JP2000047023A

JP2000047023A - カラーフィルタの製造方法

Info

Publication number: JP2000047023A
Application number: JP22532098A
Authority: JP
Inventors: Ichiro Betsumiya; 一郎別宮; Tadahiro Furukawa; 忠宏古川
Original assignee: Kyodo Printing Co Ltd
Current assignee: Kyodo Printing Co Ltd
Priority date: 1998-07-24
Filing date: 1998-07-24
Publication date: 2000-02-18

Abstract

(57)【要約】【課題】基板材料としてプラスチックフィルムを用いる
カラーフィルタにおいて、プラスチックフィルムの弱点
をカバーしつつ、フォトリソグラフィ法による利点をも
有効に生かすことができる技術の提供。【解決手段】転写法によってカラーフィルタを製造する
に際し、プラスチックフィルムへの転写を行う。すなわ
ち、次のＡおよびＢの各工程を備える。Ａ．カラーフィルタ層３６をプラスチックフィルム２１
に比べて熱伸縮性の小さいガラス基板５０上に形成する
第１工程。Ｂ．前記第１工程の後、そのガラス基板５０上のカラー
フィルタ層３６を接着剤層３２を介してプラスチックフ
ィルム２１上に転写する第２工程。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、プラスチックフ
ィルム上にカラーフィルタ層を備えるカラーフィルタの
製造方法、特に、転写を利用したカラーフィルタの製造
技術に関する。

【０００２】

【発明の背景】カラー液晶表示装置に用いるカラーフィ
ルタは、一般に、透明なガラス基板の上に、たとえば原
色系の赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）や、補色系の黄
（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）などの複数の色
の色パターンを含むカラーフィルタ層を備える。カラー
フィルタのそうした基本的な構成は、透過タイプあるい
は反射タイプのいずれのタイプのカラーフィルタであ
れ、また、印刷法、フォトリソグラフィ法、電着法、転
写法などいずれの製法によるものであっても同様であ
る。

【０００３】カラーフィルタの基材あるいは基板として
のガラスは、表面平滑性、光透過性、表示に要するその
他の特性の面ですぐれている。しかし、ガラスは厚みを
薄くすると、割れやすいなどという難点も併せもつ。し
たがって、耐摩耗性や小型軽量化を重視する携帯用の機
器に対する表示に用いる場合には、ガラス基板を用いた
カラーフィルタの欠点が目立つようになる。

【０００４】

【発明の解決すべき課題】そうしたガラスに起因する欠
点を解消する方法として、発明者らは、カラーフィルタ
の基板材料としてプラスチックフィルムを用いることに
着目した。ところが、プラスチックフィルムはガラスに
比べて耐熱性や耐薬品性、さらには温度湿度による伸縮
の点で劣るという問題がある。そのため、プラスチック
フィルムを基板材料とするとき、カラーフィルタの製造
プロセスに以下のような制限が加わることになる。ま
ず、熱的性質から見ると、ガラスの線膨張係数が３〜１
０×１０-⁶／℃であるのに対し、たとえば、プラスチッ
クフィルムの中で比較的安定した物理特性を持つポリカ
ーボネートフィルムであっても６〜７×１０-⁵／℃とい
ったように、線膨張係数の差が約１０倍ある。また、製
造プロセスの熱処理時での寸法ヒステリシスが避けられ
ない。さらに、物理的性質から見ると、湿度の影響によ
り吸湿寸法変化があり、プラスチックフィルム上にＹ、
Ｍ、Ｃ等の各色パターンの位置合わせを行いながら高精
彩な色パターンを持った平滑なカラーフィルタをフォト
リソグラフィ法を適応して形成することは、熱的性質お
よび物理的性質の一部だけを比較しても困難であること
が容易に理解できよう。なお、この発明でいう熱伸縮性
とは、線膨張係数や吸湿に伴う寸法変化、熱処理時の寸
法ヒステリシスを指す。

【０００５】プラスチックフィルムがもつこれらの特性
上の弱点を考慮し、インクジェットや印刷法などのよう
に、プロセス上それほど高い加熱処理を要しない製造方
法を適用することも考えられる。しかし、そうした方法
では、カラーフィルタ層の表面の平滑性、色パターンの
寸法精度などの点で要求に応えるだけの充分なものを得
ることができない。そこで、この発明は、プラスチック
フィルムの弱点をカバーしつつ、フォトリソグラフィ法
による利点をも有効に生かすことができる技術を提供す
ることを第１の目的とする。また、この発明は、カラー
フィルタ層の色パターンだけでなく、透明電極のパター
ンをも高精度に得ることができる技術を提供することを
も目的とする。さらに、この発明は、カラーフィルタの
耐光性をより一層向上させることができる技術を提供す
ることを他の目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】この発明では、プラスチ
ックフィルム上にカラーフィルタ層を備えるカラーフィ
ルタを製造するに際し、転写法を利用する。転写法自体
は公知であるが、今までの転写法が専らガラス基板への
転写を行っていたのに対し（たとえば、特開昭６２−２
１２６２３号、特開平８−１２９１０２号、あるいは特
開平８−１６０２１８号など参照）、この発明では、フ
ィルムへの転写、特にプラスチックフィルムへの転写と
いう全く新しい考え方をとる。すなわち、この発明は、
次のＡおよびＢの各工程を備える。Ａ．カラーフィルタ層をプラスチックフィルムに比べて
熱伸縮性の小さい基板上に形成する第１工程。Ｂ．前記第１工程の後、その基板上のカラーフィルタ層
を接着剤層を介してプラスチックフィルム上に転写する
第２工程。複数の色の色パターンを含み、相互に位置合わせが必要
な処理を第１工程に集中させることによって、カラーフ
ィルタ層の製造工程において使用する薬品や加熱処理等
の制限を緩和し、しかもまた、プラスチックフィルムの
熱伸縮性に起因する悪影響（パターン精度および位置合
わせ精度を低下させるという問題）を回避することがで
きる。しかもまた、第２工程において、カラーフィルタ
層の複数の色パターンをプラスチックフィルム上に同時
に転写させるため、第１工程による高い精度をそのまま
プラスチックフィルム側に移すことができる。

【０００７】

【実施の形態】以下、添付の図面に示す実施の形態を参
照しながら、この発明の内容をさらに具体的に説明す
る。図１は、この発明によるカラーフィルタを含む単純
マトリックス方式のカラー液晶表示装置の断面構造図で
あり、図２は、その表示装置におけるカラーフィルタの
透明電極のパターンを示し、ａが全体図、ｂがａの一部
を拡大して示す部分拡大図である。カラー液晶表示装置
１０は反射タイプであり、液晶１２を挟む２枚の基板２
１，２２はそれぞれ偏光板２１Ｐ，２２Ｐを含むほか、
その一方に反射層１４を含んでいる。また、カラーフィ
ルタ３０は、他方の基板２１側にあり、プラスチックフ
ィルムからなる基板２１のほか、基板の上を被う接着剤
層３２、接着剤層３２と剥離層兼保護層３４との層間に
位置するカラーフィルタ層３６、および保護層３４の他
面に位置する透明電極パターン（いわゆるＩＴＯ膜）４
０を備える。カラーフィルタ層３６は、黄、マゼンタ、
シアンの三色の色パターン３６Ｙ，３６Ｍ，３６Ｃから
なる。そして、それらの色パターン３６Ｙ，３６Ｍ，３
６Ｃ上、カラー液晶表示装置１０の光入射側に臨む表面
に無色のマスク層４２がある。マスク層４２は、透明電
極パターン４０を形成するためのマスクとなるものであ
り、その形状は透明電極パターン４０と同一であり、有
効なマスク作用を得るために、添加剤として紫外線吸収
剤を含んでいる。なお、液晶１２に臨む側には、それぞ
れ配向膜４２１，４２２があり、また、一方の基板２１
には、対向電極となる別のＩＴＯ膜４００がある。

【０００８】ここで、プラスチックフィルムからなる基
板２１は、ＩＴＯ膜の成膜温度に耐えるだけの耐熱性を
もち、また、転写に伴う剥離工程のためにある程度の軟
らかさが必要である。この基板２１の材料としては、ポ
リエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート
等のポリエステル、ポリカーボネート、塩化ビニール、
ナイロン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ア
クリル、ポリイミドを適用することができ、必要とされ
る適正の点から、それらの中でもポリカーボネートおよ
びポリエチレンナフタレートがより好適である。また、
基板２１の厚さは、視差や透過率を考えると薄い方が良
いが、強度（耐応力）や取扱いやすさを考えるとある程
度の厚さが必要であり、０．０１ｍｍ〜２ｍｍの範囲が
適当である。

【０００９】カラーフィルタ層３６の色パターン３６
Ｙ，３６Ｍ，３６Ｃの配列には、ストライプ、モザイク
あるいはデルタなど各種のものがあるが、この発明の適
用対象としては、ストライプ配列が好適である。ストラ
イプ配列とすれば、マスク層４２をストライプ配列され
た各色パターン上に平行に形成〔図２（ｂ）〕すると、
対向する基板２２に形成されたストライプ配列の透明電
極パターン１４（図１参照）とを直交するように位置さ
せるだけで自己整合的に表示ドットを形成することがで
きる。それにより、伸縮のあるプラスチックフィルムを
用いた場合でも正確な位置合わせが保証される。図２に
示すように、ストライプ配列のカラーフィルタ層３６
は、プラスチックフィルム２１上、部分的な領域を占め
るのに対し、透明電極のパターン４０は、カラーフィル
タ層３６の上だけでなく、端子部分の引出しのために一
部がプラスチックフィルム２１の周縁まで延びている。

【００１０】

【被転写体の製造】次に、プラスチックフィルムの基板
２１上にカラーフィルタ層３６を転写するために用いる
被転写体の製造について、図３を参照しながら説明す
る。まず、図３のａに示すように、洗浄したガラス基板
５０を用意する。ガラス基板５０の厚さは０．７〜１．
１ｍｍ程度であり、全体として剛性をもっている。この
ガラス基板５０は、その表面に転写すべきカラーフィル
タ層３６を支持する基板であるため、良好な表面平滑
性、たとえば暗室下５０００Ｌｕｘの明るさの反射光で
目視により観察した時にキズや突起等が見えない程度の
表面平滑性（基板表面の外観規格）をもっていることが
望ましい。

【００１２】そうしたガラス基板５０の上に、図のｂに
示すように、保護層を兼ねた剥離層３４を形成する。剥
離層３４の特性としては、色パターンなどの形成時の環
境に耐える素材であり、安定してガラス基板５０に密着
し、しかも、転写時には、適度の剥離性と形状保持性を
示し、さらに、透明電極の成膜に耐え、かつ、液晶に溶
けださないことが要求される。また、透明性にすぐれて
いることも大事である。好適な素材はポリイミドであ
り、スピンコートやロールコートなどのを利用して塗布
形成することができる。その厚さは、たとえば０．７〜
５．０μｍであり、どちらかというと、厚いほど好まし
い。なぜなら、接着剤層３２の硬化時の収縮を吸収し、
収縮による段差の発生を防止し、さらに、転写時の剥離
に伴う応力に耐える上で有利になるからである。また、
この剥離層を二層（図示しない。）とすることによっ
て、各層に必要な機能を分担させることで使用できる材
料の範囲や処理条件を緩和することができる。ガラス基
板５０に接する層（第一層）は、ガラス面との疑似接着
性および剥離性に優れた機能を持つ材料で形成し、第一
層の上に形成する層（第二層）は、各製造プロセスの溶
剤や熱処理等に耐えると同時に寸法安定性や機械的強度
に優れた機能を持つ材料で形成する。

【００１３】ついで、図のｃに示すように、剥離層３４
の上に色パターン３６Ｙ，３６Ｍ，３６Ｃをフォトリソ
グラフィ法によって順次パターニングし、カラーフィル
タ層３６を形成する。色パターン３６Ｙ，３６Ｍ，３６
Ｃの材料として、染料あるいは顔料などの着色剤をポリ
イミド樹脂溶液に溶解あるいは分散させた公知の塗布材
料を用いることができる（たとえば、特開平１０−１７
０７１６号）。なお、各色パターンはストライプ形状で
あり、その幅は５０〜２００μｍであり、隣り合う色パ
ターンの間の距離は５〜２０μｍである。

【００１４】同様のフォトリソグラフィ法によって、図
のｄに示すように、各色パターン３６Ｙ，３６Ｍ，３６
Ｃ上にマスク層４２を形成する。マスク層４２はたとえ
ばポリイミドからなり、添加剤として、ベンゾフェノン
系あるいはベンゾトリアゾール系などの紫外線吸収剤を
含む。このマスク層４２は、転写後において、裏露光に
よって透明電極パターン４０を形成するためのマスクと
して機能することになる。また、このマスク層４２は、
カラー液晶表示装置の光入射側に位置することから紫外
線を有効に吸収するため、色パターンの褪色を防止する
機能も兼ね備えている。

【００１５】さらに、図のｅに示すように、マスク層４
２およびカラーフィルタ層３６の上を全体的に覆うよう
に、接着剤層３２を形成する。接着剤層３２には、接着
性、透明性のほか、経時変化に対する安定性が必要であ
り、それに適した素材としては、エポキシ系、アクリル
系の接着剤があり、その中でも、耐熱性および耐光性に
すぐれ、透過率が高く、硬化時の収縮が小さいものが好
ましい。厚さは５〜２０μｍ程度であり、充分な接着強
度を得ることができ、透過率を失わない薄さをもつ値で
ある。なお、図のｅに示す被転写体は、半製品としてス
トックすることもできる。

【００１６】以下、図４に示すように、被転写体の接着
剤層３２の側に転写基板であるプラスチックフィルム２
１を配置し、カラーフィルタ層３６などをガラス基板５
０側からプラスチックフィルム２１側に転写する。この
転写処理に際しては、できるだけ常温に近い温度の下で
加圧することによって行う。転写後、ＩＴＯ膜を成膜
し、図５に示すように、マスク層４２をマスクに利用
し、裏露光によって、保護層３４の上に透明電極パター
ン４０をパターニングする。図６は、透明電極パターン
４０をパターニングする工程図を示し、ａでＩＴＯの蒸
着、ｂでポジ型のレジスト塗布、ｃでマスク層４２をマ
スクとして露光、ｄで現像、ｅでエッチング、ｆでレジ
スト剥離および洗浄と進む。

【００１７】

【実施例１】カラーフィルタ層３６を形成するプロセス
を図３に基づき、さらに具体的に説明する。まず、図３
（ａ）において、表面が平坦で熱膨張係数の小さいコー
ニング７０５９またはシリカコート付きソーダライムガ
ラス等のガラス基板５０を用意する。このとき、ガラス
基板５０は、表面を研磨したものがよく、必要に応じて
ガラス基板５０を硫酸洗浄、純水で水洗、温風乾燥し、
洗浄する。次に、図３（ｂ）において、ガラス基板５０
に、樹脂固形分１０％のポリイミド前駆体溶液を用い、
これをガラス基板５０上に直接スピンコートし、２２０
℃で１時間ベーク処理し、保護層を兼ねる剥離層３４を
得た。この時の剥離層３４の膜厚は０．８μｍであっ
た。次に、図３（ｃ）において、剥離層３４を形成した
ガラス基板上に、ＹＭＣ等の色パターン３６Ｙ、３６Ｍ
および３６Ｃを作成する。

【００１８】ここでは、反射型ディスプレイに用いるＹ
ＭＣタイプのカラーフィルタの作成例を示す。１色目は
イエローの色パターン３６Ｙであり、着色材料として、
含金属アゾ系染料（ソルベントイエロー６３）を用い
た。ポリイミド樹脂１に対し染料を重量比で０．４〜
０．６加え、シランカップリング剤、表面改質剤、およ
び耐光性向上のための金属錯体を添加剤として加えた着
色液を用意した。この着色液を使用し、７００ｒｐｍで
４秒間スピンコートした後、１５０℃で５分間ベークを
行う。この上に、レジスト（ＰＭＥＲ−４０１５：東京
応化工業（株）製ポジ型感光性樹脂）を乾燥膜厚が１．
６μｍとなるように塗布および加熱処理し、ストライプ
パターンが形成されたマスクを介して露光を行い、０．
５％の水酸化ナトリウム水溶液にて現像・エッチングし
た。エッチング後、セロソルブアセテートにディッピン
グしレジストを剥離し、２２０℃で９０分間のベーク処
理を行い、ストライプ状の色パターン３６Ｙを得た。そ
の膜厚は０．３μｍ、色パターン３６Ｙの線幅は１００
±２μｍであった。

【００１９】２色目はマゼンタの色パターン３６Ｍであ
り、着色材料として、キサンテン系染料（アシッドレ
ッド８７）を用いた。ポリイミド樹脂１に対し染料を重
量比で０．１〜０．３加え、シランカップリング剤、表
面改質剤および耐光性向上のための金属錯体を添加剤と
して加えた着色液を用意した。その着色液を使用し、前
と同様の工程でストライプ状の色パターン３６Ｍを得
た。その膜厚は０．３μｍ、色パターン３６Ｍの線幅は
１００±２μｍであった。

【００２０】３色目はシアンの色パターン３６Ｃであ
り、着色材料として、トリフェニルメタン系染料（アシ
ッドブルー９）を用いた。ポリイミド樹脂１に対し、
染料を重量比で０．１〜０．２加え、他に、シランカッ
プリング剤、表面改質剤および耐光性向上のための金属
錯体を添加剤として加えた着色液を用意した。その着色
液を使用し、前と同様の工程でストライプ状の色パター
ン３６Ｃを得た。その膜厚は０．３μｍ、色パターン３
６Ｃの線幅は１００±２μｍであった。ＹＭＣ各色パタ
ーンを形成した時点で、構成する各色パターンの間隔
は、１０±２μｍであった。

【００２１】次に、図３（ｄ）において、マスク層４２
として、［２、２’、４、４’−テトラヒドキシベンゾ
フェノン］６ｇ、樹脂固形分９．４ｇに溶剤を含むポリ
イミド前駆体溶液１００ｇ、シランカップリング剤、表
面改質剤を添加剤として加えた溶液を用意した。その溶
液をＹＭＣ各色パターンを形成した上に塗布・乾燥し
た。この上に、レジスト（ＰＭＥＲ−４０１５：東京応
化工業（株）製ポジ型感光性樹脂）を塗布および加熱処
理し、透明電極パターンと同一形状のマスクを介して露
光を行い、０．５％の水酸化ナトリウム水溶液にて現像
・エッチングした。エッチング後、セロソルブアセテー
トにディッピングしレジストを剥離し、２２０℃で９０
分間のベーク処理を行い、マスク層４２を得た。その膜
厚は１．０μｍ、パターンの線幅は１００±２μｍ、各
パターンの間隔は１０±２μｍであった。

【００２２】次に、図３（ｅ）において、光硬化型樹脂
（ラジカル重合型アクリル樹脂など）を用い、ロールコ
ータ等により膜厚８μｍの接着剤層３２を形成した。接
着剤層３２として、光硬化型樹脂の他に常温硬化型２液
混合硬化型や１液硬化型、加熱硬化型の樹脂を用いるこ
ともできる。なお、接着剤層に溶剤分が含まれる場合
は、接着剤層の形成後に８０℃で１分間程度の加熱処理
等により溶剤分の除去作業を行う必要がある。

【００２３】この後、図４に示すように接着剤層３２を
形成したガラス基板５０に、厚さ２００μｍのポリカー
ボネートフィルムの基板２１を貼合し、基板２１側から
超高圧水銀灯により波長３６５ｎｍで３０００ｍＪ／ｃ
ｍ²のＵＶ照射を行い、接着剤層３２である光硬化型樹
脂を硬化し基板２１をガラス基板５０に貼合した。貼合
の後、貼合したガラス基板５０と基板２１を剥離層３４
とガラス基板５０の界面から剥離し、基板２１上にカラ
ーフィルタ層３６を転写法により形成した。

【００２４】ここで、カラーフィルタ層３６上に透明電
極パターン４０を形成するプロセスについて、図６に基
づき以下に説明する。まず、図６（ａ）において、基板
２１のカラーフィルタ層３６上にスパッタ法によりＩＴ
Ｏ膜を形成する。その膜厚は、１５００オングストロー
ムであった。次に、図６（ｂ）および（ｃ）において、
レジスト（ＰＭＥＲ−４０１５：東京応化工業（株）製
ポジ型感光性樹脂）を乾燥膜厚が１．６μｍとなるよう
に塗布、加熱処理し、マスク層４２をマスクとして基材
２１側から超高圧水銀灯により波長３６５ｎｍで３０ｍ
Ｊ／ｃｍ²のＵＶ照射を行い、レジストを露光した。露
光後、図６（ｄ）において、レジストの露光部分（黒化
部分）を０．５％の水酸化ナトリウム水溶液で現像し
た。次に、図６（ｅ）において、４８％の臭化水素酸を
用い４０℃、５分間ＩＴＯ膜をエッチングした。さら
に、図６（ｆ）において、セロソルブアセテートにディ
ッピングしレジストを剥離し、透明電極パターン４０を
形成した。

【００２５】

【実施例２】剥離層を２層構成にする場合について説明
する（図示しない。）。前述のガラス基板に、樹脂固形
分１０％のポリイミド前駆体溶液を用い、これをガラス
基板上に直接スピンコートし、２２０℃で１時間ベーク
処理し、疑似接着層を得た。この時の疑似接着層の膜厚
は０．１μｍであった。次に、固形分２２％のメラミン
架橋型アルキッド樹脂溶液を用い、これを疑似接着層上
にスピンコート、１２０℃で１時間半ベーク処理し、光
学的に透明なカラーフィルタ層を担持する担持層を得
た。この時の担持層の膜厚は２．０μｍであった。以
下、ＹＭＣ等の色パターン以後の工程は、前述と同じ工
程なので省略する。

【００２６】

【実施例３】実施例２と同様の剥離層を構成し、前述と
同じ工程でＹＭＣ等の色パターン形成後、接着剤層を形
成したガラス基板に、厚さ２００μｍのポリカーボネー
トフィルムの基板を貼合し、基板側からＵＶ照射を行
い、接着剤層である光硬化型樹脂を硬化し基板をガラス
基板に貼合した。貼合の後、貼合したガラス基板と基板
を剥離層とガラス基板の界面から剥離し、基板上にカラ
ーフィルタ層を転写法により形成した。次に、ポリイミ
ド樹脂からなる剥離層をエチレンジアミン：ヒドラジン
＝１：１混合溶液に１分間浸し剥離（溶解）する。さら
に、前述と同じ工程でカラーフィルタ層上にＩＴＯを成
膜する。剥離層を２層構成にする理由は、以下のとおり
である。すなわち、疑似接着層であるポリイミド樹脂は
剥離性が良い反面、薄くではあるが黄色みを帯びている
ため、分光特性に影響を与える場合があり、また、厚み
が薄いと必要とする機械的強度が得られない。そのた
め、光学的に透明性に優れ寸法安定性や機械的強度に優
れた機能を持つメラミン架橋型アルキッド樹脂からなる
担持層との二層構成により剥離層を構成するのである。
また、疑似接着層であるポリイミド樹脂を剥離（溶解）
するのは、後工程で成膜するＩＴＯ膜との密着性がポリ
イミド樹脂よりメラミン架橋型アルキッド樹脂の方が優
れているからである。したがって、ガラス基板に接する
疑似接着層（第一層）は、ガラス面との疑似接着性およ
び剥離性に優れた機能を持つ材料で形成し、疑似接着層
の上に形成する担持層（第二層）は、各製造プロセスの
溶剤や熱処理等に耐えると同時に寸法安定性や機械的強
度に優れた機能を持つ材料で形成し、剥離層を二層とす
ることで、各層に必要な機能を分担させることができ、
使用できる材料の範囲や処理条件を緩和することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明によるカラーフィルタを含むカラー液
晶表示装置の断面構造を示す図である。

【図２】図１の表示装置におけるカラフィルタの透明電
極のパターンを示し、ａが全体図、ｂがａの一部を拡大
して示す部分拡大図である。

【図３】被転写体の製造プロセスを示す工程図である。

【図４】転写の状態を示す断面図である。

【図５】透明電極パターンを含む状態を示すカラーフィ
ルタの断面図である。

【図６】透明電極パターンをパターニングするための工
程図を示す。

【符号の説明】

１０カラー液晶表示装置２１，２２基板（プラスチックフィルム）３０カラーフィルタ層３２接着剤層３４保護層３６カラーフィルタ層４０透明電極パターン４２マスク層５０ガラス基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H048 BA43 BA45 BA47 BB02 BB14 BB34 BB44 2H091 FA02Y FB02 FB12 FB13 FC10 FC29 FD04 FD14 GA01 GA03 GA17 LA03 LA12

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】プラスチックフィルム上にカラーフィル
タ層を備えるカラーフィルタを製造する方法であって、
次の各工程を備えることを特徴とするカラーフィルタの
製造方法。Ａ．前記カラーフィルタ層を前記プラスチックフィルム
に比べて熱伸縮性の小さい基板上に形成する第１工程。Ｂ．前記第１工程の後、その基板上のカラーフィルタ層
を接着剤層を介して前記プラスチックフィルム上に転写
する第２工程。
【請求項２】前記第１工程において、前記カラーフィ
ルタ層をフォトリソグラフィ技術を利用して形成する、
請求項１のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】前記プラスチックフィルムはフレキシブ
ルであり、ポリエステル、ポリカーボネート、塩化ビニ
ール、ナイロン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレー
ト、アクリル、ポリイミドの中のいずれか一つの材料か
らなる、請求項１のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】前記カラーフィルタ層は、ストライプ形
状の互いに異なる複数の色パターンを含む、請求項１の
カラーフィルタの製造方法。
【請求項５】前記色パターンは、ポリイミド樹脂と、
その樹脂を着色する着色材料とからなる、請求項４のカ
ラーフィルタの製造方法。
【請求項６】前記熱伸縮性の小さい基板が、ガラスか
らなる、請求項１のカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】前記第１工程で形成した転写前の層構成
が、前記熱伸縮性の小さい基板−その基板の上を被う層
であり、転写をしやすくするための剥離層−その剥離層
の上に位置する前記カラーフィルタ層−そのカラーフィ
ルタ層の上を走る無色のパターンであり、必要とする透
明電極パターンと同一の形状のマスク層−最も上に位置
する層であり、前記プラスチックフィルムに接着するた
めの接着剤層からなる、請求項１のカラーフィルタの製
造方法。
【請求項８】前記マスク層は、添加剤として紫外線吸
収剤を含む、請求項７のカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】前記カラーフィルタ層を前記プラチック
フィルム上に転写した後、前記剥離層上に透明電極パタ
ーンとなるＩＴＯ膜およびレジストを成膜し、前記マス
ク層をマスクに利用し、前記カラーフィルタ層側から露
光することにより、前記剥離層の上に透明電極パターン
を形成する、請求項７あるいは８のカラーフィルタの製
造方法。