KR100549643B1 - 기능 액적 토출 헤드의 흡인 방법 및 흡인 장치, 및 액적토출 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법, 전기 광학 장치,및 전자 기기 - Google Patents
기능 액적 토출 헤드의 흡인 방법 및 흡인 장치, 및 액적토출 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법, 전기 광학 장치,및 전자 기기 Download PDFInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 238000007599 discharging Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 206
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 54
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 19
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 17
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 10
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 119
- 239000010408 film Substances 0.000 description 57
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 47
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 31
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 29
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 22
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 description 19
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 18
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 14
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 13
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 12
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 10
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 10
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 9
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 7
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 7
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 6
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 6
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 4
- 238000003491 array Methods 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 3
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 3
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HBEDSQVIWPRPAY-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrobenzofuran Chemical compound C1=CC=C2OCCC2=C1 HBEDSQVIWPRPAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- UOHMMEJUHBCKEE-UHFFFAOYSA-N prehnitene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1C UOHMMEJUHBCKEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N cyclohexylbenzene Chemical compound [CH]1CCCC[C@@H]1C1=CC=CC=C1 HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000012792 lyophilization process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N oxopalladium Chemical compound [Pd]=O HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/17—Ink jet characterised by ink handling
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
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- 기능 액적을 토출하는 기능 액적 토출 헤드에 캡을 밀착시키고, 상기 캡을 통해서 상기 기능 액적 토출 헤드를 흡인하는 기능 액적 토출 헤드의 흡인 장치에 있어서,상기 캡과 연통하여 상기 기능 액적 토출 헤드의 전체 노즐을 흡인하는 이젝터(ejector)와,상기 이젝터에 작동 유체를 공급하는 작동 유체 공급 수단과,상기 캡과 상기 이젝터의 흡인구를 접속하는 흡인관로 내의 압력을 검출하는 압력 검출 수단과,상기 작동 유체 공급 수단과 상기 이젝터의 공급구를 접속하는 작동 유체 공급관로에 개재 설치되어, 상기 이젝터에 공급하는 상기 작동 유체의 유량을 조절하는 유량 조절 밸브와,상기 압력 검출 수단의 검출 결과에 기초하여 상기 유량 조절 밸브를 제어하는 제 1 제어 수단과,상기 흡인관로에 개재 설치되어, 상기 흡인관로를 개폐하는 흡인관로 개폐 밸브를 구비하며,상기 제 1 제어 수단은 상기 기능 액적 토출 헤드에 대한 흡인 종료시에, 상기 유량 조정 밸브를 폐쇄시키는 동시에, 상기 흡인관로 개폐 밸브를 폐쇄시키는 것을 특징으로 하는 기능 액적 토출 헤드의 흡인 장치.
- 제 4 항에 있어서,상기 이젝터는 상기 캡의 근방에 배열 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기능 액적 토출 헤드의 흡인 장치.
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- 제 4 항에 있어서,상기 제 1 제어 수단은 상기 기능 액적 토출 헤드에 대한 흡인 종료시에, 상기 유량 조절 밸브를 서서히 폐쇄시키는 것을 특징으로 하는 기능 액적 토출 헤드의 흡인 장치.
- 삭제
- 제 4 항에 있어서,상기 흡인관로 개폐 밸브는 대기 개방 포트(port)를 가지는 3방향 밸브로 구성되어 있고,상기 제 1 제어 수단은 상기 흡인관로 개폐 밸브의 폐쇄와 동시에 상기 대기 개방 포트를 개방하는 동시에, 다시 상기 유량 조절 밸브를 개방하는 것을 특징으로 하는 기능 액적 토출 헤드의 흡인 장치.
- 제 4 항에 있어서,미리 기능액을 저장하고 있는 동시에, 배출관로에 의해 상기 이젝터의 배출구에 접속된 저장 탱크를 더 구비하고,상기 작동 유체 공급 수단은 펌프로 구성되는 동시에, 순환관로를 통해서 상 기 저장 탱크에 접속되어 있고, 작동 유체로서 기능액을 공급하는 것을 특징으로 하는 기능 액적 토출 헤드의 흡인 장치.
- 제 10 항에 있어서,상기 작동 유체 공급 수단과 상기 저장 탱크를 접속하는 상기 순환관로에는 대기 개방 포트를 가지는 3방향 밸브로 구성된 순환관로 개폐 밸브가 개재 설치되어 있으며,상기 기능 액적 토출 헤드에 대한 흡인 종료시에, 상기 순환관로 개폐 밸브를 폐쇄하는 동시에 상기 순환관로 개폐 밸브의 상기 대기 개방 포트를 개방하는 제 2 제어 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 기능 액적 토출 헤드의 흡인 장치.
- 제 4 항에 있어서,상기 기능 액적 토출 헤드는 복수 설치되어 있으며,상기 캡, 상기 이젝터 및 상기 흡인관로는 상기 복수의 기능 액적 토출 헤드에 대응해서 각각 복수 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기능 액적 토출 헤드의 흡인 장치.
- 제 4 항에 기재된 기능 액적 토출 헤드의 흡인 장치와,워크(work)에 기능액을 토출하는 기능 액적 토출 헤드를 구비한 것을 특징으 로 하는 액적 토출 장치.
- 제 13 항에 기재된 액적 토출 장치를 사용하여, 워크 상에 기능 액적에 의한 성막부(成膜部)를 형성하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
- 제 13 항에 기재된 액적 토출 장치를 사용하여, 워크 상에 기능 액적에 의한 성막부를 형성한 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
- 제 15 항에 기재된 전기 광학 장치를 탑재한 것을 특징으로 하는 전자 기기.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2002-00328793 | 2002-11-12 | ||
JP2002328793 | 2002-11-12 | ||
JPJP-P-2003-00204394 | 2003-07-31 | ||
JP2003204394A JP3757963B2 (ja) | 2002-11-12 | 2003-07-31 | 機能液滴吐出ヘッドの吸引装置、並びに液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20040044113A KR20040044113A (ko) | 2004-05-27 |
KR100549643B1 true KR100549643B1 (ko) | 2006-02-06 |
Family
ID=32716167
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020030079200A KR100549643B1 (ko) | 2002-11-12 | 2003-11-10 | 기능 액적 토출 헤드의 흡인 방법 및 흡인 장치, 및 액적토출 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법, 전기 광학 장치,및 전자 기기 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20040137159A1 (ko) |
JP (1) | JP3757963B2 (ko) |
KR (1) | KR100549643B1 (ko) |
CN (1) | CN1263604C (ko) |
TW (1) | TWI226287B (ko) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2006019630A (ja) | 2004-07-05 | 2006-01-19 | Seiko Epson Corp | 配線形成方法 |
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- 2003-07-31 JP JP2003204394A patent/JP3757963B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-10-29 TW TW092130105A patent/TWI226287B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-11-10 KR KR1020030079200A patent/KR100549643B1/ko active IP Right Grant
- 2003-11-11 US US10/705,773 patent/US20040137159A1/en not_active Abandoned
- 2003-11-12 CN CNB200310114268XA patent/CN1263604C/zh not_active Expired - Lifetime
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JP3757963B2 (ja) | 2006-03-22 |
CN1498688A (zh) | 2004-05-26 |
US20040137159A1 (en) | 2004-07-15 |
JP2004209461A (ja) | 2004-07-29 |
CN1263604C (zh) | 2006-07-12 |
TWI226287B (en) | 2005-01-11 |
KR20040044113A (ko) | 2004-05-27 |
TW200417471A (en) | 2004-09-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130118 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140117 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150120 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160105 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170103 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180119 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190117 Year of fee payment: 14 |