AT413217B - Vorrichtung zum beizen von band- oder drahtförmigem material - Google Patents

Vorrichtung zum beizen von band- oder drahtförmigem material Download PDF

Info

Publication number
AT413217B
AT413217B AT0017702A AT1772002A AT413217B AT 413217 B AT413217 B AT 413217B AT 0017702 A AT0017702 A AT 0017702A AT 1772002 A AT1772002 A AT 1772002A AT 413217 B AT413217 B AT 413217B
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
pickling
cells
liquid
beizzelle
strands
Prior art date
Application number
AT0017702A
Other languages
English (en)
Other versions
ATA1772002A (de
Inventor
Jovan Dipl Ing Starcevic
Original Assignee
Andritz Ag Maschf
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Andritz Ag Maschf filed Critical Andritz Ag Maschf
Priority to AT0017702A priority Critical patent/AT413217B/de
Priority to EP03000498A priority patent/EP1333109A3/de
Priority to JP2003013821A priority patent/JP2004000903A/ja
Priority to KR10-2003-0006615A priority patent/KR20030066430A/ko
Priority to US10/356,728 priority patent/US20040226579A1/en
Publication of ATA1772002A publication Critical patent/ATA1772002A/de
Application granted granted Critical
Publication of AT413217B publication Critical patent/AT413217B/de

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G3/00Apparatus for cleaning or pickling metallic material
    • C23G3/02Apparatus for cleaning or pickling metallic material for cleaning wires, strips, filaments continuously
    • C23G3/023Apparatus for cleaning or pickling metallic material for cleaning wires, strips, filaments continuously by spraying
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G3/00Apparatus for cleaning or pickling metallic material
    • C23G3/02Apparatus for cleaning or pickling metallic material for cleaning wires, strips, filaments continuously

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



  Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beizen von band- oder drahtförmigem Material, mit Führungseinrichtungen für das Material in mehreren Schlangen mit vertikalen Abschnitten und Einrichtungen, um das Material in zumindest zwei vertikalen Beizzellen mit je zwei vertikalen Strängen mit einer Beizflüssigkeit in Kontakt zu bringen. 



  Eine derartige Anlage ist beispielsweise aus der AT 206 247 B1 bekannt, in welcher ein Beizturm beschrieben ist, der eine oder mehrere vertikal orientierte Schlangen eines band- oder drahtförmigen Materials aufnimmt und in welchem Beizturm Sprühdüsen zur Aufbringung des Beizmediums auf das Material vorgesehen sind. Eine ähnliche Anlage beschreibt die AT 218 331 B1 mit ihrem Beizturm, in welchem das vertikal in Schlingen geführte Beizgut durch eine das Beizgut umfassende Ringdüse mit dem Beizmedium besprüht wird, welches Beizmedium dann am Beizgut hinunterfliesst. Mit diesen Anlagen konnte bei guter Platzersparnis bezüglich der verbauten Fläche eine grosse Beizlänge erreicht werden. 



  In der AT 216 299 B ist eine Anlage mit vertikalen Beizzellen beschrieben, wobei jede Beizzelle zwei vertikale Stränge umfasst. Dabei ist überdies geoffenbart, dass die vertikale Höhe der Beizzellen bzw. der vertikalen Stränge veränderbar ist. Auch die DE 11 69 757 B, die US 2 529 762 A und die US 1 544 506 A zeigen Beizanlagen mit mehreren Beizzellen. 



  Sobald es aber erwünscht ist, auch beim rein chemischen Beizen eine variable Beizwirkung durch Veränderung der wirksamen Länge der Einwirkung des Beizmediums auf das Band zu ermöglichen, kann durch die feste Länge, welche das Beizgut in den beschriebenen Beiztürmen durchläuft, diese Aufgabe nicht erfüllt werden. Gleiches gilt für die herkömmlichen Horizontalbeizen, bei welchen das Beizgut durch wannenförmige Beizbottiche geführt wird, die mit dem Beizmedium gefüllt sind. Daher wurde, wie beispielsweise in der DE 42 40 572 A1 offenbart ist, eine Lösung vorgeschlagen, bei der zusätzlich Einspritzdüsen mit Möglichkeit variabler Ansteuerung in den Beizbottichen vorgesehen sind.

   Eine besonders exakte Abgrenzung der Bereiche mit hoher Beizwirkung von solchen mit niedriger Beizwirkung ist damit nicht möglich, ebenso nicht die Möglichkeit eine Mindestbeizlänge zu unterschreiten, welche durch die Länge des Beizbeckens gegeben ist. Selbst die Horizontalbeize gemäss der US 4 807 653 B1 mit ihren mehreren, hintereinander folgenden Zellen, welche durch Rollen abgedichtet sind, welche gleichzeitig auch das Beizgut führen, ermöglicht keine vollständige Trennung der einzelnen Abschnitte. Trotz Abquetschrollen wird immer eine gewisse Menge an Beizmedium auf dem horizontalen Beizgut verbleiben, allenfalls sogar in anschliessende Zellen mit Spülmedium verschleppt, und somit ist eine exakt bestimmbare Verkürzung der wirksamen Beizlänge mit vertretbarem Aufwand ebenfalls nicht möglich. 



  Es war daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Anlage der eingangs angegebenen Art derart zu verbessern, dass selbst bei rein chemischem Beizen eine exakte Veränderung bzw. Einstellung der wirksamen Beizlänge und damit eine genau bestimmbare variable Beizwirkung erzielt werden kann, wobei die platzsparende Bauweise der Anlage beibehalten werden sollte. 



  Zur Lösung dieser Aufgabe ist erfindungsgemäss vorgesehen, dass die einzelnen Zellen wahlweise und unabhängig voneinander zu- und wegschaltbar sind. Die vertikale Bauweise führt bei geringstem Platzbedarf an verbauter Fläche zu einer grossen maximalen Beizlänge, wobei durch das wahlweise Zu- oder Wegschalten gesamter Beizzellen eine exakte Veränderung der wirksamen Länge der Einwirkung des Beizmediums möglich ist, was wesentlich durch das verbesserte Abfliessen des Beizmediums vom vertikalen Beizgut bestimmt ist. 



  Vorteilhafterweise ist bei einer bevorzugten Ausführungsform vorgesehen, dass innerhalb zumindest einer, vorzugsweise aller Zellen die einzelnen Stränge wahlweise und unabhängig voneinander zu- und wegschaltbar sind. Damit ist natürlich eine noch feinere Unterteilung der möglichen wirksamen Beizlängen realisierbar. 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 



  Wenn gemäss einer vorteilhaften Ausführung der erfindungsgemässen Anlage zumindest fünf Beizzellen mit je zwei vertikalen Strängen vorgesehen sind, kann eine Veränderung der wirksamen Länge von 0 bis 100% in exakten 10%-Schritten, somit sehr fein unterteilt, erfolgen. 



  Gemäss einem weiteren Merkmal der Erfindung umfassen die Einrichtungen, um das Material mit einer Beizflüssigkeit in Kontakt zu bringen, auch Überläufe für ein wasserfallartiges Überfliessen. Damit ist auf einfache Weise ein aufgrund der Turbulenzen die Wirkung des Beizmediums optimal zur Geltung bringender Fallfilm des Beizmediums auf dem Beizgut zu erhalten. 



  Um dabei die Beizwirkung bei Bedarf und vorzugsweise nur zeitweilig zu erhöhen, können gemäss einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung zusätzlich, vorzugsweise in einer oder mehreren Beizzellen an der Einlaufseite der Anlage, über zumindest eine Hochdruckpumpe versorgte Hochdruckdüsen zum Aufspritzen des Beizmediums auf das Material vorgesehen sein. 



  Wenn ein Strang oder eine komplette Zelle nicht für die Beize des Materials genutzt werden, kann das Band gespült oder zumindest feucht gehalten werden, wenn an zumindest einem Strang zumindest einer Beizzelle Einrichtungen vorgesehen sind, um das Material mit einer Spülflüssigkeit in Kontakt zu bringen. 



  Zur alleinigen Feuchthaltung ohne richtige Spülwirkung ist eine Variante der erfindungsgemä-   #en   Anlage geeignet, bei welcher Nebeldüsen vorgesehen sind, um Spülflüssigkeit mit dem Material in Kontakt zu bringen. 



  Vereinfachungen beim apparativen Aufbau der Anlagen können bei einer Ausführungsform erzielt werden, bei welcher die Einrichtungen zur Zu- bzw. Abführung der Beizflüssigkeit bzw. Spülflüssigkeit und zur Speicherung und/oder Behandlung der Flüssigkeit für alle Stränge einer Beizzelle zu einer Anlage zusammengefasst sind. 



  Dabei kann vorteilhafterweise weiter vorgesehen sein, dass die Einrichtungen zur Zu- bzw. 



  Abführung der Beizflüssigkeit bzw. Spülflüssigkeit und zur Speicherung und/oder Behandlung der Flüssigkeit für zumindest zwei Beizzellen, allenfalls auch aller Beizzellen, zusammengefasst sind. 



  Eine zusätzliche Veränderung der wirksamen Beizlänge kann, wenn auch apparativ ein wenig aufwendiger als bei reinem Zu- bzw. Wegschalten einzelner Stränge oder Zellen, dadurch erreicht werden, dass in zumindest einer Beizzelle an sich bekannte Einrichtungen zur Veränderung der Höhe zumindest eines der vertikalen Stränge vorgesehen sind. Dies können beispielsweise höhenverstellbare Führungsrollen od. dgl. sein. 



  Um die chemische Beizwirkung zu unterstützen und/oder eine allgemeine elektrolytische Behandlung des Materials vornehmen zu können, können gemäss einem weiteren Merkmal der Erfindung in zumindest einem Strang, vorzugsweise in einer Beizzelle, Einrichtungen zur Beaufschlagung des Materials mit Strom vorgesehen sein. 



  In der nachfolgenden Beschreibung soll die Erfindung anhand von in den Zeichnungsfiguren schematisch dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert werden. Dabei zeigt die Fig. 1 eine erfindungsgemässe Anlage mit fünf zweisträngigen Beizzellen und allen Beizzellen gemeinsamem System für das Beizmedium, die Fig. 2 stellt eine Variante mit getrennten Systemen für die ersten drei bzw. die letzten zwei Beizzellen dar, und Fig. 3 zeigt eine Ausführungsform entsprechend Fig. 2 mit einem zusätzlichen Hochdruckteil. 



  Das zu behandelnde band- oder drahtförmige Beizgut 1, insbesonders Edelstahl-Warm- oder Kaltband, tritt über eine erste Umlenkrolle 2 in die Anlage ein und wird über diese, der ersten der zweisträngigen Beizzellen 3 zugehörigen Umlenkrolle 2 im wesentlichen vertikal nach unten 

 <Desc/Clms Page number 3> 

 in den ersten Strang 4 umgelenkt. An der tiefsten Stelle der Beizzelle 3 ist eine untere Umlenkrolle 5 vorgesehen, über welche das Beizgut 1 in den zweiten, wieder im wesentlichen vertikal verlaufenden Strang 6 der ersten Beizzelle 3 umgelenkt wird und nach oben zur zweiten oberen Umlenkrolle 7 gelangt.

   Diese zweite obere Umlenkrolle 7 gehört sowohl zur ersten Beizzelle 3 als auch zur zweiten Beizzelle 3a der Anlage, welche im dargestellten Ausführungsbeispiel den gleichen Aufbau aufweist wie die erste, vorhergehende Beizzelle 3 und auch die folgenden drei Beizzellen, nach welchen das Beizgut die Anlage über die letzte obere Umlenkrolle 8 wieder verlässt. 



  Die Höhe der einzelnen Beizzellen 3,3a kann je nach der Anzahl der vorhandenen Zellen und der gewünschten maximalen und/oder minimalen wirksamen Beizlänge variieren. Im Allgemeinen wird die wirksame Beizlänge der einzelnen Stränge, d. h. die Länge zwischen dem obersten Kontaktpunkt mit der Beizflüssigkeit 9 und deren Ablösung vom Beizgut 1 aber zwischen einem und 10 Metern liegen, wobei vorzugsweise Höhen zwischen 3 und 6 Metern gewählt werden, idealerweise etwa 3,5 Meter. Dann sind bei bevorzugt fünf Beizzellen 3,3a wirksame Beizlängen von maximal 35 Metern zu erreichen, jedoch auf einer horizontalen Länge von ca. 10 Metern, d. h. weniger als einem Drittel der Länge einer herkömmlichen Horizontalbeize. 



  Über die vorzugsweise fernsteuerbaren Absperreinrichtungen 10 jeder Beizzelle 3,3a, vorzugsweise jedes einzelnen Stranges 4,6, kann das Beizmedium, vorzugsweise Säure bzw. Mischsäure, dem jeweiligen Strang 4,6 über die Überläufe 11 zugeführt oder diese Zufuhr gedrosselt bzw. ganz gesperrt werden. Der allfällige Spülflüssigkeitskreislauf ist in den Zeichnungsfiguren nicht dargestellt, während der Kreislauf der Beizflüssigkeit schematisch zu erkennen ist, der neben den Beizzellen 3,3a und den Überläufen 11 (und/oder den Hochdruckdüsen) auch die entsprechenden Leitungssysteme 12, eine oder mehrere Pumpen 13, zumindest einen Tank 14 oder Auffangbehälter und zugehörige, nicht dargestellte Aufbereitungs-, Filter- und ähnliche Einrichtungen umfasst. Dabei kann der Tank 14, wie in Fig. 1 dargestellt ist, allen Beizzellen 3,3a zugeordnet sein.

   Eine Abquetschrolle 15 kann vorteilhafterweise an der letzten Umlenkrolle 8 vorgesehen sein, über welche das Beizgut 1 aus der Anlage austritt. 



  Fig. 2 und Fig. 3 hingegen zeigen beispielhaft eine Ausführungsform der erfindungsgemässen Anlage, bei welcher getrennte Systeme für das Beizmedium vorgesehen sind. Die drei ersten Beizzellen 3,3a der Anlage-besitzen einen gemeinsamen Kreislauf, charakterisiert durch die Pumpe 13a und den zugehörigen Tank 14ä. Die beiden letzten Beizzellen 3 der Anlage der Fig. 2 und Fig. 3 hingegen werden von einem separaten Kreislauf versorgt, in welchem sich die Pumpe 13 und der Tank 14 befinden. Dabei ist vorteilhafterweise beim Übergang zwischen der letzten Beizzelle 3 des ersten Kreislaufsystems 13a, 14a und der ersten Beizzelle 3 des zweiten Kreislaufsystems 13,14, welcher Übergang über die gemeinsame Umlenkrolle 7a erfolgt, ebenfalls eine Abquetschrolle 15a vorgesehen.

   Prinzipiell können separate Kreisläufe für das Beizmedium oder jegliche Art von in den Zellen 3 verwendeten Flüssigkeiten oder Medien für alle oder nur einzelne Beizzellen, Gruppen von Beizzellen oder auch nur einzelne Stränge 4, 6 einer oder mehrerer Beizzellen 3,3a vorgesehen sein. 



  Welche der Beizzellen 3,3a bzw. Stränge 4,6 bei gewünschter Verkürzung der wirksamen Beizlänge durch Schliessen der Absperreinrichtungen 10 weggeschaltet werden, hängt von der Art der Beize und der gewünschten Beizcharakteristik ab, wobei in den meisten Fällen das Wegschalten von dem Ende der Anlage her begonnen wird, an dem das Beizgut 1 eintritt. 



  Neben den Überläufen 11für ein wasserfallartiges Überfliessen, welches zu einem hoch turbulenten Fallfilm mit wesentlich erhöhter Wirksamkeit des Beizmediums und damit effizienterem Einsatz der verwendeten Säuren und/oder kleiner dimensionierbaren Pumpen usw. führt, können auch über eine Hochdruckpumpe 16 (siehe Fig. 3) aus dem jeweiligen Kreislaufsystem 13a, 14a versorgte Hochdruckdüsen 17 zum Aufspritzen des Beizmediums auf das band- oder drahtförmige Beizgut 1 vorgesehen sein. Damit kann die Beizwirkung noch weiter gesteigert werden. Diese Düsen 17 können allenfalls auch dazu verwendet werden, um Spülflüssigkeit, 

 <Desc/Clms Page number 4> 

 beispielsweise Wasser, auf das Beizgut 1 in denjenigen Zellen 3,3a aufzubringen, bei welchen die Zufuhr von Beizmedium gesperrt ist, um es in diesen Zellen feucht zu halten. 



  Eine weitere Möglichkeit der Veränderung der wirksamen Beizlänge ist eine Veränderung der Höhe, über die das Beizgut in den vertikalen Bereichen jeder Beizzelle 3,3a mit dem Beizmedium in Kontakt gebracht werden kann. Dies kann sowohl über eine Veränderung der Höhe der Überläufe 11 und/oder der Hochdruckdüsen 17 in Relation zur unteren Umlenkrolle 5 jeder Beizzelle geschehen, wozu entweder die Überläufe 11 bzw. Hochdruckdüsen 17 und/oder vorzugsweise die unteren Umlenkrollen 5 höhenverschiebbar sein können. 



  Einzelne oder alle Zellen 3,3a der erfindungsgemässen Anlage können auch Einrichtungen enthalten, welche der Beaufschlagung des Beizgutes 1 mit elektrischem Strom dienen, um die Beizwirkung zu unterstützen bzw. das elektrolytische Beizen oder auch andere elektrolytische Behandlungen unter Erzielen der oben erwähnten Vorteile zu ermöglichen. 



  Patentansprüche : 1. Vorrichtung zum Beizen von band- oder drahtförmigem Material, mit Führungseinrichtun- gen für das Material in mehreren Schlangen mit vertikalen Abschnitten und Einrichtungen, um das Material in zumindest zwei vertikalen Beizzellen (3,3a) mit je zwei vertikalen
Strängen (4,6) mit einer Beizflüssigkeit in Kontakt zu bringen, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelnen Beizzellen (3,3a) wahlweise und unabhängig voneinander zu- und weg- schaltbar sind.

Claims (1)

  1. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass innerhalb zumindest einer, vorzugsweise aller Zellen (3, 3a) die einzelnen Stränge (4, 6) wahlweise und unabhängig voneinander zu- und wegschaltbar sind.
    3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest fünf Beizzel- len (3,3a) mit je zwei vertikalen Strängen (4,6) vorgesehen sind.
    4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Einrich- tungen, um das Material (1) mit einer Beizflüssigkeit in Kontakt zu bringen, auch Überläufe (11) für ein wasserfallartiges Überfliessen umfassen.
    5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass zusätzlich, vorzugsweise in einer oder mehreren Beizzellen (3,3a) an der Einlaufseite der Anlage, über zumindest eine Hochdruckpumpe (16) versorgte Hochdruckdüsen (17) zum Aufspritzen des Beizmediums auf das Material (1) vorgesehen sind.
    6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass an zumin- dest einem Strang (4,6) zumindest einer Beizzelle (3,3a) Einrichtungen vorgesehen sind, um das Material (1) mit einer Spülflüssigkeit in Kontakt zu bringen.
    7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass Nebeldüsen vorgesehen sind, um Spülflüssigkeit mit dem Material (1) in Kontakt zu bringen.
    8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Einrich- tungen (10,11, 12,13, 14) zur Zu- bzw. Abführung der Beizflüssigkeit bzw. Spülflüssigkeit und zur Speicherung und/oder Behandlung der Flüssigkeit für alle Stränge (4,6) einer Beizzelle (3,3a) zu einer Anlage zusammengefasst sind.
    9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Einrichtungen (10, 11, 12, 13,14) zur Zu- bzw. Abführung der Beizflüssigkeit bzw. Spülflüssigkeit und zur Speiche- <Desc/Clms Page number 5> rung und/oder Behandlung der Flüssigkeit für zumindest zwei Beizzellen (3,3a), allenfalls auch aller Beizzellen (3,3a), zu einer gemeinsamen Anlage zusammengefasst sind.
    10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass in zumindest einer Beizzelle (3,3a) an sich bekannte Einrichtungen zur Veränderung der Höhe zumin- dest eines der vertikalen Stränge (4,6) vorgesehen sind.
    11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass in zumin- dest einem Strang (4,6), vorzugsweise in einer Beizzelle (3,3a), Einrichtungen zur Beauf- schlagung des Materials (1) mit Strom vorgesehen sind.
AT0017702A 2002-02-04 2002-02-04 Vorrichtung zum beizen von band- oder drahtförmigem material AT413217B (de)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AT0017702A AT413217B (de) 2002-02-04 2002-02-04 Vorrichtung zum beizen von band- oder drahtförmigem material
EP03000498A EP1333109A3 (de) 2002-02-04 2003-01-13 Vorrichtung zum Beizen von band- oder drahtförmigem Material
JP2003013821A JP2004000903A (ja) 2002-02-04 2003-01-22 帯状又は線状部材を酸洗いするための装置
KR10-2003-0006615A KR20030066430A (ko) 2002-02-04 2003-02-03 판재 또는 선재 산세 장치
US10/356,728 US20040226579A1 (en) 2002-02-04 2003-02-03 Apparatus and process for the continuous treatment of a continuous material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AT0017702A AT413217B (de) 2002-02-04 2002-02-04 Vorrichtung zum beizen von band- oder drahtförmigem material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
ATA1772002A ATA1772002A (de) 2005-05-15
AT413217B true AT413217B (de) 2005-12-15

Family

ID=3659227

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT0017702A AT413217B (de) 2002-02-04 2002-02-04 Vorrichtung zum beizen von band- oder drahtförmigem material

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20040226579A1 (de)
EP (1) EP1333109A3 (de)
JP (1) JP2004000903A (de)
KR (1) KR20030066430A (de)
AT (1) AT413217B (de)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4830513B2 (ja) * 2006-01-26 2011-12-07 Jfeスチール株式会社 溶融亜鉛めっき鋼板の洗浄方法および洗浄装置
KR100789866B1 (ko) * 2006-09-15 2007-12-28 주식회사 우남 룸미러겸용 터치스크린 카-내비게이션 및 디엠비 에이브이표시장치
US20120318297A1 (en) * 2011-06-16 2012-12-20 Owens Corning Intellectual Capital, Llc Washing system for cleaning a moving web
JP5482968B2 (ja) * 2012-01-18 2014-05-07 Jfeスチール株式会社 酸洗後の鋼板表面の黄変防止方法
US10689765B2 (en) * 2014-09-10 2020-06-23 Nakagawa Special Steel Inc. Method for cleaning wire and device therefor
DE102018117475A1 (de) * 2018-07-19 2020-01-23 Sms Group Gmbh Beizanlage zur Oberflächenbehandlung von Bandstahl
KR102088287B1 (ko) * 2019-12-19 2020-03-12 주식회사 디케이씨 수직형 연속 산세 설비

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1544506A (en) * 1923-04-04 1925-06-30 American Rolling Mill Co Metal-pickling process
US2529762A (en) * 1946-04-11 1950-11-14 Carnegie Illinois Steel Corp Method and apparatus for continuous cleaning of metal strip
AT216299B (de) * 1957-12-11 1961-07-25 Othmar Ing Ruthner Vorrichtung zum Beizen von band- oder drahtförmigem Material
DE1169757B (de) * 1959-06-18 1964-05-06 Beteiligungs & Patentverw Gmbh Kontinuierliche Bandbeizanlage

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1160273B (de) * 1958-08-28 1963-12-27 Fritz Stiehl Dipl Ing Turmartige Durchziehbeizanlage fuer draht- oder bandfoermiges Gut
AT206247B (de) * 1958-08-29 1959-11-10 Othmar Ing Ruthner Einrichtung zum Beizen von band- oder drahtförmigem Material
AT218331B (de) * 1960-09-08 1961-11-27 Othmar Ing Ruthner Beizanlage
JPS5952710B2 (ja) * 1977-10-19 1984-12-21 株式会社日立製作所 冷間圧延方法
JPS6335788A (ja) * 1986-07-31 1988-02-16 Nippon Steel Corp 帯状鋼板の連続酸洗法
US4807653A (en) * 1987-01-30 1989-02-28 Wean Industries, Inc. Continuous treating of a strip-like product
DE19901401A1 (de) * 1999-01-15 2000-07-27 Sms Demag Ag Verfahren und Vorrichtung zum Beizen und Reinigen von gewalztem Stahlband
JP2003096584A (ja) * 2001-09-25 2003-04-03 Fuji Photo Film Co Ltd 金属ウエブの洗浄用スプレー装置及び洗浄方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1544506A (en) * 1923-04-04 1925-06-30 American Rolling Mill Co Metal-pickling process
US2529762A (en) * 1946-04-11 1950-11-14 Carnegie Illinois Steel Corp Method and apparatus for continuous cleaning of metal strip
AT216299B (de) * 1957-12-11 1961-07-25 Othmar Ing Ruthner Vorrichtung zum Beizen von band- oder drahtförmigem Material
DE1169757B (de) * 1959-06-18 1964-05-06 Beteiligungs & Patentverw Gmbh Kontinuierliche Bandbeizanlage

Also Published As

Publication number Publication date
KR20030066430A (ko) 2003-08-09
JP2004000903A (ja) 2004-01-08
US20040226579A1 (en) 2004-11-18
EP1333109A3 (de) 2004-08-18
EP1333109A2 (de) 2003-08-06
ATA1772002A (de) 2005-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AT413217B (de) Vorrichtung zum beizen von band- oder drahtförmigem material
EP0399325B1 (de) Anordnung zur Behandlung und/oder Reinigung von Gut, insbesondere von mit Bohrungen versehenen Leiterplatten (Fall A)
DE69803138T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Metallbändern
EP0316859B2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum wassersparenden Waschen von laufenden Warenbahnen
DE2332547A1 (de) Vorrichtung zum fortlaufenden fluessigkeitsbehandeln, insbesondere aetzen, von gegenstaenden
DE3039303C2 (de) Vorrichtung zum kontinuierlichen Beizen eines Stahlbandes durch Säureangriff
EP1151149A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum beizen und reinigen von gewalztem stahlband
WO2006037430A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum reinigen von walzen
DE3137663A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum spuelen von textilgut
DE2502146A1 (de) Vorrichtung zum waschen oder dergl. behandeln von langgestrecktem material, insbesondere textilbahnen, -straengen oder dergl.
EP3824115B1 (de) Beizanlage zur oberflächenbehandlung von bandstahl
DE2513313C2 (de) Vorrichtung zum Verteilen der Waschflüssigkeit auf einem Trommelfilter
DE4308757C2 (de) Vorrichtung zum Abspritzen von Oberflächen
DE19834759C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Entfernen von Dendriten
DE2820471A1 (de) Verfahren und einrichtung zum kontinuierlichen nassbehandeln von strangfoermigem textilgut
DE2407084C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Waschen, Konservieren und Trocknen von Fahrzeugen
DE69201213T2 (de) Strasse zum Glühen und Beizen von Rostfreistahlbändern in Durchlaufverfahren.
EP0961842B1 (de) Vorrichtung und verfahren zum kontinuierlichen chemischen entzundern von metallband
AT152295B (de) Verfahren zum Waschen und Nachbehandeln von frisch gesponnener und geschnittener Stapelfaser (Zellwolle).
DE29708256U1 (de) Waschabteil
DE60221335T2 (de) Vorbehandlungstunnel und Verfahren zum Präparieren von Extrusionen oder Strängen vor einer Beschichtung mit Puder oder Flüssigkeit
DE29817750U1 (de) Vorrichtung zum Entfernen von Dendriten
WO2020020683A1 (de) Walzgerüst und verfahren zum kühlen der oberen arbeitswalze eines walzlgerüstes
DE8305511U1 (de) Wärmepumpe zur Entnahme von Wärme aus Wasser
EP0517711A1 (de) Kontinue-verfahren und -anlage zum bleichen einer textilen warenbahn.

Legal Events

Date Code Title Description
ELJ Ceased due to non-payment of the annual fee
MM01 Lapse because of not paying annual fees

Effective date: 20110515