JP2002273811A

JP2002273811A - 光学用高分子シート

Info

Publication number: JP2002273811A
Application number: JP2001076866A
Authority: JP
Inventors: Wataru Kosaka; 弥小坂; Shinji Oono; 晋児大野
Original assignee: Sumitomo Bakelite Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date: 2001-03-16
Filing date: 2001-03-16
Publication date: 2002-09-25

Abstract

(57)【要約】【課題】高度なガス・水蒸気バリア性を持つ光学用高分
子シートを安価に製造できる方法を提供し、さらにこう
して得られた光学用高分子シートを液晶表示素子用基板
として用いるとき、剥離用基材の剥離性を改善する。【解決手段】基材（ａ）に、厚さ０．１ｍｍ以下の剥
離用基材（ｂ）上に保護層とガス・水蒸気バリア層を形
成した転写フィルムをラミネートしてなる高分子シート
において、前期保護層が光硬化性樹脂とシランカップリ
ング剤を主成分とすることを特徴とする高分子シート。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、主として液晶表示
装置に用いられるプラスチック基板に使用可能な光学用
高分子シートに関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置用プラスチック基板では、
枚葉シートに蒸着やスパッタリング等の真空成膜プロセ
スで、ガス・水蒸気バリア層となる酸化珪素膜や酸化ア
ルミニウム膜を成膜する方法がよく用いられている。こ
れに対し、シート厚が０．３ｍｍ程度より薄い場合には
ロール・ツー・ロールで蒸着やスパッタリングで同様の
成膜を行う方法も可能であり、特に厚みが０．１ｍｍ以
下の場合にはこのロール・ツー・ロールによる方法が一
般的である。一般にロール・ツー・ロールによる方法は
枚葉シートに成膜する方法より生産性が高いが、シート
の厚さが厚くなるに従い長さに対するロール径が大きく
なるので１回に真空装置内に投入できるシート長さが短
くなり、生産性や成膜コストの点でロール・ツー・ロー
ル法の優位性を十分に発揮できなくなる。しかし、液晶
表示装置の組立工程上、シート厚は少なくとも０．１ｍ
ｍ以上の厚さが要求されるため、成膜コスト低下のため
には、より生産性を上げることが重要である。

【０００３】特開平８−２３４１８１号公報には、ガス
バリア層と接着層をフィルム上に形成し、これを基材で
あるシートに転写する方法が提案されている。前記公報
に記載の方法を利用し、転写フィルムの厚さを薄くした
場合には、ガス・水蒸気バリア層を薄い転写フィルム上
に成形できるので、ガス・水蒸気バリア層の生産性を向
上することができ、結果として、プラスチック表示素子
用基板の製造コストを下げることが可能となる。しか
し、前記公報に記載されているような転写フィルム側に
接着層を形成する場合、接着層に基材との密着性を考慮
して熱硬化樹脂または光硬化性樹脂を適用すると、その
可使用時間が限られ、例えばコスト低減のために前記公
報に示される転写フィルムを大量に在庫した場合に、接
着層の劣化による密着性の低下、ひいてはガス・水蒸気
バリア性の低下をきたすことがあった。また、薄いフィ
ルム上に形成されたガス・水蒸気バリア層の上に接着層
をコーティングするため、塗工方法によっては皺が寄
り、ガス・水蒸気バリア層を損傷させる事もあった。更
に、酸化珪素や酸化アルミニウムをガスバリア層に用い
る場合、一般に成膜後に上層にコーティングをする前に
空気中で放置することによりガスバリア性が向上するた
め１日から２週間程度の時間放置することを行うので、
コーティングまでを行った状態で在庫する場合にはこの
時間が余分に必要になるという生産性上の無駄があっ
た。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を解決し、高度なガス・水蒸気バリア性を持つ光学用高
分子シートを安価に製造できる方法を提供するものであ
り、さらにこうして得られた光学用高分子シートを液晶
表示素子用基板として用いるとき、剥離用基材の剥離性
を改善することも目的とするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、（１）基材（ａ）に、厚さ０．１ｍｍ以下の剥離用基
材（ｂ）上に保護層とガス・水蒸気バリア層を形成した
転写フィルムをラミネートしてなる光学用高分子シート
において、前期保護層が光硬化性樹脂とシランカップリ
ング剤を主成分とすることを特徴とする高分子シート。（２）前期シランカップリング剤がメルカプト系シラ
ンカップリング剤である（１）の高分子シート。（３）基材（ａ）がポリエーテルスルホンを含む透明
高分子フィルムから成ることを特徴とした（１）または
（２）の高分子シート。（４）基材（ａ）にガス・水蒸気バリア層との密着性
を高めるための密着層を塗工した後に前記転写フィルム
をラミネートすることによって成形されることを特徴と
する（１）〜（３）の高分子シート。（５）密着層が熱硬化樹脂または光硬化性樹脂を主成
分とする樹脂組成物である（４）の高分子シート。（６）剥離用基材（ｂ）がラミネート後に、剥離する
ことが可能であることを特徴とする（１）〜（５）の高
分子シート。（７）剥離用基材（ｂ）が特定波長の光を透過し、通過
した光が光硬化樹脂を硬化させることが可能である
（１）〜（６）の高分子シート。（８）剥離用基材（ｂ）剥離後の全光線透過率が８０％
以上である（１）〜（７）の光学用高分子シート。（９）（８）の光学用高分子シートを用いて作製した
表示素子用基板。（１０）（９）記載の表示素子用基板を用いて作製し
た表示素子。である。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明の基材（ａ）に使用される
高分子材料としては、配向膜焼成工程において、約１５
０℃加熱が行われ、また、外部回路との接続のために異
方性導電フィルムと熱圧着させるときも、１５０℃程度
の加熱が必要であるため、その材料に関しては、ガラス
転移温度が１６０℃以上であることが必要である。ガラ
ス転移温度が１６０℃以上の耐熱性熱可塑性樹脂として
は、芳香族ポリエーテルスルホン、熱可塑性芳香族ポリ
エーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリフェニレン
スルフィド、ポリアリレート、ポリエステル、環状ポリ
オレフィン及びそのコポリマー等が挙げられるが、中で
も液晶表示素子製造上、透明性、耐熱性、加工性、耐衝
撃性のバランスの良いポリエーテルスルホンが特に好ま
しい。また、ガラス転移温度が１６０℃を下回らなけれ
ば、熱可塑性ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネ
イトなどの樹脂や、滑剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、顔
料、染料、無機質充填剤などを適宜ブレンドしても良
い。

【０００７】これらの基材（ａ）の中には、ガス・水蒸
気バリア層との密着性が良いものもあるが、より高い信
頼性を得るためには、基材に密着層を塗工した後に、転
写フィルムをラミネートしても良い。前記密着層は、熱
硬化樹脂又は光硬化樹脂を主成分とする樹脂組成物が好
ましく、熱硬化樹脂の例としては、オルトクレゾールノ
ボラック型エポキシ，ビスフェノールＡ型エポキシ，ビ
スフェノールＦ型エポキシ，ビスフェノールＳ型エポキ
シ，ビフェニル型エポキシ，ジシクロペンタジエン型エ
ポキシ等のエポキシ樹脂や、フェノール樹脂，ビスマレ
イミド，不飽和ポリエステル等を挙げることができ、ま
た、光硬化樹脂としては、エポキシアクリレート，ウレ
タンアクリレート，ポリエチレングリコールアクリレー
ト，グリセロールメタクリレート等のアクリル樹脂や脂
環式エポキシ樹脂を挙げることができるが、特に限定は
しない。また、これらを同時に用いることも構わない。

【０００８】本発明の転写フィルムは、剥離用基材
（ｂ）上に保護層とまたはガス・水蒸気バリア層のみを
形成したものである。即ち、接着層を有しないので可使
用時間が限られることが無く、この状態で保管すること
で十分にガスバリア性が発揮されるだけの放置処理を行
うこともできるものである。前記剥離用基材（ｂ）は、
生産性や成膜コストを高めるために、できるだけ薄い方
が望ましく、その厚さは、０．１ｍｍ以下が望ましい。
ただし、厚さが０．０１ｍｍ未満と著しく薄くなると、
剥離する際に切れてしまう等の取り扱いの困難さを生じ
るので０．０１ｍｍ以上であることが好ましい。また、
密着層に光硬化樹脂を使用する場合には、硬化に必要な
波長の光を通過させることが可能な材質であることが望
ましく、例えばポリエチレン，ポリプロピレン，脂肪族
ポリアミド，ポリエチレンテレフタレート，ポリブチレ
ンテレフタレート，ポリスルホン，ポリエーテルスルホ
ン，ポリカーボネート等を挙げることができる。さら
に、前記剥離用基材（ｂ）は、ラミネートした後に剥離
することが可能であることが望ましく、隣接するガス・
水蒸気バリア層又は保護層との密着性は低い方が好まし
い。場合によっては隣接層との間に離型剤等の離型層を
形成しても良い。

【０００９】本発明の保護層は、ガス・水蒸気バリア層
を保護するもので、ガス・水蒸気バリア層との密着性が
良く、ある程度の表面高度を持つ材質であり、剥離用基
材（ｂ）とは輸送中やハンドリング時に生じる程度の摩
擦力では剥離せず、なおかつ剥離時には少ない力で剥離
できる程度の密着性をもつことが好ましい。このような
条件の保護層は、光硬化性樹脂とシランカップリング剤
を主成分とすることで得ることができる。光硬化性樹脂
の例としては、エポキシアクリレート，ウレタンアクリ
レート，ポリエチレングリコールアクリレート，グリセ
ロールメタクリレート等のアクリル樹脂や脂環式エポキ
シ樹脂等の単独または混合物およびこれらにシリカ等の
無機フィラーを含有させたものを挙げることができる
が、特に限定はしない。また、シランカップリング剤と
しては、エポキシ系、メルカプト系、アミノ系、メタク
リロキシ系等を挙げることができるが、このうち、メル
カプト系シランカップリング剤が特に好ましい。

【００１０】本発明のガス・水蒸気バリア層は、液晶保
護のため又は基板自体の寸歩変化を防ぐためのもので、
ポリビニルアルコールやポリ（エチレンビニルアルコー
ル）のような有機材料や酸化珪素，酸化アルミニウム，
酸化錫，酸化インジウム錫等の無機材料が挙げられる
が、これらの中でもガスバリア性の湿度依存性を有しな
い無機材料の薄膜を成膜する事によって得られるものが
望ましく、成膜方法の例としては、ゾル−ゲル法，真空
蒸着，イオンプレーティング，スパッタリング，ＣＶＤ
等を挙げることができるが、緻密でガスバリア性に優れ
る膜が得られやすいとこから真空蒸着，イオンプレーテ
ィング，スパッタリング，ＣＶＤ等の真空成膜法が好ま
しい。

【００１１】本発明の転写フィルムは、基材（ａ）の片
面もしくは両面にラミネートすることができ、片面にラ
ミネートした場合はその裏面に、両面にラミネートした
場合は一面に、場合によってはアンダーコート層を介し
て透明導電層を形成して表示素子用基板が完成する。

【００１２】

【実施例】以下実施例に基づき詳細に説明するが、本発
明はこれらにより何ら制限されるものではない。（実施例１）（１）転写フィルムの作成厚さ０．０２ｍｍの延伸ナイロンフィルム上に、巻出装
置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、ラミネートロール、
高圧水銀灯、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加
工を行った。コーター部にキスコーターを用いて、紫外
線硬化性樹脂組成物として融点７０℃のエポキシアクリ
レートプレポリマー１００重量部、酢酸ブチル３００重
量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート１００重量部、ベンゾインエチルエーテル２重量
部、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン０．５
重量部を５０℃にて撹拌、溶解して均一な溶液としたも
のを乾燥後膜厚２μｍとなるように塗布し、加熱乾燥ゾ
ーン中１００℃で５分間加熱して溶媒を除去した。続い
て塗布面側から高圧水銀灯を用いて紫外線を５００ｍＪ
／ｃｍ²照射し、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させて
保護層を形成した。この上に、スパッタリング法により
５００Å厚のＳｉＯ_xを得た。ｘの値はスパッタリング
時の酸素ガス流量を制御することにより１．６〜１．８
とした。このようにして保護層およびガスバリア層を有
する転写フィルムを作成した。作成後、温度３０℃湿度
６０％の環境で１ヶ月間保存した。（２）剥離性テスト得られた転写フィルムを幅２ｃｍに切断し、ＳｉＯ_x面
に接着テープを貼り付け、ピール試験を行った。すなわ
ち、接着テープを少し剥がしてナイロンフィルムと接着
テープ双方を把持し、剥離角１８０度、引っ張り速度１
０ｃｍ／ｍｉｎで剥離したところ、剥離界面は、ナイロ
ンフィルム−保護層界面であり、剥離に必要な力は幅１
ｃｍあたり、約１００ｇ重（０．９８Ｎ）であった。

【００１３】（３）光学用高分子シートの作成厚さ０．２ｍｍのポリエーテルスルホンを基材として用
い、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、ラミネー
トロール、高圧水銀灯、巻取装置を有する製造装置を用
いて次の加工を行った。まず、紫外線硬化性樹脂組成物
として融点７０℃のエポキシアクリレートプレポリマー
１００重量部、酢酸ブチル３００重量部，プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート１００重量部，
ベンゾインエチルエーテル２重量部を５０℃にて撹拌、
溶解して均一な溶液としたものをコーター部のグラビヤ
ロールコーターで乾燥後膜厚５μｍとなるように塗布
し、加熱乾燥ゾーン中１００℃で５分間加熱して溶媒を
除去した。続いて温度を８０℃に設定したラミネートロ
ールを用いて、前記の転写フィルムをガスバリア層と塗
布面をあわせてラミネートし、基材の裏面側から高圧水
銀灯を用いて紫外線を７００ｍＪ／ｃｍ²照射し、紫外
線硬化性樹脂組成物を硬化した。ラミネート後、延伸ナ
イロンフィルムを剥離し、光学用高分子シートを得た。
このシートの温度２３℃湿度９０％における酸素透過度
をＪＩＳＫ７１２６のＢ法（等圧法）を用いて測定し
たところ、０．１ｃｍ³／ｍ²・２４ｈ・ａｔｍであっ
た。また、このシートの温度４０℃湿度９０％における
水蒸気透過度をＪＩＳＫ７１２９のＢ法（赤外センサー
法）を用いて測定したところ、０．２ｇ／ｍ ²・ｄａｙ
であった。さらにこのシートの全光線透過率をＪＩＳ
Ｋ７１０５の方法で測定したところ、８９％であった。
一般に、表示素子用基板としての全光線透過率は、８０
％以上が要求されており、本発明の光学用高分子シート
は、表示素子用基板として十分使用できるものであるこ
とがわかった。続いて、以下のような手順で液晶表示用
素子を作製した。まず、上記光学用高分子シートに透明
導電膜として、ＤＣマグネトロン法により初期真空度３
×１０^-4Ｐａの状態から酸素／アルゴンガス４％の混合
ガスを導入して１×１０^-1Ｐａの条件下においてスパッ
タリングを行いＩｎ／(Ｉｎ＋Ｓｎ)の原子比が０．９８
である酸化インジウム錫（ＩＴＯ）からなる透明導電膜
を得た。測定の結果、膜厚は１６００Å、比抵抗は４×
１０^-4Ω−ｃｍであった。ＩＴＯを成膜後、レジストを
塗布して現像し、エッチング液として１０ｖｏｌ％ＨＣ
ｌ、液温４０℃中でパターンエッチングし、対角長さ３
インチ、Ｌ／Ｓ＝１５０／５０μｍの表示パターンを形
成した。パターン形成後、ＳＴＮ用配向膜を塗布し、１
５０℃２ｈｒの焼成処理を行った後、２４０度ツイスト
の配向となるようラビング処理を行った。ラビング処理
後、スペーサーを散布し、シール剤を塗布し、１３０℃
でシール硬化させてセル化し、ＳＴＮ用液晶組成物を注
入した。偏光板をコントラストの最大となる位置に貼り
合わせて液晶表示素子を作製した。この液晶表示素子は
ガスバリア性不足による気泡の発生がなく表示欠点は観
察されなかった。

【００１４】（実施例２）（１）転写フィルムの作成厚さ０．０２ｍｍの延伸ナイロンフィルム上に、巻出装
置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、ラミネートロール、
高圧水銀灯、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加
工を行った。コーター部にキスコーターを用いて、紫外
線硬化性樹脂組成物として２５℃において液状であるウ
レタンアクリレートプレポリマー６０重量部、融点７０
℃のエポキシアクリレートプレポリマー４０重量部、酢
酸ブチル３００重量部、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート１００重量部、ベンゾインエチル
エーテル２重量部、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン０．５重量部を５０℃にて撹拌、溶解して均一
な溶液としたものを乾燥後膜厚２μｍとなるように塗布
し、加熱乾燥ゾーン中１００℃で５分間加熱して溶媒を
除去した。続いて塗布面側から高圧水銀灯を用いて紫外
線を５００ｍＪ／ｃｍ ²照射し、紫外線硬化性樹脂組成
物を硬化させて保護層を形成した。この上に、スパッタ
リング法により５００Å厚のＳｉＯ_xを得た。ｘの値は
スパッタリング時の酸素ガス流量を制御することにより
１．６〜１．８とした。このようにして保護層およびガ
スバリア層を有する転写フィルムを作成した。作成後、
温度３０℃湿度６０％の環境で１ヶ月間保存した。（２）剥離性テスト得られた転写フィルムを幅２ｃｍに切断し、ＳｉＯ_x面
に接着テープを貼り付け、ピール試験を行った。すなわ
ち、接着テープを少し剥がしてナイロンフィルムと接着
テープ双方を把持し、剥離角１８０度、引っ張り速度１
０ｃｍ／ｍｉｎで剥離したところ、剥離界面は、ナイロ
ンフィルム−保護層界面であり、剥離に必要な力は幅１
ｃｍあたり、約２００ｇ重（１．９６Ｎ）であった。

【００１５】（３）光学用高分子シートの作成厚さ０．２ｍｍのポリシクロオレフィンフィルムを基材
として用い、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、
ラミネートロール、第２加熱ゾーン、巻取装置を有する
製造装置を用いて次の加工を行った。まず、ジシクロペ
ンタジエン型エポキシ１０重量部、オルソクレゾールノ
ボラック型エポキシ５重量部、メルカプトプロピオン酸
１０重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート４５重量部の混合液を乾燥後膜厚１μｍとな
るようコーター部にキスコーターを用いて塗布し、加熱
乾燥ゾーン中８０℃で３分間加熱して溶媒を除去した。
続いて温度を１２０℃に設定したラミネートロールを用
いて、前記の転写フィルムをガスバリア層と塗布面をあ
わせてラミネートし、第２加熱ゾーンで１２０℃３分間
加熱し、エポキシ樹脂組成物を熱硬化した。その後、延
伸ナイロンフィルムを剥離し、光学用高分子シートを得
た。このシートの温度２３℃湿度９０％における酸素透
過度をＪＩＳＫ７１２６のＢ法（等圧法）を用いて測
定したところ、０．１ｃｍ³／ｍ²・２４ｈ・ａｔｍであ
った。また、このシートの温度４０℃湿度９０％におけ
る水蒸気透過度をＪＩＳＫ７１２９のＢ法（赤外セン
サー法）を用いて測定したところ、０．２ｇ／ｍ²・ｄ
ａｙであった。さらにこのシートの全光線透過率をＪＩ
ＳＫ７１０５の方法で測定したところ、８９％であっ
た。続いて実施例１と同様に液晶表示素子を作製した。
この液晶表示素子はガスバリア性不足による気泡の発生
がなく表示欠点は観察されなかった。

【００１６】《比較例１》（１）転写フィルムの作成厚さ０．０２ｍｍの延伸ナイロンフィルム上に、巻出装
置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、ラミネートロール、
高圧水銀灯、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加
工を行った。コーター部にキスコーターを用いて、紫外
線硬化性樹脂組成物として融点７０℃のエポキシアクリ
レートプレポリマー１００重量部、酢酸ブチル３００重
量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート１００重量部、ベンゾインエチルエーテル２重量
部、を５０℃にて撹拌、溶解して均一な溶液としたもの
を乾燥後膜厚２μｍとなるように塗布し、加熱乾燥ゾー
ン中１００℃で５分間加熱して溶媒を除去した。続いて
塗布面側から高圧水銀灯を用いて紫外線を５００ｍＪ／
ｃｍ²照射し、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させて保
護層を形成した。この上に、スパッタリング法により５
００Å厚のＳｉＯ_xを得た。ｘの値はスパッタリング時
の酸素ガス流量を制御することにより１．６〜１．８と
した。さらに、ＳｉＯ_x層の上に、巻出装置、コーター
部、加熱乾燥ゾーン、巻取装置を有する製造装置を用い
て次の加工を行った。まず、紫外線硬化性樹脂組成物と
して融点７０℃のエポキシアクリレートプレポリマー１
００重量部、酢酸ブチル３００重量部，プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート１００重量部，ベ
ンゾインエチルエーテル２重量部を５０℃にて撹拌、溶
解して均一な溶液としたものをコーター部のグラビヤロ
ールコーターで乾燥後膜厚５μｍとなるように塗布し、
加熱乾燥ゾーン中１００℃で５分間加熱して溶媒を除去
した。このようにして保護層、ガスバリア層、および密
着層を有する転写フィルムを作成した。作成後、温度３
０℃湿度６０％の環境で暗所に１ヶ月間保存した。

【００１７】（２）剥離性テスト得られた転写フィルムを幅２ｃｍに切断し、ＳｉＯ_x面
に接着テープを貼り付け、ピール試験を行った。すなわ
ち、接着テープを少し剥がしてナイロンフィルムと接着
テープ双方を把持し、剥離角１８０度、引っ張り速度１
０ｃｍ／ｍｉｎで剥離したところ、剥離界面は、ナイロ
ンフィルム−保護層界面であり、剥離に必要な力は幅１
ｃｍあたり、約１５０ｇ重（１．４７Ｎ）であった。

【００１８】（３）光学用高分子シートの作成厚さ０．２ｍｍのポリエーテルスルホンを基材として用
い、前記の転写フィルムの密着層面とあわせて、温度を
８０℃に設定したラミネートロールを用いてラミネート
し、基材の裏面側から高圧水銀灯を用いて紫外線を７０
０ｍＪ／ｃｍ²照射し、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化
した。その後、延伸ナイロンフィルムを剥離したとこ
ろ、十分な接着性が得られずガスバリア層を基材側に部
分的にしか転写することができなかった。このシートの
温度２３℃湿度９０％における酸素透過度をＪＩＳＫ
７１２６のＢ法（等圧法）を用いて測定したところ、
１．８ｃｍ³／ｍ²・２４ｈ・ａｔｍであった。また、こ
のシートの温度４０℃湿度９０％における水蒸気透過度
をＪＩＳＫ７１２９のＢ法（赤外センサー法）を用い
て測定したところ、２．１ｇ／ｍ²・ｄａｙであった。
さらにこのシートの全光線透過率をＪＩＳＫ７１０５
の方法で測定したところ、７６％であった。続いて実施
例１と同様に液晶表示素子を作製した。この液晶表示素
子はガスバリア性不良による気泡の発生があり表示欠点
が観察された。

【００１９】《比較例２》（１）転写フィルムの作成厚さ０．０２ｍｍの延伸ナイロンフィルム上に、巻出装
置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、ラミネートロール、
高圧水銀灯、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加
工を行った。コーター部にキスコーターを用いて、紫外
線硬化性樹脂組成物として２５℃において液状であるウ
レタンアクリレート６０重量部、融点７０℃のエポキシ
アクリレートプレポリマー４０重量部、酢酸ブチル３０
０重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート１００重量部、ベンゾインエチルエーテル２重
量部、を５０℃にて撹拌、溶解して均一な溶液としたも
のを乾燥後膜厚２μｍとなるように塗布し、加熱乾燥ゾ
ーン中１００℃で５分間加熱して溶媒を除去した。続い
て塗布面側から高圧水銀灯を用いて紫外線を５００ｍＪ
／ｃｍ²照射し、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させて
保護層を形成した。この上に、スパッタリング法により
５００Å厚のＳｉＯ_xを得た。ｘの値はスパッタリング
時の酸素ガス流量を制御することにより１．６〜１．８
とした。さらに、ＳｉＯ_x層の上に、巻出装置、コータ
ー部、加熱乾燥ゾーン、巻取装置を有する製造装置を用
いて次の加工を行った。まず、ジシクロペンタジエン型
エポキシ１０重量部、オルソクレゾールノボラック型エ
ポキシ５重量部、メルカプトプロピオン酸１０重量部、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４
５重量部の混合液を乾燥後膜厚１μｍとなるようコータ
ー部にキスコーターを用いて塗布し、加熱乾燥ゾーン中
８０℃で３分間加熱して溶媒を除去した。このようにし
て保護層、ガスバリア層、および密着層を有する転写フ
ィルムを作成した。作成後、温度３０℃湿度６０％の環
境で暗所に１ヶ月間保存した。（２）剥離性テスト得られた転写フィルムを幅２ｃｍに切断し、ＳｉＯ_x面
に接着テープを貼り付け、ピール試験を行った。すなわ
ち、接着テープを少し剥がしてナイロンフィルムと接着
テープ双方を把持し、剥離角１８０度、引っ張り速度１
０ｃｍ／ｍｉｎで剥離したところ、剥離界面は、ナイロ
ンフィルム−保護層界面であり、剥離に必要な力は幅１
ｃｍあたり、約３００ｇ重（２．９４Ｎ）であった。

【００２０】（３）光学用高分子シートの作成厚さ０．２ｍｍのポリシクロオレフィンフィルムを基材
として用い、前記の転写フィルムの密着層面とあわせ
て、温度を１２０℃に設定したラミネートロールを用い
てラミネートし、第２加熱ゾーンで１２０℃３分間加熱
し、エポキシ樹脂組成物を熱硬化した。その後、延伸ナ
イロンフィルムを剥離したところ、十分な接着性が得ら
れずガスバリア層を基材側に部分的にしか転写すること
ができなかった。このシートの温度２３℃湿度９０％に
おける酸素透過度をＪＩＳＫ７１２６のＢ法（等圧
法）を用いて測定したところ、１．６ｃｍ³／ｍ²・２４
ｈ・ａｔｍであった。また、このシートの温度４０℃湿
度９０％における水蒸気透過度をＪＩＳＫ７１２９の
Ｂ法（赤外センサー法）を用いて測定したところ、２．
０ｇ／ｍ²・ｄａｙであった。さらにこのシートの全光
線透過率をＪＩＳＫ７１０５の方法で測定したとこ
ろ、７８％であった。続いて実施例１と同様に液晶表示
素子を作製した。この液晶表示素子はガスバリア性不良
による気泡の発生があり表示欠点が観察された。以上の
ように、本発明の方法によれば、ラミネート前の状態で
約１ヶ月間の保存を行うことができるとともに、保護層
にシランカップリング剤を加えることで、剥離性が向上
し、作業性を改善させることが可能であることが証明さ
れた。

【００２１】

【発明の効果】本発明は、ガス・水蒸気バリア性の良好
なプラスチック表示素子用基板に最適な光学用高分子シ
ートを安価に生産性良く製造できるものであり、この方
法により製造されたプラスチック表示素子用基板を用い
た表示素子は、ガラス基板を用いた表示素子に劣らない
良好な表示性能を示した。さらに、シランカップリング
剤の添加により、保護層と、剥離用基材との剥離性が向
上し、作業性が大きく改善された。以上のことより、本
発明は、ガラス基板に比べて軽く割れにくい特徴を持つ
プラスチック表示素子用基板のコストダウンに極めて有
効である。

フロントページの続きＦターム(参考） 2H090 JA07 JB03 JB11 JC07 JD11 JD12 4F100 AA20 AH04C AH04H AH06C AH06H AK01C AK01E AK25 AK48 AK55A AL06A AR00B AR00D AR00E AS00C AT00A BA04 BA05 BA07 BA10A BA10D EH46 EH66 EJ08C EJ37 EJ42 EJ54 GB41 JB13E JB14C JB14E JD02 JD02B JD04 JD04B JK06E JL11E JL14 JL14D JN01D JN08D

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材（ａ）に、厚さ０．１ｍｍ以下の剥
離用基材（ｂ）上に保護層とガス・水蒸気バリア層を形
成した転写フィルムをラミネートしてなる高分子シート
において、前記保護層が光硬化性樹脂とシランカップリ
ング剤を主成分とすることを特徴とする高分子シート。
【請求項２】前記シランカップリング剤がメルカプト
系シランカップリング剤である請求項１記載の高分子シ
ート。
【請求項３】基材（ａ）がポリエーテルスルホンを含
む透明高分子フィルムから成ることを特徴とした請求項
１または２記載の高分子シート。
【請求項４】基材（ａ）にガス・水蒸気バリア層との
密着性を高めるための密着層を塗工した後に前記転写フ
ィルムをラミネートすることによって成形されることを
特徴とする請求項１〜３何れか一項記載の高分子シー
ト。
【請求項５】密着層が熱硬化樹脂または光硬化性樹脂
を主成分とする樹脂組成物である請求項４記載の高分子
シート。
【請求項６】剥離用基材（ｂ）がラミネート後に、剥
離することが可能であることを特徴とする請求項１〜５
何れか一項記載の高分子シート。
【請求項７】剥離用基材（ｂ）が特定波長の光を透過
し、通過した光が光硬化樹脂を硬化させることが可能で
ある請求項１〜６何れか一項記載の高分子シート。
【請求項８】剥離用基材（ｂ）剥離後の全光線透過率
が８０％以上である請求項１〜７何れか一項記載の光学
用高分子シート。
【請求項９】請求項８記載の光学用高分子シートを用い
て作製した表示素子用基板。
【請求項１０】請求項９記載の表示素子用基板を用いて
作製した表示素子。