CN101010779A - 组件处理系统、信息显示方法、程序、及记录媒体 - Google Patents

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Abstract

设于组件制造工厂之支持装置，用于从组件处理装置收集数据，并根据所收集的数据解析组件处理装置的运作状况等。所述支持装置具备：用以设定组件处理装置所使用的收集条件的数据收集条件设定部(231)、用以设定对所收集数据进行统计处理的处理条件的统计处理条件设定部(232)、以及用以设定显示所收集数据或统计处理的处理结果时的显示条件的图表显示条件设定部(233)。

Description

组件处理系统、信息显示方法、程序、及记录媒体
技术领域
本发明有关于具备制造半导体组件、液晶显示组件、CCD(ChargeCoupled Device：电荷耦合组件)等摄像组件、电浆显示器组件、薄膜磁头等组件时所使用的曝光装置等组件处理装置的组件处理系统、显示该组件处理装置所使用的各种信息的信息显示方法、程序、以及为了使计算机系统执行该信息显示方法而将该程序储存成能以计算机系统读出的状态的记录媒体。
背景技术
为提升曝光装置等组件处理装置的使用率，于具有复数条生产线的系统中导入诊断系统、装置支持系统等。此种诊断系统、装置支持系统，经由网络来从各装置收集各种数据，例如于服务器装置等解析所述数据以进行状况掌握等，并进行控制参数等的调整。具体而言，此种装置支持系统，(1)分析掌握装置的使用状况、(2)以统计方法解析装置数据的倾向，显示解析结果并利用于异常分析(例如参照专利文献1)。
【专利文献1】日本专利第336436号公报
发明内容
然而，上述的现有系统，并未研究组件处理装置所使用的数据收集条件、对所收集数据进行统计处理的处理条件、显示所收集数据或统计处理的处理结果时的显示条件、以及报告的通知条件。因此，虽能收集预定数据来进行既定统计处理，将所收集数据或统计处理的结果以预定显示形式来显示，并通知预定内容的报告，但使用者却无法例如为了分析掌握组件处理装置的运作状况来自由地进行其它数据的收集等。
欲改变上述各种条件时，例如，使用者须对组件处理装置的制造厂商提出控制参数的设定变更或程序变更的要求，组件处理装置的制造厂商即根据该要求来进行组件处理装置的控制参数设定变更或程序变更。然而，使用者的变更要求依使用者而异，或即使同一使用者也有可能频繁地改变变更要求，因此组件处理装置制造厂商难以应付使用者所有的要求。
当使用者无法适切掌握组件处理装置的使用状况时，根据诊断等对曝光处理的处理、也即反馈等控制的时序即会延迟。换言之，产生问题至获得处理为止的时间会变长，而无法有效率地进行组件等的制造。又，视情况不同，也有可能持续制造出不良组件而造成晶片等材料的损失增加。近年来，半导体组件的生产线已开始使用300mm晶片的生产线，此种生产线，被要求能极力防止不良情形产生、或即使产生不良时也能更快速地因应。
本发明有鉴于上述情形，目的是提供组件处理系统、信息显示方法、以及程序，其由使用者可改变组件处理装置所使用的数据收集条件、对所收集数据进行统计处理的处理条件、以及显示所收集数据或统计处理的处理结果时的显示条件等各种条件，而可更正确地掌握组件处理装置的运作状况，其结果能迅速地对应不良情形等产生的情形。
本发明采用了对应实施方式所示的各图的下述构成。不过，付加于各要素的包含括号的符号仅是该要素的例示，而并非限定各要素。
为解决上述课题，本发明的第1观点的组件处理系统(1)，具备至少一个组件处理装置(10～50)，其具备支持装置(61)，该支持装置，具有：数据收集条件设定部(231)，其依使用者指示设定用以收集该组件处理装置所得的数据的收集条件；数据显示条件设定部(233)，其依该使用者指示设定用以显示该数据的显示条件；数据收集部(210,220)，其从该组件处理装置，收集和以该数据收集条件设定部设定的收集条件与以该数据显示条件设定部设定的显示条件一致的数据；以及显示部，其根据以该数据显示条件设定部设定的显示条件，来显示以该数据收集部收集的该数据。
根据本发明，从组件处理装置，收集和以数据收集条件设定部设定的收集条件与以数据显示条件设定部设定的显示条件一致的数据，并根据以数据显示条件设定部设定的显示条件来显示该数据。
为解决上述课题，本发明第2观点的组件处理系统(1)，具备至少一个组件处理装置(10～50)，其具备支持装置(61)，该支持装置，具有：数据收集条件设定部(231)，其依使用者指示设定用以收集该组件处理装置所得的数据的收集条件；统计处理条件设定部(232)，其依该使用者指示设定对该数据施以统计处理的处理条件；数据收集部(210，220)，其从该组件处理装置，收集和以该数据收集条件设定部设定的收集条件与以该统计处理条件设定部设定的处理条件一致的数据；统计处理部(250)，其根据以该统计处理条件设定部设定的处理条件，来对以该数据收集部收集的该数据进行统计处理；以及显示部，其显示以该统计处理部进行的处理结果。
根据本发明，其从组件处理装置，收集和以数据收集条件设定部设定的收集条件与以统计处理条件设定部设定的处理条件一致的数据，并根据以统计处理条件设定部设定的处理条件来对所收集的数据进行统计处理。
为解决上述课题，本发明第3观点的组件处理系统(1)，具备至少一个组件处理装置(10～50)，其具备支持装置(61)，该支持装置，具有：数据收集条件设定部(231)，其依使用者指示设定用以收集该组件处理装置所得的数据的收集条件；数据显示条件设定部(233)，其依该使用者指示设定用以显示该数据的显示条件；统计处理条件设定部(232)，其依该使用者指示设定对该数据施以统计处理的处理条件；数据收集部(210，220)，其从该组件处理装置，收集和以该数据收集条件设定部设定的收集条件、以该数据显示条件设定部设定的显示条件、以及以该统计处理条件设定部设定的处理条件一致的数据；统计处理部(250)，其根据以该统计处理条件设定部设定的处理条件，来对以该数据收集部收集的该数据进行统计处理；以及显示部，其根据以该数据显示条件设定部设定的显示条件，来显示以该数据收集部收集的该数据、以及以该统计处理部进行的处理结果的至少一方。
根据本发明，从组件处理装置，收集和以数据收集条件设定部设定的收集条件、以数据显示条件设定部设定的显示条件、以及以统计处理条件设定部设定的处理条件一致的数据，根据以统计处理条件设定部设定的处理条件来对所收集的数据进行统计处理，再根据以数据显示条件设定部设定的显示条件，来显示以数据收集部收集的数据、以及以统计处理部进行的处理结果的至少一方。
为解决上述课题，本发明第1观点的信息显示方法，显示至少一个组件处理装置(10～50)所得的信息，该方法包含以下步骤：依使用者指示设定用以收集该组件处理装置所得数据的收集条件的步骤；依该使用者指示设定用以显示该数据的显示条件的步骤；从该组件处理装置收集和所设定的该收集条件与该显示条件一致的数据的步骤；以及根据该显示条件显示所收集的该数据的步骤。
根据本发明，从组件处理装置收集和所设定的收集条件与显示条件一致的数据，根据所设定的显示条件来显示该数据。
为解决上述课题，本发明第2观点的组件处理系统，其显示至少一个组件处理装置(10～50)所得的信息，所述系统包含：依使用者指示设定用以收集该组件处理装置所得到的数据的收集条件；依该使用者的指示来设定对该数据施以统计处理的处理条件的步骤；从该组件处理装置收集和所设定的该收集条件与该显示条件一致的数据的步骤；根据该处理条件对所收集的该数据进行统计处理的步骤；以及用以显示该统计处理的处理结果的步骤。
根据本发明，从组件处理装置收集和所设定的收集条件与处理条件一致的数据，根据所设定的处理条件来对所收集的数据进行统计处理，并显示其处理结果。
为解决上述课题，本发明第3观点的信息显示方法，其显示至少一个组件处理装置(10～50)所得的信息，所述方法包含以下步骤：依使用者指示设定用以收集该组件处理装置所得数据的收集条件的步骤；依该使用者指示设定用以显示该数据的显示条件的步骤；依该使用者指示来设定对该数据施以统计处理的处理条件的步骤；从该组件处理装置收集和所设定的该收集条件、该显示条件、以及该处理条件一致的数据的步骤；依该处理条件对所收集的该数据进行统计处理的步骤；以及根据该显示条件来显示所收集的该数据及该统计处理的处理结果的至少一方的步骤。
根据本发明，从组件处理装置收集和所设定的收集条件、显示条件、以及处理条件一致的数据，根据所设定的处理条件来对所收集的数据进行统计处理，并根据所设定的显示条件来显示所收集的数据及统计处理的处理结果的至少一方。
为解决上述课题，本发明第1观点的记录有信息显示程序的记录媒体，该信息显示程序显示至少一个组件处理装置(10～50)所得的信息，该程序具有：依使用者指示来设定用以收集该组件处理装置所得的数据的处理；依该使用者指示设定用以显示该数据的显示条件的处理；从该组件处理装置收集和所设定的该收集条件与该显示条件一致的数据的处理；以及根据该显示条件显示所收集的该数据的处理。根据本发明，从组件处理装置收集和所设定的收集条件与显示条件一致的数据，根据所设定的显示条件来显示该数据。
为解决上述课题，本发明第2观点的记录有信息显示程序的记录媒体，该信息显示程序显示至少一个组件处理装置(10～50)所得的信息，该程序具有：依使用者指示设定用以收集该组件处理装置所得数据的收集条件的处理；依该使用者指示设定对该数据施以统计处理的处理条件的处理；从该组件处理装置收集和所设定的该收集条件与该显示条件一致的数据的处理；根据该处理条件对所收集的该数据进行统计处理的处理；以及用以显示该统计处理的处理结果的处理。
根据本发明，从组件处理装置收集和所设定的收集条件与处理条件一致的数据，根据所设定的处理条件来对所收集的数据进行统计处理，并显示其处理结果。
为解决上述课题，本发明第3观点的记录有信息显示程序的记录媒体，该信息显示程序显示至少一个组件处理装置(10～50)所得的信息，该程序具有：依使用者指示设定用以收集该组件处理装置所得数据的收集条件的处理；依该使用者指示设定用以显示该数据的显示条件的处理；依该使用者指示设定对该数据施以统计处理的处理条件的处理；从该组件处理装置收集和所设定的该收集条件、该显示条件、以及该处理条件一致的数据的处理；依该处理条件对所收集的该数据进行统计处理的处理；以及根据该显示条件来显示所收集的该数据及该统计处理的处理结果的至少一方的处理。
根据本发明，从组件处理装置收集和所设定的收集条件、显示条件、以及处理条件一致的数据，根据所设定的处理条件来对所收集的数据进行统计处理，并根据所设定的显示条件来显示所收集的数据及统计处理的处理结果的至少一方。
根据本发明，由于使用者可改变组件处理装置所使用的数据收集条件、对所收集数据进行统计处理的处理条件、以及显示所收集数据或统计处理的处理结果时的显示条件等各种条件，因此使用者能收集、显示、解析所欲的数据，而可更正确地掌握组件处理装置的运作状况。其结果能迅速地对应不良情形等产生的情形。
附图说明
图1所示的是本发明一实施方式的组件处理系统构成的方块图。
图2所示的是曝光装置概略构成的图。
图3所示的是装置支持系统60的服务器61主要构成的方块图。
图4所示的是收集条件的设定画面例的图。
图5所示的是显示条件的设定画面例的图。
图6所示的是统计处理的处理条件设定画面例的图。
图7所示的是统计处理的处理条件设定画面例的图。
图8所示的是统计处理的处理条件设定画面例的图。
图9所示的是统计处理的处理条件设定画面例的图。
图10所示的是错误统计图表例的图。
图11所示的是生产性图表例的图。
图12所示的是装置环境图表例的图。
图13所示的是判定临限值的设定履历显示例的图表。
图14所示的是群组化后数据的显示例的图表。
图15所示的是预测型统计处理的处理结果的图表例的图。
主要组件符号说明：
1     组件处理系统
10    曝光装置(组件处理装置)
20    台车(组件处理装置)
30    激光(组件处理装置)
40    线上测量器(组件处理装置)
50    线外测量器(组件处理装置)
60    装置支持系统
61    服务器(支持装置)
210   数据收集部
220   数据库引擎(数据收集部)
231   数据收集条件设定部
232   统计处理条件设定部
233   图表显示条件设定部(数据显示条件设定部)
250   应用程序(统计处理部)
具体实施方式
以下，参照附图详细说明本发明一实施方式的组件处理系统、信息显示方法、以及程序方式。图1所示的是本发明一实施方式的组件处理系统构成的方块图。如图1所示，本实施方式的显示组件处理系统1，包含：曝光装置10、台车20、激光30、作为检查装置的线上测量器40、线外测量器50、装置支持系统60、以及通讯网路70。
装置支持系统60包含：服务器61、终端装置62、及远程终端装置63。又，通讯网路70包含：第1网络71、第2网络72、与门装置73。此外，组件处理系统1具备复数条组件生产线，而曝光装置10、台车20、激光30、及线上测量器40，例如，与各生产线对应设有复数个。又，线外测量器50与所述生产线另外分别设置复数个。
首先，依序说明组件处理系统1各部的构成。曝光装置10-i(i＝l～n)(以下仅单表示为曝光装置10)，将形成于作为光罩的标线片上的所欲图案像，投影于涂布有感光材料的作为基板的晶片上，以将该图案像转印至晶片上。本实施方式中，曝光装置10，具有离轴方式的对准光学系统的曝光装置；该光学系统由影像处理来检测为晶片既定基准的图案。
图2所示的是曝光装置概略构成的图。此外，以下说明中，设定图2所示的XYZ正交坐标系，再参照此XYZ正交坐标系来说明各构件的位置关系。此XYZ正交坐标系，X轴及Z轴系设定为平行于纸面，Y轴则设定为垂直于纸面的方向。图中的XYZ坐标系，实际上XY平面系设定为平行于水平面，而Z轴则设定为垂直方向。
如图2所示，曝光装置10，由照明光学系统(未图标)射出的曝光用光EL，透过聚光透镜101以均一照度分布照射形成于标线片R的图案区域PA。作为曝光用光EL，例如使用g线(波长436nm)或i线(波长365nm)，或从KrF准分子激光(波长248nm)、ArF准分子激光(波长193nm)、F2激光(波长193nm)、Kr2激光(波长146nm)、或Ar2激光(波长126nm)射出的光等。
标线片R保持于标线片载台102，标线片载台102被支撑成可在底座103上的二维平面内进行移动及微幅旋转。控制装置整体动作的主控制系统115，透过底座103上的驱动装置104来控制标线片载台102的动作。此标线片R，由以标线片对准系统(由反射镜105、物镜106、标记检测系统107构成)检测出形成于其周边的未图标标线片对准标记，来使其在投影光学系统PL的光轴AX定位。
透射过标线片R的图案区域PA内的曝光用光EL，例如射入两侧(单侧也可)远心的投影光学系统PL而投影于晶片W上的各照射区域。投影光学系统PL，在曝光用光EL的波长进行最佳的像差修正，以该波长来使标线片R与晶片W彼此共轭。又，曝光用光EL是柯勒照明(Kohler illumination)，在投影光学系统PL的光瞳EP中心成像为光源像。此外，投影光学系统PL具有复数个透镜等光学组件。依曝光用光EL的波长，使用石英、萤石等光学材料来作为光学组件的玻璃材料。
晶片W，透过晶片保持具108装载于晶片载台109上。于晶片保持具108上设有使用于基线测量等的基准标记110。晶片载台109，具有：在与投影光学系统PL的光轴AX垂直的面内二维定位晶片W的XY载台、将晶片W定位于与投影光学系统PL的光轴AX平行的方向(Z方向)的Z载台、使晶片W微幅旋转的载台、以及使相对Z轴的角度变化以调整晶片W相对XY平面的倾斜(调平)的载台等。
于晶片载台109上面的一端安装有L字型的移动镜111，在与移动镜111镜面相对的位置配置有激光干涉仪112。图2是简化的图标，实际上移动镜111由具有与X轴垂直的反射面的平面镜、以及具有与Y轴垂直的反射面的平面镜构成。又，激光干涉仪112，由沿X轴对移动镜111照射激光束的两个X轴用激光干涉仪、以及沿Y轴对移动镜111照射激光束的Y轴用激光干涉仪构成，由X轴用的一个激光干涉仪及Y轴用的一个激光干涉仪来测量晶片载台109的X坐标及Y坐标。又，根据X轴用的两个激光干涉仪量测的差值，来测量晶片载台109绕Z轴旋转的旋转角。
用以显示以激光干涉仪112测量的X坐标、Y坐标、以及旋转角的位置测量信号PDS，输出至载台控制器113。载台控制器113，在主控制系统115的控制下，根据该位置测量信号PDS透过驱动系统114来控制晶片载台109的位置。又，位置测量信号PDS输出至主控制系统115。主控制系统115，一边监测所供应的位置测量信号PDS、一边对载台控制器113输出用以控制晶片载台109位置的控制信号。接着，激光干涉仪112所输出的位置测量信号PDS，即输入后述的激光步进对准(LSA)运算单元125。
又，曝光装置10，具有由激光光源116、射束整形光学系统117、反射镜118、透镜系统119、反射镜120、分光镜121、物镜122、反射镜123、受光组件124、LSA运算单元125、以及投影光学系统PL构成的TTL方式的对准光学系统。激光光源116，例如是He-Ne(氦-氖)激光等的光源，为一红色光(例如波长632.8nm)，对涂布于晶片W上的光刻胶射出非感旋光性的激光束LB。此激光束LB，是透射过包含柱面透镜等的射束整形光学系统117，并透过反射镜118、透镜系统119、反射镜120、以及分光镜121而射入物镜122。透射过物镜122的激光束LB，被设于标线片R下方且倾斜于XY平面方向的反射镜123反射，而与光轴AX平行射入投影光学系统PL视野的外围，通过投影光学系统PL的光瞳EP中心垂直照射于晶片W。
激光束LB，由射束整形光学系统117的作用，而在物镜122及投影光学系统PL间的光路中的空间聚光成一狭缝点状光SPO。投影光学系统PL，即将此点状光SPO再度于晶片W成像为点SP。反射镜123固定成在标线片R的图案区域PA边缘的外侧、且位于投影光学系统PL的视野内。据此，形成于晶片W上的狭缝状点状光SP即位于图案区域PA的投影像外侧。
欲以此点状光SP来检测出晶片W上的标记时，须使晶片载台109在XY平面内相对点状光SP水平移动。当点状光SP对标记相对扫描时，即会从标记产生正反射光、散射光、绕射光等，视标记与点状光SP的相对位置使光量逐渐产生变化。此光信息，是沿激光束LB的送光路径逆向行进，透过投影光学系统PL、反射镜123、物镜122、以及分光镜121后到达受光组件124。受光组件124的受光面，配置于大致与投影光学系统PL的光瞳EP共轭的光瞳像面EP，且具有对来自标记的正反射光不感应的区域，仅接收散射光或绕射光。
来自受光组件124的各光电信号，是与激光干涉仪112所输出的位置测量信号PDS一起输入LSA运算单元125，而产生标记位置的信息AP1。LSA运算单元125，是根据位置测量信号PDS，将相对点状光SP扫描晶片标记时的来自受光组件124光电信号予以取样并储存，由解析其波形输出标记位置的信息AP1，来作为当标记中心与点状光SP中心一致时的晶片载台109的坐标位置。
此外，图2所示的曝光装置，虽仅显示一组TTL方式的对准系统(116，117，118，119，120，121，122，123，及124)，但于与纸面正交的方向(Y轴方向)另外设有一组，将同样的点状光形成于投影像面内。此两点状光的长边方向的延长线系朝向光轴方向。又，图2中的TTL方式对准光学系统的光路中所示的实线，表示与晶片W的成像关系，虚线则表示与光瞳EP的共轭关系。
又，曝光装置10，于投影光学系统PL的侧边具备离轴方式的对准光学系统(以下称为对准传感器)。此对准传感器，对拍摄基板表面的对准标记附近的信号进行信号处理(含影像处理)、以检测出标记位置信息的FIA(FieldImage Alignment)方式对准传感器。曝光装置10，使用此对准传感器进行搜寻对准测量及精密对准测量。
搜寻对准测量(此后也有仅称“搜寻对准”的情形)，是检测出形成于晶片W上的复数个搜寻对准标记、并检测出晶片相对晶片保持具108的旋转量或在XY面内的位置偏移的处理。本实施方式中，作为搜寻对准的信号处理方法，使用预先设定的基准图案(模板)来检测出与此模板对应的既定图案的手法(模板匹配手法)。又，精密对准测量(此后有仅称“精密对准”的情形)，是检测出与照射区域对应而形成的精密对准用对准标记、最终进行各曝光照射的定位的处理。本实施方式中作为精密对准的影像处理方法，使用抽出标记边缘来检测出位置的手法(边缘测量手法)。
此外，无论是搜寻对准或精密对准，其影像处理方法均不局限于本实施方式的手法，也可以是模板匹配手法、边缘测量手法、或其它影像处理方法。上述搜寻对准测量时的观察倍率与精密对准测量时的观察倍率，也可彼此相等的观察倍率，或也可将精密对准时的倍率设定为高于搜寻对准时的倍率。
此对准传感器，具有射出用以照明晶片W的照射光的卤素灯126、使卤素灯126所射出的照明光聚光于光纤128一端的聚光透镜127、以及引导照明光的光纤128。使用卤素灯126来作为照明光的光源，其原因是卤素灯126所射出的照明光波长区为500～800nm，对涂布于晶片W上的光刻胶属不感光的波长范围，且波长范围宽广、可减轻晶片W表面的反射率波长特性的影响。
从光纤128射出的照明光，通过将涂布于晶片W上的光刻胶的感光波长(短波长)区及红外波长区予以去除的滤光器129，并透过透镜系统130到达半反射镜131。被半反射镜131反射的照明光，由反射镜132反射成与X轴方向大致平行后射入物镜133，接着被棱镜134(以不遮蔽投影光学系统PL视野的方式固定于投影光学系统PL的镜筒下部周边)反射而垂直照射至晶片W。
此外，虽省略图标，但从光纤128的射出端到物镜133为止的光路中，在物镜133与晶片W共轭的位置设有适当的照明视野光圈。又，物镜133设定为远心系统，于其孔径光圈(与光瞳相同)的面133a形成有光纤128的射出端的像，以进行柯勒照明。物镜133的光轴，在晶片W上被定为垂直，以避免在检测标记时因光轴的倾斜产生标记位置的偏移。
来自晶片W的反射光，透过棱镜134、物镜133、反射镜132、半反射镜131，并由透镜系统135成像于指针板136上。此指针板136由物镜133与透镜系统135配置成与晶片W共轭，具有分别延伸于X轴方向及Y轴方向的直线状指针。晶片W的标记像成像于指针板136，此晶片W的标记像与指针标记，透过中继系统137，139及反射镜138成像于影像传感器140。影像传感器140(光电转换机构、光电转换组件)将射入其摄影面的像转换成光电信号(影像信号、影像数据、数据、信号)，例如使用二维CCD。从影像传感器140输出的信号(n维信号)，与来自激光干涉仪112的位置测量信号PDS一起输入至FIA运算单元141。
FIA运算单元141，从输入的影像信号检测出对准标记，求出该对准标记相对指针标记的标记像的偏移。接着输出信息AP2，该信息AP2有关于形成于晶片W的标记像从位置测量信号PDS所表示的晶片载台109的停止位置到正确地位于指针标记中心时、晶片载台109的标记中心检测位置。
此曝光装置10的各构成部，根据主控制系统115的控制来协同动作。主控制系统115即以此方式来控制曝光装置10各部。又，主控制系统115，透过如图1所示的通讯网路70与后述的装置支持系统60的服务器61进行通讯。又，记录于主控制系统115内部的各种日志文件、测量结果文件、参数设定档、诊断结果文件、信号波形文件、以及各种追踪数据的内容(数据)均发送至服务器61。
此处，上述各种日志文件包含：记录有在曝光装置10产生的事件的日志的事件日志文件、记录有在曝光装置10进行的一连串处理的程序日志文件、记录有在曝光装置10产生的错误的错误日志文件、以及记录有曝光装置10的运作履历的运作履历日志文件等。此外，上述的测量结果文件，记录前述TTL方式对准光学系统及对准传感器等的测量结果的文件，信号波形文件记录能以此等传感器得到的信号的文件。又，主控制系统115，基于前述数据并根据能以装置支持系统60的服务器61得到的控制信息，来控制动作条件，或停止、中断动作。以上是曝光装置10的概略构成。
台车20是于各生产线依序搬送晶片W的搬送系统。此台车20例如可由组件处理系统1中未图示的台车服务器来控制。又，激光30对各生产线的曝光装置10提供曝光用光的光源。线上测量器40，组装于曝光装置10、台车20、以及激光30等装置内的传感器，是测量例如装置环境气氛的温度、湿度、气压等信息的传感器。以线上测量器40测得的数据，是输出至装置支持系统60中的服务器61。线外测量器50，是非直接组装于组件生产线的测量工具，例如是叠合测量装置、或线宽测定装置等。
装置支持系统60，透过网络70从曝光装置10、台车20、激光30、线上测量器40、及线外测量器50等各种装置来收集各种数据。又，也可根据所收集的数据来控制组件处理系统1的各生产线的制造工艺。因此，装置支持系统60的服务器61，从曝光装置10、台车20、激光30、线上测量器40、及线外测量器50等各装置收集数据，并将其保存于数据库来加以管理。
接着，将该保存的数据显示于CRT(Cathode Ray Tube：阴极射线管)或液晶显示装置等显示装置(图标省略)，或使用所保存的数据进行统计处理，并于显示装置显示生产线运作状态的解析及诊断结果。又，根据该结果进行各装置的自动修正控制、报告的制作/通知等处理。其详细虽于后述，但本实施方式的服务器61，可依作业者(使用者)指示改变来自各装置的数据收集条件、数据显示条件、统计处理的处理条件、以及报告的通知条件。
装置支持系统60中的服务器61，由软件或硬件来展开例如图3所示的功能模块，以此来执行后述的各种装置支持动作。图3显示装置支持系统60的服务器61主要构成的方块图。服务器61的数据收集部210，具有从曝光装置10收集数据的曝光装置数据取得部211、从台车20收集数据的台车数据取得部212、从激光30收集数据的激光数据取得部213、从线上测量器40收集数据的线上测量器数据取得部214、从线外测量器50收集数据的线外测量器数据取得部215。
由此数据取得部211～215，透过网络70，从以该曝光装置10为首的组件处理系统1的各装置收集事件日志文件、程序日志文件、错误日志文件、运作履历日志文件、测量结果文件、参数设定档、诊断结果档、对准等各种信号波形文件、以及其它各种追踪数据或日志文件等。
数据库引擎220，具有储存收集部210所收集的数据的数据库、以及搜寻此数据库以获得所需数据的检索部。储存于此数据库引擎220所具有的数据库内的数据，适切地被使用于后述应用程序250，并供至曝光装置的支持处理。又，数据库引擎220也利用于后述终端装置62及远程终端装置63。一般而言，由于曝光装置10与其它处理装置相较，其产生的数据量相当庞大，因此如何以数据库引擎220来有效率地管理数据是相当重要的。
又，本实施方式的服务器61，具备可依使用者指示设定对各装置所得的数据施以各种处理的条件设定部230。于该条件设定部230设有数据收集条件设定部231、统计处理条件设定部232、图表显示条件设定部233、以及报告通知条件设定部234。数据收集条件设定部231，依使用者指示设定各装置所得的数据的收集条件。统计处理条件设定部232，为了分析并掌握各装置的运作状况，而依使用者指示设定对所收集数据施以统计处理的处理条件。
又，图表显示条件设定部233，依使用者指示设定将所收集数据或由统计处理所求出的数据显示于显示装置的显示条件。报告通知条件设定部234，依使用者指示设定用以显示来自各装置的数据收集结果、显示结果、及统计处理结果至少一项的报告的通知条件。此外，于服务器61设有键盘或鼠标等输入装置(图标省略)，上述的使用者的指示操作此输入装置来输入。又，也能操作设于终端装置62的相同输入装置，来将使用者的指示透过网络70输入至服务器61。
于上述数据收集条件设定部231、统计处理条件设定部232、及图表显示条件设定部233，分别设有用以判定所收集数据的整合性的判定部236，237，238。于此判定部236～238设有记录有数据整合性定义的定义档，判定部236～238即参照各个定义文件来判定数据的整合性。判定此种数据的整合性的原因，是由于在进行数据的显示时须有适合所设定的显示条件的复数个数据、在进行数据的统计处理时须有使用于所设定的处理条件的复数个数据，因此需保证在显示或统计处理时所须数据的齐全。
此处，以数据收集条件设定部231设定的收集条件，例如有数据收集处、所收集数据的种类、数据收集时序(定时、定周期、在各装置的事件产生时等)、以及为了对所收集数据进行加工而进行运算的表达式(加工方法)等。
以统计处理条件设定部232设定的处理条件，有统计处理的种类、用于统计处理的表达式、作为进行统计处理对象的数据的数据条件、判定统计处理结果的异常及警告至少一方的判定临限值、以及执行统计处理的时序(定时、定周期、在各装置的事件产生时等)等。统计处理的种类，有求出获得数据前的装置状态的(通常的)统计处理、或预测获得数据的时间点后的装置状态的预测型统计处理。作为统计处理对象的数据的数据条件，有作为统计处理对象的数据的上限值及下限值、或作为统计处理对象外的数据的上限值及下限值。又，上述判定临限值，有用以判定为异常的上限临限值及下限临限值、或用以判定为警告的上限临限值及下限临限值。
以图表显示条件设定部233设定的显示条件，有以图表显示数据时的图表种类、作为显示对象的数据种类、作为显示对象的数据群组、作为显示对象的数据的数据条件、数据的显示时序、显示内容的更新时序(定时、定周期、在各装置的事件产生时等)、以及有无判定临限值(用以判定显示内容的异常及警告的至少一方)的设定履历显示等。上述图表种类例如有条状图、线状图、面积图、双轴图、公差图、饼图、下探图(Drill-down graph)、散布图、三维条状图、三维面积图、以及三维散布图。
作为显示对象的数据的数据条件，有作为统计处理对象的数据的上限值及下限值、或作为统计处理对象外的数据的上限值及下限值。该数据的种类，有所收集的数据、由统计运算所得出的数据、或由预测型统计运算所得出的数据。上述数据群组，是指相异的复数数据依既定分类基准被分类的状态。作为以报告通知条件设定部234设定的通知条件，是设定是否将数据的收集结果、显示结果(图表)、以及统计处理结果的任一项作为报告来通知。
接口240，用以进行服务器61与其它装置的通讯、或与使用者进行数据或命令的输入与输出的接口。具体而言，此接口240具备通讯部241，以提供服务器61透过通讯网路70而连接于曝光装置10等的其它装置来进行数据传送的通讯环境。又，也提供远程网络连接环境，而能进行来自透过通讯网路70而连接的终端装置62的存取。再者，也提供能以适当方式进行来自使用者的命令或数据的输入与输出的人性化接口环境。
应用程序250，实现在组件处理系统1用以使服务器61实际进行曝光装置10等的装置支持功能的程序。如图所示，于本实施方式的服务器61设有分别实现执行装置/制造工艺解析功能251、报告通知功能252、e-mail诊断结果通知功能253、自动诊断功能254、PP管理功能255、自动修正控制功能256的应用程序。
装置/制造工艺解析功能251，根据以统计处理条件设定部232设定的处理条件，来对储存于数据库引擎220的数据库内的数据进行统计处理，并输出此统计处理的处理结果。此时，根据以图表显示条件设定部233设定的显示条件，而例如以图表等方式输出处理结果。此处理结果被输出至服务器61所具备的显示装置、或终端装置62所具备的显示装置，并以图表显示。又，装置/制造工艺解析功能251，例如进行每一处理步骤的处理时间合计、透镜室的目标气压与实际气压的合计等，并输出此等合计结果。
报告通知功能252，自动产生显示组件处理系统1的各装置运作状态的报告、并加以通知的功能。报告通知功能252，根据以报告通知条件设定部234设定的通知条件自动产生报告，例如以月、周、或日为单位，将该报告输往出至预先设定的指既定输出处。报告内容，例如是MTBF、MTBI、或故障产生主要原因分类的直方图等用以维持装置的适切运转状态的管理数据。
e-mail诊断结果通知功能253，是透过通讯网路将后述的自动诊断功能254的输出内容等发送至远地的远程终端装置63。由此，即可以远程终端装置63进行组件处理系统1的各装置的性能监控、不良情形或故障的掌握、故障部位的判断等。其结果，可诊断或调整曝光装置10等装置。又，由定时监控运转履历或日志数据，而也可进行装置的预防维护。
自动诊断功能254，对以数据收集条件设定部231设定的收集条件、及根据以统计处理条件设定部232设定的处理条件所收集的数据进行统计处理，据以自动检测出装置运作状况的异常。例如，进行错误件数诊断、维护诊断、以及生产数据诊断等的自动诊断。此处，错误件数诊断，是从曝光装置10的载台、装载器、对准等的错误产生件数来找出装置问题及不良制造工艺。维护诊断，是由监控曝光装置10的载台、成像系统、照明系统、对准、AF等各种测量结果的变化，来进行维护频度的最佳化、以及消耗品交换时期的最佳化。又，生产数据诊断，是由监控对准测量结果、聚焦控制数据等，来进行制造工艺异常的早期发现与生产不良品的预防。由此种自动诊断功能254，即可缩短当机时间，较早期或以适切的时序检测出生产中的异常，而能削减重制(rework)晶片的情形。
制造工艺条件(PP)管理功能255，是管理记载有曝光装置10等装置的实际处理条件的制造工艺条件。组件处理系统1，是在服务器61集中管理适用于曝光装置10的制造工艺条件，而能从服务器61下载或上传至各曝光装置10。又，由此，PP管理功能255，即可提供使用者能在服务器61制作制造工艺条件的环境。也即，PP管理功能255，是提供使用者能透过通讯网路70从办公室的PC等存取于服务器61来制作或编辑制造工艺条件的环境、工具等(桌上/制造工艺条件编辑功能)。
又，PP管理功能255，是提供将制造工艺条件最佳化的环境。通常，使用者根据如前述装置/制造工艺解析功能251或自动诊断功能254的解析结果或诊断结果，来编辑制造工艺条件并予以最佳化。但编辑制造工艺条件时，有时也会想确认其它处理条件的妥当性。PP管理功能255提供使用者用以确认此种处理条件的妥当性的仿真环境。更具体而言，PP管理功能255，是根据设定的制造工艺条件提供曝光处理的仿真环境，由此可进行例如叠合、成像及产能的评估。
自动修正控制功能256，是基于数据收集条件设定部231所设定的收集条件、统计处理条件设定部232所设定的处理条件、以及图表显示条件设定部233所设定的显示条件所收集的数据，据此进行反馈或前馈修正控制，以使装置的功能及动作稳定。本实施方式的自动修正控制功能256，大致区分为对环境或装置状态变化的修正控制、对制造工艺的修正控制的两项修正控制。
对环境或装置状态变化的修正控制，是由对温度、气压或湿度等环境的变动、或曝光装置、台车及激光等装置状态的变化进行修正控制，来谋求装置性能的稳定。具体而言，例如进行如下的各控制。首先，从气压、温度、及湿度的变化数据预测控制曝光装置10的聚焦面，以谋求面稳定性的提升(长期聚焦稳定化)。又，从激光、气压、温度、及湿度的变化数据预测控制最佳曝光量，以谋求晶片间CD稳定性的提升(晶片间ΔCD稳定化)。又，对因PEB温度不均所引起的晶片内各照射曝光量不均进行微调(修正)，以谋求晶片内ΔCD稳定性的提升(晶片内ΔCD稳定化)。又，测量装载器与台车的接口的温度变化，以预测曝光时的晶片伸缩量，并加以对准修正，以谋求重叠精度提升(晶片间重叠稳定化)。
对制造工艺的修正控制，是预测起因于制造工艺的变动、或因曝光装置、台车、及激光等装置组合运用时的变动，据此修正控制各种动作条件，以谋求装置性能的稳定。具体而言，进行如下的控制。例如，进行SDM(失真匹配)、GCM(栅格匹配)的修正参数最佳化，以谋求重叠精度提升(机台间重叠精度提升)。又，以各制造工艺的制造工艺条件(制造工艺程序)算出实际产能、及算出曝光装置-台车间的实际产能，以特定出产能低落的单元，并提供支持对策(藉产能仿真提高生产性)。又，依每一制造工艺进行对准测量计算的自动选择，以谋求重叠精度的提升(对准测量计算自动测量)。又，配合光罩图案进行最佳化的透镜像差修正控制(透镜像差修正控制)。
此外，此应用程序层次功能的操作画面是以网络浏览器所建构，因此不分远程/本地，无论从任何地方都可使用所有功能。装置支持系统60的终端装置62，例如是在工厂内使用者用在存取于服务器61的终端装置。终端装置62连接于通讯网路70的第一网络71，并透过第一网络71连接于服务器61。
装置支持系统60的远程终端装置63，例如是从工厂外的办公室或曝光装置10的供货商的相关人员用于存取服务器61的终端装置。远程终端装置63，是透过第二网络72、闸装置73、及第一网络71、且使用服务器61的接口240功能连接于服务器61。以上系装置支持系统60的构成。
通讯网路70是用以连接组件处理系统1的各装置的网络。通讯网路70的第一网络71，例如是工厂内的通讯网路，其连接装置支持系统60的服务器61、终端装置62、曝光装置10、台车20、激光30、线上测量器40、以及线外测量器50等。又，通讯网路70的第二网络72例如是工厂外的通讯网路、或曝光装置10的供货商所管理的网络。如图所示，第二网络72与第一网络71由例如具有防火墙功能的闸装置73来连接。
其次，说明上述各种条件的设定画面。图4所示的是收集条件设定画面的一例。收集条件的设定画面，如图4所示，显示于窗口WD1，此窗口WD1大分为三个显示区R1～R3。显示区R3，是依显示区R2的设定内容使显示内容随的改变的区域。于显示区R1设有用以输入收集条件登录名(Plot Name)的输入栏IB1、以及用以输入登录名于输入栏IB1后输入对收集条件的描述(Description)的输入栏IB2。
此处，欲将得自装置的数据以图表显示时，首先须收集显示该图表所须的数据，数据的显示与收集系有密切关联。词汇“Plot”虽通常显示数据时所使用的词句，但本实施方式如上所述，由于数据的显示与收集有密切关联，因此于收集条件登录名使用词汇“Plot”。
于显示区R2设有用以输入数据收集处的装置群组名(Equipment GroupName)的输入栏IB3、用以输入数据收集对象的制造工艺条件群组名(RecipeGroup Name)的输入栏IB4、用以输入为了对所收集的数据施以加工而对数据进行的加工方法(运算)表达式名(Expression Name)的输入栏IB5、用以输入计算结果值的计量单位(Unit)的输入栏IB6、用以输入运算取样数(SamplingPoint)的输入栏IB7、以及用以输入运算取样期间(Sampling Period)的输入栏IB8。
于窗口WD1内，划有底线的文字为超级链接，点击此超级链接时会出现另一新窗口。例如，当点击上述装置群组名(Equipment Group Name)输入栏IB3的图中左侧所显示的超级链接时，装置群组的选单画面即会显示于另一新窗口(图标省略)。同样地，当点击制造工艺条件群组名(Recipe GroupName)输入栏IB4的图中左侧的超级链接时，制造工艺条件群组选择画面即会显示于另一新窗口(图标省略)。在各新窗口内所选择的内容后即会分别被输入至IB3，IB4。输入栏IB3，IB4输入“ALL”来作为默认值(Default)，当省略对此等输入栏的输入时，会从所有装置群组及所有制造工艺条件群组收集数据。
又，当点击表达式名(Expression Name)输入栏IB5的图中左侧所显示的超级链接时，表达式选单画面即会显示于另一新窗口(图标省略)，在此窗口所选择的表达式即会被输入至输入栏IB5。输入栏IB5输入“SINGLE”来作为默认值(Default)，当省略对此等输入栏的输入时，数据即不进行加工而直接显示。可输入输入栏IB5的代表性表达式如下。
AVE：回复所指定数字集合的平均值。
MAX：回复所指定数字集合的最大值。
MIN：回复所指定数字集合的最小值。
COUNT：回复所指定数字集合的数目。
STDEV：回复所指定数字集合的标准差。
RANGE：回复所指定数字集合的最大值与最小值的差。
SUM：回复所指定数字集合的总和。
ABSMAX：回复所指定数字集合的绝对值的最大值。
ABSMIN：回复所指定数字集合的绝对值的最小值。
ABSAVE：回复所指定数字集合的绝对值的平均值。
ABSSUM：回复所指定数字集合的绝对值的总和。
SINGLE：直接回复所指定的变量。
ABS：回复所指定数字的绝对值。
SIN：回复所指定数字(单位弧度)的正弦。
COS：回复所指定数字(单位弧度)的余弦。
TAN：回复所指定数字(单位弧度)的正切。
如求出平均值的“AVE”等，当输入以一个以上的数据为对象的表达式于输入栏IB5时，需依输入内容，收集该数据的范围即会被输入栏IB7、IB8任一栏的输入内容特定。如图4所示，于输入栏IB7、IB8附有勾选按钮，由此勾选按钮来以排他方式选择输入栏IB7、IB8的任一项。
于显示区域R3设有用以输入作为数据收集/计算对象的数据项名(DataItem Name)的输入栏IB9。当点击此输入栏IB9的图中左侧所显示的超级链接时，即会于新窗口显示聚焦追随误差、曝光量控制误差、同步精度误差、对准误差等运算对象项目选单画面(图标省略)，在此窗口所选择的项目名即会被输入至输入栏IB9。图4中，虽图标输入栏IB9仅显示一项的状态，但视用以输入表达式名(Expression Name)的输入栏IB5内容，所显示的输入栏IB9的数目也会改变。此外，在图4虽省略，但也设有用以规定执行数据收集的时序的执行种类(Execution Type)、以及用以输入下次执行时间(NextExecution Schedule)的输入栏。即使不于图4所示的收集条件设定画面设定，也可于后述的处理条件设定画面、或显示条件设定画面进行设定。在收集条件设定画面、与后述的处理条件设定画面或显示条件设定画面两方设定有执行种类及下次执行时间时，以在处理条件设定画面或显示条件设定画面所设定的内容为优先。
图5，是显示显示条件设定画面的一例。显示条件设定画面，如图5所示显示于窗口WD2，此窗口WD2也与上述窗口WD1同样地大分为R11R13三个显示区。于显示区R11设有用以输入图表种类(Chart Type)的输入栏IB11、用以输入作为显示对象数据种类的数据来源区分(Data Source)的输入栏IB12、用以输入指定判定临限值(用以判定统计处理异常/警告)设定履历的有无(Display Limit History)的输入栏IB13、用以输入显示条件登录名的图表名称(Chart Name)的输入栏IB14、以及用以输入4对显示条件(于输入栏IB14输入登录名)的描述(Description)的输入栏IB15。
此处，于输入栏IB11例如输入作为图表种类的条状、线状、面积、双轴、公差、圆形、下探、散布图、3D条状、3D面积、以及3D散布图。由输入上述的任一项，来显示条状图、线状图、面积图、双轴图、公差图、饼图、下探图、散布图、三维条状图、三维面积图、以及三维散布图。于输入栏IB12输入统计处理、预测型统计处理、以及数据收集中的任一项。由输入此等的任一项，而会显示由统计处理所得的数据、由预测型统计处理所得的数据、及所收集数据的任一项。如图5所示，当输入“PLOT”时，即会显示所收集的数据。输入栏IB13，当输入栏IB12的输入内容为统计处理、或预测型统计处理时才有效。
显示区R12输入数据收集条件的区域。于设定显示条件的画面设置用以输入收集条件的显示区域R12，如前所述，因数据的显示与收集有密切关联之故。于此显示区R12，设有用以输入图表显示对象的数据的期间的输入栏IB16、用以输入属性数据项(Data Item)的输入栏IB17。此处，属性数据项，将操作数件、条件值组合成一个条件，为了限制显示对象的数据而设定者。例如，当指定“EQPID”＝“NSR051”时，即限定为来自装置名“NSR051”的数据。可输入于输入栏IB17的代表性表达式如下。
＝：与条件值完全一致
LIKE：使用万用字符“*”或“？*”的模糊检索
IN：与条件值中的任一值一致
NOT IN：与条件值中的任一值均不一致
<>：条件值以外
＞：大于条件值(不含条件值)
＜：小于条件值(不含条件值)
＞＝：大于比条件值(含条件值)
＜＝：小于条件值(含条件值)
BETWEEN：在条件值1与条件值2之间(含条件值1与条件值2)
此外，虽于图5省略图标，但于显示区R12也设有用以输入数据收集条件名(作为后述的统计处理对像)的数据系列名(Data Series Name)的输入栏、用以输入规定数据显示时序的执行种类(Execution Type)及下次执行时间(Next Execution Schedule)的输入栏、以及用以输入集合函数(Set Function，用以进行数据群组化)的输入栏。此外，当输入栏IB12为“PLOT”时，上述数据系列名(Data Series Name)，从图4所示的窗口WD1中输入栏IB1所设定的收集条件登录名(Plot Name)来选择。
于显示区R13设有复数个输入栏，以供输入将数据显示为图表时与图表显示相关的详细数据。例如设有用以输入付于图表上部的上标题(Head Title)的输入栏、以及用以输入付于图表下部的下标题(Footer Title)的输入栏。又，当数据例如以双轴图显示时，设有用以输入各轴名称、刻度间隔等详细数据的输入栏。
图6～图9所示的是统计处理中处理条件设定画面的一例。用以设定统计处理的处理条件的设定画面，如图6～图9所示，显示于窗口WD3，此窗口WD3也与上述窗口WD1、窗口WD2同样地大分为三个显示区R21 R23。由于显示于显示区R23的内容较多，无法以一个图来显示显示区R23的所有内容，因此以复数个图来图标窗口WD3。
于显示区R21设有用以输入统计处理的登录名(SPC Name)的输入栏IB21、用以输入对统计处理(已输入登录名于输入栏IB21)的描述(Description)的输入栏IB22、用以输入统计处理的分类名(SPC Class Name)的输入栏IB23、以及用以输入统计处理的区分(SPC Type)的输入栏IB24。此处，SPC系统计制造工艺管理(Statistic Process Control)的简称。当点击显示于输入栏IB23的图中左侧的超级链接时，统计处理分类一览画面即会显示于另一新窗口(图标省略)。当曝光装置为数据收集对象时，显示于此窗口的内容即有聚焦、曝光量、同步精度、对准、平坦度等项目。于输入栏IB24输入统计处理的种类(求出获得数据前的装置状态的(通常的)统计处理、或预测型统计处理)。
显示区R22用以输入数据收集条件的区域。于统计处理的处理条件设定画面设置用以输入收集条件的显示区域R22，与数据的显示与收集有密切关联同样地，因数据的统计处理与收集有密切关联之故。在此显示区R22设有用以输入作为统计处理对象的属性数据项(Data Item)的输入栏IB25、用以输入作为统计处理对象的数据系列名(Data Series Name，即收集条件名)的输入栏IB26。
输入于输入栏IB25的属性数据项，是将表达式、条件值组合成一个条件，为了限定作为统计处理对象的数据而设定，作为其操作数件，可输入与输入图5所示显示条件的设定画面输入栏IB17的操作数件相同的操作数件(“＝”、“LIKE”、“IN”等)。当点击输入栏IB26的图中左侧所显示的超级链接时，数据收集条件选单即会显示于另一新窗口(图标省略)。
显示区域R23的显示内容，是由使用者操作鼠标来沿纵(图中的上下方向)方向移动付于显示区R23的纵滚动条SL1，而能如图6～图9所示进行变更。于此显示区域R23设有用以输入判定统计处理的异常/警告的判定临限值(SPC Limit)的输入栏IB27(参照图6、图7)、用以输入统计处理检查规则(SPC Check Rule)的输入栏IB28(参照图8、图9)、用以输入执行区分(Execution Type)的输入栏IB29(参照图9)、用以输入下次执行时日(NextExecution Schedule)的输入栏IB30、以及用以输入统计处理错误时的报告通知相关的通知条件的输入栏IB31(参照图7)。
输入于输入栏IB27的界限临限值，是设定用以对统计处理结果判定为异常的上限临限值及下限临限值、以及对统计处理结果判定为警告的上限临限值及下限临限值。于输入栏IB28选择输入预先登录的统计处理检查规则。此输入栏IB28能选择输入复数个统计处理检查规则。能选择输入于输入栏IB28入代表性统计处理检查规则如下。以下所示的UCL，LCL对统计处理结果判定为异常的上限临限值及下限临限值，UWL、LWL对统计处理结果判定为警告的上限临限值及下限临限值。依据输入于输入栏IB28的统计处理检查规则，来对统计处理结果判定为异常或警告。
WE1：最终点超过(UCL：Upper Control Limit)值
WE2：连续三点中的两点超过UWL(Upper Warning Limit)值
WE3：连续五点中的四点超过+1σ值
WE4：八连续点全部超过目标值
WE5：最终点低于LCL(Lower Control Limit)值
WE6：连续三点中的两点低于LWL(Lower Warning Limit)值
WE7：连续五点中的四点低于-1σ值
WE8：八连续点全部低于目标值
WE9：十五连续点存在于+/-1σ值内
WE10：八连续点不存在于+/-1σ值内
输入于输入栏IB29的执行区分，规定执行统计计算处理的时序，于输入栏IB29选择输入下述方式的任一项来执行统计运算处理，即：不自动执行(Off)、定时执行(Timing)、定周期执行(Cycle)、异动产生时执行(处理事件)。选择输入定时执行(Timing)时，须输入执行时间与每日、每周的礼拜几、以及每月的哪一天中的任一项。选择输入定周期执行(Cycle)时，须输入执行时间间隔(分单位)。又，输入亦动产生时执行(Transaction)时，当点击超级链接(Transaction Name)后，异动一览画面即会显示于另一新窗口(图标省略)，以选择显示于此窗口的异动的内容。
于输入栏IB30输入下次(或初次)执行统计计算处理的时日。当在输入栏IB29选择输入定时执行(Timing)时，即会在输入栏IB30输入的下次执行时日之后的指定时间自动执行数据收集。当在输入栏IB29选择输入定周期执行(Cycle)时，即会在输入栏IB30所输入的下次执行时日自动执行数据收集，其后于所指定的一定时间间隔自动执行数据收集。当在输入栏IB29选择输入异动产生时执行(Transaction)时，即将在输入栏IB30所输入的下次执行时日后产生的异动作为触发，自动执行数据收集。又，于输入栏IB31输入附带于报告的图表名(Chart Name)，来作为统计处理错误时的报告通知相关的通知条件之一。
输入执行以上统计运算处理的时日时，输入输入栏IB30的内容，与输入栏IB29的勾选按钮的选择无关而均相同。只不过，依据在输入栏IB29选择(Timing)、(Cycle)、(Transaction)的哪一项，输入于输入栏IB30的内容解释也会不同。
如此，由输入栏IB29的(Timing)、(Cycle)、(Transaction)与输入栏IB30使用共同画面构成，相较于与各输入栏IB29的(Timing)、(Cycle)、(Transaction)对应来设置输入栏的情形，可节省显示面积，使显示内容较为简单。
又，在以上数据收集条件、数据显示条件、统计处理的处理条件设定画面中，于各项配置有超级链接，由点击超级链接，而显示另一新窗口，并显示选单画面。使用者可从列表显示于选单画面中的选项来选择，以进行条件设定。
例如在进行组件制造制造工艺的最佳化等时，所处理的信息数目相当庞大。再者，各信息在系统上被赋予何种名称的类、欲完全掌握其所有信息实质上系不可能的。此种状况下，当设定数据收集条件、数据显示条件、数据统计处理的处理条件时，如单纯地于设定画面上设置输入框来要求将文字列输入，即有可能会常发生人为疏失。
相对于此，以上说明的设定画面，由于配置有超级链接、由点击超级链接，来列表显示适当选项，因此即不易发生文字列打字疏失或进行了不能选择的设定等错误。
以上，说明了数据收集条件、数据显示条件、以及统计处理的处理条件设定画面，其次，说明使用服务器61来解析装置状态的顺序。使用者的操作，可大分为显示以装置得到的数据的情形、以及对以装置得到的数据进行诊断处理后并显示其诊断结果的情形。以下依序说明各情形下使用者的操作。
(1)显示以装置得到的数据的情形
最初，使用者操作设于服务器61的输入装置，以显示如图4所示的收集条件的画面来设定收集条件。具体而言，首先将收集条件的登录名(PlotName)输入输入栏IB1，如有需要也输入对收集条件(于输入栏IB1输入有登录名)的描述(Description)。其次，将数据收集处的装置群组名(EquipmentGroup Name)输入输入栏IB3、并将作为数据收集对象的制造工艺条件群组名(Recipe GroupName)输入输入栏IB4。进一步地，将为了对所收集的数据进行加工而对数据进行的加工方法(运算)的表达式名(Expression Name)输入输入栏IB5，并将运算结果值的计量单位(Unit)输入输入栏IB6，再将运算取样数目(Sampling Point)与运算取样时间(Sampling Period)输入输入栏IB7及输入栏IB8。又，在输入栏IB9指定运算对象的数据项名(Data Item Name)。依据所选择的表达式的不同，所指定的数据项数目也不同。当点击显示于输入栏IB9的图中左侧的超级链接时，即显示将运算对象的数据一览显示的运算对象数据项选单(Search Condition-Data Item Name)画面。
以上操作结束后，使用者即操作设于服务器61的输入装置，以显示如图5所示的显示条件的画面来设定显示条件。具体而言，将图表种类(ChartType)输入输入栏IB11、将作为显示对象的数据种类的数据来源区分(DataSource)输入输入栏IB12。其次，将显示条件登录名的图形名称(Chart Name)输入输入栏IB14、如有需要即再将对显示条件(于输入栏输入有登录名)的描述(Description)输入输入栏IB15。又，在输入栏IB13指定判定统计处理异常/警告的判定临限值设定履历的有无(Display Limit History Y/N)。
其次，使用者在窗口WD2的显示区R12输入数据的收集条件。具体而言，将作为图表显示对象的数据的期间输入输入栏IB16、将属性数据项(DataItem)输入输入栏IB17。进一步地，于图5的未图标输入栏，输入为显示对象的数据收集条件名的数据系列名(Data Series Name)、规定数据显示时序的执行区分(Execution Type)及下次执行日时(Next Execution Schedule)、以及用以进行数据的群组化的集合函数(Set Function)。再者，如有需要，即在窗口WD2的显示区域R13输入图表的标题。
当以上条件设定结束，使用者操作鼠标来按下设于窗口WD2的描绘按钮(Draw)时，即收集和所设定的收集条件与显示条件一致的数据。本实施方式中，使用于装置的数据以收集部210预先收集并记录于数据库引擎220的数据库。由此，和所设定的收集条件与显示条件一致的数据，即以数据库引擎220来收集。此外，也可不使用该数据库引擎220，而透过数据收集部210直接从装置收集与所设定的收集条件与显示条件一致的数据。所收集的数据，由设定于数据收集条件设定部231及图表显示条件设定部233的判定部236，238来判定整合性。
数据收集结束时，如图10～图12所示，使用者所欲的图表即显示于服务器61的显示装置(未图示)。图10显示错误统计图表一例，图11显示生产性图表一例，图12显示装置环境图表一例。图10所示的错误统计图表，将指定期间中各曝光装置10的错误发生件数依错误种类别(错误发生的单位别)来显示的图表。若观看此图表，即可一眼看出哪一曝光装置的哪一单位存在有问题，以加以掌握。即，可解析对错误的装置或制造工艺条件的依存性，缩短问题处理的时间。图11所示的生产性图表，是就各批号的各晶片来显示晶片交换时间、对准时间、及曝光时间的图表。若观看此图表，即可知有时会存在有晶片交换时间较长的晶片，而于晶片搬送时产生时间的浪费。即，由此种图表，可掌握装置的利用状况，以研究提高生产性效率的对策。
图12所示的装置环境图表，将两个透镜室(A室及B室)的目标气压与测量的实际气压重叠绘制的图表，当观看此图表时，可知A室与B室都相当接近目标气压。又，当在设于图5所示的窗口WD2的输入栏IB13，指定显示用以判定异常/警告的判定临限值的设定履历(Y)时，即会显示图13所示的图表。图13是判定临限值设定履历显示的一例。若观看此图表，即可容易地了解过去设定的判定临限值与压力变动的演进的关系。由此等图表即可掌握曝光装置10的环境。也即，能求出装置性能与环境变动的相关性，以缩短制造工艺异常的原因调查时间及使装置调整频度最佳化。
此外，当在设于图5所示的窗口WD2的显示区R12的未图标输入栏，输入用以执行数据的群组化的集合函数(Set Function)时，群组化后的数据即由集合函数来进行赋予关连的处理。图14显示群组化后的数据显示例的图。图14所示的图表(下探图)，将每一装置的晶片处理片数群组化后的数据的显示例。此显示例，以饼图将每日的晶片处理片数显示于窗口WD10，当特定此饼图一部分并选择日期时，即以饼图显示所选择的日期的每一装置的晶片处理片数。如此，将数据予以群组化，即可作阶层性的图表显示。
(2)显示对数据进行诊断处理的诊断结果的情形
最初，使用者操作设于服务器61的输入装置，以显示如图4所示的收集条件的画面来设定收集条件。此处所输入的内容与显示以上述(1)装置得到的数据的情形相同。当以上操作结束后，使用者操作设于服务器61的输入装置，以显示如图6所示的处理条件显示画面来设定处理条件。具体而言，首先将统计处理的登录名(SPC Name)输入输入栏IB21，如有需要再将对统计处理(于输入栏IB21输入有登录名)的描述(Description)输入输入栏IB22。其次，将统计处理的分类名(SPC Class Name)输入输入栏IB23、将统计处理的区分(SPCType)输入输入栏IB24。
其次，在显示区R22将统计处理对象的属性数据项(Data Item)输入输入栏IB25、将统计处理对象的数据收集条件名的数据系列名(Data Series Name)输入输入栏IB26，以作为数据的收集条件。接着，如图6～图9所示，使用者操作鼠标，使纵滚动条SL1移动于纵方向(图中上下方向)，且将判定统计处理的异常/警告的判定临限值(SPC Limit)输入输入栏IB27，将统计处理检查规则(SPC Check Rule)输入输入栏IB28，将执行区分(Execution Type)输入输入栏IB29，将下次执行时日(Next Execution Schedule)输入输入栏IB30。又，如有需要，将统计处理错误时的报告通知相关的通知条件输入输入栏IB31。藉由上述方式设定收集条件及处理条件，如有需要也与上述同样方式设定显示条件。
当结束以上条件设定、使用者以鼠标进行既定指示时，即收集与所设定的收集条件及处理条件(若有设定显示条件时，即系此等条件及显示条件)一致的数据，并进行诊断处理，而将例如图15所示的使用者所欲的图表显示于服务器61的显示装置(未图示)。图15是预测型统计处理的处理结果一例。相较于通常的统计处理系根据过去数据来掌握目前时间点的倾向，预测型统计处理，是根据基于指定期间/取样数的过去数据所指定的预测式(例如使用最小平方法的一次近似式等)，来预测未来的指定期间的倾向。即，可预测可能为异常的时期。依据此预测结果，例如即可预测应该更换消耗品等的时期，可作为订定保养计画的标准。由此可缩短停机时间。
如此，由运用组件处理系统1，能从曝光装置10的处理结果的数据中将使用者所需的数据收集于服务器61，进行使用者所需的统计处理，并以使用者所需的显示形式显示所收集数据或统计处理的处理结果。由此，能缩短问题产生至解决为止的时间，而可有效率地进行组件等的生产。又，能对一项数据设定复数个显示形式，由此能对数据作多元(多方面)的研究。
以上，虽说明本发明的实施方式，但本发明并不限于上述实施方式，也可在本发明的范围内自由进行变更。例如，也可不将装置支持系统60与曝光装置10或线上测量器40另外独立设置，而将装置支持系统60所具有的功能构装于曝光装置10、线上测量器40、或线外测量器50上。但是，如此由于可想见会导致兼具装置支持系统60功能的装置的负荷增大，因此从负荷的观点来看，上述实施方式较佳。又，例如，组件处理系统1的整体构成并不限于图1所示的构成，或原本就不限于微影生产线，也可适用于其它任意的制造工艺装置。又，作为数据收集来源的组件处理装置也不限定于曝光装置10等，也可如用以检查形成于基板的电路的检查装置、用以评估形成于基板的图案的评估装置、以及用以修复形成于基板的电路的修复装置。
又，上述实施方式的曝光装置10，也可使用揭示国际公开第99/49504号公报的液浸法的曝光装置，或也可不使用液浸法的曝光装置。使用液浸法的曝光装置，也可在投影光学系统PL与晶片W之间局部充满液体的液浸曝光装置、如揭示于特开平6-124873号公报的液浸曝光装置(使保持曝光对象的基板的载台在液槽中移动)、或如揭示于特开平10-303114号公报的液浸曝光装置(于载台上形成既定深度的液体槽、并将基板支撑于其中)的任一种。
又，上述曝光装置10，也可是下述装置的任一者，即：用于半导体组件的制造将组件图案转印至半导体晶片的曝光装置、用于包含液晶显示组件(LCD)等的显示器的制造将组件图案转印至玻璃基板上的曝光装置、用于薄膜磁头的制造将组件图案转印至陶瓷晶片上的曝光装置、以及用于CCD等摄影组件的制造的曝光装置。又，为了制造光曝光装置、EUV曝光装置、X线曝光装置、及电子线曝光装置等所使用的标线片或光罩时，也可将电路图案转印至玻璃基板或硅晶片等的曝光装置。
又，以软件展开图3所示的功能模块时，由计算机系统来执行上述功能的程序、以及使用计算机系统以能读出及执行的状态储存有该程序的记录媒体也包含于本发明。

Claims (35)

1.一种组件处理系统，该系统具备至少一个组件处理装置，其特征在于，所述组件处理系统具有：
支持装置，所述支持装置具有：
数据收集条件设定部，依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得的数据的收集条件；
数据显示条件设定部，依所述使用者的指示设定用以显示所述数据的显示条件；
数据收集部，从所述组件处理装置，收集和以所述数据收集条件设定部设定的收集条件、与以所述数据显示条件设定部设定的显示条件一致的数据；以及
显示部，根据以所述数据显示条件设定部设定的显示条件，来显示以所述数据收集部收集的所述数据。
2.一种组件处理系统，具备至少一个组件处理装置，其特征在于，所述组件处理系统具有支持装置，所述支持装置具有：
数据收集条件设定部，依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得的数据的收集条件；
统计处理条件设定部，依所述使用者指示设定对所述数据施以统计处理的处理条件；
数据收集部，从所述组件处理装置，收集和以所述数据收集条件设定部设定的收集条件、与以所述统计处理条件设定部设定的处理条件一致的数据；
统计处理部，根据以所述统计处理条件设定部设定的处理条件，来对以所述数据收集部收集的所述数据进行统计处理；以及
显示部，显示以所述统计处理部进行的处理结果。
3.一种组件处理系统，具备至少一个组件处理装置，其特征在于，所述组件处理系统具有支持装置，所述支持装置具有：数据收集条件设定部，依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得的数据的收集条件；
数据显示条件设定部，依所述使用者指示设定用以显示所述数据的显示条件；
统计处理条件设定部，依所述使用者指示设定对所述数据施以统计处理的处理条件；
数据收集部，从所述组件处理装置，收集和以所述数据收集条件设定部设定的收集条件、以所述数据显示条件设定部设定的显示条件、以及以所述统计处理条件设定部设定的处理条件一致的数据；
统计处理部，根据以所述统计处理条件设定部设定的处理条件，来对以所述数据收集部收集的所述数据进行统计处理；以及
显示部，根据以所述数据显示条件设定部设定的显示条件，来显示以所述数据收集部收集的所述数据、以及以所述统计处理部进行的处理结果的至少一方。
4.如权利要求1至3中任一项所述的组件处理系统，其特征在于，所述数据收集条件设定部，将所述数据收集对象、所收集数据的种类、所述数据的收集时序、以及所收集数据的加工方法的至少一方设定为所述收集条件。
5.如权利要求4所述的组件处理系统，其特征在于，所述数据的收集时序，包含定时、定周期、以及收集所述数据的所述组件处理装置产生处理事件时中的至少一个。
6.如权利要求4所述的组件处理系统，其特征在于，所述数据的加工方法的设定，是与对所收集数据进行的运算相关的表达式的设定。
7.如权利要求2或3所述的组件处理系统，其特征在于，所述统计处理条件设定部，将下述至少一个设定为所述处理条件，即：所述统计处理的种类、使用于所述统计处理的表达式、为进行所述统计处理对象的数据的数据条件、判定所述统计处理结果的异常及警告至少一方的判定临限值、以及执行所述统计处理的时序。
8.如权利要求7所述的组件处理系统，其特征在于，用以执行所述统计处理的时序，包含定时、定周期、以及收集所述数据的所述组件处理装置产生处理事件时中的至少一个。
9.如权利要求7所述的组件处理系统，其特征在于，所述统计处理的种类，包含下述的至少一方，即：第1统计处理，用于求出以所述组件处理装置得到所述数据的时间点为止的所述组件处理装置的装置状态；以及第2统计处理，用于预测以所述组件处理装置得到所述数据的时间点后的所述组件处理装置的装置状态。
10.如权利要求7所述的组件处理系统，其特征在于，所述数据条件包含作为所述统计处理对象的数据的上限值及下限值、以及作为所述统计处理对象以外的数据的上限值及下限值中的至少一方。
11.如权利要求7所述的组件处理系统，其特征在于，所述判定临限值，包含用以对所述统计处理结果判定为异常的上限临限值及下限临限值、以及用以对所述统计处理结果判定为警告的上限临限值及下限临限值中的至少一方。
12.如权利要求1或3所述的组件处理系统，其特征在于，所述显示条件设定部，将以图表显示所述数据时的图表种类、作为显示对象的数据种类、作为显示对象的数据群组、作为显示对象数据的数据条件、所述数据的显示时序及显示内容的更新时序、以及有无判定临限值的设定履历显示中的至少一个设定为所述显示条件；所述判定临限值，用于判定显示内容的异常及警告的至少一方。
13.如权利要求12所述的组件处理系统，其特征在于，所述数据条件包含作为显示对象的数据的上限值及下限值、以及作为显示对象以外的数据的上限值及下限值中的至少一方。
14.如权利要求12所述的组件处理系统，其特征在于，所述数据种类包含条状图、线状图、面积图、双轴图、公差图、饼图、下探图、散布图、三维条状图、三维面积图、以及三维散布图中的至少一个以上。
15.如权利要求12所述的组件处理系统，其特征在于，所述数据群组是相异的复数个数据依既定分类基准被分类的状态；
所述显示部，以群组为单位显示分类于相同群组的数据。
16.如权利要求12所述的组件处理系统，其特征在于，所述数据的显示时序及显示内容的更新时序，包含定时、定周期、以及收集所述数据的所述组件处理装置产生处理事件时中的至少一个。
17.如权利要求3所述的组件处理系统，其特征在于，所述支持装置具备报告输出部；所述报告输出部，用于设定用以显示所述数据的收集结果、显示结果、以及统计处理结果的至少一个的报告通知条件，并根据所述通知条件将所述报告通知至所述使用者。
18.如权利要求1或3所述的组件处理系统，其特征在于，所述数据显示条件设定部可设定复数个显示条件；
所述显示部，根据以所述数据收集条件设定部设定的收集条件与所述复数个显示条件对所收集的数据进行多方面的图表显示。
19.如权利要求1或3所述的组件处理系统，其特征在于，所述显示部，当欲作为显示对象的数据群组被设定为所述数据显示条件时，以阶层方式显示与分类于所述群组的数据相关连的数据。
20.如权利要求3所述的组件处理系统，其特征在于，所述支持装置，当设定有用以判定显示内容及统计处理结果至少一方的异常及警告至少一项的判定的判定临限值、且显示内容及统计处理结果的至少一方超过所述判定临限值时，即自动地将所述收集条件、显示条件、以及处理条件的至少一项予以最佳化。
21.一种信息显示方法，显示至少一个组件处理装置所得的信息，其特征在于，所述方法包含以下步骤：
依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得数据的收集条件的步骤；
依所述使用者指示设定用以显示所述数据的显示条件的步骤；
从所述组件处理装置收集和所设定的所述收集条件与所述显示条件一致的数据的步骤；以及
根据所述显示条件显示所收集的所述数据的步骤。
22.一种信息显示方法，其显示至少一个组件处理装置所得的信息，其特征在于，所述方法包含以下步骤：
依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得数据的收集条件的步骤；
依所述使用者指示设定对所述数据施以统计处理的处理条件的步骤；
从所述组件处理装置收集和所设定的所述收集条件与所述显示条件一致的数据的步骤；
根据所述处理条件对所收集的所述数据进行统计处理的步骤；以及
用以显示所述统计处理的处理结果的步骤。
23.一种信息显示方法，其显示至少一个组件处理装置所得的信息，其特征在于，所述方法包含以下步骤：
依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得数据的收集条件的步骤；
依所述使用者指示设定用以显示所述数据的显示条件的步骤；
依所述使用者指示设定对所述数据施以统计处理的处理条件的步骤；
从所述组件处理装置收集和所设定的所述收集条件、所述显示条件、以及所述处理条件一致的数据的步骤；
依所述处理条件对所收集的所述数据进行统计处理的步骤；以及
根据所述显示条件来显示所收集的所述数据及所述统计处理的处理结果的至少一方的步骤。
24.一种信息显示程序，其显示至少一个组件处理装置所得的信息，其特征在于，所述信息显示程序具有：
依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得数据的收集条件的处理；
依所述使用者指示设定用以显示所述数据的显示条件的处理；
从所述组件处理装置收集和所设定的所述收集条件与所述显示条件一致的数据的处理；以及
根据所述显示条件显示所收集的所述数据的处理。
25.一种信息显示程序，其显示至少一个组件处理装置所得的信息，其特征在于，所述信息显示程序具有：
依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得数据的收集条件的处理；
依所述使用者指示设定对所述数据施以统计处理的处理条件的处理；
从所述组件处理装置收集和所设定的所述收集条件与所述显示条件一致的数据的处理；
根据所述处理条件对所收集的所述数据进行统计处理的处理；以及
用以显示所述统计处理的处理结果的处理。
26.一种信息显示程序，其显示至少一个组件处理装置所得之信息，其特征在于，所述信息显示程序具有：
依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得数据的收集条件的处理；
依所述使用者指示设定用以显示所述数据的显示条件的处理；
依所述使用者指示设定对所述数据施以统计处理的处理条件的处理；
从所述组件处理装置收集和所设定的所述收集条件、所述显示条件、以及所述处理条件一致的数据的处理；
依所述处理条件对所收集的所述数据进行统计处理的处理；以及
根据所述显示条件来显示所收集的所述数据及该统计处理的处理结果的至少一方的处理。
27.一种记录有信息显示程序的记录媒体，所述信息显示程序显示至少一个组件处理装置所得的信息，其特征在于，所述程序具有：
依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得数据的收集条件的处理；
依所述使用者指示设定用以显示所述数据的显示条件的处理；
从所述组件处理装置收集和所设定的所述收集条件与所述显示条件一致的数据的处理；以及
根据所述显示条件显示所收集的所述数据的处理。
28.一种记录有信息显示程序的记录媒体，所述信息显示程序显示至少一个组件处理装置所得的信息，其特征在于，所述程序具有：
依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得数据的收集条件的处理；
依所述使用者指示设定对所述数据施以统计处理的处理条件的处理；
从所述组件处理装置收集和所设定的所述收集条件与所述显示条件一致的数据的处理；
根据所述处理条件对所收集的所述数据进行统计处理的处理。
29.一种记录有信息显示程序的记录媒体，所述信息显示程序显示至少一个组件处理装置所得的信息，其特征在于，所述程序具有：
依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得数据的收集条件的处理；
依所述使用者指示设定用以显示所述数据的显示条件的处理；
依所述使用者指示设定对所述数据施以统计处理的处理条件的处理；
从所述组件处理装置收集和所设定的所述收集条件、所述显示条件、以及所述处理条件一致的数据的处理；
依所述处理条件对所收集的所述数据进行统计处理的处理；以及
根据所述显示条件来显示所收集的所述数据及所述统计处理的处理结果的至少一方的处理。
30.一种曝光装置，用于将既定图案曝光于基板上，其特征在于，
所述曝光装置具备支持装置，所述支持装置具有：
数据收集条件设定部，用于依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得的数据的收集条件；
数据显示条件设定部，用于依所述使用者指示设定用以显示所述数据的显示条件；
数据收集部，用于从所述组件处理装置，收集和以所述数据收集条件设定部设定的收集条件与以所述数据显示条件设定部设定的显示条件一致的数据；以及
显示部，用于根据以所述数据显示条件设定部设定的显示条件，来显示以所述数据收集部收集的所述数据。
31.一种曝光装置，用于将既定图案曝光于基板上，其特征在于，
所述曝光装置具备支持装置，所述支持装置具有：
数据收集条件设定部，用于依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得的数据的收集条件；
统计处理条件设定部，用于依所述使用者指示设定对所述数据施以统计处理的处理条件；
数据收集部，用于从所述组件处理装置，收集和以所述数据收集条件设定部设定的收集条件与以所述统计处理条件设定部设定的处理条件一致的数据；
统计处理部，用于根据以所述统计处理条件设定部设定的处理条件，来对以所述数据收集部收集的所述数据进行统计处理；以及
显示部，用于显示以所述统计处理部进行的处理结果。
32.一种曝光装置，用于将既定图案曝光于基板上，其特征在于，
所述曝光装置具备支持装置，所述支持装置具有：
数据收集条件设定部，用于依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所的数据的收集条件；
数据显示条件设定部，用于依所述使用者指示设定用以显示所述数据的显示条件；
统计处理条件设定部，用于依所述使用者指示设定对数据施以统计处理的处理条件；
数据收集部，用于从所述组件处理装置，收集和以所述数据收集条件设定部设定的收集条件、以所述数据显示条件设定部设定的显示条件、以及以所述统计处理条件设定部设定的处理条件一致的数据；
统计处理部，用于根据以所述统计处理条件设定部设定的处理条件，来对以所述数据收集部收集的所述数据进行统计处理；以及
显示部，用于根据以所述数据显示条件设定部设定的显示条件，来显示以所述数据收集部收集的所述数据、以及以所述统计处理部进行的处理结果的至少一方。
33.一种测定检查装置，用于在基板被供至既定组件制造处理的前或之后，进行所述基板的特性或检查的至少一方，其特征在于，
所述测定检查装置具备支持装置，所述支持装置具有：
数据收集条件设定部，用于依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得的数据的收集条件；
数据显示条件设定部，用于依所述使用者指示设定用以显示所述数据的显示条件；
数据收集部，用于从所述组件处理装置，收集和以所述数据收集条件设定部设定的收集条件与以所述数据显示条件设定部设定的显示条件一致的数据；以及
显示部，用于根据以所述数据显示条件设定部设定的显示条件，来显示以所述数据收集部收集的所述数据。
34.一种测定检查装置，用于在基板被供至既定组件制造处理的前或之后，进行所述基板的特性或检查的至少一方，其特征在于，
所述测定检查装置具备支持装置，所述支持装置具有：
数据收集条件设定部，用于依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得的数据收集条件；
统计处理条件设定部，用于依所述使用者指示设定对所述数据施以统计处理的处理条件；
数据收集部，用于从所述组件处理装置，收集和以所述数据收集条件设定部设定的收集条件与以所述统计处理条件设定部设定的处理条件一致的数据；
统计处理部，用于根据以所述统计处理条件设定部设定的处理条件，来对以所述数据收集部收集的所述数据进行统计处理；以及
显示部，用于显示以所述统计处理部进行的处理结果。
35.一种测定检查装置，用于在基板被供至既定组件制造处理的前或之后，进行所述基板的特性或检查的至少一方，其特征在于，
所述测定检查装置具备支持装置，所述支持装置具有：
数据收集条件设定部，用于依使用者指示设定用以收集所述组件处理装置所得的数据的收集条件；
数据显示条件设定部，用于依所述使用者指示设定用以显示所述数据的显示条件；
统计处理条件设定部，用于依所述使用者指示设定对数据施以统计处理的处理条件；
数据收集部，用于从所述组件处理装置，收集和以所述数据收集条件设定部设定的收集条件、以所述数据显示条件设定部设定的显示条件、以及以所述统计处理条件设定部设定的处理条件一致的数据；
统计处理部，用于根据以所述统计处理条件设定部设定的处理条件，来对以所述数据收集部收集的所述数据进行统计处理；以及
显示部，用于根据以所述数据显示条件设定部设定的显示条件，来显示以所述数据收集部收集的所述数据、以及以所述统计处理部进行的处理结果的至少一方。
CNB2005800293660A 2004-11-30 2005-11-30 组件处理系统、信息显示方法及其应用装置 Active CN100555567C (zh)

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