JP4631448B2

JP4631448B2 - 液滴吐出装置の描画方法および液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法

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Publication number: JP4631448B2
Application number: JP2005016822A
Authority: JP
Inventors: 剛加藤
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2005-01-25
Filing date: 2005-01-25
Publication date: 2011-02-16
Anticipated expiration: 2025-01-25
Also published as: JP2006204973A

Description

本発明は、基板上の画素領域に機能液滴を吐出・着弾させる液滴吐出装置の描画方法および液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法に関するものである。

従来、複数の画素領域を主走査方向および副走査方向にマトリクス状に配列したカラーフィルタ等の基板に対し、多数のノズルのノズルピッチが副走査方向における前記複数の画素領域の幅よりも小さくなるように構成されたインクジェットヘッド（機能液滴吐出ヘッド）を、主走査方向および副走査方向に移動させながら、インクジェットヘッドから画素領域に着色インク（機能液滴）を吐出させる液滴吐出装置の描画方法が知られている。そして、インクジェットヘッドに対する基板の相対的な移動軌跡の蛇行、インクジェットヘッドに形成されたノズルの配列位置の寸法公差、および着色インクの飛行曲がり等に起因して、インクジェットヘッドから吐出される着色インクの着弾位置がずれる可能性がある場合であっても、着色インクを画素領域に確実に着弾させるべく、副走査方向における各画素領域の中心に最も近いノズルからのみ着色インクを吐出し、他のノズルからは着色インクを吐出しないことが考えられている（特許文献１参照）。
特開２００２−２２９２６号公報

このような従来の液滴吐出装置の描画方法では、各画素領域に必要量の機能液を満たすために、ショット数を多くする必要があると共に、着弾した機能液が画素領域の中心付近で盛り上がり、全域に濡れ広がらなくなる問題がある。
そこで、装置を高精度に構成すると共に、各画素領域に対応する複数のノズルの全てから機能液滴を吐出することが考えられる。但し、画素ピッチの異なる複数種の基板に対応する装置では、画素ピッチをノズルピッチの整数倍とすることができず、任意の１の画素領域に対応する有効ノズルがｎ−１個のものとｎ個のものが混在することになる。この場合、有効ノズルがｎ−１個のものは、着弾した機能液が部分的に盛り上がりがちであり、ｎ個のものは、着弾した機能液が全体に広がる傾向にあるが、基板全体に対する描画方法としては、描画ムラ（成膜後のスジムラ）が比較的少ない基板を形成することができる。しかし、制御が複雑になると共に、ｎ個のものでは最外端のノズルから吐出された機能液が画素領域から外れる可能性が高まる。
一方、有効ノズルがｎ個となる場合でも、最外端のノズルを間引いて全てｎ−１個の有効ノズルで描画すれば、上記のような不具合はない。但し、この場合には着弾した機能液が画素領域の片側に寄ってしまう傾向が強い（描画ムラの原因）。もっとも、機能液の粘性が低い場合には、この限りではない。

本発明は、画素ピッチがノズルピッチの非整数倍となる機能液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出装置において、基板の種別により有効な描画方法を選択することができる液滴吐出装置の描画方法および液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法を提供することを課題とする。

本発明の液滴吐出装置の描画方法は、複数の画素領域を主走査方向および副走査方向に配列した基板に対し、副走査方向における複数の画素領域の画素ピッチが非整数倍となるノズルピッチの複数のノズルを有するために、任意の１の画素領域に機能液滴を着弾可能な有効ノズルがｎ−１個の場合とｎ個の場合とが生ずる機能液滴吐出ヘッドを、主走査方向に相対的に移動させながら、複数の有効ノズルから機能液滴を吐出・着弾させて描画動作を行う液滴吐出装置の描画方法であって、ｎ個の有効ノズルのうちの画素領域に対しセンター寄りｎ−１個の有効ノズルを実有効ノズルとし、複数の画素領域に対し、ｎ−１個の有効ノズルおよびｎ−１個の実有効ノズルを駆動して描画動作を行う第１描画と、複数の画素領域に対し、着弾可能なｎ−１個およびｎ個の有効ノズルを駆動して描画動作を行う第２描画と、が実行可能であり、基板の種別に応じて、第１描画と第２描画とを使い分けて実行することを特徴とする。

本発明の液滴吐出装置は、複数の画素領域を主走査方向および副走査方向に配列した基板に対し、副走査方向における複数の画素領域の画素ピッチが非整数倍となるノズルピッチの複数のノズルを有するために、任意の１の前記画素領域に機能液滴を着弾可能な有効ノズルがｎ−１個の場合とｎ個の場合とが生ずる機能液滴吐出ヘッドを、主走査方向に相対的に移動させながら、複数の有効ノズルから機能液滴を吐出・着弾させて描画動作を行う液滴吐出装置であって、機能液滴吐出ヘッドと、機能液滴吐出ヘッドを搭載すると共に、基板に対し機能液滴吐出ヘッドを主走査方向に相対的に移動させる移動手段と、移動手段を制御すると共に複数のノズルをそれぞれ駆動し、ｎ個の有効ノズルのうちの画素領域に対しセンター寄りｎ−１個の有効ノズルを実有効ノズルとし、複数の画素領域に対し、ｎ−１個の有効ノズルおよびｎ−１個の実有効ノズルを駆動して描画動作を行う第１描画と、複数の画素領域に対し、着弾可能なｎ−１個およびｎ個の前記有効ノズルを駆動して描画動作を行う第２描画と、を実行可能な制御手段と、基板と機能液滴吐出ヘッドとのアライメントに基づいて、有効ノズルおよび実有効ノズルを特定するノズル特定手段と、第１描画と第２描画とを切り替える描画切り替え手段と、を備えたことを特徴とする。

この構成によれば、ｎ−１個の有効ノズルおよびｎ−１個の実有効ノズルによる描画を実行すれば、制御が複雑になると共にｎ個のものでは最外端のノズルから吐出された機能液が画素領域から外れる等の不具合がない。一方ｎ−１個およびｎ個の有効ノズルによる描画を実行すれば、全体として着弾した機能液の部分的に盛り上がりが抑制され、特に、描画ムラ（成膜後のスジムラ）等が比較的少ない基板を形成することができる。したがって、例えば、機能液の粘性が高く描画ムラが目立つ基板に対しては、第２描画を実行することで、基板に適した描画方法で効率良く描画を行うことができる。

この場合、第２描画おいて、任意の１の画素領域に対し、ｎ−１個の有効ノズルとｎ個の有効ノズルとの着弾液滴量が同一となるように、各有効ノズルの機能液滴吐出量を一定とし吐出回数を制御することが好ましい。

同様に、第２描画において、任意の１の画素領域に対し、ｎ−１個の有効ノズルとｎ個の有効ノズルとの着弾液滴量が同一となるように、各有効ノズルの吐出回数を一定とし機能液滴吐出量を制御することが好ましい。

一方、制御手段は、第２描画において、任意の１の画素領域に対し、ｎ−１個の有効ノズルとｎ個の有効ノズルとの着弾液滴量が同一となるように、各有効ノズルの機能液滴吐出量を一定とし吐出回数を制御することが好ましい。

同様に、制御手段は、第２描画において、任意の１の画素領域に対し、ｎ−１個の有効ノズルとｎ個の有効ノズルとの着弾液滴量が同一となるように、各有効ノズルの吐出回数を一定とし機能液滴吐出量を制御することが好ましい。

このように、各有効ノズルの機能液滴吐出量を一定とし吐出回数を制御すること、或いは各有効ノズルの吐出回数を一定とし機能液滴吐出量を制御することにより、ｎ−１個およびｎ個の有効ノズルが混在していても、各画素領域に着弾させる機能液の液量を同一にすることができる。これにより、各画素領域の機能液の液量に基づく、色ムラ等を防止することができる。

本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、基板上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。

これらの構成によれば、複数の画素領域間においてスジムラや色ムラ等が生ずることのない液滴吐出装置を用いて製造されるため、信頼性の高い電気光学装置を製造することが可能となる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface-conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。

以下、添付の図面を参照して、本発明を適用した液滴吐出装置について説明する。この液滴吐出装置は、いわゆるフラットディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、機能材料を溶剤に溶解させた機能液を機能液滴吐出ヘッドに導入し、液滴吐出法（インクジェット法を応用した）により、Ｒ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）の３色から成る液晶表示装置のカラーフィルタの着色層や有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を形成するものである。

図1および図２に示すように、液滴吐出装置１は、複数の機能液滴吐出ヘッド５３を搭載したヘッドユニット１６を有し、ワークＷに機能液滴による描画を行う描画装置２と、機能液滴吐出ヘッド５３の機能維持・保守に供するメンテナンス装置３と、描画装置（機能液滴吐出ヘッド５３）に機能液を供給する機能液供給装置４（図示省略）と、各装置を統括制御する制御装置（図示省略）と、を備えている。そして、液滴吐出装置１では、制御装置５による制御に基づいて、描画装置２に描画処理を行わせ、ワークＷ上に所定の描画パターンを描画させると共に、メンテナンス装置３により適宜メンテナンス処理を行って、機能液滴吐出ヘッド５３の機能維持・保守を図るようになっている。

図１および図２に示すように、描画装置２は、石定盤等で構成されたＸ軸支持ベース１１と、Ｘ軸支持ベース１１上に配設され、ワークＷをセットしてこれを主走査方向となるＸ軸方向に移動させるためのＸ軸テーブル１２と、複数本の支柱１３を介してＸ軸テーブル１２を跨ぐように架け渡された１対（２つ）のＹ軸支持ベース１４と、Ｙ軸支持ベース１４上に配設されたＹ軸テーブル１５と、複数の機能液滴吐出ヘッド５３（図示省略）が搭載された７つのキャリッジユニット５１から成り、副走査方向となるＹ軸方向に対して、Ｙ軸テーブル１５に移動自在に支持されたヘッドユニット１６と、を備えている。

また、描画装置２には、駆動・制御用の圧縮エアーを供給するエアー供給装置（図示省略）や、ワークＷをセットするためにエアー吸引を行うエアー吸引装置（図示省略）の他、ワークＷをセット（位置補正）する際に用いられる一対のワーク認識カメラ２１、ヘッドユニット１６の位置補正を行うためのヘッド認識カメラ（図示省略）等の各種付帯装置が備えられている。

なお、図１における図示手前の位置が未処理のワークＷを導入すると共に、処理済みのワークＷを回収するためのワーク載せ換え位置となっていると共に、Ｘ軸テーブル１２とＹ軸テーブル１５とが交わる場所が、ワークＷに対して描画を行うためのヘッドユニット１６の描画位置となっている。

図１および図２に示すように、Ｘ軸テーブル１２は、ワークＷをセットするセットテーブル３１と、セットテーブル３１をＸ軸方向にスライド自在に支持するＸ軸エアースライダ３２と、Ｘ軸方向に延在し、セットテーブル３１を介してワークＷをＸ軸方向に移動させる左右一対のＸ軸リニアモータ（図示省略）と、Ｘ軸リニアモータに並設され、Ｘ軸エアースライダ３２の移動を案内する一対（２本）のＸ軸ガイドレール３３と、Ｘ軸ガイドレール３３に並設され、セットテーブル３１を介してワークＷの位置を把握するためのＸ軸リニアスケール（図示省略）と、を備えている。

そして、一対のＸ軸リニアモータを（同期させて）駆動すると、一対のＸ軸ガイドレール３３にガイドされた状態で、Ｘ軸エアースライダ３２がＸ軸方向に移動し、セットテーブル３１にセットされたワークＷがＸ軸方向に移動する。

なお、セットテーブル３１は、エアー吸引装置からのエアー吸引によりワークＷを吸着セットする吸着テーブル３４と、吸着テーブルを回動自在に支持し、吸着テーブル３４に吸着セットしたワークＷをθ補正するためのθテーブル（図示省略）等を有している。そして、吸着テーブル３４に吸着セットされたワークＷは、上記した一対のワーク認識カメラ２１により画像認識され、θテーブルを介してθ補正される。

Ｙ軸テーブル１５は、ヘッドユニット１６を構成する７つの各キャリッジユニット５１をそれぞれ挿通して固定した７つのブリッジプレート４１と、７つのブリッジプレート４１の両端を支持する７組１４個のＹ軸スライダ（図示省略）と、上記した一対のＹ軸支持ベース１４上に設置され、７組１４個のＹ軸スライダを介してブリッジプレート４１をＹ軸方向に移動させる一対のＹ軸リニアモータ（図示省略）と、Ｙ軸リニアモータと並んでＹ軸支持ベース１４上に設置され、７組１４個のＹ軸スライダを支持して、各Ｙ軸スライダの移動を案内する一対のＹ軸ガイドレール（図示省略）と、Ｙ軸ガイドレールに並設され、各キャリッジユニット５１の位置をそれぞれ把握するためのＹ軸リニアスケール（図示省略）と、を備えている。

一対のＹ軸リニアモータを（同期させて）駆動すると、各Ｙ軸スライダが一対のＹ軸ガイドレールを案内にして同時にＹ軸方向を平行移動する。これにより、ブリッジプレート４１が両端を支持された状態でＹ軸方向を移動し、これと共にキャリッジユニット５１がＹ軸方向に移動する。なお、この場合、Ｙ軸リニアモータの駆動を制御することにより、各ブリッジプレート４１（各キャリッジユニット５１）を独立させて個別に移動させることも可能であるし、７つの全ブリッジプレート４１をヘッドユニット１６として一体に移動させることも可能である。

図１および図２に示すように、ヘッドユニット１６は、同様に構成された７つのキャリッジユニット５１をＹ軸方向に整列させて構成されている。各キャリッジユニット５１は、ヘッドプレート５２にヘッド保持プレート（図示省略）を介して１２個の機能液滴吐出ヘッド５３を搭載し、これをキャリッジ５４に支持させて構成されている。

図３に示すように、ヘッドプレート５２は、ステンレス等の厚板で平面視略平行四辺形に形成されている。ヘッドプレート５２には、ヘッド保持プレートを介して機能液滴吐出ヘッド５３を位置決め・装着するための開口（図示省略）が設けられており、各ヘッドプレート５２に１２個の機能液滴吐出ヘッド５３を搭載すると、１２個の機能液滴吐出ヘッド５３のノズル列（後述する）がＹ軸方向において連続（一部重複）して、１本の分割描画ラインが形成されるようになっている。なお、本実施形態では、１２個の機能液滴吐出ヘッド５３をＸ軸方向およびＹ軸方向にそれぞれ位置ずれさせた階段状の配置パターンを採用しているが、各機能液滴吐出ヘッド５３のノズル列がＹ軸方向に連続してさえいれば、機能液滴吐出ヘッド５３の配置パターンを任意に設定可能である。

図４に示すように、機能液滴吐出ヘッド５３（インクジェットヘッド）は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針６２を有する機能液導入部６１と、機能液導入部６１に連なる２連のヘッド基板６３と、機能液導入部６１の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体６４と、を備えている。接続針６２は、図外の機能液供給装置４（機能液タンク）に接続され、機能液導入部６１に機能液を供給する。ヘッド本体６４は、キャビティ６５（ピエゾ圧電素子）と、多数の吐出ノズル６８が開口したノズル面６７を有するノズルプレート６６と、で構成されている。機能液滴吐出ヘッド５３を吐出駆動すると、（ピエゾ圧電素子に電圧が印加され）キャビティ６５のポンプ作用により、吐出ノズル６８から機能液滴が吐出される。

なお、多数の吐出ノズル６８は、二分され、等ピッチ（約１４０μｍ間隔）に整列して、２列の分割ノズル列を形成していると共に、２列の分割ノズル列同士は、相互に半ピッチ（約７０μｍ）分位置ずれしている。すなわち、機能液滴吐出ヘッド５３には、２列の分割ノズル列により半ピッチ間隔のノズル列が形成され、高解像度の描画が可能となっている。

図示省略したが、キャリッジ５４は、（機能液滴吐出ヘッド５３を搭載した）ヘッドプレート５２を支持するキャリッジ本体と、キャリッジ本体を介してヘッドプレート（機能液滴吐出ヘッド５３）をθ補正（θ回転）可能に支持するθ回転機構と、θ回転機構を介して、ヘッドプレート５２をＹ軸テーブル１５（各ブリッジプレート４１）に支持させる吊設部材と、を備えている。吊設部材には、θ回転機構を介してヘッドプレート５２を昇降させるヘッド昇降機構（図示省略）が組み込まれており、ヘッドプレート５２（機能液滴吐出ヘッド５３のノズル面６７）の高さ位置を調整可能に構成されている。

そして、７つの各キャリッジ５４を７つの各ブリッジプレート４１にそれぞれ支持させ、７つのキャリッジユニット５１をＹ軸方向に整列させることにより、ヘッドユニット１６が構成される。この場合、各キャリッジユニット５１は、上記したヘッド認識カメラにより撮像され、その画像認識に基づいて各キャリッジユニット５１のθ回転機構が駆動される。これにより、各キャリッジユニット５１（ヘッドプレート５２）の水平面内における位置が補正され、ヘッドユニット１６においては、各キャリッジユニット５１の７本の分割描画ラインがＹ軸方向に連続する１描画ラインが形成される。

ここで、ワークＷに描画処理を行うときの描画装置２の一連の動作について説明する。先ず、Ｘ軸テーブル１２が駆動され、セットテーブル３１を介してワークＷをＸ軸方向に往動する。このワークＷの往動と同期して、描画位置に臨むヘッドユニット１６の（複数の）機能液滴吐出ヘッド５３が駆動され、ワークＷに対する機能液滴の選択的な吐出（描画）が行われる。このとき、セットテーブル３１は、所定の速度に達するまで加速移動した後、等速移動してから減速してワークＷの往動が終了するが、本実施形態では、描画精度も安定させるためにワークＷに対する描画を等速移動中に行うように構成されている。

ワークＷの往動が終了すると、Ｙ軸テーブル１５が駆動され、ヘッドユニット１６が所定距離だけＹ軸方向に移動する。そして、再度、Ｘ軸テーブル１２が駆動されると共に、これと同期して機能液滴吐出ヘッド５３の吐出駆動が為され、ワークＷの復動とワークＷに対する機能液滴の選択的な吐出が行われる。このように、描画装置２では、ワークＷのＸ軸方向への移動とこれに同期した機能液滴吐出ヘッド５３の吐出駆動（主走査）と、ヘッドユニット１６のＹ軸方向への移動（副走査）と、を交互に繰り返すことにより、ワークＷに対する描画処理を行ってゆく。

なお、本実施形態では、主走査および副走査を繰り返しながら描画処理を行う構成としたが、ヘッドユニット１６の１描画ラインは、セットテーブル３１にセット可能な最大規格のワークＷのＹ軸方向の幅に対応しているため、１回の主走査（すなわち、ラインプリンタ様に）で描画処理を行うことも可能である。また、本実施形態では、ワークＷの往動時および復動時において機能液滴吐出ヘッド５３を吐出駆動するようになっているが、往動時（または復動時）のみに吐出駆動させるようにしてもよい。さらに、本実施形態の主走査では、ヘッドユニット１６に対してワークＷをＸ軸方向に移動させているが、ワークＷに対してヘッドユニット１６をＸ軸方向に移動させる構成とすることも可能である。同様に、副走査でも、ヘッドユニット１６のＹ軸方向への移動に代えて、ワークＷをＹ軸方向に移動させる構成とすることも可能である。

次に、メンテナンス装置３について説明する。図１および図２に示すように、メンテナンス装置３は、機能液滴吐出ヘッド５３からの捨て吐出を受けるフラッシングユニット８１と、機能液滴吐出ヘッド５３から機能液を強制的に排出させるための吸引ユニット８２と、機能液滴吐出ヘッド５３のノズル面６７を払拭するワイピングユニット８３と、を備えている。

フラッシングユニット８１は、（１枚の）ワークＷに対する一連の描画処理中において、ヘッドユニット１６の全機能液滴吐出ヘッド５３から捨て吐出される機能液、すなわち描画フラッシングの機能液を受ける描画フラッシングユニット９１と、ワークＷの載せ換え時等にように描画処理が一時的に休止される時（描画待機中）のヘッドユニット１６の全機能液滴吐出ヘッド５３から捨て吐出される機能液、すなわち非描画フラッシングの機能液を受ける非描画フラッシングユニット９２と、を備えている。

なお、「捨て吐出」は、機能液滴吐出ヘッド５３の吐出ノズル６８内で（気化等により）粘度が増した機能液を排出すると共に、吐出ノズル６８に状態の良い新たな機能液を供給するために行われるものであり、捨て吐出により、機能液滴吐出ヘッド５３の（全）吐出ノズル６８から機能液滴を吐出させることで、機能液滴吐出ヘッド５３を適切な状態に維持することができるようになっている。

図１および図２に示すように、描画フラッシングユニット９１は、セットテーブル３１に支持され、機能液を受ける一対の描画フラッシングボックス１０１を有している。各描画フラッシングボックス１０１は、底部に吸収材（図示省略）が敷設された平面視長方形の細長い箱状に形成されている。そして、各描画フラッシングボックス１０１は、図外のボックス支持部材を介して、その長辺部分が吸着テーブル３４のＹ軸方向に平行な一対の辺（周縁）に沿うようにそれぞれセットテーブル３１に支持されている。この場合、描画フラッシングボックス１０１の上面は、吸着テーブル３４の上面と略面一となっている。

このような構成により、吸着テーブル３４を介してワークＷをＸ軸方向に往復動させると、（１回の主走査により、ヘッドユニット１６がワークＷに臨む直前およびヘッドユニット１６がワークＷから離間した直後のいずれの場合においても）ヘッドユニット１６の全機能液滴吐出ヘッド５３を順次描画フラッシングボックス１０１に臨ませることができ、ワークＷに対する描画動作の直前・直後に行われる描画フラッシングの機能液を適切に受けることができるようになっている。

図１および図２に示すように、非描画フラッシングユニット９２は、セットテーブル３１と共に上記のＸ軸エアースライダ３２に搭載され、非描画フラッシングによる機能液を受ける非描画フラッシングボックス１１１を有している。非描画フラッシングボックス１１１は、上面が開放された平面視長方形のボックス形状に形成されていると共に、ヘッドユニット１６（７つのキャリッジユニット５１）の全機能液滴吐出ヘッド５３からの非描画フラッシングを同時に受けられるように、ヘッドユニット１６の全機能液滴吐出ヘッド５３を包含し得る十分な大きさに構成されている。そして、非描画フラッシングボックス１１１は、ワーク載せ換え位置にセットテーブル３１を移動させたときに、描画位置に位置するヘッドユニット１６の直下に位置するように配置されている。したがって、ワークＷの載せ換え中等において、ヘッドユニット１６の全機能液滴吐出ヘッド５３を吐出駆動して非描画フラッシングを行わせることができるようになっている。

図１および図２に示すように、吸引ユニット８２は、Ｘ軸テーブル１２から外れ、かつＹ軸テーブル１５によるヘッドユニット１６の移動軌跡上に設置されたメンテナンス架台８４上に配設されている。吸引ユニット８２は、ヘッドユニット１６の７個の各キャリッジユニット５１に対応して７個設けられており、これらは上記メンテナンス架台８４上に整列配置されている。各吸引ユニット８２は、キャリッジユニット５１に搭載されている１２個の機能液滴吐出ヘッド５３（ノズル面６７）に下側から密着してこれを封止するための１２個のキャップ１２１と、１２個のキャップ１２１を昇降自在に支持し、機能液滴吐出ヘッド５３に対してキャップ１２１を離接させるキャップ昇降機構（図示省略）と、密着させたキャップ１２１を介して各機能液滴吐出ヘッド５３に吸引力を作用させる吸引手段（エゼクタ：図示省略）と、を備えている。

そして、機能液の吸引（機能液の強制排出）は、Ｙ軸テーブル１５を駆動してヘッドユニット１６の各キャリッジユニット５１を各吸引ユニット８２上まで移動させた後、キャップ昇降機構を駆動して機能液滴吐出ヘッドにキャップ１２１を密着させてから、吸引手段を駆動させることにより行う。この機能液の吸引は、機能液滴吐出ヘッド５３（吐出ノズル６８）の目詰まりを解消／防止するために行われる他、液滴吐出装置１を新設した場合や、機能液滴吐出ヘッド５３のヘッド交換を行った場合などに、機能液滴吐出ヘッド５３に機能液を充填するために行われる。

また、吸引ユニット８２（のキャップ１２１）は、液滴吐出装置１の非稼動時に、機能液滴吐出ヘッド５３を保管するためにも用いられる。この場合、吸引ユニット８２にヘッドユニット１６を臨ませ、機能液滴吐出ヘッド５３のノズル面６７にキャップ１２１を密着させることにより、ノズル面６７を封止して、機能液滴吐出ヘッド５３（吐出ノズル６８）の乾燥を防止する。

図１および図２に示すように、ワイピングユニット８３は、吸引ユニット８２と共に上記メンテナンス架台８４上に配設されている。ワイピングユニット８３は、ワイピングシート１４１で機能液滴吐出ヘッド５３のノズル面６７を拭き取る（ワイピング）ものであり、ロール状に巻回したワイピングシート１４１を繰り出し送りしながら巻き取ってゆく巻取りユニット１４２と、繰出したワイピングシート１４１に洗浄液を供給（噴霧）する洗浄液供給ユニット１４３と、洗浄液が供給されたワイピングシート１４１を周回させ、これをノズル面６７に当接させるための拭取りローラ１４６を有する拭取りユニット１４５と、ワイピングシート１４１を介して拭取りローラ１４６がノズル面６７に当接可能な拭取り位置とノズル面６７から拭取りローラ１４６が離間する拭取り待機位置との間で、これら拭取りユニット１４５を昇降自在に支持するユニット昇降機構（図示省略）と、を備えている。

そして、ユニット昇降機構により（拭取り待機位置にあった）拭取りローラ１４６を拭取り位置まで上昇させた状態で、Ｙ軸テーブル１５を駆動すると、ヘッドユニット１６（キャリッジユニット５１）に搭載された機能液滴吐出ヘッド５３のノズル面６７に対してワイピングシート１４１が摺接してゆき、ノズル面６７が順次ワイピングされていく。この場合、巻取りユニット１４２により、ワイピングシート１４１を繰出し送りしながらノズル面６７の拭取りを行うようにしても良いし、ワイピングシート１４１の繰出し送りを停止させた状態でノズル面６７を拭取るようにしても良い。後者の場合、ワイピング開始前またはワイピング終了後にワイピングシート１４１の繰出し送りを適宜行うようにし、拭取り済みのワイピングシート１４１を適宜巻き取ることが好ましい。

なお、非描画ワイピングユニット８３は、吸引ユニット８２よりも描画装置２側に配設されており、吸引ユニット８２による機能液の吸引後に、描画位置に戻るヘッドユニット１６に臨んで、効率よくワイピングを行えるようになっている。

機能液供給装置４は、ヘッドユニット１６の各キャリッジユニット５１にそれぞれ対応して構成されており、機能液滴吐出ヘッド５３に供給する機能液を貯留する機能液タンク（図示省略）を有した７つのタンクユニット（図示省略）と、各タンクユニット（機能液タンク）から機能液滴吐出ヘッド５３に供給する機能液の圧力を調整する圧力調整弁１６２を有した７つのバルブユニット１６１と、を備えている。

制御装置５は、パソコン等で構成され、データ入力、各種設定を行うための入力手段（キーボード等）や、入力データ・各種設定状態等を視認するためのディスプレイ等を備えている（いずれも図示省略）。

次に、図５を参照しながら液滴吐出装置１の主制御系について説明する。液滴吐出装置１は、描画装置２を有する描画部１７１と、メンテナンス装置３を有するメンテナンス部１７２と、描画装置２やメンテナンス装置３の各種センサを有し、各種検出を行う検出部１７３と、各部を駆動する各種ドライバ（描画装置２を駆動するための描画ドライバやメンテナンス装置３を駆動するためのメンテナンスドライバ等）を有する駆動部１７４と、各部に接続され、液滴吐出装置１全体の制御を行う制御部１７５（制御装置５）と、を備えている。

制御部１７５には、描画装置２およびメンテナンス装置３を接続するためのインタフェース１８１、一時的に記憶可能な記憶領域を有し、制御処理のための作業領域として使用されるＲＡＭ１８２、各種記憶領域を有し、制御プログラムや制御データを記憶するＲＯＭ１８３、ワークＷに描画処理を行うための描画データや、描画装置２およびメンテナンス装置３からの各種データ等を記憶すると共に、各種データを処理するためのプログラム等を記憶するハードディスク１８４、ＲＯＭ１８３、およびハードディスク１８４に記憶されたプログラム等に従い、各種データを演算処理するＣＰＵ１８５、これらを互いに接続するバス１８６、が備えられている。

そして、制御部１７５は、描画装置２、メンテナンス装置３等からの各種データを、インタフェース１８１を介して入力すると共に、ハードディスク１８４に記憶された（または、ＣＤ−ＲＯＭドライブ等により順次読み出される）プログラムに従ってＣＰＵ１８５に演算処理させ、その処理結果を、インタフェース１８１を介して描画装置２やメンテナンス装置３等に出力することにより、各手段を制御している。

例えば、描画処理時において、制御部１７５は、インタフェース１８１を介してＸ軸リニアスケールからの検出結果に基づいて、機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動するための吐出駆動信号を生成し、これをインタフェース１８１を介して描画ドライバ（ヘッドドライバ）に出力している。そして、描画ドライバが、この吐出駆動信号に基づいた駆動波形の電圧を機能液滴吐出ヘッドに印加することにより、機能液滴吐出ヘッド５３の各吐出ノズル６８からの機能液滴の吐出タイミング、吐出量、ショット数（吐出回数）がそれぞれ制御され、ワークＷに所定の描画パターンが描画されるようになっている。

次に、カラーフィルタの着色層を作成する場合を例に、液滴吐出装置１に導入されるワークＷについて説明する。図６に示すように、ワークＷは、石英ガラスやポリイミド等で構成された透光性の（透明）基板６０１に、機能液滴の着弾部位となる方形の画素領域（フィルタエレメント）６０７ａをマトリクス状に多数配置（すなわち、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に整列配置）させたものであり、各画素領域６０７ａ間には、これらを仕切る遮光性のバンク６０３が形成されている。すなわち、上述した液滴吐出装置１により描画される描画パターンは、ワークＷにおける画素領域６０７ａの配置に対応して設定され、バンク６０３で囲まれた各画素領域６０７ａ上に、Ｒ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）の機能液滴が所定量吐出されて、膜厚の着色層６０８（６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂ）が形成されるようになっている（図１１等参照）。

また、ワークＷには、一対のアライメントマークＭが設けられている。この一対のアライメントマークＭが、上記した一対のワーク認識カメラ２１に撮像されて位置認識され、ワークＷの位置補正が行われることにより、描画位置に臨むヘッドユニット１６に対してワークＷが精度よくセットされる。

ところで、ワークＷに形成された画素領域６０７ａのＹ軸方向における長さＤｙが、ヘッドユニット１６の１描画ラインを構成する吐出ノズル６８のノズルピッチＮｐよりも大きく、かつ、画素領域６０７ａのＹ軸方向におけるＹ軸画素ピッチＤｐｙと、ノズルピッチＮｐとが非整数倍の関係にあるときに、各画素領域６０７ａに対応可能（描画可能）な吐出ノズルの最大数をｎ個（ｎはｎ≧２以上の自然数）とすると、各画素領域６０７ａには、ｎ個またはｎ−１個の吐出ノズル６８（有効ノズル）が対応する。

このような場合、ワークＷに対する描画方法としては、（１）全画素領域６０７ａに対してｎ−１個の吐出ノズル６８を用いて描画する描画方法（第１描画）と（２）画素領域６０７ａ毎に対応する吐出ノズル６８全てを用いて描画する、すなわち各画素領域６０７ａに対して、ｎ−１個またはｎ個の吐出ノズル６８を用いて描画する描画方法（第２描画）が考えられる。

例えば、図６に示すように、Ｙ軸方向における画素領域６０７ａの長さ（横寸法）ＤｙおよびＹ軸画素ピッチＤｐｙをそれぞれ１７０μｍ、２００μｍ、とし、ノズルピッチＮｐを７０．５（３６０ｄｐｉ相当）とすれば、ｎ＝３個となり、各画素領域６０７ａには３個または２個の吐出ノズルが対応する。

この条件で、第１描画を適用すると、図７に示すように、全ての各画素領域６０７ａに対して、２個の吐出ノズル６８を用いて描画行うこととなる。この場合、各画素領域６０７ａに吐出する機能液量（総量）は一定であるので、各画素領域６０７ａに着弾した機能液滴（機能液塊）のピークの高さ位置は、ばらつきが少なく略均一な高さとなる。一方、第２描画を適用すると、図８に示すように、同一量の機能液を吐出させるのに、各画素領域６０７ａに３個または２個の吐出ノズル６８を用いて描画を行うことになるので、３個の吐出ノズル６８を用いて吐出させた機能液塊と、２個の吐出ノズル６８を用いて吐出させた機能液塊と、ではそのピークの高さ位置にばらつきが生じるものの、第１描画に比べ、機能液塊のピーク位置をＹ軸方向における画素領域６０７ａのＹ軸中心位置Ｃｙに近づけることができる。

機能液塊のピークの高さ位置のばらつき、および画素領域６０７ａのＹ軸中心位置Ｃｙに対する機能液塊のピーク位置のばらつきは、描画結果（カラーフィルタや、有機ＥＬ装置の発光素子等）に筋ムラ（色ムラ）を生じさせる原因になり得るが、どちらのばらつきが、筋ムラを引き起こす最大要因であるかについては適用する機能液の種類やワークＷの種類（材質）、ワークＷに対する機能液の濡れ性等により異なっている。

例えば、ワークＷに対する機能液の濡れ性が高い（濡れ広がり易い）場合には第１描画を、ワークＷに対する機能液の濡れ性が低い（濡れ広がり難い：画素領域６０７ａの隅部に機能液を吐出させる必要がある）場合には第２描画を選択することが考えられる。また、吐出した機能液滴のバンク６０３への乗り上げや画素領域６０７ａからの溢れが問題となる場合には、第１描画を選択することが考えられる。

そこで、本実施形態の液滴吐出装置１では、上記した第１描画または第２描画を択一的に選択可能に構成されており、実情に応じた描画方法を選択することで描画結果に生じる筋ムラ（色ムラ）を有効に低減させることができるようになっている。

具体的には、制御部１７５（制御装置５）のハードディスク１８４には、第１描画または第２描画を選択するためのソフトウェア（プログラム）がインストールされており、これに基づいて第１描画または第２描画を選択するようになっている。この場合の選択方法としては、ユーザが入力手段を用いて、第１描画または第２描画を直接入力するようにしても良い。また、機能液の種類、ワークの材質、機能液に対するワークＷの濡れ性等に対して、いずれかの描画方法を予め関連付けしたテーブルを用意しておき、ユーザから入力された機能液の種類データ、ワークＷの種類データ、濡れ性データ等に基づいて、第１描画または第２描画を自動選択するようにしても良い。

次に、第１描画が選択された場合のフローについて説明する。第１描画が選択されると、描画処理の主走査に先立ち、描画に用いる描画ノズル（実有効ノズル）を設定するための第１設定処理が為される。ここでは、先ず、１描画ラインを構成する全吐出ノズル６８のうち、各画素領域６０７ａに対応に対応する吐出ノズル６８を描画候補ノズル（有効ノズル）として特定する。

本実施形態では、ヘッドユニット１６に対してワークＷが精度よくセットされていると共に、画素領域６０７ａの横寸法Ｄｙ、Ｙ軸画素ピッチＤｐｙ、およびノズルピッチＮｐが、上記ソフトウェアを介して予め設定されており、これらの値およびヘッドユニット１６とワークＷとの位置関係に基づいて、どの画素領域６０７ａにどの吐出ノズル６８が対応しているかを演算処理により求め、描画候補ノズルを特定できるようになっている。なお、描画候補ノズル以外の吐出ノズル６８は、描画には使用されない非描画ノズルとされる。

続いて、特定された描画候補ノズルの中から、描画に用いる描画ノズルの設定が行われる。描画ノズルの設定は、画素領域６０７ａ毎に行われ、当該画素領域６０７ａに対応する描画候補ノズルがｎ−１個である場合には、対応する全ての描画候補ノズルを描画ノズルに設定する。一方、画素領域６０７ａに対応する描画候補ノズルがｎ個である場合には、ｎ個の描画候補ノズルのうちの、ｎ−１個の描画候補ノズルを描画ノズルに設定する。この場合、画素領域６０７ａに対応するｎ個の描画候補ノズルのうち、当該画素領域６０７ａのＹ軸中心位置Ｃｙにより近い位置（すなわちよりセンター寄り）にあるｎ−１個の描画候補ノズルを描画ノズルとして設定する。これにより、ワークＷの各画素領域６０７ａに対し、ｎ−１個の描画ノズル（吐出ノズル６８）がそれぞれ対応することになる。

そして、描画ノズルの設定が終了すると、主走査が開始される。主走査における機能液滴吐出ヘッド５３の吐出駆動は、描画ノズルの設定に基づいて行われ、描画ノズルに設定された吐出ノズル６８のみを用いて、ワークＷに描画を行ってゆく。これにより、第１描画による描画が実現され、非描画ノズルから機能液が吐出されることが無いと共に、各画素領域６０７ａには、対応する描画ノズルから、同量の機能液滴が同一ショット数吐出されるようになっている。なお、描画ノズルの設定は、副走査を行う毎に繰り返し行われ、副走査によるヘッドユニットのＹ軸方向への位置ずれに対応できるようになっている。

図７の場合を例に、第１描画が選択されたときのフローをより具体的に説明する。なお、説明の便宜のため、図示した１２個の吐出ノズル６８を左から順にａ〜ｌとし、図示した４個の画素領域６０７ａを左から順にＡ〜Ｄとする。先ず、描画候補ノズルの特定が行われ、吐出ノズル６８ａ〜ｌの中から、吐出ノズル６８ａ、ｂ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｋ、ｌが画素領域６０７ａＡ〜Ｄの描画候補ノズルとして特定される。

続いて、各画素領域６０７ａに対する描画ノズルの設定が行われる。画素領域６０７ａＡは、対応する描画候補ノズルが２個であるため、当該画素領域６０７ａＡに対応する全描画候補ノズル、すなわち吐出ノズル６８ａ、ｂが描画ノズルに設定される。同様に、画素領域６０７ａＤについては、吐出ノズル６８ｋ、ｌが描画ノズルに設定される。一方、画素領域６０７ａＢには、吐出ノズルｄ、ｅ、ｆの３個が描画候補ノズルとして対応しているため、画素領域６０７ａＢのＹ軸中心位置に近い順に、２個の吐出ノズルｅ、ｄが描画ノズルに設定される。同様に、画素領域６０７ａＣでは、描画候補ノズルとして特定された３個の吐出ノズル６８ｄ、ｅ、ｆから、吐出ノズル６８ｈ、ｉの２個が描画ノズルに設定される。

このように描画ノズルが設定された後、主走査が行われ、画素領域６０７ａＡには、吐出ノズル６８ａ、ｂから、画素領域６０７ａＢには、吐出ノズル６８ｄ、ｅから、画素領域６０７ａＣには、吐出ノズル６８ｈ、ｉ、画素領域６０７ａＤには、吐出ノズル６８ｋ、ｌから機能液滴が吐出される。

次に、第２描画が選択された場合のフローについて説明する。第２描画が選択されると、描画処理の主走査に先立ち、第２設定処理が為される。第２設定処理では、１描画ラインを構成する吐出ノズル６８について、描画ノズル（実有効ノズル）の設定が行われた後、描画ノズルに設定された各吐出ノズル６８から、各画素領域６０７ａに対して吐出させる機能液滴のショット数が設定される。なお、第１設定処理と同様に、第２設定処理も副走査を行う毎に繰り返し行われる。

第２描画では、画素領域６０７ａに対応する全ての吐出ノズル６８（有効ノズル）を用いることになるため、第２設定処理では、上述した描画候補ノズルを特定する場合と略同様の方法で描画ノズルの設定が為される（すなわち、有効ノズル数＝実有効ノズル数）。

ショット数の設定は、ｎ−１個またはｎ個の吐出ノズル６８を用いて各画素領域６０７ａに描画を行う第１描画または第２描画において、各画素領域６０７ａに吐出される機能液量（総量）を均一にするために行うものである。そして、各吐出ノズル６８から吐出される機能液滴の体積を一定とした場合、ｎ−１個の描画ノズルが対応した画素領域６０７ａに描画を行う吐出ノズル６８のショット数をＳ１、ｎ個の描画ノズルが対応した画素領域６０７ａに描画を行う吐出ノズル６８のショット数をＳ２としたときに、（ｎ−１）×Ｓ１＝ｎ×Ｓ２の関係を満たすように、描画ノズルに設定された各吐出ノズル６８のショット数をそれぞれ設定する。

なお、ショット数の設定に代え、機能液滴吐出ヘッド５３に印加する電圧（駆動波形）を設定するようにしても同様の効果を得ることが可能である。すなわち、各吐出ノズル６８から吐出させるショット数を一定とし、ｎ−１個の描画ノズルが対応した画素領域６０７ａに描画を行う吐出ノズル６８から吐出される機能液滴の体積をＶ１、ｎ個の描画ノズルが対応した画素領域６０７ａに描画を行う吐出ノズル６８から吐出される機能液滴の体積をＶ２としたときに、（ｎ−１）×Ｖ１＝ｎ×Ｖ２を満たすようにすればよい。

ショット数の設定が終了すると、主走査が開始され、上記設定に基づいて機能液滴吐出ヘッドの選択的な吐出駆動が行われる。これにより、第１描画または第２描画による描画が実現され、各画素領域６０７ａには、均一な量の機能液滴が吐出されるようになっている。

図８の場合を例に、第２描画が選択されたときのフローをより具体的に説明する。なお、ここでも説明の便宜のため、図示した１２個の吐出ノズル６８を左から順にａ〜ｌとし、図示した４個の画素領域６０７ａを左から順にＡ〜Ｄとした。先ず、第２設定処理における描画ノズルの設定が為され、吐出ノズル６８ａ、ｂ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｋ、ｌが描画ノズル、吐出ノズル６８ｃ、ｊが非描画ノズルとされる。

続いて、描画ノズルに設定された吐出ノズル６８のそれぞれについてショット数の設定が為される。図９（ａ）に示すように、画素領域６０７ａＡおよびＤは、２個の描画ノズルが対応しているため、これらの画素領域６０７ａＡおよびＤに対して機能液滴を吐出させる吐出ノズル６８ａ、ｂ、ｋ、ｌのショット数はＳ１（例えば、Ｓ１＝３）に設定される。一方、画素領域６０７ａＢおよびＣは、３個の描画ノズルが対応しているため、これらの画素領域６０７ａＢおよびＣに対して機能液滴を吐出させる吐出ノズル６８ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉのショット数はＳ２（例えば、Ｓ２＝２）に設定される。

なお、機能液滴吐出ヘッド５３に印加する電圧を調整する場合、画素領域６０７ａＡおよびＤに対して機能液滴を吐出させる吐出ノズル６８ａ、ｂ、ｋ、ｌから吐出される機能液の体積がＶ１（例えば、Ｖ１＝３）、画素領域６０７ａＢおよびＣに対して機能液滴を吐出させる吐出ノズル６８ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉから吐出される機能液の体積がＶ２（例えば、Ｖ１＝２）となるようにすればよい（図９（ｂ）参照）。

このような設定の後、主走査が行われる。画素領域６０７ａＡには、ショット数Ｓ１で吐出ノズル６８ａ、ｂから、画素領域６０７ａＢには、ショット数Ｓ２で吐出ノズル６８ｄ、ｅから、画素領域６０７ａＣには、ショット数Ｓ２で吐出ノズル６８ｈ、ｉから、画素領域６０７ａＤには、ショット数Ｓ１で吐出ノズル６８ｋ、ｌから機能液滴が吐出される。

次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。

先ず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１０は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１１は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ６００（フィルタ基体６００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図１１（ａ）に示すように、基板（Ｗ）６０１上にブラックマトリクス６０２を形成する。ブラックマトリクス６０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。

続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス６０２上に重畳する状態でバンク６０３を形成する。即ち、まず図１１（ｂ）に示すように、基板６０１及びブラックマトリクス６０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層６０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム６０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図１１（ｃ）に示すように、レジスト層６０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層６０４をパターニングして、バンク６０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク６０３とその下のブラックマトリクス６０２は、各画素領域６０７ａを区画する区画壁部６０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド５３により着色層（成膜部）６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。

以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体６００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク６０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）６０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク６０３（区画壁部６０７ｂ）に囲まれた各画素領域６０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。

次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図１１（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド５３によって機能液滴を吐出して区画壁部６０７ｂで囲まれた各画素領域６０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド５３を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。

その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する。着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図１１（ｅ）に示すように、基板６０１、区画壁部６０７ｂ、および着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂの上面を覆うように保護膜６０９を形成する。
即ち、基板６０１の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜６０９が形成される。
そして、保護膜６０９を形成した後、カラーフィルタ６００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。

図１２は、上記のカラーフィルタ６００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置６２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ６００は図１１に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。

この液晶装置６２０は、カラーフィルタ６００、ガラス基板等からなる対向基板６２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層６２２により概略構成されており、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板６２１およびカラーフィルタ６００の外面（液晶層６２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板６２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。

カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層側）には、図１２において左右方向に長尺な短冊状の第１電極６２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６２３のカラーフィルタ６００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜６２４が形成されている。
一方、対向基板６２１におけるカラーフィルタ６００と対向する面には、カラーフィルタ６００の第１電極６２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極６２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極６２６の液晶層６２２側の面を覆うように第２配向膜６２７が形成されている。これらの第１電極６２３および第２電極６２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。

液晶層６２２内に設けられたスペーサ６２８は、液晶層６２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材６２９は液晶層６２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極６２３の一端部は引き回し配線６２３ａとしてシール材６２９の外側まで延在している。
そして、第１電極６２３と第２電極６２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。

通常の製造工程では、カラーフィルタ６００に、第１電極６２３のパターニングおよび第１配向膜６２４の塗布を行ってカラーフィルタ６００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板６２１に、第２電極６２６のパターニングおよび第２配向膜６２７の塗布を行って対向基板６２１側の部分を作成する。その後、対向基板６２１側の部分にスペーサ６２８およびシール材６２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材６２９の注入口から液晶層６２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。

実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板６２１側の部分にカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる前に、シール材６２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材６２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド５３で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜６２４，６２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド５３で行うことも可能である。

図１３は、本実施形態において製造したカラーフィルタ６００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置６３０が上記液晶装置６２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ６００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置６３０は、カラーフィルタ６００とガラス基板等からなる対向基板６３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層６３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板６３１およびカラーフィルタ６００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。

カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層６３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極６３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６３３の液晶層６３２側の面を覆うように第１配向膜６３４が形成されている。
対向基板６３１のカラーフィルタ６００と対向する面上には、カラーフィルタ６００側の第１電極６３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極６３６が所定の間隔で形成され、この第２電極６３６の液晶層６３２側の面を覆うように第２配向膜６３７が形成されている。

液晶層６３２には、この液晶層６３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ６３８と、液晶層６３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材６３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置６２０と同様に、第１電極６３３と第２電極６３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。

図１４は、本発明を適用したカラーフィルタ６００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置したものである。

この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００と、これに対向するように配置された対向基板６５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ６００の上面側（観測者側）に配置された偏光板６５５と、対向基板６５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ６００の保護膜６０９の表面（対向基板６５１側の面）には液晶駆動用の電極６５６が形成されている。この電極６５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極６６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極６５６の画素電極６６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜６５７が設けられている。

対向基板６５１のカラーフィルタ６００と対向する面には絶縁層６５８が形成されており、この絶縁層６５８上には、走査線６６１及び信号線６６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた領域内には画素電極６６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極６６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。

また、画素電極６６０の切欠部と走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ６６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線６６１と信号線６６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ６６３をオン・オフして画素電極６６０への通電制御を行うことができるように構成されている。

なお、上記の各例の液晶装置６２０，６３０，６５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。

次に、図１５は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置７００と称する）の要部断面図である。

この表示装置７００は、基板（Ｗ）７０１上に、回路素子部７０２、発光素子部７０３及び陰極７０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置７００においては、発光素子部７０３から基板７０１側に発した光が、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部７０３から基板７０１の反対側に発した光が陰極７０４により反射された後、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。

回路素子部７０２と基板７０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜７０６が形成され、この下地保護膜７０６上（発光素子部７０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜７０７が形成されている。この半導体膜７０７の左右の領域には、ソース領域７０７ａ及びドレイン領域７０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域７０７ｃとなっている。

また、回路素子部７０２には、下地保護膜７０６及び半導体膜７０７を覆う透明なゲート絶縁膜７０８が形成され、このゲート絶縁膜７０８上の半導体膜７０７のチャネル領域７０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極７０９が形成されている。このゲート電極７０９及びゲート絶縁膜７０８上には、透明な第１層間絶縁膜７１１ａと第２層間絶縁膜７１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜７１１ａ、７１１ｂを貫通して、半導体膜７０７のソース領域７０７ａ、ドレイン領域７０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール７１２ａ，７１２ｂが形成されている。

そして、第２層間絶縁膜７１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極７１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極７１３は、コンタクトホール７１２ａを通じてソース領域７０７ａに接続されている。
また、第1層間絶縁膜７１１ａ上には電源線７１４が配設されており、この電源線７１４は、コンタクトホール７１２ｂを通じてドレイン領域７０７ｂに接続されている。

このように、回路素子部７０２には、各画素電極７１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ７１５がそれぞれ形成されている。

上記発光素子部７０３は、複数の画素電極７１３上の各々に積層された機能層７１７と、各画素電極７１３及び機能層７１７の間に備えられて各機能層７１７を区画するバンク部７１８とにより概略構成されている。
これら画素電極７１３、機能層７１７、及び、機能層７１７上に配設された陰極７０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極７１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極７１３の間にバンク部７１８が形成されている。

バンク部７１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂等の無機材料により形成される無機物バンク層７１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層７１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層７１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部７１８の一部は、画素電極７１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部７１８の間には、画素電極７１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部７１９が形成されている。

上記機能層７１７は、開口部７１９内において画素電極７１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層７１７ａと、この正孔注入／輸送層７１７ａ上に形成された発光層７１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層７１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入／輸送層７１７ａは、画素電極７１３側から正孔を輸送して発光層７１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層７１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。

発光層７１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層７１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層７１７ａを再溶解させることなく発光層７１７ｂを形成することができる。

そして、発光層７１７ｂでは、正孔注入／輸送層７１７ａから注入された正孔と、陰極７０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。

陰極７０４は、発光素子部７０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極７１３と対になって機能層７１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極７０４の上部には図示しない封止部材が配置される。

次に、上記の表示装置７００の製造工程を図１６〜図２４を参照して説明する。
この表示装置７００は、図１６に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、及び対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。

まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１７に示すように、第２層間絶縁膜７１１ｂ上に無機物バンク層７１８ａを形成する。この無機物バンク層７１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層７１８ａの一部は画素電極７１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層７１８ａを形成したならば、図１８に示すように、無機物バンク層７１８ａ上に有機物バンク層７１８ｂを形成する。この有機物バンク層７１８ｂも無機物バンク層７１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部７１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部７１８間には、画素電極７１３に対して上方に開口した開口部７１９が形成される。この開口部７１９は、画素領域を規定する。

表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層７１８ａの第１積層部７１８ａａ及び画素電極７１３の電極面７１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極７１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層７１８ｂの壁面７１８ｓ及び有機物バンク層７１８ｂの上面７１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド５３を用いて機能層７１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部７１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。

そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体７００Ａが得られる。この表示装置基体７００Ａは、図１に示した液滴吐出装置１のセットテーブル３１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）及び発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。

図１９に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド５３から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部７１９内に吐出する。その後、図２０に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面７１３ａ）７１３上に正孔注入/輸送層７１７ａを形成する。

次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層７１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層７１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層７１７ａと発光層７１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層７１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層７１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層７１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層７１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａに均一に塗布することができる。

そして次に、図２１に示すように、各色のうちの何れか（図２１の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部７１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層７１７ａ上に広がって開口部７１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部７１８の上面７１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面７１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部７１９内に転がり込み易くなっている。

その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２２に示すように、正孔注入／輸送層７１７ａ上に発光層７１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂが形成されている。

同様に、機能液滴吐出ヘッド５３を用い、図２３に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層７１７ｂを形成する。なお、発光層７１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。

以上のようにして、画素電極７１３上に機能層７１７、即ち、正孔注入／輸送層７１７ａ及び発光層７１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。

対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２４に示すように、発光層７１７ｂ及び有機物バンク層７１８ｂの全面に陰極７０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極７０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極７０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ₂、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。

このようにして陰極７０４を形成した後、この陰極７０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置７００が得られる。

次に、図２５は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置８００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される放電表示部８０３を含んで概略構成される。放電表示部８０３は、複数の放電室８０５により構成されている。これらの複数の放電室８０５のうち、赤色放電室８０５Ｒ、緑色放電室８０５Ｇ、青色放電室８０５Ｂの３つの放電室８０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。

第１基板８０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極８０６が形成され、このアドレス電極８０６と第１基板８０１の上面とを覆うように誘電体層８０７が形成されている。誘電体層８０７上には、各アドレス電極８０６の間に位置し、且つ各アドレス電極８０６に沿うように隔壁８０８が立設されている。この隔壁８０８は、図示するようにアドレス電極８０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極８０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁８０８によって仕切られた領域が放電室８０５となっている。

放電室８０５内には蛍光体８０９が配置されている。蛍光体８０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室８０５Ｒの底部には赤色蛍光体８０９Ｒが、緑色放電室８０５Ｇの底部には緑色蛍光体８０９Ｇが、青色放電室８０５Ｂの底部には青色蛍光体８０９Ｂが各々配置されている。

第２基板８０２の図中下側の面には、上記アドレス電極８０６と直交する方向に複数の表示電極８１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層８１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜８１３が形成されている。
第１基板８０１と第２基板８０２とは、アドレス電極８０６と表示電極８１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極８０６と表示電極８１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極８０６，８１１に通電することにより、放電表示部８０３において蛍光体８０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。

本実施形態においては、上記アドレス電極８０６、表示電極８１１、及び蛍光体８０９を、図１に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板８０１におけるアドレス電極８０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板８０１を液滴吐出装置１のセットテーブル３１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド５３により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。

補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極８０６が形成される。

ところで、上記においてはアドレス電極８０６の形成を例示したが、上記表示電極８１１及び蛍光体８０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極８１１の形成の場合、アドレス電極８０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体８０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド５３から液滴として吐出し、対応する色の放電室８０５内に着弾させる。

次に、図２６は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置９００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置９００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置９００は、互いに対向して配置された第１基板９０１、第２基板９０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部９０３を含んで概略構成される。電界放出表示部９０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部９０５により構成されている。

第１基板９０１の上面には、カソード電極９０６を構成する第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ９０８を形成した導電性膜９０７が形成されている。すなわち、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７により複数の電子放出部９０５が構成されている。導電性膜９０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ９０８は、導電性膜９０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。

第２基板９０２の下面には、カソード電極９０６に対峙するアノード電極９０９が形成されている。アノード電極９０９の下面には、格子状のバンク部９１１が形成され、このバンク部９１１で囲まれた下向きの各開口部９１２に、電子放出部９０５に対応するように蛍光体９１３が配置されている。蛍光体９１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部９１２には、赤色蛍光体９１３Ｒ、緑色蛍光体９１３Ｇおよび青色蛍光体９１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。

そして、このように構成した第１基板９０１と第２基板９０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置９００では、導電性膜（ギャップ９０８）９０７を介して、陰極である第１素子電極９０６ａまたは第２素子電極９０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極９０９に形成した蛍光体９１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。

この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ、導電性膜９０７およびアノード電極９０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体９１３Ｒ，９１３Ｇ，９１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。

第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７は、図２７（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２７（ｂ）に示すように、予め第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜９０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜９０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板９０１および第２基板９０２に対する親液化処理や、バンク部９１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。

また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。

本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の外観斜視図である。本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の正面図である。ヘッドプレート廻りの平面図である。機能液滴吐出ヘッドの説明図であり、（ａ）は、その外観斜視図、（ｂ）はヘッドプレートに機能液滴吐出ヘッドを装着したときの断面図である。液滴吐出装置の主制御系について説明したブロック図である。ワークの模式説明図であり、画素領域と吐出ノズルとの位置関係を示した図である。第１描画の模式説明図であり、画素領域と吐出ノズルとの位置関係を示すと共に、第１描画により描画したときにおける機能液塊の形状、および断面図を示した図である。第２描画の模式説明図であり、画素領域と吐出ノズルとの位置関係を示すと共に、第２描画により描画したときにおける機能液塊の形状、および断面図を示した図である。第２描画の説明図であり、（ａ）はショット数設定に関する説明図、（ｂ）は、各吐出ノズルから吐出される機能液滴の体積設定に関する説明図である。カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。無機物バンク層の形成を説明する工程図である。有機物バンク層の形成を説明する工程図である。正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。陰極の形成を説明する工程図である。プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。

符号の説明

１液滴吐出装置５制御装置
１２Ｘ軸テーブル５３機能液滴吐出ヘッド
６８吐出ノズル
Ｗワーク

Claims

複数の画素領域を主走査方向および副走査方向に配列した基板に対し、前記副走査方向における前記複数の画素領域の画素ピッチが非整数倍となるノズルピッチの複数のノズルを有するために、任意の１の前記画素領域に機能液滴を着弾可能な有効ノズルがｎ−１個の場合とｎ個の場合とが生ずる機能液滴吐出ヘッドを、前記主走査方向に相対的に移動させながら、複数の前記有効ノズルから機能液滴を吐出・着弾させて描画動作を行う液滴吐出装置の描画方法であって、
ｎ個の前記有効ノズルのうちの前記画素領域に対しセンター寄りｎ−１個の前記有効ノズルを実有効ノズルとし、前記複数の画素領域に対し、ｎ−１個の前記有効ノズルおよびｎ−１個の前記実有効ノズルを駆動して描画動作を行う第１描画と、
前記複数の画素領域に対し、着弾可能なｎ−１個およびｎ個の前記有効ノズルを駆動して描画動作を行う第２描画と、が実行可能であり、
前記基板の種別に応じて、前記第１描画と前記第２描画とを使い分けて実行することを特徴とする液滴吐出装置の描画方法。
前記第２描画おいて、任意の１の前記画素領域に対し、ｎ−１個の前記有効ノズルとｎ個の前記有効ノズルとの着弾液滴量が同一となるように、前記各有効ノズルの機能液滴吐出量を一定とし吐出回数を制御することを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置の描画方法。
前記第２描画において、任意の１の前記画素領域に対し、ｎ−１個の前記有効ノズルとｎ個の前記有効ノズルとの着弾液滴量が同一となるように、前記各有効ノズルの吐出回数を一定とし機能液滴吐出量を制御することを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置の描画方法。
複数の画素領域を主走査方向および副走査方向に配列した基板に対し、前記副走査方向における前記複数の画素領域の画素ピッチが非整数倍となるノズルピッチの複数のノズルを有するために、任意の１の前記画素領域に機能液滴を着弾可能な有効ノズルがｎ−１個の場合とｎ個の場合とが生ずる機能液滴吐出ヘッドを、前記主走査方向に相対的に移動させながら、前記複数の前記有効ノズルから機能液滴を吐出・着弾させて描画動作を行う液滴吐出装置であって、
前記機能液滴吐出ヘッドと、
前記機能液滴吐出ヘッドを搭載すると共に、前記基板に対し前記機能液滴吐出ヘッドを前記主走査方向に相対的に移動させる移動手段と、
前記移動手段を制御すると共に前記複数のノズルをそれぞれ駆動し、ｎ個の前記有効ノズルのうちの前記画素領域に対しセンター寄りｎ−１個の前記有効ノズルを実有効ノズルとし、前記複数の画素領域に対し、ｎ−１個の前記有効ノズルおよびｎ−１個の前記実有効ノズルを駆動して描画動作を行う第１描画と、前記複数の画素領域に対し、着弾可能なｎ−１個およびｎ個の前記有効ノズルを駆動して描画動作を行う第２描画と、を実行可能な制御手段と、
前記基板と前記機能液滴吐出ヘッドとのアライメントに基づいて、前記有効ノズルおよび前記実有効ノズルを特定するノズル特定手段と、
前記第１描画と前記第２描画とを切り替える描画切り替え手段と、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
前記制御手段は、前記第２描画において、任意の１の前記画素領域に対し、ｎ−１個の前記有効ノズルとｎ個の前記有効ノズルとの着弾液滴量が同一となるように、前記各有効ノズルの機能液滴吐出量を一定とし吐出回数を制御することを特徴とする請求項４に記載の液滴吐出装置。
前記制御手段は、前記第２描画において、任意の１の前記画素領域に対し、ｎ−１個の前記有効ノズルとｎ個の前記有効ノズルとの着弾液滴量が同一となるように、前記各有効ノズルの吐出回数を一定とし機能液滴吐出量を制御することを特徴とする請求項４に記載の液滴吐出装置。
請求項４ないし６のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記基板上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。