WO2023053412A1 - はんだ実装用ランドを有する基板 - Google Patents

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solder
peripheral wall
bottom plate
solder mounting
lands
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光昭 戸田
光生 岩本
保行 片桐
隆之 三觜
利之 小林
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株式会社メイコー
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    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering

Definitions

  • the present invention relates to a substrate having solder mounting lands for soldering electronic components.
  • a solder mounting technology is used to mount electronic components such as circuit components and semiconductor elements at predetermined positions on the substrate body and to electrically connect the electronic components and conductor patterns formed on the substrate body, using solder to make fixed connections.
  • solder mounting the lands made of a conductive material formed on the surface of the substrate body and the terminals of the electronic component are connected by solder. Solder resist is applied around the land during solder mounting. This defines a joint region for solder mounting (see, for example, Patent Document 1).
  • the substrate body is laminated via the prepreg and the electronic component is embedded in the prepreg to form a multilayer substrate.
  • soldermask has a lower glass transition point than prepreg (because soldermask is made of a photosensitive material and contains acrylic, which has low heat resistance), and has a large coefficient of thermal expansion, so its heat resistance during reflow is low. . Therefore, stress is concentrated on the solder resist due to the difference in thermal expansion during reflow, and the solder resist is sheared. When such shear occurs, delamination occurs starting from the solder resist. Since soldermask has a thermal expansion difference with that of copper, which is the material of the conductive layer (land), this delamination can occur not only between the soldermask and prepreg, but also between the soldermask and the land, and even within the soldermask. I know it. As described above, from the viewpoint of delamination, the use of solder resist is not preferable, but a structure for blocking the solder by some means is required during solder mounting.
  • the present invention has been made in consideration of the above prior art, and an object of the present invention is to provide a substrate having solder mounting lands that do not cause delamination.
  • the present invention provides a metal bottom plate, a metal peripheral wall erected from the peripheral edge of the bottom plate, and a terminal of an electronic component which is formed by the peripheral wall and the bottom plate and is electrically connected to the terminal of the electronic component.
  • a board having solder mounting lands is provided, comprising a board body electrically connected to the mounting lands.
  • the electronic component is mounted on the board body via the solder mounting land and the solder, and the electronic component is arranged in an insulating layer made of an insulating material.
  • the lower side of the inner wall surface of the peripheral wall is formed with a taper that gradually expands in diameter.
  • the bottom plate and the peripheral wall are made of copper.
  • the bottom plate is made of copper, and the peripheral wall is made of Ni, Au, or Pd.
  • the lower side of the peripheral wall including the bottom plate and the taper is made of copper, and the upper side of the peripheral wall including the taper is made of Ni, Au or Pd.
  • the surface of the portion of the solder mounting land formed of the copper and exposed excluding the lower surface of the bottom plate has a surface roughness of 0.1 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less. .
  • the mounting surface which is the surface of the bottom plate on the solder accommodation space side, is covered with a surface treatment layer made of Ni, Au, Ag, or Sn.
  • both the bottom plate and the peripheral wall of the solder mounting land are made of metal, resin materials such as solder resist are not used for the peripheral wall. Therefore, there is no stress concentration during reflow, and the occurrence of delamination can be suppressed. Moreover, since it is made of metal, the heat resistance of the solder mounting land is also improved. When an electronic component is embedded in the insulating layer, the effect of preventing the occurrence of such delamination becomes remarkable. In addition, since the solder mounting lands themselves have uneven shapes on the bottom plate and the peripheral wall, when they are stacked with an insulating layer interposed therebetween, the solder mounting lands and the insulating layer mesh with each other to improve adhesion.
  • the inner wall surface of the peripheral wall is tapered on the lower side, the solder enters here, making it difficult for the solder to escape from the solder accommodation space. Therefore, the tensile strength of the part is improved, and the part can be prevented from coming off when pulled. Furthermore, since the taper increases the area of the mounting surface, which is the surface of the bottom plate on the side of the solder containing space, the contact area with the solder is increased, and the tensile strength of the solder is improved. Furthermore, since a large amount of solder can be accommodated, it is possible to prevent the solder from overflowing when the amount of solder is large and short-circuiting with an adjacent conductive circuit or the like.
  • both the bottom plate and the peripheral wall are made of copper, the prepreg and copper have high adhesion when laminated with an insulating layer, so a laminated substrate that is firmly adhered can be obtained. It is also relatively cheap to manufacture compared to other metals. Further, when the peripheral wall is formed by plating the bottom plate with copper, the adhesion between the bottom plate and the peripheral wall is higher than that of other metals.
  • solder corrosion of the peripheral wall by copper can be reduced. This effect is particularly noticeable when the width of the peripheral wall is small.
  • the solder mounting land and the insulating layer can be engaged with each other when laminated with an insulating layer interposed therebetween, and the adhesion can be improved.
  • Ni, Au, Ag, or Sn has high solder wettability, and solder spread during solder mounting can be improved.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a substrate having solder mounting lands according to the present invention
  • FIG. 1 is a schematic plan view of a substrate having solder mounting lands according to the present invention
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a substrate having solder mounting lands according to the present invention in a state where an electronic component is mounted
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a substrate having solder mounting lands according to the present invention in a state in which an electronic component is embedded
  • FIG. It is a schematic sectional drawing which shows an example of the land for solder mounting.
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing another example of a solder mounting land;
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing still another example of a solder mounting land;
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing still another example of a solder mounting land;
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing still another example of a solder mounting land;
  • a board 1 having solder mounting lands includes solder mounting lands 3 placed on a board body 2 .
  • the substrate body 2 has an insulating layer made of an insulating material, and further has plated through holes and conductor patterns for electrical connection with the solder mounting lands 3 .
  • the solder mounting land 3 has a metal bottom plate 4 and a metal peripheral wall 5 erected from the periphery of the bottom plate 4 .
  • a space formed by the bottom plate 4 and the peripheral wall 5 serves as a solder accommodation space 6 . That is, the solder mounting land 3 is formed by the bottom plate 4 and the peripheral wall 5 including the solder accommodation space 6 .
  • the peripheral wall 5 has a cylindrical shape.
  • the peripheral wall 5 is continuously formed in the circumferential direction.
  • the shape of the bottom plate 4 in plan view is not limited to a circular shape, and may be rectangular.
  • the height of the peripheral wall 5 is about 5 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less, although it depends on the amount of solder when reflowing.
  • the solder mounting lands 3 are electrically connected to the terminals 8 of the electronic component 7 via solder 9 . That is, the electronic component 7 is mounted on the board body 2 via the solder mounting lands 3 and the solder 9 . Even the component-mounting board on which the electronic component 7 is mounted in this manner is the board 1 having the solder mounting lands according to the present invention. Furthermore, as shown in FIG. 4, the electronic component 7 may be arranged in an insulating layer 10 made of an insulating material (for example, prepreg). Even the component-embedded substrate in which the electronic component 7 is embedded in this manner is the substrate 1 having the solder mounting lands according to the present invention.
  • both the bottom plate 4 and the peripheral wall 5 of the solder mounting land 3 are made of metal, the peripheral wall 5 does not use a resin material such as solder resist. Therefore, there is no stress concentration during solder reflow when mounting the electronic component 7, and the occurrence of delamination can be suppressed. Moreover, since the solder mounting lands 3 are made of such a metal, the heat resistance is also improved. In particular, when the electronic component 7 is embedded in the insulating layer 10, the effect of preventing the occurrence of such delamination becomes remarkable.
  • solder mounting lands 3 themselves have uneven shapes on the bottom plate 4 and the peripheral wall 5, when they are stacked with the insulating layer 10 interposed therebetween, the solder mounting lands 3 and the insulating layer 10 mesh with each other, resulting in good adhesion. increases. Therefore, a laminated substrate of good quality can be obtained.
  • solder accommodation space 6 is wider at the bottom than at the top.
  • solder enters the space below the taper 11 during solder mounting. For this reason, the solder is less likely to escape from the solder accommodation space 6 . Therefore, the tensile strength of the electronic component 7 is improved, and it is possible to prevent the electronic component 7 from coming off when it is pulled.
  • the area of the mounting surface 12, which is the surface of the bottom plate 4 on the side of the solder accommodating space 6, is increased by the taper 11 (the mounting surface 12 is increased by the diameter of the taper 11), so the contact area with the solder is increased. As a result, the tensile strength of the solder is improved.
  • the expansion of the mounting surface 12 depends on the amount of solder during reflow, but the extent of expansion is 0.1 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less. Further, the solder accommodation space 6 is widened on the lower side by the taper 11, so that a large amount of solder can be accommodated.
  • both may be made of copper as shown in FIG.
  • the bottom plate 4 may be made of copper and the peripheral wall 5 may be made of Ni, Au, or Pd.
  • the lower side of the peripheral wall 5 including the bottom plate 4 and the taper 11 may be made of copper, and the upper side of the peripheral wall 5 including the taper 11 may be made of Ni, Au, or Pd.
  • the material of the peripheral wall 5 differs in the middle of the taper 11 .
  • the peripheral wall 5 is formed on the bottom plate 4 by plating deposition.
  • both the bottom plate 4 and the peripheral wall 5 are made of copper, the prepreg and copper have high adhesion when laminated with the insulating layer 10, so a laminated substrate that is firmly adhered can be obtained. It is also relatively cheap to manufacture compared to other metals. Further, when the peripheral wall 5 is formed by plating the bottom plate 4 with copper, the adhesion between the bottom plate 4 and the peripheral wall 5 is higher than that of other metals. On the other hand, by forming the bottom plate 4 from copper and all or part of the peripheral wall 5 from Ni, Au, or Pd, solder corrosion of the peripheral wall 5 by copper can be reduced. This effect is particularly noticeable when the width of the peripheral wall 5 is small.
  • the width of the peripheral wall 5 is usually designed to be 10 ⁇ m or more and 500 ⁇ m or less. If the width is less than 10 ⁇ m, solder erosion occurs with a considerably high probability when the material of the peripheral wall 5 is copper. Reducing the width of the peripheral wall 5 is effective in securing the size of the mounting surface 12, so forming the peripheral wall 5 from Ni, Au, or Pd, which does not cause solder corrosion, is particularly effective. .
  • the portion of the solder mounting land 3 made of copper, which is exposed except for the lower surface of the bottom plate 4, has a surface roughness 13 of 0.1 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less. have. If the surface roughness 13 is provided on the surface of the exposed copper in this way, the solder mounting lands 3 and the insulating layer 10 can be meshed with each other when laminated with the insulating layer 10 interposed therebetween to improve adhesion. can.
  • the mounting surface 12 which is the surface of the bottom plate 4 on the solder accommodation space 6 side, may be covered with a surface treatment layer 14 made of Ni, Au, Ag, or Sn.
  • a surface treatment layer 14 made of Ni, Au, Ag, or Sn Ni, Au, Ag, or Sn has high solder wettability, and spread of solder during solder mounting can be improved.
  • the surface roughness 13 is provided in other portions formed of copper, high solder wettability can be ensured while ensuring adhesion to the insulating layer 10 .
  • solder mounting land 1: substrate having solder mounting land
  • 10 insulating layer

Abstract

はんだ実装用ランドを有する基板(1)は、金属製の底板(4)と、底板(4)の周縁から立設している金属製の周壁(5)と、周壁(5)及び底板(4)で形成されて電子部品の端子と電気的に接続するためのはんだが収容されるべきはんだ収容空間(6)と、はんだ収容空間(6)を含み底板(4)及び周壁(5)にて形成されているはんだ実装用ランド(3)と、はんだ実装用ランド(3)が載置されてはんだ実装用ランド(3)と電気的に接続する基板本体(2)とを備えている。

Description

はんだ実装用ランドを有する基板
　本発明は、電子部品をはんだ実装するためのはんだ実装用ランドを有する基板に関する。
　回路部品や半導体素子等の電子部品を基板本体の所定位置に載せ、この電子部品と基板本体に形成された導体パターンとを電気的に接続するため、はんだを用いて固定接続するはんだ実装技術が知られている。このはんだ実装の際、基板本体表面に形成された導電性材料からなるランドと電子部品の端子とをはんだにより接続している。はんだ実装時、ランドの周囲にはソルダレジストが配されている。これにより、はんだ実装の際の接合領域を規定している（例えば特許文献１参照）。電子部品を内蔵する際は、プリプレグを介して基板本体を積層させてプリプレグ内に電子部品を内蔵し、多層基板とする。
特開２０１０－０２７９１７号公報
　しかしながら、ソルダレジストはプリプレグに比べてガラス転移点が低く（ソルダレジストは感光性材料からなるので、耐熱性の低いアクリルを含むから）、そして熱膨張率も大きいため、リフロー時の耐熱性が低い。このため、リフロー時の熱膨張差によりソルダレジストに応力が集中し、せん断されてしまう。このようなせん断が生じると、ソルダレジストを起点としてデラミネーションが起こる。ソルダレジストは導電層（ランド）となる材料の銅とも熱膨張差があるので、このデラミネーションはソルダレジストとプリプレグとの間の他、ソルダレジストとランド、さらにはソルダレジスト内にも生じることが分かっている。このように、デラミネーションの発生という観点からは、ソルダレジストを用いることは好ましくないが、はんだ実装の際には何らかの手段ではんだをせき止めるための構造が必要である。
　本発明は、上記従来技術を考慮したものであり、デラミネーションの発生が生じることがないはんだ実装用ランドを有する基板を提供することを目的とする。
　前記目的を達成するため、本発明では、金属製の底板と、該底板の周縁から立設している金属製の周壁と、該周壁及び前記底板で形成されて電子部品の端子と電気的に接続するためのはんだが収容されるべきはんだ収容空間と、該はんだ収容空間を含み前記底板及び前記周壁にて形成されているはんだ実装用ランドと、該はんだ実装用ランドが載置されて前記はんだ実装用ランドと電気的に接続する基板本体とを備えたことを特徴とするはんだ実装用ランドを有する基板を提供する。
　好ましくは、前記基板本体に前記はんだ実装用ランド及び前記はんだを介して前記電子部品が搭載されていて、前記電子部品は絶縁材料からなる絶縁層内に配されている。
　好ましくは、前記周壁の内壁面下側は、徐々に拡径するテーパが形成されている。
　好ましくは、前記底板及び前記周壁は銅で形成されている。
　好ましくは、前記底板は銅で形成されていて、前記周壁はＮｉ又はＡｕ又はＰｄで形成されている。
　好ましくは、前記底板及び前記テーパを含む前記周壁の下側は銅で形成されていて、前記テーパを含む前記周壁の上側はＮｉ又はＡｕ又はＰｄで形成されている。
　好ましくは、前記はんだ実装用ランドの前記銅で形成されている部分であって、前記底板の下面を除いて露出している表面は、０．１μｍ以上１０μｍ以下の表面粗さを有している。
　好ましくは、前記底板の前記はんだ収容空間側の面である実装面はＮｉ又はＡｕ又はＡｇ又はＳｎからなる表面処理層にて覆われている。
　本発明によれば、はんだ実装用ランドは底板も周壁も金属製であるため、周壁にソルダレジスト等の樹脂材料が用いられていない。このため、リフロー時の応力集中がなく、デラミネーションの発生を抑制できる。また、金属製であるためはんだ実装用ランドの耐熱性も向上する。絶縁層にて電子部品を内蔵した場合に、このようなデラミネーションの発生の防止効果が顕著となる。また、はんだ実装用ランド自体が底板と周壁にて凹凸形状を有しているので、絶縁層を介して積層した場合にはんだ実装用ランドと絶縁層とが噛み合って密着性が高まる。
　また、周壁の内壁面下側にテーパが形成されているため、はんだがここに入り込み、はんだ収容空間からはんだが抜けにくくなる。このため、部品の引張り強度が向上し、部品が引張られた際に抜けてしまうことを防止できる。さらに、テーパにより底板のはんだ収容空間側の面である実装面の面積が広がるので、はんだとの接触面積が広がることになり、はんだの引張り強度が向上する。さらに、はんだも多く収容できるので、はんだ量が多かった場合にはんだが溢れてしまい、隣接する導電回路等とのショートを防止できる。
　また、底板と周壁の両方が銅で形成されていれば、絶縁層で積層した際にプリプレグと銅は密着性が高いので、強固に密着した積層基板を得ることができる。また、他の金属に比べて比較的安く製造できる。また、周壁を底板に対して銅めっきで形成した場合は、底板と周壁との密着力が他の金属に比べて高い。
　また、底板を銅で、周壁の全部又は一部をＮｉ又はＡｕ又はＰｄで形成することで、周壁に対する銅のはんだ溶食を低減できる。特に、周壁の幅が小さいときにこの効果は顕著となる。
　また、露出した銅の表面に表面粗さが設けられていれば、絶縁層を介して積層した場合にはんだ実装用ランドと絶縁層とを噛み合わせて密着性を高めることができる。
　また、Ｎｉ又はＡｕ又はＡｇ又はＳｎからなる表面処理層を設けることで、Ｎｉ又はＡｕ又はＡｇ又はＳｎははんだぬれ性が高く、はんだ実装の際のはんだの広がりを向上できる。
本発明に係るはんだ実装用ランドを有する基板の概略断面図である。 本発明に係るはんだ実装用ランドを有する基板の概略平面図である。 電子部品を搭載した状態の本発明に係るはんだ実装用ランドを有する基板の概略断面図である。 電子部品を内蔵した状態の本発明に係るはんだ実装用ランドを有する基板の概略断面図である。 はんだ実装用ランドの一例を示す概略断面図である。 はんだ実装用ランドの別の例を示す概略断面図である。 はんだ実装用ランドのさらに別の例を示す概略断面図である。 はんだ実装用ランドのさらに別の例を示す概略断面図である。 はんだ実装用ランドのさらに別の例を示す概略断面図である。
　図１に示すように、本発明に係るはんだ実装用ランドを有する基板１は、基板本体２に載置されているはんだ実装用ランド３を備えている。基板本体２は絶縁材料からなる絶縁層を有し、さらにはんだ実装用ランド３と電気的に接続するためのめっきスルーホールや導体パターンを有している。はんだ実装用ランド３は、金属製の底板４と、この底板４の周縁から立設している金属製の周壁５とを有している。底板４と周壁５とで形成された空間は、はんだ収容空間６となっている。すなわち、はんだ実装用ランド３は、はんだ収容空間６を含んで底板４及び周壁５で形成されている。図２に示すように、底板４が平面視で円形状であれば、周壁５は円筒形状となる。なお、周壁５は周方向に連続して形成されている。底板４の平面視での形状は円形状に限らず、角形状でもよい。また、周壁５の高さは、リフローする際のはんだ量にもよるがおよそ５μｍ以上２０μｍ以下である。
　図３に示すように、はんだ実装用ランド３は、電子部品７の端子８とはんだ９を介して電気的に接続される。すなわち、基板本体２にははんだ実装用ランド３及びはんだ９を介して電子部品７が搭載される。このように電子部品７が搭載された部品搭載基板であっても本発明に係るはんだ実装用ランドを有する基板１である。さらに図４に示すように、電子部品７が絶縁材料（例えばプリプレグ）からなる絶縁層１０内に配されていてもよい。このように電子部品７が内蔵された部品内蔵基板であっても本発明に係るはんだ実装用ランドを有する基板１である。
　このように、はんだ実装用ランド３は底板４も周壁５も金属製であるため、周壁５にソルダレジスト等の樹脂材料が用いられていない。このため、電子部品７を搭載する際のはんだリフロー時の応力集中がなく、デラミネーションの発生を抑制できる。また、はんだ実装用ランド３がこのような金属製であるため、耐熱性も向上する。特に、絶縁層１０にて電子部品７を内蔵した場合に、このようなデラミネーションの発生の防止効果が顕著となる。また、はんだ実装用ランド３自体が底板４と周壁５にて凹凸形状を有しているので、絶縁層１０を介して積層した場合にはんだ実装用ランド３と絶縁層１０とが噛み合って密着性が高まる。このため良質な積層基板を得ることができる。
　図５に示すように、はんだ実装用ランド３の周壁５の内壁面下側には、徐々に拡径するテーパ１１が形成されている。したがって、はんだ収容空間６は上側に比べて下側が広がっている。このように、周壁５の内壁面下側にテーパ１１が形成されているため、はんだ実装の際にはんだがテーパ１１の下側の空間に入り込む。このため、はんだ収容空間６からはんだが抜けにくくなる。したがって、電子部品７の引張り強度が向上し、電子部品７が引張られた際に抜けてしまうことを防止できる。さらに、テーパ１１により底板４のはんだ収容空間６側の面である実装面１２の面積が広がる（テーパ１１で拡径されている分だけ実装面１２が広がる）ので、はんだとの接触面積が広がることになり、はんだの引張り強度が向上する。実装面１２の広がりはリフローする際のはんだ量にもよるが、０．１μｍ以上１０μｍ以下が広がる程度である。さらに、テーパ１１によりはんだ収容空間６も下側にて広がり、はんだも多く収容できるので、はんだ量が多かった場合にはんだが溢れてしまい、隣接する導電回路等とのショートを防止できる。
　底板４と周壁５の材質であるが、図５のように両方ともに銅で形成してもよい。あるいは、図６に示すように、底板４が銅で、周壁５がＮｉ又はＡｕ又はＰｄで形成してもよい。あるいは、図７に示すように、底板４及びテーパ１１を含む周壁５の下側が銅で、テーパ１１を含む周壁５の上側がＮｉ又はＡｕ又はＰｄで形成してもよい。この場合は、テーパ１１の途中で周壁５の材質が異なるということになる。周壁５は底板４に対してめっき析出により形成される。
　底板４と周壁５の両方が銅で形成されていれば、絶縁層１０で積層した際にプリプレグと銅は密着性が高いので、強固に密着した積層基板を得ることができる。また、他の金属に比べて比較的安く製造できる。また、周壁５を底板４に対して銅めっきで形成した場合は、底板４と周壁５との密着力が他の金属に比べて高い。一方で、底板４を銅で、周壁５の全部又は一部をＮｉ又はＡｕ又はＰｄで形成することで、周壁５に対する銅のはんだ溶食を低減できる。特に、周壁５の幅が小さいときにこの効果は顕著となる。例えば、周壁５の幅は通常１０μｍ以上５００μｍ以下で設計されるが、１０μｍ未満であると、周壁５の材質が銅の場合はかなり高い確率ではんだ溶食が発生する。周壁５の幅を小さくすることは、実装面１２の大きさを確保するという点で有効であるため、周壁５をはんだ溶食が発生しないＮｉ又はＡｕ又はＰｄで形成することは特に有効である。
　図８に示すように、はんだ実装用ランド３の銅で形成されている部分であって、底板４の下面を除いて露出している表面は、０．１μｍ以上１０μｍ以下の表面粗さ１３を有している。このように露出した銅の表面に表面粗さ１３が設けられていれば、絶縁層１０を介して積層した場合にはんだ実装用ランド３と絶縁層１０とを噛み合わせて密着性を高めることができる。
　図９に示すように、底板４のはんだ収容空間６側の面である実装面１２は、Ｎｉ又はＡｕ又はＡｇ又はＳｎからなる表面処理層１４にて覆われていてもよい。このようにＮｉ又はＡｕ又はＡｇ又はＳｎからなる表面処理層１４を設けることで、Ｎｉ又はＡｕ又はＡｇ又はＳｎははんだぬれ性が高く、はんだ実装の際のはんだの広がりを向上できる。このとき、その他の銅で形成された部分には表面粗さ１３が設けられているため、絶縁層１０との密着性を確保しながら、高いはんだぬれ性を確保できる。
１：はんだ実装用ランドを有する基板、２：基板本体、３：はんだ実装用ランド、４：底板、５：周壁、６：はんだ収容空間、７：電子部品、８：端子、９：はんだ、１０：絶縁層、１１：テーパ、１２：実装面、１３：表面粗さ、１４：表面処理層

Claims (8)

  1. 　金属製の底板と、
    　該底板の周縁から立設している金属製の周壁と、
    　該周壁及び前記底板で形成されて電子部品の端子と電気的に接続するためのはんだが収容されるべきはんだ収容空間と、
    　該はんだ収容空間を含み前記底板及び前記周壁にて形成されているはんだ実装用ランドと、
    　該はんだ実装用ランドが載置されて前記はんだ実装用ランドと電気的に接続する基板本体とを備えたことを特徴とするはんだ実装用ランドを有する基板。
  2. 　前記基板本体に前記はんだ実装用ランド及び前記はんだを介して前記電子部品が搭載されていて、前記電子部品は絶縁材料からなる絶縁層内に配されていることを特徴とする請求項１に記載のはんだ実装用ランドを有する基板。
  3. 　前記周壁の内壁面下側は、徐々に拡径するテーパが形成されていることを特徴とする請求項１に記載のはんだ実装用ランドを有する基板。
  4. 　前記底板及び前記周壁は銅で形成されていることを特徴とする請求項１に記載のはんだ実装用ランドを有する基板。
  5. 　前記底板は銅で形成されていて、前記周壁はＮｉ又はＡｕ又はＰｄで形成されていることを特徴とする請求項１に記載のはんだ実装用ランドを有する基板。
  6. 　前記底板及び前記テーパを含む前記周壁の下側は銅で形成されていて、前記テーパを含む前記周壁の上側はＮｉ又はＡｕ又はＰｄで形成されていることを特徴とする請求項１に記載のはんだ実装用ランドを有する基板。
  7. 　前記はんだ実装用ランドの前記銅で形成されている部分であって、前記底板の下面を除いて露出している表面は、０．１μｍ以上１０μｍ以下の表面粗さを有していることを特徴とする請求項４～６のいずれかに記載のはんだ実装用ランドを有する基板。
  8. 　前記底板の前記はんだ収容空間側の面である実装面はＮｉ又はＡｕ又はＡｇ又はＳｎからなる表面処理層にて覆われていることを特徴とする請求項７に記載のはんだ実装用ランドを有する基板。
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