CN101057173B - 抗刮擦和损伤的pdlc调制器 - Google Patents

抗刮擦和损伤的pdlc调制器 Download PDF

Info

Publication number
CN101057173B
CN101057173B CN200580037310XA CN200580037310A CN101057173B CN 101057173 B CN101057173 B CN 101057173B CN 200580037310X A CN200580037310X A CN 200580037310XA CN 200580037310 A CN200580037310 A CN 200580037310A CN 101057173 B CN101057173 B CN 101057173B
Authority
CN
China
Prior art keywords
acrylic ester
modulator
liquid crystal
curable organic
organic coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN200580037310XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN101057173A (zh
Inventor
陈仙海
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Orbotech Ltd
Original Assignee
Photon Dynamics Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Photon Dynamics Inc filed Critical Photon Dynamics Inc
Publication of CN101057173A publication Critical patent/CN101057173A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101057173B publication Critical patent/CN101057173B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1341Filling or closing of cells
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1334Constructional arrangements; Manufacturing methods based on polymer dispersed liquid crystals, e.g. microencapsulated liquid crystals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/50Protective arrangements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)

Abstract

将至少一种选择的特异配制的UV可固化的有机硬涂层作为聚酯(Mylar)膜暴露侧的保护层来制造PDLC调制器。多种相关类型的硬涂层显示对聚酯膜衬底良好的粘附力、优秀的硬度和韧性,并且具有光滑的顶面,这降低了不必要的磨损。涂覆在调制器表面的该涂层显著降低了测试中由板上意外颗粒造成的对调制器的刮伤。此外,滑动面将降低对颗粒的粘着,并因此也降低了板损坏的可能性。

Description

抗刮擦和损伤的PDLC调制器
发明背景 
本发明涉及液晶调制器,更具体的是涉及聚合物分散液晶(PDLC)调制器结构。(PDLC可以是羟基聚丙烯酸酯和TL系列液晶的混合物,其中所述羟基基团通过聚异氰酸酯交联。) 
在液晶显示器(LCD)工业中PDLC调制器被用于测试薄膜晶体管。调制器寿命的改善是PDLC调制器研发的主要目标之一。由于在测试中组件与板非常接近,所以在正常使用中,PDLC调制器结构会受到损坏,这严重缩短了使用寿命。 
设置在BK-7光学玻璃上的现有131mm2PDLC调制器是已知的,其中通过薄聚酯膜(约6μm)(例如来自Dupont of Wilmington,Delaware的Mylar膜)保护活性表面。由于聚酯膜柔软,其表面易于刺破和刮伤,以致调制器的寿命成了问题。主要的调制器损坏类型包括1)薄膜(pellicle)剥落,2)颗粒穿透,以及3)刮擦。这些损坏类型使得调制器在相对较短的时间后就变得不能使用。由于对PDLC调制器的使用增加,开发更加耐用的调制器结构变得很紧迫。 
已经开发出了现有的解决方案,但是它们被证明是不充分的。感兴趣的两类特定类型是: 
玻璃的机械抛光。该技术涉及将介质镜(dielectric mirror)材料沉积在玻璃衬底(substrate)上。然后将该玻璃层压到NCAP(向列型曲线排列相(nematic curvilinear aligned phase))材料上,使该镜涂层与NCAP材料形成夹层接触。然后在该玻璃的背面进行机械抛光,留下非常薄的结构。当在应用系统中使用制成的调制器时,所得到的薄的膜显示了弱的机械强度(因此容易破裂)。 
直接的介质镜涂层。在该技术中,通过物理气相沉积将介质镜材料直接沉积在NCAP或PDLC材料上。尽管该方法可能在调制器上提供硬而薄的表面,但是没有与调制器耐久性相关的数据可得到。此外,试图制造这样的结构面临着包括低产率在内的技术挑战。 
所需要的是抗损坏的基于电介质的PDLC调制器以及制造方法。 
发明概述 
根据本发明,将至少一种选择的特意配制的UV可固化的有机硬涂层作为聚酯(Mylar)膜暴露侧的保护层来制造PDLC调制器。多种相关类型的硬涂层显示对聚酯膜衬底良好的粘附力、优秀的硬度和韧性,并且具有光滑的顶面,这降低了不必要的磨损。涂覆在调制器表面的该涂层显著降低了测试中由板上意外颗粒造成的对调制器的刮伤。此外,滑动面将降低对颗粒的粘着,并因此也降低了板损坏的可能性。 
借助附图,通过参考下列详细说明将会更好地理解本发明。 
附图简要说明 
图1A和1B是本发明的基于PDLC的调制器头的侧面截面图(并非按比例)。 
图2是本发明制造方法的流程图。 
发明详细说明 
根据本发明,已经配制出了UV可固化的有机硬涂层并将其用作电光调制器表面的保护层。该涂层显示了对塑料(Mylar)衬底良好的粘附性、≥3H的硬度、优秀的韧性和光滑的顶面。 
如图1A所示以及如图1B更详细地显示,有机硬涂层1被置于要不然就制成了的调制器上。该有机硬涂层1包括主硬涂层10,在其上具有薄得多的增滑剂层11。具体地,将涂层1涂到聚酯膜(例如Mylar)2,该聚酯膜2又覆盖并保护易碎的介质镜3,水基粘合层4将该介质镜3保持在PDLC层5的表面上。二氧化硅(SiO2)绝缘层6将PDLC层5和玻璃衬底8上的铟锡氧化物(ITO)透明电极7隔开,所述玻璃衬底8通常是BK-7型光学玻璃。衬底8另一侧上的抗反射涂层9使得到改进的调制器头部的结构得以完成。 
有机硬涂层制剂和方法:
有机硬涂层1的特殊制剂构成本发明的特定实施方案。该有机硬涂层制剂包含(商标和商品名被大写): 
1)10%~50%环氧丙烯酸酯,例如CN-104型(Sartomer Company,Inc.,Exton,PA)、CN-120型(Sartomer)、CN-124型(Sartomer)、Ebecryl-600型(Surface Specialties,从前是UCB Chemicals of Brussels,Belgium,现在是Cytec Industries of West Patterson,New Jersey),或类似的环氧丙烯酸酯; 
2)0%~30%多官能聚氨酯丙烯酸酯(urethane acrylate),例如Ebecryl-4827(Surface Specialties)、CN975(Sartomer); 
3)10%~50%多官能单体,例如SR-399(Sartomer); 
4)0%~5%增粘剂,例如Ebecryl-168(Surface Specialties)、Ebecryl-170(Surface Specialties)、CD-9052、SR-9009、SR-9011和SR-9012(Sartomer); 
5)0.5%~5%硅酮丙烯酸酯增滑剂,例如Ebecryl-350和Ebecryl-1360(Surface Specialties); 
6)0%~15%低粘度二丙烯酸酯单体,例如SR-238(Sartomer); 
7)0~40%低粘度三丙烯酸酯,例如OTA-480(Surface Specialties); 
8)0~10%可交联的增韧剂,例如Ricacryl 3100、Ricacryl 3500、Ricacryl 3801(Ricon Resins,Inc.,Grand Junction,Colorado)、HycarVTBNX 1300×33和Hycar VTBNX 1300×43(BF Goodrich,Akron,Ohio) 等; 
9)0.05~5%光引发剂,例如Irgacure-369(Ciba Specialty Chemicals,Tarrytown,New York)、Irgacure-500(Ciba)、Irgacure-907(Ciba)、SR-1124(Sartomer)或者它们的组合。 
通过将上述有机硬涂层与高达70%(基于总固体)的无机填料混合进一步改善硬度和抗刮擦/损伤,所述无机填料例如为MEK-ST和MIBK-ST(Nissan Chemical Industries,Tokyo,Japan)。加入0.5~5%的硅烷,例如Silquest A-174、A-1120(GE Silicones-OSI Specialties,Paris,France),以提高有机树脂和无机填料之间的粘着力。 
加入诸如甲基异丁基甲酮的溶剂以使固体含量为30~60%。 
然后通过使用刮刀、绕线棒或旋转器等将上述制剂涂覆到调制器上的聚酯(例如来自Dupont of Wilmington,Delaware的Mylar)表面上。优选旋涂,因为其产生良好的涂层厚度均一性。通过调整制剂的固体含量和/或旋转速率将涂层厚度控制在3-15微米。在溶剂完全蒸发后,在UV照射下使所述涂层固化。 
有机硬涂层的性能:
本发明的有机硬涂层的性能如下: 
改善的表面硬度和抗损伤。如果将高度交联的有机涂层涂覆在诸如玻璃等的硬衬底上,那么该高度交联的有机涂层可以容易地达到5H铅笔硬度。可以在Mylar上实现≥3H铅笔硬度,Mylar自身只具有约HB铅笔硬度。该涂层比薄膜晶体管(TFT)板软,以致于在调制器接触到板时,调制器也不会损坏板。 
改善的抗刮擦性。通过在最顶面的可交联的增滑剂进行的改善,显著降低了其与意外的颗粒的摩擦。这还将潜在地降低聚集颗粒的可能性。 
薄涂层。较厚的涂层具有更好的抗刮擦性和抗损伤性。然而,厚度将影响调制器的灵敏度和/或气隙。本发明优选使用1~20μm,更优选使用3~10μm厚的硬涂层。调制器灵敏度或气隙的损失(tradeoff)可以忽略。 
对Mylar良好的粘合性。本发明的UV可固化的涂层对Mylar表面具有强粘合性。可以通过加入增粘剂来进一步改善粘合性。 
韧性。通过加入可交联的增韧添加剂,高度交联的有机涂层显示了优秀的韧性和抗弯曲性。 
低介电常数。有机和有机/无机混合物硬涂层的介电常数是2.5~5,其对空间分辨率的影响可以忽略。 
抗溶剂性。因为该有机涂层是高度交联的,所以其对用于调制器清洁的普通溶剂显示优秀的抵抗力,所述溶剂例如丙酮、异丙醇和甲基乙基甲酮等。 
1涂层,“2-层”结构。该制剂包含增滑剂。涂覆后,如图1所示,由于其低表面张力,增滑剂停留在顶面。 
具有有机硬涂层的PDLC调制器的制造过程:
参考部分过程的流程图图2,制造过程如下: 
步骤A:PDLC制剂。在玻璃瓶中加入7.54g Paraloid AU1033(Rohm and Haas Coatings of Philadelphia,Pennsylvania)、8.10g TL-205液晶、5.30g甲基异丁基甲酮和0.66g Desmodur N-75(Bayer AG,Munich,Germany)并搅拌过夜。然后向均匀混合物中加入0.1%Metacure T-12催化剂(Air Products and Chemicals,Lehigh Valley,Pennsylvania)(基于总制剂)并再搅拌10分钟。 
步骤B:PDLC/粘合剂旋涂和薄膜真空层压。使用1微米聚四氟乙烯(PTFE)滤器过滤步骤1中制备的混合物并将其旋涂在135.5×135.5mm2ITO玻璃衬底上。通过旋压法将PDLC的厚度控制在约17-18微米。在PDLC涂层上涂覆薄层的(约1微米)Neorez R-967粘合剂(Neoresins,Inc.,of Waalwijk,The Netherlands),将该两层涂层以介质镜(在6μm Mylar支撑物一“薄膜”上)层压。 
步骤C:硬涂层制剂制备。向棕色玻璃瓶中加入组分并均匀混合。 
制剂实例如表1所示。 
表1UV可固化的硬涂层制剂实例(以克计) 
步骤D:有机硬涂层工艺。然后使用5μm滤器过滤来自步骤3的制剂,以700RPM在调制器薄膜上旋涂90秒,然后使用UV照射充分固化。硬涂层的干燥膜厚度约为5~6μm。 
具有有机硬涂层的调制器显示较硬/平坦/光滑的表面,显著改善的耐久性以及可以忽略的缺陷探测灵敏度损失。 
参考具体实施方案已经解释了本发明。其它实施方案对于本领域技术人员是显而易见的。因此,本发明旨在仅受所附权利要求的限制。 

Claims (14)

1.制造液晶调制器的方法,其包括:
在光学部件衬底上涂覆液晶材料;
在所述液晶材料上涂覆水基粘合剂;
在所述水基粘合剂上层压介质镜/薄膜,所述层压介质镜/薄膜具有聚酯表面;以及
使用UV可固化的有机涂料涂覆聚酯表面;以及
使用UV将所述可固化的有机涂料在所述聚酯表面固化为有机硬涂层;
其中所述UV可固化的有机涂料由多官能丙烯酸酯类、0.5%-5%硅酮丙烯酸酯增滑剂和0.05-5%光引发剂的混合物配制;并且
其中所述多官能丙烯酸酯包含10%-50%环氧丙烯酸酯、0%-30%多官能聚氨酯丙烯酸酯和10%-50%多官能单体。
2.如权利要求1所述的方法,其中将所述液晶材料直接涂覆在所述光学部件衬底上。
3.如权利要求1所述的方法,其还包括将多官能丙烯酸酯类、作为增滑剂的硅酮丙烯酸酯、增粘剂和光引发剂的混合物配制成所述UV可固化的有机涂料。
4.如权利要求1所述的方法,其还包括将多官能丙烯酸酯类、作为增滑剂的硅酮丙烯酸酯、增粘剂、可交联的增韧剂和光引发剂的混合物配制成所述UV可固化的有机涂料。
5.如权利要求1所述的方法,其还包括将多官能丙烯酸酯类、作为增滑剂的硅酮丙烯酸酯、可交联的增韧剂、无机填料和光引发剂的混合物配制成所述UV可固化的有机涂料。
6.如权利要求1所述的方法,其还包括将多官能丙烯酸酯类、作为增滑剂的硅酮丙烯酸酯、可交联的增韧剂、无机填料、硅烷偶联剂和光引发剂的混合物配制成所述UV可固化的有机涂料。
7.如权利要求1所述的方法,其中所述液晶材料包括聚合物和液晶的制剂。
8.如权利要求1所述的方法,其还包括在所述液晶材料上涂覆水基粘合剂,并且在所述水基粘合剂上层压所述镜/薄膜。
9.具有保护涂层的液晶调制器,所述调制器包括
在光学部件衬底上的液晶材料;
涂覆在所述液晶材料上的水基粘合剂;
层压在粘合层上的介质镜/薄膜;以及
在所述介质镜/薄膜上的固化的UV可固化的有机硬涂层;
其中所述UV可固化的有机涂料由多官能丙烯酸酯类、0.5%-5%硅酮丙烯酸酯增滑剂和0.05-5%光引发剂的混合物配制;并且
其中所述多官能丙烯酸酯包含10%-50%环氧丙烯酸酯、0%-30%多官能聚氨酯丙烯酸酯和10%-50%多官能单体。
10.如权利要求9所述的调制器,其中所述UV可固化的有机涂层是多官能丙烯酸酯类、作为增滑剂的硅酮丙烯酸酯、增粘剂和光引发剂的混合物。
11.如权利要求9所述的调制器,其中所述UV可固化的有机涂层是多官能丙烯酸酯类、作为增滑剂的硅酮丙烯酸酯、增粘剂、可交联的增韧剂和光引发剂的混合物。
12.如权利要求9所述的调制器,其中所述UV可固化的有机涂层是多官能丙烯酸酯类、作为增滑剂的硅酮丙烯酸酯、可交联的增韧剂、无机填料和光引发剂的混合物。
13.如权利要求9所述的调制器,其中所述UV可固化的有机涂层是多官能丙烯酸酯类、作为增滑剂的硅酮丙烯酸酯、可交联的增韧剂、无机填料、硅烷偶联剂和光引发剂的混合物。
14.如权利要求9所述的调制器,其中所述液晶材料包括聚合物和液晶的制剂。
CN200580037310XA 2004-11-10 2005-11-09 抗刮擦和损伤的pdlc调制器 Active CN101057173B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/986,425 US7099067B2 (en) 2004-11-10 2004-11-10 Scratch and mar resistant PDLC modulator
US10/986,425 2004-11-10
PCT/US2005/042117 WO2006053344A1 (en) 2004-11-10 2005-11-09 Scratch and mar resistant pdlc modulator

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101057173A CN101057173A (zh) 2007-10-17
CN101057173B true CN101057173B (zh) 2012-01-04

Family

ID=36316004

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200580037310XA Active CN101057173B (zh) 2004-11-10 2005-11-09 抗刮擦和损伤的pdlc调制器

Country Status (6)

Country Link
US (2) US7099067B2 (zh)
JP (1) JP4939426B2 (zh)
KR (1) KR101042089B1 (zh)
CN (1) CN101057173B (zh)
TW (1) TWI400535B (zh)
WO (1) WO2006053344A1 (zh)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4846711B2 (ja) * 2004-04-08 2011-12-28 フォトン・ダイナミクス・インコーポレーテッド 変調器製造用の高分子分散型液晶製剤
US7099067B2 (en) * 2004-11-10 2006-08-29 Photon Dynamics, Inc. Scratch and mar resistant PDLC modulator
US7817333B2 (en) * 2007-02-06 2010-10-19 Photon Dynamics, Inc. Modulator with improved sensitivity and life time
US9035673B2 (en) 2010-01-25 2015-05-19 Palo Alto Research Center Incorporated Method of in-process intralayer yield detection, interlayer shunt detection and correction
US8801964B2 (en) 2010-12-22 2014-08-12 Photon Dynamics, Inc. Encapsulated polymer network liquid crystal material, device and applications
US8809413B2 (en) 2011-06-29 2014-08-19 Chau Ha Ultraviolet radiation-curable high refractive index optically clear resins
US9190039B2 (en) * 2013-03-14 2015-11-17 D'addario & Company, Inc. Radiation curable drumhead membrane
US9921425B2 (en) * 2013-04-05 2018-03-20 Jiansheng Wang Switchable projection panel
GB2515264A (en) * 2013-05-03 2014-12-24 Pro Display Tm Ltd Improved method of forming switchable glass
KR102085043B1 (ko) 2013-09-23 2020-04-16 삼성디스플레이 주식회사 액정 변조기 및 이를 포함하는 검사 장치
KR20160061548A (ko) * 2014-11-21 2016-06-01 삼성디스플레이 주식회사 어레이 테스트 모듈레이터 및 이를 포함하는 박막트랜지스터 기판 검사 장치
KR102002173B1 (ko) * 2017-11-29 2019-07-23 주식회사 스위스 실리콘계 아크릴레이트 광경화형 수지 및 우레탄계 아크릴레이트 광경화형 수지를 포함하는 고분자 분산형 액정 필름 및 이의 제조방법
US20240117251A1 (en) 2022-08-22 2024-04-11 Orbotech Ltd. Cationic gettering in liquid crystal ncap and pdlc films

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1397057A (zh) * 2000-02-01 2003-02-12 三井化学株式会社 显示器用滤光片、显示装置及其制造方法
CN1406259A (zh) * 2000-12-28 2003-03-26 纳托科株式会社 活化能射线可固化的(甲基)丙烯酸聚氨酯和活化能射线可固化的组合物及其用途
CN1446371A (zh) * 2000-08-07 2003-10-01 3M创新有限公司 抗染污性硬涂层
CN1497304A (zh) * 2002-10-08 2004-05-19 王子制纸株式会社 液晶偏光板保护用透明粘着膜

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61213147A (ja) * 1985-03-18 1986-09-22 鐘淵化学工業株式会社 芳香族ポリエステル系積層体及び液晶表示部品
JPH0481889A (ja) * 1990-07-25 1992-03-16 Toppan Printing Co Ltd アクティブマトリクスアレイ基板の検査方法
JP2774704B2 (ja) * 1991-04-19 1998-07-09 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板検査装置および方法
JP3126233B2 (ja) * 1991-09-10 2001-01-22 フォトン・ダイナミクス・インコーポレーテッド 液晶表示パネル基板の検査装置
JPH091963A (ja) * 1995-06-15 1997-01-07 Dainippon Printing Co Ltd 可逆表示可能な転写箔及び可逆表示可能な記録媒体
US6151153A (en) 1998-06-16 2000-11-21 Photon Dynamics, Inc. Modulator transfer process and assembly
JP2000001675A (ja) * 1998-06-17 2000-01-07 Dainippon Printing Co Ltd 可逆性表示媒体
JP4574766B2 (ja) * 1998-11-17 2010-11-04 大日本印刷株式会社 ハードコートフィルム及び反射防止フィルム
US6528127B1 (en) * 1999-03-08 2003-03-04 Cryovac, Inc. Method of providing a printed thermoplastic film having a radiation-cured overprint coating
US6780232B2 (en) * 1999-08-20 2004-08-24 The Walman Optical Company Coating composition yielding abrasion-resistant tiniable coating
US6214433B1 (en) * 1999-10-04 2001-04-10 Dsm N.V. Radiation-curable coatings for optical discs and optical discs incorporating such coatings
US6649318B1 (en) * 2000-04-20 2003-11-18 Eastman Kodak Company Self-contained imaging media comprising microencapsulated color formers and a resilient layer
JP2002216401A (ja) 2001-01-17 2002-08-02 Victor Co Of Japan Ltd 光磁気記録媒体
KR100488585B1 (ko) * 2001-04-30 2005-05-11 주식회사 탑 엔지니어링 전광 기기에 사용되는 모듈레이터의 제조방법
EP1415193B1 (en) 2001-07-09 2012-03-14 E Ink Corporation Electro-optical display having a lamination adhesive layer
KR100646556B1 (ko) * 2002-06-27 2006-11-14 티디케이가부시기가이샤 복합 하드 코트층이 부여된 물체 및 복합 하드 코트층의형성방법
JP4144271B2 (ja) * 2002-07-09 2008-09-03 住友化学株式会社 高分子薄膜およびそれを用いた高分子薄膜素子
US20070082965A1 (en) * 2002-11-28 2007-04-12 Jsr Corporation Photocuring resin composition, medical device using same and method for manufacturing same
US20050077005A1 (en) * 2003-10-14 2005-04-14 Photon Dynamics, Inc. Method for fabricating electro-optic light modulator
US7099067B2 (en) 2004-11-10 2006-08-29 Photon Dynamics, Inc. Scratch and mar resistant PDLC modulator

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1397057A (zh) * 2000-02-01 2003-02-12 三井化学株式会社 显示器用滤光片、显示装置及其制造方法
CN1446371A (zh) * 2000-08-07 2003-10-01 3M创新有限公司 抗染污性硬涂层
CN1406259A (zh) * 2000-12-28 2003-03-26 纳托科株式会社 活化能射线可固化的(甲基)丙烯酸聚氨酯和活化能射线可固化的组合物及其用途
CN1497304A (zh) * 2002-10-08 2004-05-19 王子制纸株式会社 液晶偏光板保护用透明粘着膜

Also Published As

Publication number Publication date
WO2006053344A1 (en) 2006-05-18
US7099067B2 (en) 2006-08-29
CN101057173A (zh) 2007-10-17
JP2008519993A (ja) 2008-06-12
US7916382B2 (en) 2011-03-29
US20060098268A1 (en) 2006-05-11
TW200617548A (en) 2006-06-01
US20080206489A1 (en) 2008-08-28
TWI400535B (zh) 2013-07-01
JP4939426B2 (ja) 2012-05-23
KR101042089B1 (ko) 2011-06-16
KR20070090153A (ko) 2007-09-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101057173B (zh) 抗刮擦和损伤的pdlc调制器
JP2008519993A5 (zh)
KR100347973B1 (ko) 투명한전도성시트
US10093837B2 (en) Process for binding substrates with a liquid optically clear photo-curable adhesive
JP4183419B2 (ja) 透明導電性積層体及びこれを用いたタッチパネル
JP3220403B2 (ja) 表示装置の製造方法
CN108530664B (zh) 防粘连性硬涂层膜的制造方法
KR20050045873A (ko) 광학용 필름
CN113196365A (zh) 带边框的图像显示面板、以及图像显示装置
KR20170015153A (ko) 광학 적층체 및 액정 표시 장치
US6208397B1 (en) Optical member cell substrate and liquid-crystal display
US20060147729A1 (en) Transferable antireflection material for use on optical display
JP2003094552A (ja) 透明導電性積層体及びタッチパネル
JP2003280550A (ja) 表示装置の製造方法
US6933013B2 (en) Vacuum deposition of dielectric coatings on volatile material
KR100659578B1 (ko) 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법 및 이를이용한 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자
JP2001356710A (ja) アクティブマトリックス層および転写方法
JP2003080600A (ja) 高分子シートの製造方法およびこれを用いた表示素子用基板
JP2001004985A (ja) セル基板、液晶セル、液晶表示装置及び電極形成法
CN211688890U (zh) 一种防脱落的膜
JP2003080637A (ja) 高分子シートの製造方法およびこれを用いた表示素子用基板
JPH06160630A (ja) 光学用部材の表面保護フィルム
CN114518673A (zh) 一种防窥显示装置及其控制方法和制备方法
JP2002273811A (ja) 光学用高分子シート
JPH06148431A (ja) 光学用部材の表面保護フィルム

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20210419

Address after: Yavnei, Israel

Patentee after: ORBOTECH Ltd.

Address before: California, USA

Patentee before: PHOTON DYNAMICS, Inc.