JP2012027177A - フレキシブルtft基板の製造方法 - Google Patents
フレキシブルtft基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012027177A JP2012027177A JP2010164691A JP2010164691A JP2012027177A JP 2012027177 A JP2012027177 A JP 2012027177A JP 2010164691 A JP2010164691 A JP 2010164691A JP 2010164691 A JP2010164691 A JP 2010164691A JP 2012027177 A JP2012027177 A JP 2012027177A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- color filter
- tft
- glass substrate
- filter layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】第1ガラス基板10の上に剥離できる状態でカラーフィルタ層25を形成し、カラーフィルタ層25の上に粘着層27を介して無加熱で仮フィルム29を仮接着した後に、第1ガラス基板10を剥離することにより、仮フィルム付きカラーフィルタ層Fを得ると共に、第2ガラス基板10aの上に剥離できる状態で画素電極26及びTFT5,6を形成してTFTガラス基板Gを得る工程と、TFTガラス基板Gの上に第1接着層46を介して仮フィルム付きカラーフィルタ層Fを接着する工程と、粘着層27及び仮フィルム29を剥離する工程と、カラーフィルタ層25の上に第2接着層46aを介してベースフィルム60を接着する工程と、第2ガラス基板10aを剥離する工程とを含む。
【選択図】図11
Description
図1〜図10は本発明の第1実施形態のフレキシブルTFT基板の製造方法を示す断面図、図11は同じくフレキシブルTFT基板を示す断面図、図12は同じくフレキシブルTFT基板を有機ELディスプレイに適用した例を示す断面図である。
図13〜図15は本発明の第2実施形態のフレキシブルTFT基板の製造方法を示す断面図、図16は同じくフレキシブルTFT基板を示す断面図である。
図17は本発明の第3実施形態のフレキシブルTFT基板の製造方法を示す断面図、図18は同じくフレキシブルTFT基板を示す断面図、図19は同じくフレキシブルTFT基板をフレキシブル液晶ディスプレイに適用した例を示す断面図である。
Claims (8)
- 第1ガラス基板上に剥離できる状態で形成されたカラーフィルタ層の上に粘着層を介して無加熱で仮フィルムを仮接着した後に、前記第1ガラス基板を剥離することにより得られる仮フィルム付きカラーフィルタ層と、
第2ガラス基板の上に剥離できる状態で画素電極及びそれに接続されるTFTを形成することにより得られるTFTガラス基板とを用意する工程と、
前記TFTガラス基板の上に第1接着層を介して前記仮フィルム付きカラーフィルタ層の該カラーフィルタ層側の面を接着する工程と、
前記粘着層及び前記仮フィルムを剥離して前記カラーフィルタ層を露出させる工程と、
前記カラーフィルタ層の上に第2接着層を介してベースフィルムを接着する工程と、
前記第2ガラス基板を剥離することにより、前記ベースフィルムの上に、前記カラーフィルタ層、前記画素電極及び前記TFTを転写する工程とを有することを特徴とするフレキシブルTFT基板の製造方法。 - 第1ガラス基板上に剥離できる状態で形成されたカラーフィルタ層の上に第3接着層を介してベースフィルム接着した後に、前記第1ガラス基板を剥離することにより得られるベースフィルム付きカラーフィルタ層と、
第2ガラス基板の上に剥離できる状態で画素電極及びそれに接続されるTFTを形成することにより得られるTFTガラス基板とを用意する工程と、
前記TFTガラス基板の上に第1接着層を介して前記ベースフィルム付きカラーフィルタ層の該カラーフィルタ層側の面を接着する工程と、
前記第2ガラス基板を剥離することにより、前記ベースフィルムの上に、前記カラーフィルタ層、前記画素電極及び前記TFTを転写する工程とを有することを特徴とするフレキシブルTFT基板の製造方法。 - 前記第1接着層に用いられる接着剤は、遅延硬化性光硬化型接着剤、又は2液混合型接着剤であることを特徴とする請求項1又は2に記載のフレキシブルTFT基板の製造方法。
- 前記粘着層は、加熱、光照射、又は冷却によって接着力が低下する特性を有し、
前記粘着層及び前記仮フィルムを剥離する工程おいて、前記粘着層を、加熱、光照射、又は冷却して接着力を低下させてから剥離することを特徴とする請求項1に記載のフレキシブルTFT基板の製造方法。 - 前記仮フィルム付きカラーフィルタ層を用意する工程において、
前記第1ガラス基板の上に透明の剥離層を介して前記カラーフィルタ層が形成され、前記第1ガラス基板は前記透明の剥離層との界面から剥離され、
前記仮フィルム付きカラーフィルタ層を前記TFTガラス基板に接着する工程において、
前記仮フィルム付きカラーフィルタ層の前記透明の剥離層の露出面が前記TFTガラス基板に接着されることを特徴とする請求項1に記載のフレキシブルTFT基板の製造方法。 - 前記ベースフィルム付きカラーフィルタ層を用意する工程において、
前記第1ガラス基板の上に透明の剥離層を介して前記カラーフィルタ層が形成され、前記第1ガラス基板は前記透明の剥離層との界面から剥離され、
前記ベースフィルム付きカラーフィルタ層を前記TFTガラス基板に接着する工程において、
前記ベースフィルム付きカラーフィルタ層の前記透明の剥離層の露出面が前記TFTガラス基板に接着されることを特徴とする請求項2に記載のフレキシブルTFT基板の製造方法。 - 前記ベースフィルムは、熱膨張係数が15ppm/℃以下であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載のフレキシブルTFT基板の製造方法。
- 前記フレキシブルTFT基板は、フレキシブル有機ELディスプレイ又はフレキシブル液晶ディスプレイの素子基板として使用されることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載のフレキシブルTFT基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010164691A JP5689258B2 (ja) | 2010-07-22 | 2010-07-22 | フレキシブルtft基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010164691A JP5689258B2 (ja) | 2010-07-22 | 2010-07-22 | フレキシブルtft基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012027177A true JP2012027177A (ja) | 2012-02-09 |
JP5689258B2 JP5689258B2 (ja) | 2015-03-25 |
Family
ID=45780184
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010164691A Expired - Fee Related JP5689258B2 (ja) | 2010-07-22 | 2010-07-22 | フレキシブルtft基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5689258B2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20130117112A (ko) * | 2012-04-17 | 2013-10-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광 디스플레이 장치의 제조방법 |
US20140093988A1 (en) * | 2012-10-03 | 2014-04-03 | Japan Display Inc. | Method of manufacturing display device |
JP2014191934A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Kaneka Corp | 透明電極付き基板の製造方法、および積層体 |
US9437831B2 (en) | 2013-12-02 | 2016-09-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
US9630389B2 (en) | 2013-01-08 | 2017-04-25 | Japan Display Inc. | Method of manufacturing display device |
JP2017157567A (ja) * | 2012-07-12 | 2017-09-07 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置の作製方法 |
WO2018230602A1 (ja) * | 2017-06-14 | 2018-12-20 | 住友化学株式会社 | 有機電子デバイスの製造方法 |
WO2018230606A1 (ja) * | 2017-06-13 | 2018-12-20 | 大日本印刷株式会社 | 積層体およびそれを用いた凹部付き多層体の製造方法 |
EP3582583A1 (en) | 2012-02-10 | 2019-12-18 | Nec Corporation | Base station system |
CN111613580A (zh) * | 2020-05-21 | 2020-09-01 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 柔性基板的制备方法及柔性基板 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11243209A (ja) * | 1998-02-25 | 1999-09-07 | Seiko Epson Corp | 薄膜デバイスの転写方法、薄膜デバイス、薄膜集積回路装置、アクティブマトリクス基板、液晶表示装置および電子機器 |
JP2000047023A (ja) * | 1998-07-24 | 2000-02-18 | Kyodo Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
JP2001356211A (ja) * | 2000-06-16 | 2001-12-26 | Kyodo Printing Co Ltd | 薄膜デバイスの製造方法 |
JP2003031778A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-31 | Seiko Epson Corp | 薄膜装置の製造方法 |
JP2005301020A (ja) * | 2004-04-14 | 2005-10-27 | Kyodo Printing Co Ltd | 表示装置用素子基板及びその製造方法 |
JP2006120726A (ja) * | 2004-10-19 | 2006-05-11 | Seiko Epson Corp | 薄膜装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器 |
JP2007004205A (ja) * | 2006-09-19 | 2007-01-11 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置 |
JP2007057905A (ja) * | 2005-08-25 | 2007-03-08 | Kyodo Printing Co Ltd | 液晶表示装置用電極基板とその製造方法及び液晶表示装置 |
JP2007178754A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Kyodo Printing Co Ltd | 表示装置用素子基板とその製造方法及び液晶表示装置 |
JP2009021322A (ja) * | 2007-07-11 | 2009-01-29 | Hitachi Displays Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP2009076852A (ja) * | 2007-08-31 | 2009-04-09 | Seiko Epson Corp | 薄膜素子、薄膜素子の製造方法、及び表示装置 |
JP2010010186A (ja) * | 2008-06-24 | 2010-01-14 | Kyodo Printing Co Ltd | フレキシブル有機elディスプレイ及びその製造方法 |
JP2010010185A (ja) * | 2008-06-24 | 2010-01-14 | Kyodo Printing Co Ltd | フレキシブル有機elディスプレイ及びその製造方法 |
-
2010
- 2010-07-22 JP JP2010164691A patent/JP5689258B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11243209A (ja) * | 1998-02-25 | 1999-09-07 | Seiko Epson Corp | 薄膜デバイスの転写方法、薄膜デバイス、薄膜集積回路装置、アクティブマトリクス基板、液晶表示装置および電子機器 |
JP2000047023A (ja) * | 1998-07-24 | 2000-02-18 | Kyodo Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
JP2001356211A (ja) * | 2000-06-16 | 2001-12-26 | Kyodo Printing Co Ltd | 薄膜デバイスの製造方法 |
JP2003031778A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-31 | Seiko Epson Corp | 薄膜装置の製造方法 |
JP2005301020A (ja) * | 2004-04-14 | 2005-10-27 | Kyodo Printing Co Ltd | 表示装置用素子基板及びその製造方法 |
JP2006120726A (ja) * | 2004-10-19 | 2006-05-11 | Seiko Epson Corp | 薄膜装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器 |
JP2007057905A (ja) * | 2005-08-25 | 2007-03-08 | Kyodo Printing Co Ltd | 液晶表示装置用電極基板とその製造方法及び液晶表示装置 |
JP2007178754A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Kyodo Printing Co Ltd | 表示装置用素子基板とその製造方法及び液晶表示装置 |
JP2007004205A (ja) * | 2006-09-19 | 2007-01-11 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置 |
JP2009021322A (ja) * | 2007-07-11 | 2009-01-29 | Hitachi Displays Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP2009076852A (ja) * | 2007-08-31 | 2009-04-09 | Seiko Epson Corp | 薄膜素子、薄膜素子の製造方法、及び表示装置 |
JP2010010186A (ja) * | 2008-06-24 | 2010-01-14 | Kyodo Printing Co Ltd | フレキシブル有機elディスプレイ及びその製造方法 |
JP2010010185A (ja) * | 2008-06-24 | 2010-01-14 | Kyodo Printing Co Ltd | フレキシブル有機elディスプレイ及びその製造方法 |
Cited By (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP4135208A1 (en) | 2012-02-10 | 2023-02-15 | NEC Corporation | Base station system |
EP3582583A1 (en) | 2012-02-10 | 2019-12-18 | Nec Corporation | Base station system |
EP3787371A1 (en) | 2012-02-10 | 2021-03-03 | NEC Corporation | Base station system |
KR20130117112A (ko) * | 2012-04-17 | 2013-10-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광 디스플레이 장치의 제조방법 |
KR101872963B1 (ko) * | 2012-04-17 | 2018-06-29 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광 디스플레이 장치의 제조방법 |
US10032833B2 (en) | 2012-07-12 | 2018-07-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device |
US11844260B2 (en) | 2012-07-12 | 2023-12-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device comprising thin glass layer |
US11088222B2 (en) | 2012-07-12 | 2021-08-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device comprising a thin glass material layer |
JP2017157567A (ja) * | 2012-07-12 | 2017-09-07 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置の作製方法 |
US10818737B2 (en) | 2012-07-12 | 2020-10-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device comprising a light-emitting element |
US10516007B2 (en) | 2012-07-12 | 2019-12-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing display device |
US9190575B2 (en) | 2012-10-03 | 2015-11-17 | Japan Display Inc. | Method of manufacturing display device |
JP2014074757A (ja) * | 2012-10-03 | 2014-04-24 | Japan Display Inc | 表示装置の製造方法 |
US20140093988A1 (en) * | 2012-10-03 | 2014-04-03 | Japan Display Inc. | Method of manufacturing display device |
US9630389B2 (en) | 2013-01-08 | 2017-04-25 | Japan Display Inc. | Method of manufacturing display device |
US10675851B2 (en) | 2013-01-08 | 2020-06-09 | Japan Display Inc. | Method of manufacturing display device |
JP2014191934A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Kaneka Corp | 透明電極付き基板の製造方法、および積層体 |
US10355067B2 (en) | 2013-12-02 | 2019-07-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
JP2016184166A (ja) * | 2013-12-02 | 2016-10-20 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置の作製方法 |
US9437831B2 (en) | 2013-12-02 | 2016-09-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
US11672148B2 (en) | 2013-12-02 | 2023-06-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
US10763322B2 (en) | 2013-12-02 | 2020-09-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
US10312315B2 (en) | 2013-12-02 | 2019-06-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
US9559316B2 (en) | 2013-12-02 | 2017-01-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
US10854697B2 (en) | 2013-12-02 | 2020-12-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
US10872947B2 (en) | 2013-12-02 | 2020-12-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
US10879331B2 (en) | 2013-12-02 | 2020-12-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
US9559317B2 (en) | 2013-12-02 | 2017-01-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
US11004925B2 (en) | 2013-12-02 | 2021-05-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
WO2018230606A1 (ja) * | 2017-06-13 | 2018-12-20 | 大日本印刷株式会社 | 積層体およびそれを用いた凹部付き多層体の製造方法 |
JPWO2018230606A1 (ja) * | 2017-06-13 | 2020-01-16 | 大日本印刷株式会社 | 積層体およびそれを用いた凹部付き多層体の製造方法 |
WO2018230602A1 (ja) * | 2017-06-14 | 2018-12-20 | 住友化学株式会社 | 有機電子デバイスの製造方法 |
CN111613580A (zh) * | 2020-05-21 | 2020-09-01 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 柔性基板的制备方法及柔性基板 |
CN111613580B (zh) * | 2020-05-21 | 2023-04-18 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 柔性基板的制备方法及柔性基板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5689258B2 (ja) | 2015-03-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5689258B2 (ja) | フレキシブルtft基板の製造方法 | |
JP7083937B2 (ja) | 表示装置、電子機器 | |
US9887384B2 (en) | Method for producing flexible display device, and flexible display device | |
US9666832B2 (en) | Display device and method of manufacturing the same | |
US7773176B2 (en) | Colour active matrix displays | |
EP3488478B1 (en) | Method of fabricating display panel | |
US7279401B2 (en) | Fabricating method for flexible thin film transistor array substrate | |
TWI525375B (zh) | 製造薄膜電子裝置之方法 | |
US8551818B2 (en) | Method of manufacturing electronic device and display | |
US9536929B2 (en) | Display device and method of manufacturing the same | |
WO2011142089A1 (ja) | フレキシブル半導体装置およびその製造方法ならびに画像表示装置 | |
US20110037059A1 (en) | Electro-optic apparatus, electronic device, and method for manufacturing electro-optic apparatus | |
JP2011248072A (ja) | 画像表示装置の製造方法 | |
JP2007512568A (ja) | プラスチック基板を有するアクティブマトリクスディスプレイ及び他の電子装置 | |
US11476420B2 (en) | Method of fabricating flexible OLED display panel and flexible OLED display panel | |
JP5407649B2 (ja) | 電気光学装置およびその製造方法、電子機器 | |
JP2010033734A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置 | |
CN108139823B (zh) | 薄膜触控传感器及其制造方法 | |
JP2005017567A (ja) | 液晶表示装置と液晶表示装置の製造方法およびエレクトロルミネッセンス表示装置とエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法 | |
US11249603B2 (en) | Method of forming touch control module, touch control module and touch control display device | |
KR101868867B1 (ko) | 플렉서블 표시장치의 제조 방법 | |
JP4759917B2 (ja) | 薄膜デバイスの製造方法、薄膜デバイスおよび液晶表示装置 | |
WO2015016113A1 (ja) | 電子デバイスの製造方法 | |
JP2010034217A (ja) | 有機薄膜トランジスタの製造方法 | |
TWI388895B (zh) | 平面顯示裝置及其製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130523 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140107 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140131 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140603 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140714 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150127 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150128 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5689258 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |