CN101131540B - 感光性组合物及使用其的显示装置用遮光膜 - Google Patents

Abstract

本发明提供感光性组合物及使用该组合物的感光性转印材料、显示装置用遮光膜及其形成方法、黑矩阵、带遮光膜基板、滤色片以及显示装置，其中的感光性组合物的特征在于，至少含有(I)金属颗粒或具有金属的颗粒、(II)含有尿烷基和多个(甲基)丙烯酰基的聚合性单体、和(III)树脂。利用本发明，可以防止伴随薄层化的膜强度的降低引起的气泡故障的发生或显影时的刷伤、黑矩阵的碎片的发生。

Description

感光性组合物及使用其的显示装置用遮光膜

技术领域

本发明涉及一种感光性组合物及使用该组合物的感光性转印材料、显示装置用遮光膜及其形成方法、黑矩阵、带遮光膜基板、滤色片以及显示装置。 

背景技术

近年来，为了提高显示图像的对比度，要求黑矩阵具有4.0以上的高光学浓度。另一方面，如果黑矩阵的厚度较厚，则会损坏滤色片的表面平滑性，所以必须构成为薄膜。 

制作具有高遮光性的显示装置用的黑矩阵时，一直使用金属的薄膜。这是通过在利用蒸镀法或溅射法形成的铬等金属薄膜上，涂敷光致抗蚀剂，接着使用具有显示装置用遮光膜用图案的光掩模对光致抗蚀剂进行曝光·显影，然后对露出的金属薄膜进行蚀刻，最后通过剥离除去残存于金属薄膜上的光致抗蚀剂而形成的方法(例如参照“彩色TFT液晶显示器”p.218～p.220，共立出版(株)发行(1997年4月10日))。 

该方法由于使用金属薄膜，所以即使膜厚小也可以得到高遮光效果，相反，必需蒸镀法或溅射法这样的真空成膜工序或蚀刻工序，成本变高。另外，由于是金属薄膜，所以反射率极高，在强外光下，显示对比度变低。对应这些问题，还提出了使用低反射铬膜(金属铬与氧化铬的2层构成的膜等)的方法，但不可否认，成本进一步提高了。那么，进而，为了排出在蚀刻工序中的含有金属离子的废液，环境负担也很大。尤其最常使用的铬有害且环境负荷非常大。 

另一方面，作为得到环境负荷小的黑矩阵的技术之一，包括使用炭黑的技术(例如参照特开昭62-9301号公报)。这是在基板上涂敷含有炭黑的感光性树脂组合物并使其干燥，对干燥后的产物进行曝光、显影成为黑矩阵的技术。 

但是，炭黑由于每单位涂敷量的光学浓度低，所以为了保证高遮光性、光学浓度而必然膜厚要变大，例如为了保证与上述的金属膜相等的光学浓度4.0，膜厚则为1.2～1.5μm。所以，在形成黑矩阵之后，形成红、蓝、绿的像素时，由于像素边缘部的高低差等，滤色片的表面变得不平滑，显示质量降低。 

除上述以外，作为得到环境负荷小且为薄膜、光学浓度高的黑矩阵的方法，已知有代替炭黑使用金属颗粒的方法(例如参照特开2004-240039号公报、特开2005-17322号公报)。利用该方法，可以得到环境负荷小且为薄膜、光学浓度高的黑矩阵。 

但是，金属微粒确实以薄膜且具有高光学浓度地构成黑矩阵，尽管从该点来看是有用的，但由于随着薄层化而膜强度降低，存在气泡(pin hole)故障的发生或显影时的刷伤、产生黑矩阵的碎片问题。 

发明内容

本发明正是鉴于上述问题点而提出的，其目的在于提供一种即使在薄膜化的情况下也不会发生所述问题的感光性组合物及使用该组合物的感光性转印材料、显示装置用遮光膜及其形成方法、黑矩阵、带遮光膜基板、滤色片以及显示装置。 

即，本发明是 

<1>一种感光性组合物，其特征在于，至少含有(I)金属颗粒或具有金属的颗粒、(II)含有尿烷基和多个(甲基)丙烯酰基的聚合性单体、和(III)树脂。 

<2>根据<1>所述的感光性组合物，其特征在于，所述(II)聚合性单体中含有的(甲基)丙烯酰基为3个以上。 

<3>根据<2>所述的感光性组合物，其特征在于，所述(II)聚合性单体为下述通式(A)或(B)表示的化合物。 

[化1] 

(在通式(A)或(B)中，R₁表示下述式(a)、(b)或(c)，R₂表示氢原子或甲基。) 

[化2] 

(式(a)中，n表示2～8的整数。) 

<4>根据<1>～<3>中任意一项所述的感光性组合物，其特征在于，所述(I)金属颗粒或具有金属的颗粒的至少一种为具有银锡合金部的颗粒。 

<5>根据<1>～<4>中任意一项所述的感光性组合物，其特征在于，所述(I)金属颗粒或具有金属的颗粒的数均粒径为0.1μm以下。 

<6>一种感光性转印材料，其特征在于，在临时支撑体上具有使用<1>～<5>中任意一项所述的感光性组合物而成的感光性组合物层。 

<7>一种显示装置用遮光膜的形成方法，其特征在于，至少具有：在基板上涂敷<1>～<5>中任意一项所述的感光性组合物的工序。 

<8>一种显示装置用遮光膜的形成方法，其特征在于，至少具有：在基板上转印<6>所述的感光性转印材料的感光性组合物层的工序。 

<9>一种显示装置用遮光膜，其特征在于，使用<1>～<5>中任意一项 所述的感光性组合物形成。 

<10>一种黑矩阵，其特征在于，利用<9>所述的显示装置用遮光膜形成。 

<11>一种带遮光膜基板，其特征在于，具备：基板、和在所述基板上设置的<9>所述的显示装置用遮光膜。 

<12>根据<11>所述的带遮光膜基板，其特征在于，用于滤色片的制作。 

<13>一种滤色片，其特征在于，使用<11>或<12>所述的带遮光膜基板形成。 

<14>一种显示装置，其特征在于，具备：<11>或<12>所述的带遮光膜基板。 

<15>一种显示装置，其特征在于，具备：<13>所述的滤色片。 

利用本发明，可以提供一种没有气泡故障的发生或显影时的刷伤、不会产生黑矩阵的碎片的感光性组合物及使用该组合物的感光性转印材料、显示装置用遮光膜及其形成方法、黑矩阵、带遮光膜基板、滤色片以及显示装置。 

具体实施方式

以下，对本发明的感光性组合物及使用该组合物的感光性转印材料、显示装置用遮光膜及其形成方法、黑矩阵、带遮光膜基板、滤色片以及显示装置进行详细说明。 

<感光性组合物> 

本发明的感光性组合物的特征在于，至少含有(I)金属颗粒或具有金属的颗粒、(II)含有尿烷基和多个(甲基)丙烯酰基的聚合性单体、和(III)树脂。 

通过使用本发明的感光性组合物，可以防止随着薄层化而膜强度降低引起的气泡故障的发生或显影时的刷伤、黑矩阵的碎片的产生。 

以下对本发明的感光性组合物中含有的成分(I)～(III)和其他可含有的成分进行说明。 

(I)金属颗粒或具有金属的颗粒 

本发明的感光性组合物含有金属颗粒或具有金属的颗粒(以下有时称为“本发明中的金属系微粒”。)。 

作为金属颗粒、具有金属的颗粒中的金属，没有特别限定，可以使用任意金属。金属颗粒可以组合使用两种以上的金属，也可以作为合金使用。另外，也可以为金属与金属化合物的复合颗粒。 

<金属颗粒> 

作为金属颗粒，优选为由金属或金属与金属化合物形成的颗粒，特别优选由金属形成的颗粒。 

特别优选含有从长周期律表(IUPAC1991)的第4周期、第5周期及第6周期构成的组中选择的金属作为主要成分。另外，优选含有由第2～14族构成的组中选择的金属，更优选含有由第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族及第14族构成的组中选择的金属作为主要成分。这些金属中，作为金属微粒，更优选为第4周期、第5周期或第6周期的金属，而且为第2族、第10族、第11族、第12族或第14族的金属的颗粒。 

作为所述金属微粒的优选例子，可以举出从铜、银、金、铂、钯、镍、锡、钴、铑、铱、铁、钙、钌、锇、锰、钼、钨、铌、钽、钛、铋、锑、铅及它们的合金中选择的至少一种。进而优选的金属为铜、银、金、铂、钯、镍、锡、钴、铑、钙、铱以及它们的合金，更优选的金属为从铜、银、金、铂、钯、锡、钙以及它们的合金中选择的至少一种，特别优选的金属为从铜、银、金、铂、锡以及它们的合金中选择的至少一种。尤其优选银(作为银，优选为胶体银)，最优选具有银锡合金部的颗粒。对具有银锡合金部的颗粒，后述。 

<金属化合物颗粒> 

“金属化合物”是指所述金属与金属以外的其他元素的化合物。作为金属与其他元素的化合物，可以举出金属的氧化物、硫化物、硫酸盐、碳酸盐等，作为金属化合物颗粒，优选它们的颗粒。其中，从色调或微粒形成的容易度来看，优选硫化物的颗粒。 

作为金属化合物的例子，包括氧化铜(II)、硫化铁、硫化银、硫化铜(II)、钛黑等，从色调、微粒形成的容易度或稳定性的观点出发，特 别优选为硫化银。 

<复合颗粒> 

复合颗粒是指金属与金属化合物结合成为1个颗粒。例如，可以举出颗粒的内部与表面组成不同的颗粒，2种颗粒合一而成的颗粒等。另外，金属化合物与金属可以分别为1种或2种以上。 

作为金属化合物与金属的复合微粒的具体例子，可以优选举出银与硫化银的复合微粒，银与氧化铜(II)的复合微粒等。 

本发明中的金属微粒也可以为核壳型的复合颗粒(核壳颗粒)。核壳型的复合颗粒(核壳颗粒)是指用壳材料涂敷核材料的表面的颗粒。作为其具体例，可以举出特开2006-18210号公报的段落编号[0024]～[0027]中记载的核壳微粒。 

本发明中的金属系微粒的至少一种优选为具有银锡合金部的颗粒。作为具有银锡合金部的颗粒，包括由银锡合金部构成的颗粒、由银锡合金部与其他金属部分构成的颗粒、及银锡合金部与其他合金部分构成的颗粒。 

在具有银锡合金部的颗粒中，至少一部分由银锡合金部构成，这可以通过使用例如(株)日立制作所制的HD-2300和Noran公司制的EDS(能量分散型X射线分析装置)，进行加速电压200kV的各颗粒的中心15nm□范围(area)的光谱测定来确认。 

具有银锡合金部的颗粒由于黑浓度高、可以以少量或薄膜表现出出色的遮光性能，同时还具有高热稳定性，所以可以不损坏黑浓度而在高温(例如200度以上)下进行热处理，可以稳定地保证高度的遮光性。例如，适合在要求高度的遮光性、通常实施烘焙处理的滤色片用的遮光膜(所谓黑矩阵)等中。 

具有银锡合金部的颗粒优选为银(Ag)的比例在30～80摩尔％、复合化(例如合金化)Ag和锡(Sn)得到的颗粒。通过使Ag的比例特别在所述范围内，可以得到在高温区域的热稳定性高、抑制光的反射率的高的黑浓度。特别是Ag的比例为75摩尔％的颗粒即AgSn合金颗粒，制作容易，得到的颗粒也稳定，所以优选。 

具有银锡合金部的颗粒可以利用在坩埚等中加热、熔融混合、形成等通常的方法进行合金化等来形成，但由于Ag的熔点在900℃附近，Sn的 熔点在200℃附近，两者的熔点存在较大的差，而且额外必需复合化(例如合金化)后的微粒化工序，所以优选利用颗粒还原法。即，混合Ag化合物和Sn化合物，将其还原，在金属Ag与金属Sn同时接近的位置使其析出，同时实现复合化(例如合金化)和微粒化的方法。Ag容易被还原，存在比Sn早析出的趋势，所以优选通过使Ag及/或Sn成为配盐，来控制析出时机(timing)。 

作为所述Ag化合物，可以优选举出硝酸银(AgNO₃)、醋酸银(Ag(CH₃COO))、高氯酸银(AgClO₄·H₂O)等。其中，特别优选醋酸银。作为所述Sn化合物，可以优选举出氯化亚锡(SnCl₂)、氯化锡(SnCl₄)、醋酸亚锡(Sn(CH₃COO)₂)等。其中，特别优选醋酸亚锡。 

使用还原剂的方法、利用电解还原的方法等为还原的优选还原方法。其中，从可以得到微细的颗粒的点出发，优选利用使用还原剂的前者的方法。作为所述还原剂，可以举出CTAB、抗坏血酸、氢醌、儿茶酚、对氨基苯酚、对苯二胺、羟丙酮等。其中，从容易挥发、难以给显示装置带来不良影响的点出发，特别优选羟丙酮。 

本发明中的金属系微粒除了可以使用市售的金属系微粒，还可以利用金属离子的化学还原法、非电解镀敷法、金属的蒸发法等配制。 

例如，棒状的银微粒可以通过将球形银微粒作为种颗粒，然后进一步添加银盐，在CTAB(溴化三甲基鲸蜡氨)等表面活性剂的存在下，使用抗坏血酸等还原力较弱的还原剂，可以得到银棒或金属线(wire)。这在“高级材料(Advanced Materials)”2002，14，80-82中有记载。另外，在“材料化学与物理学(Materials Chemistry and Physics)”2004，84，197-204、“高级功能材料(Advanced Functional Materials)”2004，14，183-189中也有同样的记载。 

另外，作为使用电解的方法，在“材料信(Materials Letters)”2001，49，91-95，或通过照射微波来产生银棒的方法在“材料研究杂志(Journalof Materials Research)”2004，19，469-473中有记载。相反，作为并用反胶束(micelle)与超声波的例子，可以举出“物理化学杂志(Journal ofPhysical Chemistry B)”2003，107，3679-3683。 

关于金，同样在“物理化学杂志(Journal of Physical Chemistry B)” 1999，103，3073-3077及朗缪尔(Langmuir)1999，15，701-709，“美国化学社会杂志(Journal of American Chemical Society)”2002，124，14316-14317中有记载。 

为了使本发明中的金属系微粒接近无彩色，可以通过组合各种颗粒得到。通过使颗粒从球形或立方体向平板状(六角形、三角形)、棒状变化，可以得到更高透过浓度，这样，可以在形成遮光层时实现薄膜化。 

作为所述金属系微粒的粒度分布，优选使颗粒的分布近似正态分布，其数均粒径的粒度分布宽度D⁹⁰/D¹⁰为1.2以上不到50。在此，粒径是指长轴长度L为颗粒直径，D⁹⁰为接近平均粒径的颗粒的90％的颗粒显示的直径，D¹⁰为接近平均粒径的颗粒的10％的颗粒显示的直径。从色调的观点出发，粒度分布宽度优选为2以上30以下，进而优选为4以上25以下。如果分布宽度不到1.2，则色调有时变得接近单色，如果为50以上，则有时由于粗大颗粒引起的散射而产生浑浊。 

此外，所述粒度分布宽度D⁹⁰/D¹⁰的测定方法，具体而言，可以利用测定后述的膜中的金属颗粒的三轴径的方法，随机测定100个，将上述长轴长度L作为颗粒直径，使粒径分布接近正态分布、接近平均粒径的颗粒的数目成为90％的范围的颗粒直径作为D⁹⁰，接近平均粒径的数目成为10％的范围的颗粒直径作为D¹⁰，算出D⁹⁰/D¹⁰。 

《三轴径》 

本发明中的金属系微粒可以利用下述方法捕捉长方体，测定各尺寸。即，设想恰好(正好)容纳1个金属系微粒的三轴径的长方体的箱子，该箱子的最长的长度为长轴长度L，具有厚t、宽b，定义为该金属系微粒的尺寸。上述尺寸中，具有L＞b≥t的关系，除了相同的情况以外，b与t的大的一方定义为宽b。具体而言，首先，在平面上重心最低、最稳定静止地放置金属系微粒。接着，利用相对平面直立为直角的2张平行平板夹持金属系微粒，保持在该平板间隔成为最短的位置的平板间隔。接着，利用相对决定上述平板间隔的2张平板为直角、相对上述平面也为直角的2张平行的平板夹持金属系微粒，保持该2张平板间隔。最后，在上述平面上载置顶板，以接触金属微粒的最高位置。利用该方法，可以形成利用平面、2对平板及顶板分出的长方体。 

此外，圈(coil)状或环(loop)状时，定义为在伸展其形状的状态下，进行上述测定的情况下的值。 

·长轴长度L 

为棒状的金属系微粒的情况等下，上述长轴长度L优选为10nm～1000nm，更优选为10nm～800nm，最优选为20nm～400nm(短于可见光的波长。)。通过使L在10nm以上，有在制造上配制简便而且耐热性或色味也变得良好的优点，通过使其在1000nm以下，有面状缺陷少的优点。 

·宽b与厚t的比 

为棒状的金属系微粒的情况等下，宽b与厚t的比定义为对100个棒状金属微粒测定的值的平均值。棒状的金属系微粒的宽b与厚t的比(b/t)优选为2.0以下，更优选为1.5以下，特别优选为1.3以下。如果b/t超过2.0，则变得接近平板状，耐热性降低。 

·长轴长度L与宽b及厚t的关系 

长轴长度L优选为宽b的1.2倍以上100倍以下，更优选为1.3倍以上50倍以下，特别优选为1.4倍以上20倍以下。如果长轴长度L变得不到1.2倍，则有时平板的特征出现，耐热性恶化。另外，长轴长度L如果超过宽b的100倍，则有时黑色浓度变低，不能进行薄层高浓度化。 

·长度L与宽b及厚t的测定 

长度L、宽b及厚t的测定可以利用电子显微镜的表面观察图(×500000)和原子力显微镜(AFM)，为测定100个棒状金属系微粒的值的平均值。原子力显微镜(AFM)有几个操作模式，根据用途区分使用。 

大体分为以下3个。 

(1)接触方式：使探针(probe)接触样品表面，从悬臂(cantilever)的变位测定表面形状的方式 

(2)轻叩(tapping)方式：周期地使探针接触样品表面，从悬臂的振动振幅的变化测定表面形状的方式 

(3)非接触方式：不使探针接触样品表面，从悬臂的振动频率变化测定表面形状的方式 

另一方面，上述非接触方式需要以高敏感度检测极微的引力。所以，难以用直接测定悬臂的变位的静态的力检测出，而应用了悬臂的机械共 振。 

虽然可以举出上述3个方法，但可以结合样品选择任意一种方法。 

此外，在本发明中，作为上述电子显微镜，可以使用日本电子公司制的电子显微镜JEM2010，以加速电压200kV测定。另外，原子力显微镜(AFM)可以举出SEIKO INSTRUMENTS株式会社制的SPA-400。在原子力显微镜(AFM)的测定中，通过加入聚苯乙烯珠会使测定变得较容易。 

在本发明中，作为金属颗粒或具有金属的颗粒，优选金属颗粒或具有金属的金属化合物颗粒，更优选银颗粒或含有银的银化合物颗粒，最优选含银锡合金部的颗粒。 

在本发明中，金属颗粒或具有金属的颗粒的数均粒径优选为0.1μm以下，进而优选为0.08μm以下，特别优选为0.05μm以下。颗粒的数均粒径在0.1μm以下的情况下，表面平滑性良好，而且粗大颗粒引起的麻点故障也变少。 

——本发明中的金属系微粒的分散—— 

本发明中的金属系微粒优选以稳定的分散状态存在，例如更优选为胶体状态。在为胶体状态的情况下，例如优选金属微粒实际上以微粒状态分散。 

作为进行分散时的分散剂或本发明的组合物中配合的添加剂，可以优选举出特开2005-17322号公报的段落编号[0027]～[0031]中记载的分散剂或添加剂。 

作为本发明的感光性组合物中的金属系微粒(以及根据需要为颜料)的含量，例如如果考虑到在制作滤色片时等的后烘焙时，防止金属系微粒(以及根据需要为颜料)熔合，优选相对形成的遮光层的质量，调节为10～90质量％左右，优选10～80质量％。另外，金属系微粒(以及根据需要为颜料)的含量优选考虑到平均粒径引起的光学浓度的变动来进行。 

(II)聚合性单体 

本发明中的聚合性单体包含尿烷基和多个(甲基)丙烯酰基。在此，(甲基)丙烯酰基是指丙烯酰基或甲基丙烯酰基。 

(甲基)丙烯酰基数为2个以上时，可以得到充分的膜强度。另外，(甲基)丙烯酰基数为15个以下时，显影时间变短，从制造方面来看为 优选。 

在本发明中，从曝光后的聚合速度(灵敏度)的点出发，优选丙烯酰基。 

(甲基)丙烯酰基数优选为3个以上，进而优选为4～10。 

特别优选具有5～6个(甲基)丙烯酰基的单体，具体而言，可以举出下述通式(A)或(B)表示的化合物。 

[化3] 

在通式(A)或(B)中，R₁表示下述式(a)、(b)或(c)，R₂表示氢原子或甲基。 

[化4] 

式(a)中，n表示2～8的整数。 

作为本发明中的聚合性单体，可以使用市售的单体，作为具有4个丙烯酰基的单体，包括新中村化学公司制U-4HA，作为具有6个丙烯酰基的单体，包括共荣社化学公司制UA-306H、UA-306T、UA-306I。 

作为具有8个丙烯酰基的单体，包括日本化药公司制DPHA-40H。 

作为具有9个丙烯酰基的单体，包括新中村化学公司制UA-32P。 

作为具有10个丙烯酰基的单体，包括共荣社化学公司制UA-510H。 

作为具有15个丙烯酰基的单体，包括新中村化学公司制UA-32P。 

作为具有甲基丙烯酰基的单体，可以举出以下的单体。 

作为具有4个甲基丙烯酰基的单体，包括新中村化学公司制U-4H，作为具有6个甲基丙烯酰基的单体，包括U-6H。 

另外，所述聚合性单体可以单独使用一种，还可以并用两种以上。作为可并用的单体，例如可以举出酯化合物、酰胺化合物、以及其他化合物。 

作为所述酯化合物，例如可以举出单官能(甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酸酯、衣康酸酯、巴豆酸酯、异巴豆酸酯、马来酸酯、其他酯化合物等。它们可以单独使用或并用两种以上。其中，优选单官能(甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酸酯。 

作为所述单官能(甲基)丙烯酸酯，例如可以举出聚乙二醇一(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇一(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙基一(甲基)丙烯酸酯等。 

作为所述多官能(甲基)丙烯酸酯，例如可以举出聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、四亚甲基二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇多(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇三(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇四(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯等。其中，特别优选二季戊四醇多(甲基)丙烯酸酯。 

作为所述多官能(甲基)丙烯酸酯的其他例，可以举出向甘油或三羟甲基乙烷等多官能醇上加成环氧乙烷或环氧丙烷后再进行(甲基)丙烯酸酯化的物质；特开昭48-64183号公报、特公昭49-43191号公报及特公昭52-30490号公报中记载的聚酯丙烯酸酯类；作为环氧树脂与(甲基)丙烯酸的反应产物的环氧丙烯酸酯类；特开昭60-258539号公报中记载 的甲基丙烯酸酯或乙烯基酯等。 

作为“其他酯化合物”，例如可以举出三羟甲基丙烷三(丙烯酰基氧丙基)醚、三(丙烯酰基氧乙基)异氰酸酯、日本粘接协会志Vol.20，No.7，第300～308页中记载的光固化性单体及寡聚物等。 

另外，作为所述酰胺化合物，例如可以举出不饱和羧酸与脂肪族多元胺化合物的酰胺(单体)等。具体而言，可以举出亚甲基双-(甲基)丙烯酰胺、1，6-六亚甲基双-(甲基)丙烯酰胺、二亚乙基三胺三(甲基)丙烯酰胺、亚二甲苯基双(甲基)丙烯酰胺等，另外，还可以举出特开昭60-258539号公报中记载的(甲基)丙烯酰胺等。 

另外，作为所述“其他化合物”，例如可以举出特开昭60-258539号公报中记载的烯丙基化合物等。 

作为聚合性单体在感光性组合物(或感光性组合物层)中的含量，相对该组合物或该层的全部固体成分，优选为10～60质量％，更优选为20～50质量％。 

(III)树脂 

本发明的感光性组合物用树脂构成。在此，树脂是作为粘合剂的聚合物成分。所述感光性组合物包括可以在碱水溶液中显影的物质和可以在有机溶剂中显影的物质，从该点出发，作为成为树脂的聚合物，优选用碱可溶性树脂构成。 

作为所述树脂，可以举出特开2006-23696号公报的段落编号[0010]中记载的碱可溶性粘合剂。 

所述树脂优选选择具有30～400mgKOH/g的范围的酸值和1,000～300,000的范围的重均平均分子量的树脂。 

另外，除了所述，为了改良各种性能例如固化膜的强度，在不给显影性等带来不良影响的范围内，也可以添加醇可溶性的聚合物。作为醇可溶性的聚合物，例如可以举出醇可溶性尼龙、环氧树脂等。 

作为树脂的含量，相对感光性组合物的全部固体成分，通常优选为10～95质量％，更优选为20～90质量％。如果在10～95质量％的范围，感光性组合物层的粘合性不会变得过高，将要形成的层的强度及光灵敏度不会变差。 

(IV)其他成分 

作为感光性组合物，除了所述(I)～(III)以外，根据需要，可以进一步添加作为(IV)其他成分的公知的添加剂，例如可以添加特开2006-23696号公报的段落编号[0012]～[0021]中记载的引发剂、颜料、表面活性剂、热聚合防止剂、附着力促进剂、溶剂，或特开2005-250461号公报的段落编号[0019]～[0022]中记载的成分，或公知的增塑剂、分散剂、防淌剂、流平剂、消泡剂、难燃化剂、光亮剂等。 

<感光性转印材料> 

本发明的感光性转印材料是在临时支撑体上至少具有用本发明的感光性组合物形成的感光性组合物层的材料，根据需要也可以设置热塑性树脂层、中间层及保护层等。 

作为所述感光性组合物层的层厚，优选为0.2～2.0μm左右，更优选为0.2～0.9μm的范围。 

作为构成本发明的感光性转印材料的所述感光性组合物层以外的层，可以优选举出特开2005-3861号公报的段落编号[0023]～[0066]中记载的临时支撑体、热塑性树脂层、中间层、保护薄膜。 

<感光性转印材料的制作> 

感光性转印材料可以通过如下所述的过程制作，即：利用例如旋转器、转筒式涂敷机(whirler)、辊涂机、帘式涂敷机、刮刀式涂敷机、拉丝锭涂敷机、挤压涂敷机(extrusion coater)等涂敷机，在临时支撑体上涂敷已述的感光性组合物的溶液，并使其干燥。设置热塑性树脂层、中间层的情况也可以同样地进行。 

<显示装置用遮光膜> 

本发明的显示装置用遮光膜用本发明的感光性组合物形成。 

如果用本发明的感光性组合物制作显示装置用遮光膜，则可以制作薄膜且光学浓度高的显示装置用遮光膜(例如光学浓度为1以上)。 

本发明中所谓“显示装置用遮光膜”是以包括黑矩阵的意义使用的。“黑矩阵”是指在液晶显示装置、等离子显示器显示装置、EL显示装置、CRT显示装置等显示装置的周边部设置的黑色的缘或红、蓝、绿的像素间的格子状或条纹状的黑色的部分，进而是指用于TFT遮光的点状或线状 的黑色图案等，该黑矩阵的定义例如记载于“液晶显示器制造装置用语辞典”(第2版，菅野泰平著，p.64，日刊工业新闻社，1996年)。作为黑矩阵的例子，可以举出有机EL显示器(例如特开2004-103507号公报)、PDP的前板(front panel)(例如特开2003-51261号公报)、PALC则为背光灯的遮光等。 

<黑矩阵> 

本发明的黑矩阵由本发明的显示装置用遮光膜形成。 

黑矩阵在用于提高显示对比度、另外在为使用薄膜晶体管(TFT)的有源矩阵驱动方式的液晶显示装置的情况下，为了防止光的电流泄漏引起的图像质量降低，必需高的遮光性(光学浓度OD为3以上)。 

<显示装置用遮光膜的形成方法> 

本发明的显示装置用遮光膜的第一形成方法为至少具有：在基板上涂敷本发明的感光性组合物的工序。另外，本发明的显示装置用遮光膜的第二形成方法为至少具有：在基板上转印本发明的感光性转印材料的感光性组合物层的工序。利用本发明的显示装置用遮光膜的形成方法，可以在基板上形成由感光性组合物构成的感光性组合物层(以下有时称为“遮光层”。)。 

在本发明的显示装置用遮光膜的形成方法中，如上所述，在形成遮光层之后，对该遮光层进行全面曝光或曝光成图案状，在曝光成图案状的情况下，具有进行显影、形成显示装置用遮光膜的工序而成，根据需要也可以设置其他工序构成。 

<基板> 

对本发明中使用的基板没有特别限定，可以举出构成显示装置的透明基板(例如玻璃基板或塑料基板)、带布线基板、利用遮光膜等形成的带画框基板、带透明导电膜(例如ITO膜)基板、带滤色片基板、带驱动元件(例如薄膜晶体管(TFT))驱动基板等。 

对本发明中使用的基板的尺寸没有特别限定，长径方向、短径方向均优选为300～6000mm，进而优选为800～4000mm，特别优选为1500～3500mm。 

由所述本发明的感光性组合物构成的层(感光性组合物层)的膜厚优 选为0.2～2.0μm左右，更优选为0.2～0.9μm。该层是使金属颗粒或具有金属的颗粒分散而成的层，如上所述，可以得到薄膜且高光学浓度(2.5以上)。 

作为金属颗粒或具有金属的颗粒，使用具有银锡合金部的颗粒的情况下尤其有效。 

作为显示装置用遮光膜的光学浓度，优选为2.5以上10.0以下，更优选为3.0以上6.0以下。如果光学浓度在所述范围内，则可以赋予遮光性。 

以下对本发明的显示装置用遮光膜的形成方法，以黑矩阵图案的形成方法为例进行具体说明。 

作为第一具体例，为首先在基板上涂敷本发明的感光性组合物，形成含有金属颗粒或具有金属的颗粒的遮光层。然后，通过利用图案曝光、显影除去图案以外的部分的遮光层，进行图案形成，得到黑矩阵(显示装置用遮光膜)的方法。 

另外，也可以在所述遮光层上形成与已述的中间层为相同组成的层，作为保护层。这种情况下，涂敷液的涂敷可以使用所述<转印材料的制作>的一项中列举的涂敷机来涂敷。其中，优选利用旋涂法进行。 

作为第二具体例，为在光透过性基板上与感光性组合物层接触地配置、层叠感光性转印材料，然后从感光性转印材料与光透过性基板的层叠体剥离临时支撑体，对感光性组合物层进行曝光、显影，得到黑矩阵(显示装置用遮光膜)的方法。该方法不需要进行繁杂的工序，可以以低成本进行。 

另外，作为本发明中的黑矩阵(显示装置用遮光膜)的形成工序，除了所述涂敷或转印以外，还可以具有曝光、显影、后曝光、加热处理等工序，对于这些工序，可以优选使用特开2005-3861号公报的段落编号[0067]～[0074]中记载的工序。 

<带遮光膜基板> 

本发明的带遮光膜基板的特征在于，具备：基板和在所述基板上设置的本发明的显示装置用遮光膜。本发明的带遮光膜基板中使用的基板及显示装置用遮光膜的具体情况如上所述。本发明的带遮光膜基板可以优选用于滤色片的制作。 

<滤色片及其制造方法> 

本发明的滤色片的特征在于，用本发明的带遮光膜基板形成。 

本发明的滤色片的制造方法制作具有2色以上的多种着色像素构成的像素组和隔离像素组的各着色像素的黑矩阵的滤色片。具体而言，具有：将本发明的遮光层曝光、显影成图案状，形成黑矩阵的工序，和在已形成的黑矩阵之间的凹部形成2色以上的多种着色像素的工序(以下有时称为“像素形成工序”。)而成，根据需要，也可以设置其他工序构成。 

作为所述像素形成工序，可以举出利用公知的方法的工序，包括例如特开平5-39450号公报、特开2003-330184号公报中记载的像素形成方法，或特开平10-195358号公报中记载的利用喷墨法的像素形成方法等。 

本发明的滤色片在基板上设置构成有由着色层构成、由呈彼此不同颜色的2色以上的着色像素构成的像素组，和彼此隔离构成该像素组的各像素的黑矩阵，利用上述的本发明的滤色片的制造方法制作。 

所述像素组也可以为呈现出不同颜色的2色的着色像素构成的像素组或3色的着色像素构成的像素组，也可以为呈现出不同的颜色的4色以上的着色像素构成的像素组。例如在为3色构成的情况下，优选使用红(R)、绿(G)及蓝(B)3个色相，配置红、绿、蓝3种像素组的情况下，优选为嵌镶型、三角型(triangle)等配置，配置4种以上的像素组的情况下，也可以为任意配置。 

本发明的滤色片具备如上所述用本发明的感光性组合物制作的薄膜且高浓度的黑矩阵，所以例如构成液晶显示装置等的情况下，可以抑制经时地发生显示不均或显示对比度的变动，可以稳定地显示对比度高的图像。 

<显示装置> 

本发明的显示装置的特征在于，具备本发明的带遮光膜基板及/或滤色片。 

作为本发明的显示装置，可以举出液晶显示装置、等离子显示器显示装置、EL显示装置、CRT显示装置等。显示装置的定义或各显示装置的说明例如记载于“电子显示器器件(佐佐木绍夫著，(株)工业调查会，1990年发行)”、“显示器设备(伊吹顺幸著，产业图书(株)平成元年 发行)”等。 

本发明的显示装置中，特别优选液晶显示装置。对于液晶显示装置，例如在“下一代液晶显示器技术(内田龙男编集，(株)工业调查会1994年发行)”所记载。对本发明可以适用的液晶显示装置没有特别限制，例如可以适用于所述“下一代液晶显示器技术”中记载的各种方式的液晶显示装置。在这些中，本发明特别对于彩色TFT方式的液晶显示装置是有效的。关于彩色TFT方式的液晶显示装置，例如记载于“彩色TFT液晶显示器(共立出版(株)，1996年发行)”。进而本发明当然也可以适用于IPS等横电场驱动方式、MVA等像素分割方式等视角被扩大的液晶显示装置或STN、TN、VA、IPS、OCS、FFS及R-DCB等。对于这些方式，例如被记载于“EL、PDP、LCD显示器技术与市场的最新动向”(东联研究中心调查(東レリサ一チセンタ一)研究部门2001年发行)的43页。 

液晶显示装置除了滤色片以外，通常由电极基板、偏振光薄膜、相位差薄膜、背光灯、间隔件、视角补偿薄膜等公知构件构成。本发明的黑矩阵可以适用于由这些公知的构件构成的液晶显示装置。对于这些构件，例如记载于“’94液晶显示器外围材料·化学药品(chemicals)的市场(岛健太郎(株)CMC 1994年发行)”、“2003液晶相关市场的现状与将来展望(下卷)(表 良吉(株)富士季美乐(CHIMERA)总研2003等发行)”。 

[实施例] 

以下利用实施例对本发明进行进一步详细说明，但本发明在不超越其主旨的范围内，不被以下实施例所限定。此外，只要不是特别事先说明，“份”表示质量标准。 

(实施例1)：涂敷法 

<具有银锡合金部的颗粒的分散液(分散液A1)的配制> 

在纯水1000ml中，溶解醋酸银(I)23.1g、醋酸锡(II)65.1g、葡糖酸54g、焦磷酸钠45g、聚乙二醇(分子量3,000)2g及PVP-K30(ISP日本(株)制；聚乙烯基吡咯烷酮聚合物)5g，得到溶液1。 

另外，在向纯水500ml中溶解羟基丙酮46.1g，得到溶液2。 

将上述得到的溶液1保持在25℃下，同时剧烈搅拌，利用2分钟向 其中添加上述溶液2，缓慢地继续搅拌6小时。这样，混合液变成黑色，得到具有银锡合金部的金属颗粒(以下有时称为“含银锡合金部颗粒”。)。接着，离心分离该液体，使含银锡合金部的颗粒沉淀。离心分离是分成150ml的小份液体量，利用台式离心分离机H-103n[(株)国产制]，以转速2,000r.p.m.，进行30分钟。接着，去上清，使全部液体量成为150ml，向其中加入1350ml纯水，搅拌15分钟，再次使含银锡合金部的颗粒分散。重复进行2次该操作，除去水相的可溶性物质。 

然后，对该液体进行进一步离心分离，再次使含银锡合金部的颗粒沉淀。离心分离在与上述同样的条件下进行。离心分离之后，与上述同样地去上清，使全部液体量成为150ml，向其中加入850ml纯水及500ml正丙醇，进一步搅拌15分钟，再次使含银锡合金部的颗粒分散。 

再次与上述同样地进行离心分离，使含银锡合金部沉淀之后，与上述同样地去上清，使液体量成为150ml，向其中加入150ml纯水及1200ml正丙醇，进一步搅拌15分钟，再次使含银锡合金部的颗粒分散。接着，再次进行离心分离。此时的离心分离的条件，除了时间延长至90分钟以外，与上述相同。然后，去上清，使全部液体量成为70ml，向其中加入30ml正丙醇。使用爱格(EIGER)磨机(mill)(爱格磨机M-50型(介质(media)：直径0.65mm氧化锆珠130g，EIGER JAPAN(株)制)，分散6小时，配制含银锡合金部的颗粒(银锡颗粒浓度25质量％，PVP-K30残量1.0质量％)的水分散液(分散液A1)。 

利用X射线散射确认，该含银锡合金部的颗粒为AgSn合金(2θ＝39.5°)与Sn金属(2θ＝30.5°)构成的复合体。在此，括号内的数字为各自的(III)面的散射角。用透射型电子显微镜观察该微粒分散液的结果，以数均粒径来说，分散平均粒径约为40nm。 

上述数均粒径的测定使用利用透射型电子显微镜JEM-2010(日本电子(株)制)得到的照片，如下所述进行。 

选出颗粒100个，将与各颗粒像相同的面积的圆的直径作为粒径，将100个颗粒的粒径的平均值作为数均粒径。此时，使用倍率为10万倍、加速电压200kV下拍摄的照片。 

<黑矩阵(BM)用感光性组合物A1的配制> 

混合下述表1的组成，配制BM用感光性组合物A1。 

[表1] 

另外，所述表1中的引发系A、粘合剂A、DPHA液的处方如下所述。另外，表1的ソルスパ一ス20000为AVECIA(株)制的分散剂。 

<引发系A> 

·Irgacure379(汽巴特殊化学(CIBA SPECIALTY CHEMICALS)(株)制)                                                21.9份 

·甲基乙基甲酮                                 437.3份 

·吩噻嗪                                       0.288份 

·下述表面活性剂1                              8.1份 

<表面活性剂1> 

·下述结构物1                                  30份 

·甲基乙基甲酮                                 70份 

[化5] 

结构物1 

(n＝6，x＝55，y＝5，Mw＝33940，Mw/Mn＝2.55 

PO：环氧丙烷，EO：环氧乙烷) 

<粘合剂A> 

甲基丙烯酸/甲基丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸环己酯/甲基丙烯酸苄基酯(13.8/30.5/12/43.7[摩尔比]的无规共聚物(Mn1.3万，Mw3万)) 

<DPHA液> 

·二季戊四醇六丙烯酸酯(含有聚合抑制剂MEHQ 500ppm， 

商品名：KAYARAD DPHA，日本化药(株)制)        76份 

·丙二醇一甲醚乙酸酯                         24份 

<DPHA-40H> 

日本化药(株)制商品名：KAYARAD DPHA-40H，分子中含有尿烷基和8个丙烯酰基。 

<U-4HA> 

新中村化学工业(株)制商品名：U-4HA，分子中含有尿烷基和4个丙烯酰基。 

<UA-306H> 

共荣社化学公司制商品名：UA-306H(下述结构相当于通式(A)的式(a)的n＝6)，分子中含有尿烷基和6个丙烯酰基。 

[化6] 

<保护层用涂敷液的配制> 

混合所述组成，配制保护层用涂敷液。 

·聚乙烯醇                                3.0份 

(PVA-105，(株)KURARAY制) 

·羧甲基纤维素                            0.15份 

(TC-5E，信越化学(株)制) 

·蒸馏水                                  50.7份 

·甲醇                                    45.0份 

<利用涂敷的黑矩阵(BM)的形成> 

(1)用UV清洗装置清洗无碱玻璃基板之后，使用清洗剂清洗刷子，进而用超纯水进行超声波清洗。120℃下热处理基板3分钟，使表面状态稳定化。 

接着，冷却基板，调节至23℃之后，用具有狭缝状喷嘴的玻璃基板用涂敷机(coater)MH-1600(FAS亚洲公司制)，将如上所述得到的BM感光性组合物A1涂敷在基板上，使其膜厚成为1.0μm在100℃下使其干燥5分钟，形成感光性组合物层(涂敷工序)。接着，使用狭缝状喷嘴，在该感光性组合物层上，涂敷如上所述得到的保护层用涂敷液，使其成为1.5μm，在100℃下干燥5分钟，形成保护层，制作BM用感光材料。 

(2)接着，用具有超高压汞灯的近接式曝光机(日立高技术电子工程公司制)，以掩模(具有图像图案的石英曝光掩模)与所述BM用感光材料垂直立起的状态，设定掩模面与接触感光性组合物层的保护层的一侧的表面之间的距离为200μm，以曝光量300mJ/cm²进行全面曝光(曝光工序)。接着，使用对显影处理液T-CD1(富士胶卷(株)制；碱显影液)进行5倍稀释的产物(使用时的pH为10.2)，进行显影处理(33℃、20秒；显影工序)。 

接着，使用用纯水将清洗剂(含有磷酸盐、硅酸盐、非离子表面活性剂、消泡剂及稳定剂；商品名：T-SD1富士胶卷(株)制)稀释至10倍的液体(33℃)，以圆锥型喷嘴压力为0.02MPa，用喷淋吹20秒，进而利用具有尼龙毛的旋转刷，擦拭图案图像，进行残渣除去(残渣除去工序)，在玻璃基板上得到黑矩阵(BM)。 

然后，利用基板预备加热装置，在220℃下对形成BM的基板进行加热60分钟，然后以240℃进一步加热、(烘焙)处理(烘焙工序)50分钟，形成线宽24μm、膜厚0.8μm、光学浓度4.0的黑矩阵，并使像素形成区域的开口成为86μm×304μm。以下将形成有黑矩阵的所述玻璃基板称为“黑矩阵基板”。 

另外，光学浓度的测定使用形成有所述黑矩阵的材料，在透明基板上形成OD为3.0以下的薄膜的层，除了没有曝光成图案状的以外，经过与各实施例及比较例同样的工序，得到测定用的样品(膜状)。使用分光光度计(岛津制作所制，UV-2100)，以555nm测定该透过光学浓度(OD)。再另外用同样的方法测定玻璃基板的透过光学浓度(OD₀)。 

将从OD减去OD₀的值作为黑矩阵的透过光学浓度。使用接触式表面粗糙度测量仪P-10(KLA-Tencor(株)制)，测定测定用样品的膜厚，从测定结果的透过光学浓度与膜厚之间的关系，算出在实施例中制作的膜厚的黑矩阵的光学浓度。 

<滤色片以及液晶显示装置的制作> 

—着色感光性树脂组合物的配制— 

配制下述表2所示的组成构成的着色感光性树脂组合物R1、G1、及B1。 

[表2] 

着色感光性树脂组合物	R1	G1	B1
				R颜料分散物1  (C.I.P.R.254)	44	-	-
R颜料分散物2  (C.I.P.R.177)	5.0	-	-
				G颜料分散物1  (C.I.P.G.36)	-	24	-
Y颜料分散物1  (C.I.P.Y.150)	-	13	-
				B颜料分散物1  (C.I.P.B.15:6)	-	-	8.0
B颜料分散物2  (C.I.P.B.15:6+C.I.P.V.23)	-	-	14
				丙二醇一甲醚乙酸酯	7.6	29	28
甲基乙基甲酮	37	26	26
				环己醇	-	1.3	-
粘合剂-1	-	2.5	-
				粘合剂-2	0.7	-	-
粘合剂-3	-	-	19
				DPHA液	3.8	3.5	4.2
2-三氯甲基-5-(对苯乙烯基苯乙烯基)1，3，4-噁二唑	0.12	0.1	0.17
				2，4-双(三氯甲基)-6-[4’-(N，N-双乙氧基羰基甲基氨基)  -3’-溴苯基]-s-三嗪	0.050	0.050	-
吩噻嗪	0.010	0.005	0.020
				表面活性剂1	0.060	0.070	0.060

                                                                                        质量份 

—红(R)像素的形成— 

在形成有上述黑矩阵(BM)的玻璃基板的BM形成面侧，使用上述得到的着色感光性树脂组合物R1，进行与已述的黑矩阵的形成相同的工序，形成已进行热处理的R像素。 

—绿(G)像素的形成— 

在形成有黑矩阵和R像素的玻璃基板的BM等形成面侧，使用上述得到的着色感光性树脂组合物G1，进行与已述的黑矩阵的形成相同的工序，形成已进行热处理的G像素。 

—蓝(B)像素的形成— 

在形成有黑矩阵、R像素和G像素的玻璃基板的BM等形成面侧，使用上述得到的着色感光性树脂组合物B1，进行与已述的黑矩阵的形成相同的工序，形成已进行热处理的B像素。 

这样，制作滤色片(以下称为“滤色片基板”。)。 

此外，上述表2中记载的组合物R1中的各组成的具体情况如下所述。 

^*R颜料分散物1的组成 

·C.I.颜料红254(商品名：Irgaphor红B-CF，汽巴特殊化学(株)制)                                            8.0份 

·下述化合物1(分散剂)                      0.8份 

·聚合物(甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸(＝72/28[摩尔比])的无规共聚物，分子量：3万)                         8份 

·丙二醇一甲醚乙酸酯                       83份 

[化7] 

                  化合物1 

^*R颜料分散物2的组成 

·C.I.颜料红177(商品名：Cromophtal红A2B，汽巴特殊化学(株)制)                                            18份 

·聚合物[甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸(＝72/28[摩尔比])的无规共聚物(重均分子量：37,000)]                    12份 

·丙二醇一甲醚乙酸酯                       70份 

^*粘合剂2的组成 

·聚合物(甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯 

(＝38/25/37[摩尔比]的无规共聚物，分子量4万) 

                                        27份 

·丙二醇一甲醚乙酸酯                    73份 

此外，上述表2中记载的组合物G1中的各组成的具体情况如下所述。 

^*G颜料分散物1 

商品名：GT-2(富士胶片电子材料(株)制) 

^*Y颜料分散物1 

商品名：CF黄EX3393(御国色素(株)制) 

^*粘合剂1的组成 

·聚合物(甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸＝78/22摩尔比的无规共聚物，分子量38,000)                           27份 

·丙二醇一甲醚乙酸酯                    73份 

此外，上述表2中记载的组合物B1中的各组成的具体情况如下所述。 

^*B颜料分散物1 

商品名：CF蓝EX3357(御国色素(株)制) 

^*B颜料分散物2 

商品名：CF蓝EX3383(御国色素(株)制) 

^*粘合剂3的组成 

·聚合物(甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯 

(＝36/22/42[摩尔比])的无规共聚物(重均分子量38,000) 

                                        27份 

·丙二醇一甲醚乙酸酯                    73份 

—液晶显示装置的制作— 

在利用上述得到的滤色片基板的R像素、G像素及B像素以及黑矩 阵上，进一步利用溅射形成铟锡氧化物(ITO：Indium Tin Oxide)的透明电极。接着，按照特开2006-64921号公报的实施例1，在相当于上述形成的ITO膜上的隔壁(黑矩阵)上部的部分形成间隔件。另外，再准备玻璃基板作为对置基板，向滤色片基板的透明电极上及对置基板上分别实施PVA模式用图案形成，在其上进一步设置聚酰亚胺构成的取向膜。 

然后，在相当于周围被设置成包围滤色片的像素组的黑矩阵的外框的位置，利用分散器(dispenser)方式，涂敷紫外线固化树脂的密封剂，滴下PVA模式用液晶，使其与对置基板贴合后，向已贴合的基板进行UV照射，然后进行热处理，使密封剂固化。在这样得到的液晶单元的两面上，贴上(株)三立磁(SANRITZ)制的偏振片HLC2-2518。接着，使用FR1112H(斯坦利(スタンレ一)电气(株)制的片(chip)型LED)作为红色(R)LED、使用DG1112H(スタンレ一电气(株)制的片(chip)型LED)作为绿色(G)LED、使用DB1112H(斯坦利电气(株)制的片(chip)型LED)作为蓝色(B)LED，构成侧灯(side light)方式的背光灯(backlight)，配置在设有上述偏振片的液晶单元的成为背面的一侧，作为液晶显示装置。 

(实施例2～6及比较例1)：涂敷法 

在所述实施例1中，将BM用感光性组合物A1变更为表1中记载的A2～A7，除此以外，用与实施例1同样的方法制作黑矩阵基板、滤色片、液晶显示装置。 

(实施例7)：转印法 

在所述实施例1中，将黑矩阵的制作方法变更为下述的转印法，除此以外，以同样的方法制作滤色片、液晶显示装置。 

<黑矩阵(BM)的形成> 

—感光性树脂转印材料的制作— 

在厚75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯临时支撑体(PET临时支撑体)上，使用狭缝状喷嘴，涂敷并干燥下述配方H1构成的热塑性树脂层用涂敷液，形成热塑性树脂层。接着，在该热塑性树脂层上进一步涂敷下述配方P1构成的中间层用涂敷液，使其干燥，层叠中间层。接着，在中间层上涂敷在实施例1中配制的BM用感光性组合物A1，使其干燥，进一步 层叠黑色的感光性组合物层。 

如上所述进行，在PET 临时支撑体上设置干燥膜厚14.6μm的热塑性树脂层、干燥膜厚1.6μm的中间层和干燥膜厚1.2μm的感光性树脂层，在感光性树脂层的表面上压粘保护薄膜(厚12μm的聚丙烯薄膜)，制作构成为临时支撑体/热塑性树脂层/中间层/感光性树脂层的层叠构造的感光性树脂转印材料。以下将其作为BM用感光性转印材料K1。 

<热塑性树脂层用涂敷液的配方H1> 

·甲醇                                            11.1份 

·丙二醇一甲醚乙酸酯                              6.36份 

·甲基乙基甲酮                                    52.4份 

·甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸2-乙基己基酯/甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸共聚物                                            5.83份 

(共聚合比(摩尔比)＝55/11.7/4.5/28.8，分子量＝9万，Tg≒70℃) 

·苯乙烯/丙烯酸共聚物                             13.6份 

(共聚合比(摩尔比)＝63/37，重均分子量＝1万，Tg≒100℃) 

·2，2-双[4-(甲基丙烯酰基聚乙氧基)苯基]丙烷(新中村化学工业(株)制，在联苯酚A中脱水缩聚2当量的五乙二醇一甲基丙烯酸酯的化合物)                                           9.1份 

·所述表面活性剂1                                 0.54份 

<中间层用涂敷液的配方P1> 

·聚乙烯醇                                        3.0份 

(PVA-105，(株)KURARAY制) 

·羧甲基纤维素                                    0.15份 

(TC-5E，信越化学(株)制) 

·表面活性剂2 

(サ一フロンS-131，SEIMICHEMICAL(株))  0.01份 

·蒸馏水                              524份 

·甲醇                                429份 

—黑矩阵(BM)的形成— 

向无碱玻璃基板(以下有时称为“玻璃基板”。)上，利用喷淋吹已调温为25℃的玻璃清洗剂液20秒，同时用具有尼龙毛的旋转刷清洗，纯水喷淋清洗之后，利用喷淋吹硅烷偶合剂液(N-β(氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷0.3质量％水溶液；商品名：KBM603，信越化学工业(株)制)20秒，纯水喷淋清洗。然后用基板预备加热装置，在100℃下加热该基板2分钟，送至下一个层合机。 

在硅烷偶合处理后的玻璃基板上，剥离除去上述得到的BM用感光性转印材料K1的保护薄膜之后，使用层合机LamicII型[(株)日立工业制)，以胶辊温度130℃、线压100N/cm、输送速度2.2m/份的条件层压，使其重合成除去保护薄膜后露出的感光性组合物层的表面与上述玻璃基板的表面接触。 

接着，在与热塑性树脂层的界面剥离PET临时支撑体之后，除去临时支撑体。剥离临时支撑体之后，用具有超高压汞灯的近接式曝光机(日立高技术电子工程(株)制)，以基板与掩模(具有画面图形的石英曝光掩模)垂直立起的状态，设定掩模面与感光性组合物层之间的距离为200μm，以曝光量30mJ/cm²进行图案曝光。 

接着，使用用纯水稀释三乙醇胺系显影液(含有三乙醇胺30质量％，聚丙二醇、丙三醇单硬脂酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐单硬脂酸酯、硬脂酰醚总计含有0.1质量％，商品名：T-PD2，富士胶卷(株)制)至12倍(以1质量份T-PD2与11质量份纯水的比例混合)的液体(30℃)，以平喷嘴压力为0.04MPa，对其进行50秒喷淋显影，除去热塑性树脂层和中间层。接着，向该基板上面吹气，甩去液体之后，利用喷淋吹纯水10秒，进行纯水清洗，吹气，减少基板上的液体积存。 

接着，使用碳酸Na系显影液(用纯水将含有0.38摩尔/升的碳酸氢钠、0.47摩尔/升的碳酸钠、5质量％的二丁基萘磺酸钠、阴离子表面活性剂、消泡剂及稳定剂；商品名：T-CD1富士胶卷(株)制稀释至5倍的液体(29℃))，以圆锥型喷嘴压力为0.15MPa，进行喷淋显影30秒，显影除去感光性树脂层，得到图案图像。 

接着，使用用纯水将清洗剂(含有磷酸盐、硅酸盐、非离子表面活 性剂、消泡剂及稳定剂；商品名：T-SD1富士胶卷(株)制)稀释至10倍的液体(33℃)，以圆锥型喷嘴压力为0.02MPa，用喷淋吹20秒，进而利用具有尼龙毛的旋转刷，擦拭图案图像，进行残渣除去，得到黑矩阵。进而，然后，对形成黑矩阵的基板，从两面，用超高压汞灯，以500mJ/cm²的曝光量，进行后曝光，然后以220℃热处理(烘焙)15分钟(黑矩阵基板)。 

(实施例8)：涂敷法 

在实施例1中，代替将如下所述配制含银锡合金部的分散液A1而成的颗粒分散液B1，进而使用BM用感光性组合物B1，除此以外，与实施例1同样地，制作黑矩阵、滤色片、液晶显示装置。 

<银微粒分散液B1的配制> 

混合平均纵横尺寸比为2.2的银微粒73.5、分散剂(商品名：ソルスパ一ス20000，AVECIA(株)制)1.05g和甲基乙基甲酮16.4g。使用超声波分散机(商品名：Ultrasonic generator model US-6000 ccvp，nissei公司制)，将其分散，得到圆相当直径100nm的银微粒的分散液。接着，对得到的银微粒的分散液进行离心分离处理(10,000rpm，20分钟)，去上清液，进行适当浓缩。重复进行该操作3次，除去水相的可溶性物质，得到银微粒分散液B1。(银颗粒浓度为25质量％)。 

<BM用感光性组合物B1的配制> 

在实施例1中，将黑矩阵制作时的显影工序变更为只进行碱显影(不进行残渣除去工序)，除此以外，与实施例1同样地制作黑矩阵、滤色片、液晶显示装置。 

<评价> 

下述评价(膜强度、气泡、刷伤)使用10cm×10cm的玻璃基板，不进行图案曝光(进行全面曝光)，除此以外，用与所述实施例、比较例中记载的制作方法相同的方法，作成厚1μm的评价用样品测试图像，对该样品测试图像进行评价。 

对于“碎片”，对所述实施例、比较例中制作的黑矩阵进行评价。 

—膜强度— 

用划痕强度测定器，以蓝宝石(sapphire)针、0.5mmΦ加重玻璃基 板上的遮光层，使其发生变化，以1cm/秒的速度刮擦，量取此时产生的伤痕的长度，作为没有进行加重换算的膜强度。将得到的结果显示于表3。 

测定仪器使用HEIDON公司制、Scratching TESTER HEIDON-18。 

—气泡— 

在高亮度显示柜(シヤ一カステン)上，用光学显微镜50倍观察玻璃基板上的遮光层的表面，计测直径为30μm以上的气泡的个数。气泡的判断按照以下的标准进行。将得到的结果显示于表3。 

○：0～1个的情况 

△：2～5个的情况 

×：6个以上的情况 

—碎片— 

通过用光学显微镜以50倍观察，测定上述作成的黑矩阵图像的每10cm×10cm的玻璃基板的碎片的个数。碎片的判断按照以下的标准进行。将得到的结果显示于表3。 

○：0～1个的情况 

△：2～5个的情况 

×：6个以上的情况 

—刷伤— 

本发明中的“刷伤”是指在使用刷子对感光性组合物层进行显影时，在该层产生的斜向的被针划成的伤。刷伤的深度使用P-10膜厚测定器来测定。刷伤的判断按照以下的标准进行。将得到的结果显示于表3。 

其中，对于实施例9，由于没有进行残渣除去工序，所以没有评价。 

○：刷伤的深度不到0.01μm的情况 

△：刷伤的深度为0.01～0.02μm的情况 

×：刷伤的深度深于0.02μm的情况 

基于下述标准，评价实施例1～9及比较例1中得到的液晶显示装置。将得到的结果显示于表3。 

对于各液晶显示装置，目视观察输入灰的试验信号时的灰显示，按照下述标准评价显示不均的发生的有无。 

<评价标准> 

A：完全未见不均(非常好) 

B：在玻璃基板的缘部分略微可见不均，但显示部没有问题(好) 

C：在显示部略微可见不均，但为实用水平(普通) 

D：在显示部有不均(略差) 

E：在显示部有强不均(非常差) 

[表3] 

(H)聚合性单体

膜强度(g)

气泡

碎片

刷伤

液晶显示装置的评价

实施例1

DPHA-40H

150

○

○

○

A

实施例2

DPHA-40H

100

○

○

○

A

实施例3

U-4HA

200

○

○

○

A

实施例4

U-4HA

120

○

○

○

A

实施例5

UA-306H

100

○

○

○

A

实施例6

UA-306H

80

△

△

△

C

实施例7

DPHA-40H

150

○

○

○

A

实施例8

DPHA-40H

150

○

○

○

A

实施例9

DPHA-40H

150

○

○

-

B

比较例1

DPHA

20

×

×

×

E

从表3可知以下情况。 

用实施例的本发明的感光性组合物形成的黑矩阵，不仅为薄膜，而且膜强度高、未发现气泡或碎片、刷伤等缺陷。相反，在比较例中作成的黑矩阵的膜强度差，具备使用该黑矩阵作成的滤色片的液晶显示装置在显示部分发现不均，显示质量差。 

Claims (13)

1.一种黑矩阵形成用感光性组合物，其特征在于，

至少含有(I)具有金属的颗粒、(II)含有尿烷基和多个(甲基)丙烯酰基的聚合性单体、和(III)树脂，

所述(I)具有金属的颗粒的至少一种为具有银锡合金部的颗粒，

所述(II)聚合性单体为下述通式(A)或(B)表示的化合物，

[化1]

在通式(A)或(B)中，R₁表示下述式(a)或(c)，R₂表示氢原子或甲基，

[化2]

式(a)中，n表示2～8的整数。

2.根据权利要求1所述的黑矩阵形成用感光性组合物，其特征在于，

所述(I)具有金属的颗粒的数均粒径为0.1μm以下。

3.如权利要求1或者2所述的黑矩阵形成用感光性组合物，其特征在于，

所述具有金属的颗粒是金属颗粒。

4.一种感光性转印材料，其特征在于，

在临时支撑体上具有使用权利要求1或者2所述的黑矩阵形成用感光性组合物而成的感光性组合物层。

5.一种显示装置用遮光膜的形成方法，其特征在于，

至少具有：在基板上涂敷权利要求1或者2所述的黑矩阵形成用感光性组合物的工序。

6.一种显示装置用遮光膜的形成方法，其特征在于，

至少具有：在基板上转印权利要求4所述的感光性转印材料的黑矩阵形成用感光性组合物层的工序。

7.一种显示装置用遮光膜，其特征在于，

使用权利要求1或者2所述的黑矩阵形成用感光性组合物形成。

8.一种黑矩阵，其特征在于，

利用权利要求7所述的显示装置用遮光膜形成。

9.一种带遮光膜基板，其特征在于，

具备：基板、和在所述基板上设置的权利要求7所述的显示装置用遮光膜。

10.根据权利要求9所述的带遮光膜基板，其特征在于，

用于滤色片的制作。

11.一种滤色片，其特征在于，

使用权利要求9或10所述的带遮光膜基板形成。

12.一种显示装置，其特征在于，

具备：权利要求9或10所述的带遮光膜基板。

13.一种显示装置，其特征在于，

具备：权利要求11所述的滤色片。