JPH0929885A - 透明導電性フィルム - Google Patents
透明導電性フィルムInfo
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- JPH0929885A JPH0929885A JP7183034A JP18303495A JPH0929885A JP H0929885 A JPH0929885 A JP H0929885A JP 7183034 A JP7183034 A JP 7183034A JP 18303495 A JP18303495 A JP 18303495A JP H0929885 A JPH0929885 A JP H0929885A
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- plastic film
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 プラスチックフィルム液晶表示素子に用いら
れる透明導電性フィルムに、ガスバリアー性の温度や湿
度依存性が実質的に無い無機質膜をプラスチックフィル
ムの可撓性を損なわず、実用上十分な密着力をもって付
与することで、長期信頼性の高いプラスチックフィルム
液晶表示素子を得ることを可能にする。 【解決手段】 透明なプラスチックフィルム基体（Ａ）
の一方の面に、−ＯＲ1（Ｒ1は常圧における沸点が１２
０℃以下となる化合物残基）で表される官能基を有する
物質を含む有機樹脂層（Ｂ）を形成し、その上にＳｉ
(ＯＲ2)4 （Ｒ2は炭素数４以下のアルキル基）で表され
るシラノールの縮重合物を塗布し、１２０℃以上でガラ
ス転移温度以下の条件で加熱して得られる酸化珪素層
（Ｃ）を形成した積層体の一方の面に、透明導電性を有
する薄膜（Ｄ）を積層した透明導電性フィルム。
れる透明導電性フィルムに、ガスバリアー性の温度や湿
度依存性が実質的に無い無機質膜をプラスチックフィル
ムの可撓性を損なわず、実用上十分な密着力をもって付
与することで、長期信頼性の高いプラスチックフィルム
液晶表示素子を得ることを可能にする。 【解決手段】 透明なプラスチックフィルム基体（Ａ）
の一方の面に、−ＯＲ1（Ｒ1は常圧における沸点が１２
０℃以下となる化合物残基）で表される官能基を有する
物質を含む有機樹脂層（Ｂ）を形成し、その上にＳｉ
(ＯＲ2)4 （Ｒ2は炭素数４以下のアルキル基）で表され
るシラノールの縮重合物を塗布し、１２０℃以上でガラ
ス転移温度以下の条件で加熱して得られる酸化珪素層
（Ｃ）を形成した積層体の一方の面に、透明導電性を有
する薄膜（Ｄ）を積層した透明導電性フィルム。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はフィルム液晶表示素
子に用いられる透明導電性フィルムに関わる。
子に用いられる透明導電性フィルムに関わる。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ポリエーテルスルホンフィル
ムなどの表面に、インジウムと錫の酸化物薄膜などを、
スパッタリングなどの方法により積層した透明導電性フ
ィルムが、フィルム液晶表示素子の透明電 極基板用材
料として使用されている。フィルム液晶表示素子は液晶
をプラスチックフィルム基板で密封して構成されるが、
基板の伸び縮みや曲げによって内容積が変化すると液晶
中にとけ込んでいた気体が泡になって表示機能を阻害す
るために、液晶に気体を溶け込まさない工夫が種々行わ
れてきた。プラスチックフィルム基板にガスバリアー性
を付与することも有効な手段として採用されている。ガ
スバリアー性付与は、ガスバリアー性の物質をプラスチ
ックフィルムに塗布や蒸着等の手段で形成する方法がと
られる。従来の技術では、ガスバリアー性の物質がポリ
ビニルアルコールやポリ塩化ビニリデン等の樹脂の場合
は、生産性が良く設備や技術の完成度の高い塗布方式が
採られるが、樹脂のガスバリアー性は温度・湿度により
影響を受けるため完全とは言えないとの指摘がある。
ムなどの表面に、インジウムと錫の酸化物薄膜などを、
スパッタリングなどの方法により積層した透明導電性フ
ィルムが、フィルム液晶表示素子の透明電 極基板用材
料として使用されている。フィルム液晶表示素子は液晶
をプラスチックフィルム基板で密封して構成されるが、
基板の伸び縮みや曲げによって内容積が変化すると液晶
中にとけ込んでいた気体が泡になって表示機能を阻害す
るために、液晶に気体を溶け込まさない工夫が種々行わ
れてきた。プラスチックフィルム基板にガスバリアー性
を付与することも有効な手段として採用されている。ガ
スバリアー性付与は、ガスバリアー性の物質をプラスチ
ックフィルムに塗布や蒸着等の手段で形成する方法がと
られる。従来の技術では、ガスバリアー性の物質がポリ
ビニルアルコールやポリ塩化ビニリデン等の樹脂の場合
は、生産性が良く設備や技術の完成度の高い塗布方式が
採られるが、樹脂のガスバリアー性は温度・湿度により
影響を受けるため完全とは言えないとの指摘がある。
【０００３】一方金属酸化物やガラスをガスバリアー性
物質として、蒸着等の技術により極めて薄くプラスチッ
クフィルムに積層することも検討されているが、生産性
や設備・技術の完成度においてまだ実用レベルに達して
いない。そこで、手段として優れている塗布方式によ
り、ガスバリアー性物質として優れている金属酸化物や
ガラスをプラスチックフィルム基板に形成することが望
まれている。金属アルコキシドの加水分解物を基材に塗
布して加熱することで、相当する金属酸化物層を形成す
ることはすでによく知られているが、プラスチックフィ
ルムに、可撓性を保持して密着力のある金属酸化物層を
形成することは容易では無い。特にガスバリアー性が求
められる場合は、加水分解物に有機基が極力残らないこ
とが求められ、可撓性や密着力を得るための手法と相反
すると考えられてきた。
物質として、蒸着等の技術により極めて薄くプラスチッ
クフィルムに積層することも検討されているが、生産性
や設備・技術の完成度においてまだ実用レベルに達して
いない。そこで、手段として優れている塗布方式によ
り、ガスバリアー性物質として優れている金属酸化物や
ガラスをプラスチックフィルム基板に形成することが望
まれている。金属アルコキシドの加水分解物を基材に塗
布して加熱することで、相当する金属酸化物層を形成す
ることはすでによく知られているが、プラスチックフィ
ルムに、可撓性を保持して密着力のある金属酸化物層を
形成することは容易では無い。特にガスバリアー性が求
められる場合は、加水分解物に有機基が極力残らないこ
とが求められ、可撓性や密着力を得るための手法と相反
すると考えられてきた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、プラ
スチックフィルム液晶表示素子に用いられる透明導電性
フィルムに、ガスバリアー性の温度や湿度依存性が実質
的に無い無機質膜を、プラスチックフィルムの可撓性を
損なわず、実用上十分な密着力をもって付与することで
ある。
スチックフィルム液晶表示素子に用いられる透明導電性
フィルムに、ガスバリアー性の温度や湿度依存性が実質
的に無い無機質膜を、プラスチックフィルムの可撓性を
損なわず、実用上十分な密着力をもって付与することで
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは従来から、
フィルム液晶表示素子用透明導電フィルムに求められる
特性として、ガラス転移温度が１２０℃以上で、実質的
に非晶性であり、フィルム厚みでのリターデーション値
が１５ｎｍ以下である透明なプラスチックフィルムが基
体として構成されていることが重要であるとの発明を発
展させてきた。（特開昭５９ー１５８０１５号公報、特
開昭６０ー２２９００９号公報、特開平７ー６８６９０
号、特開平７ー６８６９１号公報等）また、透明導電膜
とプラスチックフィルムの密着力を向上させる為に、ア
ンダーコート層を設け、そのアンダーコート層には、シ
ランカップリング剤を含ませることが極めて効果的であ
ることを見いだしている。（特開昭６０ー２０３４３４
号公報、特開平６ー１１６４２５号公報、特開平７ー４
０４９８号公報等）今回、上記課題を達成するために、
アルコキシシラン化合物の加水分解物を塗布乾燥して無
機薄膜を形成する技術を検討したところ、本発明者らが
従来進めてきた構成との組み合わせにおいて、驚くべき
相乗効果が得られ本発明に至った。
フィルム液晶表示素子用透明導電フィルムに求められる
特性として、ガラス転移温度が１２０℃以上で、実質的
に非晶性であり、フィルム厚みでのリターデーション値
が１５ｎｍ以下である透明なプラスチックフィルムが基
体として構成されていることが重要であるとの発明を発
展させてきた。（特開昭５９ー１５８０１５号公報、特
開昭６０ー２２９００９号公報、特開平７ー６８６９０
号、特開平７ー６８６９１号公報等）また、透明導電膜
とプラスチックフィルムの密着力を向上させる為に、ア
ンダーコート層を設け、そのアンダーコート層には、シ
ランカップリング剤を含ませることが極めて効果的であ
ることを見いだしている。（特開昭６０ー２０３４３４
号公報、特開平６ー１１６４２５号公報、特開平７ー４
０４９８号公報等）今回、上記課題を達成するために、
アルコキシシラン化合物の加水分解物を塗布乾燥して無
機薄膜を形成する技術を検討したところ、本発明者らが
従来進めてきた構成との組み合わせにおいて、驚くべき
相乗効果が得られ本発明に至った。
【０００６】すなわち、ガラス転移温度が１２０℃以上
で、実質的に非晶性であり、フィルム厚みでのリターデ
ーション値が１５ｎｍ以下である透明なプラスチックフ
ィルム基体（Ａ）の少なくとも一方の面に、−ＯＲ
1（Ｒ1はＨもしくはＨ−ＯＲ1で表される化合物の常圧
における沸点が１２０℃以下となる化合物残基）で表さ
れる官能基を有する物質を含む有機樹脂層（Ｂ）を形成
し、そのＢ層上にＳｉ(ＯＲ2)4 （Ｒ2 は炭素数４以下
のアルキル基）で表されるテトラアルコキシシランを加
水分解して得られたシラノールの縮重合物を塗布し、１
２０℃以上でプラスチックフィルム基体のガラス転移温
度以下の条件で加熱して得られる酸化珪素層（Ｃ）を形
成した積層体の少なくとも一方の面に、透明導電性を有
する薄膜（Ｄ）を積層することで本課題を解決すること
ができた。
で、実質的に非晶性であり、フィルム厚みでのリターデ
ーション値が１５ｎｍ以下である透明なプラスチックフ
ィルム基体（Ａ）の少なくとも一方の面に、−ＯＲ
1（Ｒ1はＨもしくはＨ−ＯＲ1で表される化合物の常圧
における沸点が１２０℃以下となる化合物残基）で表さ
れる官能基を有する物質を含む有機樹脂層（Ｂ）を形成
し、そのＢ層上にＳｉ(ＯＲ2)4 （Ｒ2 は炭素数４以下
のアルキル基）で表されるテトラアルコキシシランを加
水分解して得られたシラノールの縮重合物を塗布し、１
２０℃以上でプラスチックフィルム基体のガラス転移温
度以下の条件で加熱して得られる酸化珪素層（Ｃ）を形
成した積層体の少なくとも一方の面に、透明導電性を有
する薄膜（Ｄ）を積層することで本課題を解決すること
ができた。
【０００７】ガラス転移温度が１２０℃以上の、実質的
に非晶性であるプラスチック樹脂としては、ポリカーボ
ネート、ポリアリレート、ポリサルホン、ポリエーテル
サルホン、環状ポリオレフィン等があげられる。 この
中で上記有機樹脂層（Ｂ）との密着性において、ポリカ
ーボネート、ポリアリレート、ポリサルホン、ポリエー
テルサルホンが好ましく、ガラス転移温度が高いほど酸
化珪素層（Ｃ）を形成するのに高温で加熱できて有利で
あり、ポリエーテルサルホンが最も好ましい。これらの
樹脂のフィルムを得るには溶融押出成膜法や溶剤キャス
ト法等が可能であるが、溶剤キャスト法は異物を濾過し
たり、リターデーションを小さくするには有利だが、生
産性が低く、溶剤が残留する問題があり、特に肉厚のも
ので残留溶剤の問題が大きく、溶融押出成膜が好まし
い。溶融押出成膜法はリターデーションを小さくするこ
とが難しいと言われているが、成膜条件を精密に管理す
ることで可能である。なお、リターデーションとは、高
分子のように分極率が方向性を持つ物質中を進む光が直
交する二方向の偏波に分かれて進む場合にフィルムを通
り抜ける間に二偏波の伝達距離がずれる度合いを表して
おり、偏光を解消する作用がある。液晶表示素子の多く
は偏光を利用しており、素材としてはリターデーション
は全くないことが望ましいが、実用的には１５ｎｍ以下
であれば表示品位の低下は感知されない。
に非晶性であるプラスチック樹脂としては、ポリカーボ
ネート、ポリアリレート、ポリサルホン、ポリエーテル
サルホン、環状ポリオレフィン等があげられる。 この
中で上記有機樹脂層（Ｂ）との密着性において、ポリカ
ーボネート、ポリアリレート、ポリサルホン、ポリエー
テルサルホンが好ましく、ガラス転移温度が高いほど酸
化珪素層（Ｃ）を形成するのに高温で加熱できて有利で
あり、ポリエーテルサルホンが最も好ましい。これらの
樹脂のフィルムを得るには溶融押出成膜法や溶剤キャス
ト法等が可能であるが、溶剤キャスト法は異物を濾過し
たり、リターデーションを小さくするには有利だが、生
産性が低く、溶剤が残留する問題があり、特に肉厚のも
ので残留溶剤の問題が大きく、溶融押出成膜が好まし
い。溶融押出成膜法はリターデーションを小さくするこ
とが難しいと言われているが、成膜条件を精密に管理す
ることで可能である。なお、リターデーションとは、高
分子のように分極率が方向性を持つ物質中を進む光が直
交する二方向の偏波に分かれて進む場合にフィルムを通
り抜ける間に二偏波の伝達距離がずれる度合いを表して
おり、偏光を解消する作用がある。液晶表示素子の多く
は偏光を利用しており、素材としてはリターデーション
は全くないことが望ましいが、実用的には１５ｎｍ以下
であれば表示品位の低下は感知されない。
【０００８】次に、プラスチックフィルム基体（Ａ）の
少なくとも一方の面に、−ＯＲ1（Ｒ1はＨもしくはＨ−
ＯＲ1で表される化合物の常圧における沸点が１２０℃
以下となる化合物残基）で表される官能基を有する物質
を含む有機樹脂層（Ｂ）を形成する。−ＯＨである物質
としては、コロイダルシリカ等の表面に水酸基を持つ無
機微粒子やセルロース、ポリビニルアルコール等の有機
物質があげられる。Ｈ−ＯＲ1 で表される化合物の常圧
における沸点が１２０℃以下となる化合物残基を有する
物質としては、−ＯＣＨ3 、−ＯＣ2Ｈ5等のアルコール
残基、−ＯＮＯ2 、−ＯＣＯＣＨ3 等があげられる。常
圧で沸点が１２０℃以下であることは、酸化珪素層
（Ｃ）を形成するために１２０℃以上に加熱する工程に
おいて反応脱離物質が残留しない為に重要となる。特
に、入手が容易であり、有機樹脂やそれを塗布液とする
ための溶剤への溶解性にすぐれるシランカップリング剤
を用いることが好ましい。シランカップリング剤として
は、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、β−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリ
メトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシ
シラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランなど
があげられる。
少なくとも一方の面に、−ＯＲ1（Ｒ1はＨもしくはＨ−
ＯＲ1で表される化合物の常圧における沸点が１２０℃
以下となる化合物残基）で表される官能基を有する物質
を含む有機樹脂層（Ｂ）を形成する。−ＯＨである物質
としては、コロイダルシリカ等の表面に水酸基を持つ無
機微粒子やセルロース、ポリビニルアルコール等の有機
物質があげられる。Ｈ−ＯＲ1 で表される化合物の常圧
における沸点が１２０℃以下となる化合物残基を有する
物質としては、−ＯＣＨ3 、−ＯＣ2Ｈ5等のアルコール
残基、−ＯＮＯ2 、−ＯＣＯＣＨ3 等があげられる。常
圧で沸点が１２０℃以下であることは、酸化珪素層
（Ｃ）を形成するために１２０℃以上に加熱する工程に
おいて反応脱離物質が残留しない為に重要となる。特
に、入手が容易であり、有機樹脂やそれを塗布液とする
ための溶剤への溶解性にすぐれるシランカップリング剤
を用いることが好ましい。シランカップリング剤として
は、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、β−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリ
メトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシ
シラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランなど
があげられる。
【０００９】次に、有機樹脂層（Ｂ）の上にＳｉ(Ｏ
Ｒ2)4 （Ｒ2 は炭素数４以下のアルキル基）で表される
テトラアルコキシシランを加水分解して得られたシラノ
ールの縮重合物を塗布し、１２０℃以上でプラスチック
フィルム基体のガラス転移温度以下の条件で加熱して得
られる酸化珪素層（Ｃ）を形成する。有機樹脂層（Ｂ）
を両面に形成した場合は、酸化珪素層（Ｃ）の形成はそ
の一方の面のみであっても、両面に行っても良い。Ｓｉ
(ＯＲ2)4 （Ｒ2は炭素数４以下のアルキル基）で表され
るテトラアルコキシシランの加水分解方法は、すでに良
く知られており例えば作花済夫著『ゾルーゲル法の科
学』アグネ承風社等を参照することが出来る。加水分解
物やその縮重合物を塗布し無機膜を形成することも知ら
れている。しかし、プラスチックフィルム液晶表示素子
用透明導電フィルムに求められる特性を損なわず、目的
とするガスバリア−性と可撓性、密着性を兼ね備えた酸
化硅素層（Ｃ）は、本発明によって初めて達成される。
まず、第一に単なる加水分解物の塗布によっては、加熱
無機化での体積収縮によりフィルムがカールしたり、無
機膜にクラックが入る。よって、塗布液はあらかじめ縮
重合を進めたものでなくてはならない。次に、テトラア
ルコキシシランのＲ2 は炭素数４以下のアルキル基でな
くてはならない。これは、無機化の為の加熱条件である
１２０℃以上の温度で、脱離反応で発生してくるアルコ
ールが気体の状態であるために重要である。もし、液体
や固体であると、無機膜に求めるガスバリアー性や密着
性に重大な障害が発生する。
Ｒ2)4 （Ｒ2 は炭素数４以下のアルキル基）で表される
テトラアルコキシシランを加水分解して得られたシラノ
ールの縮重合物を塗布し、１２０℃以上でプラスチック
フィルム基体のガラス転移温度以下の条件で加熱して得
られる酸化珪素層（Ｃ）を形成する。有機樹脂層（Ｂ）
を両面に形成した場合は、酸化珪素層（Ｃ）の形成はそ
の一方の面のみであっても、両面に行っても良い。Ｓｉ
(ＯＲ2)4 （Ｒ2は炭素数４以下のアルキル基）で表され
るテトラアルコキシシランの加水分解方法は、すでに良
く知られており例えば作花済夫著『ゾルーゲル法の科
学』アグネ承風社等を参照することが出来る。加水分解
物やその縮重合物を塗布し無機膜を形成することも知ら
れている。しかし、プラスチックフィルム液晶表示素子
用透明導電フィルムに求められる特性を損なわず、目的
とするガスバリア−性と可撓性、密着性を兼ね備えた酸
化硅素層（Ｃ）は、本発明によって初めて達成される。
まず、第一に単なる加水分解物の塗布によっては、加熱
無機化での体積収縮によりフィルムがカールしたり、無
機膜にクラックが入る。よって、塗布液はあらかじめ縮
重合を進めたものでなくてはならない。次に、テトラア
ルコキシシランのＲ2 は炭素数４以下のアルキル基でな
くてはならない。これは、無機化の為の加熱条件である
１２０℃以上の温度で、脱離反応で発生してくるアルコ
ールが気体の状態であるために重要である。もし、液体
や固体であると、無機膜に求めるガスバリアー性や密着
性に重大な障害が発生する。
【００１０】最後に、酸化硅素層（Ｃ）を形成した積層
体の少なくとも一方の面に、透明導電性を有する薄膜
（Ｄ）を積層する。通常は、透明導電性薄膜（Ｄ）を酸
化硅素層（Ｃ）上に形成する。透明導電性を有する薄膜
としては、インジウム、錫、アンチモン、亜鉛、カドミ
ウム等の酸化物や、それらの複合体、金、銀、パラジウ
ム等の金属が知られており特に限定されるものでは無い
が、液晶表示素子には、通常はインジウム錫酸化物（Ｉ
ＴＯ）が用いられる。透明導電性を有する薄膜の積層方
法は、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、
プラズマＣＶＤ等があげられるが、通常は、ＩＴＯの薄
膜を積層する場合は、スパッタリングが採用される。透
明導電性を有する薄膜（Ｄ）を酸化珪素層（Ｃ）上に形
成する前に、酸化珪素層（Ｃ）に薄膜（Ｄ）との密着力
を向上させるために下地処理をおこなうことも有効であ
る。特に、シランカップリング剤を含むＵＶ硬化型アク
リレート樹脂硬化層（Ｅ）を塗布することは、薄膜
（Ｄ）との密着性も酸化珪素層（Ｃ）との密着性も優れ
ており好ましい。
体の少なくとも一方の面に、透明導電性を有する薄膜
（Ｄ）を積層する。通常は、透明導電性薄膜（Ｄ）を酸
化硅素層（Ｃ）上に形成する。透明導電性を有する薄膜
としては、インジウム、錫、アンチモン、亜鉛、カドミ
ウム等の酸化物や、それらの複合体、金、銀、パラジウ
ム等の金属が知られており特に限定されるものでは無い
が、液晶表示素子には、通常はインジウム錫酸化物（Ｉ
ＴＯ）が用いられる。透明導電性を有する薄膜の積層方
法は、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、
プラズマＣＶＤ等があげられるが、通常は、ＩＴＯの薄
膜を積層する場合は、スパッタリングが採用される。透
明導電性を有する薄膜（Ｄ）を酸化珪素層（Ｃ）上に形
成する前に、酸化珪素層（Ｃ）に薄膜（Ｄ）との密着力
を向上させるために下地処理をおこなうことも有効であ
る。特に、シランカップリング剤を含むＵＶ硬化型アク
リレート樹脂硬化層（Ｅ）を塗布することは、薄膜
（Ｄ）との密着性も酸化珪素層（Ｃ）との密着性も優れ
ており好ましい。
【００１１】
（実施例１）ポリエーテルサルホンフィルム（住友ベー
クライト 製スミライトＦＳ−５３００、ガラス転移温
度２２３℃、厚み１００μｍ、リターデーション１０ｎ
ｍ）の両面に、エポキシアクリレート１５部、ウレタン
アクリレート１０部、ポリエステルアクリレート１０
部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２
部、ＵＶ架橋開始剤１部、溶剤６５部を混合した塗布液
を、グラビアコーターにより、乾燥厚み３μとなるよう
塗布し、硬化させた。その一方の面に、テトラエトキシ
シラン２０８ｇ、イソプロピルアルコール２００ｇ、水
７２ｇを混合し、４０℃で１２時間攪拌し、イソプロピ
ルアルコール１．８Ｋｇとジメチルホルムアミド１００
ｇを加えて塗布液とし、リバースコーターにより、計算
による乾燥塗布厚がＯ．１μｍになるように塗布し、１
８０℃の熱風乾燥炉によって加熱無機膜化した。この酸
化硅素膜を形成した段階で、オキシトラン法により、酸
素ガス透過係数を測定したところ、湿度０％において
０．５cc／m2・day・atm、湿度８０％において０．４cc
／m2・day・atmと、塗布前のフィルムでは、湿度０％に
おいても、２００cc／m2・day・atmであったのに比べ格
段に向上していた。さらに、この酸化珪素膜の表面に、
最初の工程でポリエーテルサルホンフィルムに塗布した
塗布液と同じものを、リバースコーターにより乾燥厚み
３μとなるように塗布し、硬化させた。次に、この酸化
珪素膜上の硬化層の上に、スパッタリングにより、ＩＴ
Ｏを表面抵抗が１００Ω／□、光線透過率が８０％とな
るように形成した。このようにして得られた透明導電フ
ィルムを用いて、プラスチックフィルム液晶表示素子を
作成し、８０℃高温保存、６０℃・９５％ＲＨ高温高湿
保存試験を行ったが、１０００時間経過後も、液晶表示
素子に気泡の発生は見られなかった。このことは、酸化
珪素膜のガスバリアー性が、プラスチックフィルム液晶
表示素子作成工程における、熱、薬品、曲げ、ラビング
等の処理によっても損なわれなかったことを示してい
る。また、ＩＴＯをエッチング除去した面どうしを、エ
ポキシ樹脂で接着しピールテストを行ったが、５００ｇ
／ｃｍの剥離強度を示し、かつ剥離面はエポキシ樹脂接
着面であった。
クライト 製スミライトＦＳ−５３００、ガラス転移温
度２２３℃、厚み１００μｍ、リターデーション１０ｎ
ｍ）の両面に、エポキシアクリレート１５部、ウレタン
アクリレート１０部、ポリエステルアクリレート１０
部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２
部、ＵＶ架橋開始剤１部、溶剤６５部を混合した塗布液
を、グラビアコーターにより、乾燥厚み３μとなるよう
塗布し、硬化させた。その一方の面に、テトラエトキシ
シラン２０８ｇ、イソプロピルアルコール２００ｇ、水
７２ｇを混合し、４０℃で１２時間攪拌し、イソプロピ
ルアルコール１．８Ｋｇとジメチルホルムアミド１００
ｇを加えて塗布液とし、リバースコーターにより、計算
による乾燥塗布厚がＯ．１μｍになるように塗布し、１
８０℃の熱風乾燥炉によって加熱無機膜化した。この酸
化硅素膜を形成した段階で、オキシトラン法により、酸
素ガス透過係数を測定したところ、湿度０％において
０．５cc／m2・day・atm、湿度８０％において０．４cc
／m2・day・atmと、塗布前のフィルムでは、湿度０％に
おいても、２００cc／m2・day・atmであったのに比べ格
段に向上していた。さらに、この酸化珪素膜の表面に、
最初の工程でポリエーテルサルホンフィルムに塗布した
塗布液と同じものを、リバースコーターにより乾燥厚み
３μとなるように塗布し、硬化させた。次に、この酸化
珪素膜上の硬化層の上に、スパッタリングにより、ＩＴ
Ｏを表面抵抗が１００Ω／□、光線透過率が８０％とな
るように形成した。このようにして得られた透明導電フ
ィルムを用いて、プラスチックフィルム液晶表示素子を
作成し、８０℃高温保存、６０℃・９５％ＲＨ高温高湿
保存試験を行ったが、１０００時間経過後も、液晶表示
素子に気泡の発生は見られなかった。このことは、酸化
珪素膜のガスバリアー性が、プラスチックフィルム液晶
表示素子作成工程における、熱、薬品、曲げ、ラビング
等の処理によっても損なわれなかったことを示してい
る。また、ＩＴＯをエッチング除去した面どうしを、エ
ポキシ樹脂で接着しピールテストを行ったが、５００ｇ
／ｃｍの剥離強度を示し、かつ剥離面はエポキシ樹脂接
着面であった。
【００１２】（比較例１）実施例１の酸化珪素層とその
上の硬化層を形成しないで、比較実験を行ったところ、
プラスチックフィルム液晶表示素子の高温保存、高温高
湿保存試験ともに、２４０時間で気泡の発生が確認され
た。 （比較例２）実施例１のポリエーテルサルホンフィルム
へのＵＶ硬化樹脂組成からシランカップリング剤を除い
て比較試験を行ったところ、プラスチックフィルム液晶
表示素子の高温高湿保存試験において、４８０時間で気
泡の発生が確認された。この表示素子を調べると、シー
ル樹脂部分で剥がれが生じていることが確認された。Ｉ
ＴＯをエッチング除去した面同士を、エポキシ樹脂で接
着しピールテストを行ったところ、５０ｇ／ｃｍ程度の
剥離強度しか無く、剥離面を調べたところ、酸化珪素層
とポリエーテルスルホンフィルム上のＵＶ硬化樹脂層の
間で剥がれていた。 （比較例３）実施例１のテトラエトキシシランからの塗
布液を、加水分解段階ですぐに塗布し、同様に加熱無機
膜化したが、乾燥炉を出た状態で無機膜に激しいクラッ
クが生じており、ガスバリアー性の向上も認められなか
った。
上の硬化層を形成しないで、比較実験を行ったところ、
プラスチックフィルム液晶表示素子の高温保存、高温高
湿保存試験ともに、２４０時間で気泡の発生が確認され
た。 （比較例２）実施例１のポリエーテルサルホンフィルム
へのＵＶ硬化樹脂組成からシランカップリング剤を除い
て比較試験を行ったところ、プラスチックフィルム液晶
表示素子の高温高湿保存試験において、４８０時間で気
泡の発生が確認された。この表示素子を調べると、シー
ル樹脂部分で剥がれが生じていることが確認された。Ｉ
ＴＯをエッチング除去した面同士を、エポキシ樹脂で接
着しピールテストを行ったところ、５０ｇ／ｃｍ程度の
剥離強度しか無く、剥離面を調べたところ、酸化珪素層
とポリエーテルスルホンフィルム上のＵＶ硬化樹脂層の
間で剥がれていた。 （比較例３）実施例１のテトラエトキシシランからの塗
布液を、加水分解段階ですぐに塗布し、同様に加熱無機
膜化したが、乾燥炉を出た状態で無機膜に激しいクラッ
クが生じており、ガスバリアー性の向上も認められなか
った。
【００１３】
【発明の効果】この発明により、プラスチックフィルム
液晶表示素子用に好適な、ガスバリアー性の温湿度依存
性の無い透明導電フィルムが得られた。
液晶表示素子用に好適な、ガスバリアー性の温湿度依存
性の無い透明導電フィルムが得られた。
【図１】本発明の実施例断面図である。
【図２】本発明の実施例断面図である。
【図３】本発明の実施例断面図である。
１ 透明導電性薄膜 ２ 酸化珪素層 ３ 有機樹脂層 ４ プラスチックフィルム ５ ＵＶ硬化型アクリレート樹脂硬化層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｆ 1/1343 Ｇ０２Ｆ 1/1343 Ｈ０１Ｂ 5/14 Ｈ０１Ｂ 5/14 Ａ
Claims (4)
- 【請求項１】 ガラス転移温度が１２０℃以上で、実質
的に非晶性であり、フィルム厚みでのリターデーション
値が１５ｎｍ以下である透明なプラスチックフィルム基
体（Ａ）の少なくとも一方の面に、−ＯＲ1（Ｒ1はＨも
しくはＨ−ＯＲ1で表される化合物の常圧における沸点
が１２０℃以下となる化合物残基）で表される官能基を
有する物質を含む有機樹脂層（Ｂ）を形成し、そのＢ層
上にＳｉ(ＯＲ2)4（Ｒ2は炭素数４以下のアルキル基）
で表されるテトラアルコキシシランを加水分解して得ら
れたシラノールの縮重合物を塗布し、１２０℃以上でプ
ラスチックフィルム基体のガラス転移温度以下の条件で
加熱して得られる酸化珪素層（Ｃ）を形成した積層体の
少なくとも一方の面に、透明導電性を有する薄膜（Ｄ）
を積層したことを特徴とする透明導電性フィルム。 - 【請求項２】 透明なプラスチックフィルム基体（Ａ）
が、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリサルホ
ン、ポリエーテルサルホン樹脂の溶融押出成膜フィルム
である請求項１記載の透明導電性フィルム。 - 【請求項３】 −ＯＲ1（Ｒ1はＨもしくはＨ−ＯＲ1で
表される化合物の常圧における沸点が１２０℃以下とな
る化合物残基）で表される官能基を有する物質が、シラ
ンカップリング剤である請求項１又は２記載の透明導電
性フィルム。 - 【請求項４】 酸化珪素層（Ｃ）を形成した積層体の酸
化硅素層（Ｃ）上にシランカップリング剤を含むＵＶ硬
化型アクリレート樹脂硬化層（Ｅ）を介し透明導電性を
有する薄膜（Ｄ）を積層してなる請求項１、２又は３記
載の透明導電性フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7183034A JPH0929885A (ja) | 1995-07-19 | 1995-07-19 | 透明導電性フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7183034A JPH0929885A (ja) | 1995-07-19 | 1995-07-19 | 透明導電性フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0929885A true JPH0929885A (ja) | 1997-02-04 |
Family
ID=16128588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7183034A Pending JPH0929885A (ja) | 1995-07-19 | 1995-07-19 | 透明導電性フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0929885A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09174747A (ja) * | 1995-12-25 | 1997-07-08 | Teijin Ltd | 透明導電フィルム |
| JPH10329254A (ja) * | 1997-05-30 | 1998-12-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 積層フィルム及び液晶表示素子 |
| JP2004063453A (ja) * | 2002-06-06 | 2004-02-26 | Konica Minolta Holdings Inc | 透明導電膜積層体及びその形成方法 |
| JP2006239883A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 水蒸気バリアフィルム |
| KR100803436B1 (ko) * | 2005-10-20 | 2008-02-14 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 투명 도전성 적층체 및 그를 구비한 터치 패널 |
| JP2009143026A (ja) * | 2007-12-11 | 2009-07-02 | Tosoh Corp | 透明導電性フィルム |
| JP2011227261A (ja) * | 2010-04-19 | 2011-11-10 | Toshiba Mobile Display Co Ltd | 表示装置 |
| WO2011142454A1 (ja) * | 2010-05-13 | 2011-11-17 | リンテック株式会社 | 透明導電性フィルムおよびその製造方法並びに透明導電性フィルムを用いた電子デバイス |
| WO2012101860A1 (ja) * | 2011-01-25 | 2012-08-02 | 大日本印刷株式会社 | ガスバリア性フィルム、装置及びガスバリア性フィルムの製造方法 |
-
1995
- 1995-07-19 JP JP7183034A patent/JPH0929885A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09174747A (ja) * | 1995-12-25 | 1997-07-08 | Teijin Ltd | 透明導電フィルム |
| JPH10329254A (ja) * | 1997-05-30 | 1998-12-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 積層フィルム及び液晶表示素子 |
| JP2004063453A (ja) * | 2002-06-06 | 2004-02-26 | Konica Minolta Holdings Inc | 透明導電膜積層体及びその形成方法 |
| JP2006239883A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 水蒸気バリアフィルム |
| JP4573673B2 (ja) * | 2005-02-28 | 2010-11-04 | 富士フイルム株式会社 | 水蒸気バリアフィルム |
| KR100803436B1 (ko) * | 2005-10-20 | 2008-02-14 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 투명 도전성 적층체 및 그를 구비한 터치 패널 |
| JP2009143026A (ja) * | 2007-12-11 | 2009-07-02 | Tosoh Corp | 透明導電性フィルム |
| JP2011227261A (ja) * | 2010-04-19 | 2011-11-10 | Toshiba Mobile Display Co Ltd | 表示装置 |
| WO2011142454A1 (ja) * | 2010-05-13 | 2011-11-17 | リンテック株式会社 | 透明導電性フィルムおよびその製造方法並びに透明導電性フィルムを用いた電子デバイス |
| WO2012101860A1 (ja) * | 2011-01-25 | 2012-08-02 | 大日本印刷株式会社 | ガスバリア性フィルム、装置及びガスバリア性フィルムの製造方法 |
| JP2012166540A (ja) * | 2011-01-25 | 2012-09-06 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性フィルムの製造方法 |
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