CN101038345A - 光学薄膜用组合物和光学薄膜 - Google Patents

光学薄膜用组合物和光学薄膜 Download PDF

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Abstract

光学薄膜用组合物包含一种稳定的花青染料和猝灭剂化合物，其中，所述稳定花青染料包含阳离子和猝灭剂阴离子，所述阳离子选自以下通式(I)－(III)所示的化合物，式中，环A和A’各自相互独立，为苯环、萘环或吡啶环；R1和R1’各自相互独立，为卤原子、硝基、氰基、C6－C30芳基、C1－8烷基或C1－8烷氧基；R2、R3和R4各自相互独立，为氢原子、卤原子、氰基、C6－C30芳基、二苯基氨基或者C1－8烷基；X和X’各自相互独立，为氧原子、硫原子、硒原子、丙烷－2，2－二基、丁烷－2，2－二基、C3－6环烷－1，1－二基、－NH－或－NY1－；Y、Y’和Y1各自相互独立，为C1－30有机基团；r和r’各自相互独立，为0－2的整数。

Description

光学薄膜用组合物和光学薄膜
本申请是申请日为2004.07.09，申请号为200410063656.4，发明名称为“光学薄膜用组合物和光学薄膜”的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种用于具有近红外吸收性的光学薄膜的组合物以及使用这种组合物的光学薄膜，上述组合物吸收近红外线。本发明特别涉及一种用于滤光片的光学薄膜，安装在等离子显示屏(下文简称为PDP)观看面上。
背景技术
PDP的原理是对密封在一对玻璃板之间的稀有气体(如氦、氖、氩或氙)施加电压，由此产生的紫外线照射磷，而产生可见光。
伴随着可见光，从PDP还会辐射出有害光线，如近红外线或电磁波。例如，近红外线可能会导致家用电器如电视、空调或录像机的近红外遥控器失灵，或者导致通讯设备失灵，对例如POS(销售点)系统的数据传输不利。因此，在PDP的正面(观看面)上，必须提供滤光片，以阻挡有害光线如近红外线。
迄今为止，已经提出使用光学薄膜作为滤光片来屏蔽波长为850-1100nm的近红外线。
这种光学薄膜例如是近红外线吸收染料分散在透明树脂中，然后将其，在例如聚对苯二甲酸乙二酯(PET)的薄膜上形成的一种薄膜。
至于近红外吸收染料，已报道各种聚甲炔类、金属配合物类、squalium类、花青类、靛苯胺类、二亚胺(diimonium)类等染料。这些染料通常以两种或多种类型的混合物使用，以提供高度红外吸收性。例如，JP-A-2003-21715提出具有包含花青染料和二亚胺染料的近红外吸收层的近红外吸收薄膜。
但是，这些染料存在如下问题：其耐光性差，并可能恶化。尤其是当混合使用两种或多种染料时，有时会观察到染料中一种出现显著的恶化，例如当在上述专利文献的近红外吸收薄膜中混合使用花青染料和二亚胺染料时，所述二亚胺染料的恶化特别明显。染料的恶化导致薄膜变色，这会使薄膜的光学性能变差。
为了提高染料的耐光性，例如JP-A-2002-350632公开了一种通过使花青阳离子形成具有猝灭剂阴离子的盐来稳定的含花青染料的滤光片。
此外，JP-A-2003-43244公开了一种近红外吸收薄膜，它具有包含二亚胺染料和猝灭剂化合物的层，以及包含花青染料和猝灭剂化合物的层。
但是，例如JP-A-2002-350632中公开的稳定花青染料的耐光性不足以进行实际应用，虽然它比普通花青染料稳定。
此外，JP-A-2003-43244中公开的近红外吸收薄膜需要许多步骤才能分别将多种染料加入各独立层中，因此其生产率差，这一点是不合乎需要的。
另一方面，所述二亚胺染料是一种能吸收近红外线的典型染料，它广泛用于例如近红外滤光片、隔热薄膜或太阳镜。
但是，所述二亚胺染料抗光、热、湿度等性能差，因此就存在可能恶化的问题。这种染料的恶化不仅降低了近红外吸收性，还会导致变色，这样其可见光透射率降低，并且所见颜色往往略带绿色，使所述光学薄膜的光学特性变差。然而，例如JP-A-2003-96040公开了一种包含特殊结构二亚胺染料的近红外吸收滤光片。而且，JP-A-2003-75628公开了一种透明树脂中加入二亚胺染料和蒽醌染料的滤光片。
但是，例如JP-A-2003-96040公开的二亚胺染料，其抗湿性差，即使其耐热性良好。此外，JP-A-2003-75628公开的二亚胺染料具有一定程度的抗湿性，但是这种抗湿性有时并不够。因此，所述光学薄膜会变色，并且其光学特性会恶化。
发明内容
鉴于上述现有技术领域中的问题作出本发明，其目的是提供用于光学薄膜的组合物，它具有高度近红外吸收性，且耐光性优良；并提供结构简单且易于制造的光学薄膜。此外，本发明的目的是提供一种抗湿性和光学特性优良的光学薄膜。
第一方面，本发明提供一种光学薄膜组合物，它包含稳定的花青染料和猝灭剂化合物，其中，所述稳定的花青染料包含阳离子和猝灭剂阴离子，所述阳离子选自以下通式(I)-(III)所示的化合物：
Figure A20071009715500061
式中，环A和A’各自相互独立，为苯环、萘环或吡啶环；R1和R1’各自相互独立，为卤原子、硝基、氰基、C6-C30芳基、C1-8烷基或C1-8烷氧基；R2、R3和R4各自相互独立，为氢原子、卤原子、氰基、C6-C30芳基、二苯基氨基或者C1-8烷基；X和X’各自相互独立，为氧原子、硫原子、硒原子、丙烷-2，2-二基、丁烷-2，2-二基、C3-6环烷-1，1-二基、-NH-或-NY1-；Y、Y’和Y1各自相互独立，为C1-30有机基团；r和r’各自相互独立，为0-2的整数。
第二方面，本发明提供一种光学薄膜，它具有近红外吸收层，在该近红外吸收层中，上述用于光学薄膜的组合物分散在透明树脂中。
第三方面，本发明提供一种具有近红外吸收层的光学薄膜，该近红外吸收层，包含透明树脂以及透明树脂中所含的以下通式(V)所示的二亚胺染料：
Figure A20071009715500071
式中，R17-R24各自相互独立，为氢原子、烷基(可以是取代的)、链烯基(可以是取代的)、芳基(可以是取代的)、或者炔基(可以是取代的)；X-是(RfSO2)2N-或(RfSO2)3C-表示的阴离子，Rf是C1-4氟烷基。
使用本发明的光学薄膜用组合物，可以提供具有高近红外吸收性的光学薄膜，其耐光性优良，且结构简单，易于制造。此外，使用包含带特殊阴离子的二亚胺染料的光学薄膜，可以提供其抗湿性和光学特性优良的光学薄膜。
具体实施方式
现在，参考优选实施方式详细说明本发明。
光学薄膜用组合物
本发明第一方面所述的光学薄膜用组合物的特征在于它包含稳定的花青染料和猝灭剂化合物，并且具有近红外吸收性。
稳定的花青染料
在本发明第一方面中，所述稳定的花青染料是包含选自以上通式(I)-(III)所示化合物的阳离子(下文有时称为花青阳离子)以及猝灭剂阴离子的盐化合物。
花青阳离子
在以上通式(I)-(III)中，
在R1和R1’中，所述卤原子是氟、氯、溴或碘；
所述C6-C30芳基是苯基、萘基、2-甲基苯基、3-甲基苯基、4-甲基苯基、4-乙烯基苯基、3-异丙基苯基、4-异丙基苯基、4-丁基苯基、4-异丁基苯基、4-叔丁基苯基、4-己基苯基、4-环己基苯基、4-辛基苯基、4-(2-乙基己基)苯基、4-硬脂基苯基、2，3-二甲基苯基、2，4-二甲基苯基、2，5-二甲基苯基、2，6-二甲基苯基、3，4-二甲基苯基、3，5-二甲基苯基、2，4-二叔丁基苯基、2，5-二叔丁基苯基、2，6-二叔丁基苯基、2，4-二叔戊基苯基、2，5-二叔戊基苯基、2，5-二叔辛基苯基、2，4-二枯基苯基、环己基苯基、联苯基或者2，4，5-三甲基苯基；所述C1-8烷基可以是甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、仲丁基、叔丁基、异丁基、戊基、异戊基、叔戊基、己基、环己基、环己基甲基、2-环己基乙基、庚基、异庚基、叔庚基、正辛基、异辛基、叔辛基或2-乙基己基；所述C1-8烷氧基可以是甲氧基、乙氧基、异丙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、异戊氧基、己氧基、庚氧基、辛氧基或2-乙基己氧基。
在R2、R3和R4中，所述卤原子、C6-C30芳基和C1-8烷基如以上R1中所列举的。
在X和X’中，所述C3-6环烷-1，1-二基可以是环丙烷-1，1-二基、环丁烷-1，1-二基、2，4-二甲基环丁烷-1，1-二基、3-二甲基环丁烷-1，1-二基、环戊烷-1，1-二基或环己烷-1，1-二基。
所述Y、Y’和Y1表示的C1-30有机基团可以是烷基如甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、仲丁基、叔丁基、异丁基、戊基、异戊基、叔戊基、己基、环己基、环己基甲基、2-环己基乙基、庚基、异庚基、叔庚基、正辛基、异辛基、叔辛基、2-乙基己基、壬基、异壬基、癸基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基或十八烷基，链烯基如乙烯基、1-甲基乙烯基、2-甲基乙烯基、丙烯基、丁烯基、异丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、辛烯基、癸烯基、十五烯基或1-苯基丙烯-3-基，烷芳基如苯基、萘基、2-甲基苯基、3-甲基苯基、4-甲基苯基、4-乙烯基苯基、3-异丙基苯基、4-异丙基苯基、4-丁基苯基、4-异丁基苯基、4-叔丁基苯基、4-己基苯基、4-环己基苯基、4-辛基苯基、4-(2-乙基己基)苯基、4-硬脂基苯基、2，3-二甲基苯基、2，4-二甲基苯基、2，5-二甲基苯基、2，6-二甲基苯基、3，4-二甲基苯基、3，5-二甲基苯基、2，4-二叔丁基苯基或者环己基苯基，芳烷基如苄基、苯乙基、2-苯基丙烷-2-基、二苯基甲基、三苯基甲基、苯乙烯基或肉桂基，具有由醚键或硫醚键中断的这种基团的基团如2-甲氧基乙基、3-甲氧基丙基、4-甲氧基丁基、2-丁氧基乙基、甲氧基乙氧基乙基、甲氧基乙氧基乙氧基乙基、3-甲氧基丁基、2-苯氧基乙基、3-苯氧基丙基、2-甲硫基乙基或者2-苯硫基乙基。此外，这些基团可以用烷氧基、链烯基、硝基、氰基、卤原子等取代。
其中，优选其中R2是卤原子的花青阳离子，这是因为滤光片的红外吸收效果良好。而且，优选其中X和X’各自为选自丙烷-2，2-二基、丁烷-2，2-二基和C3-6环烷-1，1-二基的花青阳离子，这是由于其光稳定性高。
更具体的是，这种优选的花青阳离子可以是以下阳离子No.1-50。
阳离子  1                                                                                              阳离子  2
Figure A20071009715500091
阳离子  3                                                                                              阳离子  4
Figure A20071009715500092
阳离子  5                                                                                              阳离子  6
Figure A20071009715500093
阳离子  7                                                                                              阳离子  8
Figure A20071009715500094
阳离子  9                                                                                              阳离子  10
Figure A20071009715500095
阳离子  11                                                                                             阳离子  12
Figure A20071009715500101
阳离子  13                                                                                             阳离子  14
Figure A20071009715500102
阳离子  15                                                                                             阳离子  16
Figure A20071009715500103
阳离子  17                                                                                             阳离子  18
Figure A20071009715500104
阳离子  19                                                                                             阳离子  20
Figure A20071009715500105
阳离子  21                                                                                             阳离子  22
阳离子  23                                                                                             阳离子  24
阳离子  25                                                                                             阳离子  26
Figure A20071009715500113
阳离子  27                                                                                             阳离子  28
阳离子  29                                                                                             阳离子  30
Figure A20071009715500115
阳离子  31                                                                                             阳离子  32
Figure A20071009715500121
阳离子  33                                                                                             阳离子  34
阳离子  35                                                                                             阳离子  36
Figure A20071009715500123
阳离子  37                                                                                             阳离子  38
阳离子  39                                                                                             阳离子  40
Figure A20071009715500125
阳离子  41                                                                                             阳离子  42
Figure A20071009715500131
阳离子  43                                                                                             阳离子  44
Figure A20071009715500132
阳离子  45                                                                                             阳离子  46
Figure A20071009715500133
阳离子  47                                                                                             阳离子  48
阳离子  49                                                                                             阳离子  50
Figure A20071009715500135
猝灭剂阴离子
本发明中，所述猝灭剂阴离子是指具有使激发态活性分子(例如，单线态氧1O2)去激活(猝灭)功能的阴离子。例如在JP-A-60-234892、JP-A-5-43814、JP-A-6-239028、JP-A-9-309886和JP-A-10-45767等中公开的这种猝灭剂阴离子可用于光记录材料。
至于这种猝灭剂阴离子，优选苯硫酚金属配合物阴离子，这是因为它为滤光片提供特别优良的耐光性。至于苯硫酚金属配合物阴离子，例如有以下通式(A)所示的阴离子：
Figure A20071009715500141
式中，M是镍原子或铜原子，R5和R5’各自为氢原子、卤原子、C1-8烷基、C6-30芳基或者-SO2-Q，其中Q是C1-8烷基、C6-30烷基(可以被卤原子取代)，二烷基氨基、二芳基氨基、哌啶子基或者吗啉代；a和a’各自为1-4的整数。
在上式(A)中，R5和R5’所示的卤原子、C1-8烷基以及C6-30芳基如R1中所列举的。
Q所示的C1-8烷基如R1中所列举的，可以被卤原子取代的C6-30芳基如R1中所列举的，或者是具有被1-4个卤原子取代的苯环的C6-30芳基。至于二烷基氨基或者二芳基氨基中所含的烷基或芳基，可以是R1中所列举的C1-8烷基或者C6-30芳基。至于上式(A)所示具体的猝灭阴离子的例子，当M是镍原子时可以是以下阴离子No.1-11；当M是铜原子时可以是以下阴离子No.12-22。
Figure A20071009715500151
Figure A20071009715500161
本发明中，所述稳定的花青染料是上述花青阳离子和猝灭剂阴离子的盐，并且可以根据熟知的方法制得。
例如，它容易通过盐交换具有带卤素、无机阴离子或有机阴离子的相应结构的花青阳离子盐化合物和具有带四烷基铵阳离子的相应结构的猝灭剂阴离子盐化合物来制备。
以组合物中所含固体总量计，本发明光学薄膜组合物中稳定的花青染料量较好约为0.01-30质量％，更好为0.1-10质量％。
猝灭剂化合物
本发明中，所述猝灭剂是具有使激发态活性分子去激活功能的化合物，如上述猝灭剂阴离子。
本发明中，和上述稳定的花青染料混合使用的猝灭剂化合物没有特殊限制，可以使用在光学薄膜如近红外吸收薄膜中常用作猝灭剂化合物的任选化合物。至于猝灭剂化合物，例如可以是二亚胺染料、铝染料、二硫醇金属配合物染料如二硫醇镍配合物(例如，见JP-A-2001-288380)或二硫醇铜配合物(例如，见WO98/34988)。受阻胺染料或二苯胺的亚硝基化合物(例如，见JP-A-2000-168233)。这些猝灭剂化合物可以单独使用或者两种或多种不同类型混合使用。
近红外吸收猝灭剂化合物
本发明上述猝灭剂化合物中，较好使用近红外吸收猝灭剂化合物如二亚胺染料、铝染料和二硫醇镍配合物。通过加入这种近红外吸收猝灭剂化合物，可以获得更高的近红外吸收性。
本发明中，“近红外吸收猝灭剂化合物”是指为上述猝灭剂化合物并具有近红外吸收性的化合物。
此处，“具有近红外吸收性”是指当通过以下测量方法测量所述猝灭剂化合物的吸收光谱时，在800-1100nm的波长范围内具有吸收峰，且在该波长(最大吸收波长λmax)的摩尔吸光系数(εm)至少为1.1×103。
测量摩尔吸光系数(εm)的方法
用氯仿稀释所述猝灭剂化合物，使样品的浓度为20mg/l，制得样品溶液。使用分光光度计在300-1300nm的范围内测量这种样品溶液的吸收光谱(由此，读出最大吸收波长(λmax)，并通过下式计算在最大吸收波长(λmax)下的摩尔吸光系数(εm))。
ε＝-log(I/Io)
(ε：吸光系数，Io：入射前光强，I：入射后光强)
εm＝ε/(c·d)
(εm：摩尔吸光系数，c：样品浓度(mol/L)，d：测定池长度)
这些红外吸收猝灭剂化合物可以单独使用，或者两种或多种类型混合使用。
至于这样的近红外吸收猝灭剂化合物，较好使用二亚胺染料，这是因为由此得到的光学薄膜可见颜色尤其好。
此外如上所述，在JP-A-2003-21715中，已知当混合使用二亚胺染料和花青染料时，会导致显著的恶化。但是，在本发明中通过混合二亚胺染料和稳定的花青染料，不仅可以防止所述稳定的花青染料恶化，而且还可以防止二亚胺染料恶化。因此，所得光学薄膜不仅具有高近红外吸收性，而且其耐久性优良。
所述二亚胺染料是以下通式(IV)所示的化合物：
Figure A20071009715500181
式中，R17-R24各自相互独立，为氢原子、可取代的烷基、可取代的链烯基、可取代的芳基或者可取代的炔基，且Z-是阴离子。
在R17-R24中，所述烷基可以是例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、叔戊基、正己基、正辛基或者叔辛基。这种烷基可以具有取代基，如烷氧羰基、羟基、磺基或者羧基。
所述链烯基可以是例如乙烯基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、或辛烯基。这种链烯基可以具有取代基，如羟基或羧基。
所述芳基可以是例如苄基、对氯苄基、对甲基苄基、2-苯基甲基、2-苯基丙基、3-苯基丙基、α-萘基甲基或者β-萘基乙基。这种芳基可以具有取代基，如羟基或羧基。
所述炔基可以是例如丙炔基、丁炔基、2-氯丁炔基、戊炔基或己炔基。这种炔基可以具有取代基，如羟基或羧基。
其中，优选C4-6直链或支链烷基。当所述碳原子数至少为4时，在有机溶剂中的溶解度良好，当碳原子数至多为6时，耐热性可以提高。这种耐热性提高的原因认为是二亚胺染料(I)的熔点提高。
Z-表示阴离子，如氯离子、溴离子、碘离子、高氯酸根离子、高碘酸根离子(periodic)、硝酸根离子、苯磺酸根离子、对甲苯磺酸根离子、甲基硫酸根离子、乙基硫酸根离子、丙基硫酸根离子、四氟硼酸根离子、四苯基硼酸根离子、六氟磷酸根离子、苯亚磺酸根离子(sulfinic)、乙酸根离子、三氟乙酸根离子、丙酸(propionacetic)离子、苯甲酸根离子、草酸根离子、琥珀酸根离子、丙二酸根离子、油酸根离子、硬脂酸根离子、柠檬酸根离子、二磷酸氢离子、单磷酸根二氢离子、五氯锡酸根离子、氯磺酸根离子、氟磺酸根离子、三氟甲磺酸根离子、六氟锑酸根离子、钼酸根离子、钨酸根离子、钛酸根离子或锆酸根离子，或者(RfSO2)2N-或(RfSO2)3C-。
此处，Rf是C1-4氟代烷基，较好是C1-2氟烷基，最好是C1氟烷基。若碳数在上述范围内，则优选之，因为其耐久性如耐热性或抗湿性，以及在上述有机溶剂中的溶解性良好。至于Rf，例如可以是全氟烷基，如-CF3、-C2F5、-C3F7或-C4F9、-C2F4H、-C3F6H或-C2F8H。
上述氟烷基尤其较好是全氟烷基，由此所述抗湿性度优良。而且，最好是三氟甲基。
这些阴离子中，优选高氯酸根离子、碘离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、六氟锑酸根离子或三氟甲磺酸根离子。尤其优选六氟锑酸根离子，这是由于其热稳定性最好；优选(RfSO2)2N-或(RfSO2)3C-，这是因为其抗湿性也优良。
在本发明第一方面，所述二亚胺染料较好是按上述测量方法进行测量时，其在1000nm附近的摩尔吸光系数εm约为0.8×104-1.0×106的染料。
而且，为了抑制加工过程中光学薄膜的恶化，或者在形成光学薄膜之后赋予其实用的耐久性，优选使用纯度至少为98％的二亚胺染料，或者熔点至少为210℃的二亚胺染料。特别优选使用纯度至少为98％和熔点至少为210℃的二亚胺染料。
本发明第一方面光学薄膜用组合物中的猝灭剂化合物的量较好是，每100质量份所述稳定的花青化合物为10-5000质量份，更好为50-2000质量份，再好为100-1500质量份。当所述量至少为10质量份时，提高耐久度如耐光性或耐热性的效果足够，并且当不高于5000质量份时，使用所述组合物形成的近红外吸收层并未着色，由此可制得具有良好外观的光学薄膜。
当所述猝灭剂化合物包含近红外吸收猝灭剂化合物时，所述整个猝灭剂化合物中近红外吸收猝灭剂化合物的比例较好为30-100质量％，更好是50-100质量％，再好是80-100质量％。当所述近红外吸收猝灭剂化合物的比例至少为30质量％时，就可以获得足够的近红外吸收性。
在本发明第一方面，如上所述，尤其优选将二亚胺染料作为近红外吸收猝灭剂化合物加入，且其量较好是，每100质量份所述稳定的花青化合物为50-300质量份，更好是100-2000质量份，更好是50-1500质量份。
当所述量至少为50质量份时，提高耐久性如耐光性或耐热性的效果足够，同时可以获得足够的近红外吸收性，当其量不超过3000质量份时，和稳定的花青染料的相互作用被抑制，由此，所述染料的稳定性良好。
其它任选组分
此外除了上述稳定的花青染料和近红外吸收猝灭剂化合物以外，可以在不影响本发明效果的范围内往本发明光学薄膜用组合物中加入最大吸收波长为800-1100nm范围内的至少一种近红外吸收染料。
至于近红外吸收染料，可以使用普通的染料，如无机颜料、有机颜料或有机染料。
至于所述无机颜料，例如可以提及钴颜料、铁颜料、铬颜料、钛颜料、钒颜料、锆颜料、钼颜料、钌颜料、铂颜料、ITO颜料或ATO颜料。
至于所述有机颜料或有机染料，例如可以提及除稳定的花青染料以外的其它花青染料、部花青染料、chloconium染料、squalium染料、azulenium、聚甲炔染料、萘醌染料、pyririum染料、酞菁染料、萘菁(naphthalocyanine)染料、萘并内酰胺(naphtholactam)染料、偶氮染料、缩合偶氮染料、靛蓝染料、perinone染料、二萘嵌苯染料、二噁嗪染料、喹吖啶酮染料、异吲哚啉酮染料、奎酞酮染料、吡咯染料、蒽醌染料、硫靛染料、金属配合物染料、吲哚苯酚(indolphenol)染料或三烯丙基甲烷染料。
其中，优选例如金属配合物染料、酞菁染料、萘菁染料、吡咯染料或蒽醌染料。
此外，当二亚胺染料作为猝灭剂化合物加入，并且将包含阴离子的盐或金属配盐作为近红外吸收染料或色调校正染料加入时，尤其优选盐化合物或金属配盐具有和上述二亚胺染料的阴离子相同的阴离子。在阴离子相同时，甚至当发生和二亚胺染料阴离子的盐交换反应时，所述二亚胺染料也不会改变，其吸收性和热稳定性也不会改变。
此外，本发明第一方面中光学薄膜用组合物还可包含色调校正染料(其最大吸收波长在300-800nm的范围内)、匀染剂、抗静电剂、热稳定剂、抗氧化剂、分散剂、阻燃剂、润滑剂、增塑剂或紫外吸收剂、
光学薄膜
本发明第二方面的光学薄膜是具有近红外吸收层的光学薄膜，该近红外吸收层包含透明树脂和上述分散在透明树脂中的光学薄膜用组合物。而且，本发明第三方面的光学薄膜的特征在于它具有近红外吸收层，该层包含透明树脂以及所述透明树脂中所含的上述通式(V)所示的二亚胺染料(下文有时称为二亚胺染料(V))。
在通式(V)中，R17-R24如上所述。此外，X-是(RfSO2)2N-或(RfSO2)3C-表示的阴离子。从合成效率来看，X-较好是(RfSO2)2N-。此处，Rf是C1-4氟烷基、较好是C1-2氟烷基，最好是C1氟烷基。当所述碳原子数在上述范围内时，所述耐久性如耐热性或抗湿性，以及在以下有机溶剂中的溶解性均良好，因此优选之。这种Rf可以是例如全氟烷基，如-CF3、-C2F5、-C3F7或-C4F9，或-C2F4H、-C3F6H或-C4F8H。
尤其优选上述氟烷基是全氟烷基，这是因为其抗湿性最好。而且，它最好是三氟甲基。
通过使用具有阴离子(X-)作为阴离子的二亚胺染料(V)来提高抗湿性的原因并不是很清楚。至今，主要可以使用无机阴离子如SbF6-、PF6-、BF4-或ClO4-作为二亚胺染料的阴离子。但是，这种无机阴离子容易受水的影响，由此所述二亚胺染料的稳定性差。但是认为本发明所用阴离子(X-)具有RfSO2基团具的高吸电子性，因而所述二亚胺染料(V)可以稳定存在。
对于所述二亚胺染料(V)，尤其优选在1000nm附近的摩尔吸光系数(εm)约为0.8×104-1.0×106，该值用上述测量方法测得。
此外，为了抑制加工过程中光学薄膜的恶化，或者在形成光学薄膜之后赋予其实用的耐久性，优选使用纯度至少为98％的二亚胺染料(V)，或者熔点至少为210℃的二亚胺染料(V)。尤其优选使用纯度至少为98％且熔点至少为210℃的二亚胺染料(V)。
在本发明第三方面的光学薄膜中，除了所述二亚胺染料(V)以外，还可以加入至少一种其它任选组分，这种其它任选组分如上所述。
当二亚胺染料(V)的最大吸收波长在1000nm附近时，尤其优选加入所述最大吸收波长(λmax)在850nm附近的染料，由此有效吸收大量的近红外射线，并且染料总量(二亚胺染料(V)和其它近红外吸收染料的总量)可降低。因此，会有成本可降低、几乎不发生染料恶化的优点，并且在形成所述近红外吸收层时，染料可以充分溶解在有机溶剂中。
此外，当除了二亚胺染料(V)加入作为近红外吸收染料的包含阴离子的盐化合物或金属配盐时，这种盐化合物或金属配盐较好具有和二亚胺染料(V)中阴离子(X-)相同的阴离子。在阴离子相同时，即使当发生和二亚胺染料(V)阴离子的盐交换反应时，所述二亚胺染料(V)也不会改变，其抗湿性、耐热性和近红外吸收性等也不会改变。
在本发明第二和第三方面，所述透明树脂的玻璃化转变温度较好为90-180℃，尤其较好为120-180℃，这样就可以保持实用的耐久性，所述成型较简单，或者可以抑制成型过程中染料的恶化。
至于所述优选的透明树脂，可以是热塑性树脂，如聚酯树脂、聚烯烃树脂、聚环烯烃树脂、聚碳酸酯树脂或聚丙烯酸树脂。至于这样的树脂，可以使用市售产品，如聚酯树脂(O-PET，商品名，由Kanebo，Ltd.制造)、聚烯烃树脂(ARTON，商品名，由JSR制造)、聚环烯烃树脂(Zeonex，商品名，由Zeon Corporation制造)、聚碳酸酯树脂(IUPILON，商品名，由Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation制造)或者聚丙烯酸树脂(Halshybrid IR-G204，商品名，由Nippon Shokubai Co.，Ltd.制造)。
所述近红外吸收层可以例如由如下步骤形成：在有机溶剂中溶解上述光学薄膜用组合物或二亚胺染料(V)、和任选组分以及透明树脂，并将所得涂覆溶液施涂到基材上，之后进行干燥。
以所述透明树脂计，所述近红外吸收层中光学薄膜用组合物或二亚胺染料(V)的量较好为3-20质量％。当其量至少为3质量％时，可以为光学薄膜提供足够的近红外吸收性，当其量至多为20质量％时，可以保持足够的可见光透射率。基于这种观点，尤其较好是5-10质量％。
至于溶解光学薄膜用组合物或二亚胺染料(V)和透明树脂的有机溶剂，可以使用醇如甲醇、乙醇、异丙醇、双丙酮醇、乙基溶纤剂或甲基溶纤剂，酮如丙酮、甲基乙基酮、环戊酮或环己酮，酰胺如N，N-二甲基甲酰胺或N，N-二甲基乙酰胺，亚砜如二甲基亚砜，醚如四氢呋喃、二噁烷或乙二醇一甲醚，酯如乙酸甲酯、乙酸乙酯或乙酸丁酯，脂族卤代烃如氯仿、二氯甲烷、二氯乙烯、四氯化碳或三氯乙烯，芳烃如苯、甲苯、二甲苯、一氯苯或二氯苯，脂肪烃如正己烷或环己烷石油轻溶剂油，或氟类溶剂如四氟丙醇或五氟丙醇。所述涂覆溶液的施涂可以通过如下涂布方法来进行：浸涂法、喷涂法、旋涂法、珠涂法、绕线棒涂布法、刮涂法、辊涂法、幕涂法、窄缝模头涂布法、凹版涂布法、狭缝反转涂布法、微凹槽辊涂法或点涂布法。
所述近红外吸收层的厚度较好为0.3-50.0微米。当厚度至少为0.3微米时，可以充分地提供近红外吸收性，当厚度至多50微米时，可以降低在成型过程中残留的有机溶剂。从这种观点来看，尤其优选为0.5-20.0微米。
本发明第二或第三方面所述的光学薄膜通常置于PDP等的观看面上，因此要求具有消色差的颜色。因此，本发明光学薄膜较好通过合适地选择所述染料的类型和含量来进行调整，以满足(x，y)＝(0.310±0.100，0.316±0.100)，这是因为根据标准光源C，对应于消色差颜色的色度坐标为(x，y)＝(0.310，0.316)，按JIS Z8701-1999计算。
此外，所述可见光平均透射率较好调至至少45％。
尤其优选同时满足上述色度坐标(x，y)的定义和以上可见光平均透射率的定义。
此外，本发明第二或第三方面的光学薄膜可以具有至少一个任选的功能层(除近红外吸收层以外)。至于这种功能层，可以是例如防止染料因紫外线而恶化并提高耐光性的紫外吸收层，提高图像可视性的防反射层，屏蔽显示器如PDP发射的电磁波的电磁波屏蔽层、提供抗划伤性功能的硬涂层、具有自复原性的层、防止外表面污损的防污层或者用于粘结各层的粘合剂或粘结层。
本发明第二或第三方面的光学薄膜可以是近红外吸收层，其本身形成在具有剥离性的基材上，然后剥离；或者可以是通过在载膜上形成近红外吸收层，与透明载膜(下文称为载膜)整体形的层。
所述具有剥离性的基材可以呈薄膜或片状，且对所述材料没有特殊限制。为了提高所述剥离性，较好对所述基材表面进行剥离处理：例如通过使用硅氧烷或表面张力低的树脂。
用于载膜的材料可以任选自以下材料：聚酯如聚对苯二甲酸乙二酯(PET)或聚对苯二甲酸丁二酯(PBT)，聚烯烃如聚乙烯或聚丙烯，聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)，聚碳酸酯(PC)，聚苯乙烯、三乙酸酯，聚乙烯醇、聚氯甲烷、聚偏二氯乙烯、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯醇缩丁醛、聚氨酯和玻璃纸。优选例如PET、PC或PMMA。
所述载膜的厚度较好为10-500微米，这样其操作效率良好。且雾度值可以控制得较低。此外，在载膜上形成光学薄膜之前，优选对载膜的表面进行电晕处理或便于附着的处理。
本发明第二或第三方面的光学薄膜不论它是从具有剥离性的基材上剥离的，还是与载膜整体形成。可通过提供粘合剂层容易粘结到刚性高的透明基材(下文称为透明基材)上。
透明基材用材料可以任选自玻璃和刚性高的透明聚合物材料。优选的可以是例如玻璃、退火或半退火的玻璃、聚碳酸酯或聚丙烯酸酯。当具有粘结到透明基材上的光学薄膜的物件用作滤光片时，它能提供作为显示器如PDP保护片的功能。
至于粘合剂层用的粘合剂，可以使用市售的粘合剂。至于优选的具体例子，可以是粘合剂如丙烯酸酯共聚物、聚氯乙烯、环氧树脂、聚氨酯、乙酸乙烯酯共聚物、苯乙烯/丙烯酸类共聚物、聚酯、聚酰胺、聚烯烃、苯乙烯/丁二烯共聚物橡胶、丁基橡胶和硅树脂。而且，当所述粘合剂层要进行层压时，从操作效率来看，优选粘结剥离膜如用硅氧烷涂布的PET到其粘结表面上。
当要用粘合剂时，可以将具有各种功能的添加剂如紫外吸收剂加入到这种粘合剂中。
本发明第二或第三实施方式的光学薄膜或者具有粘结到透明基材上的光学薄膜的物件可以用作显示器如阴极射线管显示器或平面显示器如PDP，等离子寻址液晶(PALC)显示屏或场致发射(FED)显示屏用的滤光片。
本发明第二或第三实施方式的光学薄膜具有高近红外吸收性，且其耐久性如耐光性或耐热性优良，这样就适用于例如发射近红外射线的PDP的滤光片。
现在，参考以下实施例更加详细地说明本发明。本发明决不受这些实施例限制。例1-8和12-17是本发明的实施例，例9-11和18-22是对比例。
此外，以下例1-11(稳定的花青染料和近红外吸收猝灭剂化合物)中所用近红外吸收染料的λmax和εm通过如下步骤测得。
用氯仿稀释所述近红外吸收染料，使所述样品浓度为20mg/l，以制得样品溶液。使用UV-3100(由Shimadzu Corporation制造)在300-1300nm内测量这种样品溶液的吸收光谱，由此读出最大吸收波长(λmax)，通过下式计算在最大吸收波长(λmax)下的摩尔吸光系数(εm)：
ε＝-log(I/Io)
(ε：吸光系数，Io：入射前光强，I：入射后光强)
εm＝ε/(c·d)
(εm：吸光系数，c：样品浓度(mol/L)，d：测量地长度)
实施例1
将玻璃化转变温度为140℃的透明聚酯树脂(“O-PET”，商品名，由Kanebo，Ltd.制造)溶解在环戊酮/甲苯(6/4体积比)的混合溶剂中，浓度为15质量％，制得基础树脂溶液。以这种基础树脂溶液的树脂含量计，往所述基础树脂溶液中加入6.4质量％二亚胺染料(N，N，N’，N’-四(对-二丁基氨基苯基)-对-亚苯基二胺-六氟锑酸亚胺(imonium)盐：“IRG-022”，商品名，由Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造，λmax：1090nm，εm：1.1×105)，和0.5质量％稳定的花青染料(λmax：855nm，εm：2.0×105)(包含阳离子No.11花青阳离子和阴离子No.22猝灭剂阴离子)，制得溶有它们的涂覆溶液。通过微凹版槽辊涂法将这种涂覆溶液涂覆在厚度为100微米聚对苯二甲酸乙二酯薄膜(“A4100”，商品名，由Toyobo Co.，Ltd.制造)上以使干涂膜的厚度为4微米，之后在120℃下干燥5分钟，制得光学薄膜。
实施例2
除了将实施例1所用的稳定的花青染料变为包含阳离子No.13花青阳离子和阴离子No.22猝灭剂阴离子的稳定的花青染料(λmax：818nm，εm：2.5×105)以外，以和实施例1相同的方式制得光学薄膜。
实施例3
除了往实施例1所用的涂覆溶液再加入实施例2中所用的0.5质量％稳定的花青染料以外，以和实施例1相同的方式制得光学薄膜。
实施例4
除了将实施例3中所用的二亚胺染料改为N，N，N’，N’-四(对-二丁基氨基苯基)-对-亚苯基二胺-二(二(三氟甲磺酰基)亚氨酸)亚胺(imonium)盐：“CIR-1085”，商品名，由Japan Carlit Co.，Ltd.制造，λmax：1073nm，εm：1.0×105)以外，以和实施例3相同的方式制得光学薄膜。
实施例5
除了将实施例3中所用的基础树脂溶液改为浓度为15质量％(MEK中)丙烯酸树脂涂布材料(“Halshybrid IR-G204”，商品名，由Nippon Shokubai Co.，Ltd.制造，树脂的玻璃化转变温度＝89℃)以外，以和实施例3相同的方式制得光学薄膜。
实施例6
除了实施例4所用的基础树脂溶液改为实施例5的基础树脂溶液以外，以和实施例4相同的方式制得光学薄膜。
实施例7
将丙烯酸树脂涂布材料(“Halshybrid IR-G204”，商品名，由Nippon ShokubaiCo.，Ltd.制造，树脂的玻璃化转变温度＝89℃)溶解在MEK中，浓度为15质量％，制得基础树脂溶液。以这种基础树脂溶液的树脂含量计，往所述基础树脂溶液中加入9.0质量％二亚胺染料(N，N，N’，N’-四(对-二丁基氨基苯基)-对-亚苯基二胺-六氟锑酸亚胺(imonium)盐：“IRG-022”，商品名，由Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造)，1.0质量％稳定的花青染料(“SD-AG01”，商品名，由Sumitomo Seika ChemicalsCompany，Limited，制造，λmax：877nm，εm：3.1×105)和1.0质量％六氟锑酸·花青染料(CY-40MCS，商品名，由Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造，λmax：830nm，εm：2.7×105)，制得溶有它们的涂覆溶液。通过微凹槽辊涂法将这种涂覆溶液涂覆在厚度为100微米的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜(“A4100”，商品名，由Toyobo Co.，Ltd.制造)上，以使干涂膜的厚度为4微米，之后在120℃下干燥5分钟，制得光学薄膜。
实施例8
除了将实施例7中所用的二亚胺染料改为N，N，N’，N’-四(对-二丁基氨基苯基)-对-亚苯基二胺-二(二(三氟甲磺酰基)亚氨酸)亚胺(imonium)盐：“CIR-1085”，商品名，由Japan Carlit Co.，Ltd.制造，λmax：1073nm，εm：1.0×105)，并且将六氟锑酸·花青染料改为三氟甲磺酰基亚氨酸·花青染料(“CY-40MCFI”，商品名，由NipponKayaku Co.，Ltd.，λmax：830nm，εm：2.7×105)以外，以和实施例7相同的方式制得光学薄膜。
实施例9
除了将实施例1所用的稳定的花青染料改为不稳定的花青染料(“TW-1926”，商品名，由Asahi Denka Kogyo K.K.制造)以外，以和实施例1相同的方式制得光学薄膜。
实施例10
以和实施例9相同的方式制得光学薄膜，其中，往实施例9所用的基础树脂溶液中再加入0.5质量％猝灭剂染料(“EST-5”，商品名，由Sumitomo Seika ChemicalsCompany，Limited制造，阴离子No.22猝灭剂阴离子的四丁基铵盐，在800-1100nm的范围内没有吸收峰，εm＜103)。
实施例11
除了将实施例1所用的二亚胺染料改为6.0质量％酞菁染料(“TX-EX-910”，商品名，由Nippon Shokubai Co.，Ltd.制造，λmax：978nm，εm：1.0×105)以外，以和实施例1相同的方式制得光学薄膜。
测试例1
按照以下方法评价例1-11中所得光学薄膜的光学特性(可见光平均透射率、色度、近红外透射率)和耐久性(耐热性和耐光性)。结果列于表1中。
光学特性
使用分光光度计(UV-3100，由Shimadzu Corporation制造)，在380-1300nm的范围内测量从各样品切出的20×20cm的试验片的光谱。按照JIS Z8701-1999，计算可见光区域中的重均透射率(光平均透射率Tv)和色度坐标(x，y)。
而且，测量850nm、900nm、950nm和1000nm下的透射率，并和室内空气的透射率进行比较，得到近红外透射率。各波长下的近红外透射率分别标为T850、T900、T950和T1000。
耐热性
使用恒温设备(由Tokyo Rikakikai Co.，Ltd.制造)，将所述温度设定在80℃，试验1000小时后测量各样品的Tv、x和y，并和试验前测量值进行比较。将试验前后变化小于3％的评定为○，将其中变化至少为3％且小于5％的评为△，将其中变化至少为5％的评为×。
耐光性
使用耐光性试验机(氙气灯褪色试验机X-15F，由Suga Test Instruments Co.，Ltd.制造)，施加200MJ/cm2的波长为380nm的光，测量各样品的Tv、x和y，并和试验前测量值进行比较。将试验前后变化小于3％的评定为○，将其中变化至少为3％且小于5％的评为△，将其中变化至少为5％的评为×。
    光学特性         耐久性
光平均透射率(％)     色度     近红外透射率(％)   耐热性   耐光性
    Tv     x     y     T850     T900     T950     T1000     ○     ○
  例1     74.3     0.322     0.318     5.9     1.4     0.9     0.7     ○     ○
  例2     76.3     0.320     0.337     6.4     4.4     1.8     1.4     ○     ○
  例3     79.1     0.320     0.337     5.6     6.0     6.4     5.7     ○     ○
  例4     80.0     0.320     0.336     6.3     5.8     0.3     5.0     ○     ○
  例5     79.3     0.320     0.336     5.7     6.1     6.5     5.7     ○     ○
  例6     80.5     0.320     0.336     5.6     6.0     6.3     5.3     ○     ○
  例7     80.2     0.318     0.336     5.7     7.1     5.6     5.2     ○     ○
  例8     78.2     0.318     0.337     3.5     4.9     4.0     3.5     ○     ○
  例9     80.0     0.320     0.316     3.7     4.3     1.8     1.4     ○     ×
  例10     72.0     0.325     0.340     13.5     8.6     7.3     6.0     ×     ×
  例11     52.9     0.318     0.322     7.3     7.4     5.8     4.6     ○     ×
如表1所示，实施例1-8(本发明)各光学薄膜的光学特性良好，且其耐热性和耐光性均良好。
然而，实施例9光学薄膜的耐光性差，其中，用花青染料代替实施例1所用稳定的花青染料。
而且，实施例10光学薄膜的耐光性和耐热性差，其中，往实施例9所用基础树脂溶液中再加入近红外吸收猝灭剂化合物。而且，所述色度坐标中x和y的值均高，其外观不好。此外，近红外透射率也高。
此外，未加入猝死剂化合物的实施例11的光学薄膜的耐光性差，且光平均透射率也低。
实施例12
将玻璃化转变温度为140℃的透明聚酯树脂(“O-PET”，商品名，由Kanebo，Ltd.制造)溶解在环戊酮/甲苯(6/4体积比)的混合溶剂中，浓度为15质量％，制得基础树脂溶液。以这种基础树脂溶液的树脂含量计，往所述基础树脂溶液中加入14.0质量％二亚胺染料(N，N，N’，N’-四(对-二丁基氨基苯基)-对-亚苯基二胺-二(二(三氟甲磺酰基)氨酸亚胺盐：“CIR-1085”，商品名，由Japan Carlit Co.，Ltd.制造)，制得溶有它们的涂覆溶液。通过微凹槽辊涂法将这种涂覆溶液涂覆在厚度为100微米的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜(“A4100”，商品名，由Toyobo Co.，Ltd.制造)上，干涂膜的厚度为4微米，之后在120℃下干燥5分钟，制得在聚对苯二甲酸乙二酯薄膜上具有近红外吸收层的光学薄膜。
实施例13
除了用N，N，N’，N’-四(对-二丁基氨基苯基)-对-亚苯基二胺-二(二(三氟甲磺酰基)亚氨酸)亚胺(imonium)盐：“CIR-1105”，商品名，由Japan Carlit Co.，Ltd.制造，λmax：1059nm，εm：9.8×104)代替实施例12所用二亚胺染料以外，以实施例12所述的相同方式制得光学薄膜。
实施例14
除了将实施例12所用的14.0质量％染料改为6.7质量％，并且加入2.0质量％酞菁染料(“IR-14”，商品名，由Nippon Shokubai Co.，Ltd.制造，λmax：890nm)和1.4质量％酞菁染料(“IR-12”，由Nippon Shokubai Co.，Ltd.制造，λmax：833nm)以外，以实施例12所述相同的方式制得光学薄膜。
实施例15
除了将实施例12中所用的基础树脂溶液改为浓度为15质量％(甲基乙基酮，MEK中)丙烯酸树脂(“Halshybrid IR-G204”，商品名，由Nippon Shokubai Co.，Ltd.制造，树脂的玻璃化转变温度＝89℃)溶液以外，以和实施例12相同的方式制得光学薄膜。
实施例16
除了将实施例14中所用的基础树脂溶液改为浓度为15质量％(MEK中)丙烯酸树脂(“Halshybrid IR-G204”，商品名，由Nippon Shokubai Co.，Ltd.制造)溶液以外，以和实施例14相同的方式制得光学薄膜。
实施例17
通过将实施例14所用的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜改为防反射薄膜(“ARCTOPURP2199，商品名，由Asahi Glass Company，Limited制造)，并在所述防反射层的背面形成实施例14所得近红外吸收层，由此制得光学薄膜。
实施例18
以实施例12所述相同的方式制得光学薄膜，其中，实施例12所用的染料改为二亚胺染料(N，N，N’，N’-四(对-二丁基氨基苯基)-对-亚苯基二胺-高氯酸亚胺盐：“CIR-1080”，商品名，由Japan Carlit Co.，Ltd.制造，λmax：1070nm，εm：8.8×104)。
实施例19
除了将实施例12所用的染料改为二亚胺染料(N，N，N’，N’-四(对-二丁基氨基苯基)-对-亚苯基二胺-六氟锑酸亚胺盐：“IRG-022”，商品名，由Nippon KayakuCo.，Ltd.制造)以外，以实施例12所述相同的方式制备光学薄膜。
实施例20
除了将实施例12所用的染料改为二亚胺染料(N，N，N’，N’-四(对-二丁基氨基苯基)-对-亚苯基二胺-三氟甲磺酸亚胺盐：“NIR-IMFS”，商品名，由NagaseChemitecs K.K.制造，λmax：1077nm，εm：9.3×104)以外，以实施例12所述相同的方式制备光学薄膜。
实施例21
除了将实施例12所用的染料改为二亚胺染料(N，N，N’，N’-四(对-二丁基氨基苯基)-对-亚苯基二胺-对-甲苯磺酸亚胺盐：“NIR-IMPTS”，商品名，由NagaseChemitecs K.K.制造，λmax：1077nm，εm：8.2×104)以外，以实施例12所述相同的方式制备光学薄膜。
实施例22
除了将实施例18所用的染料量改为30质量％以外，以实施例18相同的方式制得光学薄膜。
测试例2
评价例12-22中所得光学薄膜的光学特性(可见光平均透射率、色度、近红外透射率)和耐久性(耐热性和抗湿性)。结果列于表2中。
此外在表2中，还标出了实施例12-22所用二亚胺染料的阴离子(X-)和侧链R的碳原子数(对应于通式(V)阳离子中的R17-R24)。
抗湿性
使用恒温和恒湿试验设备(KCH-1000，由Tokyo Rikakikai Co.，Ltd.制造)，将所述温度设定在60℃，湿度设定在95％RH，试验500小时后测量各样品的Tv、x和y，并和试验前测量值进行比较。将试验前后变化小于3％的评定为○，将其中变化至少为3％且小于5％的评为△，将其中变化至少为5％的评为×。
                                    表2
耐热性 抗湿性 二亚胺染料
 透光率 色度坐标  近红外吸收性(％)
 Tv  x  y  T850  T900  T950  T1000  X- R
例12  73.4  0.324  0.334  13.7  3.1  0.7  0.4 ○ ○ (CF3SO2)2N- C4
例13  75.1  0.324  0.336  13.5  3.0  1.0  0.5 ○ ○ (CF3SO2)2N- C6
例14  70.0  0.315  0.323  11.8  9.0  6.0  5.4 ○ ○ (CF3SO2)2N- C4
例15  74.0  0.324  0.332  13.1  3.5  0.5  0.4 ○ ○ (CF3SO2)2N- C4
例16  70.5  0.314  0.322  10.2  8.5  6.0  5.2 ○ ○ (CF3SO2)2N- C4
例17  73.9  0.316  0.324  12.1  9.3  6.1  5.5 ○ ○ (CF3SO2)2N- C4
例18  75.5  0.324  0.335  29.0  7.9  5.8  4.8 △ × ClO4 - C4
例19  72.9  0.322  0.332  13.3  3.2  1.3  0.4 ○ × SbF6 - C4
例20  77.3  0.321  0.331  20.5  7.4  4.4  4.8 × × CF3SO4 - C4
例21  91.4  0.312  0.320  89.9  89.3  89.5  89.2 × × CH3C6H4SO3 - C4
例22  61.0  0.336  0.347  14.6  3.8  1.4  0.9 × × ClO4 - C4
如表2所示，实施例12-17的各光学薄膜的光学特性良好，其耐热性和抗湿气性均良好。其中，实施例14的光学薄膜加入了二亚胺染料以外的染料，尽管染料总量小，但是显示了优良的光学特性。
然而，使用CF3SO3 -作为阴离子的实施例20以及使用CH3C6H4SO3 -作为阴离子的实施例21的光学薄膜，其抗湿性差，尤其在实施例20和21中，耐热性也差。此外，实施例21的光学薄膜的近红外吸收性也很差。认为这是因为实施例21所用的二亚胺染料在近红外吸收层中的稳定性很差，且在层中迅速破坏所致。
此外，其中实施例18所用的二亚胺染料量增大的实施例12的光学薄膜，其Tv低，且所述色度坐标也和标准值(x，y)＝(0.310，0.316)相差较多。此外，耐热性和抗湿性差。
提交于2003年7月11日的日本专利申请No.2003-273677和提交于2003年7月16日的日本专利申请No.2003-275442的整个公开内容，包括说明书、权利要求书和摘要均参考引用于此。

Claims (4)

1.一种光学薄膜用组合物，它包含稳定的花青染料和猝灭剂化合物，其中，所述稳定的花青染料包含阳离子和猝灭剂阴离子，所述阳离子选自以下通式(I)-(III)所示的化合物：
Figure A2007100971550002C1
式中，环A和A’各自相互独立，为苯环、萘环或吡啶环；R1和R1’各自相互独立，为卤原子、硝基、氰基、C6-C30芳基、C1-8烷基或C1-8烷氧基；R2、R3和R4各自相互独立，为氢原子、卤原子、氰基、C6-C30芳基、二苯基氨基或者C1-8烷基；X和X’各自相互独立，为氧原子、硫原子、硒原子、丙烷-2，2-二基、丁烷-2，2-二基、C3-6环烷-1，1-二基、-NH-或-NY1-；Y、Y’和Y1各自相互独立，为C1-30有机基团；r和r’各自相互独立，为0-2的整数。
2.权利要求1所述的光学薄膜用组合物，其特征在于，所述猝灭剂化合物包含近红外吸收猝灭剂化合物。
3.权利要求2所述的光学薄膜用组合物，其特征在于，所述近红外吸收猝灭剂化合物包含以下通式(IV)所示的二亚胺染料：
式中，R17-R24各自相互独立，为氢原子、可取代的烷基、可取代的链烯基、可取代的芳基或者可取代的炔基，且Z-是阴离子。
4.一种具有近红外吸收层的光学薄膜，该近红外吸收层包含透明树脂以及分散在透明树脂中的权利要求1-3任一项所述的光学薄膜用组合物。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102446708A (zh) * 2010-10-12 2012-05-09 甘万达 半导体多项目或多产品晶片制造工艺

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070195404A1 (en) * 2004-03-10 2007-08-23 Tomohiko Iijima Transparent laminate
CN101010290B (zh) * 2004-09-06 2011-08-03 日本化药株式会社 二亚铵化合物及其用途
CA2598642A1 (en) * 2005-02-22 2006-08-31 Asahi Glass Company, Limited Adhesive composition, adhesive film and optical filter
JP5004506B2 (ja) 2005-06-24 2012-08-22 株式会社Ａｄｅｋａ 光学フィルター
KR100678840B1 (ko) * 2005-06-27 2007-02-05 제일모직주식회사 근적외선 흡수 및 색보정층을 포함하는 화상표시장치용필름 및 이를 이용한 화상표시장치용 필터
KR100705927B1 (ko) 2005-10-26 2007-04-12 제일모직주식회사 근적외선 흡수 및 색보정 점착제 조성물 및 이를 이용한필름
JP4314532B2 (ja) * 2006-01-31 2009-08-19 東洋紡績株式会社 近赤外線吸収フィルム
JP4553962B2 (ja) * 2006-03-01 2010-09-29 日本化薬株式会社 近赤外線吸収フィルム及びこれを用いたプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ
JP2007262327A (ja) 2006-03-29 2007-10-11 Fujifilm Corp 近赤外線吸収材料
EP2093593A4 (en) * 2006-12-15 2014-03-19 Adeka Corp OPTICAL FILTER
US8221721B2 (en) 2007-02-09 2012-07-17 Visen Medical, Inc. Polycyclo dyes and use thereof
US7852366B2 (en) * 2007-06-13 2010-12-14 Xerox Corporation System and method for printing reimageable transient documents
US7572560B2 (en) * 2007-06-13 2009-08-11 Xerox Corporation Inkless reimageable printing paper and method
US7645558B2 (en) * 2007-06-13 2010-01-12 Xerox Corporation Inkless reimageable printing paper and method
US7541119B2 (en) * 2007-06-13 2009-06-02 Xerox Corporation Inkless reimageable printing paper and method
US7718325B2 (en) * 2007-06-13 2010-05-18 Xerox Corporation Photochromic material, inkless reimageable printing paper, and methods
US20080311493A1 (en) * 2007-06-13 2008-12-18 Xerox Corporation Inkless reimageable printing paper and method
US7666558B2 (en) * 2007-06-13 2010-02-23 Xerox Corporation Inkless reimageable printing paper and method
US7588878B2 (en) * 2007-06-13 2009-09-15 Xerox Corporation Inkless printing paper and method
US7553603B2 (en) * 2007-06-13 2009-06-30 Xerox Corporation Inkless printing paper and method
US7867672B2 (en) * 2007-06-13 2011-01-11 Xerox Corporation Reimageable paper protected against UV light
US7582398B2 (en) * 2007-06-13 2009-09-01 Xerox Corporation Inkless reimageable printing paper and method
US7569316B2 (en) * 2007-06-13 2009-08-04 Xerox Corporation Inkless reimageable printing paper and method
US7572569B2 (en) * 2007-06-13 2009-08-11 Xerox Corporation Inkless printing paper and method
US7655366B2 (en) 2007-06-13 2010-02-02 Xerox Corporation Inkless reimageable printing paper and method
US7645560B1 (en) * 2008-09-08 2010-01-12 Xerox Corporation Inkless reimageable printing paper and method
US8113646B2 (en) * 2009-03-09 2012-02-14 Xerox Corporation Combined inkjet and photochromic reusable paper personal printer
CN102124816B (zh) * 2009-07-23 2014-08-06 株式会社艾迪科 滤光器
KR101699117B1 (ko) 2010-07-26 2017-01-23 이 잉크 코포레이션 디스플레이 기판들 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법, 장치, 및 시스템
KR101760848B1 (ko) 2011-04-05 2017-07-25 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
CN103122154A (zh) * 2011-11-18 2013-05-29 复旦大学 有机近红外双光子荧光染料
CN102558792A (zh) * 2011-12-31 2012-07-11 四川虹欧显示器件有限公司 用于滤光膜的pet基材、制备方法及包括其的滤光膜和显示屏
WO2014069198A1 (ja) * 2012-11-01 2014-05-08 株式会社Adeka 塗料及び近赤外線吸収フィルター
KR102102690B1 (ko) * 2012-12-06 2020-04-22 에이지씨 가부시키가이샤 근적외선 차단 필터
JP6329638B2 (ja) * 2014-10-28 2018-05-23 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収性組成物、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、カメラモジュール
JP6281023B2 (ja) 2015-07-09 2018-02-14 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ、撮像装置、及び赤外線カットフィルタの製造方法
WO2017051512A1 (ja) 2015-09-24 2017-03-30 日本板硝子株式会社 赤外線吸収層用組成物、赤外線カットフィルタ、及び撮像装置
KR102091954B1 (ko) 2016-04-21 2020-03-20 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 적외선 흡수성 조성물, 적외선 컷 필터, 및 촬상 광학계
JP7222362B2 (ja) 2018-02-05 2023-02-15 Ａｇｃ株式会社 光学フィルタおよび撮像装置
KR102468173B1 (ko) * 2018-03-23 2022-11-16 코니카 미놀타 가부시키가이샤 근적외선 흡수성 조성물, 근적외선 흡수성 막 및 고체 촬상 소자용 이미지 센서
WO2023164663A2 (en) * 2022-02-25 2023-08-31 William Marsh Rice University Molecular jackhammer for mechanical destruction of cellular structure

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2155811B (en) 1984-02-06 1987-01-21 Ricoh Kk Optical information recording medium
US4895880A (en) * 1986-05-06 1990-01-23 The Mead Corporation Photocurable compositions containing photobleachable ionic dye complexes
JPH0524360A (ja) 1991-07-19 1993-02-02 Victor Co Of Japan Ltd 光記録媒体
US5804102A (en) * 1995-12-22 1998-09-08 Mitsui Chemicals, Inc. Plasma display filter
AU718609B2 (en) * 1996-04-18 2000-04-20 Osaka Gas Co., Ltd. Near-infrared absorbing film, and multi-layered panel comprising the film
US6071672A (en) * 1997-02-10 2000-06-06 Tdk Corporation Photo-stabilized cyanine dyes and optical recording media
JP3540327B2 (ja) * 1997-02-10 2004-07-07 Ｔｄｋ株式会社 光安定化シアニン色素
CA2289335A1 (en) * 1998-11-11 2000-05-11 Nisshinbo Industries, Inc. Near infrared absorption filter
JP4395947B2 (ja) * 1999-12-14 2010-01-13 株式会社ブリヂストン 近赤外線吸収フィルム
JP2001305722A (ja) * 2000-04-18 2001-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP3517210B2 (ja) * 2000-12-28 2004-04-12 日清紡績株式会社 近赤外線吸収材料
JP2003021715A (ja) 2001-05-01 2003-01-24 Bridgestone Corp 近赤外線吸収フィルム
JP2003043244A (ja) 2001-05-15 2003-02-13 Bridgestone Corp 近赤外線吸収フィルム
JP4596682B2 (ja) 2001-05-30 2010-12-08 株式会社Ａｄｅｋａ 光学フィルター
JP2003096040A (ja) 2001-07-04 2003-04-03 Nippon Kayaku Co Ltd ジイモニウム塩化合物、それを用いる近赤外線吸収フィルター
JP2003075628A (ja) 2001-09-06 2003-03-12 Asahi Glass Co Ltd 光学フィルム
US6977132B2 (en) * 2001-12-07 2005-12-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
JP3894024B2 (ja) * 2002-03-29 2007-03-14 富士ゼロックス株式会社 画像形成方法
WO2004048480A1 (ja) 2002-11-22 2004-06-10 Japan Carlit Co., Ltd. 近赤外線吸収色素及び近赤外線遮断フィルター

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102446708A (zh) * 2010-10-12 2012-05-09 甘万达 半导体多项目或多产品晶片制造工艺
CN102446708B (zh) * 2010-10-12 2016-01-20 甘万达 半导体多项目或多产品晶片制造工艺
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