외에 안료를 포함하며, 상기 컬러필터층(530)은 색상을 구현하는 상기 안료의 종류에 따라서 적(R), 녹(G), 청(B) 컬러필터층으로 구분할 수 있다.
다음으로, 상기 컬러필터층(530) 하부에는 오버코트층(OC;Over Coating Layer)(540)이 더 형성될 수 있다. 상기 오버코트층(540)은 컬러필터층(530) 보호 및 컬러필터층(530)의 표면 평탄화를 위해 형성되며, 아크릴 계열 수지 또는 폴리머 계열 수지로 형성된다.
상기 오버코트층(540) 하부에는 투명 도전성 물질로 이루어진 공통 전극(55 0)이 형성되며, ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)로 형성된다.
상기 공통 전극(550) 하부의 소정 영역에는 상기 컬러필터 어레이 기판(500)과 하부 기판(600) 사이의 셀 갭을 유지하는 엠보싱 패턴(560a)을 포함한 컬럼 스페이서(560)가 패터닝되어 형성된다.
상기 엠보싱 패턴(560a)을 포함한 컬럼 스페이서(560)는 본 발명의 제 1, 2 실시예에 따른 제 1 및 제 2 포토 마스크(100, 200)의 제 1 및 제 2 슬릿(130, 230)을 통해 회절에 의한 빛의 간섭을 이용하여 형성되며, 이때, 상기 엠보싱 패턴(560a)은 상기 컬럼 스페이서(560)의 상부 표면적의 1/3 내지 1/2의 면적을 차지하도록 형성된다.
상기 엠보싱 패턴(560a)은 상기 엠보싱 패턴(560a) 간 소정 간격의 피치(l3)를 유지하는 구조로 형성된다. 상기 엠보싱 패턴(560a)을 포함한 컬럼 스페이서(560)는 감광성 물질로 형성되며, 아크릴 계열 수지 또는 폴리머 계열 수지로 형성된다.
상기 엠보싱 패턴(560a)을 포함한 컬럼 스페이서(560)는 상기 상부 기판(500)과 하부 기판(600) 사이에 안정적인 셀 갭을 유지하면서 하부 기판(600)과의 접촉 면적을 감소시킴으로써 액정표시장치의 눌림 불량을 개선할 수 있다.
이로써, 제 1 기판(510), 블랙 매트릭스(520), 컬러필터층(530), 공통 전극(540) 및 엠보싱 패턴(560a)을 포함한 컬럼 스페이서(560)를 포함하는 컬러필터 어레이 기판인 상부 기판(500)이 완성된다.
도면으로 도시되지 않았으나, 상기 완성된 상부 기판(500)과 하부 기판(600)은 액정주입구를 제외하고 화면 표시 영역 외곽을 따라 실런트(sealant)가 인쇄된 씰 패턴에 의해 합착된다. 상기 씰 패턴은 UV 파장의 빛 또는 열에 의하여 경화되는 특성을 가지는 물질을 사용한다.
상기 씰 패턴에 의해 합착된 두 기판(500, 600) 사이의 엠보싱 패턴(560a)을 포함한 컬럼 스페이서(560)에 의해 일정한 셀 갭이 발생된 영역에는 액정층(700)이 형성된다.
또한, 상기 액정층(700)은 상기 상부 기판(500)과 하부 기판(600) 합착 전 액정 적하 방식에 의해 형성될 수도 있다. 이로써, TN 모드 액정표시장치를 완성한다.
상기 화소 전극(680) 및 공통 전극(550)은 액정표시장치의 액정 셀에 전압을 인가하는 전극으로서, 상기 화소 전극(680)은 상기 드레인 전극(660)을 통해 전압이 인가되고, 상기 공통 전극(550)은 도시되지 않았으나 공통라인(미도시)을 통해 전압이 인가되어 액정 셀을 구동시켜 영상을 표시하게 된다.
도면으로 도시되지는 않았지만, 상기 상부 기판(500) 및 하부 기판(600)의 액정(710)과 각각 접하는 부분에는 액정의 배열을 용이하게 유도하기 위해 상부 및 하부 배향막을 더욱 포함할 수 있다.
상기한 바와 같이, 상기 엠보싱 패턴(560a)을 포함한 컬럼 스페이서(560)는 상기 두 기판(500, 600)을 합착 시 상기 하부 기판(600)과의 접촉 면적을 감소시킬 수 있으므로, 액정패널 외부의 압력에 의해 발생되는 눌림 불량을 개선할 수 있다.
도 7a 내지 도 7g는 본 발명에 따른 포토 마스크를 이용하여 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서가 형성된 컬러필터 어레이 기판의 제조 방법을 설명하기 위한 공정단면도이다.
널리 공지된 바와 같이, 액정표시장치의 컬러필터 어레이 기판을 제조하는 공정 중에는 컬럼 스페이서를 제조하는 공정이 포함되어 있으므로, 여기서는 액정표시장치의 컬러필터 어레이 기판을 제조하는 공정을 기준으로 하여 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서 제조 공정을 간략히 설명하기로 한다.
도 7a를 참조하면, 제 1 기판(510) 상의 전면에 걸쳐 크롬(Cr)/크롬옥사이드(CrOx)를 진공증착법(evaporation) 또는 스퍼터링(sputtering) 방법을 수행하여 차례로 적층한 후 사진 식각 공정을 통해 형성된 마스크(미도시)를 통해 일정 간격 이격되도록 블랙 매트릭스(520)를 패터닝하여 형성한다.
도 7b를 참조하면, 상기 블랙 매트릭스(520)을 포함한 제 1 기판(510) 상의 전면에 걸쳐 아크릴 수지, 안료 등을 안료 분산법, 인쇄법, 전착법, 염색법 등의 방법으로 적층 후 마스크 공정으로 패터닝하여 블랙 매트릭스(520)의 경계부에 적(R), 녹(G), 청(B) 컬러필터층(530)을 순차적으로 형성한다.
도 7c를 참조하면, 상기 컬러필터층(530)을 포함한 제 1 기판(510) 상의 전면에 걸쳐 아크릴 계열 수지 또는 폴리머 계열 수지를 스핀 코팅(spin coating) 방법으로 도포하여 오버코트층(540)을 더 형성한다.
도 7d를 참조하면, 상기 오버코트층(540)을 포함한 제 1 기판(510) 상의 전면에 걸쳐 ITO 또는 IZO를 진공증착법 또는 스퍼터링 방법을 수행하여 공통 전 극(550)을 형성한다.
도 7e를 참조하면, 상기 공통 전극(550) 상부에 감광성 물질인 폴리머 계열 수지 또는 아크릴계 수지 등을 스핀 코팅 방법으로 도포하여 감광막(580)을 형성한다. 상기 감광막(580)은 포지티브형 또는 네거티브형 중 선택되는 1종 일 수 있으며, 본 발명에서는 노광된 부분의 현상액이 제거되지 않고 남게 되는 네거티브형 으로 설명한다.
도 7f를 참조하면, 상기 감광막(580) 상에 본 발명의 제 1 실시예에 따른 제 1 금속패턴(120)과 제 2 금속패턴(150)의 차단부(F)와 회절투과부(E) 내에 제 1 슬릿(130)을 갖는 투과부(G)를 포함하는 제 1 포토 마스크(100)를 위치시킨 후 UV(자외선)를 조사한다.
도 7g를 참조하면, 상기 제 1 포토 마스크(100)를 제거하고 노광된 감광막(560)을 현상한다. 상기 제 2 금속패턴(150)의 차단부(F)가 적용된 감광막(580)은 모두 제거되어 공통 전극(550)의 표면이 노출되고, 상기 제 1 금속패턴(120)의 차단부(F)와 제 1 슬릿(130) 등의 투과부(G)가 적용된 회절투과부(E)에 대응되는 감광막(580)은 슬릿(130)을 통해 회절에 의한 빛의 간섭 현상이 발생하여 엠보싱 패턴(560a)을 포함한 컬럼 스페이서(560)를 형성한다.
상기 컬럼 스페이서(560)의 엠보싱 패턴(560a) 간에는 일정한 피치(l3)를 갖으며, 이를 통해 컬럼 스페이서(560) 상부 표면의 접촉 면적을 감소시킬 수 있다.
이로써, 본 발명에 따른 포토 마스크를 이용한 엠보싱 패턴(560a)을 포함한 컬럼 스페이서(560)가 형성된 트위스트 네마틱 모드 액정표시장치의 컬러필터 어레 이 기판이 완성된다.
본 발명에서는 설명의 편의를 위하여, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 포토 마스크를 이용하여 눌림 불량이 개선된 액정표시장치의 제조 방법을 설명하였으나, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 포토 마스크를 액정표시장치에 이용할 경우에도 위와 동일하게 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서를 형성하여 액정표시장치의 눌림 불량을 개선할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 액정표시장치는 트위스트 네마틱 모드에 한해 설명하였으나, 수직 정렬 모드(VA mode;Vertical Alignment mode), 수퍼 트위스트 네마틱 모드(STN mode;Super Twisted Nematic mode) 및 횡전계방식 모드(IPS;In-Plane Switching mode) 등에도 적용 가능하다.
이때, 상기 IPS 모드 액정표시장치일 경우 공통 전극은 화소 전극과 동일한 기판에 형성되며, 상기 공통 전극은 화소 전극과 엇갈려서 동일층에 형성되거나 화소 전극과 엇갈려서 게이트 전극과 동일층에 형성될 수 있다.
이상을 통해 본 발명을 바람직한 실시예들에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.
본 발명은 회절투과부 내에 슬릿을 통해 회절에 의한 빛의 간섭을 이용하여 엠보싱 패턴을 포함한 감광막을 형성할 수 있는 포토 마스크를 제공하는 효과가 있다.
본 발명은 상기 포토 마스크의 회절투과부 내의 슬릿의 간격을 조절하여 감광막의 상부 표면의 접촉 면적을 통제할 수 있는 다른 효과가 있다.
본 발명은 상기 포토 마스크를 이용하여 액정표시장치에 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서 형성을 통해 상기 엠보싱 패턴에 의해 컬럼 스페이서와 박막 트랜지스터 어레이 기판과의 접촉 면적을 감소시킴으로써 눌림 불량을 개선할 수 있는 액정표시장치 및 그 제조 방법을 제공할 수 있는 또 다른 효과가 있다.

Claims (18)

  1. 기판;
    상기 기판 하부의 회절투과부 내부에 형성되며 일정 간격의 슬릿을 포함하여 나란하게 형성되어 다각형 형상을 이루는 복수개의 제 1 금속패턴; 및
    상기 회절투과부 외부의 전면에 걸쳐 형성되며 상기 제 1 금속패턴과 일정 간격 이격되어 형성된 제 2 금속패턴;을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 마스크.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 회절투과부는 원형 또는 사각형 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 포토 마스크.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 금속패턴은 스트라이프 형태로 형성되는 특징으로 하는 포토 마스크.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 다각형 형상은 삼각형 또는 사각형인 것을 특징으로 하는 포토 마스크.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 금속패턴과 제 2 금속패턴은 크롬(Cr)으로 형성되는 것을 특징으로 하는 포토 마스크.
  6. 제 1 기판 상에 일정 간격 이격되어 형성된 블랙 매트릭스;
    상기 블랙 매트릭스 경계부의 하부에 형성된 컬러필터층;
    상기 컬러필터층 하부에 형성되며 다수의 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서;
    상기 제 1 기판과 대향되어 합착된 제 2 기판; 및
    상기 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 형성된 액정층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서는 감광성 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서의 엠보싱 패턴은 상기 컬럼 스페이서 상부 표면적의 1/2 내지 1/3의 면적을 차지하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 컬러필터층 하부에 공통 전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  10. 제 6 항에 있어서,
    상기 컬러필터층 하부에 오버코트층이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  11. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 2 기판에 화소 전극과 엇갈려서 공통 전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  12. 제 1 기판 상에 일정 간격 이격되도록 블랙 매트릭스를 패터닝하여 형성하는 단계;
    상기 블랙 매트릭스 경계부의 상기 제 1 기판 상에 컬러필터층을 패터닝하여 형성하는 단계;
    상기 컬러필터층을 포함한 상기 제 1 기판 상의 전면에 형성된 감광막 상에 회절에 의한 빛의 간섭을 이용한 포토 마스크를 통한 노광 및 현상으로 다수의 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서를 형성하는 단계;
    상기 제 1 기판과 대향되도록 제 2 기판을 합착하는 단계; 및
    상기 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 액정층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 포토 마스크는 회절투과부와 차단부를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 포토 마스크는 회절투과부 내에 일정 간격의 슬릿을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.
  15. 제 12 항에 있어서,
    상기 컬러필터층을 포함한 상기 제 1 기판 상의 전면에 형성된 감광막 상에 회절에 의한 빛의 간섭을 이용한 포토 마스크를 통한 노광 및 현상으로 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서를 형성하는 데 있어서,
    상기 컬러필터층을 포함한 상기 제 1 기판 상의 전면에 감광막을 형성하고,
    상기 감광막 상에 상기 포토 마스크를 위치시키고,
    상기 포토 마스크 상에 광을 조사하고, 및
    상기 감광막을 현상하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 감광막을 현상하는데 있어서,
    제 2 금속패턴의 차단부가 적용되어 상기 감광막이 전혀 남지않고, 상기 회절투과부 내의 제 1 금속패턴의 차단부와 슬릿의 투과부가 적용되어 감광막이 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.
  17. 제 12 항에 있어서,
    상기 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서의 엠보싱 패턴은 상기 컬럼 스페이서 상부 표면적의 1/2 내지 1/3의 면적을 차지하도록 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 엠보싱 패턴을 포함한 컬럼 스페이서의 상부 표면적은 상기 포토 마스크의 회절투과부 내 슬릿의 간격에 의해 상기 엠보싱 패턴 간 피치를 조절하여 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.
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KR20190011373A (ko) * 2017-07-24 2019-02-07 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 이의 제조 방법

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150077104A (ko) * 2013-12-27 2015-07-07 엘지디스플레이 주식회사 마스크 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법
KR20190011373A (ko) * 2017-07-24 2019-02-07 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 이의 제조 방법
US11009751B2 (en) 2017-07-24 2021-05-18 Samsung Display Co., Ltd. Display device and method of fabricating the same

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