WO2022158463A1 - （メタ）アクリル酸グリシジル組成物 - Google Patents
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- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 title claims abstract description 159
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 title claims abstract description 157
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 120
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 86
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 81
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims abstract description 76
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 75
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims abstract description 74
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 70
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 67
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 claims abstract description 28
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 41
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical group CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- NIUZJTWSUGSWJI-UHFFFAOYSA-M triethyl(methyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(CC)CC NIUZJTWSUGSWJI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 25
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical group [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- -1 tetraalkylammonium halide Chemical class 0.000 claims description 18
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical group COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M sodium;4-methylbenzenesulfonate Chemical group [Na+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 17
- OPLCSTZDXXUYDU-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-6-tert-butylphenol Chemical compound CC1=CC(C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 OPLCSTZDXXUYDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical group [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 14
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 claims description 11
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 claims description 10
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 claims description 8
- KKVTYAVXTDIPAP-UHFFFAOYSA-M sodium;methanesulfonate Chemical compound [Na+].CS([O-])(=O)=O KKVTYAVXTDIPAP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 claims description 6
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 29
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 20
- 239000005043 ethylene-methyl acrylate Substances 0.000 description 18
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 17
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 17
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 14
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- 239000012085 test solution Substances 0.000 description 13
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 12
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 11
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 9
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 8
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 7
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 6
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 6
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YHRUOJUYPBUZOS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloropropane Chemical compound ClCCCCl YHRUOJUYPBUZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 5
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 5
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 5
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 5
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N calcium nitrate Chemical compound [Ca+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 4
- UXYBXUYUKHUNOM-UHFFFAOYSA-M ethyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C UXYBXUYUKHUNOM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 4
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 4
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011008 sodium phosphates Nutrition 0.000 description 4
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 4
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- IFDLXKQSUOWIBO-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloropropan-1-ol Chemical compound OC(Cl)CCCl IFDLXKQSUOWIBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000009421 Myristica fragrans Nutrition 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 3
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 3
- MLGFKQNIGKTEEV-UHFFFAOYSA-M diethyl(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)CC MLGFKQNIGKTEEV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 239000001115 mace Substances 0.000 description 3
- NQMRYBIKMRVZLB-UHFFFAOYSA-N methylamine hydrochloride Chemical compound [Cl-].[NH3+]C NQMRYBIKMRVZLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-N 1-dodecanesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCS(O)(=O)=O LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 2
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 2
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940071161 dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- QWDJLDTYWNBUKE-UHFFFAOYSA-L magnesium bicarbonate Chemical compound [Mg+2].OC([O-])=O.OC([O-])=O QWDJLDTYWNBUKE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H magnesium phosphate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 239000004137 magnesium phosphate Substances 0.000 description 2
- 229910000157 magnesium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229960002261 magnesium phosphate Drugs 0.000 description 2
- 235000010994 magnesium phosphates Nutrition 0.000 description 2
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 2
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000001577 simple distillation Methods 0.000 description 2
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 2
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DDKMFQGAZVMXQV-UHFFFAOYSA-N (3-chloro-2-hydroxypropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)CCl DDKMFQGAZVMXQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- ZJHQDSMOYNLVLX-UHFFFAOYSA-N diethyl(dimethyl)azanium Chemical compound CC[N+](C)(C)CC ZJHQDSMOYNLVLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Chemical class 0.000 description 1
- 239000002184 metal Chemical class 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical class C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- PVGBHEUCHKGFQP-UHFFFAOYSA-N sodium;n-[5-amino-2-(4-aminophenyl)sulfonylphenyl]sulfonylacetamide Chemical compound [Na+].CC(=O)NS(=O)(=O)C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 PVGBHEUCHKGFQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/38—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
- C07D303/40—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals by ester radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/38—Polymerisation using regulators, e.g. chain terminating agents, e.g. telomerisation
- C08F2/40—Polymerisation using regulators, e.g. chain terminating agents, e.g. telomerisation using retarding agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
- C08F20/32—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/13—Phenols; Phenolates
Definitions
- the present invention relates to a glycidyl (meth)acrylate composition. More particularly, the present invention relates to a glycidyl (meth)acrylate composition in which the phenol-based polymerization inhibitor contained in the glycidyl (meth)acrylate composition is resistant to deterioration and which can be stably stored for a long period of time. The present invention also provides a method for suppressing deactivation of a phenol-based polymerization inhibitor in a glycidyl (meth)acrylate resin composition.
- glycidyl (meth)acrylate refers to glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate.
- a representative method for synthesizing glycidyl (meth)acrylate is to use epichlorohydrin as a raw material.
- the methods are roughly classified into the following two methods.
- the first is a method of synthesizing glycidyl (meth)acrylate by reacting epichlorohydrin and an alkali metal salt of (meth)acrylic acid in the presence of a catalyst (Patent Documents 1 and 2).
- the second is a method of synthesizing glycidyl (meth)acrylate by reacting epichlorohydrin and (meth)acrylic acid in the presence of a catalyst, followed by a ring closure reaction with an alkaline aqueous solution (Patent Document 3).
- a quaternary ammonium salt is used as the catalyst.
- 1,3-dichloropropanol is a reaction by-product during the synthesis of glycidyl (meth)acrylate. Since 1,3-dichloropropanol has a boiling point close to that of glycidyl methacrylate and is difficult to separate by distillation, reduction treatment using a quaternary ammonium salt as a catalyst is sometimes performed (Patent Document 4).
- quaternary ammonium salts are widely used in the production process of glycidyl (meth)acrylate.
- Non-Patent Document 1 describes that the addition reaction of phenol to epoxy groups proceeds in the presence of a quaternary ammonium salt.
- a phenol-based polymerization inhibitor such as p-methoxyphenol is used as a polymerization inhibitor for glycidyl (meth)acrylate. Therefore, if a quaternary ammonium salt used in the manufacturing process is mixed in the product, the phenol-based polymerization inhibitor reacts with the epoxy group of glycidyl (meth)acrylate during storage, resulting in a glycidyl (meth)acrylate composition. There is concern that the amount of the phenol-based polymerization inhibitor present therein may decrease over time, or that unintended polymerization may occur.
- the present invention provides a glycidyl (meth)acrylate composition in which the phenol-based polymerization inhibitor contained in the glycidyl (meth)acrylate composition is resistant to deterioration (deactivation) and can be stably stored for a long period of time. .
- the present invention also provides a method for suppressing deactivation of a phenol-based polymerization inhibitor in a glycidyl (meth)acrylate resin composition.
- the present inventors have conducted intensive research to solve the above problems. As a result, the present inventors have found that the above problems can be solved by adding a strong acid salt to a glycidyl (meth)acrylate composition containing a quaternary ammonium salt, and have completed the present invention. That is, the present invention is as follows, for example.
- Phenol in the glycidyl (meth)acrylate composition including adjusting the content of the strong acid salt in the glycidyl (meth)acrylate composition to 0.50 equivalents or more in terms of substance amount relative to the quaternary ammonium salt A method for suppressing deactivation of a system polymerization inhibitor.
- the strong acid salt is selected from the group consisting of sulfonates, nitrates, and phosphates.
- the strong acid salt is alkylbenzenesulfonate or alkylsulfonate.
- ⁇ 4> The method according to ⁇ 3>, wherein the strong acid salt is sodium p-toluenesulfonate or sodium methanesulfonate.
- ⁇ 5> The method according to ⁇ 2>, wherein the strong acid salt is sodium nitrate.
- ⁇ 6> The method according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein the quaternary ammonium salt is a tetraalkylammonium halide.
- ⁇ 7> The method according to ⁇ 6>, wherein the quaternary ammonium salt is tetramethylammonium chloride or triethylmethylammonium chloride.
- ⁇ 8> The phenol-based polymerization inhibitor according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, which is p-methoxyphenol, hydroquinone, or Topanol A (2-(tert-butyl)-4,6-dimethylphenol).
- Method. ⁇ 9> The method according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>, wherein the glycidyl (meth)acrylate composition contains 0.50 equivalents or more of a strong acid salt relative to the quaternary ammonium salt.
- glycidyl (meth)acrylate is glycidyl methacrylate.
- a glycidyl (meth)acrylate composition comprising glycidyl (meth)acrylate, a quaternary ammonium salt, a strong acid salt, and a phenolic polymerization inhibitor.
- the strong acid salt is selected from the group consisting of sulfonates, nitrates, and phosphates.
- the strong acid salt is alkylbenzenesulfonate or alkylsulfonate.
- ⁇ 14> The glycidyl (meth)acrylate composition according to ⁇ 13>, wherein the strong acid salt is sodium p-toluenesulfonate or sodium methanesulfonate.
- the strong acid salt is sodium nitrate.
- ⁇ 16> The glycidyl (meth)acrylate composition according to any one of ⁇ 11> to ⁇ 15>, wherein the quaternary ammonium salt is a tetraalkylammonium halide.
- ⁇ 17> The glycidyl (meth)acrylate composition according to ⁇ 16>, wherein the quaternary ammonium salt is tetramethylammonium chloride or triethylmethylammonium chloride.
- ⁇ 18> The phenol-based polymerization inhibitor according to any one of ⁇ 11> to ⁇ 17>, which is p-methoxyphenol, hydroquinone, or Topanol A (2-(tert-butyl)-4,6-dimethylphenol).
- a glycidyl (meth)acrylate composition is p-methoxyphenol, hydroquinone, or Topanol A (2-(tert-butyl)-4,6-dimethylphenol.
- glycidyl (meth)acrylate composition according to any one of ⁇ 11> to ⁇ 18>, comprising a strong acid salt in an amount ratio of 0.50 equivalents or more to the quaternary ammonium salt.
- glycidyl (meth)acrylate composition according to any one of ⁇ 11> to ⁇ 19>, wherein the glycidyl (meth)acrylate is glycidyl methacrylate.
- a glycidyl (meth)acrylate composition in which the phenol-based polymerization inhibitor contained in the glycidyl (meth)acrylate composition is resistant to deterioration (deactivation) and can be stably stored for a long period of time. be able to.
- Glycidyl (meth)acrylate composition The glycidyl (meth)acrylate composition of the present invention comprises glycidyl (meth)acrylate, a quaternary ammonium salt, a strong acid salt and a phenolic polymerization inhibitor. Each component will be described below.
- Glycidyl (meth)acrylate refers to glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate.
- glycidyl (meth)acrylate may be glycidyl acrylate.
- glycidyl (meth)acrylate may be glycidyl methacrylate.
- glycidyl (meth)acrylate is glycidyl methacrylate.
- Glycidyl (meth)acrylate can be produced by a known production method.
- a representative method for producing glycidyl (meth)acrylate includes a method using epichlorohydrin (hereinafter sometimes referred to as “EpCH”) as a raw material.
- EpCH epichlorohydrin
- a method of synthesizing glycidyl (meth)acrylate by reacting an alkali metal salt of acrylic acid in the presence of a catalyst Patent Documents 1 and 2), and epichlorohydrin and (meth)acrylic acid in the presence of a catalyst.
- Patent Document 3 quaternary ammonium salts are used as catalysts.
- TMAC tetramethylammonium chloride
- EMAC trimethylethylammonium chloride
- dimethyldiethylammonium chloride triethylmethyl tetraalkylammonium halides
- EMC ammonium chloride
- EMC trialkylbenzylammonium halides
- the quaternary ammonium salt may be one of the above, or any two or more of them may be used in combination. Chloride and trimethylbenzylammonium chloride are preferably used. The amount of the catalyst used is usually 0.01 to 1.5 mol % relative to (meth)acrylic acid.
- the synthesis solution contains a large amount of solids such as alkali chloride, which is approximately equimolar to the produced glycidyl (meth)acrylate, in addition to the quaternary ammonium salt as a catalyst.
- the synthesis reaction is carried out with excess EpCH. Therefore, usually after the completion of the synthesis, after removing the solid matter from the synthetic solution by a method such as filtration or washing, the unreacted surplus EpCH is recovered by distillation, and then the glycidyl (meth)acrylate is recovered by distillation. Common. EpCH recovered by distillation is recycled as a synthetic raw material.
- the process up to the removal of solids from the synthetic liquid is referred to as the synthesis process
- the liquid obtained by removing the solids from the synthetic liquid is referred to as the mother liquor
- the process after the removal of the solids is referred to as the distillation process.
- the distillation process may be either a batch process or a continuous process, and simple distillation, rectification, thin film distillation, etc. can be appropriately combined.
- the synthesis step is preferably carried out in the presence of an appropriate polymerization inhibitor, and known compounds such as phenol compounds, phenothiazine compounds, N-oxyl compounds, amine compounds, phosphorus compounds, sulfur compounds, and transition metal compounds can be used. , preferably they are also used in the distillation process.
- polymerization can be further prevented by supplying molecular oxygen as needed.
- a phenol-based polymerization inhibitor such as p-methoxyphenol is generally used as a polymerization inhibitor for glycidyl (meth)acrylate.
- 1,3-dichloropropanol (hereinafter sometimes referred to as "1,3-DCP") is present as an impurity in the obtained glycidyl (meth)acrylate. included. Since 1,3-DCP has a boiling point very close to that of glycidyl (meth)acrylate, separation by distillation is impractical. That is, when glycidyl (meth)acrylate is recovered after recovering EpCH in the distillation step as described above, almost the entire amount of 1,3-DCP produced in the synthesis step is recovered together with glycidyl (meth)acrylate. put away.
- the quaternary ammonium salts added in the purification step include tetraalkylammonium halides such as tetramethylammonium chloride, trimethylethylammonium chloride, dimethyldiethylammonium chloride, triethylmethylammonium chloride, and tetraethylammonium chloride; Examples include trialkylbenzylammonium halides such as triethylbenzylammonium chloride. Only one quaternary ammonium salt may be added, or two or more may be used in combination. Chloride and trimethylbenzylammonium chloride are preferably used.
- the quaternary ammonium salt to be added may be the same as or different from that used in the synthesis.
- the amount of the quaternary ammonium salt to be used is 0.001 to 1%, preferably 0.01 to 0.5%, more preferably 0.02 to 0.4% relative to the crude glycidyl (meth)acrylate. . If the amount is less than this, the reaction becomes slow, and if it is more than this, it is economically disadvantageous.
- the shape of the quaternary ammonium salt used in the synthesis process and purification process is not particularly limited. It may be in a powdery or granular solid state, or in an aqueous solution or in a slurry-dispersed state in glycidyl (meth)acrylate in the purification step. Granular or powdery ones are usually used.
- the method of adding the quaternary ammonium salt is also not particularly limited.
- a solid it may be charged into a reactor using a hopper or the like, and in the case of a purification step, crude glycidyl (meth)acrylate or the like may be washed away and added. Although it may be divided and added several times, it is usually added at once.
- Glycidyl (meth)acrylate used in the present invention preferably has a purity of 97% or higher, more preferably 98% or higher, still more preferably 99% or higher, and even more preferably 99.5% or higher. .
- the purity of glycidyl (meth)acrylate can be measured by a conventional method, such as gas chromatography (GC).
- Quaternary ammonium salts are those used as reaction catalysts in the production process of glycidyl (meth)acrylate and those added in the purification process, which are added to the glycidyl (meth)acrylate composition. may be present in the glycidyl (meth)acrylate composition so as to remain in the composition.
- Examples of quaternary ammonium salts that may be present in the glycidyl (meth)acrylate composition include tetraalkyl salts such as tetramethylammonium chloride, trimethylethylammonium chloride, dimethyldiethylammonium chloride, triethylmethylammonium chloride and tetraethylammonium chloride. ammonium halides; and trialkylbenzylammonium halides such as trimethylbenzylammonium chloride and triethylbenzylammonium chloride.
- the quaternary ammonium salt that may be present in the glycidyl (meth)acrylate composition may be one of the above or a combination of any two or more.
- preferred quaternary ammonium salts that may be present in the glycidyl (meth)acrylate composition are tetramethylammonium chloride, triethylmethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, triethylbenzylammonium chloride, and trimethylbenzylammonium chloride. is.
- said quaternary ammonium salt that may be present in the glycidyl (meth)acrylate composition is a tetraalkylammonium halide.
- said quaternary ammonium salt that may be present in the glycidyl (meth)acrylate composition is tetramethylammonium chloride or triethylmethylammonium chloride.
- the present inventors have found that quaternary ammonium salts that can remain in the glycidyl (meth)acrylate composition or in the glycidyl (meth)acrylate product are present in the glycidyl (meth)acrylate composition. It was found that the reaction with the inhibitor reduces the amount of the phenol-based polymerization inhibitor in the system, which impairs the long-term storage stability of the glycidyl (meth)acrylate composition. Therefore, the present invention ensures long-term storage stability of the glycidyl (meth)acrylate composition by adjusting the content of the quaternary ammonium salt in the glycidyl (meth)acrylate composition.
- the content of the quaternary ammonium salt present in the glycidyl (meth)acrylate composition of the present invention may be 30 ppm or less. In one embodiment of the present invention, the content of said quaternary ammonium salts present in the glycidyl (meth)acrylate composition is 30 ppm, 20 ppm, 10 ppm, 9 ppm, 8 ppm, 7 ppm, 6 ppm, 5 ppm, 4 ppm, 3 ppm, It may be 2 ppm, 1 ppm, 0.9 ppm, 0.8 ppm, 0.7 ppm, 0.6 ppm, 0.5 ppm, 0.4 ppm, 0.3 ppm, 0.2 ppm, 0.1 ppm, and the like.
- the content of the quaternary ammonium salt present in the glycidyl (meth)acrylate composition of the present invention is preferably 10 ppm or less, more preferably 5 ppm or less, even more preferably 4 ppm or less, 3 ppm or less, 2 ppm or less, and even more preferably 1 ppm or less. If the content of the quaternary ammonium salt present in the glycidyl (meth)acrylate composition of the present invention is within the above range, the reaction between the quaternary ammonium salt and the phenolic polymerization inhibitor is appropriately suppressed. be able to.
- the strong acid salt used in the present invention is not particularly limited as long as it suppresses deactivation of the phenol-based polymerization inhibitor present in the glycidyl (meth)acrylate composition. Salts, nitrates, and phosphates are included.
- the strong acid salt may be selected from the group consisting of sodium, calcium, potassium, and magnesium salts of the above strong acids.
- the strong acid salt may be the sodium salt of the above strong acids.
- the strong acid salt may be the calcium salt of the above strong acids.
- the strong acid salt is the sodium salt of the above strong acids.
- the strong acid salt may be a sulfonate.
- the strong acid salt may be an alkylbenzenesulfonate or an alkylsulfonate.
- the strong acid salts are sodium alkylbenzenesulfonate, potassium alkylbenzenesulfonate, calcium bis(alkylbenzenesulfonate), magnesium bis(alkylbenzenesulfonate), sodium alkylsulfonate, potassium alkylsulfonate, bis( alkylsulfonate) calcium, bis(alkylsulfonate) magnesium, and the like.
- the strong acid salt may be p-toluenesulfonate, methanesulfonate, laurylsulfonate, dodecylbenzenesulfonate, benzenesulfonate, and the like.
- the strong acid salt is sodium p-toluenesulfonate (hereinafter also referred to as “p-TSANA”) or sodium methanesulfonate (hereinafter also referred to as “Me—SO 3 Na”).
- the strong acid salt may be a nitrate.
- the strong acid salt may be, for example, sodium nitrate ( NaNO3 ), calcium nitrate, potassium nitrate, magnesium nitrate, and the like.
- the strong acid is sodium nitrate.
- the strong acid salt may be phosphate.
- the strong acid salt may be, for example, sodium phosphate, calcium phosphate, potassium phosphate, magnesium phosphate and the like.
- the strong acid salt is sodium phosphate.
- the content of the strong acid salt in the glycidyl (meth)acrylate composition is adjusted to 0.50 equivalents or more in substance amount ratio with respect to the quaternary ammonium salt.
- the content of the strong acid salt in the glycidyl (meth)acrylate composition is 0.50 equivalents, 0.75 equivalents, 1.00 equivalents, 1.25 equivalents, 1 .50 equivalents, 1.75 equivalents, 2.00 equivalents, 2.50 equivalents, 3.00 equivalents, and the like.
- the content of the strong acid salt in the glycidyl (meth)acrylate composition is preferably 0.50 equivalents or more, more preferably 0.75 equivalents or more, still more preferably 1 .00 equivalent or more.
- the content of the strong acid salt in the glycidyl (meth)acrylate composition is adjusted to 0.50 equivalents or more in terms of substance amount ratio with respect to the quaternary ammonium salt. In a more preferred embodiment of the present invention, the content of the strong acid salt in the glycidyl (meth)acrylate composition is adjusted to 0.75 equivalents or more in substance amount ratio to the quaternary ammonium salt. In an even more preferred embodiment of the present invention, the content of the strong acid salt in the glycidyl (meth)acrylate composition is adjusted to 1.00 equivalents or more in terms of substance ratio with respect to the quaternary ammonium salt.
- the content of the strong acid salt in the glycidyl (meth)acrylate composition is 1.50 equivalents or less, 1.75 equivalents or less, and 2.5 equivalents or less relative to the quaternary ammonium salt. 00 equivalents or less, 2.50 equivalents or less, 3.00 equivalents or less, 5.00 equivalents or less, etc. can be appropriately adjusted.
- a phenolic polymerization inhibitor is a polymerization inhibitor commonly used in the production of glycidyl (meth)acrylate, and is present in the produced glycidyl (meth)acrylate composition. .
- Phenolic polymerization inhibitors used in the production of glycidyl (meth)acrylate of the present invention include, for example, p-methoxyphenol (hereinafter sometimes referred to as “MQ”), hydroquinone, and 2,6-di-tert-butyl. -4-methylphenol, 2,2′-methylene-bis(4-methyl-6-tert-butylphenol), Topanol A (2-(tert-butyl)-4,6-dimethylphenol) and the like, It is not limited to these.
- the phenolic polymerization inhibitor is preferably p-methoxyphenol, hydroquinone or Topanol A (2-(tert-butyl)-4,6-dimethylphenol), p-methoxyphenol or Hydroquinone is more preferred, and p-methoxyphenol is most preferred.
- the phenol-based polymerization inhibitor used in the production of glycidyl (meth)acrylate is usually added in an amount within the range of 0.0005 to 0.01 equivalents relative to the amount of the (meth)acryloyl group.
- the content of the phenolic polymerization inhibitor present in the produced glycidyl (meth)acrylate composition is in the range of 20-200 ppm, preferably in the range of 20-150 ppm.
- the content of the quaternary ammonium salt in the glycidyl (meth)acrylate composition is preferably 10 ppm or less. , more preferably 5 ppm or less, and even more preferably 1 ppm or less. If the content of the quaternary ammonium salt present in the glycidyl (meth)acrylate composition of the present invention is adjusted within the above range, the reaction between the quaternary ammonium salt and the phenolic polymerization inhibitor is appropriately suppressed. This ensures long-term storage stability of the glycidyl (meth)acrylate composition.
- the content of quaternary ammonium salt in the glycidyl (meth)acrylate composition may be 30 ppm or less.
- the quaternary ammonium salt is as described above. That is, in the method of suppressing deactivation of the phenol-based polymerization inhibitor in the glycidyl (meth)acrylate composition of the present invention, the quaternary ammonium salts include tetramethylammonium chloride, trimethylethylammonium chloride and dimethyldiethylammonium. tetraalkylammonium halides such as chloride, triethylmethylammonium chloride and tetraethylammonium chloride; and trialkylbenzylammonium halides such as trimethylbenzylammonium chloride and triethylbenzylammonium chloride.
- the quaternary ammonium salt may be used alone or in combination of two or more. Among the above, tetramethylammonium chloride, triethylmethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, and triethylbenzylammonium chloride are preferred. , and trimethylbenzylammonium chloride.
- said quaternary ammonium salt that may be present in the glycidyl (meth)acrylate composition is a tetraalkylammonium halide.
- said quaternary ammonium salt that may be present in the glycidyl (meth)acrylate composition is tetramethylammonium chloride or triethylmethylammonium chloride.
- the strong acid salt is as described above. That is, it is not particularly limited as long as it suppresses deactivation of the phenol-based polymerization inhibitor present in the glycidyl (meth)acrylate composition, but examples thereof include sulfonates, nitrates, and phosphates.
- the strong acid salt is the group consisting of sodium salts, calcium salts, potassium salts, and magnesium salts of the above strong acids. can be selected from In one embodiment of the invention, the strong acid salt may be the sodium salt of the above strong acids. In another embodiment of the invention, the strong acid salt may be the calcium salt of the above strong acids. In a preferred embodiment of the invention, the strong acid salt is the sodium salt of the above strong acids.
- the strong acid salt may be a sulfonate.
- the strong acid salt may be an alkylbenzenesulfonate or an alkylsulfonate.
- the strong acid salt is sodium alkylbenzenesulfonate, potassium alkylbenzenesulfonate, calcium bis(alkylbenzenesulfonate), magnesium bis(alkylbenzenesulfonate), sodium alkylsulfonate, potassium alkylsulfonate, bis( alkylsulfonate) calcium, bis(alkylsulfonate) magnesium, and the like.
- the strong acid salt may be p-toluenesulfonate, methanesulfonate, laurylsulfonate, dodecylbenzenesulfonate, benzenesulfonate, and the like.
- the strong acid salt is sodium p-toluenesulfonate or sodium methanesulfonate.
- the strong acid salt may be a nitrate.
- the strong acid salt may be, for example, sodium nitrate, calcium nitrate, potassium nitrate, magnesium nitrate, and the like.
- the strong acid is sodium nitrate.
- the strong acid salt may be a phosphate.
- the strong acid salt may be, for example, sodium phosphate, calcium phosphate, potassium phosphate, magnesium phosphate and the like.
- the strong acid salt is sodium phosphate.
- the content of the strong acid salt in the glycidyl (meth)acrylate composition is quaternary
- the substance amount ratio is adjusted to 0.50 equivalent or more with respect to the ammonium salt.
- the content of the strong acid salt in the glycidyl (meth)acrylate composition is 0.50 equivalents, 0.75 equivalents, 1.00 equivalents, 1.25 equivalents, 1 It may be adjusted to .50 equivalents, 1.75 equivalents, 2.00 equivalents, 2.50 equivalents, 3.00 equivalents, and the like.
- the content of the strong acid salt in the glycidyl (meth)acrylate composition is preferably 0.50 equivalents or more, more preferably 0.75 equivalents or more, still more preferably 1.5 equivalents or more, based on the substance amount ratio to the quaternary ammonium salt. 00 equivalents or more.
- the method for suppressing deactivation of the phenol-based polymerization inhibitor in the glycidyl (meth)acrylate composition comprises reducing the content of the strong acid salt in the glycidyl (meth)acrylate composition to It includes adjusting the substance amount ratio to 0.50 equivalent or more with respect to the quaternary ammonium salt.
- the method for suppressing deactivation of the phenol-based polymerization inhibitor in the glycidyl (meth)acrylate composition comprises reducing the content of the strong acid salt in the glycidyl (meth)acrylate composition to This includes adjusting the substance amount ratio to 0.75 equivalents or more with respect to the quaternary ammonium salt.
- the method for suppressing deactivation of the phenol-based polymerization inhibitor in the glycidyl (meth)acrylate composition comprises reducing the content of the strong acid salt in the glycidyl (meth)acrylate composition to , including adjusting the amount ratio of the substance to 1.00 equivalents or more with respect to the quaternary ammonium salt.
- the content of the strong acid salt in the glycidyl (meth)acrylate composition is 1.50 equivalents or less, 1.75 equivalents or less, and 2.5 equivalents or less relative to the quaternary ammonium salt. 00 equivalents or less, 2.50 equivalents or less, 3.00 equivalents or less, 5.00 equivalents or less, etc. can be appropriately adjusted.
- the phenol-based polymerization inhibitor is as described above. That is, in the method of suppressing deactivation of the phenol-based polymerization inhibitor in the glycidyl (meth)acrylate composition of the present invention, the phenol-based polymerization inhibitor may be, for example, p-methoxyphenol (hereinafter referred to as "MQ"). ), hydroquinone, 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, 2,2′-methylene-bis(4-methyl-6-tert-butylphenol), topanol A (2-(tert-butyl )-4,6-dimethylphenol) and the like, but are not limited thereto.
- MQ p-methoxyphenol
- the phenolic polymerization inhibitor is preferably p-methoxyphenol, hydroquinone or Topanol A (2-(tert-butyl)-4,6-dimethylphenol), p-methoxyphenol or Hydroquinone is more preferred, and p-methoxyphenol is most preferred.
- the phenol-based polymerization inhibitor used in the production of glycidyl (meth)acrylate is usually added in an amount within the range of 0.0005 to 0.01 equivalents relative to the amount of the (meth)acryloyl group.
- the content of the phenolic polymerization inhibitor present in the produced glycidyl (meth)acrylate composition is in the range of 20-200 ppm, preferably in the range of 20-150 ppm.
- the content of the quaternary ammonium salt present in the glycidyl (meth)acrylate composition is By adjusting the amount within a certain range, the reaction between the quaternary ammonium salt and the phenol-based polymerization inhibitor can be appropriately suppressed.
- a glycidyl (meth)acrylate composition is generally produced by purifying, by distillation, a reaction mixture obtained by reacting epichlorohydrin with (meth)acrylic acid or a metal salt of (meth)acrylic acid.
- the content of the quaternary ammonium salt and the strong acid salt in the glycidyl (meth)acrylate composition depends on the amount of the quaternary ammonium salt used during production, the distillation method when distilling and recovering the glycidyl (meth)acrylate, and the Adjust according to conditions.
- the amount of the quaternary ammonium salt added during production is preferably 0.0001 to 0.01 equivalents relative to the amount of the (meth)acryloyl group substance, and the amount of the strong acid salt added is the amount of the quaternary ammonium salt added. is preferably 0.5 to 3.0 equivalents in substance amount ratio.
- distillation methods include simple distillation and rectification, and the reflux ratio in rectification is preferably 0.1 to 3.0.
- Distillation conditions include, for example, temperature and pressure, and the temperature is preferably 40 to 120° C., and the pressure is preferably 0.05 to 10 kPaA.
- “Number of days required for 10% deterioration of the phenolic polymerization inhibitor” (unit: day) is the time until 10% of the phenolic polymerization inhibitor present in the produced glycidyl (meth)acrylate composition is deactivated. refers to the number of days In the method of the present invention, "the number of days required for 10% deterioration of the phenolic polymerization inhibitor” is preferably 20 days or more, more preferably 50 days or more, still more preferably 60 days or more, and most preferably. is 90 days or more.
- the number of days required for 10% deterioration of the phenol-based polymerization inhibitor is preferably twice or more, more preferably three times or more, more preferably five times, as compared to the case where no strong acid salt is added. More preferably, it is 10 times or more, and most preferably 10 times or more.
- reaction rate constant (unit: day ⁇ 1 ) is the rate constant of deterioration of the phenol-based polymerization inhibitor, and refers to k in the following formula (1).
- ⁇ d[I]/dt k[I] (1)
- [I] is the concentration of the phenol-based polymerization inhibitor. Since the deterioration of the phenol-based polymerization inhibitor is due to the reaction with glycidyl (meth)acrylate, the concentration of glycidyl (meth)acrylate should be taken into consideration when calculating the reaction rate.
- the concentration of glycidyl (meth)acrylate was assumed to be constant.
- the “reaction rate constant” is preferably 5.3 ⁇ 10 ⁇ 3 day ⁇ 1 or less, more preferably 2.1 ⁇ 10 ⁇ 3 day ⁇ 1 or less, and still more preferably 1 .8 ⁇ 10 ⁇ 3 day ⁇ 1 or less, and most preferably 1.2 ⁇ 10 ⁇ 3 day ⁇ 1 or less. It can be said that deactivation of the phenol-based polymerization inhibitor in the glycidyl (meth)acrylate composition is appropriately suppressed when the "reaction rate constant" is within the above range.
- Example 1 A predetermined amount of MQ and 5.00 ppm of triethylmethylammonium chloride ("EMAC”) were added to GMA of Reference Example 1 to prepare a test solution.
- the MQ concentration of the test liquid was 101.8 ppm.
- the test solution was stored at 25 ° C. under normal pressure air atmosphere, and the MQ concentration after storage for 15 days, 34 days, 49 days, and 61 days was quantified in the same manner as in Reference Example 2, and was 92.4 ppm. , 77.0 ppm, 65.8 ppm and 58.2 ppm. Further, the reaction rate constant calculated by the same method as in Example 3 was 9.32 ⁇ 10 ⁇ 3 day ⁇ 1 , and the time required for MQ to degrade by 10% was 11 days.
- EMC triethylmethylammonium chloride
- Example 1 In the test solution prepared in Comparative Example 1, sodium p-toluenesulfonate (Fuji Film Wako Pure Chemical special grade reagent, "p-TSANA”) was added to triethylmethylammonium chloride (“EMAC”) at a substance amount ratio of 0. 0.50 equivalents were added and stored at 25° C. under atmospheric pressure.
- MQ concentration was quantified in the same manner as in Reference Example 2, the MQ concentration at the start of the test was 101.8 ppm, whereas the MQ concentration after storage for 15 days, 34 days, 49 days, and 61 days was , 97.6 ppm, 91.4 ppm, 86.5 ppm and 82.7 ppm.
- Example 2 In the test solution prepared in Comparative Example 1, sodium p-toluenesulfonate (Fuji Film Wako Pure Chemical special grade reagent, "p-TSANA”) was added to triethylmethylammonium chloride (“EMAC”) at a substance amount ratio of 0. 0.75 equivalents were added and stored at 25° C. under atmospheric pressure.
- MQ concentration was quantified in the same manner as in Reference Example 2, the MQ concentration at the start of the test was 101.8 ppm, whereas the MQ concentration after storage for 15 days, 34 days, 49 days, and 61 days was , 99.7ppm, 97.2ppm, 95.9ppm and 94.8ppm.
- reaction rate constant calculated in the same manner as in Example 3 was 1.18 ⁇ 10 ⁇ 3 day ⁇ 1 , and the time required for MQ to deteriorate by 10% was 89 days, p-toluenesulfonic acid Addition of sodium decreased the denaturation rate of MQ.
- Example 3 To the test solution prepared in Comparative Example 1, sodium p-toluenesulfonate (Fuji Film Wako Pure Chemical special grade reagent, "p-TSANA”) is added to triethylmethylammonium chloride (“EMAC”) at a substance amount ratio of 1. 00 equivalents were added and stored at 25° C. under atmospheric pressure.
- MQ concentration was quantified in the same manner as in Reference Example 2, the MQ concentration at the start of the test was 101.8 ppm, whereas the MQ concentration after storage for 15 days, 34 days, 49 days, and 61 days was , 100.4 ppm, 99.1 ppm, 99.0 ppm and 99.2 ppm.
- reaction rate constant calculated in the same manner as in Example 3 was 4.36 ⁇ 10 ⁇ 4 day ⁇ 1
- time required for MQ to undergo 10% deterioration was 242 days
- p-toluenesulfonic acid Addition of sodium decreased the denaturation rate of MQ.
- Example 4 To the test solution prepared in Comparative Example 1, sodium p-toluenesulfonate (Fuji Film Wako Pure Chemical special grade reagent, "p-TSANA”) is added to triethylmethylammonium chloride (“EMAC”) at a substance amount ratio of 1. 0.25 equivalent was added and stored at 25° C. under atmospheric pressure.
- MQ concentration was quantified in the same manner as in Reference Example 2, the MQ concentration at the start of the test was 101.8 ppm, whereas the MQ concentration after storage for 15 days, 34 days, 49 days, and 61 days was , 101.3 ppm, 100.3 ppm, 100.3 ppm and 100.6 ppm.
- reaction rate constant calculated in the same manner as in Example 3 was 2.39 ⁇ 10 ⁇ 4 day ⁇ 1
- time required for MQ to undergo 10% deterioration was 442 days
- p-toluenesulfonic acid Addition of sodium decreased the denaturation rate of MQ.
- Example 5 To the test solution prepared in Comparative Example 1, sodium p-toluenesulfonate (Fuji Film Wako Pure Chemical special grade reagent, "p-TSANA”) is added to triethylmethylammonium chloride (“EMAC”) at a substance amount ratio of 1. 0.50 equivalents were added and stored at 25° C. under atmospheric pressure.
- MQ concentration was quantified in the same manner as in Reference Example 2, the MQ concentration at the start of the test was 101.8 ppm, whereas the MQ concentration after storage for 15 days, 34 days, 49 days, and 61 days was , 101.3 ppm, 100.4 ppm, 100.4 ppm and 100.8 ppm.
- reaction rate constant calculated in the same manner as in Example 3 was 2.05 ⁇ 10 ⁇ 4 day ⁇ 1
- time required for MQ to undergo 10% deterioration was 515 days
- p-toluenesulfonic acid Addition of sodium decreased the denaturation rate of MQ.
- Example 6 In the test solution prepared in Comparative Example 1, sodium methanesulfonate (Fujifilm Wako Pure Chemical special grade reagent, "Me-SO 3 Na”) was added to triethylmethylammonium chloride ("EMAC”) at a substance amount ratio of 1. 00 equivalents were added and stored at 25° C. under atmospheric pressure.
- MQ concentration was quantified in the same manner as in Reference Example 2, the MQ concentration at the start of the test was 101.8 ppm, whereas the MQ concentration after storage for 15 days, 34 days, 49 days, and 61 days was , 96.1 ppm, 88.5 ppm, 83.9 ppm and 81.1 ppm.
- the reaction rate constant calculated in the same manner as in Example 3 was 3.81 ⁇ 10 ⁇ 3 day ⁇ 1 , and the time required for MQ to degrade by 10% was 28 days. , the denaturation rate of MQ decreased.
- Example 7 To the test solution prepared in Comparative Example 1, sodium nitrate (Fuji Film Wako Pure Chemical special grade reagent, NaNO 3 ) was added to triethylmethylammonium chloride ("EMAC”) at a substance amount ratio of 1.00 equivalents, It was stored at 25°C under normal pressure air atmosphere.
- MQ concentration was quantified in the same manner as in Reference Example 2, the MQ concentration at the start of the test was 101.8 ppm, whereas the MQ concentration after storage for 15 days, 34 days, 49 days, and 61 days was , 94.2 ppm, 84.0 ppm, 78.2 ppm and 74.9 ppm.
- the reaction rate constant calculated in the same manner as in Example 3 was 5.16 ⁇ 10 ⁇ 3 day ⁇ 1 , and the time required for MQ to degrade by 10% was 20 days. The rate of alteration of was decreased.
- Example 8 A predetermined amount of MQ and 1.00 ppm of triethylmethylammonium chloride (“EMAC”) were added to GMA of Reference Example 1, and sodium p-toluenesulfonate (Fuji Film Wako Pure Chemical special grade reagent, "p-TSANA") was added to triethyl 0.50 equivalent was added to methylammonium chloride (“EMAC”) in terms of substance amount, and stored at 25° C. under normal pressure air atmosphere.
- MQ concentration was quantified in the same manner as in Reference Example 2, the MQ concentration at the start of the test was 99.3 ppm, whereas the MQ after storage for 10 days, 21 days, 32 days, 46 days, and 65 days.
- the concentrations were 98.2 ppm, 97.5 ppm, 96.7 ppm, 95.3 ppm and 94.2 ppm, respectively.
- the reaction rate constant calculated in the same manner as in Example 3 was 8.15 ⁇ 10 ⁇ 4 day ⁇ 1 , and the time required for MQ to degrade by 10% was 129 days. The addition decreased the rate of alteration of MQ.
- Example 9 A predetermined amount of MQ and 1.00 ppm of triethylmethylammonium chloride (“EMAC”) were added to GMA of Reference Example 1, and sodium p-toluenesulfonate (Fuji Film Wako Pure Chemical special grade reagent, "p-TSANA") was added to triethyl 0.75 equivalent was added to methylammonium chloride (“EMAC”) in terms of substance amount, and stored at 25° C. under normal pressure air atmosphere.
- MQ concentration was quantified in the same manner as in Reference Example 2, the MQ concentration at the start of the test was 99.3 ppm, whereas the MQ after storage for 10 days, 21 days, 32 days, 46 days, and 65 days.
- the concentrations were 98.8 ppm, 98.5 ppm, 98.1 ppm, 98.0 ppm and 97.2 ppm, respectively. Further, the reaction rate constant calculated by the same method as in Example 3 was 3.08 ⁇ 10 ⁇ 4 day ⁇ 1 , and the time required for MQ to undergo 10% deterioration was 342 days. The addition decreased the rate of alteration of MQ.
- Example 10 A predetermined amount of MQ and 1.00 ppm of triethylmethylammonium chloride (“EMAC”) were added to GMA of Reference Example 1, and sodium p-toluenesulfonate (Fuji Film Wako Pure Chemical special grade reagent, "p-TSANA") was added to triethyl 1.00 equivalents were added to methylammonium chloride (“EMAC”) in terms of substance amount, and stored at 25° C. under normal pressure air atmosphere.
- MQ concentration was quantified in the same manner as in Reference Example 2
- the MQ concentration at the start of the test was 99.3 ppm, whereas the MQ after storage for 10 days, 21 days, 32 days, 46 days, and 65 days.
- the concentrations were 98.2 ppm, 97.5 ppm, 96.7 ppm, 95.3 ppm and 94.2 ppm, respectively.
- the reaction rate constant calculated by the same method as in Example 3 was 1.35 ⁇ 10 ⁇ 4 day ⁇ 1 , and the time required for MQ to degrade by 10% was 781 days. The addition decreased the rate of alteration of MQ.
- Example 11 To the test solution prepared in Comparative Example 3, sodium p-toluenesulfonate (Fuji Film Wako Pure Chemical special grade reagent, "p-TSANA”) was added to tetramethylammonium chloride (“TMAC”) at a substance amount ratio of 1. 00 equivalents were added and stored at 25° C. under atmospheric pressure.
- TMAC tetramethylammonium chloride
- the concentrations were 99.4 ppm, 99.3 ppm, 99.1 ppm, 99.1 ppm and 98.8 ppm, respectively. Further, the reaction rate constant calculated by the same method as in Example 3 was 1.11 ⁇ 10 ⁇ 4 day ⁇ 1 , and the time required for MQ to undergo 10% deterioration was 948 days. The addition decreased the rate of alteration of MQ.
- Example 12 To the test solution prepared in Comparative Example 4, sodium p-toluenesulfonate (Fuji Film Wako Pure Chemical special grade reagent, "p-TSANA”) was added to triethylmethylammonium chloride (“EMAC”) at a substance amount ratio of 1. 00 equivalents were added and stored at 25° C. under atmospheric pressure.
- p-TSANA Triethylmethylammonium chloride
- the MQ concentration at the start of the test was 50.1 ppm, whereas the MQ after storage for 10 days, 21 days, 32 days, 46 days, and 65 days
- the concentrations were 49.9 ppm, 49.9 ppm, 49.6 ppm, 49.4 ppm and 49.1 ppm respectively.
- the reaction rate constant calculated in the same manner as in Example 3 was 3.04 ⁇ 10 ⁇ 4 day ⁇ 1 , and the time required for MQ to degrade by 10% was 347 days. The addition decreased the rate of alteration of MQ.
- EMAC triethylmethylammonium chloride
- TMAC tetramethylammonium chloride
- MQ p-methoxyphenol
- p-TSANA sodium p-toluenesulfonate
- Me-SO 3 Na sodium methanesulfonate
- NaNO 3 sodium nitrate
- AcONa sodium acetate
- the phenol-based polymerization inhibitor contained in the glycidyl (meth)acrylate composition is resistant to deterioration and can be stably stored for a long period of time (meth) ) is a glycidyl acrylate composition.
- the deterioration (deactivation) of the phenol-based polymerization inhibitor contained in the glycidyl (meth)acrylate composition can be appropriately suppressed.
- the glycidyl (meth)acrylate composition and method of the present invention contribute to ensuring long-term storage stability of the glycidyl (meth)acrylate composition.
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Abstract
（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に含まれるフェノール系重合禁止剤が変質しにくく、長期間安定に保管可能な（メタ）アクリル酸グリシジル組成物、並びに（メタ）アクリル酸グリシジル樹脂組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法が提供される。より詳細には、（メタ）アクリル酸グリシジルと、第４級アンモニウム塩と、強酸塩と、フェノール系重合禁止剤とを含む、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物、並びに、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量を第４級アンモニウム塩に対して一定の物質量比に調整することを含む、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法が提供される。
Description
本発明は、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物に関する。より詳細には、本発明は、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に含まれるフェノール系重合禁止剤が変質しにくく、長期間安定に保管可能な（メタ）アクリル酸グリシジル組成物に関する。本発明はまた、（メタ）アクリル酸グリシジル樹脂組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法も提供する。
（メタ）アクリル酸グリシジル組成物は樹脂改質剤、熱硬化性塗料、接着剤、繊維処理剤、帯電防止剤、およびイオン交換樹脂など種々の工業用原料として広く使用されている。当技術分野において、（メタ）アクリル酸グリシジルとは、アクリル酸グリシジル又はメタアクリル酸グリシジルを指す。
（メタ）アクリル酸グリシジルの代表的な合成方法として、エピクロロヒドリンを原料に用いる方法が挙げられる。その方法は大別すると以下の２つの方法に分類される。
１つ目は、エピクロロヒドリンと（メタ）アクリル酸のアルカリ金属塩とを触媒存在下で反応させ、（メタ）アクリル酸グリシジルを合成する方法である（特許文献１、２）。２つ目は、エピクロロヒドリンと（メタ）アクリル酸とを触媒の存在下で反応させ、その後、アルカリ水溶液で閉環反応させて（メタ）アクリル酸グリシジルを合成する方法である（特許文献３）。いずれの方法でも、触媒には第４級アンモニウム塩を使用する。
また、（メタ）アクリル酸グリシジル合成時の反応副生物として１、３－ジクロロプロパノールがある。１、３－ジクロロプロパノールはメタクリル酸グリシジルと沸点が近く、蒸留分離が困難であるため、第４級アンモニウム塩を触媒とした低減処理を行うことがある（特許文献４）。
以上のように、（メタ）アクリル酸グリシジルの製造プロセスでは第４級アンモニウム塩が広く用いられる。
一方で、非特許文献１には、第４級アンモニウム塩存在下でフェノールのエポキシ基への付加反応が進行することが記載されている。一般的に、（メタ）アクリル酸グリシジルの重合禁止剤としては、ｐ－メトキシフェノールなどフェノール系重合禁止剤が使用される。そのため、製品中に製造プロセスで使用する第４級アンモニウム塩が混入すると、保存中にフェノール系重合禁止剤が（メタ）アクリル酸グリシジルのエポキシ基と反応することで（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在するフェノール系重合禁止剤の量が継時的に減少したり、意図しない重合などが発生したりする懸念がある。
Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，２０１５，５１，１５１３３－１５１３６
そこで、本発明は、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に含まれるフェノール系重合禁止剤が変質（失活）しにくく、長期間安定に保管可能な（メタ）アクリル酸グリシジル組成物を提供する。本発明はまた、（メタ）アクリル酸グリシジル樹脂組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法も提供する。
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意研究を行った。その結果、第４級アンモニウム塩を含む（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中への強酸塩の添加により、上記課題が解決されうることを見出し、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明は、例えば以下の通りである。
＜１＞
（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量を第４級アンモニウム塩に対して物質量比で０．５０当量以上に調整することを含む、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法。
＜２＞
前記強酸塩が、スルホン酸塩、硝酸塩、及びリン酸塩からなる群より選択される、＜１＞に記載の方法。
＜３＞
前記強酸塩が、アルキルベンゼンスルホン酸塩又はアルキルスルホン酸塩である、＜２＞に記載の方法。
＜４＞
前記強酸塩がｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム又はメタンスルホン酸ナトリウムである、＜３＞に記載の方法。
＜５＞
前記強酸塩が、硝酸ナトリウムである、＜２＞に記載の方法。
＜６＞
前記第４級アンモニウム塩が、テトラアルキルアンモニウムハロゲニドである、＜１＞～＜５＞のいずれかに記載の方法。
＜７＞
前記第４級アンモニウム塩が、テトラメチルアンモニウムクロリドまたはトリエチルメチルアンモニウムクロリドである、＜６＞に記載の方法。
＜８＞
前記フェノール系重合禁止剤が、ｐ－メトキシフェノール、ヒドロキノン、又はトパノールＡ（２－（ｔｅｒｔ－ブチル）－４，６－ジメチルフェノール）である、＜１＞～＜７＞のいずれかに記載の方法。
＜９＞
（メタ）アクリル酸グリシジル組成物が、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で０．５０当量以上の強酸塩を含む、＜１＞～＜８＞のいずれかに記載の方法。
＜１０＞
（メタ）アクリル酸グリシジルが、メタクリル酸グリシジルである、＜１＞～＜９＞のいずれかに記載の方法。
＜１１＞
（メタ）アクリル酸グリシジルと、第４級アンモニウム塩と、強酸塩と、フェノール系重合禁止剤とを含む、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜１２＞
前記強酸塩が、スルホン酸塩、硝酸塩、及びリン酸塩からなる群より選択される、＜１１＞に記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜１３＞
前記強酸塩が、アルキルベンゼンスルホン酸塩又はアルキルスルホン酸塩である、＜１２＞に記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜１４＞
前記強酸塩がｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム又はメタンスルホン酸ナトリウムである、＜１３＞に記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜１５＞
前記強酸塩が、硝酸ナトリウムである、＜１２＞に記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜１６＞
前記第４級アンモニウム塩が、テトラアルキルアンモニウムハロゲニドである、＜１１＞～＜１５＞のいずれかに記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜１７＞
前記第４級アンモニウム塩が、テトラメチルアンモニウムクロリドまたはトリエチルメチルアンモニウムクロリドである、＜１６＞に記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜１８＞
前記フェノール系重合禁止剤が、ｐ－メトキシフェノール、ヒドロキノン、又はトパノールＡ（２－（ｔｅｒｔ－ブチル）－４，６－ジメチルフェノール）である、＜１１＞～＜１７＞のいずれかに記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜１９＞
第４級アンモニウム塩に対して物質量比で０．５０当量以上の強酸塩を含む、＜１１＞～＜１８＞のいずれかに記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜２０＞
（メタ）アクリル酸グリシジルが、メタクリル酸グリシジルである、＜１１＞～＜１９＞のいずれかに記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量を第４級アンモニウム塩に対して物質量比で０．５０当量以上に調整することを含む、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法。
＜２＞
前記強酸塩が、スルホン酸塩、硝酸塩、及びリン酸塩からなる群より選択される、＜１＞に記載の方法。
＜３＞
前記強酸塩が、アルキルベンゼンスルホン酸塩又はアルキルスルホン酸塩である、＜２＞に記載の方法。
＜４＞
前記強酸塩がｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム又はメタンスルホン酸ナトリウムである、＜３＞に記載の方法。
＜５＞
前記強酸塩が、硝酸ナトリウムである、＜２＞に記載の方法。
＜６＞
前記第４級アンモニウム塩が、テトラアルキルアンモニウムハロゲニドである、＜１＞～＜５＞のいずれかに記載の方法。
＜７＞
前記第４級アンモニウム塩が、テトラメチルアンモニウムクロリドまたはトリエチルメチルアンモニウムクロリドである、＜６＞に記載の方法。
＜８＞
前記フェノール系重合禁止剤が、ｐ－メトキシフェノール、ヒドロキノン、又はトパノールＡ（２－（ｔｅｒｔ－ブチル）－４，６－ジメチルフェノール）である、＜１＞～＜７＞のいずれかに記載の方法。
＜９＞
（メタ）アクリル酸グリシジル組成物が、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で０．５０当量以上の強酸塩を含む、＜１＞～＜８＞のいずれかに記載の方法。
＜１０＞
（メタ）アクリル酸グリシジルが、メタクリル酸グリシジルである、＜１＞～＜９＞のいずれかに記載の方法。
＜１１＞
（メタ）アクリル酸グリシジルと、第４級アンモニウム塩と、強酸塩と、フェノール系重合禁止剤とを含む、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜１２＞
前記強酸塩が、スルホン酸塩、硝酸塩、及びリン酸塩からなる群より選択される、＜１１＞に記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜１３＞
前記強酸塩が、アルキルベンゼンスルホン酸塩又はアルキルスルホン酸塩である、＜１２＞に記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜１４＞
前記強酸塩がｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム又はメタンスルホン酸ナトリウムである、＜１３＞に記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜１５＞
前記強酸塩が、硝酸ナトリウムである、＜１２＞に記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜１６＞
前記第４級アンモニウム塩が、テトラアルキルアンモニウムハロゲニドである、＜１１＞～＜１５＞のいずれかに記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜１７＞
前記第４級アンモニウム塩が、テトラメチルアンモニウムクロリドまたはトリエチルメチルアンモニウムクロリドである、＜１６＞に記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜１８＞
前記フェノール系重合禁止剤が、ｐ－メトキシフェノール、ヒドロキノン、又はトパノールＡ（２－（ｔｅｒｔ－ブチル）－４，６－ジメチルフェノール）である、＜１１＞～＜１７＞のいずれかに記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜１９＞
第４級アンモニウム塩に対して物質量比で０．５０当量以上の強酸塩を含む、＜１１＞～＜１８＞のいずれかに記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
＜２０＞
（メタ）アクリル酸グリシジルが、メタクリル酸グリシジルである、＜１１＞～＜１９＞のいずれかに記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
本発明によれば、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に含まれるフェノール系重合禁止剤が変質（失活）しにくく、長期間安定に保管可能な（メタ）アクリル酸グリシジル組成物を提供することができる。
１． （メタ）アクリル酸グリシジル組成物
本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物は、（メタ）アクリル酸グリシジルと、第４級アンモニウム塩と、強酸塩と、フェノール系重合禁止剤とを含む。以下、各成分について説明する。
本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物は、（メタ）アクリル酸グリシジルと、第４級アンモニウム塩と、強酸塩と、フェノール系重合禁止剤とを含む。以下、各成分について説明する。
１．１ （メタ）アクリル酸グリシジル
（メタ）アクリル酸グリシジルは、アクリル酸グリシジル及びメタアクリル酸グリシジルを指す。本発明の一実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジルは、アクリル酸グリシジルであってよい。本発明の別の実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジルは、メタクリル酸グリシジルであってよい。本発明の好ましい実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジルは、メタクリル酸グリシジルである。
（メタ）アクリル酸グリシジルは、アクリル酸グリシジル及びメタアクリル酸グリシジルを指す。本発明の一実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジルは、アクリル酸グリシジルであってよい。本発明の別の実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジルは、メタクリル酸グリシジルであってよい。本発明の好ましい実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジルは、メタクリル酸グリシジルである。
（メタ）アクリル酸グリシジルは、既知の製法により製造することができる。上述のように、（メタ）アクリル酸グリシジルの代表的な製法としては、エピクロロヒドリン（以下「ＥｐＣＨ」ということがある。）を原料に用いる方法が挙げられ、エピクロロヒドリンと（メタ）アクリル酸のアルカリ金属塩とを触媒存在下で反応させ、（メタ）アクリル酸グリシジルを合成する方法（特許文献１、２）と、エピクロロヒドリンと（メタ）アクリル酸とを触媒の存在下で反応させ、その後、アルカリ水溶液で閉環反応させて（メタ）アクリル酸グリシジルを合成する方法（特許文献３）の２つに大別される。そして、これらの方法では、触媒として第４級アンモニウム塩が使用される。
これらの製造方法において使用される第４級アンモニウム塩としては既知の物質が使用できるが、例えば、テトラメチルアンモニウムクロリド（以下「ＴＭＡＣ」ともいう）、トリメチルエチルアンモニウムクロリド、ジメチルジエチルアンモニウムクロリド、トリエチルメチルアンモニウムクロリド（以下「ＥＭＡＣ」ともいう）、テトラエチルアンモニウムクロリド等のテトラアルキルアンモニウムハロゲニド；並びにトリメチルベンジルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド等のトリアルキルベンジルアンモニウムハロゲニド等が挙げられる。第４級アンモニウム塩は上記の１種でも良く、任意の２種以上のものを組み合わせて使用しても良いが、上記の中でもテトラメチルアンモニウムクロリド、トリエチルメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、およびトリメチルベンジルアンモニウムクロリドが好適に使用される。触媒の使用量は、（メタ）アクリル酸に対して通常０．０１～１．５モル％である。
いずれの製造方法においても合成液中には触媒である第４級アンモニウム塩の他、生成した（メタ）アクリル酸グリシジルとほぼ等モルの塩化アルカリなど多量の固形物が含まれており、また、収率向上を目的として合成反応はＥｐＣＨ過剰で行なわれる。そこで、通常は合成終了後、濾過や水洗といった方法で合成液から固形物を除去した後、未反応の余剰のＥｐＣＨを蒸留によって回収し、次いで（メタ）アクリル酸グリシジルを蒸留によって回収するのが一般的である。蒸留によって回収されたＥｐＣＨは合成原料としてリサイクルされる。以下、合成液から固形物を除去するまでを合成工程といい、合成液から固形物を除去した液を母液、固形物を除去してからの工程を蒸留工程という。
蒸留工程は回分式でも連続式でも良く、単蒸留、精留、薄膜蒸留などを適宜組み合わせて行なうことができる。なお、合成工程は適当な重合禁止剤の存在下で行なうことが好ましく、フェノール系化合物、フェノチアジン化合物、Ｎ－オキシル化合物、アミン系、リン系、イオウ系、遷移金属系など既知のものが使用でき、これらを蒸留工程にも使用することが好ましい。また、必要に応じて分子状酸素を供給することにより、より一層重合を防止することができる。上述のように、一般的に、（メタ）アクリル酸グリシジルの重合禁止剤としては、ｐ－メトキシフェノールなどフェノール系重合禁止剤が使用される。
上記いずれの方法においてもＥｐＣＨを原料として使用するため、得られた（メタ）アクリル酸グリシジル中には不純物として１、３－ジクロロプロパノール（以下「１，３－ＤＣＰ」ということがある。）が含まれる。１，３－ＤＣＰはその沸点が（メタ）アクリル酸グリシジルと非常に近似しているため、蒸留による分離は非現実的である。つまり、上述のように蒸留工程においてＥｐＣＨを回収した後、（メタ）アクリル酸グリシジルを回収した場合、合成工程で生成した１，３－ＤＣＰはほとんど全量が（メタ）アクリル酸グリシジルと共に回収されてしまう。
例えば、メタクリル酸グリシジル（以下「ＧＭＡ」ともいう。）の精製工程において１，３－ＤＣＰを含む粗ＧＭＡに第４級アンモニウム塩を添加すると、下記式１に示す平衡反応が進行し、ＥｐＣＨと３－クロロ－２－ヒドロキシプロピルメタクリレート（以下「ＭＡＣＥ」ということがある。）が生成する。生成したＥｐＣＨはＧＭＡに対して低沸点成分であり、ＭＡＣＥはＧＭＡに対して十分沸点が高い。
（式１） １，３－ＤＣＰ ＋ ＧＭＡ → ＥｐＣＨ ＋ ＭＡＣＥ
（式１） １，３－ＤＣＰ ＋ ＧＭＡ → ＥｐＣＨ ＋ ＭＡＣＥ
精製工程において添加する第４級アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムクロライド、トリメチルエチルアンモニウムクロライド、ジメチルジエチルアンモニウムクロライド、トリエチルメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド等のテトラアルキルアンモニウムハロゲニド；並びにトリメチルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド等のトリアルキルベンジルアンモニウムハロゲニド等が例示される。添加する第４級アンモニウム塩は１種のみを使用しても良いし、２種以上を併用しても良いが、上記の中でもテトラメチルアンモニウムクロリド、トリエチルメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、およびトリメチルベンジルアンモニウムクロリドが好適に使用される。また、添加する第４級アンモニウム塩は合成で使用したものと同一でも良いし異なっていても良い。第４級アンモニウム塩の使用量は粗（メタ）アクリル酸グリシジルに対して０．００１～１％、好ましくは０．０１～０．５％、より好ましくは０．０２～０．４％である。これより少ないと反応が遅くなってしまい、多いと経済的に不利である。
合成工程及び精製工程で使用する第４級アンモニウム塩の形状については特に限定されない。粉状または粒状の固体状態でも良いし、精製工程の場合には水溶液または（メタ）アクリル酸グリシジル中にスラリーとして分散された状態でも良い。通常は粒状または粉状のものが使用される。
第４級アンモニウム塩の添加方法についても特に限定されない。固体の場合はホッパー等により反応器に投入しても良いし、精製工程の場合には粗（メタ）アクリル酸グリシジル等で押し流して添加しても良い。何度かに分けて分割投入しても良いが、通常は一度に添加される。
本発明において用いられる（メタ）アクリル酸グリシジルは、その純度が９７％以上であることが好ましく、より好ましくは９８％以上、さらに好ましくは９９％以上、さらにより好ましくは９９．５％以上である。（メタ）アクリル酸グリシジルの純度は、常法により測定することができるが、例えばガスクロマトグラフ（ＧＣ）法により測定することができる。
１．２ 第４級アンモニウム塩
第４級アンモニウム塩は、（メタ）アクリル酸グリシジルの製造工程において反応触媒として用いられたもの及び精製工程で添加されたものが、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に残存し得るために、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在し得る。
第４級アンモニウム塩は、（メタ）アクリル酸グリシジルの製造工程において反応触媒として用いられたもの及び精製工程で添加されたものが、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に残存し得るために、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在し得る。
（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在し得る第４級アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウムクロリド、トリメチルエチルアンモニウムクロリド、ジメチルジエチルアンモニウムクロリド、トリエチルメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド等のテトラアルキルアンモニウムハロゲニド；並びにトリメチルベンジルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド等のトリアルキルベンジルアンモニウムハロゲニドが挙げられる。（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在し得る第４級アンモニウム塩は、上記の１種でも良く、任意の２種以上のものの組合せであっても良い。（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在し得る第４級アンモニウム塩は、上記の中でも好ましくは、テトラメチルアンモニウムクロリド、トリエチルメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、およびトリメチルベンジルアンモニウムクロリドである。好ましい実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在し得る前記第４級アンモニウム塩は、テトラアルキルアンモニウムハロゲニドである。より好ましい実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在し得る前記第４級アンモニウム塩は、テトラメチルアンモニウムクロリドまたはトリエチルメチルアンモニウムクロリドである。
本発明者らは、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中あるいは（メタ）アクリル酸グリシジル製品中に残存し得る第４級アンモニウム塩が、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在するフェノール系重合禁止剤と反応することにより、系内のフェノール系重合禁止剤が減少し、これが（メタ）アクリル酸グリシジル組成物の長期間保存安定性を損なうものであることを見出した。そこで、本発明は、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の第４級アンモニウム塩の含量を調整することにより、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物の長期間保存安定性を担保するものである。
本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在する第４級アンモニウム塩の含量は、３０ｐｐｍ以下であってよい。本発明の一実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在する前記第４級アンモニウム塩の含量は、３０ｐｐｍ、２０ｐｐｍ、１０ｐｐｍ、９ｐｐｍ、８ｐｐｍ、７ｐｐｍ、６ｐｐｍ、５ｐｐｍ、４ｐｐｍ、３ｐｐｍ、２ｐｐｍ、１ｐｐｍ、０．９ｐｐｍ、０．８ｐｐｍ、０．７ｐｐｍ、０．６ｐｐｍ、０．５ｐｐｍ、０．４ｐｐｍ、０．３ｐｐｍ、０．２ｐｐｍ、０．１ｐｐｍなどであってよい。本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在する前記第４級アンモニウム塩の含量は、好ましくは１０ｐｐｍ以下であり、より好ましくは５ｐｐｍ以下であり、さらにより好ましくは４ｐｐｍ以下、３ｐｐｍ以下、２ｐｐｍ以下であり、さらに一層よりこのましくは１ｐｐｍ以下である。本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在する前記第４級アンモニウム塩の含量が上記の範囲にあれば、第４級アンモニウム塩とフェノール系重合禁止剤との反応を適切に抑制することができる。
１．３ 強酸塩
本発明において用いられる強酸塩は、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在するフェノール系重合禁止剤の失活を抑制するものであれば特に限定されないが、例えば、スルホン酸塩、硝酸塩、及びリン酸塩が挙げられる。
本発明において用いられる強酸塩は、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在するフェノール系重合禁止剤の失活を抑制するものであれば特に限定されないが、例えば、スルホン酸塩、硝酸塩、及びリン酸塩が挙げられる。
本発明の一実施形態において、強酸塩は、上記の強酸のナトリウム塩、カルシウム塩、カリウム塩、及びマグネシウム塩からなる群より選択され得る。本発明の一実施形態において、強酸塩は、上記の強酸のナトリウム塩であってよい。本発明の別の実施形態において、強酸塩は、上記の強酸のカルシウム塩であってよい。本発明の好ましい実施形態において、強酸塩は、上記の強酸のナトリウム塩である。
本発明の一実施形態において、強酸塩はスルホン酸塩であってよい。本発明の好ましい実施形態において、強酸塩は、アルキルベンゼンスルホン酸塩又はアルキルスルホン酸塩であってよい。本発明の好ましい実施形態において、強酸塩は、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、アルキルベンゼンスルホン酸カリウム、ビス（アルキルベンゼンスルホン酸）カルシウム、ビス（アルキルベンゼンスルホン酸）マグネシウム、アルキルスルホン酸ナトリウム、アルキルスルホン酸カリウム、ビス（アルキルスルホン酸）カルシウム、ビス（アルキルスルホン酸）マグネシウム等であってよい。本発明のより好ましい実施形態において、強酸塩は、ｐ－トルエンスルホン酸塩、メタンスルホン酸塩、ラウリルスルホン酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、等であってよい。本発明の更により好ましい実施形態において、強酸塩は、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（以下「ｐ－ＴＳＡＮａ」ともいう）又はメタンスルホン酸ナトリウム（以下「Ｍｅ－ＳＯ３Ｎａ」ともいう）である。
本発明の別の一実施形態おいて、強酸塩は硝酸塩であってよい。本発明の好ましい実施形態において、強酸塩は、例えば、硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ３）、硝酸カルシウム、硝酸カリウム、硝酸マグネシウム等であってよい。本発明のより好ましい実施形態において、強酸は硝酸ナトリウムである。
本発明の更に別の一実施形態において、強酸塩はリン酸塩であってよい。本発明のより好ましい実施形態において、強酸塩は、例えば、リン酸ナトリウム、リン酸カルシウム、リン酸カリウム、リン酸マグネシウム等であってよい。本発明の更により好ましい実施形態において、強酸塩はリン酸ナトリウムである。
本発明の一実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量は、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で０．５０当量以上に調整される。（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量は、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で、０．５０当量、０．７５当量、１．００当量、１．２５当量、１．５０当量、１．７５当量、２．００当量、２．５０当量、３．００当量などであってよい。（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量は、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で、好ましくは０．５０当量以上、より好ましくは０．７５当量以上、更に好ましくは１．００当量以上である。本発明の好ましい一実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量は、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で０．５０当量以上に調整される。本発明のより好ましい一実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量は、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で０．７５当量以上に調整される。本発明のさらにより好ましい一実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量は、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で１．００当量以上に調整される。本発明の実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量は、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で、１．５０当量以下、１．７５当量以下、２．００当量以下、２．５０当量以下、３．００当量以下、５．００当量以下、などに適宜調整することができる。
１．４ フェノール系重合禁止剤
フェノール系重合禁止剤は、（メタ）アクリル酸グリシジルの製造において一般的に用いられる重合禁止剤であり、製造された（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在する。
フェノール系重合禁止剤は、（メタ）アクリル酸グリシジルの製造において一般的に用いられる重合禁止剤であり、製造された（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在する。
本発明の（メタ）アクリル酸グリシジルの製造において用いられるフェノール系重合禁止剤としては、例えばｐ－メトキシフェノール（以下「ＭＱ」ということがある。）、ヒドロキノン、２，６－ジ－ｔｅｒｔ-ブチル－４－メチルフェノール、２，２’－メチレン－ビス（４－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、トパノールＡ（２－（ｔｅｒｔ－ブチル）－４，６－ジメチルフェノール）等が挙げられるが、これらに限定されない。本発明の実施形態において、フェノール系重合禁止剤は、ｐ－メトキシフェノール、ヒドロキノン又はトパノールＡ（２－（ｔｅｒｔ－ブチル）－４，６－ジメチルフェノール）であることが好ましく、ｐ－メトキシフェノール又はヒドロキノンであることがさらに好ましく、ｐ－メトキシフェノールであることが最も好ましい。
（メタ）アクリル酸グリシジルの製造において用いられるフェノール系重合禁止剤は、通常（メタ）アクリロイル基の物質量に対して０．０００５～０．０１当量の範囲の量で添加される。製造された（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在するフェノール系重合禁止剤の含量は、２０～２００ｐｐｍの範囲であり、好ましくは２０～１５０ｐｐｍの範囲である。
２．（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法
上述のように、本発明者らは、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中あるいは（メタ）アクリル酸グリシジル製品中に残存し得る第４級アンモニウム塩が、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在するフェノール系重合禁止剤と反応することにより、系内のフェノール系重合禁止剤が減少することを見出した。本発明はまた、このような本発明者等の発見に基づき、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強塩基の含量を第４級アンモニウム塩に対して一定の物質量比に調整することを含む、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法を提供する。
上述のように、本発明者らは、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中あるいは（メタ）アクリル酸グリシジル製品中に残存し得る第４級アンモニウム塩が、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在するフェノール系重合禁止剤と反応することにより、系内のフェノール系重合禁止剤が減少することを見出した。本発明はまた、このような本発明者等の発見に基づき、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強塩基の含量を第４級アンモニウム塩に対して一定の物質量比に調整することを含む、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法を提供する。
本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の第４級アンモニウム塩の含量は、好ましくは１０ｐｐｍ以下であり、より好ましくは５ｐｐｍ以下であり、さらにより好ましくは１ｐｐｍ以下であってよい。本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在する前記第４級アンモニウム塩の含量を上記の範囲に調整すれば、第４級アンモニウム塩とフェノール系重合禁止剤との反応を適切に抑制することができ、これは、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物の長期間保存安定性を担保するものである。本発明の好ましい実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の第４級アンモニウム塩の含量を３０ｐｐｍ以下であってよい。
第４級アンモニウム塩については、上述した通りである。すなわち、本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法において、第４級アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムクロライド、トリメチルエチルアンモニウムクロライド、ジメチルジエチルアンモニウムクロライド、トリエチルメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド等のテトラアルキルアンモニウムハロゲニド；並びにトリメチルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド等のトリアルキルベンジルアンモニウムハロゲニド等が例示される。第４級アンモニウム塩は１種のみであっても良いし、２種以上であっても良いが、上記の中でも好ましくは、テトラメチルアンモニウムクロリド、トリエチルメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、およびトリメチルベンジルアンモニウムクロリドである。本発明の方法における好ましい実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在し得る前記第４級アンモニウム塩は、テトラアルキルアンモニウムハロゲニドである。本発明の方法におけるより好ましい実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在し得る前記第４級アンモニウム塩は、テトラメチルアンモニウムクロリドまたはトリエチルメチルアンモニウムクロリドである。
強酸塩については、上述した通りである。すなわち、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在するフェノール系重合禁止剤の失活を抑制するものであれば特に限定されないが、例えば、スルホン酸塩、硝酸塩、及びリン酸塩が挙げられる。本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法において、強酸塩は、上記の強酸のナトリウム塩、カルシウム塩、カリウム塩、及びマグネシウム塩からなる群より選択され得る。本発明の一実施形態において、強酸塩は、上記の強酸のナトリウム塩であってよい。本発明の別の実施形態において、強酸塩は、上記の強酸のカルシウム塩であってよい。本発明の好ましい実施形態において、強酸塩は、上記の強酸のナトリウム塩である。
本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法の一実施形態において、強酸塩はスルホン酸塩であってよい。本発明の好ましい実施形態において、強酸塩は、アルキルベンゼンスルホン酸塩又はアルキルスルホン酸塩であってよい。本発明の好ましい実施形態において、強酸塩は、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、アルキルベンゼンスルホン酸カリウム、ビス（アルキルベンゼンスルホン酸）カルシウム、ビス（アルキルベンゼンスルホン酸）マグネシウム、アルキルスルホン酸ナトリウム、アルキルスルホン酸カリウム、ビス（アルキルスルホン酸）カルシウム、ビス（アルキルスルホン酸）マグネシウム等であってよい。本発明のより好ましい実施形態において、強酸塩は、ｐ－トルエンスルホン酸塩、メタンスルホン酸塩、ラウリルスルホン酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、等であってよい。本発明の更により好ましい実施形態において、強酸塩は、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム又はメタンスルホン酸ナトリウムである。
本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法の別の一実施形態おいて、強酸塩は硝酸塩であってよい。本発明の好ましい実施形態において、強酸塩は、例えば、硝酸ナトリウム、硝酸カルシウム、硝酸カリウム、硝酸マグネシウム等であってよい。本発明のより好ましい実施形態において、強酸は硝酸ナトリウムである。
本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法の更に別の一実施形態において、強酸塩はリン酸塩であってよい。本発明のより好ましい実施形態において、強酸塩は、例えば、リン酸ナトリウム、リン酸カルシウム、リン酸カリウム、リン酸マグネシウム等であってよい。本発明の更により好ましい実施形態において、強酸塩はリン酸ナトリウムである。
本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法の一実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量は、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で０．５０当量以上に調整される。（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量は、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で、０．５０当量、０．７５当量、１．００当量、１．２５当量、１．５０当量、１．７５当量、２．００当量、２．５０当量、３．００当量などに調整されてよい。（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量は、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で好ましくは０．５０当量以上、より好ましくは０．７５当量以上、更に好ましくは１．００当量以上に調整される。本発明の好ましい一実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法は、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量を、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で０．５０当量以上に調整することを含む。本発明のより好ましい一実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法は、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量を、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で０．７５当量以上に調整することを含む。本発明のさらにより好ましい一実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法は、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量を、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で１．００当量以上に調整することを含む。本発明の実施形態において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量は、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で、１．５０当量以下、１．７５当量以下、２．００当量以下、２．５０当量以下、３．００当量以下、５．００当量以下、などに適宜調整することができる。
フェノール系重合禁止剤については、上述した通りである。すなわち、本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法において、フェノール系重合禁止剤としては、例えばｐ－メトキシフェノール（以下「ＭＱ」ということがある。）、ヒドロキノン、２，６－ジ－ｔｅｒｔ-ブチル－４－メチルフェノール、２，２’－メチレン－ビス（４－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、トパノールＡ（２－（ｔｅｒｔ－ブチル）－４，６－ジメチルフェノール）等が挙げられるが、これらに限定されない。本発明の実施形態において、フェノール系重合禁止剤は、ｐ－メトキシフェノール、ヒドロキノン又はトパノールＡ（２－（ｔｅｒｔ－ブチル）－４，６－ジメチルフェノール）であることが好ましく、ｐ－メトキシフェノール又はヒドロキノンであることがさらに好ましく、ｐ－メトキシフェノールであることが最も好ましい。
（メタ）アクリル酸グリシジルの製造において用いられるフェノール系重合禁止剤は、通常（メタ）アクリロイル基の物質量に対して０．０００５～０．０１当量の範囲の量で添加される。製造された（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在するフェノール系重合禁止剤の含量は、２０～２００ｐｐｍの範囲であり、好ましくは２０～１５０ｐｐｍの範囲である。
本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法において、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在する前記第４級アンモニウム塩の含量を上述のように、一定の範囲に調整することにより、第４級アンモニウム塩とフェノール系重合禁止剤との反応を適切に抑制することができる。
（メタ）アクリル酸グリシジル組成物は、一般的に、エピクロロヒドリンと（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリル酸の金属塩の反応により得られる反応混合物を蒸留により精製することで製造する。（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の第４級アンモニウム塩および強酸塩含量は、製造時の第４級アンモニウム塩使用量および、（メタ）アクリル酸グリシジルを留出回収するときの蒸留の方法や条件により調整する。
製造時の第４級アンモニウム塩添加量は（メタ）アクリロイル基の物質量に対して０．０００１～０．０１当量とするのが好ましく、強酸塩の添加量は第４級アンモニウム塩の添加量に対して、物質量比で０．５～３．０当量とするのが好ましい。
蒸留方法としては例えば、単蒸留や精留などが挙げられ、精留における還流比は０．１～３．０とすることが好ましい。蒸留条件としては例えば温度、圧力などが挙げられ、温度は４０～１２０℃とすることが好ましく、圧力は０．０５～１０ｋＰａＡとすることが好ましい。
フェノール系重合禁止剤の失活抑制は、例えば、「フェノール系重合禁止剤の１０％変質にかかる日数」、「反応速度定数」を指標とすることができる。
「フェノール系重合禁止剤の１０％変質にかかる日数」（単位：ｄａｙ）とは、製造された（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に存在するフェノール系重合禁止剤の１０％が失活するまでの日数を指す。本発明の方法において、「フェノール系重合禁止剤の１０％変質にかかる日数」は、好ましくは２０日以上であり、より好ましくは５０日以上であり、更に好ましくは６０日以上であり、最も好ましくは９０日以上である。「フェノール系重合禁止剤の１０％変質にかかる日数」が上記の範囲にあれば、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活が適切に抑制されているといえる。また、「フェノール系重合禁止剤の１０％変質にかかる日数」は、強酸塩を添加しない場合と比較して、２倍以上となるのが好ましく、３倍以上となるのがより好ましく、５倍以上となるのがさらに好ましく、１０倍以上となるのが最も好ましい。
「反応速度定数」（単位：ｄａｙ－１）とは、フェノール系重合禁止剤の変質の速度定数であり、下記式（１）のｋを指す。
－ｄ[Ｉ]/ｄｔ＝ｋ[Ｉ] ・・・（１）
ここで、[Ｉ]はフェノール系重合禁止剤濃度である。なお、フェノール系重合禁止剤の変質は（メタ）アクリル酸グリシジルとの反応によるものであるため、本来は反応速度の算出の際に（メタ）アクリル酸グリシジルの濃度を考慮するべきであるが、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に含まれる（メタ）アクリル酸グリシジルはフェノール系重合禁止剤に対して過剰であるため、（メタ）アクリル酸グリシジルの濃度は一定であるとした。本発明の方法において、「反応速度定数」は、好ましくは５．３×１０－３ｄａｙ－１以下であり、より好ましくは２．１×１０－３ｄａｙ－１以下であり、更に好ましくは１．８×１０－３ｄａｙ－１以下であり、最も好ましくは１．２×１０－３ｄａｙ－１以下である。「反応速度定数」が上記の範囲にあれば、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活が適切に抑制されているといえる。
－ｄ[Ｉ]/ｄｔ＝ｋ[Ｉ] ・・・（１）
ここで、[Ｉ]はフェノール系重合禁止剤濃度である。なお、フェノール系重合禁止剤の変質は（メタ）アクリル酸グリシジルとの反応によるものであるため、本来は反応速度の算出の際に（メタ）アクリル酸グリシジルの濃度を考慮するべきであるが、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に含まれる（メタ）アクリル酸グリシジルはフェノール系重合禁止剤に対して過剰であるため、（メタ）アクリル酸グリシジルの濃度は一定であるとした。本発明の方法において、「反応速度定数」は、好ましくは５．３×１０－３ｄａｙ－１以下であり、より好ましくは２．１×１０－３ｄａｙ－１以下であり、更に好ましくは１．８×１０－３ｄａｙ－１以下であり、最も好ましくは１．２×１０－３ｄａｙ－１以下である。「反応速度定数」が上記の範囲にあれば、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活が適切に抑制されているといえる。
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
［参考例１］
純度９９．５％のメタクリル酸グリシジル（以下、「ＧＭＡ」ということがある）４０．０ｇと純水１０．０ｇを混合し、ボルテクスミキサーで３０秒間攪拌することでＧＭＡ中の塩成分を水相に溶解させた。前記混合物から水相を回収し、水相中のイオン成分を確認した。
純度９９．５％のメタクリル酸グリシジル（以下、「ＧＭＡ」ということがある）４０．０ｇと純水１０．０ｇを混合し、ボルテクスミキサーで３０秒間攪拌することでＧＭＡ中の塩成分を水相に溶解させた。前記混合物から水相を回収し、水相中のイオン成分を確認した。
具体的には、カチオンイオンクトマトグラフィーおよびアニオンイオンクロマトグラフィーを用いて、以下の条件で測定を行った。
＜カチオンイオンクロマトグラフィー＞
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ ＩＣ ＹＳ-５０（内径４．６ｍｍ、長さ１２５ｍｍ）
カラム温度：４０℃
溶離液：０．２ｍｍｏｌ／Ｌ硝酸水溶液
流速：０．８ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：電気伝導度検出器
試料注入量：１００μＬ
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ ＩＣ ＹＳ-５０（内径４．６ｍｍ、長さ１２５ｍｍ）
カラム温度：４０℃
溶離液：０．２ｍｍｏｌ／Ｌ硝酸水溶液
流速：０．８ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：電気伝導度検出器
試料注入量：１００μＬ
＜アニオンイオンクロマトグラフィー＞
カラム： 東ソー ＴＳＫｇｅｌ ＩＣ－Ａｎｉｏｎ－ＰＷ（内径４．６ｍｍ、長さ５０ｍｍ）
カラム温度：４０℃
溶離液：東ソー ＴＳＫｇｅｌ ｅｌｕｅｎｔ ＩＣ－Ａｎｉｏｎ－Ａ
流速：０．８ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：電気伝導度検出器
試料注入量：１００μＬ
カラム： 東ソー ＴＳＫｇｅｌ ＩＣ－Ａｎｉｏｎ－ＰＷ（内径４．６ｍｍ、長さ５０ｍｍ）
カラム温度：４０℃
溶離液：東ソー ＴＳＫｇｅｌ ｅｌｕｅｎｔ ＩＣ－Ａｎｉｏｎ－Ａ
流速：０．８ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：電気伝導度検出器
試料注入量：１００μＬ
カチオンイオンクロマトグラフィーおよびアニオンイオンクロマトグラフィーでの分析で、ピークが検出されなかったことから、製造されたＧＭＡには第４級アンモニウム塩等の塩成分が含まれないことを確認した。
［参考例２］
参考例１のＧＭＡにｐ－メトキシフェノール（富士フィルム和光純薬特級試薬）を所定量添加して、試験液とした。試験液を２５℃、常圧空気雰囲気下で保存して、ＭＱ濃度の減少を確認した。ＧＭＡ中のｐ－メトキシフェノール（ＭＱ）の濃度は高速液体クロマトグラフを用いて以下の条件で定量した。
参考例１のＧＭＡにｐ－メトキシフェノール（富士フィルム和光純薬特級試薬）を所定量添加して、試験液とした。試験液を２５℃、常圧空気雰囲気下で保存して、ＭＱ濃度の減少を確認した。ＧＭＡ中のｐ－メトキシフェノール（ＭＱ）の濃度は高速液体クロマトグラフを用いて以下の条件で定量した。
＜ｐ－メトキシフェノールの定量（高速液体クロマトグラフ）＞
カラム：東ソー ＴＳＫｇｅｌ ＯＤＳ－１２０Ｔ（粒子径５μｍ、内径４．６ｍｍ、長さ２５ｃｍ）
カラム温度：４０℃
溶離液：アセトニトリル／純水／酢酸＝７００／３００／１（体積比）
流速：０．８ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：紫外可視分光検出器（波長：２８５ｎｍ）
試料注入量：５μＬ
保持時間：ＭＱ（４．５ｍｉｎ）
カラム：東ソー ＴＳＫｇｅｌ ＯＤＳ－１２０Ｔ（粒子径５μｍ、内径４．６ｍｍ、長さ２５ｃｍ）
カラム温度：４０℃
溶離液：アセトニトリル／純水／酢酸＝７００／３００／１（体積比）
流速：０．８ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：紫外可視分光検出器（波長：２８５ｎｍ）
試料注入量：５μＬ
保持時間：ＭＱ（４．５ｍｉｎ）
試験開始時のＭＱ濃度は１０２．４ｐｐｍであったのに対し、９０日保存後のＭＱ濃度は１０２．１ｐｐｍであり、ＭＱはほとんど変質（失活）していなかった。
［比較例１］
参考例１のＧＭＡにＭＱを所定量とトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）を５．００ｐｐｍ添加して、試験液とした。試験液のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであった。試験液を２５℃、常圧空気雰囲気下で保存し、参考例２と同様の方法で、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度を定量したところ、それぞれ、９２．４ｐｐｍ、７７．０ｐｐｍ、６５．８ｐｐｍ、５８．２ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は９．３２×１０－３ｄａｙ－１であり、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は１１日であった。
参考例１のＧＭＡにＭＱを所定量とトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）を５．００ｐｐｍ添加して、試験液とした。試験液のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであった。試験液を２５℃、常圧空気雰囲気下で保存し、参考例２と同様の方法で、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度を定量したところ、それぞれ、９２．４ｐｐｍ、７７．０ｐｐｍ、６５．８ｐｐｍ、５８．２ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は９．３２×１０－３ｄａｙ－１であり、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は１１日であった。
［実施例１］
比較例１で調製した試験液に、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で０．５０当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであったのに対し、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９７．６ｐｐｍ、９１．４ｐｐｍ、８６．５ｐｐｍ、８２．７ｐｐｍであった。
比較例１で調製した試験液に、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で０．５０当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであったのに対し、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９７．６ｐｐｍ、９１．４ｐｐｍ、８６．５ｐｐｍ、８２．７ｐｐｍであった。
得られた結果について、ｌｎ（［ＭＱ］／［ＭＱ］０）と時間の関係をプロットしたところ、直線関係が得られた。以上から、ＭＱの変質は１次反応であり、その反応速度定数は３．４３×１０－３ｄａｙ－１であった。算出した反応速度定数から、ＭＱが１０％変質するのに要する時間を計算すると３１日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。なお、［ＭＱ］０は試験開始時のＭＱのモル濃度、［ＭＱ］は測定時のＭＱのモル濃度である。
［実施例２］
比較例１で調製した試験液に、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で０．７５当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであったのに対し、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９９．７ｐｐ、９７．２ｐｐｍ、９５．９ｐｐｍ、９４．８ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は１．１８×１０－３ｄａｙ－１であり、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は８９日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
比較例１で調製した試験液に、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で０．７５当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであったのに対し、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９９．７ｐｐ、９７．２ｐｐｍ、９５．９ｐｐｍ、９４．８ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は１．１８×１０－３ｄａｙ－１であり、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は８９日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
［実施例３］
比較例１で調製した試験液に、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．００当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであったのに対し、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、１００．４ｐｐｍ、９９．１ｐｐｍ、９９．０ｐｐｍ、９９．２ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は４．３６×１０－４ｄａｙ－１であり、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は２４２日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
比較例１で調製した試験液に、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．００当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであったのに対し、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、１００．４ｐｐｍ、９９．１ｐｐｍ、９９．０ｐｐｍ、９９．２ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は４．３６×１０－４ｄａｙ－１であり、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は２４２日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
［実施例４］
比較例１で調製した試験液に、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．２５当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであったのに対し、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、１０１．３ｐｐｍ、１００．３ｐｐｍ、１００．３ｐｐｍ、１００．６ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は２．３９×１０－４ｄａｙ－１であり、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は４４２日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
比較例１で調製した試験液に、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．２５当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであったのに対し、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、１０１．３ｐｐｍ、１００．３ｐｐｍ、１００．３ｐｐｍ、１００．６ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は２．３９×１０－４ｄａｙ－１であり、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は４４２日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
［実施例５］
比較例１で調製した試験液に、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．５０当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであったのに対し、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、１０１．３ｐｐｍ、１００．４ｐｐｍ、１００．４ｐｐｍ、１００．８ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は２．０５×１０－４ｄａｙ－１であり、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は５１５日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
比較例１で調製した試験液に、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．５０当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであったのに対し、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、１０１．３ｐｐｍ、１００．４ｐｐｍ、１００．４ｐｐｍ、１００．８ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は２．０５×１０－４ｄａｙ－１であり、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は５１５日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
［実施例６］
比較例１で調製した試験液に、メタンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「Ｍｅ－ＳＯ３Ｎａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．００当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであったのに対し、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９６．１ｐｐｍ、８８．５ｐｐｍ、８３．９ｐｐｍ、８１．１ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は３．８１×１０－３ｄａｙ－１、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は２８日であり、メタンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
比較例１で調製した試験液に、メタンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「Ｍｅ－ＳＯ３Ｎａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．００当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであったのに対し、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９６．１ｐｐｍ、８８．５ｐｐｍ、８３．９ｐｐｍ、８１．１ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は３．８１×１０－３ｄａｙ－１、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は２８日であり、メタンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
［実施例７］
比較例１で調製した試験液に、硝酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、ＮａＮＯ３）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．００当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであったのに対し、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９４．２ｐｐｍ、８４．０ｐｐｍ、７８．２ｐｐｍ、７４．９ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は５．１６×１０－３ｄａｙ－１、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は２０日であり、硝酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
比較例１で調製した試験液に、硝酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、ＮａＮＯ３）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．００当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであったのに対し、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９４．２ｐｐｍ、８４．０ｐｐｍ、７８．２ｐｐｍ、７４．９ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は５．１６×１０－３ｄａｙ－１、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は２０日であり、硝酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
［比較例２］
比較例１で調製した試験液に、酢酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、ＡｃＯＮａ）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．００当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであったのに対し、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９２．９ｐｐｍ、７８．４ｐｐｍ、６７．９ｐｐｍ、６０．６ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は８．６３×１０－３ｄａｙ－１、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は１２日であり、硝酸ナトリウムを添加しても、ＭＱの変質速度は殆ど変化しなかった。
比較例１で調製した試験液に、酢酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、ＡｃＯＮａ）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．００当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は１０１．８ｐｐｍであったのに対し、１５日、３４日、４９日、６１日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９２．９ｐｐｍ、７８．４ｐｐｍ、６７．９ｐｐｍ、６０．６ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は８．６３×１０－３ｄａｙ－１、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は１２日であり、硝酸ナトリウムを添加しても、ＭＱの変質速度は殆ど変化しなかった。
［実施例８］
参考例１のＧＭＡにＭＱを所定量とトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）を１．００ｐｐｍ添加し、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で０．５０当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は９９．３ｐｐｍであったのに対し、１０日、２１日、３２日、４６日、６５日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９８．２ｐｐｍ、９７．５ｐｐｍ、９６．７ｐｐｍ、９５．３ｐｐｍ、９４．２ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は８．１５×１０－４ｄａｙ－１、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は１２９日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
参考例１のＧＭＡにＭＱを所定量とトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）を１．００ｐｐｍ添加し、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で０．５０当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は９９．３ｐｐｍであったのに対し、１０日、２１日、３２日、４６日、６５日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９８．２ｐｐｍ、９７．５ｐｐｍ、９６．７ｐｐｍ、９５．３ｐｐｍ、９４．２ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は８．１５×１０－４ｄａｙ－１、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は１２９日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
［実施例９］
参考例１のＧＭＡにＭＱを所定量とトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）を１．００ｐｐｍ添加し、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で０．７５当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は９９．３ｐｐｍであったのに対し、１０日、２１日、３２日、４６日、６５日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９８．８ｐｐｍ、９８．５ｐｐｍ、９８．１ｐｐｍ、９８．０ｐｐｍ、９７．２ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は３．０８×１０－４ｄａｙ－１、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は３４２日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
参考例１のＧＭＡにＭＱを所定量とトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）を１．００ｐｐｍ添加し、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で０．７５当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は９９．３ｐｐｍであったのに対し、１０日、２１日、３２日、４６日、６５日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９８．８ｐｐｍ、９８．５ｐｐｍ、９８．１ｐｐｍ、９８．０ｐｐｍ、９７．２ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は３．０８×１０－４ｄａｙ－１、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は３４２日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
［実施例１０］
参考例１のＧＭＡにＭＱを所定量とトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）を１．００ｐｐｍ添加し、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．００当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は９９．３ｐｐｍであったのに対し、１０日、２１日、３２日、４６日、６５日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９８．２ｐｐｍ、９７．５ｐｐｍ、９６．７ｐｐｍ、９５．３ｐｐｍ、９４．２ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は１．３５×１０－４ｄａｙ－１、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は７８１日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
参考例１のＧＭＡにＭＱを所定量とトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）を１．００ｐｐｍ添加し、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．００当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は９９．３ｐｐｍであったのに対し、１０日、２１日、３２日、４６日、６５日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９８．２ｐｐｍ、９７．５ｐｐｍ、９６．７ｐｐｍ、９５．３ｐｐｍ、９４．２ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は１．３５×１０－４ｄａｙ－１、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は７８１日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
［実施例１１］
比較例３で調製した試験液に、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をテトラメチルアンモニウムクロリド（「ＴＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．００当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は９９．６ｐｐｍであったのに対し、１０日、２１日、３２日、４６日、６５日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９９．４ｐｐｍ、９９．３ｐｐｍ、９９．１ｐｐｍ、９９．１ｐｐｍ、９８．８ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は１．１１×１０－４ｄａｙ－１、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は９４８日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
比較例３で調製した試験液に、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をテトラメチルアンモニウムクロリド（「ＴＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．００当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は９９．６ｐｐｍであったのに対し、１０日、２１日、３２日、４６日、６５日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ、９９．４ｐｐｍ、９９．３ｐｐｍ、９９．１ｐｐｍ、９９．１ｐｐｍ、９８．８ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は１．１１×１０－４ｄａｙ－１、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は９４８日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
［実施例１２］
比較例４で調製した試験液に、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．００当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は５０．１ｐｐｍであったのに対し、１０日、２１日、３２日、４６日、６５日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ４９．９ｐｐｍ、４９．９ｐｐｍ、４９．６ｐｐｍ、４９．４ｐｐｍ、４９．１ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は３．０４×１０－４ｄａｙ－１、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は３４７日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
比較例４で調製した試験液に、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム（富士フィルム和光純薬特級試薬、「ｐ－ＴＳＡＮａ」）をトリエチルメチルアンモニウムクロリド（「ＥＭＡＣ」）に対して、物質量比で１．００当量添加して、２５℃、常圧空気雰囲気下で保存した。参考例２と同様の方法でＭＱ濃度を定量したところ、試験開始時のＭＱ濃度は５０．１ｐｐｍであったのに対し、１０日、２１日、３２日、４６日、６５日保存後のＭＱ濃度はそれぞれ４９．９ｐｐｍ、４９．９ｐｐｍ、４９．６ｐｐｍ、４９．４ｐｐｍ、４９．１ｐｐｍであった。また、実施例３と同様の方法で算出した反応速度定数は３．０４×１０－４ｄａｙ－１、ＭＱが１０％変質するのに要する時間は３４７日であり、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの添加により、ＭＱの変質速度が小さくなった。
参考例、実施例及び比較例により得られた結果を下記表１～表２に示す。
表中、略号は下記の通りである。
ＥＭＡＣ：トリエチルメチルアンモニウムクロリド
ＴＭＡＣ：テトラメチルアンモニウムクロリド
ＭＱ：ｐ－メトキシフェノール
ｐ－ＴＳＡＮａ：ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム
Ｍｅ－ＳＯ３Ｎａ：メタンスルホン酸ナトリウム
ＮａＮＯ３：硝酸ナトリウム
ＡｃＯＮａ：酢酸ナトリウム
ＥＭＡＣ：トリエチルメチルアンモニウムクロリド
ＴＭＡＣ：テトラメチルアンモニウムクロリド
ＭＱ：ｐ－メトキシフェノール
ｐ－ＴＳＡＮａ：ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム
Ｍｅ－ＳＯ３Ｎａ：メタンスルホン酸ナトリウム
ＮａＮＯ３：硝酸ナトリウム
ＡｃＯＮａ：酢酸ナトリウム
以上の通り、本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物はいずれも、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に含まれるフェノール系重合禁止剤が変質しにくく、長期間安定に保管可能な（メタ）アクリル酸グリシジル組成物である。また、本発明の方法を用いれば、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中に含まれるフェノール系重合禁止剤の変質（失活）を適切に抑制することができる。本発明の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物及び方法は、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物の長期間保存安定性を担保するのに資するものである。
Claims (20)
- （メタ）アクリル酸グリシジル組成物中の強酸塩の含量を第４級アンモニウム塩に対して物質量比で０．５０当量以上に調整することを含む、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物中のフェノール系重合禁止剤の失活を抑制する方法。
- 前記強酸塩が、スルホン酸塩、硝酸塩、及びリン酸塩からなる群より選択される、請求項１に記載の方法。
- 前記強酸塩が、アルキルベンゼンスルホン酸塩又はアルキルスルホン酸塩である、請求項２に記載の方法。
- 前記強酸塩がｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム又はメタンスルホン酸ナトリウムである、請求項３に記載の方法。
- 前記強酸塩が、硝酸ナトリウムである、請求項２に記載の方法。
- 前記第４級アンモニウム塩が、テトラアルキルアンモニウムハロゲニドである、請求項１～５のいずれかに記載の方法。
- 前記第４級アンモニウム塩が、テトラメチルアンモニウムクロリドまたはトリエチルメチルアンモニウムクロリドである、請求項６に記載の方法。
- 前記フェノール系重合禁止剤が、ｐ－メトキシフェノール、ヒドロキノン、又はトパノールＡ（２－（ｔｅｒｔ－ブチル）－４，６－ジメチルフェノール）である、請求項１～７のいずれかに記載の方法。
- （メタ）アクリル酸グリシジル組成物が、第４級アンモニウム塩に対して物質量比で０．５０当量以上の強酸塩を含む、請求項１～８のいずれかに記載の方法。
- （メタ）アクリル酸グリシジルが、メタクリル酸グリシジルである、請求項１～９のいずれかに記載の方法。
- （メタ）アクリル酸グリシジルと、第４級アンモニウム塩と、強酸塩と、フェノール系重合禁止剤とを含む、（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
- 前記強酸塩が、スルホン酸塩、硝酸塩、及びリン酸塩からなる群より選択される、請求項１１に記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
- 前記強酸塩が、アルキルベンゼンスルホン酸塩又はアルキルスルホン酸塩である、請求項１２に記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
- 前記強酸塩がｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム又はメタンスルホン酸ナトリウムである、請求項１３に記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
- 前記強酸塩が、硝酸ナトリウムである、請求項１２に記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
- 前記第４級アンモニウム塩が、テトラアルキルアンモニウムハロゲニドである、請求項１１～１５のいずれかに記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
- 前記第４級アンモニウム塩が、テトラメチルアンモニウムクロリドまたはトリエチルメチルアンモニウムクロリドである、請求項１６に記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
- 前記フェノール系重合禁止剤が、ｐ－メトキシフェノール、ヒドロキノン、又はトパノールＡ（２－（ｔｅｒｔ－ブチル）－４，６－ジメチルフェノール）である、請求項１１～１７のいずれかに記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
- 第４級アンモニウム塩に対して物質量比で０．５０当量以上の強酸塩を含む、請求項１１～１８のいずれかに記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
- （メタ）アクリル酸グリシジルが、メタクリル酸グリシジルである、請求項１１～１９のいずれかに記載の（メタ）アクリル酸グリシジル組成物。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US18/272,216 US20240228676A9 (en) | 2021-01-20 | 2022-01-19 | Glycidyl (meth)acrylate composition |
| JP2022576700A JPWO2022158463A1 (ja) | 2021-01-20 | 2022-01-19 | |
| CN202280009238.3A CN116670121A (zh) | 2021-01-20 | 2022-01-19 | (甲基)丙烯酸缩水甘油酯组合物 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021007129 | 2021-01-20 | ||
| JP2021-007129 | 2021-01-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2022158463A1 true WO2022158463A1 (ja) | 2022-07-28 |
Family
ID=82549406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2022/001690 WO2022158463A1 (ja) | 2021-01-20 | 2022-01-19 | （メタ）アクリル酸グリシジル組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPWO2022158463A1 (ja) |
| CN (1) | CN116670121A (ja) |
| WO (1) | WO2022158463A1 (ja) |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2022
- 2022-01-19 JP JP2022576700A patent/JPWO2022158463A1/ja active Pending
- 2022-01-19 CN CN202280009238.3A patent/CN116670121A/zh active Pending
- 2022-01-19 WO PCT/JP2022/001690 patent/WO2022158463A1/ja active Application Filing
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPWO2022158463A1 (ja) | 2022-07-28 |
| CN116670121A (zh) | 2023-08-29 |
| US20240132634A1 (en) | 2024-04-25 |
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Legal Events
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|
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|
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|
| NENP | Non-entry into the national phase |
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| 122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
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