BR112014016393B1 - processo para produzir um sistema eletroluminescente conformado - Google Patents

Abstract

PROCESSO PARA PRODUZIR UM SISTEMA ELETROLUMINESCENTE CONFORMADO. Um processo para a produção de um sistema eletroluminescente conformado. Uma camada de película backplane de base eletricamente condutora (16) é aplicada sobre um substrato (12). Uma camada de película dielétrica (18) é aplicada sobre a camada de película backplane (16), em seguida, uma camada de película de fósforo (20) é aplicada sobre a camada de película dielétrica (18). Uma camada de película de eletrodo (22) é aplicada sobre a camada de película de fósforo (20), utilizando um material substancialmente transparente, condutor de eletricidade. Uma barra de baramento condutora de eletricidade (24) pode ser aplicada sobre a camada de película de eletrodo (22). De preferência, a camada de película backplane (16), a camada de película dielétrica (18), a camada de película de fósforo (20), a camada de película de eletrodo (22) e a barra de barramento (24) são de base aquosa e são aplicados por revestimento conformado por pulverização.

Description

[0001] Este pedido reivindica prioridade do pedido de patente dos EUA 13/677.864, depositado em 15 de Novembro de 2012 que é uma continuação do pedido de patente dos EUA 13/624.910, apresentado em 22 de setembro de 2012, que reivindica a prioridade de pedido provisório do pedido de patente dos EUA 61/582.581, depositado em 3 de janeiro de 2012. Todo o conteúdo de cada um destes pedidos são aqui incorporados por referência.

CAMPO TÉCNICO

[0002] A presente invenção refere-se a um sistema para a produção de dispositivos eletroluminescentes com uma camada de eletrodo backplan inferior e uma camada de eletrodo superior, as camadas de eletrodos inferior e superior sendo ligadas a um circuito de condução elétrica. Uma ou mais camadas funcionais estão dispostas entre as camadas de eletrodos superior e inferior de modo a formar pelo menos uma área eletroluminescente.

FUNDAMENTOS DA INVENÇÃO

[0003] Desde os anos 1980, a tecnologia eletroluminescente (EL) entrou em amplo uso em dispositivos de exibição onde o seu relativamente baixo consumo de energia, brilho relativo e capacidade de ser formado em configurações de película relativamente fina têm mostrado que é preferível diodos emissores de luz (LEDs) e tecnologias incandescentes para muitas aplicações.

[0004] Dispositivos comercialmente fabricados têm sido tradicionalmente produzidos utilizando revestimento de lâmina e processos de impressão, tais como impressão de tela ou, mais recentemente, a impressão a jato de tinta. Para aplicações que requerem dispositivos relativamente planos EL, estes processos têm funcionado razoavelmente bem, como eles se prestam à produção de alto volume com controle de qualidade relativamente eficiente e confiável.

[0005] No entanto, os processos tradicionais são inerentemente auto-limitantes para aplicações em que é desejável para um dispositivo EL a uma superfície tendo topologias complexas, tais como convexa, côncava e superfícies recurvadas. Soluções parciais foram desenvolvidas em que uma película fina relativamente EL "decalque" é aplicada a uma superfície, sendo o decalque posteriormente encapsulado dentro de uma matriz de polímero. Enquanto moderadamente bem sucedido, este tipo de solução tem várias fraquezas inerentes. Em primeiro lugar, enquanto decalques podem ser aceitáveis em conformidade com leves topologias côncavas / convexas, eles são incapazes de se conformar com curvas de raio apertado, sem esticar ou gerar rugas. Além disso, o próprio decalque não forma qualquer um produto químico ou uma ligação mecânica com um polímero de encapsulação, essencialmente restante um objeto estranho incorporado dentro da matriz de encapsulação. Essas deficiências apresentam dificuldades na fabricação e ciclo de vida do produto, como lâmpadas EL-embebidas de decalque aplicadas a topologias complexas são difíceis de produzir e são suscetíveis a delaminação devido a tensões mecânicas, térmicas e da exposição a longo prazo à radiação ultravioleta (UV). Continua a existir uma necessidade de um modo para produzir uma lâmpada EL, que é compatível com os itens tendo uma superfície incorporando topologias complexas.

SUMÁRIO DA INVENÇÃO

[0006] Um processo é revelado de acordo com uma forma de realização da presente invenção em que um dispositivo EL é "pintado" sobre uma superfície ou "substrato" de um ponto de destino para o qual o dispositivo EL é para ser aplicado. A presente invenção é aplicada ao substrato de uma série de camadas, cada um dos quais executa uma função específica da parte integrante do processo.

[0007] Um objetivo da presente invenção é um processo para a produção de um sistema de eletroluminescente conformado. O processo inclui a etapa de selecionar um substrato. A camada de película backplane de base é aplicada sobre o substrato de seleção usando, um material backplane eletricamente condutor de base aquosa. Uma camada de película dielétrica é aplicada sobre a camada de película backplane utilizando um material dielétrico à base aquosa. Uma camada de película de fósforo é aplicada sobre a camada de película dielétrica usando um material de fósforo, com base aquosa, a camada de película de fósforo sendo excitada por uma fonte de radiação ultravioleta durante a aplicação. A fonte de radiação ultravioleta fornece indicações visuais, enquanto a camada de película de fósforo está sendo aplicada, bem como a aplicação da camada de película de fósforo é ajustada em resposta aos sinais visuais para aplicar uma distribuição geralmente uniforme do material de fósforo sobre a camada de película dielétrica. Uma camada de película de eletrodo é aplicada sobre a camada de película de fósforo usando um, substancialmente transparente, material de eletrodo eletricamente condutor de base aquosa. A camada de película backplane, camada de película dielétrica, camada de película de fósforo, e camada de película de eletrodo são cada uma de preferência aplicada por revestimento isolante por spray. A camada de película de fósforo é excitável por um campo elétrico estabelecido através da camada de película de fósforo sob a aplicação de uma carga elétrica entre a camada de película backplane e a camada de película de eletrodo de tal modo que a camada de película de fósforo emite luz eletroluminescente.

BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS

[0008] Outras características de modos de realização da invenção serão evidentes para os peritos na arte para os quais as formas de realização dizem respeito a partir da leitura da especificação e reivindicações com referência aos desenhos anexos, em que: Fig. 1 é um diagrama de camada esquemático de uma lâmpada EL de acordo com uma concretização do presente invento; Fig. 2 é um diagrama de fluxo de um processo para a produção de lâmpadas eletroluminescentes de acordo com uma forma de realização da presente invenção; Fig. 3 é um diagrama esquemático de uma camada de lâmpada EL mostrando encaminhamento dos elementos condutores de acordo com uma forma de realização da presente invenção; Fig. 4 é um diagrama esquemático de uma camada de lâmpada EL mostrando encaminhamento dos elementos condutores de acordo com uma outra forma de realização da presente invenção; Fig. 5 é um diagrama de fluxo de um processo para aplicar uma camada de fósforo de acordo com uma forma de realização da presente invenção; Fig. 6 é um diagrama esquemático de uma camada de lâmpada EL tendo um revestimento de cor de acordo com uma forma de realização da presente invenção; Fig. 7 é um diagrama de camada esquemático mostrando luz sendo refletida pelo revestimento de cor da Figura 6 e dando efeito de cor para a luz; Fig. 8 é um diagrama esquemático mostrando a camada de luz que passa através do revestimento de cor da Figura 6, proporcionando um efeito de cor de aumento de luz refletida; Fig. 9 é um diagrama de camada esquemático de lâmpada EL de múltiplas camadas com fios da camada superior de acordo com uma forma de realização da presente invenção; Fig. 10 é um diagrama de camada esquemático de lâmpada EL de múltiplas camadas com fios de camada inferior de acordo com uma outra forma de realização da presente invenção; Fig. 11 é um diagrama de camada esquemático de lâmpada EL de múltiplas camadas com fios de dupla camada de acordo com ainda uma outra forma de realização da presente invenção; Fig. 12 é um diagrama esquemático de uma camada de múltiplas camadas com fios de Lâmpada EL de dupla camada de acordo com ainda uma outra forma de realização da presente invenção; e Fig. 13 é um diagrama de camada esquemático de lâmpada EL tendo um substrato transparente de acordo com ainda uma outra forma de realização da presente invenção.

DESCRIÇÃO DETALHADA DA INVENÇÃO

[0009] Na descrição que se segue, os mesmos números de referência são usados para referir-se a elementos semelhantes e estruturas nas várias Figuras.

[0010] A disposição geral de uma lâmpada de EL conformada 10 é mostrada na Fig.1 de acordo com uma forma de realização da presente invenção. A lâmpada EL 10 compreende um substrato 12, uma camada primária 14, uma camada de eletrodo backplane eletricamente condutora 16, uma camada dielétrica 18, uma camada de fósforo de 20, um eletrodo superior eletricamente condutor, substancialmente transparente 22, uma barra de barramento 24 e uma camada de encapsulação opcional 26. O substrato 12 pode ser uma superfície selecionada de qualquer item alvo adequado sobre o qual a lâmpada EL 10 é para ser aplicada. O substrato 12 pode ser condutivo ou não condutivo e pode ter qualquer combinação desejada de superfícies convexas, côncavas e recurvadas. Em algumas formas de realização da presente invenção, o substrato 12 é um material transparente tal como, sem limitação, de vidro ou de plástico.

[0011] A camada de primer 14 é uma película de revestimento não condutora aplicada ao substrato 12. A camada de primer 14 serve para isolar eletricamente o substrato 12 a partir de camadas condutoras e semicondutoras subsequentes, discutidas mais adiante. A camada de primer 14 também promove de preferência a adesão entre o substrato 12 e camadas subsequentes.

[0012] O backplane condutor 16 é uma camada de revestimento de película que é de preferência mascarada sobre camada de primer 14 de modo a formar um eletrodo de fundo da lâmpada EL 10. O backplane condutor 16 é, de preferência, um material condutor pulverizável e pode formar o esboço do "campo" EL da lâmpada EL 10 acabada. O material selecionado para o backplane 16 pode ser adaptado conforme desejado para atender às diversas exigências ambientais e de aplicação. Em uma forma de realização backplane 16 é feito utilizando um material altamente condutor, geralmente opaco. Exemplos de tais materiais incluem, sem limitação, uma solução de carga com prata álcool / base de látex, tais como SILVASPRAY ™ disponível a partir de Caswell, Inc. de Lyons Nova Iorque, e um látex à base de água, a solução de cobre em carga, tal como "Caswell Cobre "cobre tinta condutiva, também disponível a partir de Caswell, Inc.

[0013] Numa concretização, uma quantidade predeterminada de flocos de prata pode ser misturada com a tinta condutora de cobre. Testes empíricos mostram que a adição de prata em floco melhora significativamente o desempenho da tinta condutora de cobre, sem afectar adversamente as suas características relativamente compatíveis com o ambiente.

[0014] Como uma alternativa a Caswell SILVASPRAY ™ ou Caswell cobre, flocos de prata podem ser misturados com uma solução de uma solução aquosa à base de estireno copolímero acrílico (discutido mais adiante) e amônia para encapsular a prata para aplicação a uma superfície preparada (isto é, substrato) como um material de backplane 16.

[0015] O backplane condutor 16 pode também ser um revestimento metálico, em que um material metálico condutor adequado é aplicado a um substrato não condutor 12, utilizando qualquer processo adequado para o metal seleciona chapeamento. Tipos de exemplo de metalização incluem, sem limitação, chapeamento eletroless, metalização a vácuo, deposição de vapor e sputtering. De preferência, o backplane eletricamente condutor resultante 16 tem uma resistência relativamente baixa para minimizar os gradientes de tensão em toda a superfície da backplane para permitir o funcionamento adequado do sistema eletroluminescente (isto é, o brilho da lâmpada suficiente e uniformidade de brilho). Em algumas formas de realização da resistência de uma backplane chapeada 16 é, de preferência, menos do que cerca de um ohm por centímetro quadrado de área de superfície.

[0016] O backplane condutor 16 pode também ser uma camada eletricamente condutora, geralmente clara, tais como, sem limitação, "CLEVIOS ™ S V3" e ou "CLEVIOS ™ S V4" polímeros condutores, disponível a partir de Heraeus GmbH Clevios de Leverkusen, Alemanha. Esta configuração pode ser preferida para utilização com artigos alvo possuindo geralmente substratos transparentes, tais como vidro e plástico, e para formas de realização em que um total de aplicação de camadas mais finas para Lâmpada EL 10 é desejada.

[0017] A camada dielétrica 18 é uma camada de revestimento de película eletricamente não condutora que compreende um material (tipicamente de titanato de bário - BaTiO3) que possui propriedades constantes dielétricas elevadas encapsuladas dentro de uma matriz de polímero isolante tendo características de permissividade relativamente elevadas (ou seja, um índice de capacidade de um dado material a transmitir um campo eletromagnético). Em uma forma de realização da presente invenção da camada dielétrica 18, compreende cerca de 2: 1 de solução de copolímero e hidróxido de amônio diluído. A esta solução uma quantidade de BaTi0 3 , o qual foi pré-humedecido em hidróxido de amônio, é adicionada para formar uma suspensão supersaturada. Em várias formas de realização da presente invenção a camada dielétrica 18 pode compreender, pelo menos, um de um titanato, um óxido, um niobato, um aluminato, um tantalato, e um material de zirconato, entre outros.

[0018] A camada dielétrica 18 serve a duas funções. Em primeiro lugar, a camada dielétrica 18 fornece uma barreira de isolamento entre a camada de backplane 16 e a sobreposta fósforo semi-condutora 20, eletrodo superior 22 e barramento de 24 camadas. Além disso, por causa das características de polarização eletromagnéticos únicas dos materiais dielétricos, a camada dielétrica 18 serve para melhorar o desempenho do campo eletromagnético gerado entre a backplane 16 e superior do eletrodo 22 camadas, quando um sinal AC 28 é aplicada entre o backplane e o início eletrodo, o sinal AC gerando um campo elétrico ou carga elétrica entre o backplane e no topo do eletrodo. Além disso, apesar de ser um isolador elétrico eficaz, a alta qualidade do dielétrico do BaTi0 3 e a elevada permissividade da matriz polimérica são altamente permeáveis ao campo eletrostático gerado entre 16 e backplane de topo do eletrodo 22

[0019] Além disso, em aplicações de camada múltipla de lâmpadas EL uma camada dielétrica 18 que tem qualidades fotorrefrativas pode ser selecionada, em que o índice de refração da camada dielétrica é afetado por um campo elétrico aplicado ao eletrodo backplane 16 e 22 através de um sinal de CA 28 (Fig. 1). Estas qualidades fotorrefrativas do material da camada dielétrica 18 podem ser utilizada para facilitar a propagação da luz através de camadas sobrepostas da lâmpada EL. Um material de exemplo não limitativo tendo propriedades fotorrefrativas é BaTiO3 .

[0020] A camada de fósforo 20 é uma camada de revestimento de película semicondutora composta de um material (tipicamente dopado com metal de zinco sulfeto (ZnS)) encapsulado dentro de uma matriz de polímero altamente permeável eletrostaticamente. Quando excitado pela presença de um campo eletrostático alternada gerada pelo sinal AC 28, o ZnS dopada absorve a energia do campo, o qual, por sua vez re-emite como um fotão de luz visível ao voltar ao seu estado fundamental. Camada de fósforo 20 serve duas funções. Em primeiro lugar, enquanto o Zinco Sulfeto de fósforo dopado com metal é tecnicamente classificado como um semicondutor, quando encapsulado dentro da matriz de copolímero, é mais efetivamente fornece uma barreira adicional de isolamento entre o backplane 16 camada eo eletrodo superior sobreposta 22 e barramento de 24 camadas. Além disso, uma vez excitadas pela presença de um campo eletromagnético alternativo, a camada de fósforo 20 emite luz visível.

[0021] Em uma forma de realização da presente invenção a camada de fósforo 20 compreende cerca de 2:1 de solução de copolímero e hidróxido de amônio diluído. A esta solução, uma quantidade de zinco do sulfureto fósforos baseadas dopado com metais dopados com pelo menos um de cobre, manganês e a prata (isto é, o ZnS: Cu, Mn, Ag, etc) pré-molhadas numa solução de hidróxido de amônio diluído é adicionado ao formar uma suspensão supersaturada.

[0022] De preferência, uma solução de copolímero acrílico estireno de base aquosa (daqui em diante "copolímero") é utilizada como uma matriz encapsulante tanto para camada dielétrica 18 e camada de fósforo 20. Este material é adequado para o fim-de proximidade e de contacto de longa duração sem impacto adverso para os organismos ou o ambiente. Um exemplo de copolímero é Matriz de polímero DURAPLUS ™, disponível a partir do Dow Chemical Company de Midland, Michigan. Uma vantagem significativa de o copolímero é que proporciona um mecanismo de ligação quimicamente benigna e versátil para uma variedade de opções de sub-e topo-de revestimento sobre um substrato seleciona 12. Hidróxido de amônio pode ser utilizado como um diluente / agente de secagem para o copolímero.

[0023] Durante a produção de lâmpada EL 10, depois os componentes voláteis da solução de copolímero de camada dielétrica 18 e camada de fósforo 20 ter sido eliminado (tipicamente por evaporação) durante um processo de cura, os revestimentos resultantes são largamente quimicamente inerte. Como tal, a camada dielétrica 18 e camada de fósforo 20 revestimentos não prontamente reagir quimicamente com sub-ou sobre-deitado camadas e, como resultado, encapsula e protege as distribuições de camada de partícula de fósforo 20 e dielétrica homogêneas.

[0024] Quimicamente, durante um processo de cura, as extremidades abertas de um copolímero de camada dielétrica 18 e camada de fósforo 20 de cadeia longa são expostas. Isto proporciona um mecanismo pronto para a criação de uma forte ligação mecânica entre as camadas quimicamente diferentes, como a cadeia de polímero exposto termina essencialmente funcionar como um "gancho" análogo à porção de gancho de um prendedor de gancho e laço. Estes ganchos de fornecer uma topologia de superfície relativamente porosa que aceita facilmente a infiltração através da aplicação de uma segunda solução de polímero de cadeia longa. Como as curas camadas secundárias, as extremidades da cadeia de polímero e são expostos essencialmente "malha", com o copolímero exposto acima mencionado termina para formar uma forte ligação mecânica entre as camadas adjacentes.

[0025] O eletrodo superior 22 é uma camada de revestimento de película que é de preferência ambos eletricamente condutora e geralmente transparente para a luz. Top eletrodo 22 pode ser a partir de materiais tais como, sem limitação, polímeros condutores (PEDOT), nanotubos de carbono (CNT), óxido de antimónio estanho (ATO) e o óxido de índio e estanho (ITO). Um produto comercial é preferido CLEVIOS ™ condutoras, transparentes e flexíveis polímeros (disponíveis a partir de Heraeus GmbH Clevios de Leverkusen, Alemanha) diluído em álcool isopropílico como agente diluente / secagem. CLEVIOS ™ condutor polímeros exposição relativamente alta eficácia e são relativamente ambientalmente benigna. Além disso, os polímeros condutores CLEVIOS ™ são baseados em estireno um copolímero e, portanto, proporciona um mecanismo pronto para química reticulação / ligação mecânica com a camada subjacente de fósforo 20.

[0026] Materiais alternativos podem ser selecionados para soluções de eletrodo superior 22, incluindo aqueles que contêm Indium Tin Oxide (ITO) e Antimônio Tin Oxide (ATO). No entanto, estes são menos desejáveis do que CLEVIOS ™ polímeros condutores devido a maiores preocupações ambientais.

[0027] Em algumas formas de realização da presente invenção, pode ser desejável para a camada de eletrodo de backplane 16 para ser geralmente transparente. Em tais casos, qualquer dos materiais acima discutidos para a parte superior do eletrodo 22 pode ser utilizado para a camada de eletrodo de backplane 16.

[0028] A eficiência dos materiais de eletrodo superior 22 é prejudicada por suas exigências operacionais divergentes; que de ambos sendo eletricamente condutora, sendo também geralmente transparentes à luz visível. Como a área de campos iluminada de uma lâmpada EL 10 torna-se maior, de um ponto de retorno decrescente é aproximado em que a espessura da camada de eletrodo superior 22 para conseguir uma resistividade suficientemente baixa para que a distribuição da tensão necessária em toda a camada de eletrodo de topo torna-se opticamente ou inibidor, por outro lado, a espessura da parte superior do eletrodo torna-se inaceitavelmente eletricamente ineficiente. Como resultado, é frequentemente desejável aumentar a camada transparente eletrodo superior 22 com um condutor elétrico mais eficiente próximo do campo iluminado no possível, de modo a minimizar a espessura da camada de eletrodo superior para as características óptimas ópticas. Barramento 24 satisfaz este requisito ao proporcionar uma tira relativamente baixa impedância de material condutor, normalmente composto por um ou mais dos materiais utilizáveis para produzir backplane como condutora 16. Bus barra 24 é normalmente aplicada para a borda periférica do campo iluminado.

[0029] Apesar do barramento 24 ser mostrado geralmente como adjacente à parte superior da camada de eletrodo 22 nas Figuras, na prática, a barra de barramento pode ser aplicado em cima (isto é, no topo) da camada de eletrodo superior. Por outro lado, a camada superior de eletrodo 22 pode ser aplicada em cima (ou seja, em cima) da barra de barramento 24.

[0030] Uma vez aplicado, o eletrodo superior 22 e a barra de barramento 24 são suscetíveis a danos devido a arranhões ou marcação. Depois de curar o topo do eletrodo 22 e do barramento 24, é preferível encapsular a lâmpada EL 10, com uma camada de película de revestimento claro encapsulação 26, tal como um polímero transparente 26 de dureza adequada para proteger a lâmpada EL contra danos. O encapsulamento da camada 26 é, de preferência, um material eletricamente isolante aplicado sobre a Lâmpada EL 10 pilha-se, desse modo protegendo a lâmpada de danos exteriores. O encapsulamento da camada 26 também é de preferência geralmente transparente para a luz emitida pela lâmpada 10 da pilha EL-se e é de preferência, quimicamente compatível com quaisquer previstos materiais de revestimento de topo para o ponto-alvo de substrato 12, que fornecem um mecanismo para o químico e / ou de fixação mecânica com revestimento superior camadas. Camada de encapsulação 26 pode ser constituído por qualquer número de aquosa, esmalte ou de produtos à base de laca.

[0031] Como notado anteriormente, os produtos atuais EL estão limitados a aplicação em superfícies topográficas relativamente simples que são planas ou quase plana. Isto é porque processos baseados em silkscreen / jato de tinta requerem uma superfície plana ou quase plana para garantir proporções de distribuição próprios dos componentes necessários nas respectivas camadas. Ao contrário EL processos de produção à base de impressão, a camada de iniciador 14, backplane 16, camada dielétrica 18, camada de fósforo 20, condutor do eletrodo superior 22, barra de barramento 24 e uma camada de encapsulação 26 são de preferência formulada para ser compatível com e aplicados por ambos os instrumentos e métodos comumente disponíveis e ao alcance de ofício do pintor. Assim, Lâmpada EL 10 pode ser "pintado" em substrato de 12 como um stackup de revestimentos isolantes que compõem camada de primer 14, backplane 16, camada dielétrica 18, camada de fósforo 20, condutor do eletrodo top 22, barramento 24 e encapsulando camada 26. Utilizando selecionar componentes das respectivas camadas e técnicas de aplicação, como aqui revelado, que são compatíveis com o material à base de pulverização, EL as lâmpadas 10 podem ser aplicados a uma grande variedade de materiais e / ou topologias complexas tais que qualquer substrato "podem ser pintadas" 12 superfície pode ser utilizada para a aplicação de um isolante, eficiência energética Lâmpada EL. Por conseguinte, Lâmpada EL 10 é "conformado" no sentido em que ele se adapta à forma e geometria do substrato 12.

[0032] Com referência à Fig. 2 em combinação com a Fig. 1, um processo s100 para a produção de lâmpadas EL será agora descrito.

[0033] Em s102 um substrato 12 é selecionado. O substrato 12 é tipicamente uma superfície de selecionar o item de destino, que pode ser feita a partir de qualquer material condutor ou não condutor adequado, e pode ter quaisquer contornos e formas desejadas.

[0034] Uma camada de primer 14 é aplicada ao substrato 14 em s104. Se o substrato pretendido produto alvo 12 é condutora, ou seja, metal, ou fibra de carbono, ou não condutora, isto é, alguma forma de vidro, plástico, fibra de vidro ou de material compósito, é preferível aplicar uma quantidade de um iniciador à base de óxido compatível com o substrato, em uma camada relativamente fina, para vedar a superfície, proporcionar um isolamento elétrico entre o substrato e a lâmpada EL 10, e garantir a adesão de camadas de revestimento superior sobre jacentes. Em algumas circunstâncias, também pode ser desejável aplicar a si 06 uma fina camada de um esmalte / laca / pintura aquoso adequado, compatível com o acabamento pretendido, ao longo da camada de primer de óxido. "Topcoat", tal como aqui utilizado refere-se geralmente a qualquer revestimento colocado sobre acabado na lâmpada EL 10, tal como um revestimento transparente cobrindo a luz e partes do substrato 12 não cobertas pela lâmpada EL. A etapa opcional de pintura s106 é particularmente interessante quando o item alvo compreendendo substrato 12 está a ser submetida a manipulação prolongada antes de uma nova lâmpada EL 10 camadas são aplicadas. Por causa da "suavidade" relativa dos iniciadores à base de óxido, as superfícies expostas dos iniciadores pode ser degradado por manuseamento frequente e o pó de óxido resultante pode manchar a superfície em bruto.

[0035] Para cada EL "campo iluminado" numa dada superfície, duas ligações elétricas são fornecidas em SL08 para proporcionar uma via para o sinal AC 28 (Fig. 1) que excita a camada de fósforo 20. Existem dois mecanismos básicos para a instalação destes percursos elétricos, a seleção das quais é determinada pelas características do substrato 12 do elemento alvo. Com referência adicional à Fig. 3, para o plástico não-condutor, fibra de vidro ou substratos compostos de itens-alvo 12, é preferível para fornecer um ou mais "carrythrough" elementos condutores 30-1, 30-2 para backplane de 16 e 24, respectivamente, ônibus barra de lâmpada EL 10 via pequeno 32 aberturas em substrato 12 da camada de item de destino e de primer 14 para fornecer o contato elétrico com o backplane sobrejacente e barramento. Para algumas formas de condutores substrato 12 itens alvo, a técnica carrythrough também é eficaz, dada a inclusão de uma camada isolante 34 entre o substrato e a via de sinal. Isto é tanto uma prática e uma consideração de segurança, como a procura de corrente elétrica colocada no sistema de energização desnecessariamente o item substrato / alvo reduz significativamente a eficiência de consumo de energia do sistema como um todo e aumenta a segurança por isolar eletricamente o campo lâmpada EL 10 a partir de um substrato condutor 12 do item alvo e quaisquer vias para um estado fundamental, tal como um defeito no substrato do produto alvo.

[0036] Quando considerações estruturais ou práticas (tais como a manutenção da integridade de um vaso de contenção de fluido) proibem o uso da técnica de canythrough acima mencionada da Fig. 3 em um substrato 12 de um artigo alvo, os caminhos de sinalização para Lâmpada EL 10 podem ser proporcionados por incorporação de elementos condutores 30-1 e 30-2 na camada de primer de isolamento 14 e, se necessário, "moldagem"de uma extremidade do painel como mostrado na Fig. 4. Qualquer um dos métodos das Figs. 3 e 4 para fornecer acesso de sinal ao backplane 16 e barramento de 24, ou seja, "carrythrough" ou "moldagem", são funcionalmente equivalentes e podem ser selecionados com base em condições e exigências específicas impostas pelo substrato 12 do item alvo.

[0037] A camada backplane 16 é aplicada em s110. A camada backplane 16, como discutido anteriormente, é um padrão que compreende um material condutor e é mascarado durante o iniciador 14 de revestimento. Backplane camada 16 pode ser aplicada para qualquer espessura apropriada, tal como cerca de 0,001 polegadas, de preferência, usando um equipamento de pulverização do tipo abertura fina de alimentação por gravidade. Quando assim aplicada, a camada backplane 16 é colocada em contato elétrico com o elemento condutor 30-1 (Figuras 3, 4) para proporcionar o contato elétrico com o sinal AC 28 e define também o esboço do campo iluminado Lâmpada EL 10.

[0038] A camada de película dielétrica 18 é aplicada por pulverização, na etapa s112. A solução supersaturada dielétrica anteriormente descrita é aplicada através de sucção e / ou o tipo de alimentação do equipamento de pulverização de pressão, sob luz visível, a uma pressão de ar pré-determinado, ajustado para as variáveis tais como a temperatura ambiente e topologia do item alvo substrato 12. Camada dielétrica 18 é de preferência aplicada à temperatura do ar ambiente de cerca de 70 graus centígrados ou superiores. A camada dielétrica é preferencialmente aplicado em sucessivas camadas finas de solução para garantir uma distribuição uniforme do BaTiO3solução partículas / polímero e evitar o acúmulo excessivo que poderia superar a tensão superficial da solução, que por sua vez pode criar uma "corrida" ou "inclinação "dentro das camadas aplicadas. Acumulação excessiva de material que resulta em funcionamento ou inclinação das camadas aplicadas leva a uma congregação desigual das partículas encapsuladas (referido como "duning areia") que tem um efeito directo negativo sobre a aparência do produto final. Portanto, muitas vezes é desejável para aumentar a cura de ar inicial de sucessivas camadas aplicadas pela aplicação de radiação infra-vermelho melhorado a partir de fontes, tais como a luz solar directa e lâmpadas de infravermelho melhorada entre as camadas, por um período de tempo determinável, dependendo da temperatura ambiente e condições de umidade.

[0039] A camada de fósforo 20 é aplicada em s114. A solução supersaturada de fósforo anteriormente discutida é aplicada usando sucção e / ou o tipo de alimentação de pressão do equipamento de pulverização, a uma pressão de ar pré-determinado, ajustado para as variáveis tais como a temperatura ambiente e topologia do substrato 12 do alvo item. A camada de fósforo 20 é de preferência aplicada na proximidade (por exemplo, sob a) uma fonte de radiação ultravioleta, tal como uma luz ultravioleta de onda longa (por exemplo, UV "A" ou "luz negra" luz ultravioleta) para melhorar indicadores visíveis ou pistas para o operador durante a aplicação, para assegurar uma distribuição de partículas relativamente uniforme. A camada de fósforo 20 é de preferência aplicada à temperatura do ar ambiente de cerca de 70 graus centígrados ou superiores. A camada de fósforo 20 é preferivelmente aplicado em sucessivas camadas finas de solução para garantir uma distribuição uniforme da solução ZnS-particulate/polymer, e para evitar o acúmulo excessivo poderia superar a tensão superficial da solução, por sua vez, a criação de um "run"ou "inclinação "dentro das camadas de fósforo aplicadas. Como camada dielétrica 18, a acumulação excessiva de material que resulta em "correr" ou inclinando "das camadas aplicadas pode levar a uma congregação desigual do encapsulado em partículas (isto é,"duning areia") que tem um efeito direto prejudicial na aparência da o produto final. Portanto, é preferível aumentar a cura inicial de ar de sucessivas camadas aplicadas por a aplicação de uma maior radiação infra-vermelho através de fontes tais como a luz solar directa e lâmpadas de infravermelho melhorada entre camadas, por um período de tempo determinável, dependendo Condições ambientais, tais como temperatura e humidade.

[0040] Mais detalhes sobre a aplicação da camada de fósforo 20 são mostrados na Fig. 5. A solução supersaturada de fósforo anteriormente discutida, é aplicada usando sucção e / ou tipo de equipamento de pulverização de alimentação de pressão de ar a uma pressão predeterminada, ajustado para as variáveis tais como a temperatura ambiente e topologia do substrato 12 do elemento alvo. Camada de fósforo 20 é preferencialmente aplicada sob a fonte de radiação ultravioleta acima mencionado para melhorar indicadores visíveis ou pistas para o operador durante a aplicação, para assegurar uma distribuição de partículas relativamente uniforme.

[0041] Em s114-1, antes da aplicação da camada de fósforo 20 de um operador, de preferência providencia uma fonte de radiação ultravioleta de tal modo que a fonte de radiação ultravioleta, em geral uniformemente iluminar um ponto alvo a ser pintado. A fonte de radiação ultravioleta é, de preferência localizado em um quarto ou outra área que é escurecido ou de outra forma substancialmente desprovida de outras fontes de luz, de modo que a fonte de radiação ultravioleta é a principal fonte de luz sobre o objeto a ser pintado.

[0042] Camada de fósforo 20 é aplicada ao substrato 12 do item alvo s114-2. Ao aplicar a camada de fósforo, o operador observa que ele vai brilhar intensamente sob a fonte de radiação ultravioleta. Isto fornece uma indicação visual para a qualidade do revestimento, enquanto que sob uma luz branca típica ambiente o operador não é capaz de distinguir a camada de fósforo 20 de camada dielétrica 18, porque as duas camadas vão misturar visualmente.

[0043] Em s114-3, como o operador de preferência aplica uma camada de película de fósforo 20 compreendendo uma ou mais relativamente finas camadas de fósforo sob a fonte de radiação ultravioleta, o operador irá notar que o revestimento de camada de fósforo torna-se mais uniforme e, portanto, vai saber para onde aplicar mais ou menos revestimento camada de fósforo a fim de assegurar a camada de fósforo acabada é tão uniforme quanto desejado. A camada de película de fósforo de 20 a ser aplicada é excitada pela fonte de radiação ultravioleta supramencionado durante a aplicação, a fonte de radiação ultravioleta, proporcionando assim o operador com referências visuais, enquanto a camada de película de fósforo está a ser aplicado. No sl 14-4 o operador ajusta a aplicação da camada de película de fósforo 20, em resposta aos sinais visuais para aplicar uma distribuição geralmente uniforme do material de fósforo sobre a camada de película dielétrica 18. Em algumas formas de realização de uma camada de fósforo de cerca de 0,001 polegadas ou menos é preferida. O processo de revestimento isolante é finalizado no sl 14-5, uma vez a camada de película de fósforo 20 tenha atingido a espessura e uniformidade desejada.

[0044] Uma vez que componentes da camada de fósforo 20 e dielétrica 18 da presente invenção são quimicamente idênticos, para além de componentes de partículas inertes, funcionalmente são aplicadas num processo contígua que forma quimicamente uma única camada heterogénea, quimicamente reticulada apenas distinguidos pelo particulado inerte encapsulado.

[0045] Com continuada referência à Fig. 2, uma vez que uma espessura desejada e distribuição de camadas de fósforo 20 e dielétrica 18 foram depositadas nas etapas s112, s114, respectivamente, o revestimento resultante é permitido curae em s116 para um período de tempo determinável, suficiente para evacuar a água restante o conteúdo das camadas dielétricas e de fósforo por meio de evaporação, e também permitir uma ligação mecânica entre o dielétrico / fósforo aplicada e backplane 16 para formar camadas. Este período de tempo varia dependendo de fatores ambientais, tais como temperatura e umidade. O processo pode ser opcionalmente acelerado por meio de fontes de calor de infravermelho acima descritas para s112 e s114.

[0046] A barra de barramento 24 é aplicada em s118. Tipicamente, o barramento 24 é aplicado usando um spray fino ou de abertura do equipamento de pulverização de alimentação por gravidade adequado tal que a barra de barramento forma de preferência um caminho eletricamente condutor, que geralmente segue a circunferência de uma dada EL iluminado campo para fornecer uma fonte de corrente eficaz para, e o contato elétrico com a camada eletrodo de topo transparente 22 e definem o bordo exterior do padrão desejado do campo EL.

[0047] Para algumas lâmpada EL a área da superfície do campo iluminado é suficientemente grande para que uma barra de bus 24 aplicada para a periferia do campo iluminado não fornece uma distribuição adequada da tensão para a lâmpada de porções afastadas da barra de barramento, tal como o centro da lâmpada retangular grande. Da mesma forma, alguns substratos 12 de maio têm uma geometria irregular, resultando em áreas do campo iluminado que estão distantes de barramento 24. Nessas situações a barra de barramento 24 pode incluir um ou mais "dedos" de material da barra de ônibus em comunicação elétrica com o ônibus bar e se estende para fora a partir da barra de bus para a porção distante (s) da lâmpada de EL.

[0048] Da mesma forma, um padrão de grade adequado pode estar em comunicação elétrica com a barra de bus 24 e se estende para fora a partir da barra de bus para a porção distante (s) da lâmpada de EL.

[0049] O eletrodo superior 22 é aplicado sobre a camada de fósforo 20 e barra de barramento de 24 em s120 usando uma escova de ar ou equipamento de pulverização de alimentação por gravidade de abertura fina adequado, de tal forma que o eletrodo superior forma um caminho condutor que faz a ponte entre a barra de barramento na circunferência do campo de EL para fornecer uma camada condutora, geralmente opticamente transparentes sobre a totalidade da área da superfície do campo de EL. De preferência, parte superior do eletrodo 22 é aplicada com um sinal elétrico operatório 28 aplicada à parte superior do eletrodo e backplane 16 para monitorizar visualmente a iluminação da camada de fósforo 20, durante a aplicação da parte superior do eletrodo. Isto permite ao operador determinar se o revestimento superior do eletrodo 22 alcançou uma espessura e eficiência suficientes para permitir que a luz para iluminar EL no modo desejado. Cada revestimento é preferivelmente permitido para definir o âmbito de aplicação de radiação infravermelha reforço entre cada revestimento a fim de permitir a evaporação do ar de componentes aquosos / álcool da solução. O número de camadas necessárias é determinado pela uniformidade da distribuição do material, bem como da condutividade local específica como determinado pela distância física entre todas as barras colectoras 24 lacunas.

[0050] O encapsulamento da camada 26 é aplicada no s122. De preferência, a camada encapsulante 26 é aplicada de forma a cobrir completamente a pilha de lâmpada EL 10, protegendo assim a lâmpada EL de danos.

[0051] Em algumas formas de realização da presente invenção a lâmpada EL 10 pode incluir características adicionais para manipular a cor aparente emitida pela lâmpada. Numa tal forma de realização é aplicado um revestimento 36 de pigmento de cor-de-SL24 (Fig. 2) sobre Lâmpada EL 10, como mostrado na Fig. 6.

[0052] Em outras formas de realização a luz refletida e / ou da luz emitida pode ser utilizada para manipular a cor aparente emitida pela lâmpada 10 EL. Sob condições ambientais, a cor aparente de uma superfície é determinada pela absorção e reflexão de várias frequências de luz. Por conseguinte, é possível efectuar uma alteração ou mudança de cor aparente pelo emprego selectiva de fósforos de cor, em conjunto com sobretudos matizadas. Fig. 7 mostra uma lâmpada EL com luz reflectida como modificar a cor da lâmpada EL 10, enquanto que a Fig. 8 mostra a luz emitida modificar a cor aparente da luz emitida pela lâmpada de EL.

[0053] Ambas os componentes BaTiO3e ZnS particulados da camada dielétrica 18 e camada de fósforo 20, respectivamente, exibem cada um propriedades significativas de translucidez óptica a luz em comprimentos de onda visíveis. Como resultado, é possível sobrepor diretamente camadas de Lâmpada EL 10, separados por uma camada de um encapsulante opticamente geralmente transparente 38, para tirar vantagem destas propriedades. Por alternativa ou coincidentemente energização dos respectivos camadas, a modificação substancial de cor aparente é possível. Combinando esta técnica com o tingimento descritos anteriormente e procedimentos reflexivos / emissivo top de revestimento apresenta um vasto leque de possibilidades de personalização da base da lâmpada EL 10. Fig. 9 mostra uma configuração de múltiplas camadas Lâmpada EL 50 com fiação camada superior, Fig. 10 mostra uma configuração de múltiplas camadas Lâmpada EL 60 com fiação camada inferior, e Fig. 11 mostra uma configuração de múltiplas camadas Lâmpada EL 70 com fiação dupla camada. Lâmpada ELs de 50, 60, 70 são de outra maneira semelhante à lâmpada EL 10 em materiais e construção.

[0054] Uma lâmpada EL 80 é mostrada na Fig. 12 de acordo com ainda uma outra forma de realização da presente invenção. Lâmpada EL 80 inclui um substrato 12, o qual de preferência é feito de um material geralmente transparente, tal como vidro ou plástico. No stackup de lâmpada EL 80 um primeiro barramento 24-1 é aplicada ao substrato 12. Uma camada de primer de película de eletrodo geralmente transparente 22-1 é aplicada após a primeira barra de ônibus 24-1 .A camada de primer de fósforo 20-1 é aplicada após a camada de primer de película de eletrodo22-1. A camada dielétrica 18 é aplicada após a camada de primer de fósforo 20-1. Uma segunda camada de fósforo 20-2 é aplicado sobre camada dielétrica 18. Uma segunda camada de película transparente geralmente eletrodo 22-2 é aplicada em segunda camada de fósforo 20-2. Finalmente, um revestimento claro encapsulnte 26 é opcionalmente aplicado em segunda camada de película de eletrodo22- 2. Lâmpada EL 80 é de outra maneira similar à lâmpada EL 10 em materiais e construção.

[0055] Na operação de Lâmpada EL 80, o sinal AC 28 é aplicado a barras de barramento 24-1, 24-2 como mostrado na Fig. 12. O sinal AC é eletricamente conduzido de barramentos 24-1, 24-2 Eletrodo 22-1, 22-2, respectivamente, gerando um campo AC através de camadas de fósforo 20-1 e 20-2. Camadas de fósforo 20-1 e 20-2 está animado com o campo AC, fazendo com que as camadas de fósforo para emitir luz. A luz emitida pela camada de fósforo 20-1 é direcionado para e apesar de substrato transparente 12. Luz emitida pela camada de fósforo 20-2 é emitida na direção oposta, em direção e através de encapsulamento de pelagem clara 26.

[0056] Em uma forma de realização da presente invenção, o processo da Fig. 2 pode ser ligeiramente rearranjado para produzir uma lâmpada EL 90 em cima de um substrato geralmente transparente 12, tal como mostrado na Fig. 13. O substrato 12 é selecionad em s102. Se o substrato 12 é eletricamente condutor uma forma eletricamente isolante, geralmente transparente de camada de primer 14 d s104 pode ser aplicada ao substrato. Um ou mais barramentos 24 de s118 são aplicados sobre substrato 12 (ou camada de primer 14). A camada de eletrodo transparente 22 de s120 é aplicada sobre barramento 24 e substrato 12 (ou camada de primer 14). A camada de película de fósforo de 20 de s114 é aplicada sobre a camada de película de eletrodo 22. A camada de película dielétrica 18 de s112 é aplicada sobre a camada de fósforo. A camada eletricamente condutora película backplane base 16 do s104 é aplicada sobre a camada de película dielétrica 18. Alternativamente, uma segunda camada de eletrodo globalmente transparente 22 pode ser substituída pela camada de película de backplane de base 16 de s104. As ligações elétricas de s108 podem ser feitas de qualquer maneira anteriormente descrita. Quando construída desta forma, a luz emitida pela camada de película de fósforo 20 irradia através da camada de eletrodo transparente 22 e o substrato transparente 12. A lâmpada EL 90 é outra forma semelhante à lâmpada EL 10, descrita acima.

[0057] Um número de mecanismos e de aditivos pode ser utilizado para alterar e / ou melhorar a aparência de lâmpadas EL produzidos em conformidade com o presente invento, delineada por se a um aditivo específico proporciona tanto uma função passiva, activa ou emissiva significativamente. Em primeiro lugar, podem ser utilizados aditivos passivas. Um aditivo passiva é por definição um componente integrado para as camadas de revestimento de qualquer uma das Lâmpada ELs 10, 50, 60, 70, 80, 90 de tal modo que ele não emita luz como uma questão de função, mas modifica a luz emitida para expor um qualidade desejada. Há um número de materiais, tanto ocorrendo naturalmente e de engenharia, que pode ser utilizada para tirar vantagem das propriedades birrefringente / polarização / cristal óptica de melhorar substancialmente a cor e / ou luminosidade aparente, empregando um efeito de lente Fresnel modificado.

[0058] Um aditivo ativo é um material que não emite luz, mas modifica luz através da aplicação de um campo elétrico. Uma série de materiais naturais e uma família crescente de materiais de engenharia, particularmente polímeros, apresentam significativa características eletro-óticas, em particular, a modificação das propriedades ópticas de um material pela aplicação de um campo elétrico. Eletrocromismo, a capacidade de um material para mudar a cor devido à aplicação de carga elétrica é de particular interesse entre estes efeitos. Tais materiais podem ser incorporados com o copolímero da camada de fósforo 20 ou como uma camada distinta entre o fósforo e de topo do eletrodo 22 camadas.

[0059] Recentes avanços na engenharia de materiais EL prometem melhorar ainda mais o desempenho de lâmpadas EL produzidas de acordo com a presente invenção complementando ou substituindo o componente ZnS dopado da fórmula de base para a camada de fósforo 20. Entre outros, nitreto de gálio (GaN), gálio Sulfeto (gás), gálio (GaSe2) e aluminato de estrôncio (SRAL) compostos dopados com vários elementos de traço de metal demonstraram valor como materiais de EL.

[0060] Outro material que pode ser utilizado para complementar ou substituir o componente dopado com ZnS da fórmula de base para a camada de fósforo 20 é pontos de quantum. Quantum Dots são uma tecnologia relativamente recente, que introduzem um novo mecanismo emissiva à família de materiais de EL. Em vez de um emissor de determinada largura de banda (cor) da luz com base em características do material dopante, a frequência de emissão é determinada pelo tamanho físico do próprio das partículas e, assim, podem ser "afinados" para emitir luz através de um espectro alargado, incluindo quase infravermelha. Quantum Dots também apresentam tanto fotoluminescentes, bem como características eletroluminescentes. Esses recursos oferecem uma série de benefícios potenciais funcionais para lâmpadas EL produzidos de acordo com a presente invenção a partir de qualquer composição materiais tradicionais EL com pontos quânticos ou substituindo os materiais tradicionais inteiramente com tecnologia Quantum Dot, dependendo dos requisitos funcionais.

[0061] Embora este invento tenha sido mostrado e descrito com respeito a uma forma de realização pormenorizada da mesma, será entendido pelos peritos na arte que as mudanças na forma e detalhe do mesmo podem ser feitas sem se afastar do âmbito das reivindicações da invenção.

Claims (18)

1. Processo para produzir um sistema eletroluminescente conformado, caracterizado por compreender as etapas de: selecionar um substrato; aplicar uma camada de película backplane de base no substrato utilizando um material backplane eletricamente condutor de base aquosa; aplicar uma camada de película dielétrica sobre a camada de película backplane utilizando um material dielétrico de base aquosa; aplicar uma camada de película de fósforo na camada de película dielétrica utilizando um material de fósforo de base aquosa, a camada de película de fósforo sendo excitada por uma fonte de radiação ultravioleta durante a aplicação, a fonte de radiação ultravioleta fornecendo pistas visuais enquanto a camada de película de fósforo está sendo aplicada, a aplicação da camada de película de fósforo sendo ajustada em resposta aos sinais visuais durante a etapa de aplicação de fósforo para aplicar uma distribuição geralmente uniforme do material de fósforo sobre a camada de película dielétrica; e aplicar uma camada de película de eletrodo sobre a camada de película de fósforo usando uma material de eletrodo, substancialmente transparente, eletricamente condutor de base aquosa, cada uma da camada de película backplane, camada de película dielétrica, camada de película de fósforo e camada de película de eletrodo sendo aplicada por revestimento conformado de spray, em que a camada de película de fósforo é excitável por um campo elétrico estabelecido através da camada de película de fósforo sob aplicação de uma carga elétrica entre a camada de película backplane e a camada de película de eletrodo, de tal modo que a camada de película de fósforo emite luz eletroluminescente.

2. Processo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por incluir adicionalmente a etapa de selecionar um material dielétrico possuindo tanto propriedades eletricamente isolantes como permitivas, o material dielétrico compreendendo ainda, pelo menos, um dentre um titanato, um óxido, um niobato, um aluminato, um tantalato e um material de zirconato, o material dielétrico adicional sendo suspenso num solvente amoníaco aquoso.

3. Processo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por incluir adicionalmente a etapa de formulação de uma composição para a camada de película dielétrica, que compreende: proporcionar uma solução de 2:1 de copolímero e hidróxido de amônio diluído; pré-molhar uma quantidade pré-determinada de titanato de bário numa quantidade pré-determinada de hidróxido de amônio; e adicionar o titanato de bário pré-umedecido à solução de copolímero e hidróxido de amônio diluído para formar uma suspensão supersaturada.

4. Processo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por incluir adicionalmente a etapa de selecionar um material dielétrico possuindo propriedades eletricamente isolantes e permitivas, o material dielétrico possuindo ainda propriedades fotorrefrativos para facilitar a propagação da luz através de camadas sobrepostas do dispositivo.

5. Processo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por incluir adicionalmente a etapa de selecionar, para o material de fósforo, uma composição de revestimento semi-condutor tendo fósforos encapsulados dentro de uma matriz de polímero altamente permeável eletrostaticamente.

6. Processo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por incluir adicionalmente a etapa de selecionar, para o material de fósforo, uma composição de revestimento contendo pontos de quantum ou fósforos à base de sulfeto de zinco dopados com pelo menos um dentre cobre, manganês e prata.

7. Processo para a produção de um sistema eletroluminescente conformado, caracterizado por compreender as etapas de: selecionar um substrato geralmente transparente; aplicar uma camada de película de eletrodo sobre o substrato usando um material de eletrodo substancialmente transparente, eletricamente condutor, de base aquosa; aplicar uma camada de película de fósforo sobre a camada de película de eletrodo utilizando um material de fósforo de base aquosa, a camada de película de fósforo sendo excitada por uma fonte de radiação ultravioleta durante a aplicação, a fonte de radiação ultravioleta fornecendo pistas visuais enquanto a camada de película de fósforo está sendo aplicada, a aplicação da camada de película de fósforo sendo ajustada em resposta aos sinais visuais durante a etapa de aplicação de fósforo para aplicar uma distribuição geralmente uniforme do material de fósforo sobre a camada de película de eletrodo; aplicar uma camada de película dielétrica sobre a camada de fósforo usando um material dielétrico de base aquosa; e aplicar uma camada de película backplane de base sobre a camada de película dielétrica usando, um material backplane, eletricamente condutor, de base aquosa; cada uma da camada de película de backplane, camada de película dielétrica, camada de película de fósforo e camada de película de eletrodo sendo aplicada por revestimento conformado por pulverização, em que a camada de película de fósforo é excitável por um campo elétrico estabelecido através da camada de película de fósforo sob a aplicação de uma carga elétrica entre a camada de película backplane e a camada de película de eletrodo, de tal modo que a camada de película de fósforo emite luz eletroluminescente.

8. Processo, de acordo com a reivindicação 7, caracterizado por incluir adicionalmente a etapa de selecionar um material dielétrico possuindo ambas as propriedades eletricamente isolantes e permitivas, o material dielétrico, compreendendo ainda, pelo menos, um dentre um titanato, um óxido, um niobato, um aluminato, um tantalato e um material de zirconato, o material dielétrico adicional sendo ainda suspenso num solvente amoníaco aquoso.

9. Processo, de acordo com a reivindicação 7, caracterizado por incluir adicionalmente a etapa de formulação de uma composição para a camada de película dielétrica, que compreende: proporcionar cerca uma solução de cerca de 2:1 de copolímero e hidróxido de amônio diluído; pré-molhar uma quantidade pré- determinada de titanato de bário numa quantidade pré-determinada de hidróxido de amônio; e adicionar o titanato de bário pré-umedecido à solução de copolímero e hidróxido de amônio diluído para formar uma suspensão supersaturada.

10. Processo, de acordo com a reivindicação 7, caracterizado por incluir adicionalmente a etapa de selecionar um material dielétrico possuindo propriedades eletricamente isolantes e permitivas, o material dielétrico possuindo ainda propriedades fotorrefrativas para facilitar a propagação da luz através de camadas sobrepostas do dispositivo.

11. Processo, de acordo com a reivindicação 7, caracterizado por incluir adicionalmente a etapa de selecionar, para o material de fósforo, uma composição de revestimento semicondutor tendo fósforos encapsulados dentro de uma matriz de polímero altamente permeável eletrostaticamente.

12. Processo, de acordo com a reivindicação 7, caracterizado por incluir adicionalmente a etapa de selecionar, para o material de fósforo, uma composição de revestimento contendo pontos de quantum ou fósforos à base de sulfureto de zinco dopado com pelo menos um dentre cobre, manganês e prata.

13. Processo para a produção de um sistema eletroluminescente conformado, caracterizado por compreender as etapas de: selecionar um substrato geralmente transparente; aplicar uma primeira camada de película de eletrodo sobre o substrato usando um material de eletrodo eletricamente condutor, substancialmente transparente, de base aquosa; aplicar uma primeira camada de película de fósforo sobre a primeira camada de película de eletrodo utilizando um material de fósforo de base aquosa, a primeira camada de película de fósforo sendo excitada por uma fonte de radiação ultravioleta durante a aplicação, a fonte de radiação ultravioleta fornecendo pistas visuais enquanto a primeira camada de película de fósforo está sendo aplicada, a aplicação da primeira camada de película de fósforo sendo ajustada em resposta aos sinais visuais durante a etapa de aplicação de fósforo para aplicar uma distribuição geralmente uniforme do material de fósforo sobre a primeira camada de película de eletrodo; aplicar uma camada de película dielétrica sobre a primeira camada de película de fósforo usando um material dielétrico de base aquosa; aplicar uma segunda camada de película de fósforo sobre a camada de película dielétrica usando o material de fósforo, a segunda camada de película de fósforo sendo excitada por uma fonte de radiação ultravioleta durante a aplicação, a fonte de radiação ultravioleta fornecendo pistas visuais enquanto a segunda camada de película de fósforo está sendo aplicada, a aplicação da segunda camada de película de fósforo sendo ajustada em resposta aos sinais visuais durante a etapa de aplicação de fósforo para aplicar uma distribuição geralmente uniforme do material de fósforo sobre a camada de película dielétrica; e aplicar uma segunda camada de película de eletrodo sobre a segunda camada de película de fósforo usando o material de eletrodo, cada uma da primeira camada de película de eletrodo, primeira camada de película de fósforo, camada de película dielétrica, segunda camada de película de fósforo e segunda camada de película de eletrodo sendo aplicada por revestimento conformado por pulverização. em que as primeira e segunda camadas de película de fósforo são excitáveis por um campo elétrico estabelecido entre as primeira e segunda camadas de película de fósforo sob a aplicação de uma carga elétrica entre a primeira camada de película de eletrodo e a segunda camada de película de eletrodo, de tal modo que o dispositivo emite luz eletroluminescente, a luz eletroluminescente sendo emitida em lados opostos do substrato.

14. Processo, de acordo com a reivindicação 13, caracterizado por incluir adicionalmente a etapa de selecionar um material dielétrico possuindo ambas as propriedades eletricamente isolante e permitiva, o material dielétrico compreendendo ainda, pelo menos, um dentre um titanato, um óxido, um niobato, um aluminato, um tantalato, e um material de zirconato, o material dielétrico sendo ainda suspenso num solvente amoníaco aquoso.

15. Processo, de acordo com a reivindicação 13, caracterizado por incluir adicionalmente a etapa de formulação de uma composição para a camada de película dielétrica, que compreende: proporcionar uma solução de cerca de 2:1 de copolímero e hidróxido de amônio diluído; pré-molhar uma quantidade pré-determinada de titanato de bário numa quantidade pré-determinada de hidróxido de amônio; e adicionar o titanato de bário pré-umedecidos à solução de copolímero e hidróxido de amônio diluído, para formar uma suspensão supersaturada.

16. Processo, de acordo com a reivindicação 13, caracterizado por incluir adicionalmente a etapa de selecionar um material dielétrico possuindo propriedades eletricamente isolantes e permitivas, o material dielétrico possuindo ainda propriedades fotorrefrativas para facilitar a propagação da luz através de camadas sobrepostas do dispositivo.

17. Processo, de acordo com a reivindicação 13, caracterizado por incluir adicionalmente a etapa de selecionar, para o material de fósforo, uma composição de revestimento semicondutora tendo fósforos encapsulados dentro de uma matriz de polímero altamente permeável eletrostaticamente.

18. Processo, de acordo com a reivindicação 13, caracterizado por incluir adicionalmente a etapa de selecionar, para o material de fósforo, uma composição de revestimento contendo pontos de quantum ou fósforo à base de sulfureto de zinco dopado com pelo menos um dentre cobre, manganês e prata.

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