BR112012001314A2 - detector de queda para detectar quedas de um usuário ou de um objeto ao qual o detector de queda está unido e método em um detector de queda para detectar quedas de um usuário ou de um objeto a que o detector de queda esteja unido - Google Patents

detector de queda para detectar quedas de um usuário ou de um objeto ao qual o detector de queda está unido e método em um detector de queda para detectar quedas de um usuário ou de um objeto a que o detector de queda esteja unido Download PDF

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BR112012001314-9A
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Heribert Baldus
Hai Yang
Hui Liu
Lin Chen
Liping Zheng
Su Lu
Wei Cai
Xianguo Yu
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Koninklijke Philips Electronics N.V.
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Abstract

"MÉTODO QUE COMPREENDE COPOLIMERIZAR UM MONÔMERO, POLÍMERO PRODUZIDO PELO MÉTODO, MEMBRANA QUE COMPREENDE O POLÍMERO, MÉTODO PARA REVESTIR UM ELETRODO E ELETRODO REVESTIDO POR MEIO DO MÉTODO". Trata-se de um método que compreende: copolimerizar um monômero que compreende pelo menos dois grupos amida, um monômero da fórmula (a), e um ácido sulfônico ou monômero de sal, em que R1 é CH3 ou H. Um polímero produzido pelo método é fornecido. Um método para revestir um eletrodo é fornecido, que compreende: fornecer um eletrodo; fornecer uma solução de um iniciador de radical livre, um monômero que compreende pelo menos dois grupos amida, um monômero da fórmula (a), e um ácido sulfônico ou monômero de sal; molhar o eletrodo com a solução; e aquecer o eletrodo molhado; através do qual o monômero que compreende pelo menos dois grupos amida, o monômero da fórmula (a), e o ácido sulfônico ou monômero de sal são copolimerizados; em que R' é CH3 ou H. É fornecido um eletrodo revestido peio método.

Description

l ! 3 ^ 2 1 \ © m " > "MÉTODO QUE COMPREENDE COPOLIMERIZAR UM MONÔMERO, POLÍMERO PRODUZIDO PELO MÉTODO, MEMBRANA QUE COMPREENDE O POLÍMERO, MÉTODO PARA REVESTIR UM ELETRODO E ELETRODO REVESTIDO POR MEIO DO MÉTODO" Antecedentes Da Invenção Os polímeros de troca de Íon são úteis em muitas aplicações, por exemplo, na produção de membranas ou revestimentos de troca de Íon para processos de 'separação de íon. A técnica comum para produzir polímeros de troca de Íon envolve polimerização de um agente reticulador di-etilênico não- , 10 iônico insolúvel em água, por exemplo, divinil benzeno com um monômero como estireno em um solvente não-aquoso como dietil-benzeno. O polímero sólido resultante, por exemplo, em forma de lâmina ou membrana é equilibrado ou lavado diversas vezes com um solvente como dicloreto de etileno para remover e substituir o solvente de dietil-benzeno. Onde membranas de 15 mudança de cátion são desejadas, as membranas são então reagidas com uma solução de trióxido de enxofre e dicloreto de etileno para formar grupos sulfonato que com lavagem com metanol e neutralização com bicarbonato de sódio produz as propriedades fortemente básicas de troca de Íon do polímero.
Os monômeros insolúveis em água e a reação de polimerização e subsequente
P 20 reação realizados em soIventes não-aquosos enfrentam problemas de despejo químico com perda concomitante dos solventes orgânicos. K Os agentes reticuladores solúveis em água polimerizáveis em sistemas de solvente aquoso foram desenvolvidos para superar os problemas supracitados. A reticulação do polímero ocorre por meio de uma reação de 25 condensação entre dois monômeros e ocorre simultaneamente com a polimerização, então monômeros di-etilênicos não são exigidos. Ao mesmo tempo, o gasto de solventes derivados de petróleo e o problema de seu despejo são eliminados.
I g * 2 - - * Entretanto, a maior parte dos agentes reticuladores solúveis em água disponlveis atualmente é dispendiosa e não ecológica. Neste Ínterim, algumas aplicações, por exemplo, eletrodos supercapacitores, preferem polímeros que têm baixa resistência, baixa razão de intumescimento e boa 5 morfologia de revestimento e que podem ser revestidos para diminuir o consumo de energia e aumenta a eficiência atua! dos eletrodos.
Logo, seria desejável ter um método para produzir um polímero de baixa razão de intumescimento a partir de materiais solúveis em água, baratos e ecológicos e um método para revestir um eletrodo com o poIímero 10 para reduzir resistência e aumentar eficiência atual do eletrodo.
> Breve DescriçÃo DA InvençÃo De acordo com as realizações descritas nesta invenção, um método é fornecido, que compreende: copolimerizar um monômero que compreende pelo menos dois grupos amida, um monômero da fórmula (a)
O H,C—Í ,ÍNHCH,OH Ri 15 e um ácido sulfônico ou monômero de sal, em que R' é CH3 ou H.
De acordo com as realizações descritas neste documento, um polímero produzido pelo método acima e uma membrana que compreende o , polímero também são fornecidos.
De acordo com as realizações descritas nesta invenção, um 20 ! método para revestir um eletrodo é fornecido, que compreende: fornecer um ! eletrodo; fornecer uma solução de um iniciador de radical Iivre, um monômero ! que compreende pelo menos dois grupos amida, um monômero da fórmula (a)
O Fkc—j: i=NHcH3oH àr ~ R1
I'
I i f" ! $' 3 3 4 e um ácido sulfônico ou monômero de sal; molhar o eletrodo com a soIução; e aquecer o eletrodo molhado; através do qual o monômero que compreende pelo menos dois grupos amida, o monômero da fórmula (a), e o ácido sulfônico ou monômero de sai são copolimerizados; em que R1 é CH3 ou 5 H. De acordo com as realizações descritas nesta invenção, um eletrodo revestido pelo método acima é fornecido.
DescriçÂo Detalhada da InvençÂo Em linguagem aproximada, como utilizado nesta invenção na 10 especificação e reivindicações, pode ser aplicado para modificar qualquer representação quantitativa ijue poderia variar permissivelmente sem resultar em uma alteração na função básica a qual é relacionada. Desta forma, um valor modificado por um termo ou termos, como "cerca de" ou "substancialmente", não deve ser limitado ao valor preciso especificado. Em 15 algumas ocorrências, a linguagem aproximada pode corresponder à precisão de um instrumento para medir o valor.
De acordo com as realizações descritas nesta invenção, um método é fornecido, que compreende: copolimerizar um monômero que compreende pelo menos dois grupos amida, um monômero da fórmula (a)
O H,c—jÁNHcH,oH
RJ 20 , e um ácido sulfônico ou monômero de sal, em que R' é CH3 ou H.
Em outro aspecto, um polímero produzido pelo método e uma membrana que compreende o polímero são fornecidos.
De acordo com as realizações descritas nesta invenção, um método para revestir um eletrodo é fornecido, que compreende: fornecer um 25 eletrodo; fornecer uma solução de um iniciador de radical livre, um monômero a K- 4 g ·E- · Fk que compreende pelo menos dois grupos amida, um monômero da fórmula (a)
O H,C—Í CNHCH,OH Rí e um ácido sulfônico ou monômero de sal; molhar o eletrodo com a solução; e aquecer o eletrodo molhado; através do qual o monômero que compreende pelo menos dois grupos amida, o monômero da fórmula (a), e o 5 ácido sulfônico ou monômero de sal são copolimerizados; em que R1 é CH3 ou H.
De acordo com as realizações descritas nesta invenção, um eletrodo revestido pelo método acima é fornecido.
As unidades de monômero adequadas da fórmula (a) são, por 10 exemplo, solúveis em água, compostos etilenicamente insaturados que podem ser poIimerizados por radicais iivres e conter grupos N-metilol (-NH-CH2OH) ou derivados eterificados dos mesmos (-NH-CH2OR, em que R = alquila C1-C6).
As unidades de monômero preferidas são N-meti|o[acri|amida (N- (hidroximetil)acrilamida, NMA), N-metilolmetacrilamida (NMMA), N- 15 (isobutoximetil)-acrilamida (IBMA), N-(isobutoximetil)-metacrilamida e N-(n- butoximetil)-acrilamida (NBMA). As unidades de monômero particularmente preferidas são N-metilolacrilamida e N-(isobutoximetil)-acrilamida. Em algumas realizações, o ácido sulfônico ou monômero de sal é da fórmula (b):
O H2C7" " """ C_x— Y—SO3H R2 20 em que R'éCH3ouH;XéNHouOeYéa|qui|a.Oácidosu[fônicoou monômeros de sal adequados são, por exemplo, solúveis em água, compostos
T" ,, ^ 5 n 'í <.' etilenicamente insaturados que podem ser polimerizados por radicais livres e I conter ácido sulfônico ou grupos sulfonato -SO3M, em que M=H ou um Íon de metal álcali, de amônio ou de metal alcalino terroso. As unidades de monômero preferidas são ácido 2-acrilamido-2-metilpropano sulfônico, ácido estireno 5 sulfônico, (met)-acrilatos de sulfoalquila, itaconatos de sulfoalquila, preferivelmente em cada caso com um radical alquiia Cj a C6, e ácido vinilsulfônico e sais de amônio, de metal álcali ou de metal alcalino terroso do mesmo. As unidades de monômero particurlamente preferido são ácido2- acrilamido-2-metilpropano sulfônico, ácido estireno sulfônico, ácido p-estireno 10 sulfônico, acrilato de sulfopropila, itaconato de sulfopropila e ácido vinilsulfônico e sais de amônio, de sódio, de potássio e de cálcio dos mesmos. Como utilizado nesta invenção, o termo "alquila" se refere a um '! radical saturado de hidrocarboneto. Exemplos de grupos alquila adequados incluem n-butil, n-Denti|, n-heptil, iso-butil, t-butil, e iso-pentil.
15 Em algumas realizações, o monômero que compreende pelo menos dois grupos amida é selecionado a partir de carbonildiamina e um composto da fórmuia (C)
O O H7 ' :m ,A,A R" NH2 'I em que R1 é NH, radical alifático ou unidade éter.
Como utilizado nesta invenção, o termo "radical alifático" se refere 20 a um radical orgânico que tem uma valência de pelo menos uma que consiste em um arranjo linear ou ramificado de átomos que não é cÍclico. Os radicais alifáticos são definidos por compreender pelo menos um átomo de carbono. O arranjo de átomos que compreende o radical alifático pode incluir heteroátomos como nitrogênio, enxofre, silício, selênio e oxigênio ou pode ser composto 25 exclusivamente de carbono e hidrogênio. Para conveniência, o termo "radicai
V -
alifático" é definido nesta invenção por abranger, como parte dos radicais orgânicos de "arranjo linear ou ramificado de átomos que não é cÍclico"
substituídos com um ampla gama de grupos funcionais como grupos alquila,
grupos alquenila, grupos alquinila, grupos haloalquila, grupos conjugados
5 dienila, grupos álcool, grupos éter, grupos aldeído, grupos cetona, grupos ácido carboxílico, grupos acila (por exemplo, derivados de ácido carboxilico como ésteres e amidas), grupos amina, grupos nitro, e similares.
Por exemplo, o radical 4-metilpent-1-il é um radical alifático C6 que compreende um grupo metiia, o grupo metila sendo um grupo funcional que é um grupo alquila.
De
10 forma similar, o grupo 4-nitrobut-1-il é um radical alifático C4 que compreende um grupo nitro, o grupo nitro sendo um grupo funcional.
Um radical aiifático pode ser um grupo ha|oa|qui|a que compreende um ou mais átomos halogênios que podem ser o mesmo ou diferentes.
Os átomos halogênios incluem, por exemplo; flúor, cloro, bromo, e iodo.
Os radicais alifáticos que compreendem
15 um ou mais átomos de halogênio incluem os haletos de alquila trifluorometil, bromodifluorometil, clorodifluorometil, hexafluoroisopropilideno, clorometil, difluorovinilideno, triclorometil, bromodiclorometil, bromoetil, 2-bromotrimetileno (por exemplo -CH2CHBrCH2-), e similares.
Outros exemplos de radicaís alifáticos incluem alila, aminocarbonila (ou seja, -CONH2), carbonila, 2,2-
20 dicianoisopropilideno (ou seja, - CH2C(CN)2CH2-), metii (ou seja, -CH3), metileno (ou seja, -CH2-), etila, etileno, formiia (ou seja -CHO), hexila, hexametileno, hidroximetil (ou seja -CH2OH), mercaptometi! (ou seja, -CH2SH),
metiltio (ou seja, -SCH3), metiltiometil (ou seja, -CH2SCH3), metóxi,
metoxicarbonil (ou seja, CH3OCO-), nitrometil (ou seja, -CH2NO2), tiocarbonil,
25 trimetiIsilil (ou seja, (CH3)3Si-), t-buti|dimeti!si|i|, 3- trimetioxisilipropil (ou seja, (CH3O)3SiCH2CH2CH2-), vinil, vinilideno, e similares.
Como forma de exemplo adicional, um radical alifático C1-C10 contém pelo menos um, mas não mais do que 10 átomos de carbono.
Um grupo metila (ou seja, CHx) é um exemplo de
§ " %· ¶* um radical alifático Cj. Um grupo decila (ou seja, CH3(CH2)9-) é um exemplo de um radical alifático C10. Como utilizado nesta invenção, o termo "unidade éter" se refere a uma porção de alquileno substituída ou não substituída ligada a um oxigênio, e 5 geralmente corresponde à fórmula -C(R')2-C(R')2-O- em que R' está separadamente em cada ocorrência de hidrogênio, halogênio, um grupo nitro, um ciano grupo, um grupo hidrocarbila Ck20 ou um grupo hidrocarbila C1-20 substituído com um ou mais dos seguintes: um grupo halo, ciano, nitro, tioalquil, terc amino, alcóxi, ariloxi, aralcóxi, carbonildioxialquil, carbonildioxiaril, 10 carbonil dioxiaralquil, alcoxicarbonil, ariloxicarbonil, aralcoxicarbonil, alquilcarbonil, arilcarbonil, aralquilcarbonii, alquilsdfinil, arilsulfinil, araiquilsuKinil, alquilsulfonü, ariisulfonil, ou aralquiisulfonil. Como utilizado nesta invenção, o termo "grupo amida" se refere ao grupo -R'CONH2, em que R' é hidrogênio ou alquila.
15 Em algumas realizações, o monômero que compreende pelo menos dois grupos amida é selecionado a partir de biureto e succinamida. No presente documento solúvel em água significa, de maneira geral, que a solubilidade em água a 23°C é de pelo menos 10°/o em peso. A preparação dos copolímeros de acordo com a invenção é 20 preferivelmente realizada por polimerização de radical livre em solução aquosa em uma temperatura de reação preferivelmente de 40°C a 80°C. A polimerização pode ser realizada ao introduzir inicialmente todos ou constituintes individuais da mistura de reação no recipiente de reação, ou ao introduzir inicialmente porções dos componentes e cobrir os constituintes ou 25 constituintes individuais da mistura de reação. A iniciação é reaiizada por meio dos agentes solúveis em água costumeiros que formam radicais livres, que são preferivelmente empregados em quantidades de 0,01 a 3,0% em peso, com base no peso total dos ú % 8 J µÀ monômeros. Exemplos dos mesmos são persulfato de amônio e de potássio, dicioridrato de 2,2'-(azobis(2-metiipropionamidina)), peróxido de hidrogênio, e peroxodifosfato de potássio, de sódio e de amônio. Se apropriado, os iniciadores de radical livre mencionados também são combinados em uma 5 maneira conhecida com 0,01 a 1,0% em peso, com base no peso total dos monômeros, de agentes redutores, sendo possivel para a polimerização ser realizada em temperaturas mais baixas beste caso. Por exemplo, formaldeidossulfoxilatos de metal álcali e ácido ascórbico são adequados.
Os exemplos a seguir são incluídos por fornecer orientação 10 adicional para aqueles versados na técnica par praticar a invenção reivindicada. Desta forma, estes exemplos não limitam a invenção como definido nas reivindicações em anexo. PreparaçÃo de SOLUçÂO de monômero: O ácido 2-acrilamido-2-metil-1-propano sulfônico (20 g, obtido 15 junto à Sigma-Aldrich®), 28 g N-(hidroximetil) acrilamida e 8,3 g de ureia (carbonildiamina) foram misturados junto com 44 g água deionizada sob forte agitação. Após os monômeros dissolverem, 1 g de dicloridrato de 2,2'- (azobis(2-metilpropionamidina)) foi adicionado à solução e a solução foi agitada até o dicloridrato de 2,2'-(azobis(2-metilpropionamidina)) ser dissolvido.
20 O dicloridrato de 2,2'-(azobis(2-metilpropionamidina)) foi obtido junto a Sigma-Aldrich®. A N-(hidroximetil)acrilamida e ureia foram obtidas junto a Sinopharm Chemical Reagent Co,Ltd., Shanghai, China.
£EVESTlMENTO para eletrodo: Um eletrodo de carbono (16 cm * 32 cm * 1,0 mm) preparado ao 25 pressionar uma lâmina de carbono ativo calenderado em uma malha de Ti e comprimido entre dois pedaços filmes de poli(eti1eno tereftalato) (PET) (16 cm * 32 cm) foi vedado em uma bolsa termoplástica enquanto 3 pequenas aberturas (10 mm de diâmetro) foram deixadas abertas na bolsa termoplástica. A solução "\ _—. M
P = - =-_ .- " === - "-= · "¥" m=="» ·-—— —— - — —— —— - => b
S * r 9 g + preparada foi adicionada à bolsa termoplástica através das aberturas. Toda a bolsa termoplástica foi então comprimida entre dois pedaços de placas de vidro (24 cm * 40 cm) com uma gaxeta de borracha tipo U (17 cm * 34 cm) localizada entre a bolsa termoplástica e as placas de vidro para garantir que toda a 5 superfície do eletrodo fosse imersa na solução. O conjunto foi coiocado em uma cabine a vácuo e desgaseificada por 6 minutos para acelerar o umedecimento da solução no eletrodo. Após isso, o conjunto foi retirado da cabine a vácuo e a gaxeta tipo U foi desfeita. O excesso de solução foi extrusado a partir da boisa termoplástica e presilhas foram utilizadas para 10 prender as duas placas de vidro uma a outra. CoIocar o novo conjunto em um forno a 80°C por 2,5 horas. Após o novo conjunto ser resfriado, o eletrodo revestido foi retirado e sua espessura foi medida por ser 1,1 mm comparada com 1,0 mm do eletrodo liso sem revestimento. Algumas amostras fragmento de polímero seco 15 foram tomadas a partir da bolsa termoplástica para testar a razão de l intumescimento e densidade de -SOi do polímero. A resistência e eficiência de corrente do eletrodo foram testadas em uma célula montada.
Razão de Intumescimento A amostra de polímero seco (0,327 .g) foi colocada em uma 20 pequena garrafa e 1,129 g de água destilada foi adicionada à garrafa. Após 24 horas, a amostra intumescida foi testada com NMR de baixo campo. Dois tipos de sinais de prótons apareceram nos espectros de NMR de baixo campo. Um é para a água adsoNida (água de intumescimento) e o outro é para água Iivre. O sinal de água livre tinha uma relação linear com a intensidade de prótons de 25 água livre, ou seja, ao alterar a quantidade total de água na amostra de polímero saturada de água, variação correspondente de intensidade de sinal de água livre foi tomada. Logo, uma função de regressão de quantidade de água Íivre com intensidade de prótons de água livre foi obtida. A quantidade de água
3 t N ? 10 ? · livre foi calculada a partir de intensidade de prótons de água livre através da !l função de regressão por ser 0,669 g. A quantidade de água adsorvida foi calcuiada como a seguir: água Adsorvida = água Total - água Livre = 1,129 g - 0,669 g = 0,46 g. Razão de intumescimento (peso) = (água adsorvida/polímero 5 seco)*1 00%=0,46/0,327*1 00°/)=140°/). Densidade DE -SO3' O polímero seco (1,32 g) foi encharcado em solução de HCl (200 ml, 1 N) por 24 horas. O polímero encharcado foi enxaguado com água deionizada até o filtrado se tornar neutral. Então colocaram o polímero em 10 solução de NaCl (100 ml, 1 N) para equilibrá-la por 24 horas. Foi retirado 10 ml da soIução equilibrada e titulados os 10 ml da solução equilibrado com soIução de NaOH (0,01 N). Densidade de -SO;f= AVNaOH * 0,01 N * 10 / polímero seco = (23,5 * 0,01 * 10) / 1,32 = 1,78 Milimoles por grama de polímero seco.
ResistÉncia 15 O eletrodo revestido foi reunido com um contraeletrodo de carbono nu enquanto um espaçado de fluxo de polímero (tamanho: 16 cm * 24 cm, espessura: 0,7 mm), que foi preparado por pressão a quente de uma malha de polímero em um filme de polímero acetato de etileno vinil (EVA) para formar um cana'l de fluxo, foi comprimido entre os dois eletrodos para testar a 20 resistência do mesmo a 1.600 ppm de solução de NaCl. O testador de bateria Land CT2001B e CT2001D junto a Wuhan Jinnuo Electronics Co., Ltd., Wuhan, China foi utilizado par ao teste e a corrente de carga foi de 1.250 mA.
A resistência do eletrodo revestido foi calculada conforme a seguir: Resistência = resistência de célula - resistência de solução - resistência 25 de contraeletrodo. A resistência de célula foi obtida através do testador de bateria Land CT2001B e CT2001D (resistência de cé!ula= AVoltagem/corrente = 0,125/1,25 = 0,10 Ohm). A resistência de solução foi calculada através da condutividade de solução (resistência e solução = 1 / condutividade*espessura
[ " 'e" b
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F + . 11 l 2, -= ? = 1/3,2*0,07 = 0,02 Ohm). A resistência de contraeletrodo foi pretestada em duas células de eletrodos de carbono lisos idênticos ao utilizar o mesmo é i l método de teste que o eletrodo revestido em que a resistência de célula = 0,12 Ohm e resistência de solução foi de 0,02 Ohm. A resistência de contraeletrodo 5 = (0,12-0,02)/2 = 0,05 Ohm. Logo, a resistência de eletrodo revestido = 0,10- 0,02-0,05 = 0,03 Ohm.
Para um estudo comparativo, um eletrodo de carbono de membrana modificada tradicional lX em que um pedaço da membrana lX (CR- 67, GE Water & Process Technologies, Watercown, MA, US) foi fixado em um 10 eletrodo de carbono liso, foi reunido com um eletrodo de carbono liso enquanto um espaçador de fluxo de polímero (tamanho: 16 cm * 24 cm, espessura: 0,7 mm) foi comprimido entre os dois eletrodos para testar a resistência do mesmo em 1600 ppm solução de NaCl. O testador de bateria Land CT2001B e CT2001D foi utilizado e a corrente de carga foi de 1.250 mA.
15 Resistência de eletrodo de carbono de membrana modificada lX = resistência de célula - resistência de solução - resistência de contraeletrodo. A resistência de célula = AVoltagem/corrente = 0,24/1,25 = 0,19 Ohm.
Resistência de solução = 1 /condutividade*espessura = 1/3,2*0,07 = 0,02 Ohm. Resistência de contraeietrodo = (0,12-0,02)/2 = 0,05 Ohm. Logo, a resistência 20 de eletrodo de carbono de membrana modificada lX = 0,19-0,02-0,05=0,12 Ohm. A resistência de eletrodo revestido foi de 15,36 Ohm * cm2 (0,03 Ohm * 512 cm') comparada com 61,44 ohm * cm2 (0,12 * 500 cm2) da eletrodo de carbono de membrana modificada lX.
25 EficÊnc1a DE Corrente A eficiência de corrente também foi testada em uma célula de dois eletrodos a 1.600 ppm de NaCl. A eficiência de corrente = (Mole de sal removido * 96.500 coulombs/mole) / (coulombs de cargas totais utilizadas). O mole de sal removido foi obtido através do cálculo da alteração de condutividade de solução a partir de solução alimentada para diluir solução para ser 4,4 mmol. As cargas totais utilizadas foram lidas através do testador de bateria Land CT2001B e CT2001D por ser 450 coulombs. Logo, eficiência 5 de corrente = (Mole de sal removido* 96.500 coulombs/mole) / (coulombs de cargas totais utilizadas) = (4,4 * 96.500 * 0,001 / 450) * 100% = 94,4%. As realizações descritas nesta invenção são exemplos de composições, estruturas, sistemas, e métodos que tem elementos correspondentes aos elementos da invenção citados nas reivindicações. Esta 10 descrição escrita pode habilitar aqueles versados na técnica para produzir e utilizar as realizações que têm elementos alternativos que também correspondem aos elementos da invenção citados nas reivindicações. O escopo da invenção logo inclui composições, estruturas, sistemas e métodos que não diferem a partir da linguagem literal das reivindicações, e inclui ainda 15 outras estruturas, sistemas e métodos com diferenças insignificantes da linguagem literal das reivindicações. Embora apenas determinados recursos e realizações tenham sido ilustrados e descritos nesta invenção, muitas modificações e alterações podem ocorrer à pessoa versada na técnica relevante. As reivindicações em anexo cobrem todas as tais modificações e 20 alterações.
L-

Claims (20)

F t n 1 í' . . ... b ±· ·+ ' w J · W- .. . 4 ·} :t « 'Y!-, . .pÍ ^. ?-k'¥ - ,¶ . Reivindicações . "%
1. MÉTODO QUE COMPREENDE COPOLIMERIZAR UM "" MONÔMERO, que compreende pelo menos dois grupos amida, um monômero da fórmula (a) "O " ll ti,cí {"NHal,oH" Rl 5 , e um ácido sulfônico ou monômero de sal, em que R1 é CH3 ou H.
2. MÉTODO, de acordo com a reivindicação 1, em que o ácido sulfônico ou monômero de sal é da fórmula (b):
O H3C—C~_C—X—Y_SO3H & R2 em que R'éCH3ouH;XéNHouOeYéa|qui|a.
10
3. MÉTODO, de acordo com a reivindicação 2, em que o ácido sulfônico ou monômero de sal é ácido 2-acrilamido-2-metilpropano sulfônico.
4. MÉTODO, de acordo com a reivindicação 1, em que o ácido sulfônico ou monômero de sa! é ácido 2-acri!amido-2-metilpropano 15 sulfônico, ácido estireno sulfônico, (met)-acrilatos de sulfoalquila, itaconatos de sulfoalquila, com um radical alquila C1 a C6, ou ácido vinilsulfônico e sais de amônio, de metal álcali ou de metal alcalino terroso dos mesmos.
5. MÉTODO, de acordo com a reivindicação 1, em que o ácido sulfônico ou monômero de sal é ácido 2-acrilamido-2-metilpropano 20 sulfônico, ácido estireno sulfônico, ácido p-estireno sulfônico, acrilato de sulfopropila, itaconato de sulfopropila ou ácido vinilsulfônico e sais de amônio, de sódio, de potássio e de cálcio dos mesmos.
Z y. . * -. + D "
6. MÉTODO, de acordo com a reivindicação 1, em que o © monômero da fórmula (a) é N-metilolacrilamida (Njhidroximetil) acrilamida, NMA), N-metilolmetacrilamida (NMMA), N-(isobutoximetil)-acri1amida (IBMA), N-(isobutoximetil)-metacrilamida ou N-(n-butoximetil)-acri!amida (NBMA).
5
7. MÉTODO, de acordo com a reivindicação 1, em que o monômero que compreende pelo menos dois grupos amida é selecionado a partir de carbonildiamina e um composto da fórmula (c)
O O H2NAR3ANH2 em que R3 é NH, radical alifático ou unidade de éter.
8. MÉTODO, de acordo com a reivindicação 1, em que o 10 monômero que compreende pelo menos dois grupos amida é selecionado a partir de biureto e succinamida.
9. MÉTODO, de acordo com a reivindicação 1, que compreende, adicionalmente, copolimerização na presença de um iniciador de radical livre.
15 10. MÉTODO, de acordo com a reivindicação 9, em que o iniciador de radical livre compreende persulfato de amônio ou de potássio, dicloridrato de 2,2'-(azobis(2-metilpropionamidina), peróxido de hidrogênio, ou peroxodifosfato de potássio, de sódio ou de amônio.
11. POLÍMERO PRODUZIDO PELO MÉTODO, conforme 20 definido na reivindicação 1.
12. MEMBRANA QUE COMPREENDE O POLÍMERO, conforme definido na reivindicação 11.
13. MÉTODO PARA REVESTIR UM ELETRODO, que compreende: 25 fornecer um eletrodo;
-"wm~ f; - + " T 3 b m " W m " e' W ©à € fornecer uma solução de um iniciador de radical livre, um monômero que compreende pelo menos dois grupos amida, um monômero da fórmula (a) o h,c ~ c Cnhch7oh&P r! e um ácido sulfônico ou monômero de sal; 5 molhar o eletrodo com a solução; e aquecer o eletrodo molhado; de modo que o monômero que compreende pelo menos dois grupos amida, o monômero da fórmula (a), e o ácido sulfônico ou monômero de sal são copolimerizados; 10 em que R1éCH3ouH.
14. MÉTODO, de acordo com a reivindicação 13, em que o ácido sulfônico ou monômero de sal é da fórmula (b): "o H,CÍ .m C|—x—y—s'o3h r2 emqueR'éCH3ouH;XéNHouOeYéalquila.
15 15. MÉTODO, de acordo com a reivindicação 14, em que o ácido sulfônico ou monômero de sal é ácido 2-acrilamido-2-metilpropano sulfônico.
16. MÉTODO, de acordo com a reivindicação 13, em que o ácido sulfônico ou monômero de sal é ácido p-estireno sulfônico.
20 17. MÉTODO, de acordo com a reivindicação 13, em que o monômero da fórmula (a) é N-(hidroximetil)acrilamida.
18. MÉTODO, de acordo com a reivindicação 13, em que o
W 4.
: 4 " ' \ 'Ü.
Y à 4 , " m m "" -\ 3'"~. , '"Í * e .G- '\ '[\ iniciador de radical livre é dicloridrato de 2,2'-(azobis(2-metilpropionamidina), "Z, ' §,\ -,. ,. \ \. persulfato de amônio, ou persulfato de potássio. 3 b
19. MÉTODO, de acordo com a reivindicação 13, em que o monômero que compreende pelo menos dois grupos amida ê carbonildiamina.
5
20. ELETRODO REVESTIDO POR MEIO DO MÉTODO, conforme definido na reivindicação 13.
) ) 6
1 '
Resumo S
"MÉTODO QUE COMPREENDE COPOLIMERIZAR UM MONÔMERO, POLÍMERO PRODUZIDO PELO MÉTODO, MEMBRANA QUE COMPREENDE O POLÍMERO, MÉTODO PARA REVESTIR UM ELETRODO
E ELETRODO REVESTIDO POR MEIO DO MÉTODO" Trata-se de um método que compreende: copolimerizar um monômero que compreende pelo menos dois grupos amida, um monômero da fórmula (a), e um ácido sulfônico ou monômero de sal, em que R1 é CH3 ou H.
Um polímero produzido pelo método é fornecido.
Um método para revestir um eletrodo é fornecido, que compreende: fornecer um eletrodo; fornecer uma solução de um iniciador de radical livre, um monômero que compreende pelo menos dois grupos amida, um monômero da fórmula (a), e um ácido sulfônico ou monômero de sal; molhar o eletrodo com a soiução; e aquecer o eletrodo molhado; através do qual o monômero que compreende pelo menos dois grupos amida, o monômero da fórmula (a), e o ácido sulfônico ou monômero de sal são copolimerizados; em que R' é CH3 ou H.
É fornecido um eletrodo revestido peio método.
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