JP4407265B2 - 表示パネル用プラスチックシートの製造方法 - Google Patents
表示パネル用プラスチックシートの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4407265B2 JP4407265B2 JP2003411863A JP2003411863A JP4407265B2 JP 4407265 B2 JP4407265 B2 JP 4407265B2 JP 2003411863 A JP2003411863 A JP 2003411863A JP 2003411863 A JP2003411863 A JP 2003411863A JP 4407265 B2 JP4407265 B2 JP 4407265B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- organic layer
- display panel
- sheet
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
このガラス基板表示パネルのもつ欠点を改善する方法として、高分子シートを用いて表示パネルを作製することにより、軽量化、耐衝撃性の向上が検討されている。
従来、ガラス基板の代わりに導電性酸化金属物質を蒸着した長尺のポリエステルフィルムを用いて液晶表示パネルを連続して製造することが示されている。(例えば、特許文献1及び特許文献2を参照)。ところが、研磨により極めて良好な平滑性が得られるガラス基板と異なり、プラスチックシートの場合には表面の平滑性に優れているとは言い難いものであった。特に、高精細な表示を得るためにSTN(Super Twisted Nematic)型液晶
表示パネルとした場合には、間隔を0.1μm単位で制御された基板間の液晶の複屈折性を利用して表示を行うために前記のプラスチックシートの表面平滑性が極めて重大になっている。
(1)転写用基材(1)に硬化性樹脂組成物(1)を塗布後、室温でタック性を持たず且つDSCにおける発熱量から求められる反応率が50〜85%まで、硬化反応を進めた後、ベースシート上に熱ラミネートし、さらに硬化を進めて有機物層(1)を形成後、転写用基材(1)を有機物層(1)から剥離する表示パネル用プラスチックシートの製造方法であって、前記硬化性樹脂組成物(1)がエポキシ樹脂、シアネート樹脂又はフェノール樹脂を主成分とした熱硬化性樹脂組成物であり、前記ベースシートがエポキシ樹脂又はシアネート樹脂をガラスクロスに含浸させた積層板であり、前記ベースシートの厚みが50〜300μmである表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
(2)転写用基材(1)に、硬化性樹脂組成物(2)を塗布・硬化させて有機物層(2)を形成した後、その有機物層(2)上に無機物層を形成させ、さらに無機物層上に硬化性樹脂組成物(3)を塗布後、室温でタック性を持たず且つDSCにおける発熱量から求められる反応率が50〜85%まで、硬化反応を進めた後、ベースシート上に熱ラミネートし、さらに硬化を進めて有機物層(3)を形成後、転写用基材(1)を有機物層(2)から剥離する表示パネル用プラスチックシートの製造方法であって、前記硬化性樹脂組成物(3)がエポキシ樹脂、シアネート樹脂又はフェノール樹脂を主成分とした熱硬化性樹脂組成物であり、前記ベースシートがエポキシ樹脂又はシアネート樹脂をガラスクロスに含浸させた積層板であり、前記ベースシートの厚みが50〜300μmである表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
(3)転写用基材(1)に、硬化性樹脂組成物(4)を塗布・硬化させて有機物層(4)を形成した後、その有機物層(4)上に無機物層を形成させて、積層体(1)を作製し、一方、ベースシート上に硬化性樹脂組成物(5)を塗布後、室温でタック性を持たず且つDSCにおける発熱量から求められる反応率が50〜85%まで、硬化反応を進めて有機物層(5)を形成した後、積層体(1)と熱ラミネートし、さらに硬化を進めて、転写用基材(1)を有機物層(4)から剥離する表示パネル用プラスチックシートの製造方法であって、前記硬化性樹脂組成物(5)がエポキシ樹脂、シアネート樹脂又はフェノール樹脂を主成分とした熱硬化性樹脂組成物であり、前記ベースシートがエポキシ樹脂又はシアネート樹脂をガラスクロスに含浸させた積層板であり、前記ベースシートの厚みが50〜300μmである表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
(4)転写用基材(1)に、硬化性樹脂組成物(6)を塗布・硬化させて有機物層(6)を形成した後、その有機物層(6)上に無機物層を形成させて積層体(2)を作製し、一方、転写用基材(2)に硬化性樹脂組成物(7)を塗布後、室温でタック性を持たず且つDSCにおける発熱量から求められる反応率が50〜85%まで、硬化反応を進めて有機物層(7)を形成した後、ベースシート上に熱ラミネートし、冷却した後、転写用基材(2)から有機物層(7)を剥離して積層体(3)を作製した後、積層体(3)を再度加熱して有機物層(7)を溶融させ、前記積層体(2)の無機物層を有機物層(7)に合わせてラミネート後、さらに硬化を進めて転写用基材(1)を剥離する表示パネル用プラスチックシートの製造方法であって、前記硬化性樹脂組成物(7)がエポキシ樹脂、シアネート樹脂又はフェノール樹脂を主成分とした熱硬化性樹脂組成物であり、前記ベースシートがエポキシ樹脂又はシアネート樹脂をガラスクロスに含浸させた積層板であり、前記ベースシートの厚みが50〜300μmである表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
(5)前記有機物層(1),(2),(4),および(6)のガラス転移温度が150℃以上である(1)〜(4)記載の表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
(6)前記無機物層が水蒸気バリア性を有する(2)〜(4)記載の表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
(7)前記無機物層が珪素酸化物または珪素窒化物または珪素窒化酸化物を主成分とする(2)〜(4)記載の表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
(8)前記転写用基材(1)及び/または(2)の表面粗さがRa100nm以下である(1)〜(7)記載の表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
(9)前記転写用基材(1)及び/または(2)が離型処理されている(1)〜(8)記載の表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
(10)前記表示パネル用プラスチックシートが連続的に巻き取ることを特徴とする(1)〜(9)記載の表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
さらに具体的に説明すると 請求項1の製造方法は図1に示すように、先ず、転写用基材(1)に硬化性樹脂組成物(1)を塗布後、室温でタック性を持たず 且つ DSCにおける発熱量から求められる反応率が50〜85%まで、硬化反応を進めたシートを作製する。その後、そのシートを加熱し、樹脂を溶融させた後、ベースシート上に熱ラミネートしてベースシートと積層した後、さらに硬化性樹脂組成物(1)の硬化を進めて有機物層(1)を形成した後、転写用基材(1)を有機物層(1)から剥離する方法である。図1に示すように、ベースシートの両面に転写しても、またこれとは別に、片面に転写しても良い。
請求項2の製造方法は図2に示すように、先ず、転写用基材(1)に、硬化性樹脂組成物(2)を塗布・硬化させて有機物層(2)を形成した後、その有機物層(2)上に無機物層を形成させ、さらに無機物層上に硬化性樹脂組成物(3)を塗布後、室温でタック性を持たず 且つ
DSCにおける発熱量から求められる反応率が50〜85%まで、硬化反応を進めたシートを作製する。その後、そのシートを加熱し、樹脂を溶融させた後、ベースシート上に熱ラミネートしてベースシートと積層した後、さらに硬化性樹脂組成物(3)の硬化をさら
に進めて有機物層(3)を形成後、転写用基材(1)を有機物層(2)から剥離する方法である。
これも、請求項1の製造方法に関する説明と同様に、片面のみの転写であっても良い。
請求項3の製造方法は図3に示すように、先ず、転写用基材(1)に、硬化性樹脂組成物(4)を塗布・硬化させて有機物層(4)を形成した後、その有機物層(4)上に無機物層を形成させて、積層体(1)を作製する。一方、ベースシート上に硬化性樹脂組成物(5)を塗布後、室温でタック性を持たず 且つ DSCにおける発熱量から求められる反応率が50〜85%まで、硬化反応を進めて有機物層(5)を形成する。この場合、ベースシートの厚みは1
50μm以上が好ましい。150μm以下であると硬化反応を進めた時、ベースシートに
反りやうねりが発生する事がある。さらに、ベースシートを加熱し、有機物層(5)の樹脂
を溶融させた後、積層体(1)と熱ラミネートし、さらに有機物層(5)の硬化を進めて、転写用基材(1)を有機物層(4)から剥離する方法である。これも片面のみの転写であっても良い。
請求項4の製造方法は図4に示すように、先ず、転写用基材(1)に、硬化性樹脂組成物(6)を塗布・硬化させて有機物層(6)を形成した後、その有機物層(6)上に無機物層層を形成させて積層体(2)を作製する。一方、転写用基材(2)に硬化性樹脂組成物(7)を塗布後、室
温でタック性を持たず 且つ DSCにおける発熱量から求められる反応率が50〜85%まで、硬化反応を進めて有機物層(7)を形成したシートを作製する。このシートを加熱
し、有機物層(7)の樹脂を溶融させた後、ベースシート上に熱ラミネートし、冷却した後
、転写用基材(2)から有機物層(7)を剥離して積層体(3)を作製する。その後、積層体(3)を再度加熱して有機物層(7)を溶融させ、前記積層体(2)の無機物層側を有機物層(7)に合わ
せてラミネートして積層した後、さらに硬化を進めて転写用基材(1)を剥離する方法であ
る。この場合も、片面のみの転写であっても良い。
また、ベースシートがロール品である場合では、転写基材への硬化性樹脂組成物の塗布・硬化工程や、ベースシート上へのラミネート・剥離・硬化促進工程でも、汎用の装置によりロール−to−ロールで加工することができるため生産性が良く、コストメリットも高い。
ーテルケトン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ノルボルネン系高分子及びこれをブレンドした樹脂等の熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂が挙げられる。中でも、耐熱性、厚み精度、コストの面から二軸延伸したポリエステルフィルムが好ましい。転写用基材の厚みは、25μm以上300μm以下が好ましく、25μm以上200μm以下がより好ましい。転写用基材の厚みが下限値未満であると、塗工時やラミネート時にシワが発生して取り扱いが困難であり、上限値を超えるとコストが高くなる問題がある。転写用基材の表面には、離型処理、帯電防止処理、易滑処理などを施しても良い。
制限はないが有機物層、液晶表示パネルに使用する場合、ガラス転移温度が150℃以上の硬化性樹脂硬化物が選定することが好ましい。ガラス転移温度が150℃未満の可塑性樹脂を有機物層として使用すると TFT素子形成や配向膜形成時との加熱により変形することがある。ガラス転移温度が150℃以上の硬化性樹脂硬化物の例を挙げると、エポキシ樹脂、シアネート樹脂やフェノール樹脂を主成分とした熱硬化性樹脂組成物、アクリレート化合物等の紫外線硬化性樹脂組成物等が挙げられる。また、硬化物組成物(3)、(5)、(7)はこの様な制約がない為、特に制限はないが、DSCの反応率が調整しやすいエポ
キシ樹脂、シアネート樹脂やフェノール樹脂等の熱硬化性樹脂組成物が好ましい。これらの樹脂は、塗布装置により転写用基材上に塗布し、溶剤を含む場合には乾燥装置により溶剤の揮発を行い、さらに樹脂の硬化を促進する。樹脂成分には、必要に応じてフィラー成分、界面活性剤、消泡剤、帯電防止剤などを添加しても良い。
があり、両立させるには、無機物層として珪素酸化物や珪素酸化窒化物を使うのが好ましい。珪素酸化物はSiOxと表記され、たとえば、無機物層としてSiOxを用いる場合、良好な水蒸気バリア性と高い光線透過率を両立させるには1.6<x1.9である事が望ましい。
珪素酸化窒化物はSiOxNyと表記され、たとえば、無機物層としてSiOxNyを用いる場合、このxとyの比率は密着性向上を重要視するなら、酸素リッチ膜として、1<x<2,0<y<1が好ましく、また、水蒸気バリア性を重要視するなら、窒素リッチ膜として、0<x<0.8,0.8<y<1.3が好ましい。無機物層の成膜は特に限定するものではないが、例として蒸着やスパッタリングで成膜することできる。
PETフィルム(転写用基材(1):東洋紡製、A4100、500mm幅、125μ厚
)の平滑面(Ra20nm)にシリコーン系の離型処理を施した後、エポキシ樹脂(新日鐵化学製ESN−375)30重量部、シアネート樹脂(ロンザジャパン製PT−60)10重量部、酸触媒(ダイセル化学工業製Ex−1)0.6重量部、シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー製 L−7001)0.04重量部(樹脂成分に対して1000ppm)、シクロヘキサノン35重量部、N−メチルピロリドン35重量部を調合してなる熱硬化性樹脂組成物(1)ワニスを、連続コーターで、乾燥膜厚10μmになるように塗工し
、乾燥条件として120℃で、18分間乾燥し、仮硬化させた。乾燥後の熱硬化性樹脂組成物(1)はタック性がなく、370mm×470mmサイズ内での厚みばらつきは10.
0μm±1.0μmであった。この第1段階の硬化時に、乾燥後の熱硬化性樹脂組成物(1)のDSCで得られる発熱ピークの積分値(A)と、未硬化時の発熱ピークの積分値(B
)とから得られる反応率(1−A/B)は、80%であった。つづいて、ベースシートとしてエポキシ/ガラスクロス複合基板(住友ベークライト製 スミライト EL−4765 200μm厚)を370mm×470mmサイズに切り出し、熱硬化性樹脂組成物(1)付きPETフィルムを、熱硬化性樹脂組成物(1)がベースシートに接するように、温度85℃、速度0.1m/min、線圧0.5kg/cmで、ベースシートの両面にラミネートした。ラミネート時に、熱硬化性樹脂組成物(1)は充分に軟化してベースシートに気泡
のかみ込みなどの外観不良も無くラミネートされた。また、ラミネート後の熱硬化性樹脂組成物(1)を、DSCで測定したところ、発熱ピークの積分値の比より求められる反応率
(1−A/B)は約80%と、ラミネート前と同じであった。ラミネートされたシートを、転写基材を貼り合わせたままシートの端部を治具で保持して、弛まない様に張力をかけて固定した後、150℃で90分焼成して第2段階の硬化処理を行い、有機物層(1)を得
た。室温まで充分に冷却した後、PETと有機物層(1)の界面でPETフィルムだけを剥
離して、有機物層(1)付きのベースシートを作成した。
焼成後の有機物層(1)をDSCで測定すると、発熱ピークの積分値の比より求められる
反応率(1−A/B)は、98%であった。焼成後も有機物層の膜厚の面内ばらつきは、10.0μm±0.5μmと良好であった。得られたプラスチックシートは、厚みが220μmで平板上に置いた時にも反りやうねりがなく 表面粗さ(Ra)が40nmであり、また異物や気泡など表面欠陥による外観不良も無いシートであり、さらに強度、耐熱性などの条件も表示パネル用の基板として十分使用可能であった。
実施例1に用いたのと同じ熱硬化性樹脂組成物(1)ワニスを、120℃10min乾燥
して、DSCから求められる反応率が50%とした以外は、実施例1と同様にして基板を作成した。得られたプラスチックシートは、厚みが220μmで平板上に置いた時にも反りやうねりがなく、表面粗さ(Ra)が40nmであり、また異物や気泡など表面欠陥による外観不良も無いシートであり、さらに強度、耐熱性などの条件も表示パネル用の基板として十分使用可能であった。
ベースシートにポリエーテルサルフォンフィルム(住友ベークライト製 スミライト FS−5300 200μm厚 ロール品)を用いた以外は、実施例1と同様の条件にて基板を作成した。得られたロールシートは、厚み220μmで、平板上に置いた時にも反りやうねりがなく、表面粗さ(Ra)が20nmであり、波長550nmでの光線透過率が80%であり、また異物や気泡など表面欠陥による外観不良も無いシートであり、強度、耐熱性などの条件も表示パネル用の基板として十分使用可能であった。
PETフィルム(転写用基材(1):東洋紡製、A4100、500mm幅、125μ厚
)の平滑面(Ra20nm)にシリコーン系離型処理を施した後、紫外線硬化性樹脂組成物(2)としてトリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート(東亞合成製)100重量
部、重合開始剤としてイルガキュア184(チバスケシャルティケミカル製)1重量部,酢酸ブチル300重量部,セロソルブアセテート100重量部,ベンゾインエチルエーテル2重量部を50℃にて撹拌、溶解して均一な溶液としたものをコーター部のグラビヤロールコーターで乾燥前膜厚5μmに塗布し、加熱乾燥ゾーン中100℃で5分間加熱して溶媒を除去した。つづいて80w/cmの紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ有機物層(2)を形成し、巻取装置で巻き取って連続的に高分子シートを得た。紫外
線の照射時間は10秒間であった。次に有機物層(2)上に、DCマグネトロン法により、
初期真空度3×10−4Paの状態から酸素/アルゴンガス9%の混合ガスを導入して3×10−1Paの条件下においてスパッタリングを行い500Å厚のSiO2を得た。SiO2面上にエポキシ樹脂(新日鐵化学製ESN−375)30重量部、シアネート樹脂(ロンザジャパン製PT−60)10重量部、酸触媒(ダイセル化学工業製Ex−1)0.6重量部、シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー製 L−7001)0.04重量部(樹脂成分に対して1000ppm)、シクロヘキサノン35重量部、N−メチルピロリドン35重量部を調合してなる熱硬化性樹脂組成物(3)ワニスを、連続コーターで、乾燥
膜厚10μmになるように塗工し、乾燥条件として120℃で、18分間乾燥し、仮硬化させた。乾燥後の熱硬化性樹脂組成物(3)はタック性がなく、370mm×470mmサ
イズ内での厚みばらつきは10.0μm±1.0μmであった。この第1段階の硬化時に、乾燥後の熱硬化性樹脂組成物(3)のDSCで得られる発熱ピークの積分値(A)と、未
硬化時の発熱ピークの積分値(B)とから得られる反応率(1−A/B)は、78%であった。つづいて、ベースシートとしてエポキシ/ガラスクロス複合基板(住友ベークライト製 スミライト EL−4765 200μm厚)を370mm×470mmサイズに切り出し、熱硬化性樹脂組成物(3)とSiO2層付きPETフィルムを、熱硬化性樹脂組
成物(3)がベースシートに接するように、温度85℃、速度0.1m/min、線圧0.
5kg/cmで、ベースシートの両面にラミネートした。ラミネート時に、熱硬化性樹脂組成物(3)は充分に軟化してベースシートに気泡のかみ込みなどの外観不良も無くラミネ
ートされた。また、ラミネート後の熱硬化性樹脂組成物(3)を、DSCで測定したところ
、発熱ピークの積分値の比より求められる反応率(1−A/B)は約80%と、ラミネート前と同じであった。ラミネートされたシートを、転写基材(1)を貼り合わせたままシー
トの端部を治具で保持して、弛まない様に張力をかけて固定した後、150℃で90分焼成して第2段階の硬化処理を行い、有機物層(3)を得た。室温まで充分に冷却した後、P
ETと有機物層(2)の界面でPETフィルムだけを剥離して、有機物層(2)、無機物層 及び有機物層(3)付きのベースシートを作成した。焼成後の有機物層(3)をDSCで測定すると、発熱ピークの積分値の比より求められる反応率(1−A/B)は、98%であった。焼成後も有機物層(3)の膜厚の面内ばらつきは、10.0μm±0.5μmと良好であっ
た。得られたプラスチックシートは、厚み225μmで、平板上に置いた時にも反りやうねりがなく 表面粗さ(Ra)が40nmであり、また異物や気泡など表面欠陥による外観不良も無いシートであり、さらに強度、耐熱性、水蒸気バリア性などの条件も表示パネ
ル用の基板として十分使用可能であった。
PETフィルム(転写用基材(1):東洋紡製、A4100、500mm幅、125μ厚
)の平滑面(Ra20nm)にシリコーン系離型処理を施した後、紫外線硬化性樹脂組成物(4)としてトリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート(東亞合成製)100重量
部、酢酸ブチル300重量部,セロソルブアセテート100重量部,ベンゾインエチルエーテル2重量部を50℃にて撹拌、溶解して均一な溶液としたものをコーター部のグラビヤロールコーターで、乾燥前膜厚5μmに塗布し、加熱乾燥ゾーン中100℃で5分間加熱して溶媒を除去した。つづいて80w/cmの紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂組成物(4)を硬化させ有機物層(4)を形成し、巻取装置で巻き取って連続的に積層体(1)を得た
。紫外線の照射時間は10秒間であった。次に有機物層(4)上に、DCマグネトロン法に
より、初期真空度3×10−4Paの状態から酸素/アルゴンガス9%の混合ガスを導入して3×10−1Paの条件下においてスパッタリングを行い500Å厚のSiO2を得た。また、ベースシートとしてエポキシ/ガラスクロス複合基板(住友ベークライト製 スミライト EL−4765 200μm厚)を370mm×470mmサイズに切り出し、エポキシ樹脂(新日鐵化学製ESN−375)30重量部、シアネート樹脂(ロンザジャパン製PT−60)10重量部、酸触媒(ダイセル化学工業製Ex−1)0.6重量部、シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー製 L−7001)0.04重量部(樹脂成分に対して1000ppm)、シクロヘキサノン35重量部、N−メチルピロリドン35重量部を調合してなる熱硬化性樹脂組成物(5)ワニスを、ディップコーターで、乾燥膜厚
5μmになるように塗工し、乾燥条件として120℃で、10分間乾燥し、仮硬化させた。乾燥後の熱硬化性樹脂組成物(5)はタック性がなく、370mm×470mmサイズ内
での厚みばらつきは5.0μm±0.5μmであった。この第1段階の硬化時に、乾燥後の熱硬化性樹脂組成物(5)のDSCで得られる発熱ピークの積分値(A)と、未硬化時の
発熱ピークの積分値(B)とから得られる反応率(1−A/B)は、70%であった。つづいて、有機物層(4)及び無機物層付きPETフィルムを、無機物層がベースシートに接
するように、温度85℃、速度0.1m/min、線圧0.5kg/cmで、ベースシートの両面にラミネートした。ラミネート時に、熱硬化性樹脂組成物(5)は充分に軟化して
ベースシートに気泡のかみ込みなどの外観不良も無くラミネートされた。また、ラミネート後の熱硬化性樹脂組成物(5)を、DSCで測定したところ、発熱ピークの積分値の比よ
り求められる反応率(1−A/B)は約80%と、ラミネート前と同じであった。転写用基材(1)を貼り合わせたままシートの端部を治具で保持して、弛まない様に張力をかけて
固定した後、90℃で90分焼成して第2段階の硬化処理を行い、有機物層(5)を得た。
室温まで充分に冷却した後、PETと有機物層(4)の界面でPETフィルムだけを剥離し
て、有機物層(4)、無機物層 及び有機物層(5)付きのベースシートを作製した。焼成後の有機物層(5)をDSCで測定すると、発熱ピークの積分値の比より求められる反応率(1
−A/B)は、98%であった。得られたプラスチックシートは、厚みが225μmであり、平板上に置いた時にも反りやうねりがなく 表面粗さ(Ra)が40nmであり、また異物や気泡など表面欠陥による外観不良も無いシートであり、さらに強度、耐熱性、水蒸気バリア性などの条件も表示パネル用の基板として十分使用可能であった。
PETフィルム(転写用基材(1):東洋紡製、A4100、500mm幅、125μ厚
)の平滑面(Ra20nm)にシリコーン系離型処理を施した後、紫外線硬化性樹脂組成物(6)としてトリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート(東亞合成製)100重量
部、酢酸ブチル300重量部,セロソルブアセテート100重量部,ベンゾインエチルエーテル2重量部を50℃にて撹拌、溶解して均一な溶液としたものをコーター部のグラビヤロールコーターで乾燥前膜厚5μmに塗布し、加熱乾燥ゾーン中100℃で5分間加熱して溶媒を除去した。つづいて80w/cmの紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂組成物
を硬化させ有機物層(6)を形成し、巻取装置で巻き取って連続的に積層体(2)を得た。紫外線の照射時間は10秒間であった。次に有機物層(6)上に、DCマグネトロン法により、
初期真空度3×10−4Paの状態から酸素/アルゴンガス9%の混合ガスを導入して3×10−1Paの条件下においてスパッタリングを行い500Å厚のSiO2を得た。また、PETフィルム(転写用基材(2):東洋紡製、A4100、500mm幅、125μ
厚)の平滑面(Ra20nm)にシリコーン系離型処理を施した後、エポキシ樹脂(新日鐵化学製ESN−375)30重量部、シアネート樹脂(ロンザジャパン製PT−60)10重量部、酸触媒(ダイセル化学工業製Ex−1)0.6重量部、シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー製 L−7001)0.04重量部(樹脂成分に対して1000ppm)、シクロヘキサノン35重量部、N−メチルピロリドン35重量部を調合してなる熱硬化性樹脂組成物(7)ワニスを、連続コーターで、乾燥膜厚10μmになるように塗工し
、乾燥条件として120℃で、18分間乾燥し、仮硬化させ積層体(3)を得た。乾燥後の
熱硬化性樹脂組成物(7)はタック性がなく、370mm×470mmサイズ内での厚みば
らつきは10.0μm±1.0μmであった。この第1段階の硬化時に、乾燥後の熱硬化性樹脂組成物(7)のDSCで得られる発熱ピークの積分値(A)と、未硬化時の発熱ピー
クの積分値(B)とから得られる反応率(1−A/B)は、80%であった。つづいて、ベースシートとしてエポキシ/ガラスクロス複合基板(住友ベークライト製 スミライト
EL−4765 200μm厚)を370mm×470mmサイズに切り出し、熱硬化性樹脂組成物(7)付きPETフィルムを、熱硬化性樹脂組成物(7)がベースシートに接するように、温度85℃、速度0.1m/min、線圧0.5kg/cmで、ベースシートの両面にラミネートした。ラミネート時に、熱硬化性樹脂組成物は充分に軟化してベースシートに気泡のかみ込みなどの外観不良も無くラミネートされた。また、ラミネート後の熱硬化性樹脂組成物(7)を、DSCで測定したところ、発熱ピークの積分値の比より求めら
れる反応率(1−A/B)は約80%と、ラミネート前と同じであった。冷却した後、PETフィルムのみを剥離した後、さらにこのベースシートを加熱する事により、熱硬化性樹脂組成物(7)を溶融させた後,有機物層(6) 及び無機物層付きPETフィルムをラミネートし、転写基材(1)を貼り合わせたままシートの端部を治具で保持して、弛まない様に
張力をかけて固定した後、150℃で90分焼成して第2段階の硬化処理を行い、有機物層(7)を得た。室温まで充分に冷却した後、PETと有機物層(6)の界面でPETフィルムだけを剥離して、有機物層(6)、無機物層及び有機物層(7)付きのベースシートを作成した。焼成後の有機物層(7)をDSCで測定すると、発熱ピークの積分値の比より求められる
反応率(1−A/B)は、98%であった。焼成後も熱硬化性樹脂組成物の膜厚の面内ばらつきは、10.0μm±0.5μmと良好であった。得られたプラスチックシートは、厚み225μmで、平板上に置いた時にも反りやうねりがなく、表面粗さ(Ra)が40nmであり、また異物や気泡など表面欠陥による外観不良も無いシートであり、さらに強度、耐熱性、水蒸気バリア性などの条件も表示パネル用の基板として十分使用可能であった。
実施例1に用いたのと同じ熱硬化性樹脂組成物(1)を、転写基材に塗工せずに、直接ベ
ース基板の片面に塗布して、120℃90min硬化させた後、裏面も同様に塗工、硬化させて両面コートされた基板を作成した。ところが、ベース基板の片面に硬化性樹脂組成物(1)を塗布して硬化した段階で、硬化性樹脂組成物(1)の硬化収縮により基板に反りが発生したため、つづいて塗布面の裏面を塗布する際に、基板面内で膜厚が均一にすることができず、両面塗布後に基板にうねりが発生し、表示パネル用の基板として使用できなかった。
(比較例2)
実施例1に用いたのと同じ熱硬化性樹脂組成物(1)ワニスを、80℃3min乾燥して
、DSCから求められる反応率が20%とした以外は、実施例1と同様にして基板を作成した。得られた基板は面内で不均一にうねりが発生し、表示パネル用の基板として使用で
きなかった。
(比較例3)
実施例1に用いたのと同じ熱硬化性樹脂組成物(1)ワニスを、150℃5min乾燥し
て、DSCから求められる反応率が90%とした以外は、実施例1と同様にして基板を作成しようとしたが、転写基材をベース基板にラミネートする際に、熱硬化性樹脂組成物(1)が流動せず、ラミネート時の気泡巻き込みによる外観欠点が発生し、表示パネル用の基
板として使用できなかった。
(比較例4)
実施例5に用いたのと同じ熱硬化性樹脂組成物(5)ワニスを、80℃3min乾燥して
、DSCから求められる反応率が30%とした以外は、実施例5と同様にして基板を作製した。得られた基板は面内で不均一にうねりが発生し、表示パネル用の基板として使用できなかった。
(比較例5)
実施例5に用いたのと同じ熱硬化性樹脂組成物(5)ワニスを、150℃15min乾燥
して、DSCから求められる反応率が90%とした以外は、実施例5と同様にして基板を作製しようとしたが、有機物層(4)及び無機物層付きPETフィルムをベース基板にラミ
ネートする際に、熱硬化性樹脂組成物(5)が流動せず、ラミネート時の気泡巻き込みによ
る外観欠点が発生し、表示パネル用の基板として使用できなかった。
(比較例6)
実施例6に用いたのと同じ熱硬化性樹脂組成物(7)ワニスを、80℃3min乾燥して
、DSCから求められる反応率が30%として熱硬化性樹脂組成物(7)付きPETフィル
ム(積層体(3))を作製した以外は、実施例6と同様にして基板を作製した。得られた基
板は面内で不均一にうねりが発生し、表示パネル用の基板として使用できなかった。
(比較例7)
実施例6に用いたのと同じ熱硬化性樹脂組成物(7)ワニスを、150℃15min乾燥
して、DSCから求められる反応率が90%とした以外は、実施例6と同様にして基板を作製しようとしたが、熱硬化性樹脂組成物(7)付きPETフィルム(積層体(3))をベースシートにラミネートする際に、熱硬化性樹脂組成物(7)が流動せず、ラミネート時の気泡
巻き込みによる外観欠点が発生した。つづいて有機物層(6)及び無機物付きPETフィル
ム(積層体(2))をラミネートする際にも同様に気泡巻き込みによる外観欠点が発生し、
表示パネル用の基板として使用できなかった。
2 有機物層(1)
3 ベースシート
4 転写用基材(1)
5 有機物層(4)
6 無機物層
7 有機物層(5)
8 ベースシート
9 転写用基材(1)
10 有機物層(6)
11 無機物層
12 有機物層(7)
13 ベースシート
Claims (10)
- 転写用基材(1)に硬化性樹脂組成物(1)を塗布後、室温でタック性を持たず且つDSCにおける発熱量から求められる反応率が50〜85%まで、硬化反応を進めた後、ベースシート上に熱ラミネートし、さらに硬化を進めて有機物層(1)を形成後、転写用基材(1)を有機物層(1)から剥離する表示パネル用プラスチックシートの製造方法であって、前記硬化性樹脂組成物(1)がエポキシ樹脂、シアネート樹脂又はフェノール樹脂を主成分とした熱硬化性樹脂組成物であり、前記ベースシートがエポキシ樹脂又はシアネート樹脂をガラスクロスに含浸させた積層板であり、前記ベースシートの厚みが50〜300μmである表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
- 転写用基材(1)に、硬化性樹脂組成物(2)を塗布・硬化させて有機物層(2)を形成した後、その有機物層(2)上に無機物層を形成させ、さらに無機物層上に硬化性樹脂組成物(3)を塗布後、室温でタック性を持たず且つDSCにおける発熱量から求められる反応率が50〜85%まで、硬化反応を進めた後、ベースシート上に熱ラミネートし、さらに硬化を進めて有機物層(3)を形成後、転写用基材(1)を有機物層(2)から剥離する表示パネル用プラスチックシートの製造方法であって、前記硬化性樹脂組成物(3)がエポキシ樹脂、シアネート樹脂又はフェノール樹脂を主成分とした熱硬化性樹脂組成物であり、前記ベースシートがエポキシ樹脂又はシアネート樹脂をガラスクロスに含浸させた積層板であり、前記ベースシートの厚みが50〜300μmである表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
- 転写用基材(1)に、硬化性樹脂組成物(4)を塗布・硬化させて有機物層(4)を形成した後、その有機物層(4)上に無機物層を形成させて、積層体(1)を作製し、一方、ベースシート上に硬化性樹脂組成物(5)を塗布後、室温でタック性を持たず且つDSCにおける発熱量から求められる反応率が50〜85%まで、硬化反応を進めて有機物層(5)を形成した後、積層体(1)と熱ラミネートし、さらに硬化を進めて、転写用基材(1)を有機物層(4)から剥離する表示パネル用プラスチックシートの製造方法であって、前記硬化性樹脂組成物(5)がエポキシ樹脂、シアネート樹脂又はフェノール樹脂を主成分とした熱硬化性樹脂組成物であり、前記ベースシートがエポキシ樹脂又はシアネート樹脂をガラスクロスに含浸させた積層板であり、前記ベースシートの厚みが50〜300μmである表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
- 転写用基材(1)に、硬化性樹脂組成物(6)を塗布・硬化させて有機物層(6)を形成した後、その有機物層(6)上に無機物層を形成させて積層体(2)を作製し、一方、転写用基材(2)に硬化性樹脂組成物(7)を塗布後、室温でタック性を持たず且つDSCにおける発熱量から求められる反応率が50〜85%まで、硬化反応を進めて有機物層(7)を形成した後、ベースシート上に熱ラミネートし、冷却した後、転写用基材(2)から有機物層(7)を剥離して積層体(3)を作製した後、積層体(3)を再度加熱して有機物層(7)を溶融させ、前記積層体(2)の無機物層を有機物層(7)に合わせてラミネート後、さらに硬化を進めて転写用基材(1)を剥離する表示パネル用プラスチックシートの製造方法であって、前記硬化性樹脂組成物(7)がエポキシ樹脂、シアネート樹脂又はフェノール樹脂を主成分とした熱硬化性樹脂組成物であり、前記ベースシートがエポキシ樹脂又はシアネート樹脂をガラスクロスに含浸させた積層板であり、前記ベースシートの厚みが50〜300μmである表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
- 前記有機物層(1),(2),(4),および(6)のガラス転移温度が150℃以上である請求項1〜4何れか一項記載の表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
- 前記無機物層が水蒸気バリア性を有する請求項2〜4何れか一項記載の表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
- 前記無機物層が珪素酸化物または珪素窒化物または珪素窒化酸化物を主成分とする請求項2〜4何れか一項記載の表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
- 前記転写用基材(1)及び/または(2)の表面粗さがRa100nm以下である請求項1〜7何れか一項記載の表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
- 前記転写用基材(1)及び/または(2)が離型処理されている請求項1〜8何れか一項記載の表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
- 前記表示パネル用プラスチックシートが連続的に巻き取ることを特徴とする請求項1〜9何れか一項記載の表示パネル用プラスチックシートの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003411863A JP4407265B2 (ja) | 2003-03-11 | 2003-12-10 | 表示パネル用プラスチックシートの製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003064497 | 2003-03-11 | ||
JP2003076513 | 2003-03-19 | ||
JP2003079258 | 2003-03-24 | ||
JP2003411863A JP4407265B2 (ja) | 2003-03-11 | 2003-12-10 | 表示パネル用プラスチックシートの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004306586A JP2004306586A (ja) | 2004-11-04 |
JP4407265B2 true JP4407265B2 (ja) | 2010-02-03 |
Family
ID=33479778
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003411863A Expired - Fee Related JP4407265B2 (ja) | 2003-03-11 | 2003-12-10 | 表示パネル用プラスチックシートの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4407265B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101060980B (zh) * | 2004-11-19 | 2010-09-22 | 阿克佐诺贝尔股份有限公司 | 制备柔性机械补偿的透明层状材料的方法 |
JP2006184431A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Jsr Corp | 液晶表示素子およびその製造方法ならびにその部材 |
JP2009244757A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 透明基板 |
KR101097431B1 (ko) * | 2009-04-28 | 2011-12-23 | 제일모직주식회사 | 디스플레이 패널용 플렉서블 기판 및 그 제조 방법 |
WO2012117370A1 (en) * | 2011-03-01 | 2012-09-07 | Blyth David Edmond | A composite element and a method of manufacturing a composite element |
JP2016114922A (ja) * | 2014-12-12 | 2016-06-23 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルム及び画像表示装置 |
JP6855677B2 (ja) * | 2015-04-03 | 2021-04-07 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルム、画像表示装置 |
-
2003
- 2003-12-10 JP JP2003411863A patent/JP4407265B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004306586A (ja) | 2004-11-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6977099B2 (en) | Liquid crystalline transfer sheet and process of producing the same | |
CA2137207C (en) | Transparent functional membrane containing functional ultrafine particles, transparent functional film, and process for producing the same | |
JP6081123B2 (ja) | 基材レス両面粘着シート | |
TW200936523A (en) | Processes for producing glass/resin composite | |
KR101561326B1 (ko) | 편광자 부착 적층체, 지지체 부착 표시 장치용 패널, 표시 장치용 패널, 표시 장치 및 이들의 제조 방법 | |
JP5903794B2 (ja) | 偏光板のセット、液晶パネル及び液晶表示装置 | |
KR20130034629A (ko) | 아크릴계 수지 필름 및 그 제조 방법, 그리고 그것을 사용하여 이루어지는 편광판 | |
JP4407265B2 (ja) | 表示パネル用プラスチックシートの製造方法 | |
WO2006067964A1 (ja) | 熱プレス成形用離型ポリエステルフィルム | |
JP2002069210A (ja) | 光学用等方性シートおよびその製造方法 | |
JP2016060128A (ja) | 転写フィルム及びそれを用いた樹脂/ガラス積層体の製造方法、並びに樹脂/ガラス積層体 | |
JP2012051220A (ja) | 積層体および積層体の製造方法 | |
JP2003048279A (ja) | 高分子シートの製造方法およびこれを用いた高分子シート | |
JP5076267B2 (ja) | 高分子シートの製造方法およびこれを用いた表示素子用基板 | |
JP4098056B2 (ja) | 透明シート | |
JP2004211067A (ja) | 表示素子用プラスチックシートの製造方法 | |
JPH08224823A (ja) | 光学プラスチック積層シート及びその製造方法 | |
JP2004145157A (ja) | ノングレア処理された物体の製造方法 | |
JP2004238465A (ja) | 複合基板の製造方法 | |
JP2002273811A (ja) | 光学用高分子シート | |
JP2003080637A (ja) | 高分子シートの製造方法およびこれを用いた表示素子用基板 | |
JP2004130736A (ja) | 易滑化フィルムの製造方法およびこれを用いた表示用プラスチック基板 | |
CN117863672A (zh) | 制作玻璃组件的方法、玻璃组件及窗体总成 | |
JPH08174741A (ja) | 滑性フィルム | |
TWI247639B (en) | Surface modified composite sheet |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060530 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080821 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080902 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081028 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090512 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090513 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091020 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091102 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121120 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131120 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |