CN100354133C - 喷头盖及具备喷头盖的液滴喷出装置、电光装置制造方法 - Google Patents
喷头盖及具备喷头盖的液滴喷出装置、电光装置制造方法 Download PDFInfo
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 324
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 112
- 238000002347 injection Methods 0.000 title description 35
- 239000007924 injection Substances 0.000 title description 35
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 claims abstract description 121
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 156
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 96
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 78
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 69
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 54
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 47
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 47
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 44
- 230000008676 import Effects 0.000 claims description 37
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 claims description 25
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 12
- 230000009182 swimming Effects 0.000 claims description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 claims description 10
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 10
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims description 8
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 6
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 6
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 6
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 claims description 6
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 4
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 195
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 149
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 64
- 239000010408 film Substances 0.000 description 44
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 19
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 18
- 230000008569 process Effects 0.000 description 17
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 16
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 15
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 230000009471 action Effects 0.000 description 10
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 9
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 7
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 6
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002146 bilateral effect Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 2
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 210000002683 foot Anatomy 0.000 description 2
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 2
- -1 hexamethylene hexichol Chemical compound 0.000 description 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 2
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 2
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000935 solvent evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000003064 anti-oxidating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012296 anti-solvent Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N durene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C=C1C SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000001815 facial effect Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical class FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002240 furans Chemical class 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N oxopalladium Chemical compound [Pd]=O HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003445 palladium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/165—Prevention or detection of nozzle clogging, e.g. cleaning, capping or moistening for nozzles
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/165—Prevention or detection of nozzle clogging, e.g. cleaning, capping or moistening for nozzles
- B41J2/16505—Caps, spittoons or covers for cleaning or preventing drying out
- B41J2/16508—Caps, spittoons or covers for cleaning or preventing drying out connected with the printer frame
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Abstract
提供一种喷头盖和具有该喷头盖的液滴喷出装置。喷头盖(113)密接功能液滴喷出头(51)的喷嘴面(58)，密封功能液滴喷出头(51)，具备：盖体基座(121)；形成于盖体基座(121)中的吸收材料容纳部(121a)；填充在吸收材料容纳部(121a)中的功能液吸收材料(122)；压紧功能液吸收材料(122)的吸收材料压板(123)；密封部件(124)；和将密封部件(124)固定在盖体基座(121)上的密封固定部件(125)，密封部件(124)在压紧吸收材料压板(123)的边缘部的状态下，被固定在盖体基座(121)上。从而，能简单更换功能液吸收材料，而不损害密封动作等的本来功能。
Description
技术领域
本发明涉及一种密接于以喷墨打印机的喷墨头为代表的功能液滴喷出头上、并保全机能液滴喷出头的喷出喷嘴的喷头盖(head cap)及具备喷头盖的液滴喷出装置、以及液晶显示装置的制造方法、有机EL装置的制造方法、电子放射装置的制造方法、PDP装置的制造方法、电泳显示装置的制造方法、滤色镜的制造方法、有机EL的制造方法、隔板(spacer)形成方法、金属布线形成方法、透镜形成方法、抗蚀剂形成方法和光扩散体形成方法。
背景技术
在喷墨打印机等液滴喷出装置中，当停止运转时，由于暴露于空气中而粘性增加的功能液会堵住功能液滴喷出头的喷出喷嘴。因此，在液滴喷出装置中设有盖体单元，密封功能液滴喷出头的喷嘴面，并通过吸引从喷嘴中去除粘性增加的功能液。盖体单元具有：喷头盖，密接于功能液滴喷出头的喷嘴面，并密封该喷嘴面；升降机构，使喷头盖离合功能液滴喷出头；和吸引泵，经喷头盖，从喷出喷嘴吸引功能液。
例如，在长时间停止运转时，将应防止功能液干燥的喷头盖压接在功能液滴喷出头上，进行所谓的加盖，并且在开始运转时，在该状态下驱动吸引泵，吸引功能液，进行所谓的清洁。另外，装置使喷头盖稍离开功能液滴喷出头，从功能液滴喷出头的所有喷出头喷出功能液，进行所谓的冲洗(空喷出)。
这种用于功能液滴喷出头保全中的喷头盖具备在表面形成凹槽的盖体基座、填充到凹槽中的功能液吸收材料和密封喷嘴面的密封垫(seal packing)。另外，在喷头盖中，组装应压紧包含功能液并膨胀的功能液吸收材料的吸收材料压板。
因此，现有的吸收材料压板因热铆接而损伤形成在盖体主体中一体形成的多个压板突起的前端。即，通过使在多个部位贯通功能液吸收材料的压板突起加热加压变形，在多个部位压紧功能液吸收材料(例如参照特开2000-62202号公报、特开2001-322296号公报)。
在如此构成的现有喷头盖中，因为由树脂一体形成盖体主体和压板突起，所以当更换功能液吸收材料时，必需整体更换喷头盖。另一方面，在液滴喷出装置的应用技术中，由于所使用的功能液，必需由耐蚀性材料来构成喷头盖。在这种情况下，若为了功能液吸收材料而丢弃喷头盖整体，则产生资源浪费和成本浪费。
发明内容
本发明的目的在于提供一种不损害密封动作等本来功能就可简单更换功能液吸收材料的喷头盖及具备喷头盖的液滴喷出装置、以及液晶显示装置的制造方法、有机EL装置的制造方法、电子放射装置的制造方法、PDP装置的制造方法、电泳显示装置的制造方法、滤色镜的制造方法、有机EL的制造方法、隔板形成方法、金属布线形成方法、透镜形成方法、抗蚀剂形成方法和光扩散体形成方法。
本发明的喷头盖的特征在于，具备：盖体基座；形成于所述盖体基座表面上的吸收材料容纳部；配置在所述吸收材料容纳部中的功能液吸收材料；压紧所述功能液吸收材料的吸收材料压板；被形成为使得在进行保全操作时与功能液滴喷出头的喷嘴面密接并且压紧所述吸收材料压板的密封部件；和将压紧所述吸收材料压板的所述密封部件按压固定在所述盖体基座上的密封固定部件，所述密封固定部件被形成为环状，在按压所述密封部件的状态下被螺旋拧紧固定在所述盖体基座上。
根据该结构，用吸收材料压板来压紧填充在喷头盖吸收材料容纳部内的功能液吸收材料，密封部件压紧该吸收材料压板，所以通过仅从盖体基座中取下密封固定部件，就可分别分解各构成部件，并且可顺序组装。由此，即使功能液吸收材料或其它喷头盖构成部件之一产生恶化或破损，也可仅通过从盖体基座中取下密封固定部件来仅单独且容易地更换必需更换的构成部件。另外，若使喷头盖密接于功能液滴喷出头，则密封部件紧紧压住吸收材料压板，适当压紧功能液吸收材料，可确实防止功能液吸收材料接触功能液滴喷出头的喷嘴面。
本发明喷头盖的特征在于，具备：盖体基座；形成于所述盖体基座表面上的吸收材料容纳部；配置在所述吸收材料容纳部中的功能液吸收材料；压紧所述功能液吸收材料的吸收材料压板；被形成为使得与功能液滴喷出头的喷嘴面密接并且压紧所述吸收材料压板的密封部件；和将压紧所述吸收材料压板的所述密封部件固定在所述盖体基座上的密封固定部件，所述密封部件具有密接于所述喷嘴面的环状突出部、压紧所述吸收材料压板的环状压紧部和固定在所述盖体基座上的环状固定部并一体形成，并且在所述环状突出部的里面侧形成所述环状压紧部。
根据该结构，因为盖体基座经环状压紧部接受施加于环状突出部上的密接力(反作用力)，所以可提高使喷头盖密接于功能液滴喷出头的喷嘴面时的密接性，另外，由盖体基座与密封固定部件的下面部来夹持环状固定部，可稳定固定密封部件，所以也可提高盖体基座与密封部件之间的密接性。
此时，优选地，将所述密封固定部件形成环状，在将所述密封部件的所述环状固定部按压在所述盖体基座上的状态下，将其螺旋拧入所述盖体基座中。
根据该结构，通过使用螺钉，可将密封固定部件压紧在盖体基座上地牢固固定，可提高密封部件与盖体基座之间的密接性。另外，通过仅取下螺钉就可容易将喷头盖分解成各个构成部件，在功能液吸收材料和其它构成部件产生恶化或破损的情况下，可仅分别且容易地更换成为更换对像的构成部件。
本发明喷头盖的特征在于，具备：盖体基座；形成于所述盖体基座表面上的吸收材料容纳部；配置在所述吸收材料容纳部中的功能液吸收材料；压紧所述功能液吸收材料的吸收材料压板；被形成为使得与功能液滴喷出头的喷嘴面密接并且压紧所述吸收材料压板的密封部件；将压紧所述吸收材料压板的所述密封部件固定在所述盖体基座上的密封固定部件；沿密接方向自由滑动地保持所述盖体基座的盖体支架；和将所述盖体支架作为支撑、沿密接方向顶靠所述盖体基座的弹簧，在所述盖体支架上形成限制部，抵抗所述弹簧，在稍稍倾斜的状态下限位所述盖体基座。
根据该结构，因为由弹簧顶靠盖体基座，所以当将喷头盖压向功能液滴喷出头时，密封部件靠模密接于喷嘴面上。因此，可确实密封功能液滴喷出头的喷嘴面。另外，因为盖体基座限位成倾斜状态后安装在盖体支架上，所以当从功能液滴喷出头取下喷头盖时，密封部件从单侧离开喷嘴面。因此，可防止喷头盖内的功能液飞散。
此时，最好是，吸收材料容纳部由填充功能液吸收材料的凹槽、和在形成所述凹槽的同时从盖体基座突出的环状边缘部构成，吸收材料压板的边缘部座落于环状边缘部上。
根据该结构，可由盖体基座的环状边缘部和密封部件来夹持地稳定压紧吸收材料压板的边缘部。因此，压在密封部件上的吸收材料压板可防止密封部件的内边缘部倒入吸收材料容纳部中。另外，在使喷头盖密接于喷嘴面并进行吸收动作时，可抑制因密封部件的倾斜而产生泄漏。
此时，最好是，吸收材料压板形成为薄壁，具有压紧功能液吸收材料的边缘部的框状部、和压紧中间部的桥状部。
根据该结构，可由吸收材料压板的桥状部来压紧功能液吸收材料的中央部，即使功能液吸收材料膨胀，也能平坦压紧功能液吸收材料。另外，若将吸收材料压板形成为薄壁，则即使使喷头盖密接于功能液滴喷出头的喷嘴面，吸收材料压板也不会与喷嘴面接触。另外，因为可将压紧功能液吸收材料中央部的桥状部宽度形成得细，所以还可防止在桥状部上面残留功能液。这里，最好吸收材料压板的壁厚和桥状部的宽度都形成为0.3mm左右。另外，最好是，通过钢丝锯而非压制来加工吸收材料压板，尽可能使桥状部的宽度变细。
此时，最好是一体形成框状部和桥状部。
根据该结构，通过一体形成框状部和桥状部，由于不必将框状部固定在桥状部上，所以可使整体厚度恒定。另外，即使将框状部或桥状部形成得薄、且宽度形成得细，也不难处理，而可容易安装到喷头盖上。
此时，最好是，吸收材料压板由不锈钢形成。
根据该结构，功能液难以侵蚀不锈钢(腐蚀性)，且与其它金属相比，强度高，所以通过由不锈钢形成吸收材料压板，可比由其它材料形成的情况形成得还薄，并且可将各部形成细幅度。
本发明的液滴喷出装置的特征在于具备：上述喷头盖；功能液滴喷出头；离合机构，使喷头盖相对地离合功能液滴喷出头；和吸收机构，连接于喷头盖，经密接的喷头盖，从功能液滴喷出头中吸引功能液。
根据该结构，通过使喷头盖密接于功能液滴喷出头，可抑制功能液滴喷出头的喷嘴前端的功能液气化，并防止喷嘴堵住。另外，通过在使喷头盖密接于功能液滴喷出头的状态下驱动吸收机构，可从功能液滴喷出头的喷嘴中吸引功能液，或消除喷嘴堵住或功能液向功能液滴喷出头的初期填充。另一方面，在使喷头盖离开功能液滴喷出头的状态下，通过从功能液滴喷出头空喷出(清洗)功能液滴，可将喷嘴的凹凸面维持为适当状态。因此，可适当保全功能液滴喷出头。另外，对喷头盖自身而言，可不损坏其功能就可实现资源节省。
本发明的液晶显示装置的制造方法使用上述液滴喷出装置，在滤色镜的基板上形成多个滤色元件，其特征在于：向功能液滴喷出头导入各色滤色材料，通过移动头单元，使功能液滴喷出头相对基板进行扫描，并选择地喷出滤色材料，形成多个滤色元件。
本发明的有机EL装置的制造方法使用上述液滴喷出装置，在基板上的多个像点像素中分别形成EL发光层，其特征在于：向功能液滴喷出头导入各色发光材料，经由移动头单元，使功能液滴喷出头相对基板进行扫描，选择地喷出发光材料，形成多个EL发光层。
本发明的电子放射装置的制造方法使用上述液滴喷出装置，在电极上形成多个荧光体，其特征在于：向功能液滴喷出头导入各色荧光材料，经由移动头单元，使功能液滴喷出头相对电极进行扫描，并选择地喷出荧光材料，形成多个荧光体。
本发明的PDP装置的制造方法使用上述液滴喷出装置，在背面基板上的多个凹部分别形成荧光体，其特征在于：向功能液滴喷出头导入各色荧光材料，经由移动头单元，使功能液滴喷出头相对背面基板进行扫描，选择地喷出荧光材料，形成多个荧光体。
本发明的电泳显示装置的制造方法使用上述液滴喷出装置，在电极上的多个凹部中形成泳动体，其特征在于：向功能液滴喷出头导入各色泳动体材料，经由移动头单元，使功能液滴喷出头相对电极进行扫描，选择地喷出泳动体材料，形成多个泳动体。
这样，通过将上述液滴喷出装置适用于液晶显示装置的制造方法、有机EL(Electro-Luminescence：电发光)装置的制造方法、电子放射装置的制造方法、PDP(Plasma Display Panel：等离子体显示面板)装置的制造方法和电泳显示装置的制造方法，可由适当保全的功能液滴喷出头来适当进行基板处理，提高质量。另外，电子放射装置是包含所谓FED(Field Emission Display：场致发光显示)装置的概念。
本发明的滤色镜的制造方法是一种通过使用上述液滴喷出装置、在基板上排列多个滤色元件而形成滤色镜的滤色镜的制造方法，其特征在于：向功能液滴喷出头导入各色滤色材料，经头单元，使功能液滴喷出头相对基板进行扫描，选择地喷出滤色材料，形成多个滤色元件。
此时，最好是，在形成多个滤色元件后，向功能液滴喷出头导入透光性的涂敷材料，经由移动头单元，相对基板扫描功能液滴喷出头，选择地喷出涂敷材料，形成覆盖多个滤色元件的覆盖膜。
本发明的有机EL的制造方法使用上述液滴喷出装置，在基板上排列包含EL发光层的多个像点像素，其特征在于：向功能液滴喷出头导入各色发光材料，经由移动头单元，使功能液滴喷出头相对基板进行扫描，选择地喷出发光材料，形成多个EL发光层。
此时，最好是向功能液滴喷出头导入液态电极材料，经由移动头单元，使功能液滴喷出头相对基板进行扫描，并选择地喷出液态电极材料，在多个EL发光层与基板之间，对应于EL发光层来形成多个像素电极。
此时，最好是覆盖多个EL发光层地形成相对电极，在形成EL发光层后，向功能液滴喷出头导入液态电极材料，经由移动头单元，相对基板扫描功能液滴喷出头，并选择地喷出液态电极材料，形成相对电极。
本发明的隔板形成方法使用上述液滴喷出装置，在两块基板间形成能构成微小单元间隙(cell gap)的多个粒子状隔板，其特征在于：向功能液滴喷出头导入构成隔板的粒子材料，经由移动头单元，使功能液滴喷出头相对至少一个基板进行扫描，选择地喷出粒子材料，在基板上形成隔板。
本发明的金属布线形成方法使用上述液滴喷出装置，在基板上形成金属布线，其特征在于：向功能液滴喷出头导入液态金属材料，经由移动头单元，使功能液滴喷出头相对基板进行扫描，并选择地喷出液态金属材料，形成金属布线。
本发明的透镜形成方法使用上述液滴喷出装置，在基板上形成多个微透镜，其特征在于：向功能液滴喷出头导入透镜材料，并经由移动头单元，使功能液滴喷出头相对基板进行扫描，选择地喷出透镜材料，形成多个微透镜。
本发明的抗蚀剂形成方法使用上述液滴喷出装置，在基板上形成任意形状的抗蚀剂，其特征在于：向功能液滴喷出头导入抗蚀剂材料，经由移动头单元，使功能液滴喷出头相对基板进行扫描，选择地喷出抗蚀剂材料，形成抗蚀剂。
本发明的光扩散体形成方法使用上述液滴喷出装置，在基板上形成多个光扩散体，其特征在于：向功能液滴喷出头导入光扩散材料，经由移动头单元，使功能液滴喷出头相对基板进行扫描，选择地喷出光扩散材料，形成多个光扩散体。
由此，通过将上述液滴喷出装置适用于滤色镜的制造方法、有机EL的制造方法、隔板形成方法、金属布线形成方法、透镜形成方法、抗蚀剂形成方法和光扩散体形成方法，可在各制造方法中提高质量。
附图说明
图1是作为有机EL装置的显示装置的主要部分剖面图。
图2是说明作为有机EL装置的显示装置制造工序的流程图。
图3是说明无机物隔岸(bank)层形成的工序图。
图4是说明有机物隔岸层形成的工序图。
图5是说明形成空穴注入/传输层过程的工序图。
图6是说明形成空穴注入/传输层状态的工序图。
图7是说明形成蓝色发光层过程的工序图。
图8是说明形成蓝色发光层状态的工序图。
图9是说明形成各色发光层状态的工序图。
图10是说明阴极形成的工序图。
图11是实施例的有机EL装置制造方法中发光层形成设备的模式图。
图12是本实施例的功能液滴喷出装置的外观立体图。
图13是本实施例的功能液滴喷出装置的俯视图。
图14是本实施例的功能液滴喷出装置的右侧视图。
图15是头单元的俯视图。
图16是头单元的俯视图。
图17A是功能液滴喷出头的外观立体图，17B是将功能液滴喷出头安装在配管接头中时的剖面图。
图18是维修单元的外观立体图。
图19是修改单元的俯视图。
图20是维修单元的俯视图。
图21是喷头盖的整体立体图。
图22是喷头盖的剖面图。
图23是喷头盖的局部放大剖面图。
图24是喷头盖的分解立体图。
图25是功能液滴喷出头、连接于功能液滴喷出头的功能液提供系统、和清洁单元的模式图。
图26是说明滤色镜制造工序的流程图。
图27A-27E是按制造工序顺序表示的滤色镜的模式剖面图。
图28是表示使用适用本发明的滤色镜的液晶装置示意结构的主要部分剖面图。
图29是表示使用适用本发明的滤色镜的第2实例液晶装置示意结构的主要部分剖面图。
图30是表示使用适用本发明的滤色镜的第3实例液晶装置示意结构的主要部分剖面图。
图31是作为PDP装置的显示装置的主要部分分解立体图。
图32是作为FED装置的显示装置的主要部分剖面图。
图中：1-液滴喷出装置，11-喷出装置，41-头单元，51-功能液滴喷出头，58-喷嘴面，59-喷嘴，104-控制装置，111-清洗单元，112-盖单元，113-喷头盖，115-盖支架，121-盖基座，121a-吸收材料容纳部，121b-凹槽，121c-环状周缘部，122-功能液吸收材料，123-吸收材料压板，123a-框状部，123b-桥状部，124-密封部件，124a-环状突出部，124b-环状挤压部，124c-环状固定部，125-密封固定部件，126-限位块，126b-上部，127-支架主体，128-螺旋弹簧，W-基板(工件)。
具体实施方式
下面，参照附图来说明本发明的一实施例。本实施例是在作为所谓的平坦面板显示器之一的有机EL装置的生产线上组装本发明的液滴喷出装置，向多个功能液滴喷出头导入发光材料等功能液，形成构成有机EL装置的发光元件的各像素的空穴注入/传输层和R、G、B的各色发光层。
这里，首先简单说明有机EL装置的制造及其制造方法，然后，说明在生产线上组装的液滴喷出装置与其外围设备构成的有机EL装置的制造装置。
图1是本发明中作为平坦面板显示器之一的有机EL装置的显示区域(下面简称为显示装置600)的主要部分剖面图。
本显示装置600以在基板(W)601上层叠电路元件部602、发光元件部603及阴极604的状态示意构成。
在该显示装置600中，从发光元件部603向基板601发出的光透过电路元件部602及基板601，射向观测者一侧，同时，从发光元件部603向基板601相反侧发光的光被阴极604反射后，透过电路元件部602及基板601，射向观测者侧。
在电路元件部602与基板601之间形成氧化硅膜构成的基底保护膜606，在该基底保护膜606上(发光元件部603侧)形成由多晶硅构成的岛状半导体膜607。在该半导体膜607的左右区域中，分别通过高浓度阳离子注入来形成源极区域607a及漏极区域607b。未注入阳离子的中央部形成沟道区域607c。
另外，在电路元件部602中形成覆盖基底保护膜606及半导体膜607的透明栅极绝缘膜608，在该栅极绝缘膜608上对应于半导体膜607的沟道区域607c的位置上，形成例如由Al、Mo、Ta、Ti、W等构成的栅极609。在栅极609及栅极绝缘膜608上，形成透明的第1夹层绝缘膜611a和第2夹层绝缘膜611b。另外，形成接触孔612a、612b，贯通第1、第2夹层绝缘膜611a、611b，分别连通于半导体膜607的源极区域607a、漏极区域607b。
在第2夹层绝缘膜611b上，形成规定图形形状的由ITO等构成的透明像素电极613，该像素电极613通过接触孔612a连接于源极区域607a。
另外，在第1夹层绝缘膜611a上配置电源线614，该电源线614通过接触孔612b连接于漏极区域607b。
这样，在电路元件部602中分别形成连接于各像素电极613的驱动用的薄膜晶体管615。
上述发光元件部603由分别层叠在多个像素电极613上的功能层617、和配备在各像素电极613及功能层617之间来区分各功能层617的隔岸部618示意构成。
由像素电极613、功能层617及配置在功能层617上的阴极604来构成发光元件。像素电极613布图形成为大致矩形形状，在各像素电极613之间形成隔岸部618。
隔岸部618由例如由SiO、SiO2、TiO2等无机材料形成的无机物隔岸层618a(第一隔岸层)、与层叠在该无机物隔岸层618a上、由聚酰亚胺树脂等耐热性、耐溶媒性好的抗蚀剂形成的截面为梯形状的有机物隔岸层618b(第2隔岸层)构成。以该隔岸部618的一部分搭在像素电极613的边缘部上的状态来形成。
在各隔岸部618之间，相对像素电极613形成向上逐渐拓宽的开口部619。
上述功能层617由在开口部619内以层叠状态形成于像素电极613上的空穴注入/传输层617a、和形成于该空穴注入/传输层617a上的发光层617b构成。还可邻接发光层617b来形成具有其它功能的其它功能层。例如，也可形成电子传输层。
空穴注入/传输层617具有从像素电极613向空穴传输空穴并注入发光层617b的功能。该空穴注入/传输层617a通过喷出包含空穴注入/传输层形成材料的第1组成物(功能液)来形成。作为空穴注入/传输层形成材料，例如使用聚乙烯二氧噻吩等聚噻吩电介质与聚苯乙烯磺酸等的混合物。
发光层617b发出红色(R)、绿(B)、或蓝(B)之一的光，通过喷出包含发光层形成材料(发光材料)的第2组成物(功能液)来形成。另外，作为第2组成物的溶媒(非极化溶媒)，最好是对空穴注入/传输层120a不溶的溶媒，例如可使用环己二苯、二氢苯呋喃、四甲基苯等。通过将这种非极化溶媒用于发光层617b的第2组成物中，可不用再溶解空穴注入/传输层617a就可形成发光层617b。
在发光层617b中，从空穴注入/传输层617a注入的空穴与从阴极604注入的电子在发光层再结合后发光。
阴极604以覆盖发光元件部603的整个面的状态来形成，与像素电极613成对，在功能层617中流过电流。在阴极604的上部配置未图示的密封部件。
下面，参照图2-图10来说明上述显示装置600的制造工序。
如图2所示，显示装置600经隔岸部形成工序(S21)、表面处理工序(S22)、空穴注入/传输层形成工序(S23)、发光层形成工序(S24)及相对电极形成工序(S25)来制造。制造工序不限于示例，必要时可去除也可追加其它工序。
首先，在隔岸部形成工序(S21)中，如图3所示，在第2夹层绝缘膜611b上形成无机物隔岸层618a。通过在形成位置上形成无机物膜后，光刻技术布图该无机物膜，形成该无机物隔岸层618a。此时，无机物隔岸层618a的一部分与像素电极613的边缘部重叠。
若形成无机物隔岸层618a，则如图4所示，在无机物隔岸层618a上形成有机物隔岸层618b。该有机物隔岸层618b也与无机物隔岸层618a一样，通过光刻技术等形成。
如此形成隔岸部618。另外，同时，在各隔岸部618之间，相对像素电极613形成向上开口的开口部619。该开口部619规定像素区域。
在表面处理工序(S22)中，进行亲液化处理及斥液化处理。实施亲液化处理的区域为无机物隔岸层618a的第一层叠部618a及像素电极613的电极面613a，通过例如以氧为处理气体的等离子体处理，将这些区域表面处理成亲液性。该等离子体处理还洗净作为像素电极613的ITO等。
在有机物隔岸层618b的壁面618s及有机物隔岸层618b的上面618t实施斥液化处理，通过例如以4氟化甲烷为处理气体的等离子体处理，对表面进行氟化处理(处理成斥液性)。
通过进行该表面处理工序，使用后述的功能液喷出头51形成功能层617时，可使功能液滴较确实地落于像素区域中，另外，可防止落于像素区域中的功能液滴从开口部619溢出。
经过以上工序，得到显示装置基体600A。该显示装置基体600A装载在图12所示的液滴喷出装置1的X轴台82上，进行以下的空穴注入/传输层形成工序(S23)及发光层形成工序(S24)。
如图5所示，在空穴注入/传输层形成工序(S23)中，从功能液滴喷出头10向作为像素区域的各开口部619内喷出包含空穴注入/传输层形成材料的第1组成物。之后，如图6所示，进行干燥处理及热处理，使第1组成物中包含的极化溶媒蒸发，在像素电极(电极面613a)613上形成空穴注入/传输层617a。
下面，说明发光层形成工序(S24)。在该发光层形成工序中，如上所述，为了防止空穴注入/传输层617a再溶解，将对空穴注入/传输层617a不溶的非极化溶媒用作形成发光层时使用的第2组成物的溶媒。
但是，另一方面，空穴注入/传传输层617a由于对非极化溶媒的亲和性低，所以即使将包含非极化溶媒的第2组成物喷到空穴注入/传输层617a上，也不能使空穴注入/传输层617a与发光层617b密接，或不能均匀涂布发光层617b。
因此，为了提高空穴注入/传输层617a对非极化溶媒及发光层形成材料的表面亲和性，最好在发光层形成之前进行表面处理(表面变性处理)。该表面处理通过将作为与形成发光层时使用的第2组成物的非极化溶媒相同的溶媒或与之类似的溶媒的表面变性材料涂布在空穴注入/传输层617a上，并使之干燥来进行。
通过实施这种处理，空穴注入/传输层617a的表面容易变得亲非极化溶媒，通过之后的工序，可在空穴注入/传输层617a上均匀涂布包含发光层形成材料的第2组成物。
接着，如图7所示，将含有对应于各色中之一(图7例中为蓝色(B))的发光层形成材料的第2组成物作为功能液滴，注入像素区域(开口部619)内规定量。注入像素区域内的第2组成物在空穴注/传传输层617a上充满开口部619内。即使万一第2组成物脱离像素区域后落于隔岸部618的上面618t上时，由于该上面618t如上所述实施了斥液处理，所以第2组成物容易转入开口部619内。
之后，通过干燥工序等，干燥处理喷出后的第2组成物，使第2组成物中包含的非极化溶媒蒸发，如图8所示，在空穴注入/传输层617a上形成发光层617b。在图8的情况下，形成对应于蓝色(B)的发光层617b。
同样，使用功能液滴喷出头51，如图9所示，依次进行与上述对应于蓝色(B)的发光层617b的情况一样的工序，形成对应于其它色(红色(R)及绿色(G))的发光层617b。另外，发光层617b的形成顺序不限于示例顺序，也可以任何顺序来形成。例如，也可对应于发光层形成材料来确定形成顺序。另外，作为R、G、B3色的排列图案，有带排列、玛赛克排列和δ排列。
如上所述，在像素电极613上形成功能层617、即空穴注入/传输层617a及发光层617b。之后，移动到相对电极形成工序(S25)。
在相对电极形成工序(S25)中，如图10所示，通过例如淀积法、溅射法、CVD法，在发光层617b及有机物隔岸层618b的整个面上形成阴极604(相对电极)。该阴极604在本实施例中例如层叠钙层和铝层来构成。
在阴极604的上部适当设置Al膜、Ag膜或用于防氧化的SiO2、SiN等保护层。
这样形成阴极604后，通过实施由密封部件密封该阴极604上部的密封处理或布线处理等其它处理等，得到显示装置600。
下面，说明有机EL装置的制造装置。在该有机EL装置的制造装置中，对应于上述有机EL装置制造过程中进行液滴喷出法的工序、即发光元件形成工序(空穴注入/传输层形成工序和发光层形成工序)与表面变性工序，在功能液滴喷出头51中使用边喷出液体功能材料边进行扫描的液滴喷出装置1(图11)。
例如，进行空穴注入/传输层形成工序的空穴注入层形成设备A具备装载导入第2液滴(空穴注入层材料)的功能液滴喷出头51的液滴喷出装置1、干燥装置3和基板搬运装置2，且具备容纳这些装置的容室装置4。在容室装置4中，设置在惰性气体气氛气中进行空穴注入/传输层形成工序用的部件。
同样，进行表面变性工序的表面变性设备C和形成发光层的发光层形成设备B也分别具备装载导入功能液的功能液喷出头51的液滴喷出装置1、干燥装置3、基板搬运装置2和容室装置4，容室装置4容纳液滴喷出装置1、干燥装置3、基板搬运装置2，同时，具备在惰性气体气氛气中进行发光层形成工序用的部件。另外，在发光层形成设备B中，按颜色不同(R、G、B)配备3组液滴喷出装置1、干燥装置3、基板搬运装置2和容室装置4。
有机EL装置的制造装置中使用的各液滴喷出装置1仅分别导入功能液滴喷出头51的液体功能材料不同，具有相同结构。另外，各干燥装置3、各基板搬运装置2和容室装置4也分别具有相同结构。因此，若忽视功能液滴喷出头51的更换或液体功能材料提供系统的更换工作，则可由任意1组设备(液滴喷出装置1、干燥装置3、基板搬运装置2和容室装置4)来制造有机EL装置。因此，以图1 1中左端的一组设备、即形成B色发光层的液滴喷出装置1、干燥装置3、基板搬运装置2和容室装置4为例，说明各装置结构中的一连串流程。
首先，将由图外的装置经上述隔岸部形成工序和等离子体处理工序的基板从位于图11左端的基板转移装置5搬运到基板搬运装置2。接着，基板搬运装置2对基板进行方向和姿势转换后，搬运到液滴喷出装置1，放置在液滴喷出装置1中。宾，在容室装置4内的惰性气体气氛气中进行第2液滴喷出工序，液滴喷出装置1通过其功能液滴喷出头51，向基板的多个像素区域(开口部619)喷出B色的发光材料(液滴)。
涂布有发光材料的基板从液滴喷出装置1转移到基板搬运装置2，被导入干燥装置3。在干燥装置3中，将基板曝露于高温下的惰性气体气氛气规定时间，使发光材料中的溶剂气化(第2干燥工序)。之后，再次将基板导入液滴喷出装置1，进行第2液滴喷出工序。即，反复多次第2液滴喷出工序与第2干燥工序，将发光层617b变为期望的膜厚，其中，由基板搬运装置2搬运基板，以形成R色发光层617b，一旦形成期望膜厚的R色发光层617b，则搬运，以形成G色发光层617b。R、G、B各色发光层617b形成用作业顺序是任意的。另外，在本实施例中，为了形成发光层617b而重复进行第2液滴喷出工序与第2干燥工序，但也可进行一次这些工序。
以上述为前提，据此说明构成本发明主要部分的功能液滴喷出装置。图12是功能液滴喷出装置的立体图，图13是功能液滴喷出装置的俯视图，图14是功能液滴喷出装置的侧视图。液滴喷出装置1为了形成空穴注入/传输层617a或发光层617b等，向放置于液滴喷出装置1中的基板W的规定位置喷出包含空穴注入层材料或发光层材料等功能材料的功能液。
如图12所示，液滴喷出装置1由具有喷出功能液的功能液喷出头51且喷出功能液用的喷出装置11、与对喷出装置11一体添设的附带装置12构成。在附带装置12中设置：功能液提供回收部件102，向喷出装置11提供功能液，同时，回收无用的功能液；气体提供部件103，提供驱动、控制用各构成部件的压缩气体；维护装置101(图14)，以供维修喷出装置11的功能液滴喷出头51；和控制装置(未图示)，控制喷出装置11和附带装置12的各部件。
如图12和图13所示，喷出装置11具有将角材料组成方形构成的架台21、和分散配置在架台21下部的多个(9个)带有调整螺栓的支撑脚。在架台21的上部，用固定部件固定石平板24。石平板24支撑在使基板W和功能液滴喷出头51高精度移动的X、Y移动机构81(如后述)上，不会因周围的环境条件或振动等产生精度(尤其是平面度)上的混乱，由平面看长方形的中实的石料构成。
如图12和图14所示，附带装置12在共同机台31上设置各部件，共同机台31由经隔壁形成大小两个容纳室33、34的柜形式的机台主体32、设置在机台主体32上的移动台35、固定在移动台35上的共同基座36、和设置在离开机台主体32上的移动台35的端位置上的槽基座37构成。另外，在共同基座36上装载维护装置101，在槽基座37上装载功能液提供回收部件102的供液槽204，在机台主体32的小的容纳室34中容纳气体提供部件103的主要部分中，在大的容纳室33中容纳功能液提供回收部件102的槽类。
在机台主体32的正面设置带调整螺钉的6个支撑脚和4个小脚轮，在喷出装置11设置与喷出装置11的架台21连接用的一对连接托坐38。由此，一体化喷出装置11与附带装置12(共同机台31)，并且，必要时分离并移动附带装置12。
此外，虽省略图示，但设备识别基板W位置的基板识别摄像机、或进行喷出装置1 1的头单元41(后述)的位置确认的头识别摄像机、各种喷射器等附属装置，这些装置也由控制装置进行控制。
这里，简单说明液滴喷出装置的一连串运作。首先，作为喷出功能液前的准备，在基于头识别摄像机位置校正头单元41后，由基板识别摄像机位置校正基板W。接着，使基板W沿主扫描方向向(X轴方向)往复运动，同时，驱动多个功能液滴喷出头51，进行向基板W的功能液滴选择喷出运作。在使基板W回动后，沿副扫描方向(Y轴方向)移动头单元41，再次使基板W沿主扫描方向往矢量得移动，并驱动功能液滴喷出头51。在本实施例中，使基板W相对头单元41沿主扫描方向，但也可使头单元41沿主扫描方向移动。另外，也可使头单元41固定，而沿主扫描方向和副扫描方向移动基板W。
下面，按顺序说明与本发明尤其相关的喷出装置11和附带装置12的维护装置101、功能液提供回收部件102和控制装置。喷出装置101向基板W的规定位置喷出功能液滴，具备装载多个功能液滴喷出头51的头单元41、支撑头单元41的主滑架71、和支撑在石平板24上、在主扫描基板W的同时经主滑架71副扫描头单元41的X、Y移动机构81。
如图15和图16所示，头单元41由从副滑架42、副滑架42使后述喷嘴面58向下突出的多个(12个)功能液喷出头51、和将各功能液滴喷出头51分别安装在副滑架42上的多个(12个)头保持部件61构成。将12个功能液滴喷出头51每组6个，分成两组，为了相对基板W确保功能液的充分的涂敷密度，倾斜规定角度后进行配置。另外，将各6个功能液滴喷出头51相对副扫描方向彼此错位配置，12个功能液滴喷出头51的所有喷出喷嘴59(后述)在副扫描方向上连续(部分重复)。若功能液滴喷出头51为相对基板W的专用部件，则不必倾设置斜功能液滴喷出头51。
在副滑架42上设置配管连接各功能液滴喷出头51与液体提供回收部件102的供液槽204用的配管接头43，在配管接头43中设置12个管座44，一端连接来自与各功能液滴喷出头51连接的配管接头45的头侧配管部件，另一端连接来自供液槽204的装置侧配管部件。另外，副滑架42具有由头识别摄像机识别、作为定位头单位41时的基准的一对基准销46。
图17A是功能液滴喷出头的立体图，17B是功能液滴喷出头周围的剖面图。如图17A所示，功能液滴喷出头51为所谓双通，在头基板52中设置功能液导入部53，具有与配管接头45连接的双通连接针54；和头主体55，该头主体55由双通泵部56和具有形成两列喷出喷嘴59的喷嘴面58的喷嘴形成板57构成。在头主体55内部，形成由功能流充满的头内流路，功能液滴由于泵部56的作用而从喷出喷嘴59喷出。
主滑架71具有游嵌头单元41用的方形开口，定位固定头单元41。另外，在主滑架71上配置识别基板W用的基板识别摄像机。
X、Y移动机构81具有使轴线与沿石平板24长边的中心轴一致并固定的X轴台82、和使轴线与沿石平板24短边的中心线一致并固定的Y轴台91。
X轴台82具有通过空气吸收来吸引附设置基板W的吸附台83、支撑吸附台83的θ台84、沿X轴方向自由滑动支撑θ台84的X轴空气滑块85、经θ台84使吸附台83上的基板W沿X轴方向移动的X轴线性电机(省略图示)、和并设在X轴空气滑块85上的X轴线性标尺87。功能液滴喷出头51的主扫描通过由X轴线性电机的驱动进行，吸附基板W的吸附台83和θ台84引导X轴空气滑块85并在X轴方向上往复移动来进行。
Y轴台91具备吊设主滑架71的桥板92、双支且沿Y轴方向自由滑动支撑桥板92的一对Y轴滑块93、并设在Y轴滑块93上的Y轴线性标尺94、引导一对Y轴滑块93并使桥板92沿Y轴方向移动的Y轴球形螺纹95、和使Y轴球形螺纹95正反旋转的Y轴电机(省略图示)。另外，以分别容纳在盒中(省略图示)的状态位于一对Y轴滑块93两侧配置一对Y轴电缆对。Y轴电机由伺服电机构成，若Y轴电机正反旋转，则经Y轴球形螺纹95并拧入其中的桥板92以一对Y轴滑块93为引导，沿Y轴方向移动。即，随着桥板92的移动，主滑架71(头单元41)进行Y轴方向的往复移动，进行功能液滴喷出头51的副扫描。
下面，说明附带装置12的维护装置101。维护装置101维护功能液滴喷出头51，使功能液滴喷出头51适当喷出功能液，具备清洁单元111、擦拭单元181和冲洗单元191。
实施例的清洁单元111具有：经后述的喷头盖113从功能液滴喷出头51吸引功能液的吸收功能、由喷头盖113来密封功能液滴喷出头51的喷嘴面的保管功能、和接受来自功能液滴喷出头51的空喷出(冲洗)的冲洗盒功能。吸收功能强制从功能液滴喷出头51的喷嘴吸引功能液，主要在装置转动型时等消除喷嘴堵住。或在向包含功能液滴喷出头51的功能液滴提供系统初始填充功能液的情况下进行。保管功能主要是在装置非运转时或基板搬入、搬出时等的使装置长时间停止的情况下，向功能液滴喷出头51加盖，防止功能液干燥。冲洗盒功能接受描绘时以外定期的冲洗，在描绘中进行的冲洗使用上述冲洗单元191。另外，擦拭单元181擦拭主要通过吸收运作附着在喷嘴面上的功能液。
首先，参照图18和图19来说明清洁单元111。图18是清洁单元的立体图，图19是清洁单元的剖面图。清洁单元111进行头单元41的所谓清洁，具备：盖体单元112，对应于12个功能液滴喷出头51，将12个喷头盖113设置在基板116上；支撑部件151，支撑盖体单元112；和升降机构116，经支撑部件151来使盖体单元112升降，并可使各喷头盖113密接于对应的各功能液滴喷出头51的喷嘴面58。另外，各喷头盖113经连接于吸引泵141的吸收通路162，连接于分支成12条的分支吸引通路162a(图25)。在各分支吸引通路162a中，从喷头盖131侧顺序设置液体传感器152、压力传感器153和吸引用开闭阀154。
如图21和图22所示，喷头盖113具有配有密接于功能液滴喷出头51的喷面58上的密封部件124的盖体主体114、和支撑盖体主体114的盖体支架115。盖体主体114在由一对弹簧128、128顶靠的状态下支撑在盖体支架115上，当喷头盖113密接于功能液滴喷出头51的喷嘴面58时，盖主体114稍沉入盖体支架115中。喷头盖113在实施清洁时密封功能液滴喷出头51的喷嘴面58，并进行吸收运作。
在基板116上固定与头单元41的12个功能液滴喷出头51同方向倾斜的12个喷头盖113。在与头单元41相对的面上，相对12个喷头盖113形成12个安装开口140a，同时，包含该安装开口140a地形成12个浅沟140b。各喷头盖113在将下部插入安装开口140a中以定位在浅沟140b上的状态下，拧入浅沟140b中(参照图20)。
支撑部件151具备配有上端支撑盖体单元112的支撑板153的支撑部件主体152和沿上下方向自由滑动支撑支撑部件主体152的台架。在支撑板153的长方向两侧正面，固定一对气缸156，设置通过这一对气缸156升降的操作板157，在操作板157上，安装结合在各喷头盖113的大气开放阀131的操作部上的万向接头158。
升降机构161具备由竖设在台架154的基座部155上的气缸156构成的下级升降缸162、和竖设在由该缸升降的板上的气缸156构成的上极升降缸163，通过两个升降缸162、163的选择动作，使盖体单元112的上升位置在使喷头盖113的密封部件124密接于功能液滴喷出头51的喷嘴面58的第1位置、与在喷头盖113的密封部件124与功能液滴喷出头51的喷嘴面58之间稍空出间隙的第2位置之间自由切换。
另外，如上所述，密接于功能液滴喷出头51的喷嘴面58并进行吸引动作的喷头盖113具有盖体主体114和盖体支架115。另外，在喷头盖113中组装向上(密接方向)顶靠盖体主体114的一对线圈弹簧128、128、连接于上述分支吸引通路162a上的连接头135和上述大气开放阀131。
如图21至图23所示，盖体主体114包括在上面形成吸收材料容纳部121a的盖体基座121、填充在吸收材料容纳部121a中的功能液吸收材料122、压紧功能液吸收材料122的吸收材料压板123、配置在吸收材料容纳部121a上侧的密封部件124、与将密封部件124固定在盖体基座121上的密封固定部件125，整体形成为方形细长形状。
图21至图23所示盖体基座121由不锈钢等耐蚀性材料构成，在上部从表面突出地形成吸收材料容纳部121a，在下部长方向的两端部形成结合在盖体支架115上的一对脚片部121d。吸收材料容纳部121a由容纳功能液吸收材料122的凹槽121b、与在区分凹槽121b的同时从盖体基座121突出的环状边缘部121c构成，在凹槽121b的底部位形成连接于连接头135的吸引口139和连接于大气开放阀131的大气流入口138。
功能液吸收材料122层叠材料不同的两种功能液吸收材料122a、122b来构成，在硕向吸引口139和大气流入口138的部分中，分别形成小孔。功能液吸收材料122不限于两层结构，也可是单层结构或多层结构。另外，功能液吸收材料122在用于例如滤色镜的制造装置的情况下，使用PVA(聚氯乙烯)，在用于有机EL的制造装置的情况下，使用PE(聚乙烯)树脂性材料。
吸收材料压板123是由不锈钢薄板加工而成，由方形框状部123a、横断框状部123A地设置的多个(3个)桥状部123b一体形成。此时，吸收材料压板123例如用钢丝锯等切割板厚为0.3mm左右的不锈钢板，将框状部123a或桥状部123b加工到最大限度的细宽度(0.3mm左右)。尤其是通过将桥状部123b的宽度形成得细，可防止在桥状部123b的上面残留功能液。
如此构成的吸收材料压板123设置成在从上侧压紧功能液吸收材料122的状态下，其边缘部、即框状部123a坐落在吸收材料容纳部121a的环状边缘部121c上。另外，在该状态下，两桥状部123b避开上述两个小孔，压紧功能液吸收材料122的中间部。从而，即使功能液吸收材料122膨胀，也可平坦地压紧。
密封部件124由橡胶或树脂构成，通过包含所有喷出喷嘴59并密接于喷嘴面58的环状突出部124a、压紧吸收材料压板123的环状压紧部124b、和固定在盖体基座121上的环状固定部124c，截面曲柄状地一体形成为环状。即，夹持吸收材料压板123，相对吸收材料容纳部121a的环状边缘部121c地设置环状压紧部124b，在该环状压紧部124b的正上部形成环状突出部124a。由此，密接于功能液滴喷出头51的喷嘴面58的密封部件124(环状突出部124a)的密接反作用力作用，在与吸收材料容纳部121a的环状边缘部121c之间夹入吸收材料压板123，并可稳定保持吸收材料压板123。
密封固定部件125由不锈钢等构成，形成与盖体基座121的上面轮廓大致相同形状的方形环状，并且倒角，使上面的边缘部倾斜。密封固定部件125的内边缘压紧密封部件124的环状固定部124c，在该状态下，密封固定部件125拧入盖体基座121中。
这里，参照图24来简单说明盖体主体141的组装步骤。首先，在盖体基座121的吸收材料容纳部121a上敷设功能液吸收材料122后，压紧功能液吸收材料122，使吸收材料压板123坐落于吸收材料容纳部121a的环状边缘部121c上。接着，安装密封部件124，由其环状压紧部124b压紧吸收材料压板123的边缘部，最后，由密封固定部件125来将密封部件124的环状固定部124c压紧在盖体基座121上，在该状态下，将密封固定部件125拧入盖体基座121中。
这样，盖体主体141以盖体基座121为支撑，按功能液吸收材料122、吸收材料压板123、密封部件124和密封固定部件125的顺序，压紧固定，所以仅通过取下密封固定部件125的固定螺钉，就可将盖体主体141容易分解成各构成部件，也再次组装。因此，在功能液吸收材料122和其它构成部件产生恶化或破损的情况下，可仅单独更换成为更换对像的构成部件。
如此构成的盖体主体141通过抵接于其长方向正面的两个部位的一对线圈弹簧128、128，以限位上动端的状态向上顶靠。即，盖体主体141相对盖体支架115沿上下方向自由滑动地安装，且在该状态下，由盖体基座121的两个脚片部121d将上动端限位在盖体支架115上。
盖体支架115包括细长形状的支架主体127和拧入支架主体127的长方向两端部的一对限位块126，由不锈钢等构成。支架主体127在其中央部具有上述连接头135和大气开放阀131临近的连接用开口，同时，面向连接用开口，具有保持一对线圈弹簧128、128的一对销129、129。另外，支架主体127的上面变为稍向长方向倾斜的倾斜面。
在各限位块126中形成盖体基座121的脚片部121d结合在盖体主体141侧的结合沟126a。结合沟126a的上面变为向线圈弹簧128、128的盖体主体141的限位面，两侧面变为盖体主体141的滑动引导面。即，各限位块126的盖体主体114侧的上部126a变为限位用的限制突部。
固定在支架主体127上面的两个限位块126随着支架主体127上面的倾斜而稍稍倾斜。因此，限位在这两个限位块126上的盖体主体114在向一对线圈弹簧128、128顶靠的状态下，稍稍倾斜地保持在盖体支架115上。因此，当将喷头盖113压向功能液滴喷出头51的喷嘴面58时，密封部件124经一对线圈弹簧128、128，靠模密接于喷嘴面58，并确实密封功能液滴喷出头51的喷嘴面58。另外，稍稍倾斜状态的盖体主体114离开功能液滴喷出头51时，因为密封部件124从单侧离开喷嘴面58，所以喷头盖113内的功能液不会飞散。
连接头135由连接于上述吸引口139的短管136和连接于短管136下端部的L字继手137构成，经该L字继手137连接于上述吸引用分支吸引通路162a。即，盖体主体114经吸引用分支吸引通路162a连接于吸引泵155，并经吸引泵155连接于再利用槽232(均参照图25)。
大气开放阀131具备连接于上述大气流入口138的同时贯通盖体基座121的套筒141、在套筒141的下端部扩展形成的阀座142、容纳在阀座142中的橡胶制阀体143、粘接保护阀体143的阀操作杆146和拧入操作杆146中的结合环145。阀操作杆146相对从盖体基座121下面延伸的杆支撑部件147，沿上下方向自由滑动地安装，另一方面，通过组装在杆支撑部件147中的阀弹簧144，向关闭阀方向(上方)顶靠。
上述万向接头158结合在结合环145中，若气缸156使万向接头158向下运动，则阀体143经阀操作杆146向下运动，大气开放阀131变为打开阀状态。另一方面，若阀弹簧144使万向接头158向上运动，则阀体143经阀操作杆146向上运动，大气开放阀131变为关闭阀状态。即，在功能液吸引动作的最终阶段，通过下拉打开大气开放阀131，也可吸引含浸在功能液吸收材料122中的功能液。
上述构成的清洁单元111通过移动台35向与头单元41的Y轴方向移动轨迹交叉的位置移动，相反，头单元41通过Y轴台91向临近清洁单元111正上部的清洁位置移动。这里，由于升降机构161的下级升降缸162的动作，盖体单元112上升到第1位置，从下侧将12个喷头盖113压紧在头单元41的12个功能液滴喷出头51上。压紧在各功能液滴喷出头51上上的各喷头盖113反抗自己的两个弹簧128、128，其盖体主体114沉入盖体支架115中几分，密封部件124均匀密接于功能液滴喷出头51的喷嘴面58上。
接着，在驱动吸引泵155的同时，打开设置在吸引用各分支吸引通路162a中的吸引用开闭阀154，从各功能液滴喷出头51的所有喷出喷嘴59经各喷头盖113吸引液体材料。另外，在吸引完成之前打开大气开放阀131，之后关闭吸引用开闭阀154，完成吸引。吸引动作完成的同时，使盖体单元112下降到下降端位置。另外，在装置停止运转时等头保管时，使盖体单元112上升到第1位置，由各喷头盖113密封各功能液滴喷出头51，完成变为保管状态的封盖。
擦拭单元181具备擦拭多个功能液滴喷出头51的功能，由以对顶在共同基座36上的状态配置的卷取单元182、和拭取单元184构成。擦拭单元181一旦完成头单元41的上述清洁，则从输送轨道(省略图示)向停止在清洁单元111正上部的头单元41送出擦拭片，同时，洗净液喷雾头(省略图示)喷雾洗净液，由移动台35整体向X轴方向移动，同时，使用拭取辊(省略图示)拭取各功能液滴喷出头51的喷嘴面58。
下面，说明冲洗单元191。冲洗单元191包括配置在X轴电缆轴承盒上、固定在X轴电缆轴承上的滑动基座；进退自由地设置在滑动基座上的长板状的滑块；固定在滑块两端部上的一对冲洗盒253、253；和敷设在各冲洗盒253内的一对功能液吸收材料254、254。这种结构的冲洗单元191一旦冲洗单元191与θ台84一起往(复)运动，当头单元41通过右侧(左侧)的冲洗盒(省略图示)的正上时，各功能液滴喷出头51顺序进行冲洗动作，头单元41移动到通常的液滴喷出动作。
另外，在一定时间内停止喷出液滴时也必需冲洗，头单元41向监近盖体单元112正上部的清洁位置移动，并从各功能液滴喷出头51向各喷头盖113进行冲洗。此时，上升到在喷头盖113的密封部件124与功能液滴喷出头51的喷嘴面58之间稍空出间隙的上述第2位置，进行冲洗。由冲洗喷雾出的功能液被吸收到设置在喷头盖113内的功能液吸收材料122中，同时，经开设在喷头盖113中的吸引口139，被吸引泵155吸收。
因此，当将新的头单元41投入液滴喷出装置时，因为功能液滴喷出头51的头内流路变空，所以在开始液滴喷出作业之前，必需向头内流路填充功能液。此时，因为仅由一点水位差来从供液槽204提供功能液，所以向头内流路填充功能液中必需吸引。因此，在功能液填充作业中，向冲洗位置移动头单元41，使盖体单元112上升到上述第1位置，使各喷头盖113密接于各功能液滴喷出头51的喷嘴面58，通过经各喷头盖113作用的来自吸引泵155的吸引力将供液槽204内的功能液填充到各功能液滴喷出头51的头内流路中。
另外，当由喷头盖113吸引时，头内流路中功能液的流速低，为了防止因头内流路中残留的气泡影响而产生液滴喷出故障，在供液用的各分支供给通路161a中设置供给用开闭阀151，在吸引用的各分支吸引通路162a中设置液体传感器152。液体填充开始后，一旦将功能液吸引到喷头盖113，则液体传感器152进行检测并原样继续喷头盖113的吸引，暂时关闭对应的供给用开闭阀151，功能液平滑流动。
上述液滴喷出装置除本实施例中说明的有机EL装置制造装置外，也同样适用为滤色镜、液晶显示装置、PDP装置、电子放射装置(FED装置)等的制造装置。因此，说明这些制造对像物的结构和使用本实施例的液滴喷出装置(功能液滴喷出头51)1的制造方法。
首先，说明组装在液晶显示装置或有机EL装置等中的滤色镜的制造方法。图26是表示滤色镜制造工序的流程图，图27A-27E是按制造工序顺序表示的本实施例的滤色镜500(滤色器基体500A)的模式剖面图。
首先，在黑矩阵形成工序(S1)中，如图27A所示，在基板(W)501上形成黑矩阵502。黑矩阵502由金属铬、金属铬或氧化铬的层叠体或树脂碳等形成。可使用溅射法或淀积法来形成由金属薄膜构成的黑矩阵502。另外，在形成由树脂薄膜构成的黑矩阵502的情况下，也使用凹印法、光刻法、热转印法等。
接着，在隔岸形成工序(S2)中，以重叠在黑矩阵502上的状态形成隔岸503。即，首先如图27B所示，形成由负型透明感光性树脂构成的抗蚀剂层504，覆盖基板501及黑矩形502。另外，在矩形为矩阵图案形状的掩膜505覆盖其上面的状态下，进行曝光处理。
如图27C所示，通过蚀刻处理抗蚀剂层504的未曝光部分，布图抗蚀剂层504，形成隔岸503。在由树经碳形成黑矩阵的情况下，可兼用黑矩形和隔岸。
隔岸503和其下的黑矩阵502变为区分各像素区域507的区分壁部507b，在后面的着色层形成工序中，在由功能液滴喷出头10形成着色层(成膜部)508R、508G、508B时，规定功能液滴的落下区域。
通过以上黑矩阵形成工序和隔岸形成工序，得到上述滤色器基体500A。
在本实施例中，使用涂膜表面变为斥液(防水)性的树脂材料作为隔岸503的材料。另外，因为基板(玻璃基板)501的表面为亲液(亲水)性，所以在后述着色层形成工序中，液滴向包围在隔岸503(区分壁部507b)中的各像素区域507a内的落下位置精度得到提高。
接着，在着色层形成工序(S3)中，如图27D所示，功能液滴喷出头51喷出功能液滴，落于区分壁部507b包围的各像素区域507a中。此时，与上述有机EL装置600的情况一样，使用功能液滴喷出头51，导入R、G、B3色功能液(滤色材料)，喷出功能液滴。作为R、G、B3色的排列图案，有带排列、玛赛克排列和δ排列等。
之后，经干燥处理(加热等处理)定影功能液，形成3色的着色层508R、508G、508B。若形成着色层508R、508G、508B，则移动到保护膜形成工序(S4)，如图27E所示，形成保护膜509，覆盖基板501、区分壁部507b、和着色层508R、508G、508B的上面。
即，向形成基板501的着色层508R、508B、508G的整个面喷出保护膜用涂布液后，经干燥处理，形成保护膜509。之后，在形成保护膜509后，通过在每个有效像素区域切断基板501，得到滤色镜500。
图28是表示作为使用上述滤色镜500的液晶显示装置一例的正阵列型液晶显示装置(液晶装置)示意结构的主要部分剖面图。通过在液晶装置520中安装液晶驱动用IC、背光灯、支撑体等附带要素，得到作为最终制品的透明型液晶显示装置。滤色镜500与图27A-27E所示相同，向对应的部位附加相同符号，省略其说明。
液晶装置520由滤色镜500、由玻璃基板等构成的相对基板521、及夹在其间的STN(Super Twisted Nematic)液晶组成物构成的液晶层522示意构成，将滤色镜500配置在图中上侧(观测者侧)。
虽未图示，但在相对基板521和滤色镜500的外面(与液晶层522侧相反的面)中分别配置偏光板，另外，在位于相对基板521侧的偏光板外侧配置背光灯。
在滤色镜500的保护膜509上(液晶层侧)以规定间隔形成多个图28中沿左右方向长的短册状的第1电极523，形成第1布向膜524，以覆盖与第1电极523的滤色镜500侧相反侧的面。
另一方面，在相对基板521中与滤色镜500相反的面中以规定间隔形成多个在与滤色镜500的第1电极523垂直的方向上长的短册状的第2电极526，形成第2布向膜527，覆盖第2电极526的液晶层522侧的面。这些第1电极523和第2电极526由ITO(Indium Tin Oxide：铟锡氧化物)等透明导电材料形成。
设置在液晶层522内的隔板528是将液晶层522的厚度(单元间隙)保持恒定的部件。另外，密封件529是防止液晶层522内的液晶组成物漏到外部用的部件。第1电极523的一端部作为缠绕布线523a，一起延伸到密封件529的外侧。
第1电极523与第2电极526交叉的部分是像素，滤色镜500的着色层508R、508G、508B位于成为像素的部分上。
在通常的制造工序中，在滤色镜500中布图第1电极523和涂布第1布向膜524，形成滤色器500侧的部分，同时，相反在相对基板521中布图第2电极526和涂布第2面向膜527，形成相对基板521的部分。之后，在相对基板521侧的部分装入隔板528和密封件529，在该状态下贴合滤色器500侧的部分。接着，从密封件529的注入口注入构成液晶层522的液晶，密封注入口。之后，层叠两个偏光板和背光灯。
实施例的液滴喷出装置1例如在涂布构成上述单元间隙的隔板材料(功能液)的同时，在相对基板521侧的部分上贴合滤色器500侧的部分，之后，在由密封件529包围的区域中均匀涂布液晶(功能液)。另外，也可由功能液滴喷出头51来印刷上述密封件529。并且，也可由功能液滴喷出头51来涂布第1、第2两个布向膜524、527。
图29是表示使用本实施例中制造的滤色镜500的液晶装置第2实例示意结构的主要部分剖面图。
该液晶装置530与上述液晶装置520的大的区别点在于在图中下侧(与观测者侧相反测)配置滤色镜500。
液晶装置530在滤色镜500与玻璃基板等构成的相对基板531之间夹由STN液晶构成的液晶层532来示意构成。虽未图示，但在相对基板531和滤色镜500的外面分别配置偏光板等。
在滤色镜500的保护膜509上(液晶层532侧)，以规定间隔形成多个在图中向里方向上长的短册状的第1电极533，形成第1布向膜534，覆盖第1电极533的液晶层532侧的面。
在相对基板531中与滤色镜500相对的面上，以规定间隔形成沿与滤色镜500的第1电极533垂直方向上延伸的多个短册状第2电极536，形成第2布向膜537，覆盖第2电极536的液晶层532侧的面。
在液晶层532中设置保持该液晶层532的厚度恒定用的隔板538、和防止液晶层532内的液晶组成物漏到外部用的密封件539。
与上述液晶装置520一样，第1电极533与第2电极536交叉的部分是像素，滤色镜500的着色层508R、508G、508B位于成为像素的部分上。
图30表示使用适用本发明的滤色镜500构成液晶装置的第3实例，是表示透明型TFT(Thin Film Transistor：薄膜晶体管)型液晶装置示意结构的分解立体图。
液晶装置550将滤色镜500配置在图中上侧(观测者侧)。
液晶装置550由滤色镜500、与之相对配置的相对电极551、夹在其间的未图示的液晶层、配置在滤色镜500上面侧(观测者侧)的偏光板555、和配置在相对基板551下面侧的偏光板(未图示)示意构成。
在滤色镜500的保护膜509的表面(相对基板551侧的面)上形成液晶驱动用电极556。电极556由ITO等透明导电材料构成，为覆盖形成后述像素电极560的整个区域的整面电极。另外，以覆盖与电极556的像素电极560相反侧的面的状态来设置布向膜557。
在相对基板551中与滤色镜500相对的面上形成绝缘层558，在绝缘层558上，以彼此垂直的状态形成扫描线561和信号线562。在包围在这些扫描线561和信号线562的区域内形成像素电极560。在实际的液晶装置中，在像素电极560上设置布向膜，但省略图示。
另外，在包围在像素电极560的缺口部、扫描线561和信号线562的区域中组装具备源极、漏极、半导体和栅极的薄膜晶体管563。通过向扫描线561和信号线562施加信号，开、关薄膜晶体管563，对像素电极560进行通电控制。
上述各例的液晶装置520、530、550为透明型结构，但也可设置反射层或半透明反射层，成为反射型液晶装置或半透明反射型液晶装置。
图31是等离子体型显示装置(PDP装置：下面简称为显示装置700)的主要部分分解立体图。图中，以切去一部分的状态来表示显示装置700。
显示装置700包含彼此相对配置的第1基板701、第2基板701及形成于之间的放电显示部702。放电显示部703由多个放电室705构成。在这多个放电室705中，以红色放电室705R、绿色放电室705G、蓝色放电室705B的3个放电室705为一组，构成一个像素。
在第1基板701的上面以规定间隔形成条纹状寻址电极706，形成电介质层707，覆盖该寻址电极706和第1基板701的上面。在电介质层707上，位于各寻址电极706之间并沿各寻址电极706竖设隔壁708。如图所示，隔壁708包含沿寻址电极706的宽度方向两侧延伸的隔壁和沿与寻址电极706垂直方向延伸的未图示的隔壁。
由隔壁708切割的区域成为放电室705。
在放电室705内配置荧光体709。荧光体709发出红(R)、绿(G)、蓝(B)之一色的荧光，在红色放电室705R的底部配置红色荧光体709R，在绿色放电室705G的底部配置绿色荧光体709G，在蓝色放电室705B的底部配置蓝色荧光体709B。
在第2基板702的图中下侧面中，沿与上述寻址电极706垂直的方向，以规定间隔形成条纹状的多个显示电极711。覆盖这些电极地形成电介质层712及由MgO等构成的保护膜713。
以彼此垂直的状态使寻址电极706与显示电极711相对来贴合第1基板701与第2基板702。上述寻址电极706与显示电极711连接于未图示的交流电源上。
通过向各电极706、711通电，在放电显示部703中荧光体709激励发光，可彩色显示。
在本实施例中，用图12所示液滴喷出装置1来形成上述寻址电极706、显示电极711及荧光体709。下面，示例第1基板701中的寻址电极706的形成工序。
此时，在将第1基板701装载在液滴喷出装置1的X轴台82上的状态下进行以下工序。
首先，由功能液滴喷出头10，将含有导电膜布线形成用材料的液体材料(功能液)作为功能液滴落于寻址电极形成区域。该液体材料作为导电膜布线形成用材料，将金属等导电性微粒分散在分散媒中。作为导电性微粒，可使用含有金、银、铜、钯或镍等的金属微粒或导电性聚合体等。
在对作为补充对像的所有寻址电极形成区域终止补充液体材料的同时，干燥处理喷出后的液体材料，使液体材料中包含的分散媒蒸发，由此形成寻址电极706。
但是，上述虽示例寻址电极706的形成，但也可通过上述各工序形成上述显示电极711及荧光体709。
与形成显示电极711的情况、寻址电极706的情况一样，将含有导电膜布线形成用材料的液体材料(功能液)作为功能液滴落在显示电极形成区域中。
另外，在形成荧光体709的情况下，从功能液滴喷出头51喷出含有对应于各色(R、G、B)的荧光材料的液体材料(功能液)，作为液滴，落在对应色的放电室705内。
图32是电子放射装置(FED装置：下面简称为显示装置800)的主要部分分解立体图。图中，部分截面地表示显示装置800。
显示装置800包含彼此相对配置的第1基板801、第2基板802及形成于其间的电场放射显示部803来示意构成。电场放射显示部803由配置成矩阵状的多个电子放射部805构成。
在第1基板801的上面，彼此垂直地形成构成阴极806的第1元件电极806a和第2元件电极806b。另外，由第1元件电极806a和第2元件电极806b分割的部分中形成元件膜807，元件膜807形成盖体808。即，第1元件电极806a、第2元件电极806b和元件膜807构成多个电子放射部805。元件膜由例如氧化钯(PdO)等构成，另外，盖体808在成膜元件膜807后，通过成形等形成。
在第2基板802的下面形成相对于阴极806的阳极809。在阳极809的下面形成格子状的隔岸部811，在由隔岸部811包围的向下的各开口部812中，对应于电子放射部805来配置荧光体813。荧光体813发出红(R)、绿(G)、蓝(B)之一色的荧光，在各开口部812中，以规定图案来配置红色荧光体813R、绿色荧光体813G和蓝色荧光体813B。
保留微小间隙来贴合如此构成的第1基板801和第2基板802。显示装置800经元件膜(盖体808)807，使从作为阴极的第1元件电极806a和第2元件电极806b飞出的电子冲击作为阳极的阳极809中形成的荧光体813，激励发光，可彩色显示。
此时也与其它实施例一样，使用液滴喷出装置1来形成第1元件电极806a、第2元件电极806b及阳极809，同时，可使用液滴喷出装置1来形成各色的荧光体813R、813G、813B。
上述液滴喷出装置除本实施例中说明的有机EL装置等的制造装置外，还可适用于电泳显示装置的制造方法等。
在电泳显示装置的制造方法中，向多个功能液滴喷出头51导入各色的泳动体材料，主扫描及副扫描多个功能液滴喷出头51，选择地喷出泳动体材料，在电极上的多个凹部中分别形成荧光体。最好将带电粒子和染料构成的泳动体封入微型容器中。
另一方面，本实施例的液滴喷出装置1也可适用于隔板形成方法、金属布线形成方法、透镜形成方法、抗蚀剂形成方法及光扩散体形成方法等。
隔板形成方法在两块基板间形成能构成微小单元间隙的多个粒子状隔板，向多个功能液滴喷出头51导入使构成隔板的粒子材料在液中分散后进行调整的功能液，主扫描及副扫描多个功能液滴喷出头51，选择地喷出粒子材料，在至少一个基板上形成隔板。例如，用于在上述液晶显示装置或电泳显示装置的两个基板间构成单元间隙的情况，可适用于其它必需细微盖体的半导体制造技术。
在金属布线形成方法中，向多个功能液滴喷出头51导入液态金属材料，主扫描及副扫描多个功能液滴喷出头51，选择地喷出液态金属材料，在基板上形成金属布线。例如，适用于连接上述有机EL装置中的TFT等与各电极的金属布线，并可制造这些器件。另外，不用说，也可适用于这种平坦显示器以外的一般半导体制造技术。
透镜的形成方法中，向多个功能液滴喷出头51导入透镜材料，主扫描及副扫描多个功能液滴喷出头51，选择地喷出透镜材料，在透明基板上形成多个微透镜。例如可适用于制造上述FED装置中的光束收敛用的器件的情况。另外，也可适用于各种光器件的制造技术。
透镜的制造方法中，向多个功能液滴喷出头51导入透光性涂布材料，主扫描及副扫描多个功能液滴喷出头51，选择地喷出涂布材料，在透镜表面形成涂布膜。
在抗蚀剂形成方法中，向多个功能液滴喷出头51导入抗蚀剂材料，主扫描及副扫描多个功能液滴喷出头51，选择地喷出抗蚀剂材料，在基板上形成任意形状的光刻胶。例如，可用于形成上述各种显示装置中的隔岸，在作为半导体制造技术主体的光刻法中，广泛用于光刻胶的涂布中。
在光扩散体形成方法中，向多个功能液滴喷出头51导入光扩散材料，主扫描及副扫描多个功能液滴喷出头51，选择地喷出光扩散材料，在基板上形成多个光扩散体。不用说，也可适用于各种光器件。
如上所述，根据本发明的喷头盖，可不损害密封动作等原来的功能就容易更换功能液吸收材料，可适当保全功能液滴喷出头。
另外，根据本发明的功能液喷出装置，因为可适当保全功能液滴喷出头，所以可提高可靠性。
另一方面，根据本发明的液晶显示装置的制造方法、有机EL装置的制造方法等各种制造方法，可通过液滴喷出装置来提高制造方法的可靠性。
Claims (21)
1、一种喷头盖，其特征在于，具备：
盖体基座；形成于所述盖体基座表面上的吸收材料容纳部；配置在所述吸收材料容纳部中的功能液吸收材料；压紧所述功能液吸收材料的吸收材料压板；被形成为使得在进行保全操作时与功能液滴喷出头的喷嘴面密接并且压紧所述吸收材料压板的密封部件；和将压紧所述吸收材料压板的所述密封部件按压固定在所述盖体基座上的密封固定部件，
所述密封固定部件被形成为环状，在按压所述密封部件的状态下被螺旋拧紧固定在所述盖体基座上。
2、根据权利要求1所述的喷头盖，其特征在于：
所述吸收材料容纳部由填充所述功能液吸收材料的凹槽、和在形成所述凹槽的同时从所述盖体基座突出的环状边缘部构成，
所述吸收材料压板的边缘部座落于所述环状边缘部上。
3、根据权利要求1所述的喷头盖，其特征在于：
所述吸收材料压板形成为薄壁，
具有压紧所述功能液吸收材料的边缘部的框状部、和压紧中间部的桥状部。
4、根据权利要求3所述的喷头盖，其特征在于：
所述框状部和所述桥状部成为一体。
5、根据权利要求1所述的喷头盖，其特征在于：
所述吸收材料压板由不锈钢形成。
6、一种液滴喷出装置，其特征在于，具备：
权利要求1～5任何一项所述的喷头盖；
所述功能液滴喷出头；
使所述喷头盖相对地离合所述功能液滴喷出头的离合机构；和
连接于所述喷头盖，经密接的所述喷头盖，从所述功能液滴喷出头中吸引功能液的吸收机构。
7、一种液晶显示装置的制造方法，使用权利要求6所述的液滴喷出装置，在滤色镜的基板上形成多个滤色元件，其特征在于：
向所述功能液滴喷出头导入各色滤色材料，
经由移动所述头单元，使所述功能液滴喷出头相对所述基板进行扫描，并选择地喷出所述滤色材料，形成多个所述滤色元件。
8、一种有机EL装置的制造方法，使用权利要求6所述的液滴喷出装置，在基板上的多个像点像素中分别形成EL发光层，其特征在于：
向所述功能液滴喷出头导入各色发光材料，
经由移动所述头单元，使所述功能液滴喷出头相对所述基板进行扫描，选择地喷出所述发光材料，形成多个所述EL发光层。
9、一种电子放射装置的制造方法，使用权利要求6所述的液滴喷出装置，在电极上形成多个荧光体，其特征在于：
向所述功能液滴喷出头导入各色荧光材料，
经由移动所述头单元，使所述功能液滴喷出头相对所述电极进行扫描，并选择地喷出所述荧光材料，形成多个所述荧光体。
10、一种PDP装置的制造方法，使用权利要求6所述的液滴喷出装置，在背面基板上的多个凹部分别形成荧光体，其特征在于：
向所述功能液滴喷出头导入各色荧光材料，
经由移动所述头单元，使所述功能液滴喷出头相对所述背面基板进行扫描，选择地喷出所述荧光材料，形成多个所述荧光体。
11、一种电泳显示装置的制造方法，使用权利要求6所述的液滴喷出装置，在电极上的多个凹部中形成泳动体，其特征在于：
向所述功能液滴喷出头导入各色泳动体材料，
经由移动所述头单元，使所述功能液滴喷出头相对所述电极进行扫描，选择地喷出所述泳动体材料，形成多个所述泳动体。
12、一种滤色镜的制造方法，是一种通过使用权利要求6所述的液滴喷出装置、在基板上排列多个滤色元件而形成的滤色镜的制造方法，其特征在于：
向所述功能液滴喷出头导入各色滤色材料，
经由移动所述头单元，使所述功能液滴喷出头相对所述基板进行扫描，选择地喷出所述滤色材料，形成多个所述滤色元件。
13、根据权利要求12所述的滤色镜的制造方法，其特征在于：
在形成多个所述滤色元件后，
向所述功能液滴喷出头导入透光性的涂敷材料，
经由移动所述头单元，使所述功能液滴喷出头相对所述基板进行扫描，选择地喷出所述涂敷材料，形成覆盖所述多个滤色元件的所述覆盖膜。
14、一种有机EL的制造方法，使用权利要求6所述的液滴喷出装置，在基板上排列包含EL发光层的多个像点像素，其特征在于：
向所述功能液滴喷出头导入各色发光材料，
经由移动所述头单元，使所述功能液滴喷出头相对所述基板进行扫描，选择地喷出所述发光材料，形成多个所述EL发光层。
15、根据权利要求14所述的有机EL的制造方法，其特征在于：
向所述功能液滴喷出头导入液态电极材料，
经由移动所述头单元，使所述功能液滴喷出头相对所述基板进行扫描，并选择地喷出所述液态电极材料，在多个所述EL发光层与所述基板之间，对应于所述EL发光层，形成多个所述像素电极。
16、根据权利要求15所述的有机EL的制造方法，其特征在于：
形成对置电极使得覆盖多个所述EL发光层，
在形成所述EL发光层后，
向所述功能液滴喷出头导入液态电极材料，
经由移动所述头单元，使所述功能液滴喷出头相对所述基板进行扫描，并选择地喷出所述液态电极材料，形成所述相对电极。
17、一种隔板形成方法，使用权利要求6所述的液滴喷出装置，在两块基板间形成能构成微小单元间隙的多个粒子状隔板，其特征在于：
向所述功能液滴喷出头导入构成隔板的粒子材料，
经由移动所述头单元，使所述功能液滴喷出头相对至少一个所述基板进行扫描，选择地喷出所述粒子材料，在所述基板上形成所述隔板。
18、一种金属布线形成方法，使用权利要求6所述的液滴喷出装置，在基板上形成金属布线，其特征在于：
向所述功能液滴喷出头导入液态金属材料，
经由移动所述头单元，使所述功能液滴喷出头相对所述基板进行扫描，并选择地喷出所述液态金属材料，形成所述金属布线。
19、一种透镜形成方法，使用权利要求6所述的液滴喷出装置，在基板上形成多个微透镜，其特征在于：
向所述功能液滴喷出头导入透镜材料，
经由移动所述头单元，使所述功能液滴喷出头相对所述基板进行扫描，选择地喷出所述透镜材料，形成多个所述微透镜。
20、一种抗蚀剂形成方法，使用权利要求6所述的液滴喷出装置，在基板上形成任意形状的抗蚀剂，其特征在于：
向所述功能液滴喷出头导入抗蚀剂材料，
经由移动所述头单元，使所述功能液滴喷出头相对所述基板进行扫描，选择地喷出所述抗蚀剂材料，形成所述抗蚀剂。
21、一种光扩散体形成方法，使用权利要求6所述的液滴喷出装置，在基板上形成多个光扩散体，其特征在于：
向所述功能液滴喷出头导入光扩散材料，
经由移动所述头单元，使所述功能液滴喷出头相对所述基板进行扫描，选择地喷出所述光扩散材料，形成多个所述光扩散体。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002245476 | 2002-08-26 | ||
| JP2002245476 | 2002-08-26 | ||
| JP2003190815 | 2003-07-03 | ||
| JP2003190815A JP3649230B2 (ja) | 2002-08-26 | 2003-07-03 | ヘッドキャップおよびこれを備えた液滴吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機ｅｌ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ｐｄｐ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ｅｌの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1483576A CN1483576A (zh) | 2004-03-24 |
| CN100354133C true CN100354133C (zh) | 2007-12-12 |
Family
ID=32095381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNB031540031A Expired - Lifetime CN100354133C (zh) | 2002-08-26 | 2003-08-13 | 喷头盖及具备喷头盖的液滴喷出装置、电光装置制造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7195334B2 (zh) |
| JP (1) | JP3649230B2 (zh) |
| KR (1) | KR100533453B1 (zh) |
| CN (1) | CN100354133C (zh) |
| TW (1) | TWI226290B (zh) |
Families Citing this family (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP4225238B2 (ja) | 2004-04-21 | 2009-02-18 | セイコーエプソン株式会社 | 有機ｅｌ装置の製造方法及び有機ｅｌ装置並びに電子機器 |
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- 2003-08-13 CN CNB031540031A patent/CN100354133C/zh not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100533453B1 (ko) | 2005-12-06 |
| CN1483576A (zh) | 2004-03-24 |
| JP2004142422A (ja) | 2004-05-20 |
| TW200408551A (en) | 2004-06-01 |
| US20040119776A1 (en) | 2004-06-24 |
| JP3649230B2 (ja) | 2005-05-18 |
| TWI226290B (en) | 2005-01-11 |
| US7195334B2 (en) | 2007-03-27 |
| KR20040018921A (ko) | 2004-03-04 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
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|
| CX01 | Expiry of patent term | ||
| CX01 | Expiry of patent term |
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