WO2022138925A1 - 波長選択吸収フィルタ及び表示装置 - Google Patents

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dye
wavelength
selective absorption
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伸隆 深川
浩樹 桑原
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富士フイルム株式会社
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    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light

Definitions

  • the present invention relates to a wavelength selective absorption filter and a display device.
  • the display screen of the display is generally provided with an antireflection function so that the observer can easily see the image.
  • an antireflection film or an antiglare film is realized by an antireflection film or an antiglare film.
  • a general antireflection film a film having a refractive index different from that of the base material is coated on the surface of the base material, and the interference effect between the light reflected on the surface of the base material and the light reflected on the surface of the coated film causes.
  • Examples thereof include an AR (Anti Reflection) film or an LR (Low Reflection) film that reduces reflection.
  • AG AntiGlare
  • an antiglare layer in which a film having a fine uneven pattern is coated on the surface of a base material and an image is prevented from being reflected by using a light scattering effect.
  • Film is mentioned. However, a part of the light incident on the display passes through the antireflection film or the antiglare film on the surface and is reflected on the surface of the electrode or wiring or the glass surface of the cell. This is called internal reflection.
  • the ratio of the area of the metal part such as the electrode or wiring to the total area of the panel increases, so that the internal reflection is prevented. Is a particularly important factor in ensuring high-quality display performance.
  • a ⁇ / 4 retardation plate or a ⁇ / 2 retardation plate is provided between the polarizing element of the polarizing plate and the internal reflection portion, and circularly polarized light is provided.
  • a method of making it function as a board is known.
  • this method when the transmittance of the display light is reduced to about 40% and scattered particles are present between the circularly polarizing plate and the internal reflection point, polarization elimination occurs and a sufficient antireflection effect is obtained. There is a problem that it cannot be obtained.
  • a liquid crystal display device using a method of preventing reflection of external light by adding an absorbent material of at least one of a material and a second absorbent material having a maximum absorbance in a wavelength band of 560 to 610 nm is disclosed. There is.
  • Patent Document 3 for an image display device, particularly a self-luminous image display device such as a plasma display, in a wavelength region of 380 nm to 420 nm for the purpose of suppressing a decrease in contrast in a bright place and improving color reproduction. It has been proposed to use an optical filter having an absorption maximum in the wavelength region of 480 nm to 520 nm and the wavelength region of 585 nm to 620 nm, respectively.
  • Patent Document 4 contains an absorbent material having an absorption maximum in the wavelength region of 380 nm to 420 nm, has selective absorption in the vicinity of 420 nm, and has a specific ratio of the absorbance at 450 nm to the absorbance at a wavelength of 420 nm.
  • Optical films that are within range are listed.
  • Patent Document 5 describes a cured film containing a dye having a specific chemical structure, and describes that the cured film has excellent blue light-cutting property.
  • An object of the present invention is to provide a wavelength selective absorption filter exhibiting excellent light resistance and a display device including the same.
  • an absorbent material having an absorption maximum in the wavelength region of 390 to 440 nm or an absorbent material having an absorption maximum in the wavelength region of 680 to 780 nm (a dye). It has been found that the dye) can sufficiently suppress the decrease in absorbance by containing a compound having a specific polar group, and is effective in improving the light resistance.
  • a resin, a dye, and a compound having at least one polar group of a carboxylic acid ester bond, a carboxylic acid amide bond, a sulfonic acid amide bond, a urethane bond, and a sulfonyl bond and having a molecular weight of 1000 or less are included.
  • the dye comprises at least one of dye A and dye D shown below.
  • the wavelength on the long wavelength side of the two wavelengths that give 20% absorbance with respect to the maximum absorbance at a wavelength of 390 to 440 nm is 455 nm or less.
  • the wavelength on the short wavelength side of the two wavelengths that give 20% absorbance with respect to the maximum absorbance at a wavelength of 680 to 780 nm is 640 nm or more.
  • Dye A Dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 390 to 440 nm
  • Dye D Dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 680 to 780 nm ⁇ 2>
  • ⁇ 3> The wavelength selective absorption filter according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the dye A is a dye represented by the following general formula (A1).
  • R 1 and R 2 each independently represent an alkyl group or an aryl group
  • R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • R 5 and R 6 are bonded to each other. May form a 6-membered ring.
  • ⁇ 4> The wavelength selective absorption filter according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the dye D is a squaric dye represented by the following general formula (1).
  • G represents a heterocyclic group which may have a substituent.
  • ⁇ 5> The wavelength selective absorption filter according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the compound having the above polar group is a compound having a carboxylic acid ester bond.
  • ⁇ 6> The wavelength selection filter ⁇ 7> according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the compound having the above polar group is a compound having a carboxylic acid amide bond.
  • ⁇ 8> The wavelength selective absorption filter according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein the resin contains a cyclic polyolefin resin.
  • ⁇ 10> The display device according to ⁇ 9>, wherein the display device is a self-luminous display device.
  • substituents there is no particular notice when there are a plurality of substituents or linking groups (hereinafter referred to as substituents, etc.) represented by a specific code or formula, or when a plurality of substituents, etc. are specified at the same time. As long as each substituent or the like may be the same or different from each other. This also applies to the regulation of the number of substituents and the like. Further, when a plurality of substituents and the like are close to each other (particularly when they are adjacent to each other), they may be connected to each other to form a ring unless otherwise specified.
  • the ring for example, an alicyclic ring, an aromatic ring, or a heterocycle may be further condensed to form a fused ring.
  • this carbon number means the carbon number of the entire group unless otherwise specified in the present invention or the present specification. That is, when this group is in the form of further having a substituent, it means the total number of carbon atoms including this substituent.
  • one component die, resin, association inhibitor, other components, etc.
  • the wavelength selective absorption filter may be contained in the wavelength selective absorption filter.
  • two or more kinds may be contained.
  • each component (crystalline resin or the like) constituting the gas barrier layer may be contained in the gas barrier layer, or two or more types may be contained in the gas barrier layer.
  • the double bond may be any of E-type and Z-type in the molecule, or a mixture thereof.
  • the indication of a compound (including a complex) is used to mean that the compound itself, its salt, and its ion are included. Further, it is meant to include a structure in which a part of the structure is changed as long as the effect of the present invention is not impaired. Further, the compound for which substitution or non-substitution is not specified may have any substituent as long as the effect of the present invention is not impaired.
  • the numerical range represented by using "-" in the present invention means a range including the numerical values before and after "-" as the lower limit value and the upper limit value.
  • the composition includes, in addition to a mixture having a constant component concentration (each component is uniformly dispersed), a mixture in which the component concentration fluctuates within a range that does not impair the desired function. do.
  • having the main absorption wavelength band in the wavelength XX to YY nm means that the wavelength showing the maximum absorption (that is, the maximum absorption wavelength) exists in the wavelength region XX to YY nm.
  • the entire absorption band including this wavelength may be within the wavelength region or may extend beyond the wavelength region. Further, when a plurality of maximum absorption wavelengths are present, it is sufficient that the maximum absorption wavelength showing the maximum absorbance exists in the above wavelength region. That is, the maximum absorption wavelength other than the maximum absorption wavelength showing the maximum absorbance may exist in or outside the wavelength region XX to YY nm.
  • the main absorption wavelength band of the dye is the main absorption wavelength band of the dye measured in the state of the wavelength selective absorption filter.
  • the measurement is performed in the state of the wavelength selective absorption filter under the conditions described in the section of the maximum absorbance value and the 20% value wavelength of the wavelength selective absorption filter.
  • the maximum absorbance value at wavelengths XX to YY nm means the absorbance at the maximum absorption wavelength existing at the above wavelengths XX to YY nm, and is also referred to as an absorption maximum value.
  • the two wavelengths that give 20% absorbance to the maximum absorbance at wavelengths XX to YY nm are the maximum absorption wavelengths that show the maximum absorbance at the absorption peak whose maximum absorbance is the maximum absorbance at wavelengths XX to YY nm.
  • the wavelength located on the long wavelength side of the maximum absorption wavelength showing the maximum absorbance value is the wavelength located on the long wavelength side of the maximum absorption wavelength and showing the absorbance of 20% intensity of the maximum absorbance value. It means the wavelength of a short wave. Similarly, the wavelength located on the short wavelength side of the maximum absorption wavelength showing the maximum absorbance value is located on the short wavelength side of the maximum absorption wavelength and indicates the absorbance of 20% intensity of the maximum absorbance value. It means the wavelength of the longest wave.
  • the maximum absorbance of the dye and the two wavelengths that give 20% absorbance to the maximum absorbance are values measured in the state of the wavelength selective absorption filter. Specifically, in the examples described later, the measurement is performed in the state of the wavelength selective absorption filter under the conditions described in the section of the maximum absorbance value and the 20% value wavelength of the wavelength selective absorption filter.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention exhibits excellent light resistance. Further, the display device of the present invention includes the wavelength selective absorption filter having excellent light resistance.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a laminated body including the wavelength selective absorption filter of the present invention.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention (hereinafter, also referred to as a wavelength selective absorption layer) is at least one of a resin, a dye, a carboxylic acid ester bond, a carboxylic acid amide bond, a sulfonic acid amide bond, a urethane bond and a sulfonyl bond. It contains a compound (association inhibitor) having one polar group (in the present invention, "group” means to include “bond”) and having a molecular weight of 1000 or less (association inhibitor), and the dye is in a different wavelength range. It contains at least one of the following dye A and dye D having a main absorption wavelength band.
  • Dye A Dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 390 to 440 nm
  • Dye D A dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 680 to 780 nm
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention may further contain at least one of the following dyes B and C.
  • Dye B Dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 480 to 520 nm
  • Dye C Dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 580 to 620 nm
  • the "dye" is dispersed in the resin (dye). By dissolving (preferably), the wavelength selective absorption filter becomes a filter showing a specific absorption spectrum derived from the dye.
  • the above dye A or dye D which has a main absorption wavelength band in a specific wavelength range, has many dyes in which association between molecules is likely to occur, and even in the form of a wavelength selective absorption filter dispersed (preferably dissolved) in a resin. , The dye is considered to exist in a state of being associated between molecules.
  • the polarity of at least one of a carboxylic acid ester bond, a carboxylic acid amide bond, a sulfonic acid amide bond, a urethane bond and a sulfonyl bond in addition to the resin and the dye containing at least one of the dye A and the dye D, the polarity of at least one of a carboxylic acid ester bond, a carboxylic acid amide bond, a sulfonic acid amide bond, a urethane bond and a sulfonyl bond.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention contains a dye containing at least one of dye A and dye D and the association inhibitor, and when dye A is contained, 20% of the absorbance of dye A at the maximum absorption wavelength.
  • the wavelength on the long wavelength side showing the intensity of the dye D is adjusted to be 455 nm or less, and when the dye D is contained, the wavelength on the short wavelength side showing the intensity of 20% of the absorbance at the maximum absorption wavelength of the dye D is adjusted to be 640 nm or more. It is a wavelength selective absorption filter. By suppressing the association of the dye A or the dye D in this way, although it is presumed, the energy level of the excited state and the ground state of the dye changes, and the excited state can be quickly returned to the ground state. As a result, it is considered that the light resistance of the dye has been improved. As described above, since the wavelength selective absorption filter of the present invention has excellent light resistance, it can exhibit excellent light resistance even when applied to a display device.
  • Patent Document 2 or 3 by applying a wavelength selective absorption filter adjusted with a dye to be contained to a display device, while exhibiting excellent light resistance, suppression of external light reflection and suppression of luminance decrease are suppressed. In addition, the influence on the color tone of the displayed image can be sufficiently suppressed.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention is a filter (layer) containing at least one of the above dye A and dye D.
  • the dye A contained in the wavelength selective absorption filter of the present invention may be one kind or two or more kinds.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention contains the dye D
  • the dye D contained in the wavelength selective absorption filter of the present invention may be one kind or two or more kinds.
  • the dye B or the dye C that can be contained in the wavelength selective absorption filter of the present invention may be independently one kind or two or more kinds, respectively.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention may also contain dyes other than the above dyes A to D.
  • the form of the wavelength selective absorption filter of the present invention is such that the dye in the wavelength selective absorption filter can be sharpened by the association described later to show an absorption spectrum. It is preferable that both suppression of external light reflection and suppression of luminance decrease can be realized, and more preferably, it is sufficient as long as it does not easily affect the original color of the displayed image.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention there is a form in which at least one of the dye A or the dye D is dispersed (preferably dissolved) in the resin. This variance may be random, regular, or the like.
  • the dyes A to D are B (Blue, 440 nm to 470 nm), G (Green, 520 nm to 560 nm) and R (Red, 620 nm to) used as a light emitting source of the display device in the wavelength selective absorption filter of the present invention. It has a main absorption wavelength band in 390 to 440 nm, 480 to 520 nm, 580 to 620 nm, and 680 to 780 nm, which are wavelength ranges other than 660 nm) or wavelength ranges that do not largely overlap with these wavelength ranges.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention emits light. It is possible to suppress the reflection of external light without impairing the color reproduction range of the light emitted from the element. Above all, it is preferable to contain both the dyes A and D from the viewpoint of adjusting the color of the reflected light.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention can exhibit an excellent level of light resistance, which exceeds the decrease in light resistance due to the mixing of dyes, by providing a specific gas barrier layer described later. can.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention contains dye A
  • the wavelength on the long wavelength side of the two wavelengths that give 20% absorbance with respect to the maximum absorbance value at a wavelength of 390 to 440 nm is set to "20% value wavelength”. It is called "A”.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention contains dye D
  • the wavelength on the short wavelength side of the two wavelengths that give 20% absorbance to the maximum absorbance value at a wavelength of 680 to 780 nm is set to "20% value wavelength D.” Is called.
  • the 20% value wavelength A is 455 nm or less
  • the 20% value wavelength D is 640 nm or more.
  • the 20% value wavelength A preferably satisfies the following relational expression (I)
  • the 20% value wavelength D is the following relational expression from the viewpoint of achieving both antireflection and suppression of luminance reduction. It is preferable to satisfy (II).
  • Relational expression (I) 410 nm ⁇ 20% value Wavelength A ⁇ 455 nm
  • the upper limit of the 20% value wavelength A is preferably 453 nm or less, more preferably 450 nm or less.
  • the lower limit is preferably 415 nm or more, more preferably 420 nm or more.
  • the upper limit of the 20% value wavelength D is preferably 690 nm or less, more preferably 680 nm or less.
  • the lower limit is preferably 645 nm or more, more preferably 650 nm or more.
  • the dye A is not particularly limited as long as it has a main absorption wavelength band at a wavelength of 390 to 440 nm in the wavelength selective absorption filter, and various dyes can be used, and the wavelength is 395 to 430 nm in the wavelength selective absorption filter. Those having a main absorption wavelength band are preferable, and those having a main absorption wavelength band at a wavelength of 400 to 430 nm are more preferable.
  • the dye A a dye represented by the following general formula (A1) is preferable because the absorption waveform in the main absorption wavelength band is sharp.
  • R 1 and R 2 each independently represent an alkyl group or an aryl group
  • R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • R 5 and R 6 respectively. May be coupled to each other to form a 6-membered ring.
  • the alkyl group that can be taken as R 1 and R 2 may be any of an unsubstituted alkyl group and a substituted alkyl group having a substituent, either linear or branched, and may have a cyclic structure. good.
  • Examples of the unsubstituted alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group and a cyclohexyl group.
  • the unsubstituted alkyl group preferably has 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms.
  • substituent group A Halogen atom, alkyl group, cycloalkyl group, aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group, cyano group, hydroxy group, nitro group, carboxyl group (may be in the form of salt), alkoxy group, aryloxy Group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, amino group (in addition to -NH 2 , substitution represented by -NR a 2 ) Includes an amino group.
  • Each R a independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group, provided that at least one Ra is an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group).
  • substituent group A preferable examples of the substituent that the substituted alkyl group can have include a halogen atom, an aryl group, an alkoxy group, an acyl group and a hydroxy group.
  • the total number of carbon atoms of the substituted alkyl group is preferably 1 to 12.
  • a benzyl group, a hydroxybenzyl group, a methoxyethyl group and the like can be mentioned.
  • the total number of carbon atoms of the substituted alkyl group means the total number of carbon atoms of the substituted alkyl group including the substituents that the substituted alkyl group may have.
  • it is used in the same meaning in other groups.
  • R 1 and R 2 represent an alkyl group
  • the alkyl groups may be the same or different.
  • the aryl group that can be taken as R 1 and R 2 may be either an unsubstituted aryl group or a substituted aryl group having a substituent.
  • the unsubstituted aryl group is preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group.
  • Examples of the substituent that the substituted aryl group can take include the substituent contained in the above-mentioned Substituent Group A.
  • substituent group A preferable examples of the substituent that the substituted aryl group can have are a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom), a hydroxy group, a carboxy group, a sulfonamide group and an amino group.
  • R a independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. However, at least one Ra is an alkyl group. The number of carbon atoms is 1.
  • an alkyl group preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; for example, methyl, ethyl, normal propyl and isopropyl
  • an alkoxy group preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms; for example. , Methoxy, ethoxy, normal propoxy and isopropoxy
  • alkoxycarbonyl groups preferably alkoxycarbonyl groups having 2-5 carbon atoms; eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, normalpropoxycarbonyl and isopropoxycarbonyl
  • sulfonyloxy groups preferably alkoxycarbonyl groups having 2-5 carbon atoms; eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, normalpropoxycarbonyl and isopropoxycarbonyl
  • a monovalent group in which at least two of these are linked can be mentioned.
  • an aryl group having a total carbon number of 6 to 18 is preferable.
  • Phenyl group 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl group, N, N-dimethylaminophenyl group, 4- (N-carboxymethyl-N-ethylamino) phenyl group, 4-ethoxycarbonylphenyl group and 4-methanesulfonyl Oxyphenyl group is mentioned.
  • R 1 and R 2 represent an aryl group
  • the aryl groups may be the same or different.
  • R 3 , R 4 , R 5 and R 6 examples include the substituents included in the above-mentioned substituent group A.
  • R 3 , R 5 and R 6 are preferably an alkyl group or an aryl group. That is, it is preferable that R 3 , R 5 and R 6 are independently hydrogen atoms, alkyl groups or aryl groups, respectively.
  • R4 is preferably an alkyl group or an aryl group. That is, R 4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
  • the alkyl group that can be taken as R 3 , R 5 and R 6 may be any of an unsubstituted alkyl group and a substituted alkyl group having a substituent, and may be either linear or branched and has a cyclic structure. May be.
  • Examples of the unsubstituted alkyl group that can be taken as R 3 , R 5 and R 6 include a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group and an isopropyl group.
  • the number of carbon atoms of the unsubstituted alkyl group that can be taken as R 3 , R 5 and R 6 is preferably 1 to 8, and more preferably 1 to 4.
  • Examples of the substituent that the substituted alkyl group in R 3 , R 5 and R 6 may have include the substituent contained in the above-mentioned Substituent Group A.
  • Preferred examples of the substituent that the substituted alkyl group in R 3 , R 5 and R 6 may have are an aryl group (preferably a phenyl group), a halogen atom, an acyl group, an amino group, an alkoxycarbonyl group, a carboxy group and a carboxy group. Hydroxyl groups can be mentioned.
  • the total number of carbon atoms of the substituted alkyl group that can be taken as R 3 , R 5 and R 6 is preferably 1 to 8.
  • a benzyl group, a carboxymethyl group and a hydroxymethyl group can be mentioned.
  • R 3 , R 5 and R 6 all represent an alkyl group
  • the alkyl groups may be the same or different.
  • the aryl group that can be taken as R 3 , R 5 and R 6 may be either an unsubstituted aryl group or a substituted substituted aryl group.
  • an aryl group having 6 to 10 carbon atoms is preferable, and examples thereof include a phenyl group.
  • Examples of the substituent that the substituted aryl group in R 3 , R 5 and R 6 may have include the substituent contained in the above-mentioned Substituent Group A.
  • Preferred examples of the substituent that the substituted aryl group in R 3 , R 5 and R 6 may have are a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom), a hydroxy group, a carboxy group, and a carboxy group.
  • An alkyl group preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; for example, methyl, ethyl, normal propyl and isopropyl).
  • an aryl group having a total carbon number of 6 to 10 is preferable.
  • 2-fluorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 2,5-dichlorophenyl group, hydroxyphenyl group, carboxyphenyl group, 3,5-dicarboxyphenyl group and 4-methylphenyl group can be mentioned.
  • R 3 is preferably a hydrogen atom from the viewpoint of light resistance and heat resistance.
  • R 3 , R 5 and R 6 are all aryl groups, the aryl groups may be the same or different.
  • the alkyl group that can be taken as R 4 may be either an unsubstituted alkyl group or a substituted alkyl group having a substituent, may be linear or branched, and may have a cyclic structure.
  • Examples of the unsubstituted alkyl group that can be taken as R4 include a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group and a cyclohexyl group.
  • the carbon number of the unsubstituted alkyl group that can be taken as R 4 is preferably 1 to 8, and more preferably 1 to 4.
  • Examples of the substituent that the substituted alkyl group in R4 may have include the substituent contained in the above-mentioned Substituent Group A.
  • Preferred examples of the substituent that the substituted alkyl group in R4 may have are an aryl group (preferably a phenyl group), a heterocyclic group, a carboxy group, a hydroxy group and an alkyl group (preferably having 1 to 4 carbon atoms).
  • Alkyl group eg, methyl, ethyl, normal propyl and isopropyl
  • alkoxy group preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms; eg, methoxy, ethoxy, normal propoxy and isopropoxy
  • aryloxy group alkoxycarbonyl group.
  • an alkoxycarbonyl group having 2 to 5 carbon atoms for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, normal propoxycarbonyl and isopropoxycarbonyl
  • an alkylamino group preferably an alkylamino group having 1 to 4 carbon atoms; for example, dimethyl
  • alkylcarbonylamino group preferably an alkylcarbonylamino group having 1 to 4 carbon atoms; eg, a methylcarbonylamino group
  • a cyano group e.g, an acyl group (eg, an acetyl group, a propionyl group, a benzoyl group, a mesyl group)
  • acyl group eg, an acetyl group, a propionyl group, a benzoyl group, a mesyl group
  • a monovalent group in which at least two of these are linked can be mentioned.
  • the total number of carbon atoms of the substituted alkyl group that can be taken as R 4 is preferably 1 to 18.
  • Methyl) Aminopropyl group and phenacyl group can be mentioned.
  • the aryl group that can be taken as R 4 may be either an unsubstituted aryl group or a substituted aryl group having a substituent.
  • an aryl group having 6 to 12 carbon atoms is preferable, and examples thereof include a phenyl group.
  • Examples of the substituent that the substituted aryl group in R4 may have include the substituent contained in the above-mentioned Substituent Group A.
  • Preferred examples of the substituent that the substituted aryl group in R4 may have are a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), a hydroxy group, a carboxy group, a sulfonamide group, an amino group and an alkyl group (for example).
  • an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms for example, methyl, ethyl, normal propyl, isopropyl
  • an alkoxy group preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms; for example, methoxy, ethoxy, normal propoxy, isopropoxy
  • An alkoxycarbonyl group preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 5 carbon atoms; for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, normalpropoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl
  • a sulfonyloxy group preferably one in which at least two of these are linked. The basis of the price can be mentioned.
  • the amino group that the substituted aryl group in R4 may have may be either an unsubstituted amino group (-NH 2 ) or a substituted amino group having a substituent (-NR a 2 in the substituent group A).
  • a group similar to the substituted alkyl group in R 4 can be mentioned.
  • the substituted amino group an alkylamino group in which one or two hydrogen atoms of the amino group are substituted with an alkyl group is preferable.
  • alkylamino group examples include a methylamino group, a dimethylamino group, a diethylamino group and a pyrrolidino group.
  • the number of carbon atoms of the alkylamino group is preferably 1 to 8, and more preferably 1 to 4.
  • the alkyl group in the alkylamino group may be further substituted, and for example, a di (alkoxycarbonylalkyl) amino group is preferably mentioned.
  • the di (alkoxycarbonylalkyl) amino group preferably has 6 to 10 carbon atoms, more preferably 6 to 8 carbon atoms.
  • an aryl group having a total carbon number of 6 to 22 is preferable.
  • R 5 and R 6 may be coupled to each other to form a 6-membered ring. Hydrogen atoms may be desorbed during the formation of the ring to form an aromatic ring or an aliphatic ring having an unsaturated bond.
  • the 6-membered ring formed by bonding R 5 and R 6 to each other is preferably a benzene ring.
  • R 1 and R 2 in the general formula (A1) it is preferable that R 1 is an alkyl group, R 1 is an alkyl group, and R 2 is an alkyl group or aryl. It is more preferable that it is a group. From the same viewpoint, it is more preferable that both R 1 and R 2 are independently alkyl groups, and it is particularly preferable that they are alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms.
  • both R 1 and R 2 in the general formula (A1) are aryl groups.
  • R 1 and R 2 each independently represent an aryl group
  • R 3 , R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group and at least R 3 and R 6 .
  • One is preferably a hydrogen atom.
  • R 3 represents a hydrogen atom and R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group or an aryl group, and R 3 represents a hydrogen atom and R 5 It is more preferable that and R 6 each independently represent an alkyl group, R 3 represents a hydrogen atom, R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group, and R 5 and R 6 are bonded to each other. It is particularly preferable that a ring is formed and condensed with a pyrrole ring to form an indole ring together with the pyrrol ring. That is, the dye represented by the general formula (A1) is particularly preferably a dye represented by the following general formula (A2).
  • R 1 to R 4 have the same meaning as R 1 to R 4 in the general formula (A1), and the preferred embodiments are also the same.
  • R 15 represents a substituent.
  • the substituent that can be taken as R 15 include the substituents included in the above-mentioned substituent group A.
  • R15 an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an acyl group, an amino group or an alkoxycarbonyl group is preferable.
  • the alkyl group and aryl group that can be taken as R 15 the description of the alkyl group and aryl group that can be taken as R 3 , R 5 and R 6 can be applied, respectively.
  • the halogen atom that can be taken as R 15 include a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • Examples of the acyl group that can be taken as R15 include an acetyl group, a propionyl group and a butyroyl group.
  • the amino group that can be taken as R 15 the description of the amino group that the substituted aryl group in R 4 can have can be applied.
  • a nitrogen-containing heterocyclic group having a 5- to 7-membered ring in which an alkyl group on the nitrogen atom of the amino group is bonded to form a ring is also preferable.
  • the alkoxycarbonyl group that can be taken as R15 is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 5 carbon atoms, and examples thereof include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, normal propoxycarbonyl and isopropoxycarbonyl.
  • N is an integer from 0 to 4.
  • n is not particularly limited, but is preferably 0 or 1, for example.
  • the dye A in addition to the dye represented by the general formula (A1), the compounds described in paragraphs [0012] to [0067] of JP-A-5-53241, and paragraph [0011] of Japanese Patent No. 2707371. ] To [0076] can also be preferably used.
  • the dye B is not particularly limited as long as it has a main absorption wavelength band at a wavelength of 480 to 520 nm in the wavelength selective absorption filter, and various dyes can be used.
  • the dye C is not particularly limited as long as it has a main absorption wavelength band at a wavelength of 580 to 620 nm in the wavelength selective absorption filter, and various dyes can be used.
  • the dye B include, for example, pyrrole methine (PM) -based, rhodamine (RH) -based, boron dipyrromethene (BODIPY) -based and squaric (squarine, SQ) -based dyes.
  • Specific examples of the dye C include tetraaza porphyrin (TAP) -based, squaric-based and cyanine (CY) -based dyes (dye).
  • a squaric dye is preferable because the absorption waveform in the main absorption wavelength band is sharp, and it is referred to in International Publication No. 2019/189463 [0016] to [0070].
  • the squaric dye represented by the general formula (1) described above is more preferable.
  • a dye having a sharp absorption waveform as described above as the dye B and the dye C both the reflectance and the suppression of the decrease in luminance can be achieved at the same time. That is, in the wavelength selective absorption filter of the present invention, from the viewpoint of suppressing the above-mentioned color change, at least one of the dye B and the dye C is a squaric dye (preferably, International Publication No.
  • the dye is a squaric dye represented by the general formula (1) described in [0070], and both the dye B and the dye C are squaric dyes (preferably, International Publication No. 2019/189463 [0016]. It is more preferable that it is a squaric dye represented by the general formula (1) described in [0070].
  • the description of dye A in International Publication No. 2019/189463 shall be read as dye B in the present invention, and the description of dye B in International Publication No. 2019/189463 shall be read as dye C in the present invention.
  • the squaric dye represented by the general formula (1) described in International Publication No. 2019/189463 is a quencher-embedded dye in which the quencher portion is linked to the dye by a covalent bond via a linking group. You may.
  • the quencher-embedded dye can also be preferably used as at least one of the dyes B and C. That is, the quencher-embedded dye is counted as dye B or dye C depending on the wavelength having the main absorption wavelength band. Examples of the quencher unit include a metallocenyl group in the substituent X described later.
  • the dye D is not particularly limited as long as it has a main absorption wavelength band at a wavelength of 680 to 780 nm in the wavelength selective absorption filter, and various dyes can be used.
  • dye D examples include porphyrin-based, squaric-based, and cyanine (CY) -based dyes.
  • the dye D a squaric dye is preferable because the absorption waveform in the main absorption wavelength band is sharp, and a squaric dye represented by the following general formula (1) is more preferable.
  • the cation exists in a delocalized manner, and a plurality of tautomer structures exist. Therefore, in the present invention, when at least one tautomeric structure of a certain dye applies to each general formula, the certain dye is a dye represented by each general formula. Therefore, the dye represented by a specific general formula can also be said to be a dye whose at least one tautomer structure can be represented by a specific general formula.
  • the dye represented by the general formula may have any tautomeric structure as long as at least one of the tautomer structures applies to this general formula.
  • G represents a heterocyclic group which may have a substituent.
  • the aryl group that can be taken as A or B is not particularly limited, and may be a group composed of a monocyclic ring or a group composed of a condensed ring.
  • the aryl group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • Examples of the aryl group include groups composed of a benzene ring or a naphthalene ring, and a group composed of a benzene ring is preferable.
  • the heterocyclic group that can be taken as A or B is not particularly limited, and includes a group composed of an aliphatic heterocycle or an aromatic heterocycle, and a group composed of an aromatic heterocycle is preferable.
  • Examples of the heteroaryl group which is an aromatic heterocyclic group include a heteroaryl group which can be taken as the substituent X described later.
  • the aromatic heterocyclic group that can be taken as A or B is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring group, and more preferably a nitrogen-containing 5-membered ring group.
  • a group consisting of any of a ring, a benzoxazole ring and a pyrazolotriazole ring is preferably mentioned.
  • a group consisting of any of a pyrrole ring, a pyrazole ring, a thiazole ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring and a pyrazorotriazole ring is preferable.
  • the pyrazolotriazole ring is composed of a fused ring of a pyrazole ring and a triazole ring, and may be a fused ring formed by condensing at least one of these rings.
  • a pyrazole ring and a triazole ring are one. Examples thereof include a fused ring in the form of forming a fused ring in a form that shares a nitrogen atom and one carbon atom.
  • a and B may be bonded to the squaric acid moiety (the 4-membered ring represented by the general formula (1)) at any moiety (ring-constituting atom) without particular limitation, but carbon. It is preferable to bond with an atom.
  • G represents a heterocyclic group which may have a substituent, for example, the example shown in the above-mentioned heterocyclic group which can be taken as A or B. Preferred. Among them, a group composed of any one of a benzoxazole ring, a benzothiazole ring and an indoline ring is preferable.
  • At least one of A and B may have a hydrogen-bonding group that forms an intramolecular hydrogen bond.
  • Each of A, B and G may have a substituent X, and when it has a substituent X, adjacent substituents may be bonded to each other to further form a ring structure. Further, a plurality of substituents X may be present. When adjacent substituents X are bonded to each other to further form a ring structure, the two substituents X may form a ring with a hetero atom such as a boron atom interposed therebetween. This boron atom may be further substituted with a substituent, and examples thereof include substituents such as an alkyl group and an aryl group.
  • a ring formed by bonding two substituents X for example, a ring formed by bonding two following-NR 14 R 15s and two following -NR 14 R 15 sandwiching a boron atom.
  • substituent X include the following groups. Alkyl group (carbon number is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, further preferably 1 to 8. For example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, t-butyl, isobutyl, pentyl, hexyl, octyl.
  • An alkenyl group (the number of carbon atoms is preferably 2 to 20, more preferably 2 to 12, further preferably 2 to 8, for example, vinyl, allyl),.
  • An alkynyl group (the number of carbon atoms is preferably 2 to 40, more preferably 2 to 30, particularly preferably 2 to 25, for example, ethynyl, propargyl),.
  • Aryl groups (the number of carbon atoms is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, still more preferably 6 to 12, for example, phenyl, naphthyl.),.
  • Heterocyclic group (including aromatic heterocyclic group and aliphatic heterocyclic group.
  • a group consisting of a monocyclic or fused ring, and a monocyclic or a group consisting of a fused ring having 2 to 8 rings is preferable.
  • a group consisting of a ring or a fused ring having 2 to 4 rings is more preferable.
  • the number of hetero atoms constituting the ring is preferably 1 to 3, and the hetero atom constituting the ring is a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and even more preferably 3 to 12.
  • the carbon number of the aralkyl group is preferably 7 to 40, preferably 7 to 30. More preferably, 7 to 25 is even more preferable), Metallocenyl group, -OR 10 (for example, hydroxy group, alkoxy group (methoxy, ethoxy, propyloxy, etc.), cycloalkoxy group (cyclopentyloxy, cyclohexyloxy, etc.), aryloxy group (phenoxy, naphthyloxy, etc.), heteroaryloxy group (aromatic) Group heterocyclic oxy group)),.
  • Metallocenyl group, -OR 10 for example, hydroxy group, alkoxy group (methoxy, ethoxy, propyloxy, etc.), cycloalkoxy group (cyclopentyloxy, cyclohexyloxy, etc.), aryloxy group (phenoxy, naphthyloxy, etc.), heteroaryloxy group (aromatic) Group heterocyclic oxy group)),.
  • R 11 acyl groups such as acetyl, ethylcarbonyl, propylcarbonyl, cyclohexylcarbonyl, octylcarbonyl, 2-ethylhexylcarbonyl, phenylcarbonyl, naphthylcarbonyl, pyridylcarbonyl and the like),.
  • OR 12 for example, carboxy group, alkoxycarbonyl group (methyloxycarbonyl, ethyloxycarbonyl, butyloxycarbonyl, octyloxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl group (phenyloxycarbonyl, naphthyloxycarbonyl, etc.)) Is mentioned.
  • -OC ( O)
  • R 13 includes acyloxy groups such as acetyloxy, ethylcarbonyloxy, butylcarbonyloxy, octylcarbonyloxy, and phenylcarbonyloxy),.
  • -NR 14 R 15 (Amino groups such as amino (-NH 2 ), ethylamino, dimethylamino, butylamino, dibutylamino, cyclopentylamino, 2-ethylhexylamino, dodecylamino, anilino, naphthylamino, 2-pyridylamino, etc.
  • -NHCOR 16 methylcarbonylamino, ethylcarbonylamino, dimethylcarbonylamino, propylcarbonylamino, pentylcarbonylamino, cyclohexylcarbonylamino, 2-ethylhexylcarbonylamino, octylcarbonylamino, dodecylcarbonylamino, phenylcarbonylamino, naphthylcarbonylamino, etc.
  • -CONR 17 R 18 aminocarbonyl, methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, propylaminocarbonyl, pentylaminocarbonyl, cyclohexylaminocarbonyl, octylaminocarbonyl, 2-ethylhexylaminocarbonyl, dodecylaminocarbonyl, phenylaminocarbonyl, naphthylaminocarbonyl , 2-Pyridylaminocarbonyl and the like carboxamide groups.
  • -NHCONR 19 R 20 including ureido groups such as methyl ureido, ethyl ureido, pentyl ureido, cyclohexyl ureido, octyl ureido, dodecyl ureido, phenyl ureido, naphthyl ureido,
  • -NHCOOR 21 , -SR 22 for example, alkylthio group (methyl thio, ethylthio, propylthio, etc.), cycloalkylthio group (cyclopentylthio, cyclohexylthio, etc.), arylthio group (phenylthio, naphthylthio, etc.), heteroarylthio group (aromatic heterocyclic thio group) Is mentioned.), -SO 2 R 23 (for example, an alkyl sulfonyl group (methyl sulfonyl, ethyl sulfonyl, butyl sulfonyl, cyclohexyl sulfonyl, 2-ethylhexyl sulfonyl, etc.), aryl sulfonyl (phenyl sulfonyl, naphthyl sulfonyl, 2-pyridyl
  • -OSO 2 R 24 Alkylsulfonyloxy groups such as methanesulfonyloxy can be mentioned
  • -NHSO 2 R 25 including sulfonylamide groups such as methylsulfonylamino, octylsulfonylamino, 2-ethylhexylsulfonylamino, trifluoromethylsulfonylamino
  • -SO 2 NR 26 R 27 (Sulfamoyl groups such as aminosulfonyl, methylaminosulfonyl, dimethylaminosulfonyl, butylaminosulfonyl, cyclohexylaminosulfonyl, octylaminosulfonyl, phenylaminosulfonyl, 2-pyridylaminosulfonyl),.
  • the substituent X has the above-mentioned quenching agent portion in addition to the above-mentioned metallocenyl group.
  • each of R 10 to R 28 independently represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group.
  • the aliphatic group and aromatic group that can be taken as R 10 to R 28 are not particularly limited, and the alkyl group, the alkenyl group and the alkynyl group classified as the aliphatic group in the substituent that can be taken as the substituent X are also used. , Can be appropriately selected from aryl groups classified as aromatic groups.
  • the heterocyclic group that can be taken as R 10 to R 28 may be an aliphatic or aromatic group, and is appropriately selected from, for example, a heterocyclic group (aromatic heterocyclic group or an aliphatic heterocyclic group) that can be taken as the substituent X.
  • a heterocyclic group aromatic heterocyclic group or an aliphatic heterocyclic group
  • the alkyl group, alkenyl group and alkynyl group which can be taken as the substituent X may be linear, branched or cyclic, respectively, and linear or branched is preferable.
  • R 12 of ⁇ COOR 12 is a hydrogen atom (that is, a carboxy group)
  • the hydrogen atom may be dissociated (that is, a carbonate group) or may be in a salt state.
  • R 24 of —OSO 2 R 24 is a hydrogen atom (that is, a sulfo group)
  • the hydrogen atom may be dissociated (that is, a sulfonate group) or may be in a salt state.
  • the substituent that can be taken as the substituent X may further have a substituent.
  • examples of the substituent that may be possessed include the above-mentioned substituent X.
  • adjacent substituents may be bonded to each other to form a ring, and the formed ring is preferably an aliphatic heterocycle or a heteroaryl ring, and the size of the formed ring is not particularly limited. It is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring. Further, the number of rings formed is not particularly limited, and may be one or two or more.
  • the metallocenyl group that can be taken as the substituent X is preferably represented by the following general formula (2M).
  • L represents a single bond or a divalent linking group that is not conjugate with A, B or G in the general formula (1).
  • R1m to R9m represent hydrogen atoms or substituents, respectively.
  • M is an atom that can constitute a metallocene compound, and represents Fe, Co, Ni, Ti, Cu, Zn, Zr, Cr, Mo, Os, Mn, Ru, Sn, Pd, Rh, V or Pt. * Indicates a joint with A, B or G.
  • L in the general formula (2M) is a single bond, a cyclopentadienyl ring directly bonded to A, B or G (a ring having R 1m in the general formula (2M)). Is not included in the conjugated structure coupled with A, B or G.
  • the divalent linking group that can be taken as L is not particularly limited as long as it is a linking group that does not conjugate with A, B or G, and is described above at the inside thereof or at the cyclopentadiene ring side end portion in the general formula (2M). May include a conjugate structure of.
  • -CO-, -CS-, -NR- R indicates a hydrogen atom or a monovalent substituent
  • R indicates a hydrogen atom or a monovalent substituent
  • -O-, -S-, -SO2- or -N CH-, or these.
  • Examples thereof include a divalent linking group consisting of a plurality (preferably 2 to 6) in combination.
  • the combined divalent linking group is not particularly limited, but a group containing -CO-, -NH-, -O- or -SO2- is preferable, and -CO-, -NH-, -O- or- Examples thereof include a linking group consisting of two or more SO 2- or a combination of at least one of -CO-, -NH-, -O- and -SO 2- and an alkylene group or an arylene group. Be done.
  • linking group consisting of two or more combinations of -CO-, -NH-, -O- or -SO 2- , -COO-, -OCO-, -CONH-, -NHCOO-, -NHCONH-, -SO 2 NH- is mentioned.
  • the linking group consisting of a combination of at least one of -CO-, -NH-, -O- and -SO 2- and an alkylene group or an arylene group includes -CO-, -COO- or -CONH- and an alkylene. Examples thereof include a group in combination with a group or an arylene group.
  • the substituent that can be taken as R is not particularly limited and has the same meaning as the above-mentioned substituent X.
  • L may have one or more substituents.
  • the substituent that L may have is not particularly limited, and is synonymous with, for example, the above-mentioned substituent X.
  • the substituents bonded to adjacent atoms may be bonded to each other to further form a ring structure.
  • the alkylene group that can be taken as L may be linear, branched or cyclic as long as it is a group having 1 to 20 carbon atoms, and for example, methylene, ethylene, propylene, methylethylene, methylmethylene, etc.
  • the group such as —CO— may be incorporated at any position in the alkylene group, and the number of incorporated groups is not particularly limited.
  • the arylene group that can be taken as L is not particularly limited as long as it is a group having 6 to 20 carbon atoms, and for example, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms that can be taken as A in the general formula (1). Examples thereof include groups in which one hydrogen atom is further removed from each group exemplified as.
  • the heterocyclic group that can be taken as L is not particularly limited, and examples thereof include a group obtained by further removing one hydrogen atom from each group exemplified as the heterocyclic group that can be taken as A.
  • the remaining partial structure excluding the linking group L corresponds to a structure (metallocene structure portion) in which one hydrogen atom is removed from the metallocene compound.
  • the metallocene compound serving as the metallocene structure is a known metallocene compound as long as it is a compound conforming to the partial structure defined by the above general formula (2M) (a compound in which a hydrogen atom is bonded instead of L). It can be used without particular limitation.
  • the metallocene structure defined by the general formula (2M) will be specifically described.
  • R 1m to R 9m represent hydrogen atoms or substituents, respectively.
  • the substituent that can be taken as R 1 m to R 9 m is not particularly limited, but can be selected from, for example, the substituent that can be taken as the above-mentioned Substituent X.
  • R 1m to R 9m are preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an acyl group, an alkoxy group, an amino group or an amide group, respectively, and more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an acyl group or an alkoxy group.
  • a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an acyl group is more preferable, a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group is particularly preferable, and a hydrogen atom is the most preferable.
  • an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferable, and for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec- Examples thereof include butyl, tert-butyl, isobutyl, pentyl, tert-pentyl, hexyl, octyl and 2-ethylhexyl.
  • This alkyl group may have a halogen atom as a substituent.
  • Alkyl groups substituted with halogen atoms include, for example, chloromethyl, dichloromethyl, trichloromethyl, bromomethyl, dibromomethyl, tribromomethyl, fluoromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, 2,2,2-trifluoroethyl. , Perfluoroethyl, perfluoropropyl, perfluorobutyl and the like. Further, in the alkyl group that can be taken as R 1 m or the like, at least one methylene group forming a carbon chain may be substituted with —O— or —CO—.
  • alkyl group in which the methylene group is substituted with —O— examples include methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, second butoxy, third butoxy, 2-methoxyethoxy, chloromethyloxy, dichloromethyloxy and trichloro.
  • Methyloxy bromomethyloxy, dibromomethyloxy, tribromomethyloxy, fluoromethyloxy, difluoromethyloxy, trifluoromethyloxy, 2,2,2-trifluoroethyloxy, perfluoroethyloxy, perfluoropropyloxy, Examples thereof include an alkyl group in which the end methylene group of perfluorobutyloxy is substituted, an alkyl group in which the internal methylene group of the carbon chain such as 2-methoxyethyl is substituted, and the like.
  • Alkyl groups in which the methylene group is substituted with -CO- include, for example, acetyl, propionyl, monochloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, trifluoroacetyl, propane-2-one-1-yl, butane-2-one-. 1-Il and the like can be mentioned.
  • M is an atom that can constitute a metallocene compound, and is Fe, Co, Ni, Ti, Cu, Zn, Zr, Cr, Mo, Os, Mn, Ru, Sn, Pd, Rh. , V or Pt.
  • M is preferably Fe, Ti, Co, Ni, Zr, Ru or Os, more preferably Fe, Ti, Ni, Ru or Os, further preferably Fe or Ti, and most preferably Fe.
  • a group formed by combining preferable groups of L, R 1m to R 9m and M is preferable, and for example, as L, a single bond or a group having 2 to 8 carbon atoms is preferable.
  • a group formed by combining with Fe can be mentioned.
  • the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group, aryl group and heteroaryl group which can be taken as the substituent X, and the aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group which can be taken as R10 to R28 are each. Further, it may have a substituent or may be unsubstituted. Further, the substituent which may be possessed is not particularly limited, but is limited to an alkyl group, an aryl group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aromatic heterocyclic oxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group and an aryloxy group.
  • the dye D is a dye represented by the general formula (1), it is preferably a dye represented by the following general formula (14).
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • R 1 and R 2 may be the same or different from each other, or may be combined with each other to form a ring.
  • the substituents that can be taken as R 1 and R 2 are not particularly limited, but for example, the alkyl group (including the cycloalkyl group), the alkenyl group, the alkynyl group, the aryl group and the heterocyclic group (fragrance) in the above-mentioned substituent X are not particularly limited.
  • alkoxy group (Including group heterocyclic group and aliphatic heterocyclic group), alkoxy group, cycloalkoxy group, aryloxy group, heteroaryloxy group, alkylthio group, cycloalkylthio group, arylthio group, heteroarylthio group, alkoxycarbonyl group, aryl Oxycarbonyl group, phosphoryl group, sulfamoyl group, acyl group, acyloxy group, amide group, sulfonylamide group, carbamoyl group, ureido group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, amino group, alkylsulfonyloxy group, cyano group, nitro group , Halogen atom, hydroxy group and the like.
  • R 41 and R 42 are also synonymous with the above-mentioned R 1 and R 2 .
  • R 1 , R 2 , R 41 and R 42 may further have a substituent.
  • examples of the substituent that may be possessed include the above-mentioned substituent X.
  • an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heteroaryl group is preferable, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group is more preferable, and an alkyl group or an aryl group is further preferable. preferable.
  • B 1 , B 2 , B 3 and B 4 in the general formula (14) each independently represent a carbon atom or a nitrogen atom.
  • the ring containing B 1 , B 2 , B 3 and B 4 is an aromatic ring.
  • B 1 to B 4 at least two or more are preferably carbon atoms, and it is more preferable that all of B 1 to B 4 are carbon atoms.
  • the carbon atom that can be taken as B 1 to B 4 has a hydrogen atom or a substituent.
  • the number of carbon atoms having a substituent is not particularly limited, but is preferably 0, 1 or 2, and more preferably 1.
  • B 1 and B 4 are carbon atoms and at least one of them has a substituent.
  • the substituents contained in the carbon atoms that can be taken as B 1 to B 4 are not particularly limited, and examples thereof include the above-mentioned substituents that can be taken as R 1 and R 2 .
  • a hydroxy group more preferably an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryl group, an acyl group, an amide group, a sulfonylamide group, a carbamoyl group, an amino group, a cyano group, a nitro group, a halogen atom or a hydroxy group.
  • B 5 , B 6 , B 7 and B 8 are synonymous with the above B 1 , B 2 , B 3 and B 4 , respectively.
  • the substituents of the carbon atoms that can be taken as B 1 to B 8 may further have a substituent. Further, examples of the substituent that may be possessed include the above-mentioned substituent X.
  • an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, an amide group, a sulfonylamide group or a carbamoyl group is more preferable, and an alkyl group is particularly preferable.
  • Examples thereof include a group, an alkoxy group, a hydroxy group, an amide group or a sulfonylamide group, and most preferably a hydroxy group, an amide group or a sulfonylamide group.
  • an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, an amino group, a cyano group, a nitro group or a halogen atom is more preferable.
  • one of the substituents is an electron-attracting group (for example, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, a cyano group, a nitro group or a halogen atom).
  • R 1 and R 2 may be bonded to each other to form a ring, and R 1 or R 2 may be bonded to the substituent of B 2 or B 3 to form a ring. You may. Further, R 41 and R 42 may be bonded to each other to form a ring, or R 41 or R 42 may be bonded to the substituent of B 6 or B 7 to form a ring.
  • the ring formed is preferably a heterocycle or a heteroaryl ring, and the size of the formed ring is not particularly limited, but a 5-membered ring or a 6-membered ring is preferable. Further, the number of rings formed is not particularly limited, and may be one or two or more. Examples of the form in which two or more rings are formed include a form in which the substituents of R 1 and B 2 and the substituents of R 2 and B 3 are bonded to each other to form two rings. Can be mentioned.
  • dye D A specific example of dye D is shown below.
  • the following compounds F-1 to F-33 are dyes represented by the general formula (1).
  • the total content of the dyes A to D in the wavelength selective absorption filter of the present invention is not particularly limited as long as the effect of the present invention is exhibited, and is preferably 0.01% by mass or more, preferably 0.05% by mass or more. Is more preferable, 0.10% by mass or more is further preferable, 0.15% by mass or more is particularly preferable, and 0.20% by mass or more is particularly preferable.
  • the total content of the dyes A to D in the wavelength selective absorption filter of the present invention is usually 70% by mass or less, preferably 50% by mass or less, and more preferably 40% by mass or less.
  • the content of each of the dyes A to D that can be contained in the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably as follows.
  • the content of the dye A in the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably 0.01 to 45% by mass, more preferably 0.1 to 30% by mass.
  • the content of the dye B in the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably 0.01 to 45% by mass, more preferably 0.1 to 30% by mass.
  • the content of the dye C in the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably 0.01 to 30% by mass, more preferably 0.1 to 25% by mass.
  • the content of the dye D in the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably 0.01 to 45% by mass, more preferably 0.1 to 30% by mass.
  • the content of the quencher-embedded dye in the wavelength selective absorption filter of the present invention is 0.1 from the viewpoint of the antireflection effect. It is preferably mass% or more. The upper limit is preferably 45% by mass or less.
  • the resin contained in the wavelength selective absorption filter of the present invention can disperse (preferably dissolve) the above dye and the association inhibitor described later, and the association of the dye by the association inhibitor. Is not particularly limited as long as it can suppress the decrease in light resistance and suppress the decrease in light resistance. It is preferable that the suppression of external light reflection and the suppression of luminance decrease can be satisfied, and the original color of the image of the display device (preferably a self-luminous display device) can be maintained at an excellent level.
  • the matrix resin is a low-polarity matrix resin capable of exhibiting sharper absorption of the squaric dye. Is preferable.
  • squaric dye represented by the general formula (1) described in International Publication No. 2019/189463 is contained as at least one of the dyes B or C. Since the above-mentioned squaric dye exhibits sharper absorption, it is possible to achieve both antireflection and suppression of luminance decrease at an excellent level.
  • low polarity means that the fd value defined by the following relational expression ⁇ is preferably 0.50 or more.
  • Relational expression ⁇ : fd ⁇ d / ( ⁇ d + ⁇ p + ⁇ h)
  • ⁇ , ⁇ d, ⁇ p, and ⁇ h correspond to the London dispersion force, the dipole intermolecular force, and the hydrogen bond force with respect to the solubility parameter ⁇ t calculated by the Hoy method, respectively. Indicates a term. The specific calculation method will be described later. That is, fd indicates the ratio of ⁇ d to the sum of ⁇ d, ⁇ p, and ⁇ h. By setting the fd value to 0.50 or more, it becomes easier to obtain a sharper absorption waveform.
  • the fd value is calculated as follows.
  • fd ⁇ ( wi ⁇ fd i )
  • wi indicates the mass fraction of the i -th matrix resin
  • fdi indicates the fd value of the i -th matrix resin.
  • ⁇ d corresponding to the London dispersion force The term ⁇ d corresponding to the London dispersion force is obtained for the Amorphous Polymers described in the column “2) Method of Hoy (1985, 1989)” on pages 214 to 220 of the document “Properties of Polymers 3rd, ELSEVIER , (1990)”. ⁇ d, which is calculated according to the description in the above column of the above document.
  • ⁇ p corresponding to the dipole intramolecular force refers to the Amorphous Polymers described in the “2) Method of Hoy (1985, 1989)” column of pages 214 to 220 of the literature “Properties of Polymers 3rd, ELSEVIER , (1990)”. It refers to the obtained ⁇ p, and is calculated according to the description in the above column of the above document.
  • the matrix resin is a resin exhibiting a certain hydrophobicity
  • the water content of the wavelength selective absorption filter of the present invention can be set to a low water content such as 0.5% or less, and the wavelength selection of the present invention can be achieved. It is preferable from the viewpoint of improving the light resistance of the absorption filter.
  • the resin may contain any conventional component in addition to the polymer.
  • the fd of the matrix resin is a calculated value for the polymer constituting the matrix resin.
  • the matrix resin include polystyrene resin and cyclic polyolefin resin from the viewpoint that the association inhibitor functions more effectively, and polystyrene resin is more preferable.
  • the fd value of the polystyrene resin is 0.45 to 0.60
  • the fd value of the cyclic polyolefin resin is 0.45 to 0.70.
  • a resin component that imparts functionality to the wavelength selective absorption filter such as an extensible resin component and a peelability control resin component described later.
  • the matrix resin is used in the sense that it contains an extensible resin component and a peelability control resin component in addition to the above-mentioned resin. It is preferable that the matrix resin contains a polystyrene resin from the viewpoint of sharpening the absorption waveform of the dye.
  • the polystyrene contained in the polystyrene resin means a polymer containing a styrene component. Polystyrene preferably contains 50% by mass or more of the styrene component.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention may contain one type of polystyrene or two or more types of polystyrene.
  • the styrene component is a structural unit derived from a monomer having a styrene skeleton in its structure.
  • Polystyrene preferably contains 70% by mass or more of a styrene component, and more preferably 85% by mass or more, from the viewpoint of controlling the photoelastic coefficient and hygroscopicity to values in a preferable range as a wavelength selective absorption filter. It is also preferable that polystyrene is composed of only a styrene component.
  • examples of polystyrene composed of only a styrene component include homopolymers of styrene compounds and copolymers of two or more kinds of styrene compounds.
  • the styrene compound is a compound having a styrene skeleton in its structure, and is a compound in which a substituent is introduced to the extent that the ethylenically unsaturated bond of styrene can act as a reactive (polymerizable) group in addition to styrene.
  • styrene compounds include, for example, styrene; ⁇ -methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, 3,5-dimethylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, o-ethylstyrene, and the like.
  • Alkyl styrene such as p-ethyl styrene and tert-butyl styrene; hydroxyl group, alkoxy group, carboxy group and benzene nucleus of styrene such as hydroxy styrene, tert-butoxy styrene, vinyl benzoic acid, o-chloro styrene and p-chloro styrene. Examples thereof include substituted styrene in which a halogen atom or the like is introduced. Above all, from the viewpoint of availability, material price and the like, the polystyrene is preferably a homopolymer of styrene (that is, polystyrene).
  • polystyrene may be a styrene-diene copolymer, a styrene-polymerizable unsaturated carboxylic acid ester copolymer, or the like.
  • a mixture of polystyrene and synthetic rubber eg, polybutadiene and polyisoprene
  • HIPS Impact-resistant polystyrene
  • a rubber-like elastic body is dispersed in a continuous phase of a polymer containing a styrene component (for example, a copolymer of a styrene component and a (meth) acrylic acid ester component), and the above-mentioned copolymer is dispersed in the above-mentioned rubber-like elastic body.
  • a styrene component for example, a copolymer of a styrene component and a (meth) acrylic acid ester component
  • graft HIPS graft type impact resistant polystyrene
  • so-called styrene-based elastomers can also be preferably used.
  • the polystyrene may be hydrogenated (hydrogenated polystyrene may be used).
  • the hydrogenated polystyrene is not particularly limited, but is a hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer (SEBS) obtained by hydrogenating a styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS), and styrene-isoprene-styrene.
  • SEBS hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer
  • SEPS hydrogenated styrene-isoprene-styrene block copolymer
  • SIS block copolymer
  • As the hydrogenated polystyrene only one kind may be used, or two or more kinds may be used.
  • polystyrene may be modified polystyrene.
  • the modified polystyrene is not particularly limited, and examples thereof include polystyrene having a reactive group such as a polar group introduced therein, and specific examples thereof include acid-modified polystyrene such as maleic acid-modified and epoxy-modified polystyrene.
  • polystyrene a plurality of types having different compositions, molecular weights, etc. can be used in combination.
  • the polystyrene-based resin can be obtained by a conventional method such as an anion, lump, suspension, emulsification or solution polymerization method.
  • at least a part of the unsaturated double bond of the benzene ring of the conjugated diene and the styrene monomer may be hydrogenated.
  • the hydrogenation rate can be measured by a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR).
  • polystyrene resin for example, "Clearlen 530L” and “Clearlen 730L” manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., “Toughpren 126S” and “Asaplen T411” manufactured by Asahi Kasei Corporation, Clayton Polymer Japan. "Clayton D1102A”, “Clayton D1116A” manufactured by Stylolution Co., Ltd., “Stylolux S”, “Stylolux T” manufactured by Stylollution Co., Ltd., "Asaflex 840", “Asaflex 860” manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.
  • hydrogenated polystyrene resins examples include “Tough Tech H Series” manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd., “Kuraray G Series” (above, SEBS) manufactured by Shell Japan Co., Ltd., and “Dynaron” (hydrogenated) manufactured by JSR Co., Ltd. Styrene-butadiene random copolymer), “Septon” (SEPS) manufactured by Kuraray Co., Ltd., and the like.
  • modified polystyrene resin examples include "Tough Tech M Series” manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd., “Epofriend” manufactured by Daicel Co., Ltd., “Polar Group Modified Dynaron” manufactured by JSR Co., Ltd., and Toagosei Co., Ltd. Examples include “Rezeda” made by.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention preferably contains a polyphenylene ether resin in addition to the polystyrene resin.
  • a polyphenylene ether resin By containing the polystyrene resin and the polyphenylene ether resin together, the toughness of the wavelength selective absorption filter can be improved, and the occurrence of defects such as cracks can be suppressed even in a harsh environment such as high temperature and high humidity.
  • the polyphenylene ether resin Zylon S201A, 202A, S203A (all trade names) manufactured by Asahi Kasei Corporation can be preferably used. Further, a resin in which a polystyrene resin and a polyphenylene ether resin are mixed in advance may be used.
  • the mixed resin of the polystyrene resin and the polyphenylene ether resin for example, Zylon 1002H, 1000H, 600H, 500H, 400H, 300H, 200H (all trade names) manufactured by Asahi Kasei Corporation are preferable. Can be used.
  • the mass ratio of the two is preferably 99/1 to 50/50, preferably 98/2 to 60, for the polystyrene resin / polyphenylene ether resin. / 40 is more preferable, and 95/5 to 70/30 is even more preferable.
  • the cyclic olefin compound that forms the cyclic polyolefin contained in the cyclic polyolefin resin is not particularly limited as long as it is a compound having a ring structure containing a carbon-carbon double bond, and is, for example, a monocyclic ring other than the norbornene compound and the norbornene compound. Cyclic olefin compound, cyclic conjugated diene compound, vinyl alicyclic hydrocarbon compound and the like can be mentioned.
  • cyclic polyolefin examples include (1) a polymer containing a structural unit derived from a norbornene compound, (2) a polymer containing a structural unit derived from a monocyclic cyclic olefin compound other than the norbornene compound, and (3) a cyclic polymer.
  • the polymer containing a structural unit derived from a norbornene compound and the polymer containing a structural unit derived from a monocyclic cyclic olefin compound include a ring-opening polymer of each compound.
  • the cyclic polyolefin is not particularly limited, but a polymer having a structural unit derived from a norbornene compound represented by the following general formula (A-II) or (A-III) is preferable.
  • the polymer having the structural unit represented by the following general formula (A-II) is an addition polymer of the norbornene compound, and the polymer having the structural unit represented by the following general formula (A-III) is the norbornene compound. It is a ring-opening polymer.
  • m is an integer of 0 to 4, preferably 0 or 1.
  • R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.
  • the hydrocarbon group in the general formulas (AI) to (A-III) is not particularly limited as long as it is a group consisting of a carbon atom and a hydrogen atom, and is an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group and an aryl group (aromatic hydrocarbon). Hydrogen group) and the like. Of these, an alkyl group or an aryl group is preferable.
  • X2 and X3, Y2 and Y3 are independently hydrogen atom, hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, halogen atom and halogen atom, respectively.
  • R 11 to R 15 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms
  • Z represents a hydrogen group or a hydrocarbon group substituted with a halogen
  • W represents Si ( R 16 ) p D (3-p)
  • R 16 indicates a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms
  • D is a halogen atom
  • -OCOR 17 or -OR 17 R 17 is a hydrogen atom having 1 to 10 carbon atoms.
  • P is an integer of 0 to 3
  • n is an integer of 0 to 10, preferably 0 to 8, and more preferably 0 to 6.
  • R 3 to R 6 are preferably hydrogen atoms or -CH 3 , respectively, and more preferably hydrogen atoms in terms of moisture permeability.
  • X 2 and X 3 a hydrogen atom, -CH 3 or -C 2 H 5 , is preferable, respectively, and a hydrogen atom is more preferable in terms of moisture permeability.
  • Y 2 and Y 3 hydrogen atom, halogen atom (particularly chlorine atom) or-(CH 2 ) n COOR 11 (particularly -COOCH 3 ) are preferable, respectively, and hydrogen atom is more preferable in terms of moisture permeability.
  • Other groups are appropriately selected.
  • the polymer having a structural unit represented by the general formula (A-II) or (A-III) may further contain at least one structural unit represented by the following general formula (AI).
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms
  • X 1 and Y 1 independently represent a hydrogen atom and carbon, respectively.
  • R 11 to R 15 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms
  • Z represents a hydrogen group or a hydrocarbon group substituted with a halogen
  • W represents Si ( R 16 ) p D (3-p) (R 16 indicates a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, D is a halogen atom, -OCOR 17 or -OR 17 (R 17 is a hydrogen atom having 1 to 10 carbon atoms). The group) is shown.
  • P is an integer of 0 to 3).
  • n is an integer from 0 to 10.
  • the cyclic polyolefin having a structural unit represented by the general formula (A-II) or (A-III) has a structural unit derived from the above-mentioned norbornene compound with respect to the total mass of the cyclic polyolefin. It is preferably contained in an amount of 90% by mass or less, more preferably 30 to 85% by mass, further preferably 50 to 79% by mass, and most preferably 60 to 75% by mass.
  • the ratio of the structural unit derived from the norbornene compound represents the average value in the cyclic polyolefin.
  • Addition (co) polymers of norbornene compounds are described in JP-A No. 10-7732, JP-A-2002-504184, US Publication No. 2004/229157A1, International Publication No. 2004/070463, and the like. There is.
  • the polymer of the norbornene compound is obtained by addition polymerization of the norbornene compounds (for example, a polycyclic unsaturated compound of norbornene).
  • the norbornene compound if necessary, the norbornene compound, olefins such as ethylene, propylene and butene, conjugated diene such as butadiene and isoprene, non-conjugated diene such as ethylidene norbornene, and acrylonitrile, acrylic acid, and meta.
  • olefins such as ethylene, propylene and butene
  • conjugated diene such as butadiene and isoprene
  • non-conjugated diene such as ethylidene norbornene
  • acrylonitrile acrylic acid, and meta.
  • examples thereof include a copolymer obtained by addition-copolymerizing with an ethylenically unsaturated compound such as acrylic acid, maleic anhydride, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, maleimide, vinyl acetate and vinyl chloride.
  • Such an addition (co) polymer of norbornene compound is marketed by Mitsui Chemicals, Inc. under the trade name of Apel, and has different glass transition temperatures (Tg), APL8008T (Tg70 ° C) and APL6011T (Tg105 ° C). , APL6013T (Tg125 ° C.), APL6015T (Tg145 ° C.) and the like.
  • pellets such as TOPAS 8007, 6013, and 6015 are commercially available from Polyplastics.
  • the Appear 3000 is commercially available from Ferrania.
  • polymer of the norbornene compound a commercially available product can be used.
  • it is marketed by JSR under the trade name of Arton G or Arton F, and by Zeon Corporation under the trade names of Zeonor ZF14, ZF16, Zeonex 250 or Zeonex 280. There is.
  • the hydride of the polymer of the norbornene compound can be synthesized by adding hydrogen after addition polymerization or metathesis ring-opening polymerization of the norbornene compound or the like.
  • Examples of the synthesis method include JP-A No. 1-240517, JP-A-7-196736, JP-A-60-26024, JP-A-62-19801, JP-A-2003-159767, JP-A-2004-309979 and the like. It is described in each publication of.
  • the molecular weight of the cyclic polyolefin is appropriately selected according to the purpose of use, but is equivalent to polyisoprene or polystyrene measured by a gel permeation chromatograph method of a cyclohexane solution (toluene solution if the polymer polymer is not dissolved).
  • Mass average molecular weight is preferably in the range of 5000 to 500,000, preferably 8,000 to 200,000, and more preferably 10,000 to 100,000.
  • a polymer having a molecular weight in the above range can achieve both mechanical strength of a molded product and moldability at a high level in a well-balanced manner.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention preferably contains the matrix resin in an amount of 5% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, further preferably 50% by mass or more, and particularly preferably 60% by mass or more. preferable.
  • the content of the matrix resin in the wavelength selective absorption filter of the present invention is usually 99.90% by mass or less, preferably 99.85% by mass or less.
  • the cyclic polyolefin contained in the wavelength selective absorption filter of the present invention may be two or more kinds, or polymers having different composition ratios and molecular weights at least one may be used in combination. In this case, the total content of each polymer is within the above range.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention can appropriately select and contain a component exhibiting extensibility (also referred to as an extensibility resin component) as a resin component.
  • a component exhibiting extensibility also referred to as an extensibility resin component
  • specific examples thereof include acrylonitrile-butadiene-styrene resin (ABS resin), styrene-butadiene resin (SB resin), isoprene resin, butadiene resin, polyether-urethane resin, and silicone resin. Further, these resins may be further hydrogenated as appropriate.
  • ABS resin or SB resin As the extensible resin component, it is preferable to use ABS resin or SB resin, and it is more preferable to use SB resin.
  • SB resin for example, a commercially available one can be used.
  • commercial products TR2000, TR2003, TR2250 (above, trade name, manufactured by JSR Co., Ltd.), Clearen 210M, 220M, 730V (above, trade name, manufactured by Denka Co., Ltd.), Asaflex 800S, 805, 810, 825, 830, 840 (above, trade name, manufactured by Asahi Kasei Corporation), Epolex SB2400, SB2610, SB2710 (above, trade name, Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
  • the extensible resin component As the extensible resin component, a sample having a thickness of 30 ⁇ m and a width of 10 mm was prepared by using the extensible resin component alone, and the fracture elongation at 25 ° C. was measured based on JIS 7127. Those having an elongation of 10% or more are preferable, and those having an elongation of 20% or more are more preferable.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention is peeled off as a resin component when it is manufactured by a method including a step of peeling the wavelength selective absorption filter from the release film among the methods for manufacturing the wavelength selective absorption filter of the present invention described later. It is preferable because it can contain a component that controls the property (peeling property control resin component).
  • peelability of the wavelength selective absorption filter from the release film it is possible to prevent the wavelength selective absorption filter from having peeled marks after peeling, and it is possible to cope with various processing speeds in the peeling process. Is possible. As a result, it is possible to obtain a favorable effect on improving the quality and productivity of the wavelength selective absorption filter.
  • the peelability control resin component is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the type of the release film.
  • a polyester resin also referred to as a polyester additive
  • a cellulose polymer film is used as the release film.
  • a polyester-based elastomer is suitable.
  • a polyester-based polymer film is used as the release film, for example, a styrene-based elastomer is also preferably used as the release control resin component.
  • the polyester-based additive can be obtained by a conventional method such as a dehydration condensation reaction between a polyhydric basic acid and a polyhydric alcohol, an addition of an anhydrous dibasic acid to the polyhydric alcohol, and a dehydration condensation reaction.
  • a polycondensation ester formed from an acid and a diol is preferred.
  • the mass average molecular weight (Mw) of the polyester-based additive is preferably 500 to 50,000, more preferably 750 to 40,000, and even more preferably 2,000 to 30,000.
  • the mass average molecular weight of the polyester-based additive is at least the above-mentioned preferable lower limit value, it is preferable from the viewpoint of brittleness and moist heat durability, and when it is at least the above-mentioned preferable upper limit value, it is preferable from the viewpoint of compatibility with the resin.
  • the mass average molecular weight of the polyester-based additive is a value of the mass average molecular weight (Mw) in terms of standard polystyrene measured under the following conditions.
  • Mn is a number average molecular weight in terms of standard polystyrene.
  • GPC Gel permeation chromatograph device (HLC-8220GPC manufactured by Tosoh Corporation, Column: Guard columns HXL-H, TSK gel G7000HXL, TSK gel GMHXL 2 and TSK gel G2000HXL manufactured by Tosoh Corporation are connected in sequence.
  • dicarboxylic acid can be preferably mentioned.
  • dicarboxylic acid include an aliphatic dicarboxylic acid and an aromatic dicarboxylic acid, and an aromatic dicarboxylic acid or a mixture of an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic dicarboxylic acid can be preferably used.
  • aromatic dicarboxylic acids aromatic dicarboxylic acids having 8 to 20 carbon atoms are preferable, and aromatic dicarboxylic acids having 8 to 14 carbon atoms are more preferable.
  • aromatic dicarboxylic acids having 8 to 14 carbon atoms are more preferable.
  • at least one of phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid is preferably mentioned.
  • an aliphatic dicarboxylic acid having 3 to 8 carbon atoms is preferable, and an aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 6 carbon atoms is more preferable.
  • at least one of succinic acid, maleic acid, adipic acid and glutaric acid is preferably mentioned, and at least one of succinic acid and adipic acid is more preferable.
  • diol component constituting the polyester-based additive examples include aliphatic diols and aromatic diols, and aliphatic diols are preferable.
  • aliphatic diols examples include an aliphatic diol having 2 to 4 carbon atoms, and an aliphatic diol having 2 to 3 carbon atoms is more preferable.
  • the aliphatic diol examples include ethylene glycol, diethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,3-butylene glycol and 1,4-butylene glycol, which are used alone. Alternatively, two or more types can be used in combination.
  • the polyester-based additive is particularly preferably a compound obtained by condensing at least one of phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid with an aliphatic diol.
  • the end of the polyester-based additive may be sealed by reacting with a monocarboxylic acid.
  • a monocarboxylic acid used for encapsulation, an aliphatic monocarboxylic acid is preferable, acetic acid, propionic acid, butanoic acid, benzoic acid and derivatives thereof are preferable, acetic acid or propionic acid is more preferable, and acetic acid is further preferable.
  • polyester-based additives examples include ester-based resin polyesters manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. (for example, LP050, TP290, LP035, LP033, TP217, TP220) and ester-based resin Byron manufactured by Toyobo Co., Ltd. (for example, Byron 245). , Byron GK890, Byron 103, Byron 200, Byron 550. GK880) and the like.
  • the polystyrene-based elastomer is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose.
  • SBS styrene-butadiene-styrene block copolymer
  • SIS styrene-isoprene-styrene block copolymer
  • SEP polystyrene-poly (ethylene).
  • SEPS Polystyrene-Poly (SIS hydrogenated type), Polystyrene-Poly (ethylene-butylene) -Polystyrene triblock copolymer (SEBS) (SBS hydrogenated type), Polystyrene-Poly Examples thereof include (ethylene-ethylene-propylene) -polystyrene triblock copolymer (SEEPS), polystyrene-poly (ethylene-propylene) diblock copolymer, and polystyrene-poly (ethylene-propylene) -polystyrene triblock copolymer.
  • polystyrene-poly (ethylene-butylene) -polystyrene triblock copolymers or polystyrene-poly (ethylene-ethylene-propylene) -polystyrene triblock copolymers are preferred.
  • the content of the repeating unit derived from styrene in the polystyrene-based elastomer is preferably 90% by mass or less, more preferably 55% by mass or less, further preferably 48% by mass or less, further preferably 35% by mass or less, and 33% by mass or less. Even more preferable.
  • the lower limit of the ratio of the repeating unit derived from styrene may be more than 0% by mass and may be 10% by mass or more.
  • the polystyrene-based elastomer is preferably a block copolymer of styrene and another monomer, more preferably a block copolymer having a styrene block at one end or both ends, and a styrene block at both ends. Is even more preferred.
  • styrene blocks peating units derived from styrene
  • the heat resistance tends to be further improved. This is due to the presence of highly heat resistant styrene-derived repeating units at the ends.
  • the block portion of the repeating unit derived from styrene is a reactive polystyrene-based hard block, it tends to be more excellent in heat resistance, which is more preferable from the viewpoint of solubility in a solvent.
  • the polystyrene-based elastomer is a hydrogenated additive, its stability against heat is improved, and deterioration such as decomposition or polymerization is unlikely to occur. Further, it is more preferable from the viewpoint of solubility in a solvent.
  • the unsaturated double bond amount of the polystyrene-based elastomer is preferably less than 15 mmol, more preferably less than 5 mmol, and less than 0.5 mmol per 1 g of the polystyrene-based elastomer. More preferred.
  • the amount of unsaturated double bond referred to here does not include the amount of unsaturated double bond in the benzene ring derived from styrene.
  • the unsaturated double bond amount can be calculated by NMR (nuclear magnetic resonance) measurement.
  • the "styrene-derived repeating unit” is a styrene-derived structural unit contained in the polymer when styrene or a styrene derivative is polymerized, and may have a substituent.
  • the styrene derivative include ⁇ -methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-propylstyrene, 4-cyclohexylstyrene and the like.
  • the substituent include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxyalkyl group having 2 to 5 carbon atoms, an acetoxy group, a carboxyl group and the like.
  • polystyrene-based elastomer for example, the polystyrene-based elastomer described in paragraph 0027 of JP-A-2018-355279 can be used.
  • the content of the peelability control resin component in the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably 0.05% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more in the matrix resin.
  • the upper limit is preferably 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, and further preferably 15% by mass or less. From the viewpoint of obtaining appropriate adhesion, the above-mentioned preferable range is preferable.
  • the wavelength selection filter of the present invention contains a compound having a polar group (also referred to as an “association inhibitor” in the present invention).
  • the association inhibitor interacts with the above dye to suppress or prevent the association of dye molecules in the wavelength selective absorption filter of the present invention, and the absorption waveform of the dye A or D contained in the wavelength selective absorption filter. It is a compound that expresses the function of sharpening and improving the light resistance. Unlike the dyes described above, the association inhibitor is a compound that does not substantially exhibit color when contained in the wavelength selective absorption filter of the present invention. Further, the association inhibitor is a compound that exhibits a function of suppressing the association of dye molecules with respect to the dye A or D dispersed or dissolved in the resin in the wavelength selective absorption filter of the present invention, and is described above. Different from resin.
  • the molecular weight of the association inhibitor is 1000 or less, preferably 100 to 1000, more preferably 200 to 1000, and even more preferably 200 to 900.
  • the association inhibitor is not a compound exhibiting a function as an anti-fading agent described later.
  • the association inhibitor preferably does not have a fluorinated alkyl group from the viewpoint of uniform dispersion in the filter.
  • the association inhibitor may have at least one of a carboxylic acid ester bond, a carboxylic acid amide bond, a sulfonic acid amide bond, a urethane bond and a sulfonyl bond, and may have two or more of them. good.
  • the upper limit of the total number of polar groups is not particularly limited, but for example, 10 or less is preferable, and 6 or less is more preferable.
  • the type of the polar group contained in the association inhibitor is not particularly limited and may be one type or two or more types, but it is preferably one type or two types, and one type is preferable. It is more preferable to have.
  • the types of polar groups include one type of polar group classified as a carboxylic acid ester bond, one type of polar group classified as a carboxylic acid amide bond, and one type of polar group classified as a sulfonic acid amide bond.
  • a polar group classified as a urethane bond is counted as one type, and a polar group classified as a sulfonyl bond is counted as one type.
  • the association inhibitor preferably has a carboxylic acid ester bond or a carboxylic acid amide bond.
  • association inhibitor a compound represented by any of the following general formulas (2) to (14) and (18) is preferable.
  • the compound has two or more polar groups among the carboxylic acid ester bond, the carboxylic acid amide bond, the sulfonic acid amide bond, the urethane bond and the sulfonyl bond, it is based on the polar group having the highest priority of the compound. It shall be classified into each formula.
  • the order of priority of the polar groups here is carboxylic acid amide bond> carboxylic acid ester bond> sulfonic acid amide bond> sulfonyl bond> urethane bond in descending order of priority.
  • the compound represented by the following general formula (2) or (3) is a compound having a structure in which at least one of a carboxylic acid ester bond or a carboxylic acid amide bond is directly bonded to a ring structure. However, if it also corresponds to the compound represented by the general formula (18), it is classified into the compound represented by the general formula (18).
  • the compound represented by any of the general formulas (4) to (12) described later is a compound having at least one of a carboxylic acid ester bond, a carboxylic acid amide bond, and a urethane bond.
  • the compound represented by the general formula (13) described later is a compound having a sulfonic acid amide bond.
  • the compound represented by the general formula (14) described later is a compound having a sulfonyl bond.
  • the compound represented by the general formula (18) described later is a compound having a carboxylic acid amide bond.
  • Z represents a carbon atom, an oxygen atom, a sulfur atom or> NR 25
  • R 25 represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • Y 21 and Y 22 represent an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an amide group or a carbamoyl group.
  • m is an integer of 1 to 5
  • n is an integer of 1 to 6.
  • a 5- or 6-membered ring having Z as a ring-constituting atom may have a substituent.
  • a 5- or 6-membered ring having Z as a ring-constituting atom has a plurality of substituents, adjacent substituents may be bonded to each other to form a ring.
  • the ring formed by bonding the adjacent substituents to each other may be an aromatic ring or a non-aromatic ring.
  • Examples of the 5- or 6-membered ring having Z as a ring-constituting atom include tetrahydrofuran, tetrahydropyran, tetrahydrothiophene, thiane, pyrrolidine, piperidine and the like.
  • examples of this condensed ring structure include indoline, isoindoline, chroman, and isochroman.
  • a cyclic ester or cyclic amide structure include lactones such as tetrahydro-2-furanone (also referred to as 5-pentanolide), tetrahydro-2-pyrone (also referred to as 6-hexanolide), and 4-butan lactam (also referred to as 6-hexanolide). Lactams such as 2-pyrrolidone) and 5-pentanlactam (also referred to as 2-piperidone) can be mentioned.
  • R 25 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the alkyl group that can be taken as R25 may be chain-shaped, branched or cyclic, and the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 16, and even more preferably 1 to 12.
  • Alkyl groups that can be taken as R25 include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl, n-pentyl, t-amyl, n-hexyl, n-octyl, and the like.
  • Decyl dodecyl, eicosyl, 2-ethylhexyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, 2,6-dimethylcyclohexyl, 4-t-butylcyclohexyl, cyclopentyl, 1-adamantyl, 2-adamantyl, bicyclo [2.2.2] octane -3-Il can be mentioned.
  • Y 21 and Y 22 represent an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an amide group or a carbamoyl group.
  • the acyloxy group that can be taken as Y 21 or Y 22 the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 16, and even more preferably 1 to 12.
  • the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 16, and even more preferably 1 to 12.
  • the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 16, and even more preferably 1 to 12.
  • the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 16, and even more preferably 1 to 12.
  • Lucarbamoyl n-hexylcarbamoyl, cyclohexylcarbamoyl, 2-ethylhexylcarbamoyl, 2-ethylbutylcarbamoyl, t-octylcarbamoyl, n-heptylcarbamoyl, n-octylcarbamoyl, 1-adamantancarbamoyl, 2-adamantancarbamoyl, n-decylcarbamoyl , N-dodecylcarbamoyl, n-tetradecylcarbamoyl, n-hexadecylcarbamoyl and the like.
  • adjacent Y 21s may be connected to each other to form a ring
  • adjacent Y 22s may be connected to each other to form a ring
  • Y 31 to Y 70 represent an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an amide group, a carbamoyl group or a carbamoyloxy group
  • V 31 to V 43 are hydrogen atoms or aliphatic groups.
  • L 31 to L 64 and L 66 to L 80 represent divalent saturated linking groups having 0 to 40 atoms and 0 to 20 carbon atoms.
  • the fact that the number of atoms of L 31 to L 64 and L 66 to L 80 is 0 means that the groups located at both ends of the linking groups represented by L 31 to L 64 and L 66 to L 80 are simple. It means that they are directly connected by binding.
  • Y 31 to Y 70 represent an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an amide group, a carbamoyl group or a carbamoyloxy group.
  • the acyloxy group, alkoxycarbonyl group, amide group and carbamoyl group which can be taken as Y 31 to Y 70 include the acyloxy group, alkoxycarbonyl group and amide which can be taken as Y 21 or Y 22 in the above general formula (2) or (3).
  • the description of the group and the carbamoyl group can be applied respectively.
  • the description of the carbamoyl group that can be taken as Y 21 or Y 22 in the above general formula (2) or (3) can be applied.
  • V 31 to V 43 represent a hydrogen atom or an aliphatic group.
  • the number of carbon atoms of the aliphatic group that can be obtained as V 31 to V 43 is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 16, and even more preferably 1 to 12.
  • the aliphatic group is preferably an aliphatic hydrocarbon group, and may be chain-like, branched or cyclic. More preferably, it is an alkyl group, an alkenyl group or an alkynyl group.
  • Alkyl groups include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl, n-pentyl, t-amyl, n-hexyl, n-octyl, decyl, dodecyl and eicosyl.
  • alkenyl group examples include vinyl, allyl, prenyl, geranyl, oleyl, 2-cyclopenten-1-yl, 2-cyclohexene-1-yl and the like, and examples of the alkynyl group include ethynyl and the like.
  • Propargil can be mentioned.
  • L 31 to L 64 and L 66 to L 80 represent divalent saturated linking groups having 0 to 40 atoms and 0 to 20 carbon atoms.
  • the fact that the number of atoms of L 31 to L 64 and L 66 to L 80 is 0 means that the groups located at both ends of the linking groups represented by L 31 to L 80 are directly bonded by a single bond. Means that you are.
  • Preferred examples of the divalent saturated linking groups that can be taken as L 31 to L 64 and L 66 to L 80 include alkylene groups (eg, methylene, ethylene, propylene, trimethylene, tetramethylene, pentamethylene, hexamethylene, etc.
  • Two or more of these divalent groups may be bonded to each other to form a divalent complex group, and examples of the composite substituent include-(CH 2 ) 2 O (CH 2 ) 2 -,-. (CH 2 ) 2 O (CH 2 ) 2 O (CH 2 )-,-(CH 2 ) 2 S (CH 2 ) 2- or-(CH 2 ) 2 O 2 C (CH 2 ) 2- be able to.
  • Preferred examples of the compound represented by any of the general formulas (4) to (12) include citrate esters (eg, triethyl O-acetylcitrate, tributyl O-acetylcitrate, acetyltriethyl citrate, citrate).
  • citrate esters eg, triethyl O-acetylcitrate, tributyl O-acetylcitrate, acetyltriethyl citrate, citrate.
  • oleic acid ester eg, ethyl oleate, butyl oleate, 2-eth
  • Citric acid esters and pyrrolidone carboxylic acid esters described in the publication (2-pyrrolidone-5-carboxylate methyl, 2-pyrrolidone-5-carboxylate ethyl, 2-pyrrolidone-5-carboxylate butyl, 2-pyrrolidone-5 -Carboxylic acid 2-ethylhexyl), cyclohexanedicarboxylic acid ester (cis-1,2-cyclohexanedicarboxylate dibutyl, trans-1,2-cyclohexanedicarboxylate dibutyl, cis-1,4-cyclohexanedicarboxylate dibutyl, trans-1, Dibutyl 4-cyclohexanedicarboxylate, etc.), xylitol carboxylate ester (xylitol pentaacetate, xylitol tetraacetate, xylitol pentapropionate, etc.) and the like
  • R 1 represents an alkyl group or an aryl group
  • R 2 and R 3 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
  • the total number of carbon atoms of R 1 , R 2 and R 3 is 10 or more.
  • R 4 and R 5 represent an alkyl group or an aryl group.
  • the total number of carbon atoms of R 4 and R 5 is 10 or more.
  • the alkyl group that can be taken as R 1 to R 5 may be linear, branched, or cyclic, and the number of carbon atoms is preferably 1 to 25, more preferably 6 to 25. 6 to 20 are more preferable.
  • the number of carbon atoms of the aryl group that can be obtained as R 1 to R 5 is preferably 6 to 30, and more preferably 6 to 24.
  • phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthyl, binaphthyl, triphenylphenyl can be mentioned.
  • the alkyl group and aryl group that can be taken as R 1 to R 5 may have a substituent.
  • the substituents that may have include a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, etc.), an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an arylcarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfonyl group, and a sulfone.
  • Preferred examples include an amide group, an amino group, a hydroxy group or a cyano group.
  • a substituent formed by combining two or more of these substituents is also preferable.
  • substituent which the alkyl group and the aryl group which can be taken as R 1 to R 5 may have, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a sulfone group or a sulfonamide group is more preferable.
  • the total number of carbon atoms of R 1 to R 3 is 10 or more, preferably 10 to 40, and more preferably 12 to 30.
  • the total number of carbon atoms of R 4 and R 5 is 10 or more, preferably 10 to 40, more preferably 12 to 30.
  • R 1 represents an alkyl group or an aryl group.
  • R 2 and R 3 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and an alkyl group or an aryl group is preferable.
  • the alkyl group that can be taken as R 1 to R 3 may be linear, branched, or cyclic, and has preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and 1 to 12 carbon atoms. Is even more preferable.
  • Examples of the cyclic alkyl group include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, an adamantyl group and the like, and a cyclohexyl group is particularly preferable.
  • the aryl group that can be taken as R 1 to R 3 preferably has 6 to 36 carbon atoms, and more preferably 6 to 24 carbon atoms. Of these, a phenyl group or a naphthyl group is preferable, and a phenyl group is more preferable.
  • the alkyl group and aryl group that can be taken as R 1 to R 3 may have a substituent, and the substituent includes a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom and an iodine atom), an alkyl group, and the like.
  • a halogen atom for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom and an iodine atom
  • Aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, sulfonylamino group, hydroxy group, cyano group, amino group, carbamoyl group or acylamino group are preferable, and more preferably halogen.
  • It is an atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a sulfonylamino group, a carbamoyl group or an acylamino group, and more preferably an alkyl group, an aryl group, a sulfonylamino group or an acylamino group.
  • the substituents that the alkyl group and the aryl group that can be taken as R 1 to R 3 may have may be further substituted with a substituent.
  • the description of the above-mentioned alkyl group which can be taken as R 1 to R 3 and the substituent which may be possessed by the aryl group can be preferably applied, and for example, the alkyl group can be used. Can be mentioned.
  • the compound represented by the general formula (18) preferably has a cyclic structure from the viewpoint of further improving the light resistance.
  • the cyclic structure may be either a saturated or unsaturated aliphatic hydrocarbon ring or an aromatic hydrocarbon ring, and is preferably an aromatic hydrocarbon ring.
  • the number of cyclic structures in the compound is not particularly limited, for example, 1 to 7 is preferable, 1 to 5 is more preferable, and 2 or 3 is further preferable.
  • the compound represented by the general formula (18) does not have a long-chain alkyl group from the viewpoint of further improving the light resistance.
  • the long-chain alkyl group means a group having 7 or more carbon atoms constituting the longest bond among the carbon-carbon bonds constituting the alkyl group.
  • a compound having an alkoxycarbonyl group on the benzene ring is also preferably mentioned.
  • the number of alkoxycarbonyl groups on the benzene ring is not particularly limited, preferably 1 to 3, and more preferably 2 or 3.
  • the benzene ring may have a substituent other than the alkoxycarbonyl group, and examples thereof include a sulfamoyl group and a sulfonyl group.
  • the sulfamoyl group preferably has 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 12, further preferably 0 to 6, and the sulfonyl group preferably has 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 12 carbon atoms.
  • These sulfamoyl groups and sulfonyl groups may be further substituted with a substituent, and examples thereof include an alkoxycarbonyl group and an acyloxy group.
  • a substituent examples thereof include an alkoxycarbonyl group and an acyloxy group.
  • a phthalate ester compound or a trimellitic acid ester compound is preferable.
  • the phthalate ester compound an ester compound of phthalic acid (any isomer of ortho, meta, or para) and an alcohol having 4 to 10 carbon atoms is preferable. Specific examples thereof include dicyclohexyl phthalate, diphenyl phthalate, and ditrill phthalate.
  • trimellitic acid ester compound an ester compound of trimellitic acid and an alcohol having 4 to 10 carbon atoms is preferable.
  • Specific examples thereof include tributyltrimellitic acid, tri (2-ethylhexyl) trimellitic acid, trinormaloctyltrimellitic acid, trinormaldecyltrimellitic acid, and triisodecyltrimellitic acid.
  • tributyl trimellitic acid, tri (2-ethylhexyl) trimellitic acid, or triisodecyl trimellitic acid is preferable.
  • the content of the association inhibitor in the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 1 to 20% by mass, still more preferably 2 to 15% by mass.
  • the association inhibitor is preferably contained in the wavelength selective absorption filter of the present invention in a proportion of 10 to 1000 parts by mass, preferably 30 to 700 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total content of the dye A and the dye C. It is more preferably contained in a proportion of parts, and further preferably contained in a proportion of 50 to 500 parts by mass.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention may contain a dye fading inhibitor, a matting agent, a leveling (surfactant) agent, and the like, in addition to the above-mentioned dye, matrix resin, and association inhibitor.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention may contain a dye fading inhibitor (simply also referred to as an antifading agent) in order to prevent the fading of the dye containing at least one of the dyes A and D.
  • a dye fading inhibitor (simply also referred to as an antifading agent) in order to prevent the fading of the dye containing at least one of the dyes A and D.
  • the anti-fading agent include the antioxidants described in paragraphs [0143] to [0165] of International Publication No. 2015/005398, the radical scavengers described in the same [0166] to [0199], and the same [0205].
  • -A commonly used anti-fading agent such as the deterioration-preventing agent described in [0206] can be used without particular limitation.
  • the content of the anti-fading agent in the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably 0.1 to 15% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, based on 100% by mass of the total mass of the wavelength selective absorption filter. be.
  • a leveling agent can be appropriately mixed with the wavelength selective absorption filter of the present invention.
  • the leveling agent a commonly used compound can be used, and a fluorine-containing surfactant is particularly preferable.
  • the compounds described in paragraph numbers [0028] to [0056] in the specification of JP-A-2001-330725 can be mentioned.
  • the content of the leveling agent in the wavelength selective absorption filter of the present invention is appropriately adjusted according to the purpose.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention includes a low molecular weight plasticizer, an oligomer plasticizer, a retardation adjuster, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a peeling accelerator, an infrared absorber, an antioxidant, and a filler. And may contain a compatibilizer and the like.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention is produced by a solution film forming method, a melt extrusion method, or a method of forming a coating layer on a base film (release film) by an arbitrary method (coating method) by a conventional method. It can be combined with stretching as appropriate.
  • the solution film forming method and the melt extrusion method the solution film forming method and the melt extrusion method described in [0259] to [0265] of International Publication No. 2019/189463 can be used without particular limitation.
  • the "filter of the present invention” or “filter” in International Publication No. 2019/189463 shall be read as the wavelength selective absorption filter of the present invention.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably produced by a coating method.
  • a solution of the material of the wavelength selective absorption filter of the present invention is appropriately subjected to a concentration step, a filtration step, or the like, and then applied onto a release film and dried to form a coating layer.
  • a mold release agent or the like may be appropriately applied to the surface of the release film in advance in order to control the adhesiveness with the coating layer.
  • the coating layer can be used by laminating it with another member via an adhesive layer in a later step and then peeling off the release film. Any adhesive can be appropriately used as the adhesive constituting the adhesive layer.
  • the release film can be appropriately stretched together with the release film coated with the solution of the material of the wavelength selective absorption filter of the present invention or the coating layer is laminated.
  • the solvent used for the solution of the wavelength selective absorption filter material is that the wavelength selective absorption filter material can be dissolved or dispersed, that it tends to have a uniform surface shape in the coating process and the drying process, that the liquid storage stability can be ensured, and that it is appropriate. It can be appropriately selected from the viewpoint of having a saturated vapor pressure and the like.
  • the timing at which the dye and the association inhibitor are added to the wavelength selective absorption filter material is not particularly limited as long as they are added at the time of film formation. For example, it may be added at the time of synthesizing the matrix resin, or may be mixed with the wavelength selective absorption filter material at the time of preparing the coating liquid of the wavelength selective absorption filter material. The same applies to other components that may be contained in the wavelength selective absorption filter such as a leveling agent.
  • the release film used for forming the wavelength selective absorption filter by a coating method or the like preferably has a film thickness of 5 to 100 ⁇ m, more preferably 10 to 75 ⁇ m, and even more preferably 15 to 55 ⁇ m.
  • the film thickness is at least the above-mentioned preferable lower limit value, it is easy to secure sufficient mechanical strength, and failures such as curl, wrinkles, and buckling are unlikely to occur.
  • the film thickness is not more than the above preferable upper limit value, the surface pressure applied to the multilayer film when the multilayer film of the wavelength selective absorption filter and the release film of the present invention is stored, for example, in the form of a long roll. Is easy to adjust to an appropriate range, and adhesion failure is unlikely to occur.
  • the surface energy of the release film is not particularly limited, but is the relationship between the surface energy of the material and coating solution of the wavelength selective absorption filter and the surface energy of the surface on the side forming the wavelength selective absorption filter of the release film.
  • the surface energy of the release film can be calculated from the contact angle values of water and methylene iodide using the Owens method.
  • DM901 contact angle meter manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.
  • the surface energy of the release film on the side where the wavelength selective absorption filter is formed is preferably 41.0 to 48.0 mN / m, and more preferably 42.0 to 48.0 mN / m.
  • the surface energy is at least the above-mentioned preferable lower limit value, the uniformity of the thickness of the wavelength selective absorption filter is enhanced, and when it is at least the above-mentioned preferable upper limit value, the peeling force of the wavelength selective absorption filter from the release film is within an appropriate range. Easy to control.
  • the surface unevenness of the release film is not particularly limited, but the surface energy, hardness, and surface unevenness of the surface of the wavelength selective absorption filter and the surface opposite to the side on which the wavelength selective absorption filter of the release film is formed are opposite.
  • it may be adjusted for the purpose of preventing adhesion failure when the multi-layer film of the wavelength selective absorption filter of the present invention and the release film is stored in a long roll form. can.
  • Increasing the surface unevenness tends to suppress adhesion failure, and reducing the surface unevenness tends to reduce the surface unevenness of the wavelength selective absorption filter and reduce the haze of the wavelength selective absorption filter. be able to.
  • any material and film can be appropriately used as such a release film.
  • Specific examples thereof include polyester polymers (including polyethylene terephthalate films), olefin polymers, cycloolefin polymers, (meth) acrylic polymers, cellulosic polymers, polyamide polymers and the like.
  • surface treatment can be appropriately performed. For example, corona treatment, room temperature plasma treatment, saponification treatment and the like can be performed to reduce the surface energy, and silicone treatment, fluorine treatment, olefin treatment and the like can be performed to increase the surface energy.
  • the peeling force between the wavelength selective absorption filter and the release film is the internal strain of the wavelength selective absorption filter material, the release film material, and the wavelength selective absorption filter. Etc. can be adjusted and controlled.
  • This peeling force can be measured, for example, in a test of peeling the peeling film in the 90 ° direction, and the peeling force when measured at a speed of 300 mm / min is preferably 0.001 to 5N / 25 mm, preferably 0.01. ⁇ 3N / 25mm is more preferable, and 0.05 to 1N / 25mm is even more preferable.
  • peeling of the release film other than the peeling step can be prevented, and if it is at least the above preferable upper limit value, peeling failure in the peeling step (for example, zipping and cracking of the wavelength selective absorption filter). Can be prevented.
  • the film thickness of the wavelength selective absorption filter of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1 to 18 ⁇ m, more preferably 1 to 12 ⁇ m, still more preferably 1 to 8 ⁇ m.
  • it is not more than the above preferable upper limit value it is possible to suppress the decrease in the degree of polarization due to the fluorescence emitted by the dye (dye) by adding the dye to the thin film at a high concentration.
  • the effects of the quencher and the anti-fading agent are likely to be exhibited.
  • it is at least the above-mentioned preferable lower limit value it becomes easy to maintain the uniformity of the absorbance in the plane.
  • the film thickness of 1 to 18 ⁇ m means that the thickness of the wavelength selective absorption filter is within the range of 1 to 18 ⁇ m regardless of the location. This also applies to the film thickness of 1 to 12 ⁇ m and 1 to 8 ⁇ m.
  • the film thickness can be measured with an electronic micrometer manufactured by Anritsu Corporation.
  • the minimum transmittance of the wavelength selective absorption filter of the present invention at a wavelength of 390 to 440 nm is preferably 0% or more and 98% or less, more preferably 0% or more and 90% or less, and further preferably 0% or more and 80% or less. Further, the minimum transmittance of the wavelength selective absorption filter of the present invention at a wavelength of 480 to 520 nm is preferably 5% or more and 98% or less, more preferably 10% or more and 95% or less, and further preferably 20% or more and 90% or less.
  • the minimum transmittance of the wavelength selective absorption filter of the present invention at a wavelength of 580 to 620 nm is preferably 0% or more and 99% or less, more preferably 0% or more and 98% or less, and further preferably 0% or more and 95% or less.
  • the minimum transmittance of the wavelength selective absorption filter of the present invention at a wavelength of 680 to 780 nm is preferably 0% or more and 95% or less, more preferably 0% or more and 90% or less, and further preferably 0% or more and 80% or less.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention having the transmittance adjusted to the above range into a display device (preferably a self-luminous display device), a display having higher brightness, more suppression of external light reflection, and a smaller color difference of reflected light. Performance is obtained.
  • the transmittance of the wavelength selective absorption filter of the present invention can be adjusted by the type and addition amount of the dye, the type and addition amount of the association inhibitor, the resin type and the like.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention may be subjected to a hydrophilization treatment by any glow discharge treatment, corona discharge treatment, alkali saponification treatment, or the like, and the corona discharge treatment is preferably used. It is also preferable to apply the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-94915, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-118232, and the like.
  • the obtained membrane can be subjected to a heat treatment step, a superheated steam contact step, an organic solvent contact step, or the like, if necessary. Moreover, you may carry out surface treatment as appropriate.
  • a pressure-sensitive adhesive composition in which a (meth) acrylic resin, a styrene-based resin, a silicone-based resin, or the like is used as a base polymer, and a cross-linking agent such as an isocyanate compound, an epoxy compound, or an aziridin compound is added thereto. It is also possible to apply a layer consisting of. Preferably, the description of the pressure-sensitive adhesive layer in the display device described later can be applied.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention has a gas barrier layer directly arranged on at least one surface of the wavelength selective absorption filter of the present invention, and the gas barrier layer contains a crystalline resin, and the thickness of the layer is 0. It is preferably 1 ⁇ m to 10 ⁇ m and the oxygen permeability of the layer is 60 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or less.
  • the "crystalline resin” is a resin having a melting point that undergoes a phase transition from a crystal to a liquid when the temperature is raised, and can impart gas barrier properties related to oxygen gas to the gas barrier layer. Is.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention has the gas barrier layer at least on the surface where the wavelength selective absorption filter of the present invention comes into contact with air when incorporated into the display device of the present invention, whereby the wavelength selective absorption of the present invention is present. It is possible to suppress a decrease in the absorption intensity of the dye in the filter and improve the light resistance. As long as the gas barrier layer is provided at the interface of the wavelength selective absorption filter of the present invention in contact with air, the gas barrier layer may be provided on only one side of the wavelength selective absorption filter, or may be provided on both sides.
  • the crystalline resin contained in the gas barrier layer is a crystalline resin having a gas barrier property, and can be used without particular limitation as long as the desired oxygen permeability can be imparted to the gas barrier layer.
  • the crystalline resin include polyvinyl alcohol and polyvinylidene chloride, and polyvinyl alcohol is preferable because the crystalline portion can effectively suppress the permeation of gas.
  • the polyvinyl alcohol may or may not be modified.
  • the modified polyvinyl alcohol include modified polyvinyl alcohol having a group such as an acetoacetyl group and a carboxyl group introduced therein.
  • the saponification degree of the polyvinyl alcohol is preferably 80.0 mol% or more, more preferably 90.0 mol% or more, further preferably 97.0 mol% or more, and particularly preferably 98.0 mol% or more from the viewpoint of further enhancing the oxygen gas barrier property. preferable.
  • the upper limit is not particularly limited, but 99.99 mol% or less is practical.
  • the saponification degree of the polyvinyl alcohol is a value calculated based on the method described in JIS K 6726 1994.
  • the gas barrier layer may contain any component usually contained in the gas barrier layer as long as the effect of the present invention is not impaired.
  • the gas barrier layer may contain a solvent such as water and an organic solvent derived from the manufacturing process as long as the effect of the present invention is not impaired.
  • the content of the crystalline resin in the gas barrier layer is, for example, preferably 90% by mass or more, more preferably 95% by mass or more, based on 100% by mass of the total mass of the gas barrier layer.
  • the upper limit is not particularly limited, but may be 100% by mass.
  • the oxygen permeability of the gas barrier layer is 60 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or less, preferably 50 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or less, and more preferably 30 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or less. It is preferably 10 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or less, more preferably 5 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or less, and most preferably 1 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or less.
  • the practical lower limit is 0.001 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or more, preferably more than 0.05 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm, for example.
  • the oxygen permeability of the gas barrier layer is a value measured based on the gas permeability test method based on JIS K 7126-2 2006.
  • an oxygen permeability measuring device manufactured by MOCON, OX-TRAN2 / 21 (trade name) can be used.
  • the measurement conditions are a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 50%.
  • the thickness of the gas barrier layer is preferably 0.5 ⁇ m to 5 ⁇ m, more preferably 1.0 ⁇ m to 4.0 ⁇ m, from the viewpoint of further improving the light resistance.
  • the thickness of the gas barrier layer is measured by the method described in Examples described later.
  • the crystallinity of the crystalline resin contained in the gas barrier layer is preferably 25% or more, more preferably 40% or more, still more preferably 45% or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but it is practically 55% or less, and preferably 50% or less.
  • the crystallinity of the crystalline resin contained in the gas barrier layer is as follows. Apple. Pol. Sci. , 81, 762 (2001), and is a value measured and calculated by the following method. Using a DSC (Differential Scanning Calorimeter), the temperature of the sample peeled from the gas barrier layer is raised at 10 ° C./min over the range of 20 ° C. to 260 ° C., and the heat of fusion 1 is measured.
  • the heat of fusion 1 and the heat of fusion 2 may be in the same unit, and are usually Jg -1 .
  • the method for forming the gas barrier layer is not particularly limited, and examples thereof include a method for forming the gas barrier layer by a casting method such as spin coating and slit coating by a conventional method. Further, a method of attaching a commercially available resin gas barrier film or a resin gas barrier film prepared in advance to the wavelength selective absorption filter of the present invention can be mentioned.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention may appropriately have any optical film as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the above-mentioned optional optical film is not particularly limited in terms of optical properties and materials, but is a film containing (or containing) at least one of a cellulose ester resin, an acrylic resin, a cyclic olefin resin, and a polyethylene terephthalate resin. Can be preferably used. An optically isotropic film or an optically anisotropic retardation film may be used.
  • any of the above optical films for example, Fujitac TD80UL (manufactured by FUJIFILM Corporation) or the like can be used as a film containing a cellulose ester resin.
  • examples of the optical film containing an acrylic resin include an optical film containing a (meth) acrylic resin containing a styrene resin described in Japanese Patent No. 4570042, and a glutalimide ring described in Japanese Patent No. 5041532.
  • An optical film containing a (meth) acrylic resin having a structure in the main chain an optical film containing a (meth) acrylic resin having a lactone ring structure described in JP-A-2009-1226664, JP-A-2009-139754
  • An optical film containing a (meth) acrylic resin having the above-mentioned glutaric acid anhydride unit can be used.
  • those containing a cyclic olefin resin include cyclic olefin resin films described in paragraphs [0029] and subsequent paragraphs of JP-A-2009-237376, Japanese Patent No. 4881827, JP-A-2008-.
  • a cyclic olefin resin film containing an additive for reducing Rth described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 063536 can be used. Further, any of the above optical films may contain an ultraviolet absorber. As the ultraviolet absorber, a commonly used compound can be used without particular limitation. The content of the ultraviolet absorber in the ultraviolet absorbing layer is appropriately adjusted according to the purpose.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention has the above-mentioned gas barrier layer or any optical film in addition to the wavelength selective absorption filter of the present invention, from these wavelength selective absorption filters and the gas barrier layer and / or any optical film.
  • the laminate can be produced by using the above-mentioned method for producing a wavelength selective absorption filter and the method for producing a gas barrier layer.
  • a method of directly producing the above-mentioned gas barrier layer on the wavelength selective absorption filter produced by the above-mentioned production method can be mentioned.
  • the above-mentioned arbitrary optical film it is also preferable to bond them via an adhesive layer.
  • the display device of the present invention includes the wavelength selective absorption filter of the present invention.
  • the display device of the present invention is configured to include the wavelength selective absorption filter of the present invention at a position that exhibits the external light reflection prevention function (when the gas barrier layer is included, the gas barrier layer is at least at least.
  • the gas barrier layer is at least at least.
  • other configurations can be used without particular limitation on the configuration of a commonly used display device.
  • the display device is not particularly limited, but includes a light emitting diode such as an organic light emitting diode (OLED) display device, a micro light emitting diode (micro LED) display device, and a mini light emitting diode (mini LED) display device as a light emitting source.
  • a light emitting diode such as an organic light emitting diode (OLED) display device, a micro light emitting diode (micro LED) display device, and a mini light emitting diode (mini LED) display device as a light emitting source.
  • OLED organic light emitting diode
  • micro LED micro light emitting diode
  • mini LED mini LED
  • the configuration example of the self-luminous display device is not particularly limited, but for example, glass, a layer including a TFT (thin film transistor), a light emitting element, a wavelength selective absorption filter of the present invention, and a surface thereof are ordered from the opposite side to external light.
  • a display device including a film can be mentioned.
  • the light source of the display light of the self-luminous display device may be a single blue color or may use the three primary colors of blue, green and red as long as it includes a light emitting diode as a light emitting source.
  • the mini LED means an LED having a chip size of about 100 to 200 ⁇ m square
  • the micro LED means an LED having a chip size of less than 100 ⁇ m square.
  • the micro LED for example, the micro LED described in International Publication No. 2014/204694 and the like is preferably mentioned.
  • the self-luminous display device is excellent in the absorbance of the dye contained in the wavelength selective absorption filter of the present invention even when the wavelength selective absorption filter of the present invention is provided as an antireflection means instead of the circular polarizing plate. Can be maintained at the same level. Further, when the dye contained in the wavelength selective absorption filter of the present invention is in the form of containing four kinds of dyes A to D in combination as described above, the light resistance is lowered due to the mixing of the dyes. It can show an excellent level of light resistance, which is higher than that of other products.
  • the display device of the present invention including the self-luminous display device is circularly polarized.
  • the above-mentioned excellent effect can be exhibited without using a plate. It should be noted that the display device (including the self-luminous display device) of the present invention does not prevent the use of the antireflection film in combination as long as the effect of the present invention is not impaired.
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably bonded to glass (base material) via an adhesive layer on a surface located on the side opposite to external light.
  • the composition of the pressure-sensitive adhesive composition used for forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and for example, a pressure-sensitive adhesive composition containing a base resin having a mass average molecular weight (M w ) of 500,000 or more may be used. ..
  • M w mass average molecular weight
  • the upper limit of the mass average molecular weight of the base resin is not particularly limited, but if the mass average molecular weight is excessively increased, the coating property may be deteriorated due to the increase in viscosity, so 2,000,000 or less is preferable.
  • the specific type of the base resin is not particularly limited, and examples thereof include acrylic resin, silicone resin, rubber resin, and EVA (ethylene-vinyl acetate) resin.
  • acrylic resins are mainly used because of their excellent transparency, oxidation resistance, and resistance to yellowing, but they are not limited to this. do not have.
  • acrylic resin examples include 80 parts by mass to 99.8 parts by mass of the (meth) acrylic acid ester monomer; and 0.02 parts by mass to 20 parts by mass of another crosslinkable monomer (preferably 0).
  • a polymer of a monomer mixture containing (2 parts by mass to 20 parts by mass) can be mentioned.
  • the type of the (meth) acrylic acid ester monomer is not particularly limited, and examples thereof include alkyl (meth) acrylates.
  • alkyl (meth) acrylates In this case, if the alkyl group contained in the monomer becomes an excessively long chain, the cohesive force of the adhesive may decrease, and it may be difficult to control the glass transition temperature (T g ) or the adhesiveness. Therefore, carbon It is preferable to use a (meth) acrylic acid ester monomer having an alkyl group of several 1 to 14.
  • Examples of such monomers are methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth).
  • the (meth) acrylic acid ester monomer is preferably contained in an amount of 80 parts by mass to 99.8 parts by mass in 100 parts by mass of the monomer mixture.
  • the content of the (meth) acrylic acid ester monomer is less than 80 parts by mass, the initial adhesive strength may decrease, and when it exceeds 99.8 parts by mass, the durability may decrease due to the decrease in cohesive force. be.
  • crosslinkable monomers contained in the monomer mixture react with the polyfunctional crosslinking agent described later to impart a cohesive force to the adhesive, and have a role of adjusting the adhesive force and durability reliability.
  • sexual functional groups can be imparted to the polymer.
  • crosslinkable monomer include a hydroxy group-containing monomer, a carboxyl group-containing monomer, and a nitrogen-containing monomer.
  • Examples of the hydroxy group-containing monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, and 8-hydroxyoctyl ( Examples thereof include meth) acrylate, 2-hydroxyethylene glycol (meth) acrylate or 2-hydroxypropylene glycol (meth) acrylate.
  • Examples of the carboxyl group-containing monomer include acrylic acid, methacrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyacetic acid, 3- (meth) acryloyloxypropyl acid, 4- (meth) acryloyloxybutyl acid, and acrylic acid dimer.
  • Examples include itaconic acid, maleic acid and maleic acid anhydride.
  • Examples of the nitrogen-containing monomer include (meth) acrylamide, N-vinylpyrrolidone or N-vinylcaprolactam. In the present invention, these crosslinkable monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • the other crosslinkable monomer may be contained in an amount of 0.02 part by mass to 20 parts by mass in 100 parts by mass of the monomer mixture.
  • the content is less than 0.02 parts by mass, the durability reliability of the pressure-sensitive adhesive may decrease, and when it exceeds 20 parts by mass, at least one of the adhesiveness and the peelability may decrease.
  • the method for producing a polymer using a monomer mixture is not particularly limited, and can be produced, for example, through a general polymerization method such as solution polymerization, photopolymerization, bulk polymerization, suspension polymerization or emulsion polymerization. ..
  • a solution polymerization method it is particularly preferable to use a solution polymerization method, and solution polymerization is preferably carried out at a polymerization temperature of 50 ° C. to 140 ° C. by mixing the initiator in a state where the respective monomers are uniformly mixed. ..
  • Examples of the initiator used at this time include azo-based polymerization initiators such as azobisisobutyronitrile and azobiscyclohexanecarbonitrile; and ordinary initiators such as peroxides such as benzoyl peroxide and acetyl peroxide. Be done.
  • azo-based polymerization initiators such as azobisisobutyronitrile and azobiscyclohexanecarbonitrile
  • ordinary initiators such as peroxides such as benzoyl peroxide and acetyl peroxide. Be done.
  • the pressure-sensitive adhesive composition may further contain 0.1 part by mass to 10 parts by mass of a cross-linking agent with respect to 100 parts by mass of the base resin.
  • a cross-linking agent can impart cohesive force to the pressure-sensitive adhesive through a cross-linking reaction with the base resin.
  • the content of the cross-linking agent is less than 0.1 parts by mass, the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive may decrease. Further, if it exceeds 10 parts by mass, durability reliability may decrease due to delamination and floating phenomenon.
  • the type of the cross-linking agent is not particularly limited, and any cross-linking agent such as an isocyanate-based compound, an epoxy-based compound, an aziridine-based compound, and a metal chelate-based compound can be used.
  • Examples of the isocyanate-based compound include tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, tetramethylxylene diisocyanate and naphthalene diisocyanate, and any compound and polyol (for example, trimethylolpropane).
  • Examples of the epoxy compound include ethylene glycol diglycidyl ether, triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, N, N, N', N'-tetraglycidyl ethylenediamine and glycerin diglycidyl ether.
  • examples thereof include melamine, bisprothaloyl-1- (2-methylaziridine) and tri-1-aziridinylphosphine oxide.
  • the metal chelate compound include compounds in which at least one of polyvalent metals such as aluminum, iron, zinc, tin, titanium, antimony, magnesium and vanadium is coordinated with acetylacetone or ethyl acetoacetate. ..
  • the pressure-sensitive adhesive composition may further contain 0.01 parts by mass to 10 parts by mass of a silane-based coupling agent with respect to 100 parts by mass of the base resin.
  • the silane-based coupling agent can contribute to the improvement of adhesive reliability when the adhesive is left for a long time under high temperature or high humidity conditions, and particularly improves the adhesive stability when adhering to a glass substrate, and has heat resistance and heat resistance. Moisture resistance can be improved.
  • silane coupling agent examples include ⁇ -glycidoxypropyltrimethoxysilane, ⁇ -glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, ⁇ -glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, and vinyltrimethoxy.
  • These silane-based coupling agents may be used alone or in combination of two or more.
  • the silane-based coupling agent is preferably contained in an amount of 0.01 parts by mass to 10 parts by mass, and further contained in an amount of 0.05 parts by mass to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the base resin. preferable.
  • the content is less than 0.01 parts by mass, the effect of increasing the adhesive strength may not be sufficient, and when it exceeds 10 parts by mass, durability reliability may be lowered such as bubbles or peeling phenomenon.
  • the pressure-sensitive adhesive composition may further contain an antistatic agent, and as the antistatic agent, it has excellent compatibility with other components contained in the pressure-sensitive adhesive composition such as acrylic resin, and the transparency of the pressure-sensitive adhesive and work Any compound can be used as long as it does not adversely affect the properties and durability and can impart antistatic performance to the pressure-sensitive adhesive.
  • the antistatic agent include inorganic salts and organic salts.
  • the inorganic salt is a salt containing an alkali metal cation or an alkaline earth metal cation as a cation component.
  • the cations include lithium ion (Li + ), sodium ion (Na + ), potassium ion (K + ), rubidium ion (Rb + ), cesium ion (Cs + ), beryllium ion (Be 2+ ), and magnesium ion (Be 2+).
  • Li + lithium ion
  • Na + sodium ion
  • K + potassium ion
  • Rb + rubidium ion
  • Cs + cesium ion
  • Be 2+ beryllium ion
  • Be 2+ magnesium ion
  • Mg 2+ calcium ion
  • strontium ion (Sr 2+ ) and barium ion (Ba 2+ ) can be mentioned, preferably lithium ion (Li + ), sodium ion.
  • Lithium ions are particularly preferred in terms of ion safety and mobility within the pressure-sensitive adhesive.
  • the organic salt is a salt containing onium cation as a cation component.
  • onium cation is a positive (+) charged ion in which at least a portion of the charge is ubiquitous in one or more atoms of nitrogen (N), phosphorus (P) and sulfur (S). Means.
  • the onium cation is a cyclic or acyclic compound, and in the case of a cyclic compound, it can be a non-aromatic or aromatic compound. Further, in the case of a cyclic compound, one or more heteroatoms (for example, oxygen) other than nitrogen, phosphorus or sulfur atoms can be contained.
  • the cyclic or non-cyclic compound is optionally substituted with a substituent such as a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl or an aryl.
  • a substituent such as a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl or an aryl.
  • the substituent may be a cyclic or acyclic substituent, aromatic or non-aromatic. It is a substitution product.
  • the onium cation is preferably a cation containing a nitrogen atom, and more preferably an ammonium ion.
  • Ammonium ions are quaternary ammonium ions or aromatic ammonium ions.
  • the pressure-sensitive adhesive composition contains an antistatic agent in an amount of 0.01 parts by mass to 5 parts by mass, preferably 0.01 parts by mass to 2 parts by mass, and more preferably 0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the base resin. Includes 1 to 2 parts by mass. If the content is less than 0.01 parts by mass, the desired antistatic effect may not be obtained, and if it exceeds 5 parts by mass, the compatibility with other components is lowered and the durability and reliability of the adhesive are reduced. Or the transparency may deteriorate.
  • the pressure-sensitive adhesive composition further comprises a compound capable of forming a coordinate bond with an antistatic agent, specifically, a cation contained in the antistatic agent (hereinafter, referred to as a "coordination bond compound").
  • a coordination bond compound capable of forming a coordinate bond with an antistatic agent, specifically, a cation contained in the antistatic agent.
  • the type of coordinate-binding compound that can be used is not particularly limited as long as it has a functional group capable of coordinating with an antistatic agent in the molecule, and examples thereof include alkylene oxide-based compounds.
  • the alkylene oxide-based compound is not particularly limited, but an alkylene oxide-based compound containing an alkylene oxide unit having a basic unit having 2 or more carbon atoms, preferably 3 to 12, more preferably 3 to 8 carbon atoms is used. Is preferable.
  • the alkylene oxide compound preferably has a molecular weight of 5,000 or less.
  • the term "molecular weight” as used in the present invention means the molecular weight or mass average molecular weight of a compound. In the present invention, if the molecular weight of the alkylene oxide compound exceeds 5,000, the viscosity may be excessively increased and the coating property may be deteriorated, or the complex forming ability with the metal may be lowered.
  • the lower limit of the molecular weight of the alkylene oxide compound is not particularly limited, but is preferably 500 or more, and more preferably 4,000 or more.
  • an ester compound having one or more ether bonds disclosed in Korean Publication No. 2006-0018495 is disclosed in Korean Publication No. 2006-0128659.
  • Various coordination-bonding compounds such as an oxalate group-containing compound, a diamine group-containing compound, a polyvalent carboxyl group-containing compound, and a ketone group-containing compound can be appropriately selected and used as necessary.
  • the coordination-bonding compound is preferably contained in the pressure-sensitive adhesive composition in a proportion of 3 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the base resin, more preferably 0.1 parts by mass to 3 parts by mass, and further preferably. , 0.5 parts by mass to 2 parts by mass. If the content exceeds 3 parts by mass, the physical properties of the pressure-sensitive adhesive such as peelability may deteriorate.
  • the pressure-sensitive adhesive composition may further contain 1 part by mass to 100 parts by mass of the tackifying resin with respect to 100 parts by mass of the base resin. If the content of the tackifying resin is less than 1 part by mass, the addition effect may not be sufficient, and if it exceeds 100 parts by mass, at least one of the compatibility and the cohesive force improving effect may be lowered.
  • the adhesive-imparting resin is not particularly limited, and is, for example, a (hydrogenated) hydrocarbon resin, a (hydrogenated) rosin resin, a (hydrogenated) rosin ester resin, and a (hydrogenated) terpene.
  • Examples thereof include a resin, a (hydrogenated) terpene phenol resin, a polymerized rosin resin, and a polymerized rosin ester resin. These tackifying resins may be used alone or in combination of two or more.
  • the pressure-sensitive adhesive composition is a polymerization initiator such as a thermal polymerization initiator and a photopolymerization initiator; an epoxy resin; a curing agent; an ultraviolet stabilizer; an antioxidant; a toning agent, as long as the effect of the invention is not affected. It may contain one or more additives such as a reinforcing agent; a filler; a defoaming agent; a surfactant; a photopolymerizable compound such as a polyfunctional acrylate; and a plasticizer.
  • a polymerization initiator such as a thermal polymerization initiator and a photopolymerization initiator
  • an epoxy resin such as a curing agent; an ultraviolet stabilizer; an antioxidant; a toning agent, as long as the effect of the invention is not affected. It may contain one or more additives such as a reinforcing agent; a filler; a defoaming agent; a surfactant; a photopolymerizable compound such as
  • the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably bonded to glass (base material) via an adhesive layer on a surface located on the side opposite to external light.
  • the method for forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and for example, a method of applying the pressure-sensitive adhesive composition to the wavelength selective absorption filter of the present invention by a usual means such as a bar coater, and drying and curing the pressure-sensitive adhesive composition; First, the adhesive layer is applied to the surface of the peelable base material and dried, and then the pressure-sensitive adhesive layer is transferred to the wavelength selective absorption filter of the present invention using the peelable base material, and aged and cured.
  • the peelable base material is not particularly limited, and any peelable base material can be used, and examples thereof include the release film in the above-mentioned method for producing a wavelength selective absorption filter of the present invention.
  • the conditions of application, drying, aging and curing can be appropriately adjusted based on a conventional method.
  • ⁇ max means the maximum absorption wavelength showing the maximum absorbance in the measurement of the maximum absorbance value and the 20% value wavelength of the wavelength selective absorption filter described later.
  • a wavelength selective absorption filter was produced according to the following procedure. The materials used to fabricate the wavelength selective absorption filter are shown below.
  • ⁇ Matrix resin> (Resin 9) Apel APL6011T (trade name, manufactured by Mitsui Chemicals, a copolymer of ethylene and norbornene, Tg 105 ° C.), which is a cyclic polyolefin resin, was used as the resin 9.
  • Arton RX4500 (trade name, manufactured by JSR Corporation, norbornene-based polymer, Tg 132 ° C.), which is a cyclic polyolefin resin, was used as the resin 10.
  • association inhibitor The following compounds were used as association inhibitors.
  • Base material 1 A cellulose acylate film (manufactured by Fuji Film Co., Ltd., trade name: ZRD40SL) was used as the base material 1.
  • Base material 4 A polyethylene terephthalate film (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name: Diafoil T600E50, film thickness 50 ⁇ m) was used as the base material 4.
  • the obtained wavelength selective absorption layer forming liquid A is filtered using a filter paper (# 63, manufactured by Toyo Filter Paper Co., Ltd.) having an absolute filtration accuracy of 10 ⁇ m, and further, a metal sintered filter (FH025,) having an absolute filtration accuracy of 2.5 ⁇ m. Filtered using Paul).
  • Wavelength selective absorption filter with substrate No. 101 The wavelength selective absorption layer forming liquid A after the filtration treatment was applied onto the substrate 1 using a bar coater so that the film thickness after drying was 1.9 ⁇ m, and dried at 120 ° C. Wavelength selective absorption filter with substrate No. 101 was produced.
  • Wavelength selective absorption filter with substrate No. Preparation of 102 to 109 and C201 to C204 Wavelength selective absorption filter with substrate except that at least one of the type and amount of dye and the type and amount of association inhibitor are changed to the contents shown in Table 1 below. No. Similar to the production of 101, the wavelength selective absorption filter No. 1 with a substrate was used. 102 to 109 and C201 to C204 were produced.
  • the obtained wavelength selective absorption layer forming liquid B is filtered using a filter paper (# 63, manufactured by Toyo Filter Paper Co., Ltd.) having an absolute filtration accuracy of 10 ⁇ m, and further, a metal sintered filter (FH025,) having an absolute filtration accuracy of 2.5 ⁇ m. Filtered using Paul).
  • Wavelength selective absorption filter with substrate No. 110 The wavelength selective absorption layer forming liquid B after the filtration treatment was applied onto the substrate 2 using a bar coater so that the film thickness after drying was 1.2 ⁇ m, and dried at 120 ° C. Wavelength selective absorption filter with substrate No. 110 was made.
  • Wavelength selective absorption filter with substrate No. Preparation of 111-115, C205 and C206 Base materials except that at least one of the type of base material, the type and amount of dye added, and the type and amount of association inhibitor added are changed to the contents shown in Table 1 below. Wavelength selective absorption filter No. Similar to the production of 110, the wavelength selective absorption filter No. 1 with a substrate was used. 111-115, C205 and C206 were made.
  • Wavelength selective absorption filter with substrate No. 101 to 115 are the wavelength selective absorption filters with a base material of the present invention
  • the wavelength selective absorption filters with a base material No. C201 to C206 are wavelength selective absorption filters with a comparative substrate.
  • the "-" notation in the dye column indicates that the corresponding dye is not contained.
  • the content of the dye means the content ratio of the dye in the wavelength selective absorption filter on a mass basis, and the unit is mass%.
  • the content of the association inhibitor means the content ratio of the association inhibitor in the wavelength selective absorption filter on a mass basis, and the unit is mass%.
  • ⁇ max indicates the absorption maximum wavelength of the dye showing the maximum absorbance in the measurement of the maximum absorbance value and the 20% value wavelength of the wavelength selective absorption filter described later.
  • Compound Example 5 Compound Example 5 used in Examples of International Publication No. 2014/208749.
  • a laminated body of a gas barrier layer and a wavelength selective absorption filter (hereinafter, simply referred to as a laminated body) was produced according to the following procedure. The materials used for production are shown below.
  • AQ-4104 manufactured by Kuraray Co., Ltd., Excelval AQ-4104 (trade name), modified polyvinyl alcohol (crystalline resin), saponification degree 98-99 mol%)
  • Base material 3 Wavelength selective absorption filter with substrate No.
  • the wavelength selective absorption filter side of 101 is subjected to corona treatment under the conditions of a discharge amount of 1000 W ⁇ min / m 2 and a treatment speed of 3.2 m / min using a corona treatment device (trade name: Corona-Plus, manufactured by VETAPHONE). It was applied and used as the base material 3.
  • the obtained gas barrier layer forming liquid 1 was filtered using a filter with an absolute filtration accuracy of 5 ⁇ m (trade name: Hydrophobic Fluororemore Membrane, manufactured by Millex).
  • the laminated body No. In the same manner as in the production of 101, the laminated body No. 102 to 115 and C202 to C204 were produced. Further, the type of the wavelength selective absorption filter with a substrate is referred to as the wavelength selective absorption filter with a substrate No. Except for changing to C201, the laminated body No. In the same manner as in the production of 101, the laminated body No. C201 is a type of wavelength selective absorption filter with a base material, and the wavelength selective absorption filter with a base material is No. Except for changing to C205, the laminated body No.
  • the laminated body No. C205 is a type of wavelength selective absorption filter with a base material, and the wavelength selective absorption filter with a base material is No. Except for changing to C206, the laminated body No. In the same manner as in the production of 101, the laminated body No. C206 was prepared respectively.
  • Laminated body No. 101 to 115 are laminated bodies containing the wavelength selective absorption filter of the present invention, and the laminated body No. C202 to C204 are comparative laminates, and the laminate No. C201, C205 and C206 are reference laminates.
  • the gas barrier layer was peeled off by 2 to 3 mg from the laminate prepared above, and the temperature was raised at 10 ° C./min in the range of 20 ° C. to 260 ° C. using DSC7000X (trade name) manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. to melt it. Heat 1 was measured. J. Apple. Pol. Sci. , 81, 762 (2001), calculated the crystallinity of the gas barrier layer. Specifically, the above-mentioned heat of fusion 1 and J. Apple. Pol. Sci. , 81, 762 (2001), the heat of fusion 2 of the perfect crystal was used, and the crystallinity was calculated by the following formula.
  • the laminated body No. In the production of 101 to 115 and C201 to C206, the laminated body was produced in the same manner except that the wavelength selective absorption filter was not subjected to the corona treatment. Next, a triacetyl cellulose film having a thickness of 80 ⁇ m (trade name: Fujitac TD80UL, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) is interposed on the gas barrier layer side of the laminate via an adhesive 1 (trade name: SK2057, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) having a thickness of about 20 ⁇ m. Made) were pasted together.
  • a triacetyl cellulose film having a thickness of 80 ⁇ m (trade name: Fujitac TD80UL, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) is interposed on the gas barrier layer side of the laminate via an adhesive 1 (trade name: SK2057, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) having a thickness of about 20 ⁇ m. Made) were pasted together.
  • Oxygen permeability evaluation film No. L101 to L115 and LC201 to LC206 were prepared. Using OX-TRAN 2/21 (trade name) manufactured by MOCON as an oxygen permeability measuring device, 25 ° C., relative humidity 50%, oxygen partial pressure 1 atm, measurement area 50 cm by the isobaric method (JIS K 7126-2). The oxygen permeability of the oxygen permeability evaluation film was measured under the condition of 2 . The laminated body No. measured in this way. The oxygen permeability of L101 to L115 and LC201 to LC206 was 0.6 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm.
  • the wavelength selective absorption filter No. 1 with a base material In 101 to 109 and C202 to C204, No. 1 as a wavelength selective absorption filter with a substrate containing no dye.
  • the wavelength selective absorption filter with a substrate of C201 the wavelength selective absorption filter with a substrate No. In 110 to 112, No. 1 as a wavelength selective absorption filter with a substrate containing no dye.
  • the wavelength selective absorption filter with a substrate of C205 the wavelength selective absorption filter with a substrate No. In 113 to 115, No. 1 was used as a wavelength selective absorption filter with a substrate containing no dye.
  • a wavelength selective absorption filter with a substrate of C206 was used.
  • the maximum absorption wavelength ⁇ max was determined based on the above Ab x ( ⁇ ) ⁇ Ab 0 ( ⁇ ). (Determination of 20% value wavelength) Subsequently, in the above-mentioned Ab x ( ⁇ ) -Ab 0 ( ⁇ ), when a dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 390 to 440 nm is contained, the absorbance is 20% of the maximum absorbance at a wavelength of 390 to 440 nm. Of the two wavelengths that give absorbance, the wavelength on the long wavelength side (20% value wavelength A) was determined.
  • Light resistance evaluation film A 60 ⁇ m-thick triacetyl cellulose film (trade name: Fujitac TG60UL, manufactured by Fujifilm Co., Ltd.) is placed on the gas barrier layer side of the laminate via an adhesive 1 (trade name: SK2057, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) having a thickness of about 20 ⁇ m. I pasted them together. Subsequently, the base material 1, the base material 2 or the base material 4 is peeled off, and the glass is attached to the wavelength selective absorption filter side to which the base material 1, the base material 2 or the base material 4 is attached via the above-mentioned adhesive 1. Then, a light resistance evaluation film was prepared. The obtained light resistance evaluation film has a structure in which glass / adhesive 1 layer / wavelength selective absorption filter / gas barrier layer / adhesive 1 layer / triacetyl cellulose film are laminated in this order.
  • the absorbance of the light resistance evaluation film in the wavelength range of 200 to 1000 nm was measured for each 1 nm using a UV3600 spectrophotometer (trade name) manufactured by Shimadzu Corporation.
  • the absorbance difference between the absorbance at each wavelength of the light resistance evaluation film and the absorbance of the light resistance evaluation film having the same configuration except that it does not contain a dye and an association inhibitor is calculated, and the maximum value of this absorbance difference is the maximum absorption value.
  • the laminated body No. In the light resistance evaluation films of 101 to 109 and C202 to C204, the laminated body No. 1 containing no dye and association inhibitor.
  • the absorbance difference was calculated using the light resistance evaluation film of C201, and the laminate No. In the light resistance evaluation films of 110 to 112, the laminated body No. 1 containing no dye and association inhibitor.
  • the absorbance difference was calculated using the light resistance evaluation film of C205, and the laminate No. In the light resistance evaluation films of 113 to 115, the laminate No. 1 containing no dye and association inhibitor.
  • the absorbance difference was calculated using the light resistance evaluation film of C206.
  • the comparative laminate No. 1 containing no association inhibitor is contained.
  • the 20% value wavelength A was 456 nm, which was outside the range specified in the present invention, and the residual rate after irradiation with xenon for 200 hours was as low as 73%.
  • the 20% value wavelength A is 465 nm, which is outside the range specified in the present invention.
  • C204 had a low residual rate of 73% after irradiation with xenon for 200 hours.
  • the laminate No. 1 which contains the dye A and the association inhibitor specified in the present invention and has a 20% value wavelength A of 455 nm or less.
  • the residual rate of dye A after irradiation with xenon for 200 hours was 79% or more, showing excellent light resistance.
  • the comparative laminate No. 1 containing no association inhibitor is contained.
  • the 20% value wavelength D was 639 nm, which was outside the range specified in the present invention, and the residual rate after 200 hours of xenon irradiation was 91%.
  • No. 1 using a carboxylic acid amide compound as an association inhibitor Among 105 to 107, No. 1 using an association inhibitor having a cyclohexane ring. No. 107 has a light resistance of 87% and uses an association inhibitor having a benzene ring. The light resistance of 106 is 92%, and No. 1 using an association inhibitor having no ring structure. It can be seen that better light resistance is obtained as compared with 105.
  • Wavelength selective absorption filter Wavelength selective absorption layer
  • Gas barrier layer 93

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Abstract

樹脂と、色素と、カルボン酸エステル結合、カルボン酸アミド結合、スルホン酸アミド結合、ウレタン結合及びスルホニル結合の少なくともいずれか１つの極性基を有し、分子量が１０００以下である化合物とを含み、上記色素が、波長３９０～４４０ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料Ａ及び波長６８０～７８０ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料Ｄの少なくとも一方を含み、染料Ａを含む場合は主吸収波長が示す吸光度極大値に対する２０％値波長Ａが４５５ｎｍ以下であり、染料Ｄを含む場合は主吸収波長が示す吸光度極大値に対する２０％値波長Ｄが６４０ｎｍ以上である波長選択吸収フィルタ、及びこれを含む表示装置。

Description

波長選択吸収フィルタ及び表示装置
　本発明は、波長選択吸収フィルタ及び表示装置に関する。
　ディスプレイ（表示装置）の大型化又はタブレットＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ　Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）、スマートフォンの普及により、ディスプレイを使用する環境も多岐に渡るようになり、太陽光又は明るい室内照明の真下などの明所における視認性を向上させることがますます重要になってきている。ディスプレイの表示画面には、一般に、観察者が画像を視認しやすくなるよう、反射防止機能が付与されている。このような機能は、反射防止フィルム又は防眩フィルムによって実現される。一般的な反射防止フィルムとしては、基材の表面に基材と異なる屈折率を有する膜を被膜し、基材の表面で反射した光と被膜した膜の表面で反射した光との干渉効果によって反射を低減させるＡＲ（Ａｎｔｉ　Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）フィルム又はＬＲ（Ｌｏｗ　Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）フィルムが挙げられる。また、一般的な防眩フィルムとしては、基材の表面に微細な凹凸パターンを有する膜を被膜し、光の散乱効果を用いて像の映り込みを防止する防眩層を含むＡＧ（Ａｎｔｉ　Ｇｌａｒｅ）フィルムが挙げられる。
　しかし、ディスプレイに入射した光のうち、一部は表面の反射防止フィルム又は防眩フィルムを透過し、電極もしくは配線等の表面又はセルのガラス表面で反射する。これは内部反射と呼ばれる。ディスプレイの高精細化に伴い、電極又は配線等の金属部分の面積のパネル全体の面積に占める割合（電極又は配線等の金属部分の面積／パネル全体の面積）が高まるため、上記内部反射の防止は高品位の表示性能を確保する上で特に重要な因子となる。
　内部反射の防止手段としては、例えば特許文献１に記載されるように、λ／４位相差板又はλ／２位相差板を、偏光板の偏光子と内部反射箇所の間に設け、円偏光板として機能させる方法が知られている。しかし、本手法は、表示光の透過率が４０％程度に低下すること、および円偏光板と内部反射箇所の間に散乱粒子が存在する場合、偏光解消が生じてしまい十分な反射防止効果が得られないという問題がある。
　このため、λ／４位相差板又はλ／２位相差板を用いない反射防止手段の開発が求められている。
　例えば、特許文献２では、視認者側偏光板中に、半値幅が５０ｎｍ以下である吸光度のピークを持つ吸収材料であって、４７０～５１０ｎｍの波長帯域に吸光度の最大値を有する第１の吸収材料および５６０～６１０ｎｍの波長帯域に吸光度の最大値を有する第２の吸収材料の少なくとも一方の吸収材料を添加することにより、外光の反射を防止する方法を用いた液晶表示装置が開示されている。
　また、特許文献３では、画像表示装置、特にプラズマディスプレイのような自発光型の画像表示装置に対して、明所でのコントラスト低下の抑制と色再現改良を目的として、３８０ｎｍ乃至４２０ｎｍの波長領域、４８０ｎｍ乃至５２０ｎｍの波長領域、および５８５ｎｍ乃至６２０ｎｍの波長領域に、それぞれ吸収極大を有する光学フィルタを用いることが提案されている。
　一方、ブルーライトカット機能を備える光学フィルムも知られている。例えば、特許文献４には、３８０ｎｍ乃至４２０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する吸収材を含有し、４２０ｎｍ付近に選択吸収性を有し、かつ、波長４２０ｎｍにおける吸光度に対する４５０ｎｍにおける吸光度の比が特定の範囲内である光学フィルムが記載されている。また、特許文献５には、特定の化学構造を有する色素を含有する硬化膜が記載され、この硬化膜が優れたブルーライトカット性を有することが記載されている。
国際公開第２０１２／０４３３７５号 特開２０１５－３６７３４号公報 特開２００８－２０３４３６号公報 特開２０１７－１４２４１２号公報 国際公開第２０１４／２０８７４９号
　近年、ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅｓ）素子、マイクロＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅｓ）素子又はミニＬＥＤ素子等の自発光を利用したディスプレイ（以下、「自発光表示装置」と称す。）の開発が進められており、これらのＬＥＤを発光素子として備える自発光表示装置に適用可能な、λ／４位相差板又はλ／２位相差板とは異なる反射防止手段が求められている。
　本発明者らが検討を重ねたところ、上記特許文献２に記載の技術では、液晶表示装置等の偏光板が必須であるディスプレイにおいては有望な方法であるものの、上記自発光表示装置に適用した場合には、偏光板を有しないために吸収材が偏光子で覆われず、吸収材が光によって劣化しやすくなる問題があること、すなわち、耐光性の観点から改良が必要であることがわかってきた。また、上記特許文献３に記載の方法も吸収材が光によって劣化しやすい問題があり、耐光性の観点から改良が必要であることがわかってきた。
　また上記特許文献４又は５記載の光学フィルム又は硬化膜においても耐光性が不十分であり、改良が求められていた。
　本発明は、優れた耐光性を示す波長選択吸収フィルタ、及びこれを含む表示装置を提供することを課題とする。
　本発明者らは上記課題に鑑み鋭意検討した結果、波長選択吸収フィルタにおいて３９０～４４０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する吸収材（染料）又は６８０～７８０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する吸収材（染料）は、特定の極性基を有する化合物を含有させることにより、吸光度の低下を十分に抑制でき、耐光性の向上に有効であることがわかってきた。
　すなわち、上記の課題は以下の手段により解決された。
＜１＞
　樹脂と、色素と、カルボン酸エステル結合、カルボン酸アミド結合、スルホン酸アミド結合、ウレタン結合及びスルホニル結合の少なくともいずれか１つの極性基を有し、分子量が１０００以下である化合物とを含み、
　上記色素が、下記に示す染料Ａ及び染料Ｄの少なくとも一方を含み、
　上記染料Ａを含む場合は、波長３９０～４４０ｎｍにおける吸光度極大値に対して、２０％の吸光度を与える二つの波長のうち長波長側の波長が４５５ｎｍ以下であり、
　上記染料Ｄを含む場合は、波長６８０～７８０ｎｍにおける吸光度極大値に対して、２０％の吸光度を与える二つの波長のうち短波長側の波長が６４０ｎｍ以上である、
波長選択吸収フィルタ。
　染料Ａ：波長３９０～４４０ｎｍに主吸収波長帯域を有する色素
　染料Ｄ：波長６８０～７８０ｎｍに主吸収波長帯域を有する色素
＜２＞
　上記色素が、上記染料Ａおよび上記染料Ｄの両方を含む、＜１＞に記載の波長選択吸収フィルタ。
＜３＞
　上記染料Ａが下記一般式（Ａ１）で表される色素である、＜１＞又は＜２＞に記載の波長選択吸収フィルタ。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 　上記式中、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ３～Ｒ６は、各々独立に、水素原子又は置換基を示し、Ｒ５とＲ６は互いに結合して６員環を形成していてもよい。
＜４＞
　上記染料Ｄが下記一般式（１）で表されるスクアリン系色素である、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の波長選択吸収フィルタ。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 　上記式中、Ａ及びＢは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基又は－ＣＨ＝Ｇを示す。Ｇは置換基を有していてもよい複素環基を示す。
＜５＞
　上記の極性基を有する化合物が、カルボン酸エステル結合を有する化合物である、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の波長選択吸収フィルタ。
＜６＞
　上記の極性基を有する化合物が、カルボン酸アミド結合を有する化合物である、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の波長選択フィルタ
＜７＞
　上記樹脂がポリスチレン樹脂を含む、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の波長選択吸収フィルタ。
＜８＞
　上記樹脂が環状ポリオレフィン樹脂を含む、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の波長選択吸収フィルタ。
＜９＞
　＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の波長選択吸収フィルタを含む表示装置。
＜１０＞
　上記表示装置が自発光表示装置である、＜９＞に記載の表示装置。
　本発明において、特定の符号又は式で表示された置換基若しくは連結基等（以下、置換基等という）が複数あるとき、又は、複数の置換基等を同時に規定するときには、特段の断りがない限り、それぞれの置換基等は互いに同一でも異なっていてもよい。このことは、置換基等の数の規定についても同様である。また、複数の置換基等が近接するとき（特に、隣接するとき）には、特段の断りがない限り、それらが互いに連結して環を形成していてもよい。また、特段の断りがない限り、環、例えば脂環、芳香族環、ヘテロ環は、更に縮環して縮合環を形成していてもよい。
　本発明において、ある基の炭素数を規定する場合、この炭素数は、本発明ないし本明細書において特段の断りのない限りは、基全体の炭素数を意味する。つまり、この基がさらに置換基を有する形態である場合、この置換基を含めた全体の炭素数を意味する。
　本発明において、特段の断りがない限り、波長選択吸収フィルタを構成する成分（染料、樹脂、会合抑制剤及びその他の成分等）は、それぞれ、波長選択吸収フィルタ中に１種含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。同様に、特段の断りがない限り、ガスバリア層を構成する成分（結晶性樹脂等）は、それぞれ、ガスバリア層中に１種含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。
　本発明において、特段の断りがない限り、二重結合については、分子内にＥ型及びＺ型が存在する場合、そのいずれであっても、またこれらの混合物であってもよい。
　本発明において、化合物（錯体を含む。）の表示については、化合物そのもののほか、その塩、そのイオンを含む意味に用いる。また、本発明の効果を損なわない範囲で、構造の一部を変化させたものを含む意味である。更に、置換又は無置換を明記していない化合物については、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の置換基を有していてもよい意味である。このことは、置換基及び連結基についても同様である。
　また、本発明において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　本発明において、組成物とは、成分濃度が一定である（各成分が均一に分散している）混合物に加えて、目的とする機能を損なわない範囲で成分濃度が変動している混合物を包含する。
　本発明において、波長ＸＸ～ＹＹｎｍに主吸収波長帯域を有するとは、極大吸収を示す波長（すなわち、極大吸収波長）が波長領域ＸＸ～ＹＹｎｍに存在することを意味する。
　したがって、この極大吸収波長が上記波長領域内にあれば、この波長を含む吸収帯域全体が上記波長領域内にあってもよく、上記波長領域外まで広がっていてもよい。また、極大吸収波長が複数存在する場合、最も大きい吸光度を示す極大吸収波長が上記波長領域に存在していればよい。すなわち、最も大きい吸光度を示す極大吸収波長以外の極大吸収波長は、上記波長領域ＸＸ～ＹＹｎｍの内外のいずれに存在していてもよい。
　本発明において、染料が有する主吸収波長帯域とは、波長選択吸収フィルタの状態で測定される染料の主吸収波長帯域である。具体的には、後述する実施例において、波長選択吸収フィルタの吸光度極大値および２０％値波長の項に記載の条件により、波長選択吸収フィルタの状態で測定される。
　また、本発明において、波長ＸＸ～ＹＹｎｍにおける吸光度極大値とは、上記の波長ＸＸ～ＹＹｎｍに存在する極大吸収波長における吸光度を意味し、吸収極大値とも称す。
　また、波長ＸＸ～ＹＹｎｍにおける吸光度極大値に対して２０％の吸光度を与える二つの波長とは、波長ＸＸ～ＹＹｎｍにおける吸光度極大値を最大吸光度とする吸収ピークにおいて、吸光度極大値を示す極大吸収波長の両側（短波長側及び長波長側）に位置する、この吸光度極大値の２０％強度の吸光度を示す波長を意味する。なお、上記吸光度極大値を示す極大吸収波長の長波長側に位置する波長とは、上記極大吸収波長よりも長波長側に位置し、かつ、上記吸光度極大値の２０％強度の吸光度を示す最も短波の波長を意味する。同様に、上記吸光度極大値を示す極大吸収波長の短波長側に位置する波長とは、上記極大吸収波長よりも短波長側に位置し、かつ、上記吸光度極大値の２０％強度の吸光度を示す最も長波の波長を意味する。
　本発明において、染料が有する吸光度極大値及びこの吸光度極大値に対して２０％の吸光度を与える二つの波長とは、波長選択吸収フィルタの状態で測定される値である。具体的には、後述する実施例において、波長選択吸収フィルタの吸光度極大値および２０％値波長の項に記載の条件により、波長選択吸収フィルタの状態で測定される。
　本発明の波長選択吸収フィルタは、優れた耐光性を示す。
　また、本発明の表示装置は、上記耐光性に優れた波長選択吸収フィルタを含む。
図１は、本発明の波長選択吸収フィルタを含む積層体の一例を示す概略断面図である。
［波長選択吸収フィルタ］
　本発明の波長選択吸収フィルタ（以下、波長選択吸収層とも称す。）は、樹脂と、色素と、カルボン酸エステル結合、カルボン酸アミド結合、スルホン酸アミド結合、ウレタン結合及びスルホニル結合の少なくともいずれか１つの極性基（本発明において「基」は「結合」を含む意味である）を有し、分子量が１０００以下である化合物（会合抑制剤）とを含有し、上記色素は、異なる波長域に主吸収波長帯域を有する下記染料Ａおよび染料Ｄの少なくとも一方を含有する。
　　染料Ａ：波長３９０～４４０ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料
　　染料Ｄ：波長６８０～７８０ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料
 
　本発明の波長選択吸収フィルタは、さらに、下記染料Ｂ及びＣの少なくとも一方を含有してもよい。
　　染料Ｂ：波長４８０～５２０ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料
　　染料Ｃ：波長５８０～６２０ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料
　上記波長選択吸収フィルタ中において、上記「染料」は、上記樹脂中に分散（好ましくは溶解）することにより、波長選択吸収フィルタを染料に由来する特定の吸収スペクトルを示すフィルタとするものである。
　特定の波長域に主吸収波長帯域を有する上記の染料Ａ又は染料Ｄは分子間での会合が生じやすい染料が多く、樹脂中に分散（好ましくは溶解）された波長選択吸収フィルタの形態においても、染料は分子間で会合をした状態で存在していると考えられる。本発明においては、樹脂と、染料Ａおよび染料Ｄの少なくとも一方を含む色素に加えて、カルボン酸エステル結合、カルボン酸アミド結合、スルホン酸アミド結合、ウレタン結合及びスルホニル結合の少なくともいずれか１つの極性基を有し、分子量が１０００以下である化合物（会合抑制剤）を含む波長選択吸収フィルタとすることによって、上記特定の極性基を有する化合物が染料の会合を抑制又は防止し、染料Ａ又は染料Ｄに由来する吸収波形を先鋭にすることができる。本発明の波長選択吸収フィルタは、染料Ａ及び染料Ｄの少なくとも一方を含む色素と上記会合抑制剤とを含有し、かつ、染料Ａを含む場合には染料Ａの極大吸収波長における吸光度の２０％の強度を示す長波長側の波長は４５５ｎｍ以下となり、染料Ｄを含む場合には染料Ｄの極大吸収波長における吸光度の２０％の強度を示す短波長側の波長は６４０ｎｍ以上となるように調節された波長選択吸収フィルタである。このように、染料Ａ又は染料Ｄの会合が抑制されることによって、推定ではあるが、染料の励起状態、基底状態のエネルギー準位が変化し、励起状態から基底状態へ速やかに戻ることができるようになった結果、染料の耐光性が向上されたものと考えられる。
　このように本発明の波長選択吸収フィルタは、耐光性に優れるため、表示装置に適用した場合にも優れた耐光性を示すことができる。また、特許文献２又は３に記載のように、含有させる染料を調整した波長選択吸収フィルタを表示装置に適用することにより、優れた耐光性を示しつつ、外光反射の抑制と輝度低下の抑制の両立でき、また、表示画像の色味への影響も十分に抑えることができる。
＜色素（染料）＞
　本発明の波長選択吸収フィルタは、上記の染料Ａおよび染料Ｄの少なくとも一方を含有するフィルタ（層）である。
　なお、本発明の波長選択吸収フィルタが上記染料Ａを含有する場合、本発明の波長選択吸収フィルタ中に含有される上記染料Ａは、１種でもよく、２種以上であってもよい。また、本発明の波長選択吸収フィルタが上記染料Ｄを含有する場合、本発明の波長選択吸収フィルタ中に含有される上記染料Ｄは、１種でもよく、２種以上であってもよい。本発明の波長選択吸収フィルタ中に含有され得る上記の染料Ｂ又は染料Ｃについても、染料Ａ及び染料Ｄと同様に、各々独立に、１種でもよく、２種以上であってもよい。
　本発明の波長選択吸収フィルタは上記染料Ａ～Ｄ以外の染料を含有することもできる。
　本発明の波長選択吸収フィルタの形態は、波長選択吸収フィルタ中の染料が、後述する会合によって先鋭化され吸収スペクトルを示すことができればよい。好ましくは、外光反射の抑制及び輝度低下の抑制の両立を実現することができ、より好ましくは、さらに、表示画像本来の色味に影響しにくいものであればよい。本発明の波長選択吸収フィルタの一形態としては、染料Ａ又は染料Ｄの少なくとも１種が樹脂中に分散（好ましくは溶解）した形態が挙げられる。この分散は、ランダム、規則的等いずれであってもよい。
　上記染料Ａ～Ｄは、本発明の波長選択吸収フィルタにおいて、表示装置の発光源として使用される、Ｂ（Ｂｌｕｅ、４４０ｎｍ～４７０ｎｍ）、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ、５２０ｎｍ～５６０ｎｍ）及びＲ（Ｒｅｄ、６２０ｎｍ～６６０ｎｍ）以外の波長域又はこれらの波長域とは大きく重複しない波長域である、３９０～４４０ｎｍ、４８０～５２０ｎｍ、５８０～６２０ｎｍ及び６８０～７８０ｎｍに、それぞれ主吸収波長帯域を有する。そのため、これらの染料Ａ及びＤの少なくとも一方（さらには、染料Ａ及びＤの少なくとも一方に加えて、染料Ｂ及びＣの少なくとも一方）を含有することにより、本発明の波長選択吸収フィルタは、発光素子から発せられる光の色再現域を損なうことなく、外光の反射を抑制することができる。なかでも、染料Ａ及びＤの両方を含有することが、反射光の色味調節の観点から好ましい。
　上記のように波長選択吸収フィルタ中に染料Ａ～Ｄを含有させる場合、染料分解時に発生したラジカルの連鎖移動等により、染料の混合による耐光性の低下という問題も生じてしまうことがある。このような問題に対しても、本発明の波長選択吸収フィルタは後述する特定のガスバリア層を設けることにより、染料の混合に伴う耐光性の低下を上回る、優れたレベルの耐光性を示すことができる。
　ここで、本発明の波長選択吸収フィルタが染料Ａを含む場合、波長３９０～４４０ｎｍにおける吸光度極大値に対して２０％の吸光度を与える二つの波長のうち長波長側の波長を「２０％値波長Ａ」と称する。また、本発明の波長選択吸収フィルタが染料Ｄを含む場合、波長６８０～７８０ｎｍにおける吸光度極大値に対して２０％の吸光度を与える二つの波長のうち短波長側の波長を「２０％値波長Ｄ」と称する。
　本発明の波長選択吸収フィルタが染料Ａを含む場合、上記２０％値波長Ａは４５５ｎｍ以下であり、本発明の波長選択吸収フィルタが染料Ｄを含む場合、上記２０％値波長Ｄは６４０ｎｍ以上である。
　本発明の波長選択吸収フィルタは、反射防止と輝度低下の抑制の両立の観点からは、２０％値波長Ａは下記関係式（Ｉ）を満たすことが好ましく、２０％値波長Ｄは下記関係式（ＩＩ）を満たすことが好ましい。
　　　関係式(Ｉ)　　　４１０ｎｍ≦２０％値波長Ａ≦４５５ｎｍ
　上記関係式（Ｉ）において、２０％値波長Ａの上限値は、４５３ｎｍ以下が好ましく、４５０ｎｍ以下がより好ましい。下限値は、４１５ｎｍ以上が好ましく、４２０ｎｍ以上がより好ましい。
　　　関係式(ＩＩ)　　　６４０ｎｍ≦２０％値波長Ｄ≦７００ｎｍ
　関係式（ＩＩ）において、２０％値波長Ｄの上限値は、６９０ｎｍ以下が好ましく、６８０ｎｍ以下がより好ましい。下限値は、６４５ｎｍ以上が好ましく、６５０ｎｍ以上がより好ましい。
（染料Ａ）
　染料Ａは、波長選択吸収フィルタ中で波長３９０～４４０ｎｍに主吸収波長帯域を有するものであれば特に制限されず、各種染料を用いることができ、波長選択吸収フィルタ中において、波長３９５～４３０ｎｍに主吸収波長帯域を有するものが好ましく、波長４００～４３０ｎｍに主吸収波長帯域を有するものがより好ましい。
　上記染料Ａとしては、主吸収波長帯域における吸収波形が先鋭である点から、下記一般式（Ａ１）で表される色素が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　一般式（Ａ１）中、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ３～Ｒ６は、各々独立に、水素原子又は置換基を示し、Ｒ５とＲ６は互いに結合して６員環を形成していてもよい。
　Ｒ１及びＲ２として採りうるアルキル基としては、無置換のアルキル基及び置換基を有する置換アルキル基のいずれでもよく、直鎖状及び分岐状のいずれでもよく、環状構造を有していてもよい。
　上記無置換のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。上記無置換のアルキル基の炭素数は、１～１２が好ましく、１～６がより好ましい。
　上記置換アルキル基が採りうる置換基としては、例えば、下記の置換基群Ａに含まれる置換基を挙げることができる。
（置換基群Ａ）
　ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシル基（塩の形でもよい）、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（－ＮＨ２の他、－ＮＲａ ２で表される置換アミノ基を含む。Ｒａは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を示す。ただし、少なくとも１つのＲａは、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基である。）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、スルホンアミド基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基（塩の形でもよい）、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基及びシリル基、並びに、これらの少なくとも２つが連結した一価の基。
　上記置換基群Ａの中でも、置換アルキル基が有し得る置換基の好ましい例としては、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシ基、アシル基及びヒドロキシ基が挙げられる。
　上記置換アルキル基の総炭素数は、１～１２が好ましい。例えば、ベンジル基、ヒドロキシベンジル基及びメトキシエチル基等が挙げられる。
　置換アルキル基の総炭素数とは、置換アルキル基が有し得る置換基を含めた、置換アルキル基全体の炭素数を意味する。以下、その他の基においても同様の意味で使用する。
　なお、Ｒ１及びＲ２がいずれもアルキル基を表す場合、アルキル基は同一でも異なっていてもよい。
　Ｒ１及びＲ２として採りうるアリール基は、無置換のアリール基及び置換基を有する置換アリール基のいずれでもよい。
　上記無置換のアリール基としては、炭素数６～１２のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基が挙げられる。
　上記置換アリール基が採りうる置換基としては、例えば、上記の置換基群Ａに含まれる置換基を挙げることができる。
　上記置換基群Ａの中でも、置換アリール基が有し得る置換基の好ましい例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子）、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホンアミド基、アミノ基（好ましくは、－ＮＲａ ２で表される置換アミノ基。Ｒａは、各々独立に、水素原子又はアルキル基を示す。ただし、少なくとも１つのＲａは、アルキル基である。炭素数は１～４が好ましい。）、アルキル基（好ましくは、炭素数１～４のアルキル基；例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル及びイソプロピル）、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１～４のアルコキシ基；例えば、メトキシ、エトキシ、ノルマルプロポキシ及びイソプロポキシ）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２～５のアルコキシカルボニル基；例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ノルマルプロポキシカルボニル及びイソプロポキシカルボニル）及びスルホニルオキシ基、並びに、これらの少なくとも２つが連結した一価の基が挙げられる。
　上記置換アリール基としては、総炭素数６～１８のアリール基が好ましい。
　例えば、４－クロロフェニル基、２，５－ジクロロフェニル基、ヒドロキシフェニル基、４－カルボキシフェニル基、３，５－ジカルボキシフェニル基、４－メタンスルホンアミドフェニル基、４－メチルフェニル基、４－メトキシフェニル基、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノフェニル基、４－（Ｎ－カルボキシメチル－Ｎ－エチルアミノ）フェニル基、４－エトキシカルボニルフェニル基及び４－メタンスルホニルオキシフェニル基が挙げられる。
　なお、Ｒ１及びＲ２がいずれもアリール基を表す場合、アリール基は同一でも異なっていてもよい。
　Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６として採りうる置換基としては、例えば、上記の置換基群Ａに含まれる置換基を挙げることができる。
　上記置換基群Ａの中でも、Ｒ３、Ｒ５及びＲ６は、アルキル基又はアリール基が好ましい。すなわち、Ｒ３、Ｒ５及びＲ６としては、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが好ましい。
　また、上記置換基群Ａの中では、Ｒ４は、アルキル基又はアリール基が好ましい。すなわち、Ｒ４としては、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが好ましい。
　Ｒ３、Ｒ５及びＲ６として採りうるアルキル基としては、無置換のアルキル基及び置換基を有する置換アルキル基のいずれでもよく、直鎖状及び分岐状のいずれでもよく、環状構造を有していてもよい。
　上記Ｒ３、Ｒ５及びＲ６として採りうる無置換のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基及びイソプロピル基等が挙げられる。上記Ｒ３、Ｒ５及びＲ６として採りうる無置換のアルキル基の炭素数は、１～８が好ましく、１～４がより好ましい。
　上記Ｒ３、Ｒ５及びＲ６における置換アルキル基が有し得る置換基としては、例えば、上記の置換基群Ａに含まれる置換基を挙げることができる。
　上記Ｒ３、Ｒ５及びＲ６における置換アルキル基が有し得る置換基の好ましい例としては、アリール基（好ましくはフェニル基）、ハロゲン原子、アシル基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシ基及びヒドロキシ基が挙げられる。
　上記Ｒ３、Ｒ５及びＲ６として採りうる置換アルキル基の総炭素数は１～８が好ましい。例えば、ベンジル基、カルボキシメチル基及びヒドロキシメチル基が挙げられる。
　なお、Ｒ３、Ｒ５及びＲ６がいずれもアルキル基を表す場合、アルキル基は同一でも異なっていてもよい。
　上記Ｒ３、Ｒ５及びＲ６として採りうるアリール基としては、無置換のアリール基及び置換された置換アリール基のいずれでもよい。
　上記Ｒ３、Ｒ５及びＲ６として採りうる無置換のアリール基としては、炭素数６～１０のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基が挙げられる。
　上記Ｒ３、Ｒ５及びＲ６における置換アリール基が有し得る置換基としては、例えば、上記の置換基群Ａに含まれる置換基を挙げることができる。
　上記Ｒ３、Ｒ５及びＲ６における置換アリール基が有し得る置換基の好ましい例としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子）、ヒドロキシ基、カルボキシ基、並びに、アルキル基（好ましくは、炭素数１～４のアルキル基；例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル及びイソプロピル）が挙げられる。
　上記Ｒ３、Ｒ５及びＲ６として採りうる置換アリール基としては、総炭素数６～１０のアリール基が好ましい。例えば、２－フルオロフェニル基、４－クロロフェニル基、２，５－ジクロロフェニル基、ヒドロキシフェニル基、カルボキシフェニル基、３，５－ジカルボキシフェニル基及び４－メチルフェニル基が挙げられる。
　Ｒ５及びＲ６がいずれも置換基である場合、耐光性及び耐熱性の観点から、Ｒ３は、水素原子であることが好ましい。
　なお、Ｒ３、Ｒ５及びＲ６がいずれもアリール基である場合、アリール基は同一でも異なっていてもよい。
　Ｒ４として採りうるアルキル基は、無置換のアルキル基及び置換基を有する置換アルキル基のいずれでもよく、直鎖状及び分岐状のいずれでもよく、環状構造を有していてもよい。
　上記Ｒ４として採りうる無置換のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。上記Ｒ４として採りうる無置換のアルキル基の炭素数は、１～８が好ましく、１～４がより好ましい。
　上記Ｒ４における置換アルキル基が有し得る置換基としては、例えば、上記の置換基群Ａに含まれる置換基を挙げることができる。
　上記Ｒ４における置換アルキル基が有し得る置換基の好ましい例としては、アリール基（好ましくはフェニル基）、ヘテロ環基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルキル基（好ましくは、炭素数１～４のアルキル基；例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル及びイソプロピル）、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１～４のアルコキシ基；例えば、メトキシ、エトキシ、ノルマルプロポキシ及びイソプロポキシ）、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２～５のアルコキシカルボニル基；例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ノルマルプロポキシカルボニル及びイソプロポキシカルボニル）、アルキルアミノ基（好ましくは炭素数１～４のアルキルアミノ基；例えば、ジメチルアミノ基）、アルキルカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数１～４のアルキルカルボニルアミノ基；例えば、メチルカルボニルアミノ基）、シアノ基及びアシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、メシル基）、並びに、これらの少なくとも２つが連結した一価の基が挙げられる。
　上記Ｒ４として採りうる置換アルキル基の総炭素数は１～１８が好ましい。
　例えば、ベンジル基、カルボキシベンジル基、ヒドロキシベンジル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルメチル基、２－シアノエチル基、２－プロピオニルアミノエチル基、ジメチルアミノメチル基、メチルカルボニルアミノプロピル基、ジ（メトキシカルボニルメチル）アミノプロピル基及びフェナシル基が挙げられる。
　上記Ｒ４として採りうるアリール基は、無置換のアリール基及び置換基を有する置換アリール基のいずれでもよい。
　上記Ｒ４として採りうる無置換のアリール基としては、炭素数６～１２のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基が挙げられる。
　上記Ｒ４における置換アリール基が有し得る置換基としては、例えば、上記の置換基群Ａに含まれる置換基を挙げることができる。
　上記Ｒ４における置換アリール基が有し得る置換基の好ましい例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホンアミド基、アミノ基、アルキル基（好ましくは、炭素数１～４のアルキル基；例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル、イソプロピル）、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１～４のアルコキシ基；例えば、メトキシ、エトキシ、ノルマルプロポキシ、イソプロポキシ）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２～５のアルコキシカルボニル基；例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ノルマルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル）及びスルホニルオキシ基、並びに、これらの少なくとも２つが連結した一価の基等が挙げられる。
　上記Ｒ４における置換アリール基が有し得るアミノ基は、無置換のアミノ基（－ＮＨ２）及び置換基を有する置換アミノ基（上記置換基群Ａにおける－ＮＲａ ２）のいずれでもよい。
　上記Ｒ４における置換アリール基が有し得るアミノ基（－ＮＲａ ２）は、Ｒａとして、上記Ｒ４における置換アルキル基と同様の基を挙げることができる。
　上記置換アミノ基としては、アミノ基の水素原子の１つ又は２つがアルキル基で置換されたアルキルアミノ基が好ましい。
　アルキルアミノ基としては、例えば、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基及びピロリジノ基が挙げられる。アルキルアミノ基の炭素数は１～８が好ましく、１～４がより好ましい。
　また、アルキルアミノ基におけるアルキル基が更に置換されていてもよく、例えば、ジ（アルコキシカルボニルアルキル）アミノ基が好ましく挙げられる。ジ（アルコキシカルボニルアルキル）アミノ基の炭素数は６～１０が好ましく、６～８がより好ましい。
　上記Ｒ４として採りうる置換アリール基としては、総炭素数６～２２のアリール基が好ましい。例えば、４－クロロフェニル基、２，５－ジクロロフェニル基、ヒドロキシフェニル基、２，５－メトキシフェニル基、２－メトキシ－５－エトキシカルボニルフェニル基、４－エチルオキシカルボニルフェニル基、４－ブトキシカルボニルフェニル基、４－オクチルオキシカルボニルフェニル基、４－カルボキシフェニル基、３，５－ジカルボキシフェニル基、４－メタンスルホンアミドフェニル基、４－メチルフェニル基、４－メトキシフェニル基、４－エトキシフェニル基、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノフェニル基、４－（Ｎ－カルボキシメチル－Ｎ－エチルアミノ）フェニル基、４－｛Ｎ，Ｎ－ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノ｝フェニル基、４－｛ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノ｝カルボニルフェニル、４－エトキシカルボニルフェニル基、４－メタンスルホニルオキシフェニル基、４－アセチルスルファモイルフェニル、４－プロピオニルスルファモイルフェニル及び４－メタンスルホンアミドフェニルが挙げられる。
　Ｒ５とＲ６は、互いに結合して６員環を形成していてもよい。環を形成する際に水素原子が脱離して、芳香環又は不飽和結合を有する脂肪族環を形成してもよい。
　Ｒ５とＲ６が互いに結合して形成される６員環は、ベンゼン環が好ましい。
　特に耐光性の観点から、一般式（Ａ１）中のＲ１及びＲ２のうち、Ｒ１がアルキル基であることが好ましく、Ｒ１がアルキル基であり、かつ、Ｒ２がアルキル基又はアリール基であることがより好ましい。また同様の観点から、Ｒ１及びＲ２がいずれも、各々独立にアルキル基であることが更に好ましく、炭素数１～８のアルキル基であることが特に好ましい。
　また、耐熱性及び耐光性の点からは、一般式（Ａ１）中のＲ１及びＲ２がいずれもアリール基であることも好ましい。
　Ｒ１及びＲ２が各々独立にアリール基を表す場合、Ｒ３、Ｒ５及びＲ６は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基であって、かつ、Ｒ３及びＲ６の少なくとも一方は水素原子であることが好ましい。中でも、耐熱性及び耐光性の観点から、Ｒ３が水素原子を表し、Ｒ５及びＲ６が各々独立にアルキル基又はアリール基を表す場合がより好ましく、Ｒ３が水素原子を表し、Ｒ５及びＲ６が各々独立にアルキル基を表す場合が更に好ましく、Ｒ３が水素原子を表し、Ｒ５及びＲ６が各々独立にアルキル基を表し、かつ、Ｒ５及びＲ６が互いに結合して環を形成してピロール環に縮合し、ピロール環と共にインドール環を形成している場合が特に好ましい。即ち、上記一般式（Ａ１）で表される色素は、下記一般式（Ａ２）で表される色素であることが特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　一般式（Ａ２）中、Ｒ１～Ｒ４は、一般式（Ａ１）中のＲ１～Ｒ４とそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。
　一般式（Ａ２）において、Ｒ１５は、置換基を示す。Ｒ１５として採り得る置換基としては、上記の置換基群Ａに含まれる置換基を挙げることができる。Ｒ１５としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アシル基、アミノ基又はアルコキシカルボニル基が好ましい。
　Ｒ１５として採り得るアルキル基及びアリール基は、Ｒ３、Ｒ５及びＲ６として採り得るアルキル基及びアリール基の記載をそれぞれ適用することができる。
　Ｒ１５として採り得るハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
　Ｒ１５として採り得るアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチロイル基が挙げられる。
　Ｒ１５として採り得るアミノ基としては、Ｒ４における置換アリール基が有し得るアミノ基の記載を適用することができる。また、アミノ基の窒素原子上のアルキル基が結合して環を形成した、５～７員環の含窒素複素環基も好ましい。
　Ｒ１５として採り得るアルコキシカルボニル基としては、炭素数２～５のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ノルマルプロポキシカルボニル及びイソプロポキシカルボニルが挙げられる。
　ｎは、０～４の整数である。ｎは特に制限されないが、例えば、０又は１が好ましい。
　以下に、一般式（Ａ１）で表される色素の具体例を示す。但し、本発明は、これらに限定されるものではない。
　下記具体例において、Ｍｅはメチル基を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　染料Ａとしては、一般式（Ａ１）で表される色素の他に、特開平５－５３２４１号公報の段落[００１２]～[００６７]に記載の化合物、及び、特許２７０７３７１号公報の段落[００１１]～[００７６]に記載の化合物も、好ましく使用することができる。
（染料Ｂ、染料Ｃ）
　染料Ｂは、波長選択吸収フィルタ中で波長４８０～５２０ｎｍに主吸収波長帯域を有するものであれば特に制限されず、各種染料を用いることができる。
　また、染料Ｃは、波長選択吸収フィルタ中で波長５８０～６２０ｎｍに主吸収波長帯域を有するものであれば特に制限されず、各種染料を用いることができる。
　染料Ｂの具体例としては、例えば、ピロールメチン（ｐｙｒｒｏｌｅ　ｍｅｔｈｉｎｅ、ＰＭ）系、ローダミン（ｒｈｏｄａｍｉｎｅ、ＲＨ）系、ボロンジピロメテン（ｂｏｒｏｎ　ｄｉｐｙｒｒｏｍｅｔｈｅｎｅ、ＢＯＤＩＰＹ）系及びスクアリン（ｓｑｕａｒｉｎｅ、ＳＱ）系の各色素（染料）が挙げられる。
　染料Ｃの具体例としては、例えば、テトラアザポルフィリン（ｔｅｔｒａａｚａ　ｐｏｒｐｈｙｒｉｎ、ＴＡＰ）系、スクアリン系及びシアニン（ｃｙａｎｉｎｅ、ＣＹ）系の各色素（染料）が挙げられる。
　これらの中でも、上記の染料Ｂ及び染料Ｃとしては、主吸収波長帯域における吸収波形が先鋭である点から、スクアリン系色素が好ましく、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［００１６］～［００７０］に記載の一般式（１）で表されるスクアリン系色素がより好ましい。染料Ｂ及び染料Ｃとして上記の通り吸収波形が先鋭な色素を使用することにより、反射率と輝度低下の抑制を両立することができる。
　すなわち、本発明の波長選択吸収フィルタは、上記色味変化の抑制の観点から、染料Ｂ及び染料Ｃの少なくとも一方がスクアリン系色素（好ましくは、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［００１６］～［００７０］に記載の一般式（１）で表されるスクアリン系色素）であることが好ましく、染料Ｂ及び染料Ｃの両方がスクアリン系色素（好ましくは、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［００１６］～［００７０］に記載の一般式（１）で表されるスクアリン系色素）であることがより好ましい。
　なお、国際公開第２０１９／１８９４６３号における染料Ａの記載は本発明における染料Ｂとして読み替え、国際公開第２０１９／１８９４６３号における染料Ｂの記載は本発明における染料Ｃとして読み替えるものとする。
　国際公開第２０１９／１８９４６３号記載の一般式（１）～（５）のいずれかで表される色素の具体例としては、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［００４８］の記載に加え、下記の具体例が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
　下記具体例において、Ｍｅはメチル、Ｅｔはエチル、Ｂｕはブチル、Ｐｈはフェニルをそれぞれ示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
  
　上記具体例の他に、国際公開第２０１９／１８９４６３号記載の一般式（３）～（５）のいずれかで表される色素の具体例としては、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［００５０］～［００５５］の記載に加え、下記の具体例が挙げられる。下記表中の置換基Ｂは下記構造又は国際公開第２０１９／１８９４６３号の［００５０］もしくは［００５１］記載の置換基Ｂを示す。下記構造及び下記表において、Ｍｅはメチル、Ｅｔはエチル、ｉ－Ｐｒはｉｓｏ－プロピル、Ｂｕはｎ－ブチル、ｔ－Ｂｕはｔ－ブチル、Ｐｈはフェニルをそれぞれ示す。下記構造において＊は各一般式中の炭素四員環との結合部を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　国際公開第２０１９／１８９４６３号記載の一般式（６）～（９）のいずれかで表される色素の具体例としては、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［００６８］～［００７０］の記載に加え、下記の具体例が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
　下記具体例において、Ｍｅはメチル、Ｅｔはエチル、ｉ－Ｐｒはｉｓｏ－プロピル、ｔ－Ｂｕはｔ－ブチル、Ｐｈはフェニルをそれぞれ示す。下記構造において＊は各一般式中の炭素四員環との結合部を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
（消光剤内蔵型色素）
　国際公開第２０１９／１８９４６３号記載の一般式（１）で表されるスクアリン系色素は、連結基を介して、共有結合により消光剤部が色素に連結されてなる、消光剤内蔵型色素であってもよい。上記消光剤内蔵型色素も、染料Ｂ及びＣの少なくとも一方の色素として好ましく用いることができる。すなわち、上記消光剤内蔵型色素は、主吸収波長帯域を有する波長に応じて、染料Ｂ又は染料Ｃとして計上する。
　上記消光剤部としては、例えば、後述の置換基Ｘにおけるメタロセニル基が挙げられる。なお、後述の置換基Ｘにおけるメタロセニル基の記載において、「一般式（１）」は「国際公開第２０１９／１８９４６３号記載の一般式（１）」に読み替えるものとする。
　また、国際公開第２０１９／０６６０４３号の段落［０１９９］～［０２１２］および段落［０２３４］～［０３１０］に記載の消光剤化合物における消光剤部を挙げることができる。
　すなわち、国際公開第２０１９／１８９４６３号記載の一般式（１）で表されるスクアリン系色素において、置換基Ｘとして上記消光剤部を有する色素も好ましい形態の１つである。
　国際公開第２０１９／１８９４６３号記載の一般式（１）で表されるスクアリン系色素のうち、消光剤内蔵型色素に該当する色素の具体例としては、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［０２２３］～［０２３４］の記載に加え、下記の具体例が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
　下記具体例において、Ｍｅはメチル、Ｅｔはエチル、Ｂｕはブチルをそれぞれ示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
（染料Ｄ）
　染料Ｄは、波長選択吸収フィルタ中で波長６８０～７８０ｎｍに主吸収波長帯域を有するものであれば特に制限されず、各種染料を用いることができる。
　染料Ｄの具体例としては、例えば、ポルフィリン系、スクアリン系、シアニン（ｃｙａｎｉｎｅ、ＣＹ）系の各色素（染料）が挙げられる。
　これらの中でも、上記の染料Ｄとしては、主吸収波長帯域における吸収波形が先鋭である点から、スクアリン系色素が好ましく、下記一般式（１）で表されるスクアリン系色素がより好ましい。
　本発明において、下記の各一般式で表される色素において、カチオンは非局在化して存在しており、複数の互変異性体構造が存在する。そのため、本発明において、ある色素の少なくとも１つの互変異性体構造が各一般式に当てはまる場合、ある色素は各一般式で表される色素とする。したがって、特定の一般式で表される色素とは、その少なくとも１つの互変異性体構造を特定の一般式で表すことができる色素ということもできる。本発明において、一般式で表される色素は、その互変異性体構造の少なくとも１つがこの一般式に当てはまる限り、どのような互変異性体構造をとるものでもよい。
（一般式（１）表される色素）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　一般式（１）中、Ａ及びＢは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、又は－ＣＨ＝Ｇを示す。Ｇは置換基を有していてもよい複素環基を示す。
　Ａ又はＢとして採りうるアリール基としては、特に制限されず、単環からなる基でも縮合環からなる基でもよい。アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２がさらに好ましい。アリール基としては、例えば、ベンゼン環又はナフタレン環からなる各基が挙げられ、好ましくはベンゼン環からなる基である。
　Ａ又はＢとして採りうる複素環基としては、特に制限はなく、脂肪族複素環若しくは芳香族複素環からなる基を含み、芳香族複素環からなる基が好ましい。芳香族複素環基であるヘテロアリール基としては、例えば、後述する置換基Ｘとして採りうるヘテロアリール基が挙げられる。Ａ又はＢとして採りうる芳香族複素環基は、５員環又は６員環の基が好ましく、含窒素５員環の基がより好ましい。具体的には、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、トリアゾール環、インドール環、インドレニン環、インドリン環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環及びピラゾロトリアゾール環のいずれかからなる基が好適に挙げられる。中でも、ピロール環、ピラゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環及びピラゾロトリアゾール環のいずれかからなる基が好ましい。ピラゾロトリアゾール環とは、ピラゾール環とトリアゾール環との縮合環からなり、これらの環が少なくとも１つずつ縮合してなる縮合環であればよく、例えば、ピラゾール環とトリアゾール環とが、１つの窒素原子と１つの炭素原子とを共有する形で縮合環を形成している形態の縮合環が挙げられる。
　Ａ及びＢは、スクアリン酸部位（一般式（１）に示された４員環）に対して、特に制限されることなく、いずれの部位（環構成原子）で結合してもよいが、炭素原子で結合することが好ましい。
　Ａ又はＢとして採りうる－ＣＨ＝Ｇ中のＧは、置換基を有していてもよい複素環基を示し、例えば、上記のＡ又はＢとして採りうる複素環基に示されている例が好適に挙げられる。中でも、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環及びインドリン環のいずれかからなる基等が好ましい。
　Ａ及びＢの少なくとも一方は、分子内水素結合を形成する水素結合性基を有していてもよい。
　Ａ、Ｂ及びＧは、それぞれ、置換基Ｘを有していてもよく、置換基Ｘを有する場合には、隣接する置換基が互いに結合してさらに環構造を形成してもよい。また、置換基Ｘは複数個存在してもよい。隣接する置換基Ｘが互いに結合してさらに環構造を形成する場合、２つの置換基Ｘがホウ素原子等のヘテロ原子を間に介して環を形成してもよい。このホウ素原子は、さらに置換基で置換されていてもよく、アルキル基及びアリール基等の置換基が挙げられる。２つの置換基Ｘが結合して形成される環の例としては、例えば、２つの下記－ＮＲ１４Ｒ１５が結合して形成される環、２つの下記－ＮＲ１４Ｒ１５がホウ素原子を間に介して結合して形成される環が挙げられる。
　置換基Ｘとしては、例えば、以下の基が挙げられる。
　アルキル基（炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８がさらに好ましい。例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ－ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ドデシル、トリフルオロメチル、シクロペンチル、シクロヘキシル。）、
　アルケニル基（炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８がさらに好ましい。例えば、ビニル、アリル。）、
　アルキニル基（炭素数は、２～４０が好ましく、２～３０がより好ましく、２～２５が特に好ましい。例えば、エチニル、プロパルギル。）、
　アリール基（炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２がさらに好ましい。例えば、フェニル、ナフチル。）、
　ヘテロ環基（芳香族ヘテロ環基及び脂肪族ヘテロ環基を含む。単環又は縮合環からなる基を含み、単環、又は環数が２～８個の縮合環からなる基が好ましく、単環又は環数が２～４個の縮合環からなる基がより好ましい。環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましく、環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子等が挙げられ、５員環又は６員環からなる基が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましい。例えば、フリル、チエニル、ピリジル、ピリダジル、ピリミジル、ピラジル、トリアジル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、キナゾリル、フタラジル、ピロリジル、イミダゾリジル、モルホリル、オキサゾリジル。）、
　アラルキル基（アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、７～４０が好ましく、７～３０がより好ましく、７～２５がさらに好ましい。）、
　メタロセニル基、
　－ＯＲ１０（例えば、ヒドロキシ基、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ等）、シクロアルコキシ基（シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ等）、アリールオキシ基（フェノキシ、ナフチルオキシ等）、ヘテロアリールオキシ基（芳香族ヘテロ環オキシ基）が挙げられる。）、
　－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ１１（アセチル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、オクチルカルボニル、２－エチルヘキシルカルボニル、フェニルカルボニル、ナフチルカルボニル、ピリジルカルボニル等のアシル基が挙げられる。）、
　－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ１２（例えば、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基（メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等）が挙げられる。）、
　－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ１３（アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ、ブチルカルボニルオキシ、オクチルカルボニルオキシ、フェニルカルボニルオキシ等のアシルオキシ基が挙げられる。）、
　－ＮＲ１４Ｒ１５（アミノ（－ＮＨ２）、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブチルアミノ、ジブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、２－エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、ナフチルアミノ、２－ピリジルアミノ等のアミノ基が挙げられる。）、
　－ＮＨＣＯＲ１６（メチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノ、ジメチルカルボニルアミノ、プロピルカルボニルアミノ、ペンチルカルボニルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、２－エチルヘキシルカルボニルアミノ、オクチルカルボニルアミノ、ドデシルカルボニルアミノ、フェニルカルボニルアミノ、ナフチルカルボニルアミノ等のアミド基が挙げられる。）、
　－ＣＯＮＲ１７Ｒ１８（アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、オクチルアミノカルボニル、２－エチルヘキシルアミノカルボニル、ドデシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、ナフチルアミノカルボニル、２－ピリジルアミノカルボニル等のカルバモイル基が挙げられる。）、
　－ＮＨＣＯＮＲ１９Ｒ２０（メチルウレイド、エチルウレイド、ペンチルウレイド、シクロヘキシルウレイド、オクチルウレイド、ドデシルウレイド、フェニルウレイド、ナフチルウレイド、２－ピリジルアミノウレイド等のウレイド基が挙げられる。）、
　－ＮＨＣＯＯＲ２１、
　－ＳＲ２２（例えば、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ等）、シクロアルキルチオ基（シクロペンチルチオ、シクロヘキシルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ、ナフチルチオ等）、ヘテロアリールチオ基（芳香族ヘテロ環チオ基）が挙げられる。）、
　－ＳＯ２Ｒ２３（例えば、アルキルスルホニル基（メチルスルホニル、エチルスルホニル、ブチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、２－エチルヘキシルスルホニル等）、アリールスルホニル（フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル、２－ピリジルスルホニル等）が挙げられる。）、
　－ＯＳＯ２Ｒ２４（メタンスルホニルオキシ等のアルキルスルホニルオキシ基が挙げられる。）、
　－ＮＨＳＯ２Ｒ２５（メチルスルホニルアミノ、オクチルスルホニルアミノ、２－エチルヘキシルスルホニルアミノ、トリフルオロメチルスルホニルアミノ等のスルホニルアミド基が挙げられる。）、
　－ＳＯ２ＮＲ２６Ｒ２７（アミノスルホニル、メチルアミノスルホニル、ジメチルアミノスルホニル、ブチルアミノスルホニル、シクロヘキシルアミノスルホニル、オクチルアミノスルホニル、フェニルアミノスルホニル、２－ピリジルアミノスルホニル等のスルファモイル基が挙げられる。）、
　－Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ２８）２（ジメトキシホスホリル、ジフェニルホスホリル等のホスホリル基が挙げられる。）、
　ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子）、
　シアノ基、
　ニトロ基。
　また、置換基Ｘは、上記メタロセニル基の他に、前述の消光剤部を有することも好ましい。
　なお、上記Ｒ１０～Ｒ２８は、各々独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基又はヘテロ環基を示す。Ｒ１０～Ｒ２８として採りうる脂肪族基及び芳香族基は、特に制限されず、上記置換基Ｘとして採りうる置換基における、脂肪族基に分類されるアルキル基、アルケニル基及びアルキニル基、並びに、芳香族基に分類されるアリール基から適宜に選択できる。Ｒ１０～Ｒ２８として採りうるヘテロ環基は、脂肪族でも芳香族でもよく、例えば、上記置換基Ｘとして採りうるヘテロ環基（芳香族ヘテロ環基又は脂肪族ヘテロ環基）から適宜に選択できる。
　上記置換基Ｘとして採りうるアルキル基、アルケニル基及びアルキニル基は、それぞれ、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖又は分岐が好ましい。
　なお、－ＣＯＯＲ１２のＲ１２が水素原子である場合（すなわち、カルボキシ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、カルボネート基）、塩の状態であってもよい。また、－ＯＳＯ２Ｒ２４のＲ２４が水素原子である場合（すなわち、スルホ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、スルホネート基）、塩の状態であってもよい。
　置換基Ｘとして採りうる置換基はさらに置換基を有していてもよい。さらに有していてもよい置換基としては、上記置換基Ｘが挙げられる。
　また、隣接する置換基同士は互いに結合して環を形成してもよく、形成される環としては脂肪族ヘテロ環又はヘテロアリール環が好ましく、形成される環の大きさは特に制限されないが、５員環又は６員環であることが好ましい。また、形成される環の数は特に限定されず、１個であってもよく、２個以上であってもよい。
　置換基Ｘとして採りうるメタロセニル基は、下記一般式（２Ｍ）で表されることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　一般式（２Ｍ）中、Ｌは、単結合、又は、一般式（１）中のＡ、Ｂ又はＧと共役しない２価の連結基を示す。Ｒ１ｍ～Ｒ９ｍは、それぞれ、水素原子又は置換基を示す。Ｍは、メタロセン化合物を構成しうる原子であって、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｍｎ、Ｒｕ、Ｓｎ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｖ又はＰｔを示す。＊はＡ、Ｂ又はＧとの結合部を示す。
　なお、本発明においては、一般式（２Ｍ）中のＬが単結合である場合、Ａ、Ｂ又はＧに直接結合するシクロペンタジエニル環（一般式（２Ｍ）中のＲ１ｍを有する環）は、Ａ、Ｂ又はＧと共役する共役構造に含めない。
　Ｌとして採りうる２価の連結基としては、Ａ、Ｂ又はＧと共役しない連結基であれば特に制限されず、その内部、又は一般式（２Ｍ）中のシクロペンタジエン環側端部に、上述の共役構造を含んでいてもよい。２価の連結基としては、例えば、炭素数１～２０のアルキレン基、炭素数６～２０のアリーレン基、複素環から２個水素を除いた２価の複素環基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－ＮＲ－（Ｒは水素原子又は１価の置換基を示す。）、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－若しくは－Ｎ＝ＣＨ－、又は、これらを複数（好ましくは２～６個）組合せてなる２価の連結基が挙げられる。好ましくは、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数６～１２のアリーレン基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＮＲ－（Ｒは上記の通り。）、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－及び－Ｎ＝ＣＨ－からなる群から選ばれる基若しくはこの群から選ばれる２種以上（好ましくは２～６個）の基を組合せた２価の連結基であり、より好ましくは、炭素数１～４のアルキレン基、フェニレン基、－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－及び－ＳＯ２－からなる群から選ばれる基若しくはこの群から選ばれる２種以上（好ましくは２～６個）の基を組合せた連結基である。組合せた２価の連結基としては、特に制限されないが、－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－又は－ＳＯ２－を含む基が好ましく、－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－又は－ＳＯ２－を２種以上組合せてなる連結基、又は、－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－及び－ＳＯ２－の少なくとも１種とアルキレン基若しくはアリーレン基とを組合せてなる連結基が挙げられる。－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－又は－ＳＯ２－を２種以上組合せてなる連結基としては、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯＯ－、－ＮＨＣＯＮＨ－、－ＳＯ２ＮＨ－が挙げられる。－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－及び－ＳＯ２－の少なくとも１種とアルキレン基若しくはアリーレン基とを組合せてなる連結基としては、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－若しくは－ＣＯＮＨ－と、アルキレン基若しくはアリーレン基とを組合せた基が挙げられる。
　Ｒとして採りうる置換基は、特に制限されず、上記置換基Ｘと同義である。
　Ｌは、単結合であるか、又は、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数６～１２のアリーレン基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＮＲ－（Ｒは上記の通り。）、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－及び－Ｎ＝ＣＨ－からなる群から選ばれる基若しくはこの群から選ばれる２種以上の基を組合せた基が好ましい。
　Ｌは、置換基を１又は複数有していてもよい。Ｌが有していてもよい置換基としては、特に制限されず、例えば上記置換基Ｘと同義である。Ｌが置換基を複数有する場合、隣接する原子に結合する置換基が互いに結合して更に環構造を形成してもよい。
　Ｌとして採りうるアルキレン基としては、炭素数が１～２０の範囲にある基であれば、直鎖、分岐鎖又は環状のいずれでもよく、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、メチルエチレン、メチルメチレン、ジメチルメチレン、１，１－ジメチルエチレン、ブチレン、１－メチルプロピレン、２－メチルプロピレン、１，２－ジメチルプロピレン、１，３－ジメチルプロピレン、１－メチルブチレン、２－メチルブチレン、３－メチルブチレン、４－メチルブチレン、２，４－ジメチルブチレン、１，３－ジメチルブチレン、ペンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン、エタン－１，１－ジイル、プロパン－２，２－ジイル、シクロプロパン－１，１－ジイル、シクロプロパン－１，２－ジイル、シクロブタン－１，１－ジイル、シクロブタン－１，２－ジイル、シクロペンタン－１，１－ジイル、シクロペンタン－１，２－ジイル、シクロペンタン－１，３－ジイル、シクロヘキサン－１，１－ジイル、シクロヘキサン－１，２－ジイル、シクロヘキサン－１，３－ジイル、シクロヘキサン－１，４－ジイル、メチルシクロヘキサン－１，４－ジイル等が挙げられる。
　Ｌとして、アルキレン基中に、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－ＮＲ－（Ｒは上述の通り。）、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－及び－Ｎ＝ＣＨ－の少なくとも１つを含む連結基を採る場合、－ＣＯ－等の基は、アルキレン基中のいずれの位置に組み込まれてもよく、また組み込まれる数も特に制限されない。
　Ｌとして採りうるアリーレン基としては、炭素数が６～２０の範囲にある基であれば特に制限されず、例えば、一般式（１）中のＡとして採りうる炭素数が６～２０のアリール基として例示した各基から更に水素原子を１つ除去した基が挙げられる。
　Ｌとして採りうる複素環基としては、特に制限されず、例えば、上記Ａとして採りうる複素環基として例示した各基から更に水素原子を１つ除去した基が挙げられる。
　一般式（２Ｍ）において、上記連結基Ｌを除外した残りの部分構造は、メタロセン化合物から水素原子を１つ除去した構造（メタロセン構造部）に相当する。本発明において、メタロセン構造部となるメタロセン化合物は、上記一般式（２Ｍ）で規定される部分構造に適合する化合物（Ｌに代えて水素原子が結合した化合物）であれば、公知のメタロセン化合物を特に制限されることなく用いることができる。以下、一般式（２Ｍ）で規定されるメタロセン構造部について具体的に説明する。
　一般式（２Ｍ）中、Ｒ１ｍ～Ｒ９ｍは、それぞれ、水素原子又は置換基を示す。Ｒ１ｍ～Ｒ９ｍとして採りうる置換基としては、特に制限されないが、例えば、上記置換基Ｘとして採りうる置換基の中から選ぶことができる。Ｒ１ｍ～Ｒ９ｍは、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシル基、アルコキシ基、アミノ基又はアミド基が好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシル基又はアルコキシ基がより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアシル基が更に好ましく、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基が特に好ましく、水素原子が最も好ましい。
　Ｒ１ｍ～Ｒ９ｍとして採りうるアルキル基としては、上記置換基Ｘとして採りうるアルキル基の中でも、炭素数１～８のアルキル基が好ましく、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、イソブチル、ペンチル、ｔｅｒｔ－ペンチル、ヘキシル、オクチル、２－エチルヘキシルが挙げられる。
　このアルキル基は、置換基としてハロゲン原子を有していてもよい。ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、例えば、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、２，２，２－トリフルオロエチル、パーフルオロエチル、パーフルオロプロピル、パーフルオロブチル等が挙げられる。
　また、Ｒ１ｍ等として採りうるアルキル基は、炭素鎖を形成する少なくとも１つのメチレン基が－Ｏ－又は－ＣＯ－で置換されていてもよい。メチレン基が－Ｏ－で置換されたアルキル基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、第二ブトキシ、第三ブトキシ、２－メトキシエトキシ、クロロメチルオキシ、ジクロロメチルオキシ、トリクロロメチルオキシ、ブロモメチルオキシ、ジブロモメチルオキシ、トリブロモメチルオキシ、フルオロメチルオキシ、ジフルオロメチルオキシ、トリフルオロメチルオキシ、２，２，２－トリフルオロエチルオキシ、パーフルオロエチルオキシ、パーフルオロプロピルオキシ、パーフルオロブチルオキシの端部メチレン基が置換されたアルキル基、更には、２－メトキシエチル等の炭素鎖の内部メチレン基が置換されたアルキル基等が挙げられる。メチレン基が－ＣＯ－で置換されたアルキル基としては、例えば、アセチル、プロピオニル、モノクロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、プロパン－２－オン－１－イル、ブタン－２－オン－１－イル等が挙げられる。
　一般式（２Ｍ）中、Ｍは、メタロセン化合物を構成しうる原子であって、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｍｎ、Ｒｕ、Ｓｎ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｖ又はＰｔを示す。中でも、Ｍは、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｒｕ又はＯｓが好ましく、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｒｕ又はＯｓがより好ましく、Ｆｅ又はＴｉが更に好ましく、Ｆｅが最も好ましい。
　一般式（２Ｍ）で表される基としては、Ｌ、Ｒ１ｍ～Ｒ９ｍ及びＭの好ましいもの同士を組合せてなる基が好ましく、例えば、Ｌとして、単結合、又は、炭素数２～８のアルキレン基、炭素数６～１２のアリーレン基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＮＲ－（Ｒは上述の通り。）、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－及び－Ｎ＝ＣＨ－からなる群から選ばれる基若しくはこの群から選ばれる２種以上の基を組合せた基と、Ｒ１ｍ～Ｒ９ｍとして、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシル基又はアルコキシ基と、ＭとしてＦｅとを組合せてなる基が挙げられる。
　置換基Ｘとして採りうるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基及びヘテロアリール基、並びに、Ｒ１０～Ｒ２８として採りうる脂肪族基、芳香族基及びヘテロ環基は、それぞれ、さらに置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。さらに有していてもよい置換基としては、特に制限はないが、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、芳香族ヘテロ環チオ基、スルホニル基、メタロセニル基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、及びカルボキシ基から選ばれる置換基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、芳香族ヘテロ環チオ基、スルホニル基、メタロセニル基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、及びカルボキシ基から選ばれる置換基がより好ましい。これらの基は、上記置換基Ｘとして採りうる置換基から適宜に選択することができる。
　染料Ｄが一般式（１）で表される色素である場合、下記一般式（１４）で表される色素であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　一般式（１４）において、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、水素原子又は置換基を示す。Ｒ１とＲ２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、また互いに結合して環を形成してもよい。
　Ｒ１及びＲ２として採りうる置換基としては、特に制限はないが、例えば、上記置換基Ｘにおけるアルキル基（シクロアルキル基を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基（芳香族ヘテロ環基及び脂肪族ヘテロ環基を含む）、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、スルホニルアミド基、カルバモイル基、ウレイド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基等が挙げられる。
　また、Ｒ４１及びＲ４２も、上記のＲ１及びＲ２と同義である。
　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４１及びＲ４２はさらに置換基を有していてもよい。さらに有していてもよい置換基としては、上記置換基Ｘが挙げられる。
　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４１及びＲ４２は、中でも、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基が好ましく、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基がより好ましく、アルキル基又はアリール基がさらに好ましい。
　一般式（１４）におけるＢ１、Ｂ２、Ｂ３およびＢ４は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を示す。Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３及びＢ４を含む環は芳香環である。Ｂ１～Ｂ４のうち、少なくとも２つ以上は炭素原子であることが好ましく、Ｂ１～Ｂ４の全てが炭素原子であることがより好ましい。
　Ｂ１～Ｂ４として採りうる炭素原子は、水素原子又は置換基を有する。Ｂ１～Ｂ４として採りうる炭素原子のうち、置換基を有する炭素原子の数は、特に制限されないが、０、１又は２であることが好ましく、１であることがより好ましい。特に、Ｂ１及びＢ４が炭素原子であって、少なくとも一方が置換基を有することが好ましい。
　Ｂ１～Ｂ４として採りうる炭素原子が有する置換基としては、特に制限されず、Ｒ１及びＲ２として採りうる上記置換基が挙げられる。中でも、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アシル基、アミド基、スルホニルアミド基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又はヒドロキシ基であり、より好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アシル基、アミド基、スルホニルアミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又はヒドロキシ基である。
　また、Ｂ５、Ｂ６、Ｂ７およびＢ８は、それぞれ、上記Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３およびＢ４と同義である。
　Ｂ１～Ｂ８として採り得る炭素原子が有する置換基は、さらに置換基を有していてもよい。さらに有していてもよい置換基としては、上記置換基Ｘが挙げられる。
　Ｂ１、Ｂ４、Ｂ５及びＢ８として採りうる炭素原子が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アミド基、スルホニルアミド基又はカルバモイル基がさらに好ましく、特に好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アミド基又はスルホニルアミド基が挙げられ、最も好ましくは、ヒドロキシ基、アミド基又はスルホニルアミド基である。
　Ｂ２、Ｂ３、Ｂ６及びＢ７として採りうる炭素原子が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基又はハロゲン原子がさらに好ましく、いずれか一方の置換基が電子求引性基（例えば、アルコキシカルボニル基、アシル基、シアノ基、ニトロ基又はハロゲン原子）であることが特に好ましい。
　一般式（１４）において、Ｒ１とＲ２とは互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ１又はＲ２と、Ｂ２又はＢ３が有する置換基とは結合して環を形成してもよい。また、Ｒ４１とＲ４２とは互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４１又はＲ４２と、Ｂ６又はＢ７が有する置換基とは結合して環を形成してもよい。
　上記において、形成される環としてはヘテロ環又はヘテロアリール環が好ましく、形成される環の大きさは特に制限されないが、５員環又は６員環であることが好ましい。また、形成される環の数は特に限定されず、１個であってもよく、２個以上であってもよい。２個以上の環が形成される形態としては、例えば、Ｒ１とＢ２が有する置換基、及び、Ｒ２とＢ３が有する置換基とがそれぞれ結合して２個の環を形成する形態が挙げられる。
　以下に、染料Ｄの具体例を示す。下記化合物Ｆ－１～Ｆ－３３は、一般式（１）で表される色素である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
　本発明の波長選択吸収フィルタ中における上記染料Ａ～Ｄの含有量の合計は、本発明の効果が奏される限り特に制限されず、０．０１質量％以上が好ましく、０．０５質量％以上がより好ましく、０．１０質量％以上がさらに好ましく、０．１５質量％以上が特に好ましく、とりわけ０．２０質量％以上が好ましい。波長選択吸収フィルタ中の染料Ａ～Ｄの合計含有量が、上記の好ましい下限値以上であると、良好な反射防止効果が得られる。
　また、本発明の波長選択吸収フィルタ中における上記染料Ａ～Ｄの含有量の合計は、通常は７０質量％以下であり、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。
　本発明の波長選択吸収フィルタ中に含有され得る染料Ａ～Ｄそれぞれの含有量としては、好ましくは以下の通りである。
　本発明の波長選択吸収フィルタ中における染料Ａの含有量は、０．０１～４５質量％が好ましく、０．１～３０質量％がより好ましい。
　本発明の波長選択吸収フィルタ中における染料Ｂの含有量は、０．０１～４５質量％が好ましく、０．１～３０質量％がより好ましい。
　本発明の波長選択吸収フィルタ中における染料Ｃの含有量は、０．０１～３０質量％が好ましく、０．１～２５質量％がより好ましい。
　本発明の波長選択吸収フィルタ中における染料Ｄの含有量は、０．０１～４５質量％が好ましく、０．１～３０質量％がより好ましい。
　なお、染料Ｂ～Ｄの少なくとも一つが上記消光剤内蔵型色素である場合、本発明の波長選択吸収フィルタ中における上記消光剤内蔵型色素の含有量は、反射防止効果の点から、０．１質量％以上であることが好ましい。上限値は、４５質量％以下であることが好ましい。
＜樹脂＞
　本発明の波長選択吸収フィルタに含まれる樹脂（以下、「マトリックス樹脂」とも称す。）は、上記染料及び後記会合抑制剤を分散（好ましくは溶解）することができ、会合抑制剤による染料の会合を抑制し、耐光性の低下を抑制することができる限り、特に限定されるものではない。外光反射の抑制及び輝度低下の抑制を充足することができ、しかも、表示装置（好ましくは自発光表示装置）の画像本来の色味を優れたレベルで保持することができることが、好ましい。
　染料Ｄとして一般式（１）で表されるスクアリン系色素を含有する場合には、上記マトリックス樹脂は、このスクアリン系色素がより先鋭な吸収を示すことが可能な、低極性マトリックス樹脂であることが好ましい。このことは、染料Ｂ又はＣの少なくとも１つとして国際公開第２０１９／１８９４６３号記載の一般式（１）で表されるスクアリン系色素を含有する場合においても同様である。上記スクアリン系色素がより先鋭な吸収を示すことにより、反射防止と輝度低下抑制を優れたレベルで両立できる。ここで、低極性とは、下記関係式αで定義されるｆｄ値が０．５０以上であることが好ましい。
　　　　　　関係式α：ｆｄ＝δｄ／（δｄ＋δｐ＋δｈ）
　関係式αにおいて、δｄ、δｐ及びδｈは、それぞれ、Ｈｏｙ法により算出される溶解度パラメータδｔに対する、Ｌｏｎｄｏｎ分散力に対応する項、双極子間力に対応する項、及び、水素結合力に対応する項を示す。具体的な算出方法については、後述の通りである。すなわち、ｆｄはδｄとδｐとδｈの和に対するδｄの比率を示す。
　ｆｄ値を０．５０以上とすることにより、より先鋭な吸収波形が得られやすくなる。
　また、波長選択吸収フィルタがマトリックス樹脂を２種以上含む場合、ｆｄ値は、下記のようにして算出する。
　　　ｆｄ＝Σ（ｗｉ・ｆｄｉ）
　ここで、ｗｉはｉ番目のマトリックス樹脂の質量分率、ｆｄｉはｉ番目のマトリックス樹脂のｆｄ値を示す。
　－　Ｌｏｎｄｏｎ分散力に対応する項δｄ　－
　Ｌｏｎｄｏｎ分散力に対応する項δｄは、文献“Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒｓ　３ｒｄ，ＥＬＳＥＶＩＥＲ，（１９９０）”の２１４～２２０頁の「２）Ｍｅｔｈｏｄ　ｏｆ　Ｈｏｙ　（１９８５，１９８９）」欄に記載のＡｍｏｒｐｈｏｕｓ　Ｐｏｌｙｍｅｒｓについて求められるδｄをいうものとし、上記文献の上記の欄の記載に従って算出される。
　－　双極子間力に対応する項δｐ　－　
　双極子間力に対応する項δｐは、文献“Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒｓ　３ｒｄ，ＥＬＳＥＶＩＥＲ，（１９９０）”の２１４～２２０頁の「２）Ｍｅｔｈｏｄ　ｏｆ　Ｈｏｙ（１９８５，１９８９）」欄に記載のＡｍｏｒｐｈｏｕｓ　Ｐｏｌｙｍｅｒｓについて求められるδｐをいうものとし、上記文献の上記の欄の記載に従って算出される。
　－　水素結合力に対応する項δｈ　－　
　水素結合力に対応する項δｈは、文献“Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒｓ　３ｒｄ，ＥＬＳＥＶＩＥＲ，（１９９０）”の２１４～２２０頁の「２）Ｍｅｔｈｏｄ　ｏｆ　Ｈｏｙ（１９８５，１９８９）」欄に記載のＡｍｏｒｐｈｏｕｓ　Ｐｏｌｙｍｅｒｓについて求められるδｈをいうものとし、上記文献の上記の欄の記載に従って算出される。
　また、上記マトリックス樹脂が一定の疎水性を示す樹脂であると、本発明の波長選択吸収フィルタの含水率を、例えば０．５％以下といった低含水率にすることができ、本発明の波長選択吸収フィルタの耐光性を向上させる点から好ましい。
　なお、樹脂とは、ポリマーに加えて任意の慣用成分を含んでいてもよい。ただし、上記マトリックス樹脂のｆｄは、マトリックス樹脂を構成するポリマーについての算出値である。
　上記マトリックス樹脂の好ましい例としては、上記会合抑制剤がより効果的に機能する観点から、例えば、ポリスチレン樹脂及び環状ポリオレフィン樹脂が挙げられ、ポリスチレン樹脂がより好ましい。通常、ポリスチレン樹脂の上記ｆｄ値は０．４５～０．６０であり、環状ポリオレフィン樹脂の上記ｆｄ値は０．４５～０．７０である。上述のようにｆｄ値は０．５０以上のものを用いることが好ましい。
　また、例えば、これらの好ましい樹脂に加えて、後述する伸張性樹脂成分及び剥離性制御樹脂成分等の波長選択吸収フィルタに機能性を付与する樹脂成分を用いることも好ましい。すなわち、本発明においてマトリックス樹脂とは、上述の樹脂の他に、伸張性樹脂成分及び剥離性制御樹脂成分を含む意味で使用する。
　上記マトリックス樹脂が、ポリスチレン樹脂を含むことが、色素の吸収波形の先鋭化の点から好ましい。
（ポリスチレン樹脂）
　上記ポリスチレン樹脂に含まれるポリスチレンとしては、スチレン成分を含むポリマーを意味する。ポリスチレンはスチレン成分を５０質量％以上含むことが好ましい。本発明の波長選択吸収フィルタは、ポリスチレンを、１種含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。ここで、スチレン成分とは、その構造中にスチレン骨格を有する単量体由来の構造単位である。
　ポリスチレンは、光弾性係数及び吸湿性を波長選択吸収フィルタとして好ましい範囲の値へ制御する点から、スチレン成分を７０質量％以上含むことがより好ましく、８５質量％以上含むことがさらに好ましい。また、ポリスチレンはスチレン成分のみから構成されていることも好ましい。
　ポリスチレンのうち、スチレン成分のみから構成されるポリスチレンとしては、スチレン化合物の単独重合体及び２種以上のスチレン化合物の共重合体が挙げられる。ここで、スチレン化合物とは、その構造中にスチレン骨格を有する化合物であり、スチレンの他、スチレンのエチレン性不飽和結合が反応（重合）性基として作用し得る範囲で置換基を導入した化合物を含む意味である。
　具体的なスチレン化合物として、例えば、スチレン；α－メチルスチレン、ｏ－メチルスチレン、ｍ－メチルスチレン、ｐ－メチルスチレン、３，５－ジメチルスチレン、２，４－ジメチルスチレン、ｏ－エチルスチレン、ｐ－エチルスチレン及びｔｅｒｔ－ブチルスチレン等のアルキルスチレン；ヒドロキシスチレン、ｔｅｒｔ－ブトキシスチレン、ビニル安息香酸、ｏ－クロロスチレン及びｐ－クロロスチレン等のスチレンのベンゼン核に水酸基、アルコキシ基、カルボキシ基及びハロゲン原子などが導入された置換スチレンなどが挙げられる。中でも、入手しやすさ、材料価格などの観点から、上記ポリスチレンは、スチレンの単独重合体（すなわちポリスチレン）が好ましい。
　また、上記ポリスチレンに含まれ得るスチレン成分以外の構成成分としては、特に限定されない。すなわち、ポリスチレンは、スチレン－ジエン共重合体、又はスチレン－重合性不飽和カルボン酸エステル共重合体等であってもよい。また、ポリスチレンと合成ゴム（例えば、ポリブタジエン及びポリイソプレン）の混合物を用いることもできる。また、合成ゴムにスチレンをグラフト重合させた耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）も好ましい。また、スチレン成分を含む重合体（例えば、スチレン成分と（メタ）アクリル酸エステル成分との共重合体）の連続相中にゴム状弾性体を分散させ、上記ゴム状弾性体に上記共重合体をグラフト重合させたポリスチレン（グラフトタイプ耐衝撃性ポリスチレン「グラフトＨＩＰＳ」という）も好ましい。さらに、いわゆるスチレン系エラストマーも好適に用いることができる。
　また、上記ポリスチレンは、水素添加されていてもよい（水添ポリスチレンであってもよい）。上記水添ポリスチレンとしては、特に限定されないが、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）に水素添加した水添スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、及び、スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合体（ＳＩＳ）に水素を添加した水添スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＰＳ）等の、水素添加されたスチレン－ジエン系共重合体が好ましい。上記水添ポリスチレンは、１種のみを使用してもよいし、２種以上を使用してもよい。
　また、上記ポリスチレンは、変性ポリスチレンであってもよい。上記変性ポリスチレンとしては、特に限定されないが、極性基等の反応性基が導入されたポリスチレンが挙げられ、具体的には、マレイン酸変性等の酸変性ポリスチレン及びエポキシ変性ポリスチレンが好ましく挙げられる。
　ポリスチレンとして、組成、分子量等が異なる複数種類のものを併用することができる。
　ポリスチレン系樹脂は、アニオン、塊状、懸濁、乳化又は溶液重合方法等の常法により得ることができる。また、ポリスチレンにおいては、共役ジエン及びスチレン単量体のベンゼン環の不飽和二重結合の少なくとも一部が水素添加されていてもよい。水素添加率は核磁気共鳴装置（ＮＭＲ）によって測定できる。
　ポリスチレン樹脂としては、市販品を用いてもよく、例えば、電気化学工業（株）製「クリアレン　５３０Ｌ」、「クリアレン　７３０Ｌ」、旭化成（株）製「タフプレン　１２６Ｓ」、「アサプレン　Ｔ４１１」、クレイトンポリマージャパン（株）製「クレイトン　Ｄ１１０２Ａ」、「クレイトン　Ｄ１１１６Ａ」、スタイロルーション社製「スタイロルクス　Ｓ」、「スタイロルクス　Ｔ」、旭化成ケミカルズ（株）製、「アサフレックス　８４０」、「アサフレックス　８６０」（以上、ＳＢＳ）、ＰＳジャパン（株）製「６７９」、「ＨＦ７７」、「ＳＧＰ－１０」、ＤＩＣ（株）製「ディックスチレン　ＸＣ－５１５」、「ディックスチレン　ＸＣ－５３５」（以上、ＧＰＰＳ）、ＰＳジャパン（株）製「４７５Ｄ」、「Ｈ０１０３」、「ＨＴ４７８」、ＤＩＣ（株）製「ディックスチレン　ＧＨ－８３００－５」（以上、ＨＩＰＳ）などが挙げられる。水添ポリスチレン系樹脂としては、例えば、旭化成ケミカルズ（株）製「タフテックＨシリーズ」、シェルジャパン（株）製「クレイトンＧシリーズ」（以上、ＳＥＢＳ）、ＪＳＲ（株）製「ダイナロン」（水添スチレン－ブタジエンランダム共重合体）、（株）クラレ製「セプトン」（ＳＥＰＳ）などが挙げられる。また、変性ポリスチレン系樹脂としては、例えば、旭化成ケミカルズ（株）製「タフテックＭシリーズ」、（株）ダイセル製「エポフレンド」、ＪＳＲ（株）製「極性基変性ダイナロン」、東亞合成（株）製「レゼダ」などが挙げられる。
　本発明の波長選択吸収フィルタは、上記ポリスチレン樹脂に加えてポリフェニレンエーテル樹脂を含有することも好ましい。ポリスチレン樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂とを併せて含有することにより波長選択吸収フィルタの靭性を向上させ、高温高湿等の過酷な環境下においてもクラック等の欠陥の発生を抑制することができる。
　上記ポリフェニレンエーテル樹脂としては、旭化成（株）製のザイロンＳ２０１Ａ、同２０２Ａ、同Ｓ２０３Ａ（いずれも商品名）等を好ましく用いることができる。また、あらかじめポリスチレン樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂を混合した樹脂を用いてもよい。ポリスチレン樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂との混合樹脂としては、例えば、旭化成（株）製のザイロン１００２Ｈ、同１０００Ｈ、同６００Ｈ、同５００Ｈ、同４００Ｈ、同３００Ｈ、同２００Ｈ（いずれも商品名）等を好ましく用いることができる。
　本発明の波長選択吸収フィルタにおいて、ポリスチレン樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂とを併用する場合、両者の質量比は、ポリスチレン樹脂／ポリフェニレンエーテル樹脂で、９９／１～５０／５０が好ましく、９８／２～６０／４０がより好ましく、９５／５～７０／３０がさらに好ましい。ポリフェニレンエーテル樹脂の配合比率を上記好ましい範囲とすることにより、波長選択吸収フィルタは十分な靱性を有し、また溶液成膜をした場合には溶剤を適度に揮散させることができる。
（環状ポリオレフィン樹脂）
　環状ポリオレフィン樹脂に含まれる環状ポリオレフィンを形成する環状オレフィン化合物としては、炭素－炭素二重結合を含む環構造を持つ化合物であれば特に制限されず、例えば、ノルボルネン化合物、ノルボルネン化合物以外の、単環の環状オレフィン化合物、環状共役ジエン化合物及びビニル脂環式炭化水素化合物等が挙げられる。
　環状ポリオレフィンとしては、例えば、（１）ノルボルネン化合物に由来する構造単位を含む重合体、（２）ノルボルネン化合物以外の、単環の環状オレフィン化合物に由来する構造単位を含む重合体、（３）環状共役ジエン化合物に由来する構造単位を含む重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素化合物に由来する構造単位を含む重合体、及び、（１）～（４）の各化合物に由来する構造単位を含む重合体の水素化物等が挙げられる。
　本発明において、ノルボルネン化合物に由来する構造単位を含む重合体、及び、単環の環状オレフィン化合物に由来する構造単位を含む重合体には、各化合物の開環重合体を含む。
　環状ポリオレフィンとしては、特に制限されないが、下記一般式（Ａ－ＩＩ）又は（Ａ－ＩＩＩ）で表される、ノルボルネン化合物に由来する構造単位を有する重合体が好ましい。下記一般式（Ａ－ＩＩ）で表される構造単位を有する重合体はノルボルネン化合物の付加重合体であり、下記一般式（Ａ－ＩＩＩ）で表される構造単位を有する重合体はノルボルネン化合物の開環重合体である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　一般式（Ａ－ＩＩ）及び（Ａ－ＩＩＩ）中、ｍは０～４の整数であり、０又は１が好ましい。
　一般式（Ａ－ＩＩ）及び（Ａ－ＩＩＩ）中、Ｒ３～Ｒ６は、各々独立に、水素原子又は炭素数１～１０の炭化水素基を示す。
　一般式（Ａ－Ｉ）～（Ａ－ＩＩＩ）における炭化水素基は、炭素原子と水素原子からなる基であれば特に制限されず、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基及びアリール基（芳香族炭化水素基）等が挙げられる。中でも、アルキル基又はアリール基が好ましい。
　一般式（Ａ－ＩＩ）及び（Ａ－ＩＩＩ）中、Ｘ２及びＸ３、Ｙ２及びＹ３は、各々独立に、水素原子、炭素数１～１０の炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数１～１０の炭化水素基、－（ＣＨ２）ｎＣＯＯＲ１１、－（ＣＨ２）ｎＯＣＯＲ１２、－（ＣＨ２）ｎＮＣＯ、－（ＣＨ２）ｎＮＯ２、－（ＣＨ２）ｎＣＮ、－（ＣＨ２）ｎＣＯＮＲ１３Ｒ１４、－（ＣＨ２）ｎＮＲ１３Ｒ１４、－（ＣＨ２）ｎＯＺ若しくは－（ＣＨ２）ｎＷ、又は、Ｘ２とＹ２若しくはＸ３とＹ３が互いに結合して形成する、（－ＣＯ）２Ｏ若しくは（－ＣＯ）２ＮＲ１５を示す。
　ここで、Ｒ１１～Ｒ１５は、各々独立に、水素原子又は炭素数１～２０の炭化水素基を示し、Ｚは炭化水素基又はハロゲンで置換された炭化水素基を示し、ＷはＳｉ（Ｒ１６）ｐＤ（３－ｐ）（Ｒ１６は炭素数１～１０の炭化水素基を示し、Ｄはハロゲン原子、－ＯＣＯＲ１７又は－ＯＲ１７（Ｒ１７は炭素数１～１０の炭化水素基）を示す。ｐは０～３の整数である）を示す。ｎは、０～１０の整数であり、０～８が好ましく、０～６がより好ましい。
　一般式（Ａ－ＩＩ）及び（Ａ－ＩＩＩ）において、Ｒ３～Ｒ６は、それぞれ、水素原子又は－ＣＨ３が好ましく、透湿度の点で、水素原子であることがより好ましい。
　Ｘ２及びＸ３は、それぞれ、水素原子、－ＣＨ３又は－Ｃ２Ｈ５が好ましく、透湿度の点で、水素原子がより好ましい。
　Ｙ２及びＹ３は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子（特に塩素原子）又は－（ＣＨ２）ｎＣＯＯＲ１１（特に－ＣＯＯＣＨ３）が好ましく、透湿度の点で、水素原子がより好ましい。
　その他の基は、適宜に選択される。
　一般式（Ａ－ＩＩ）又は（Ａ－ＩＩＩ）で表される構造単位を有する重合体は、さらに下記一般式（Ａ－Ｉ）で表される構造単位を少なくとも１種以上含んでもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
　一般式（Ａ－Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、水素原子又は炭素数１～１０の炭化水素基を示し、Ｘ１及びＹ１は、各々独立に、水素原子、炭素数１～１０の炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数１～１０の炭化水素基、－（ＣＨ２）ｎＣＯＯＲ１１、－（ＣＨ２）ｎＯＣＯＲ１２、－（ＣＨ２）ｎＮＣＯ、－（ＣＨ２）ｎＮＯ２、－（ＣＨ２）ｎＣＮ、－（ＣＨ２）ｎＣＯＮＲ１３Ｒ１４、－（ＣＨ２）ｎＮＲ１３Ｒ１４、－（ＣＨ２）ｎＯＺ、－（ＣＨ２）ｎＷ、又は、Ｘ１とＹ１が互いに結合して形成する、（－ＣＯ）２Ｏ若しくは（－ＣＯ）２ＮＲ１５を示す。
　ここで、Ｒ１１～Ｒ１５は、各々独立に、水素原子又は炭素数１～２０の炭化水素基を示し、Ｚは炭化水素基又はハロゲンで置換された炭化水素基を示し、ＷはＳｉ（Ｒ１６）ｐＤ（３－ｐ）（Ｒ１６は炭素数１～１０の炭化水素基を示し、Ｄはハロゲン原子、－ＯＣＯＲ１７又は－ＯＲ１７（Ｒ１７は炭素数１～１０の炭化水素基）を示す。ｐは０～３の整数である）を示す。ｎは０～１０の整数である。
　密着性の観点から、一般式（Ａ－ＩＩ）又は（Ａ－ＩＩＩ）で表される構造単位を有する環状ポリオレフィンは、上述のノルボルネン化合物に由来する構造単位を、環状ポリオレフィンの全質量に対して９０質量％以下含有することが好ましく、３０～８５質量％含有することがより好ましく、５０～７９質量％含有することがさらに好ましく、６０～７５質量％含有することが最も好ましい。ここで、ノルボルネン化合物に由来する構造単位の割合は環状ポリオレフィン中の平均値を表す。
　ノルボルネン化合物の付加（共）重合体は、特開平１０－７７３２号公報、特表２００２－５０４１８４号公報、米国公開特許公開第２００４／２２９１５７Ａ１、及び、国際公開第２００４／０７０４６３号等に記載されている。
　ノルボルネン化合物の重合体としては、ノルボルネン化合物（例えば、ノルボルネンの多環状不飽和化合物）同士を付加重合することによって得られる。
　また、ノルボルネン化合物の重合体として、必要に応じ、ノルボルネン化合物と、エチレン、プロピレン及びブテン等のオレフィン、ブタジエン及びイソプレン等の共役ジエン、エチリデンノルボルネン等の非共役ジエン、並びに、アクリロニトリル、アクリル酸、メタアクリル酸、無水マレイン酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、マレイミド、酢酸ビニル及び塩化ビニル等のエチレン性不飽和化合物とを付加共重合して得られる共重合体が挙げられる。中でも、ノルボルネン化合物とエチレンとの共重合体が好ましい。
　このようなノルボルネン化合物の付加（共）重合体としては、三井化学社よりアペルの商品名で発売されており、ガラス転移温度（Ｔｇ）が互いに異なる、ＡＰＬ８００８Ｔ（Ｔｇ７０℃）、ＡＰＬ６０１１Ｔ（Ｔｇ１０５℃）、ＡＰＬ６０１３Ｔ（Ｔｇ１２５℃）、及び、ＡＰＬ６０１５Ｔ（Ｔｇ１４５℃）等が挙げられる。また、ポリプラスチック社より、ＴＯＰＡＳ８００７、同６０１３、同６０１５等のペレットが市販されている。さらに、Ｆｅｒｒａｎｉａ社よりＡｐｐｅａｒ３０００が市販されている。
　上述の、ノルボルネン化合物の重合体は、市販品を使用することができる。例えば、ＪＳＲ社からアートン（Ａｒｔｏｎ）Ｇ又はアートンＦという商品名で市販されており、また日本ゼオン社からゼオノア（Ｚｅｏｎｏｒ）ＺＦ１４、ＺＦ１６、ゼオネックス（Ｚｅｏｎｅｘ）２５０又はゼオネックス２８０という商品名で市販されている。
　ノルボルネン化合物の重合体の水素化物は、ノルボルネン化合物等を付加重合又はメタセシス開環重合した後、水素添加することにより、合成できる。合成方法は、例えば、特開平１－２４０５１７号、特開平７－１９６７３６号、特開昭６０－２６０２４号、特開昭６２－１９８０１号、特開２００３－１５９７６７号及び特開２００４－３０９９７９号等の各公報に記載されている。
　上記環状ポリオレフィンの分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液（重合体ポリマーが溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフ法で測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の質量平均分子量である。通常、５０００～５０００００、好ましくは８０００～２０００００、より好ましくは１００００～１０００００の範囲であることが好ましい。上記範囲の分子量を有するポリマーは、成形体の機械的強度、及び成形加工性を高い水準でバランスよく両立できる。
　本発明の波長選択吸収フィルタは、上記マトリックス樹脂を５質量％以上含むことが好ましく、２０質量％以上含むことがより好ましく、５０質量％以上含むことがさらに好ましく、６０質量％以上含むことが特に好ましい。
　本発明の波長選択吸収フィルタ中の上記マトリックス樹脂の含有量は、通常は９９．９０質量％以下であり、９９．８５質量％以下が好ましい。
　本発明の波長選択吸収フィルタが含有する環状ポリオレフィンは２種以上であってもよく、組成比及び分子量の少なくとも一方が異なるポリマー同士を併用してもよい。この場合、各ポリマーの合計含有量が上記範囲内となる。
（伸長性樹脂成分）
　本発明の波長選択吸収フィルタは、樹脂成分として伸長性を示す成分（伸長性樹脂成分とも称す。）を適宜選んで含むことができる。具体的には、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン樹脂（ＡＢＳ樹脂）、スチレン－ブタジエン樹脂（ＳＢ樹脂）、イソプレン樹脂、ブタジエン樹脂、ポリエーテル－ウレタン樹脂及びシリコーン樹脂等を挙げることができる。また、これらの樹脂をさらに、適宜水素添加してもよい。
　上記伸長性樹脂成分としては、ＡＢＳ樹脂又はＳＢ樹脂を用いることが好ましく、ＳＢ樹脂を用いることがより好ましい。
　上記ＳＢ樹脂は、例えば、市販されているものが使用できる。このような市販品として、ＴＲ２０００、ＴＲ２００３、ＴＲ２２５０（以上、商品名、ＪＳＲ（株）製）、クリアレン２１０Ｍ、２２０Ｍ、７３０Ｖ（以上、商品名、デンカ（株）製）、アサフレックス８００Ｓ、８０５、８１０、８２５、８３０、８４０（以上、商品名、旭化成（株）製）、エポレックスＳＢ２４００、ＳＢ２６１０、ＳＢ２７１０（以上、商品名、住友化学（株））等を挙げることができる。
　上記伸長性樹脂成分としては、伸長性樹脂成分を単独で用いて、厚さ３０μｍ、幅１０ｍｍの形態の試料を作製し、２５℃での破断伸度をＪＩＳ　７１２７に基づき計測した際に、破断伸度が１０％以上を示すものが好ましく、２０％以上を示すものがより好ましい。
（剥離性制御樹脂成分）
　本発明の波長選択吸収フィルタは、後述する本発明の波長選択吸収フィルタの製造方法のうち、剥離フィルムから波長選択吸収フィルタの剥離を行う工程を含む方法により作製する場合には、樹脂成分として剥離性を制御する成分（剥離性制御樹脂成分）を含むことができ、好ましい。剥離フィルムからの波長選択吸収フィルタの剥離性を制御することで、剥離後の波長選択吸収フィルタに剥ぎとった跡が付くことを防ぐことができ、また、剥離工程における種々の加工速度への対応が可能となる。これらの結果、波長選択吸収フィルタの品質及び生産性向上に好ましい効果を得ることができる。
　上記剥離性制御樹脂成分に特に制限はなく、剥離フィルムの種類に応じて適宜に選ぶことができる。後述するように、剥離フィルムとしてポリエステル系ポリマーフィルムを用いる場合、剥離性制御樹脂成分として、例えばポリエステル樹脂（ポリエステル系添加剤とも称す。）が好適であり、剥離フィルムとしてセルロース系ポリマーフィルムを用いる場合、剥離性制御樹脂成分として、例えばポリスチレン系エラストマーが好適である。
　また、剥離フィルムとしてポリエステル系ポリマーフィルムを用いる場合、剥離性制御樹脂成分として、例えばスチレン系エラストマーも好適に用いられる。
　上記ポリエステル系添加剤は、多価塩基酸と多価アルコールとの脱水縮合反応、及び、多価アルコールへの無水二塩基酸の付加及び脱水縮合反応などの常法で得ることができ、二塩基酸とジオールとから形成される重縮合エステルが好ましい。
　上記ポリエステル系添加剤の質量平均分子量（Ｍｗ）は５００～５０，０００であることが好ましく、７５０～４０，０００であることがより好ましく、２，０００～３０，０００であることがさらに好ましい。
　上記ポリエステル系添加剤の質量平均分子量が上記好ましい下限値以上であると、脆性、湿熱耐久性の観点で好ましく、上記好ましい上限値以下であると、樹脂との相溶性の観点で好ましい。
　上記ポリエステル系添加剤の質量平均分子量は、以下の条件で測定した標準ポリスチレン換算の質量平均分子量（Ｍｗ）の値である。分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）についても、同じ条件により測定することができる。なお、Ｍｎは標準ポリスチレン換算の数平均分子量である。
　ＧＰＣ：ゲル浸透クロマトグラフ装置（東ソー（株）製ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ、
　カラム；東ソー（株）製ガードカラムＨＸＬ－Ｈ、ＴＳＫ　ｇｅｌ　Ｇ７０００ＨＸＬ、ＴＳＫ　ｇｅｌ　ＧＭＨＸＬ２本、ＴＳＫ　ｇｅｌ　Ｇ２０００ＨＸＬを順次連結、
　溶離液；テトラヒドロフラン、
　流速；１ｍＬ／ｍｉｎ、
　サンプル濃度；０．７～０．８質量％、
　サンプル注入量；７０μＬ、
　測定温度；４０℃、
　検出器；示差屈折（ＲＩ）計（４０℃）、
　標準物質；東ソー（株）製ＴＳＫスタンダードポリスチレン）
　ポリエステル系添加剤を構成する二塩基酸成分としては、ジカルボン酸を好ましく挙げることができる。
　このジカルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸等が挙げられ、芳香族ジカルボン酸、又は、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸の混合物を好ましく用いることができる。
　芳香族ジカルボン酸の中でも、炭素数８～２０の芳香族ジカルボン酸が好ましく、炭素数８～１４の芳香族ジカルボン酸がより好ましい。具体的には、フタル酸、イソフタル酸及びテレフタル酸の少なくとも１種が好ましく挙げられる。
　脂肪族ジカルボン酸の中でも、炭素数３～８の脂肪族ジカルボン酸が好ましく、炭素数４～６の脂肪族ジカルボン酸がより好ましい。具体的には、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸及びグルタル酸の少なくとも１種が好ましく挙げられ、コハク酸及びアジピン酸の少なくとも１種がより好ましい。
　また、ポリエステル系添加剤を構成するジオール成分としては、脂肪族ジオール及び芳香族ジオール等が挙げられ、脂肪族ジオールが好ましい。
　脂肪族ジオールの中でも、炭素数２～４の脂肪族ジオールが好ましく、炭素数２～３の脂肪族ジオールがより好ましい。
　脂肪族ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２－プロピレングリコール、１，３－プロピレングリコール、１，３－ブチレングリコール及び１，４－ブチレングリコールなどが挙げることができ、これらを単独又は二種類以上を併用して用いることができる。
　ポリエステル系添加剤は、特に、フタル酸、イソフタル酸及びテレフタル酸の少なくとも１種と脂肪族ジオールとを縮合して得られる化合物であることが好ましい。
　ポリエステル系添加剤の末端はモノカルボン酸と反応させて封止してもよい。封止に用いるモノカルボン酸としては脂肪族モノカルボン酸が好ましく、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、安息香酸及びその誘導体が好ましく挙げられ、酢酸又はプロピオン酸がより好ましく、酢酸がさらに好ましい。
　市販のポリエステル系添加剤としては、日本合成化学工業株式会社製エステル系樹脂ポリエスター（例えば、ＬＰ０５０、ＴＰ２９０、ＬＰ０３５、ＬＰ０３３、ＴＰ２１７、ＴＰ２２０）、東洋紡株式会社製エステル系樹脂バイロン（例えば、バイロン２４５、バイロンＧＫ８９０、バイロン１０３、バイロン２００、バイロン５５０．ＧＫ８８０）等が挙げられる。
　上記ポリスチレン系エラストマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）、スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合体（ＳＩＳ）、ポリスチレン－ポリ（エチレン－プロピレン）ジブロック共重合体（ＳＥＰ）、ポリスチレン－ポリ（エチレン－プロピレン）－ポリスチレントリブロック共重合体（ＳＥＰＳ）（ＳＩＳの水素添加タイプ）、ポリスチレン－ポリ（エチレン－ブチレン）－ポリスチレントリブロック共重合体（ＳＥＢＳ）（ＳＢＳの水素添加タイプ）、ポリスチレン－ポリ（エチレン－エチレン－プロピレン）－ポリスチレントリブロック共重合体（ＳＥＥＰＳ）などが挙げられ、ポリスチレン－ポリ（エチレン－プロピレン）ジブロック共重合体、ポリスチレン－ポリ（エチレン－プロピレン）－ポリスチレントリブロック共重合体、ポリスチレン－ポリ（エチレン－ブチレン）－ポリスチレントリブロック共重合体又はポリスチレン－ポリ（エチレン－エチレン－プロピレン）－ポリスチレントリブロック共重合体が好ましい。
　ポリスチレン系エラストマーにおける、スチレン由来の繰り返し単位の含有量は９０質量％以下が好ましく、５５質量％以下がより好ましく、４８質量％以下がさらに好ましく、３５質量％以下が一層好ましく、３３質量％以下がより一層好ましい。上記スチレン由来の繰り返し単位の割合の下限値は、０質量％越えであればよく、１０質量％以上とすることもできる。
　ポリスチレン系エラストマーは、スチレンと他のモノマーとのブロック共重合体であることが好ましく、片末端または両末端がスチレンブロックであるブロック共重合体であることがより好ましく、両末端がスチレンブロックであることがさらに好ましい。ポリスチレン系エラストマーの両端をスチレンブロック（スチレン由来の繰り返し単位）とすることにより、耐熱性がより向上する傾向にある。これは、耐熱性の高いスチレン由来の繰り返し単位が末端に存在することに起因する。特に、スチレン由来の繰り返し単位のブロック部位が反応性のポリスチレン系ハードブロックであることにより、耐熱性により優れる傾向にあり、溶剤への溶解性の観点からもより好ましい。
　また、ポリスチレン系エラストマーは水素添加物であると、熱に対する安定性が向上し、分解又は重合等の変質が起こりにくい。さらに、溶剤への溶解性の観点からもより好ましい。
　ポリスチレン系エラストマーの不飽和二重結合量としては、剥離性の観点から、ポリスチレン系エラストマー１ｇあたり、１５ｍｍｏｌ未満であることが好ましく、５ｍｍｏｌ未満であることがより好ましく、０．５ｍｍｏｌ未満であることがさらに好ましい。なお、ここでいう不飽和二重結合量は、スチレン由来のベンゼン環内の不飽和二重結合の量を含まない。不飽和二重結合量は、ＮＭＲ（核磁気共鳴）測定により算出することができる。
　なお、本発明において「スチレン由来の繰り返し単位」とは、スチレンまたはスチレン誘導体を重合した際に重合体に含まれるスチレン由来の構造単位であり、置換基を有していてもよい。スチレン誘導体としては、例えば、α－メチルスチレン、３－メチルスチレン、４－プロピルスチレン、４－シクロヘキシルスチレン等が挙げられる。置換基としては、例えば、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数２～５のアルコキシアルキル基、アセトキシ基、カルボキシル基等が挙げられる。
　ポリスチレン系エラストマーの市販品としては、例えば、特開２０１８－３５２７９号公報の段落００２７に記載のポリスチレン系エラストマーを用いることができる。
　本発明の波長選択吸収フィルタ中の剥離性制御樹脂成分の含有量は、マトリックス樹脂中、０．０５質量％以上であることが好ましく、０．１質量％以上であることがより好ましい。また、上限値は、２５質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以下であることがさらに好ましい。適度な密着性を得る観点から上記好ましい範囲であることが好ましい。
＜会合抑制剤＞
　本発明の波長選択フィルタは、極性基を有する化合物（本発明において「会合抑制剤」とも称す。）を含有する。
　本発明においては、上記会合抑制剤は、カルボン酸エステル結合、カルボン酸アミド結合、スルホン酸アミド結合、ウレタン結合及びスルホニル結合（＞Ｓ（＝Ｏ）２）の少なくともいずれか１つの極性基を有する。これらの極性基は２価の置換基（結合）として化合物中に含まれる。
　上記会合抑制剤は上述の染料と相互作用することにより、本発明の波長選択吸収フィルタ中における染料分子同士の会合を抑制又は防止し、波長選択吸収フィルタ中に含まれる染料Ａ又はＤの吸収波形を先鋭にし、耐光性を向上させる機能を発現する化合物である。
　上記会合抑制剤は、上述の染料とは異なり、本発明の波長選択吸収フィルタに含有された状態で、実質的に色を呈しない化合物である。
　また、上記会合抑制剤は、本発明の波長選択吸収フィルタ中において、樹脂中に分散又は溶解する染料Ａ又はＤについて、染料の分子同士の会合を抑制する機能を発現する化合物であり、上述の樹脂とは異なる。すなわち、上記会合抑制剤の分子量は、１０００以下であり、１００～１０００が好ましく、２００～１０００がより好ましく、２００～９００がさらに好ましい。
　また、上記会合抑制剤は、後述する褪色防止剤としての機能を示す化合物ではない。
　また、上記会合抑制剤は、フィルタ内における均一分散の観点から、フッ素化アルキル基を有しないことが好ましい。
　上記会合抑制剤は、カルボン酸エステル結合、カルボン酸アミド結合、スルホン酸アミド結合、ウレタン結合及びスルホニル結合のうち、少なくともいずれか１つを有していればよく、２つ以上有していてもよい。極性基の数の合計の上限値に特に制限はないが、例えば、１０個以下が好ましく、６個以下がより好ましい。
　上記会合抑制剤中に含有される極性基の種類は、特に制限はなく、１種であっても２種以上であってもよいが、１種又は２種であることが好ましく、１種であることがより好ましい。なお、極性基の種類は、カルボン酸エステル結合に分類される極性基を１種類、カルボン酸アミド結合に分類される極性基を１種類、スルホン酸アミド結合に分類される極性基を１種類、ウレタン結合に分類される極性基を１種類、スルホニル結合に分類される極性基を１種類としてそれぞれ数える。
　上記会合抑制剤は、カルボン酸エステル結合又はカルボン酸アミド結合を有することが好ましい。
　上記会合抑制剤としては、下記一般式（２）～（１４）及び（１８）のうちのいずれかで表される化合物が好ましい。なお、カルボン酸エステル結合、カルボン酸アミド結合、スルホン酸アミド結合、ウレタン結合及びスルホニル結合のうち、２種以上の極性基を有する場合には、化合物が有する最も優先順位の高い極性基に基づき、各式に分類するものとする。ここでの極性基の優先順位は、優先順位の高い方から順に、カルボン酸アミド結合＞カルボン酸エステル結合＞スルホン酸アミド結合＞スルホニル結合＞ウレタン結合である。例えば、カルボン酸アミド結合とスルホン酸アミド結合とを有する場合には、最も優先順位の高い極性基であるカルボン酸アミド結合に基づき分類する。
　下記一般式（２）又は（３）で表される化合物は、カルボン酸エステル結合又はカルボン酸アミド結合の少なくとも一つが環構造に直接結合した構造を有する化合物である。ただし、一般式（１８）で表される化合物にも該当する場合には、一般式（１８）で表される化合物に分類する。
　後記一般式（４）～（１２）のいずれかで表される化合物は、カルボン酸エステル結合、カルボン酸アミド結合又はウレタン結合の少なくともいずれか１つを有する化合物である。ただし、一般式（２）又は（３）で表される化合物にも該当する場合には、一般式（２）又は（３）で表される化合物に分類する。
　後記一般式（１３）で表される化合物は、スルホン酸アミド結合を有する化合物である。
　後記一般式（１４）で表される化合物は、スルホニル結合を有する化合物である。
　後記一般式（１８）で表される化合物は、カルボン酸アミド結合を有する化合物である。
　以降、各一般式について順に説明する。
（一般式（２）又は（３）で表される化合物、一般式（４）～（１２）のいずれかで表される化合物）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
　上記一般式（２）および（３）において、Ｚは炭素原子、酸素原子、硫黄原子または＞ＮＲ２５を表し、Ｒ２５は水素原子またはアルキル基を表す。Ｙ２１及びＹ２２は、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アミド基またはカルバモイル基を表す。ｍは１～５の整数であり、ｎは１～６の整数である。
　Ｚは炭素原子、酸素原子、硫黄原子または＞ＮＲ２５を表す。
　Ｚを環構成原子とする５または６員環は置換基を有していてもよい。Ｚを環構成原子とする５または６員環が有していてもよい置換基としては、特に制限されないが、例えば、オキソ基（＝Ｏ）、チオキソ基（＝Ｓ）が挙げられる。
　Ｚを環構成原子とする５または６員環が複数の置換基を有する場合、隣接する置換基が互いに結合して環を形成していてもよい。この隣接する置換基が互いに結合して形成される環は、芳香族環であっても非芳香族環であってもよい。
　Ｚを環構成原子とする５または６員環の例としては、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオフェン、チアン、ピロリジン、ピペリジンなどを挙げることができる。また、Ｚを環構成原子とする５または６員環が縮環している場合、この縮環構造の例としては、インドリン、イソインドリン、クロマン、イソクロマンなどを挙げることができる。
　また、Ｚを環構成原子とする５または６員環は、ラクトン構造またはラクタム構造、すなわち、Ｚに結合する環構成炭素原子がオキソ基（＝Ｏ）で置換されている、環状エステルまたは環状アミド構造であってもよい。このような環状エステルまたは環状アミド構造の例としては、テトラヒドロ－２－フラノン（５－ペンタノリドとも称す。）、テトラヒドロ－２－ピロン（６－ヘキサノリドとも称す。）等のラクトン、４－ブタンラクタム（２－ピロリドンとも称す。）、５－ペンタンラクタム（２－ピペリドンとも称す。）等のラクタムを挙げることができる。
　Ｒ２５は水素原子またはアルキル基を示す。
　Ｒ２５として採り得るアルキル基は、鎖状、分岐状および環状のいずれであってもよく、炭素数は、１～２０が好ましく、１～１６がより好ましく、１～１２がさらに好ましい。
　Ｒ２５として採り得るアルキル基としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、ｔ－アミル、ｎ－ヘキシル、ｎ－オクチル、デシル、ドデシル、エイコシル、２－エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、２，６－ジメチルシクロヘキシル、４－ｔ－ブチルシクロヘキシル、シクロペンチル、１－アダマンチル、２－アダマンチル、ビシクロ［２．２．２］オクタン－３－イルなどを挙げることができる。
　Ｙ２１及びＹ２２は、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アミド基またはカルバモイル基を表す。
　Ｙ２１又はＹ２２として採り得るアシルオキシ基としては、炭素数は、１～２０が好ましく、１～１６がより好ましく、１～１２がさらに好ましい。例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、ｎ－ブチルカルボニルオキシ、ｉｓｏ－ブチルカルボニルオキシ、ｔ－ブチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ－ブチルカルボニルオキシ、ｎ－ペンチルカルボニルオキシ、ｔ－アミルカルボニルオキシ、ｎ－ヘキシルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルオキシ、１－エチルペンチルカルボニルオキシ、ｎ－ヘプチルカルボニルオキシ、ｎ－ノニルカルボニルオキシ、ｎ－ウンデシルカルボニルオキシ、ベンジルカルボニルオキシ、１－ナフタレンカルボニルオキシ、２－ナフタレンカルボニルオキシ、１－アダマンタンカルボニルオキシなどを挙げることができる。
　Ｙ２１又はＹ２２として採り得るアルコキシカルボニル基としては、炭素数は、１～２０が好ましく、１～１６がより好ましく、１～１２がさらに好ましい。例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ－プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｎ－ブトキシカルボニル、ｔ－ブトキシカルボニル、ｉｓｏ－ブチルオキシカルボニル、ｓｅｃ－ブチルオキシカルボニル、ｎ－ペンチルオキシカルボニル、ｔ－アミルオキシカルボニル、ｎ－ヘキシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２－エチルヘキシルオキシカルボニル、１－エチルプロピルオキシカルボニル、ｎ－オクチルオキシカルボニル、３，７－ジメチル－３－オクチルオキシカルボニル、３，５，５－トリメチルヘキシルオキシカルボニル、４－ｔ－ブチルシクロヘキシルオキシカルボニル、２，４－ジメチルペンチル－３－オキシカルボニル、１－アダマンタンオキシカルボニル、２－アダマンタンオキシカルボニル、ジシクロペンタジエニルオキシカルボニル、ｎ－デシルオキシカルボニル、ｎ－ドデシルオキシカルボニル、ｎ－テトラデシルオキシカルボニル、ｎ－ヘキサデシルオキシカルボニルなどを挙げることができる。
　Ｙ２１又はＹ２２として採り得るアミド基（アシルアミノ基）としては、炭素数は、１～２０が好ましく、１～１６がより好ましく、１～１２がさらに好ましい。例えば、アセタミド、エチルカルボキサミド、ｎ－プロピルカルボキサミド、イソプロピルカルボキサミド、ｎ－ブチルカルボキサミド、ｔ－ブチルカルボキサミド、ｉｓｏ－ブチルカルボキサミド、ｓｅｃ－ブチルカルボキサミド、ｎ－ペンチルカルボキサミド、ｔ－アミルカルボキサミド、ｎ－ヘキシルカルボキサミド、シクロヘキシルカルボキサミド、１－エチルペンチルカルボキサミド、１－エチルプロピルカルボキサミド、ｎ－ヘプチルカルボキサミド、ｎ－オクチルカルボキサミド、１－アダマンタンカルボキサミド、２－アダマンタンカルボキサミド、ｎ－ノニルカルボキサミド、ｎ－ドデシルカルボキサミド、ｎ－ペンタカルボキサミド、ｎ－ヘキサデシルカルボキサミドなどを挙げることができる。
　Ｙ２１又はＹ２２として採り得るカルバモイル基としては、炭素数は、１～２０が好ましく、１～１６がより好ましく、１～１２がさらに好ましい。例えば、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ｎ－プロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ｎ－ブチルカルバモイル、ｔ－ブチルカルバモイル、ｉｓｏ－ブチルカルバモイル、ｓｅｃ－ブチルカルバモイル、ｎ－ペンチルカルバモイル、ｔ－アミルカルバモイル、ｎ－ヘキシルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、２－エチルヘキシルカルバモイル、２－エチルブチルカルバモイル、ｔ－オクチルカルバモイル、ｎ－ヘプチルカルバモイル、ｎ－オクチルカルバモイル、１－アダマンタンカルバモイル、２－アダマンタンカルバモイル、ｎ－デシルカルバモイル、ｎ－ドデシルカルバモイル、ｎ－テトラデシルカルバモイル、ｎ－ヘキサデシルカルバモイルなどを挙げることができる。
　２以上のＹ２１又は２以上のＹ２２を有する場合、隣接するＹ２１は互いに連結して環を形成してもよく、隣接するＹ２２は互いに連結して環を形成してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
　上記一般式（４）～（１２）において、Ｙ３１～Ｙ７０は、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アミド基、カルバモイル基又はカルバモイルオキシ基を表し、Ｖ３１～Ｖ４３は水素原子または脂肪族基を表す。Ｌ３１～Ｌ６４及びＬ６６～Ｌ８０は、原子数０～４０かつ、炭素数０～２０の２価の飽和の連結基を表す。ここで、Ｌ３１～Ｌ６４及びＬ６６～Ｌ８０の原子数が０であるということは、Ｌ３１～Ｌ６４及びＬ６６～Ｌ８０で表される連結基の両端に位置する基が単結合によって直接結合していることを意味する。
　Ｙ３１～Ｙ７０は、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アミド基、カルバモイル基又はカルバモイルオキシ基を表す。
　Ｙ３１～Ｙ７０として採り得るアシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アミド基及びカルバモイル基としては、上記一般式（２）又は（３）におけるＹ２１又はＹ２２として採り得るアシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アミド基及びカルバモイル基の記載をそれぞれ適用することができる。
　Ｙ３１～Ｙ７０として採り得るカルバモイルオキシ基におけるカルバモイル基部分としては、上記一般式（２）又は（３）におけるＹ２１又はＹ２２として採り得るカルバモイル基の記載を適用することができる。
　Ｖ３１～Ｖ４３は水素原子または脂肪族基を示す。
　Ｖ３１～Ｖ４３として採り得る脂肪族基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１６がより好ましく、１～１２がさらに好ましい。
　ここで、脂肪族基とは、好ましくは脂肪族炭化水素基であり、鎖状、分岐状および環状のいずれであってもよい。より好ましくは、アルキル基、アルケニル基またはアルキニル基である。
　アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、ｔ－アミル、ｎ－ヘキシル、ｎ－オクチル、デシル、ドデシル、エイコシル、２－エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、２，６－ジメチルシクロヘキシル、４－ｔ－ブチルシクロヘキシル、シクロペンチル、１－アダマンチル、２－アダマンチル、ビシクロ［２．２．２］オクタン－３－イルなどが挙げられ、アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、２－シクロペンテン－１－イル、２－シクロヘキセン－１－イルなどが挙げられ、アルキニル基としては、例えば、エチニル、プロパルギルなどを挙げることができる。
　Ｌ３１～Ｌ６４及びＬ６６～Ｌ８０は、原子数０～４０かつ、炭素数０～２０の２価の飽和の連結基を表す。ここで、Ｌ３１～Ｌ６４及びＬ６６～Ｌ８０の原子数が０であるということは、Ｌ３１～Ｌ８０で表される連結基の両端に位置する基が単結合によって直接結合していることを意味する。
　Ｌ３１～Ｌ６４及びＬ６６～Ｌ８０として採り得る上記２価の飽和の連結基の好ましい例としては、アルキレン基（例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、メチルエチレン、エチルエチレンなど。ただしシクロアルキレン基を除く。）、環式の２価の基（例えば、ｃｉｓ－１，４－シクロヘキシレン、ｔｒａｎｓ－１，４－シクロヘキシレン、１，３－シクロペンチリデンなど）、エーテル結合（－Ｏ－）、チオエーテル結合（－Ｓ－）、エステル結合（－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－又は－ＣＯ（＝Ｏ）－）、アミド結合（－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－又は－ＮＨＣ（＝Ｏ）－）、スルフィニル結合（－Ｓ（＝Ｏ）－）、スルホニル結合（－Ｓ（＝Ｏ）２－）、スルホンアミド結合（－ＮＨＳ（＝Ｏ）２－又は－Ｓ（＝Ｏ）２ＮＨ－）、ウレイレン結合（－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－）又はチオウレイレン結合（－ＮＨＳ（＝Ｏ）ＮＨ－）などを挙げることができる。これらの２価の基の２つ以上が互いに結合して二価の複合基を形成してもよく、複合置換基の例としては、－（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２－、－（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）－、－（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）２－又は－（ＣＨ２）２Ｏ２Ｃ（ＣＨ２）２－などを挙げることができる。
　一般式（４）～（１２）のいずれかで表される化合物の好ましい例としては、クエン酸エステル（例えば、Ｏ－アセチルクエン酸トリエチル、Ｏ－アセチルクエン酸トリブチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、Ｏ－アセチルクエン酸トリ（エチルオキシカルボニルメチレン）エステルなど）、オレイン酸エステル（例えば、オレイン酸エチル、オレイン酸ブチル、オレイン酸２－エチルヘキシル、オレイン酸フェニル、オレイン酸シクロヘキシル、オレイン酸オクチルなど）、リシノール酸エステル（例えばリシノール酸メチルアセチルなど）、セバシン酸エステル（例えばセバシン酸ジブチルなど）、グリセリンのカルボン酸エステル（例えば、トリアセチン、トリブチリンなど）、グリコール酸エステル（例えば、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、メチルフタリルメチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレートなど）、ペンタエリスリトールのカルボン酸エステル（例えば、ペンタエリスリトールテトラアセテート、ペンタエリスリトールテトラブチレートなど）、ジペンタエリスリトールのカルボン酸エステル（例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアセテート、ジペンタエリスリトールヘキサブチレート、ジペンタエリスリトールテトラアセテートなど）、トリメチロールプロパンのカルボン酸エステル類（トリメチロールプロパントリアセテート、トリメチロールプロパンジアセテートモノプロピオネート、トリメチロールプロパントリプロピオネート、トリメチロールプロパントリブチレート、トリメチロールプロパントリピバロエート、トリメチロールプロパントリ（ｔ－ブチルアセテート）、トリメチロールプロパンジ（２－エチルヘキサネート）、トリメチロールプロパンテトラ（２－エチルヘキサネート）、トリメチロールプロパンジアセテートモノオクタネート、トリメチロールプロパントリオクタネート、トリメチロールプロパントリ（シクロヘキサンカルボキシレート）など）、特開平１１－２４６７０４号公報に記載のグリセロールエステル類、特開２０００－６３５６０号公報に記載のジグリセロールエステル類、特開平１１－９２５７４号公報に記載のクエン酸エステル類、ピロリドンカルボン酸エステル類（２－ピロリドン－５－カルボン酸メチル、２－ピロリドン－５－カルボン酸エチル、２－ピロリドン－５－カルボン酸ブチル、２－ピロリドン－５－カルボン酸２－エチルヘキシル）、シクロヘキサンジカルボン酸エステル（ｃｉｓ－１，２－シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｔｒａｎｓ－１，２－シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｃｉｓ－１，４－シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｔｒａｎｓ－１，４－シクロヘキサンジカルボン酸ジブチルなど）、キシリトールカルボン酸エステル（キシリトールペンタアセテート、キシリトールテトラアセテート、キシリトールペンタプロピオネートなど）などが挙げられる。
　一般式（２）～（１４）のいずれかで表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
　なお、本発明において、具体例として記載される化学構造中において、Ｍｅはメチル基を示し、ｔ－Ｂｕはｔｅｒｔ－ブチル基を示し、Ｐｒｉはｉｓｏプロピル基を示し、ｎ－はノルマルを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
（一般式（１３）又は（１４）で表される化合物）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
　上記式中、Ｒ１はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ２及びＲ３は、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の炭素原子数の合計は１０以上である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
　式中、Ｒ４およびＲ５は、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ４およびＲ５の炭素原子数の合計は１０以上である。
　Ｒ１～Ｒ５として採り得るアルキル基は直鎖状であっても、分岐状であっても、環状であってもよく、炭素数は、１～２５が好ましく、６～２５がより好ましく、６～２０がさらに好ましい。例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ－ブチル、アミル、イソアミル、ｔ－アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、ｔ－オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシルが挙げられる。
　Ｒ１～Ｒ５として採り得るアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２４がより好ましい。例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニルが挙げられる。
　Ｒ１～Ｒ５として採り得るアルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子等）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、スルホニル基、スルホンアミド基、アミノ基、ヒドロキシ基又はシアノ基が好ましく挙げられる。また、これらの置換基を２つ以上組合わせてなる置換基も好ましく挙げられる。
　Ｒ１～Ｒ５として採り得るアルキル基およびアリール基が有していてもよい置換基をとしては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基又はスルホンアミド基がより好ましい。
　Ｒ１～Ｒ３の炭素原子数の合計は１０以上であり、１０～４０が好ましく、１２～３０がより好ましい。
　Ｒ４およびＲ５の炭素原子数の合計は１０以上であり、１０～４０が好ましく、１２～３０がより好ましい。
　一般式（１３）又は（１４）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。ただし、化合物Ａ－４９及び化合物Ｂ－２５は、後述のベンゼン環上にアルコキシカルボニル基を有する化合物の好ましい例である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
（一般式（１８）で表される化合物）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
　上記式中、Ｒ１はアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２およびＲ３は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、アルキル基又はアリール基が好ましい。
　Ｒ１～Ｒ３として採り得るアルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素数は１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１２がさらに好ましい。環状のアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等が挙げられ、シクロヘキシル基が特に好ましい。
　Ｒ１～Ｒ３として採り得るアリール基は、炭素数は６～３６が好ましく、６～２４がより好ましい。なかでも、フェニル基又はナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
　Ｒ１～Ｒ３として採り得るアルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子およびヨウ素原子）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基、カルバモイル基又はアシルアミノ基が好ましく、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホニルアミノ基、カルバモイル基又はアシルアミノ基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、スルホニルアミノ基又はアシルアミノ基である。
　なお、Ｒ１～Ｒ３として採り得るアルキル基およびアリール基が有していてもよい置換基は、さらに置換基で置換されていてもよい。さらに有していてもよい置換基としては、上記のＲ１～Ｒ３として採り得るアルキル基およびアリール基が有していてもよい置換基の記載を好ましく適用することができ、例えばアルキル基が挙げられる。
　一般式（１８）で表される化合物は、耐光性をより向上させる観点から、環状構造を有することが好ましい。
　環状構造としては、飽和もしくは不飽和の脂肪族炭化水素環、及び、芳香族炭化水素環のいずれでもよく、芳香族炭化水素環であることが好ましい。
　化合物中における環状構造の数は特に制限されず、例えば、１～７個が好ましく、１～５個がより好ましく、２又は３個がさらに好ましい。
　また、一般式（１８）で表される化合物は、長鎖アルキル基を有しないことが耐光性をより向上させる観点から好ましい。ここで長鎖アルキル基とは、アルキル基を構成する炭素－炭素結合のうち最長となる結合を構成する炭素原子の数が７以上である基を意味する。
　以下に、一般式（１８）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
　また、上記会合抑制剤としては、ベンゼン環上にアルコキシカルボニル基を有する化合物も好ましく挙げられる。ベンゼン環上のアルコキシカルボニル基の数に特に制限はなく、１～３個が好ましく、２又は３個がより好ましい。また、ベンゼン環はアルコキシカルボニル基以外の置換基を有していてもよく、例えば、スルファモイル基、スルホニル基が挙げられる。上記スルファモイル基としては、炭素数は０～２０が好ましく、０～１２がより好ましく、０～６がさらに好ましく、上記スルホニル基としては、炭素数は０～２０が好ましく、０～１２がより好ましい。これらのスルファモイル基及びスルホニル基は、さらに置換基で置換されていてもよく、例えば、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基等が挙げられる。
　ベンゼン環上にアルコキシカルボニル基を有する化合物としては、なかでも、フタル酸エステル化合物又はトリメリット酸エステル化合物が好ましい。
　フタル酸エステル化合物としては、フタル酸（オルト、メタ、パラのいずれの異性体でもよい。）と炭素数４～１０のアルコールとのエステル化合物が好ましい。具体的には、フタル酸ジシクロヘキシル、フタル酸ジフェニル、フタル酸ジトリル等が挙げられる。なかでもフタル酸ジシクロヘキシル又はフタル酸ジフェニルが好ましい。
　トリメリット酸エステル化合物としては、トリメリット酸と炭素数４～１０のアルコールとのエステル化合物が好ましい。具体的には、トリメリット酸トリブチル、トリメリット酸トリ（２－エチルヘキシル）、トリメリット酸トリノルマルオクチル、トリメリット酸トリノルマルデシル、トリメリット酸トリイソデシルが挙げられる。なかでもトリメリット酸トリブチル、トリメリット酸トリ（２－エチルヘキシル）又はトリメリット酸トリイソデシルが好ましい。
　本発明の波長選択吸収フィルタ中における会合抑制剤の含有量は、０．１～３０質量％が好ましく、１～２０質量％がより好ましく、２～１５質量％がさらに好ましい。
　上記会合抑制剤は、本発明の波長選択吸収フィルタ中において、染料Ａ及び染料Ｃの合計含有量１００質量部に対して、１０～１０００質量部の割合で含まれることが好ましく、３０～７００質量部の割合で含まれることがより好ましく、５０～５００質量部の割合で含まれることがさらに好ましい。
＜その他の成分＞
　本発明の波長選択吸収フィルタは、前述の染料とマトリックス樹脂と会合抑制剤に加え、染料の褪色防止剤、マット剤及びレベリング（界面活性剤）剤等を含んでもよい。
（褪色防止剤）
　本発明の波長選択吸収フィルタは、上記染料Ａ及びＤの少なくとも１種を含む染料の褪色を防止するため、染料の褪色防止剤（単に、褪色防止剤とも称す。）を含有してもよい。
　上記褪色防止剤としては、国際公開第２０１５／００５３９８号の段落［０１４３］～［０１６５］に記載の酸化防止剤、同［０１６６］～［０１９９］に記載のラジカル捕捉剤、及び同［０２０５］～［０２０６］に記載の劣化防止剤等、通常用いられる褪色防止剤を特に限定することなく用いることができる。
　本発明の波長選択吸収フィルタ中の褪色防止剤の含有量は、波長選択吸収フィルタの全質量１００質量％中、好ましくは０．１～１５質量％であり、より好ましくは１～１５質量％である。
　褪色防止剤を上記好ましい範囲内で含有することにより、波長選択吸収フィルタの変色等の副作用を起こすことなく、染料（色素）の耐光性を向上させることができる。
（マット剤）
　本発明の波長選択吸収フィルタの表面には、滑り性付与及びブロッキング防止のために微粒子（マット剤とも称す。）を添加することが好ましい。マット剤としては、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［０２５３］～［０２５５］に記載のマット剤の記載を特に限定することなく用いることができる。なお、国際公開第２０１９／１８９４６３号における「本発明のフィルタ」については、「本発明の波長選択吸収フィルタ」に読み替えるものとする。
　ただし、本発明の波長選択吸収フィルタがガスバリア層を有する場合においては、波長選択吸収フィルタの表面のうちガスバリア層と接する面には、本発明の効果を損なわない範囲で上記マット剤微粒子を付与することが好ましい。
（レベリング剤）
　本発明の波長選択吸収フィルタには、レベリング剤（界面活性剤）を適宜混合することができる。レベリング剤としては、常用の化合物を使用することができ、特に含フッ素界面活性剤が好ましい。具体的には、例えば、特開２００１－３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］～［００５６］記載の化合物が挙げられる。
　本発明の波長選択吸収フィルタ中のレベリング剤の含有量は目的に応じて適宜に調整される。
　本発明の波長選択吸収フィルタは、上記各成分に加え、低分子可塑剤、オリゴマー系可塑剤、レタデーション調整剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、剥離促進剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤、フィラー及び相溶化剤等を含有してもよい。
＜波長選択吸収フィルタの製造方法＞
　本発明の波長選択吸収フィルタは、常法により、溶液製膜法、溶融押出し法、又は、基材フィルム（剥離フィルム）上に任意の方法でコーティング層を形成する方法（コーティング法）で作製することができ、適宜延伸を組み合わせることもできる。
　溶液製膜法及び溶融押出し法については、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［０２５９］～［０２６５］に記載の溶液製膜法及び溶融押出し法を特に限定することなく用いることができる。なお、国際公開第２０１９／１８９４６３号における「本発明のフィルタ」又は「フィルタ」は本発明の波長選択吸収フィルタとして読み替えるものとする。
　本発明の波長選択吸収フィルタは、好ましくはコーティング法により作製される。
（コーティング法）
　コーティング法では、本発明の波長選択吸収フィルタの材料の溶液を、濃縮工程又はろ過工程などを適宜実施した後に、剥離フィルム上に塗布し、乾燥させ、コーティング層を形成する。剥離フィルム表面には、コーティング層との接着性を制御するため、適宜、離型剤等を予め塗布しておいてもよい。コーティング層は、後工程で接着層を介して他の部材と積層させた後、剥離フィルムを剥離して用いることができる。接着層を構成する接着剤については、任意の接着剤を適宜使用することができる。なお、剥離フィルム上に、本発明の波長選択吸収フィルタの材料の溶液を塗布した状態又はコーティング層が積層された状態で、適宜剥離フィルムごと延伸することができる。
　波長選択吸収フィルタ材料の溶液に用いられる溶媒は、波長選択吸収フィルタ材料を溶解又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で適宜選択することができる。
－染料（色素）及び会合抑制剤の添加－
　波長選択吸収フィルタ材料に上記染料及び上記会合抑制剤を添加するタイミングは、製膜される時点で添加されていれば特に限定されない。例えば、上記マトリックス樹脂の合成時点で添加してもよいし、波長選択吸収フィルタ材料のコーティング液調製時に波長選択吸収フィルタ材料と混合してもよい。その他、レベリング剤等の波長選択吸収フィルタ中に含有していてもよいその他の成分についても同様である。
－剥離フィルム－
　波長選択吸収フィルタを、コーティング法等で形成させるために用いられる剥離フィルムは、膜厚が５～１００μｍであることが好ましく、１０～７５μｍがより好ましく、１５～５５μｍがさらに好ましい。膜厚が上記好ましい下限値以上であると、十分な機械強度を確保しやすく、カール、シワ、座屈等の故障が生じにくい。また、膜厚が上記好ましい上限値以下であると、本発明の波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとの複層フィルムを、例えば長尺のロール形態で保管する場合に、複層フィルムにかかる面圧を適正な範囲に調整しやすく、接着の故障が生じにくい。
　剥離フィルムの表面エネルギーは、特に限定されることはないが、波長選択吸収フィルタの材料及びコーティング溶液の表面エネルギーと、剥離フィルムの波長選択吸収フィルタを形成させる側の表面の表面エネルギーとの関係性を調整することによって、波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとの間の接着力を調整することができる。表面エネルギー差を小さくすれば、接着力が上昇する傾向があり、表面エネルギー差を大きくすれば、接着力が低下する傾向があり、適宜設定することができる。
　水及びヨウ化メチレンの接触角値からＯｗｅｎｓの方法を用いて、剥離フィルムの表面エネルギーを計算することが出来る。接触角の測定には、例えば、ＤＭ９０１（協和界面科学（株）製、接触角計）を用いることができる。
　剥離フィルムの波長選択吸収フィルタを形成する側の表面エネルギーは、４１．０～４８．０ｍＮ／ｍであることが好ましく、４２．０～４８．０ｍＮ／ｍであることがより好ましい。表面エネルギーが上記好ましい下限値以上であると、波長選択吸収フィルタの厚みの均一性を高められ、上記好ましい上限値以下であると、波長選択吸収フィルタを剥離フィルムとの剥離力を適切な範囲に制御しやすい。
　また、剥離フィルムの表面凹凸は、特に限定されることはないが、波長選択吸収フィルタ表面の表面エネルギー、硬度、表面凹凸と、剥離フィルムの波長選択吸収フィルタを形成させる側とは反対側の表面の表面エネルギー、硬度との関係性に応じて、例えば本発明の波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとの複層フィルムを長尺のロール形態で保管する場合の接着故障を防ぐ目的で調整することができる。表面凹凸を大きくすれば、接着故障を抑制する傾向にあり、表面凹凸を小さくすれば、波長選択吸収フィルタの表面凹凸が減少し、波長選択吸収フィルタのヘイズが小さくなる傾向にあり、適宜設定することができる。
　このような剥離フィルムとしては、任意の素材及びフィルムを適宜使用することができる。具体的な材料として、ポリエステル系ポリマー（ポリエチレンテレフタレート系フィルムを含む）、オレフィン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、（メタ）アクリル系ポリマー、セルロース系ポリマー、ポリアミド系ポリマー等を挙げることができる。また、剥離フィルムの表面性を調整する目的で、適宜表面処理を行うことが出来る。表面エネルギーを低下させるには、例えば、コロナ処理、常温プラズマ処理、鹸化処理等を行うことができ、表面エネルギーを上昇させるには、シリコーン処理、フッ素処理、オレフィン処理等を行うことができる。
－波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとの剥離力－
　本発明の波長選択吸収フィルタを、コーティング法で形成させる場合、波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとの間の剥離力は、波長選択吸収フィルタの材料、剥離フィルムの材料、波長選択吸収フィルタの内部歪み等を調整して制御することができる。この剥離力は、例えば、剥離フィルムを９０°方向に剥がす試験で測定することができ、３００ｍｍ／分の速度で測定したときの剥離力が、０．００１～５Ｎ／２５ｍｍが好ましく、０．０１～３Ｎ／２５ｍｍがより好ましく、０．０５～１Ｎ／２５ｍｍがさらに好ましい。上記好ましい下限値以上であれば、剥離フィルムの剥離工程以外での剥離を防ぐことができ、上記好ましい上限値以下であれば、剥離工程における剥離不良（例えば、ジッピング及び波長選択吸収フィルタの割れ）を防ぐことができる。
＜波長選択吸収フィルタの膜厚＞
　本発明の波長選択吸収フィルタの膜厚は、特に制限されないが、１～１８μｍが好ましく、１～１２μｍがより好ましく、１～８μｍがさらに好ましい。上記好ましい上限値以下であれば、薄いフィルムに高濃度で染料を添加することにより、染料（色素）が発する蛍光による偏光度の低下を抑えることができる。また、消光剤及び褪色防止剤の効果も発現しやすい。一方、上記好ましい下限値以上であると、面内の吸光度の均一度を維持しやすくなる。
　本発明において膜厚が１～１８μｍであるとは、波長選択吸収フィルタの厚さを、どの部位で図っても１～１８μｍの範囲内にあることを意味する。このことは、膜厚１～１２μｍ、１～８μｍについても同様である。膜厚は、アンリツ（株）社製電子マイクロメーターにより測定することができる。
＜波長選択吸収フィルタの透過率＞
　本発明の波長選択吸収フィルタの波長３９０～４４０ｎｍにおける最小透過率は０％以上９８％以下が好ましく、０％以上９０％以下がより好ましく、０％以上８０％以下がさらに好ましい。
　また、本発明の波長選択吸収フィルタの波長４８０～５２０ｎｍにおける最小透過率は５％以上９８％以下が好ましく、１０％以上９５％以下がより好ましく、２０％以上９０％以下がさらに好ましい。
　また、本発明の波長選択吸収フィルタの波長５８０～６２０ｎｍにおける最小透過率は０％以上９９％以下が好ましく、０％以上９８％以下がより好ましく、０％以上９５％以下がさらに好ましい。
　また、本発明の波長選択吸収フィルタの波長６８０～７８０ｎｍにおける最小透過率は０％以上９５％以下が好ましく、０％以上９０％以下がより好ましく、０％以上８０％以下がさらに好ましい。
　透過率を上記範囲に調節した本発明の波長選択吸収フィルタを表示装置（好ましくは自発光表示装置）に組み込むことにより、より高輝度で、外光反射もより抑制、反射光の色差が小さい表示性能が得られる。
　本発明の波長選択吸収フィルタの透過率は、染料の種類及び添加量、会合抑制剤の種類及び添加量、樹脂種等により調整することができる。
＜波長選択吸収フィルタの処理＞
　本発明の波長選択吸収フィルタには任意のグロー放電処理、コロナ放電処理、又は、アルカリ鹸化処理などにより親水化処理を施してもよく、コロナ放電処理が好ましく用いられる。特開平６－９４９１５号公報、又は同６－１１８２３２号公報などに開示されている方法などを適用することも好ましい。
　なお、得られた膜には、必要に応じて、熱処理工程、過熱水蒸気接触工程、有機溶媒接触工程などを実施することができる。また、適宜に表面処理を実施してもよい。
　また、粘着剤層として、（メタ）アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シリコーン系樹脂等をベースポリマーとし、そこに、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物のような架橋剤を加えた粘着剤組成物からなる層を適用することもできる。
　好ましくは、後述の表示装置における粘着剤層の記載を適用することができる。
＜＜ガスバリア層＞＞
　本発明の波長選択吸収フィルタは、本発明の波長選択吸収フィルタの少なくとも片面に直接配されたガスバリア層を有し、かつ、このガスバリア層が、結晶性樹脂を含有し、層の厚みが０．１μｍ～１０μｍであって、層の酸素透過度が６０ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが、好ましい。
　上記ガスバリア層において、上記「結晶性樹脂」は、温度を上げた際に結晶から液体に相転移する融点が存在する樹脂であって、上記ガスバリア層に、酸素ガスに係るガスバリア性を付与できるものである。
　本発明の波長選択吸収フィルタは、ガスバリア層を、本発明の表示装置に組み込んだ場合に本発明の波長選択吸収フィルタが空気と接することとなる面に少なくとも有することで、本発明の波長選択吸収フィルタ中の染料の吸収強度の低下を抑制し、耐光性を向上させることができる。本発明の波長選択吸収フィルタの空気と接する界面にガスバリア層を設ける限り、ガスバリア層は、波長選択吸収フィルタの片面にのみ設けられていてもよく、両面に設けられていてもよい。
（結晶性樹脂）
　上記ガスバリア層に含まれる結晶性樹脂としては、ガスバリア性を有する結晶性樹脂であって、ガスバリア層に所望の酸素透過度を付与できる限り、特に制限することなく用いることができる。
　上記結晶性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール及びポリ塩化ビニリデンを挙げることができ、結晶部がガスの透過を効果的に抑制することができる点から、ポリビニルアルコールが好ましい。
　上記ポリビニルアルコールは、変性されていてもよく、変性されていなくてもよい。変性ポリビニルアルコールとしては、アセトアセチル基、カルボキシル等の基を導入した変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
　上記ポリビニルアルコールのけん化度は、酸素ガスバリア性をより高める観点から、８０．０ｍｏｌ％以上が好ましく、９０．０ｍｏｌ％以上がより好ましく、９７．０ｍｏｌ％以上がさらに好ましく、９８．０ｍｏｌ％以上が特に好ましい。上限値に特に制限はないが、９９．９９ｍｏｌ％以下が実際的である。上記ポリビニルアルコールのけん化度は、ＪＩＳ　Ｋ　６７２６　１９９４に記載の方法に基づき算出される値である。
　上記ガスバリア層は、本発明の効果を損なわない範囲で、通常ガスバリア層に含有される任意の成分を含んでいてもよい。例えば、上記結晶性樹脂に加え、非晶性樹脂材料、ゾルゲル材料などの有機－無機ハイブリッド系材料、ＳｉＯ２、ＳｉＯｘ、ＳｉＯＮ、ＳｉＮｘ及びＡｌ２Ｏ３などの無機系材料を含有していてもよい。
　また、上記ガスバリア層は、本発明の効果を損なわない範囲で、製造工程に起因した水及び有機溶媒等の溶媒を含有していてもよい。
　上記ガスバリア層中の結晶性樹脂の含有量は、例えば、ガスバリア層の全質量１００質量％中、９０質量％以上が好ましく、９５質量％以上がより好ましい。上限値に特に制限はないが、１００質量％とすることもできる。
　上記ガスバリア層の酸素透過度は、６０ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であり、５０ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが好ましく、３０ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることがより好ましく、１０ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることがさらに好ましく、５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが特に好ましく、１ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが最も好ましい。実際的な下限値は、０．００１ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以上であり、例えば、０．０５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍを越えることが好ましい。酸素透過度が上記好ましい範囲内にあることにより、耐光性をより向上させることができる。
　なお、ガスバリア層の酸素透過度は、ＪＩＳ　Ｋ　７１２６－２　２００６に基づくガス透過度試験方法に基づいて測定した値である。測定装置としては、例えば、ＭＯＣＯＮ社製の酸素透過率測定器、ＯＸ－ＴＲＡＮ２／２１（商品名）を用いることができる。なお、測定条件は、温度２５℃、相対湿度５０％とする。
　酸素透過度は、ＳＩ単位として、（ｆｍ）／（ｓ・Ｐａ）を用いることができる。（１ｆｍ）／（ｓ・Ｐａ）＝８．７５２（ｃｃ）／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）で換算することが可能である。ｆｍはフェムトメートルと読み、１ｆｍ＝１０－１５ｍを表わす。
　ガスバリア層の厚みは、耐光性をより向上させる観点から、０．５μｍ～５μｍが好ましく、１．０μｍ～４．０μｍがより好ましい。
　上記ガスバリア層の厚みは、後述の実施例に記載の方法により測定される。
　上記ガスバリア層に含まれる結晶性樹脂の結晶化度は、２５％以上であることが好ましく、４０％以上であることがより好ましく、４５％以上であることがさらに好ましい。上限値に特に制限はないが、５５％以下であることが実際的であり、５０％以下であることが好ましい。
　上記ガスバリア層に含まれる結晶性樹脂の結晶化度は、Ｊ．　Ａｐｐｌ．　Ｐｏｌ．　Ｓｃｉ．，　８１，　７６２（２００１）に記載の方法に基づき、以下の方法により測定、算出される値である。
　ＤＳＣ（示唆走査熱量計）を用い、ガスバリア層から剥離した試料について、２０℃から２６０℃の範囲にかけて１０℃／ｍｉｎで昇温し、融解熱１を測定する。また、完全結晶の融解熱２として、Ｊ．　Ａｐｐｌ．　Ｐｏｌ．　Ｓｃｉ．，　８１，　７６２（２００１）に記載の値を用いる。得られた融解熱１及び融解熱２を用い、以下の式により結晶化度を算出する。
　　　　［結晶化度（％）］＝（［融解熱１］／［融解熱２］）×１００
　具体的には、上記結晶化度は、後述の実施例に記載の方法により測定、算出される値である。なお、融解熱１と融解熱２とは同じ単位であればよく、通常、Ｊｇ－１である。
＜ガスバリア層の製造方法＞
　ガスバリア層を形成する方法は特に制限されないが、常法により、スピン塗布及びスリット塗布等のキャスト法に作成する方法が挙げられる。また、市販の樹脂製ガスバリアフィルム又はあらかじめ作製しておいた樹脂性ガスバリアフィルムを、本発明の波長選択吸収フィルタに貼り合せる方法などを挙げることができる。
＜光学フィルム＞
　本発明の波長選択吸収フィルタは、上記ガスバリア層以外に、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の光学フィルムを適宜有していてもよい。
　上記任意の光学フィルムについては、光学特性及び材料のいずれについても特に制限はないが、セルロースエステル樹脂、アクリル樹脂、環状オレフィン樹脂及びポリエチレンテレフタレート樹脂の少なくともいずれかを含む（あるいは主成分とする）フィルムを好ましく用いることができる。なお、光学的に等方性のフィルムを用いても、光学的に異方性の位相差フィルムを用いてもよい。
　上記任意の光学フィルムについて、セルロースエステル樹脂を含むものとしては、例えばフジタックＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム（株）製）などを利用することができる。
　上記任意の光学フィルムについて、アクリル樹脂を含むものとしては、特許第４５７００４２号公報に記載のスチレン系樹脂を含有する（メタ）アクリル樹脂を含む光学フィルム、特許第５０４１５３２号公報に記載のグルタルイミド環構造を主鎖に有する（メタ）アクリル樹脂を含む光学フィルム、特開２００９－１２２６６４号公報に記載のラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂を含む光学フィルム、特開２００９－１３９７５４号公報に記載のグルタル酸無水物単位を有する（メタ）アクリル系樹脂を含む光学フィルムを利用することができる。
　また、上記任意の光学フィルムについて、環状オレフィン樹脂を含むものとしては、特開２００９－２３７３７６号公報の段落［００２９］以降に記載の環状オレフィン系樹脂フィルム、特許第４８８１８２７号公報、特開２００８－０６３５３６号公報に記載のＲｔｈを低減する添加剤を含有する環状オレフィン樹脂フィルムを利用することができる。
　また、上記任意の光学フィルムは、紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤としては、特に制限することなく常用の化合物を使用できる。
　上記紫外線吸収層中の紫外線吸収剤の含有量は目的に応じて適宜に調整される。
＜＜積層体の製造方法＞＞
　本発明の波長選択吸収フィルタが、本発明の波長選択吸収フィルタに加え、上述のガスバリア層又は任意の光学フィルムを有する場合、これらの波長選択吸収フィルタと、ガスバリア層及び／又は任意の光学フィルムからなる積層体は、上述の波長選択吸収フィルタの製造方法及びガスバリア層の製造方法を用いて、作製することができる。
　例えば、上述の製造方法により作製した波長選択吸収フィルタ上に、直接、上述のガスバリア層を作製する方法が挙げられる。この場合、波長選択吸収フィルタのうち、ガスバリア層を設ける面には、コロナ処理を施しておくことも好ましい。
　また、上記任意の光学フィルムを設ける場合には、粘着剤層を介して貼り合わせることも好ましい。例えば、波長選択吸収フィルタ上にガスバリア層を設けた後、さらに粘着剤層を介して紫外線吸収剤を含有する光学フィルムを貼り合わせることも好ましい。
［表示装置］
　本発明の表示装置は、本発明の波長選択吸収フィルタを含む。
　本発明の表示装置としては、本発明の波長選択吸収フィルタを、外光反射防止機能を奏するような位置に含む構成である限り（上記ガスバリア層を含む場合には、さらに、上記ガスバリア層が少なくとも本発明の波長選択吸収フィルタよりも外光側に位置するような構成で含む限り）、その他の構成としては、通常用いられている表示装置の構成を特に制限することなく用いることができる。
　表示装置としては、特に制限はされないが、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示装置、マイクロ発光ダイオード（マイクロＬＥＤ）表示装置、ミニ発光ダイオード（ミニＬＥＤ）表示装置等の、発光ダイオードを発光源として備える自発光型の表示装置（自発光表示装置）が、本発明の波長選択吸収フィルタを含むことにより、本発明の波長選択吸収フィルタが示す優れた耐光性をより効果的に奏することができる観点から好ましい。
　上記自発光表示装置の構成例としては、特に制限されないが、例えば、外光に対して反対側から順に、ガラス、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を含む層、発光素子、本発明の波長選択吸収フィルタ及び表面フィルムを含む表示装置が挙げられる。
　上記自発光表示装置の表示光の光源は、発光ダイオードを発光源として備えるものである限り、青色単色でもよく、青色、緑色及び赤色の三原色を用いてもよい。なかでも、波長域４４０ｎｍ～４７０ｎｍで発光する青色光源、波長域５２０ｎｍ～５６０ｎｍで発光する緑色光源及び波長域６２０ｎｍ～６６０ｎｍで発光する赤色光源を合わせて用いることが特に好ましい。
　本発明において、ミニＬＥＤはチップサイズ１００～２００μｍ角程度のＬＥＤを意味し、マイクロＬＥＤはチップサイズ１００μｍ角未満のＬＥＤを意味する。マイクロＬＥＤとしては、例えば、国際公開第２０１４／２０４６９４号等に記載のマイクロＬＥＤが好ましく挙げられる。
　上記自発光表示装置は、円偏光板に代わる反射防止手段として本発明の波長選択吸収フィルタを備えた構成とした場合にも、本発明の波長選択吸収フィルタ中に含有される染料の吸光度を優れたレベルで維持することができる。
　さらに、本発明の波長選択吸収フィルタ中に含有する染料を、前述の通り、４種の染料Ａ～Ｄを組合わせて含有する形態とした場合には、染料の混合に伴う耐光性の低下を上回る、優れたレベルの耐光性を示すことができる。
　つまり、通常、上記表面フィルムとして反射防止機能を有する円偏光板が使用されるところ、本発明の波長選択吸収フィルタを採用することにより、自発光表示装置を含む本発明の表示装置は、円偏光板を用いることなく上記優れた効果を発揮することができる。なお、本発明の表示装置（自発光表示装置を含む。）の構成として、本発明の効果を損なわない範囲で、反射防止フィルムを併用することを妨げるものではない。
＜粘着剤層＞
　上記自発光表示装置において、本発明の波長選択吸収フィルタは、外光とは反対側に位置する面において、粘着剤層を介してガラス（基材）と貼り合わされていることが好ましい。
　粘着剤層の形成に用いられる粘着剤組成物の組成は、特に限定されず、例えば、質量平均分子量（Ｍｗ）が５００，０００以上のベース樹脂を含む粘着剤組成物を使用してもよい。ベース樹脂の質量平均分子量が５００，０００未満のとき、凝集力低下によって高温及び多湿の少なくとも一方の条件下で気泡又は剥離現象が生ずる等、粘着剤の耐久信頼性が低下する場合がある。ベース樹脂の質量平均分子量の上限は特に限定されないが、質量平均分子量が過度に増加すれば、粘度上昇によりコーティング性が低下する場合があるため、２，０００，０００以下が好ましい。
　ベース樹脂の具体的な種類は特に限定されず、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ゴム系樹脂及びＥＶＡ（エチレン－酢酸ビニル）系樹脂が挙げられる。液晶表示装置のような光学装置に適用される場合、透明性、酸化抵抗性及び黄変に対する抵抗性に優れている側面から、アクリル系樹脂が主に用いられるが、これに制限されるものではない。
　アクリル系樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル単量体８０質量部～９９．８質量部；及び、他の架橋性単量体０．０２質量部～２０質量部（好ましくは、０．２質量部～２０質量部）を含む単量体混合物の重合体が挙げられる。
　（メタ）アクリル酸エステル単量体の種類は特に限定されず、例えば、アルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。この場合、単量体に含まれるアルキル基が過度に長鎖になれば、粘着剤の凝集力が低下し、ガラス転移温度（Ｔｇ）又は粘着性の調節が難しくなる場合があるため、炭素数１～１４のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステル単量体を用いることが好ましい。このような単量体の例は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ－ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート及びテトラデシル（メタ）アクリレートが挙げられる。本発明では、上記単量体を単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。（メタ）アクリル酸エステル単量体は、単量体混合物１００質量部中、８０質量部～９９．８質量部含まれることが好ましい。（メタ）アクリル酸エステル単量体の含有量が８０質量部未満のとき、初期接着力が低下する場合があり、９９．８質量部を超えると、凝集力低下によって耐久性が低下する場合がある。
　単量体混合物に含まれる他の架橋性単量体は、後述する多官能性架橋剤と反応して粘着剤に凝集力を付与し、粘着力及び耐久信頼性などを調節する役割をする架橋性官能基を重合体に付与することができる。このような架橋性単量体としては、ヒドロキシ基含有単量体、カルボキシル基含有単量体及び窒素含有単量体が挙げられる。ヒドロキシ基含有単量体としては、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６－ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８－ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチレングリコール（メタ）アクリレート又は２－ヒドロキシプロピレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。カルボキシル基含有単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、２－（メタ）アクリロイルオキシ酢酸、３－（メタ）アクリロイルオキシプロピル酸、４－（メタ）アクリロイルオキシブチル酸、アクリル酸二量体、イタコン酸、マレイン酸及びマレイン酸無水物が挙げられる。窒素含有単量体としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ビニルピロリドン又はＮ－ビニルカプロラクタムが挙げられる。本発明では、これらの架橋性単量体を単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　他の架橋性単量体は、単量体混合物１００質量部中、０．０２質量部～２０質量部含まれ得る。含有量が０．０２質量部未満のとき、粘着剤の耐久信頼性が低下する場合があり、２０質量部を超えると、粘着性及び剥離性の少なくとも一方が低下する場合がある。
　単量体混合物を用いて重合体を製造する方法は特に限定されず、例えば、溶液重合、光重合、バルク重合、サスペンション重合又はエマルジョン重合などの一般的な重合法を介して製造することができる。本発明では、特に溶液重合法を用いることが好ましく、溶液重合はそれぞれの単量体が均一に混合された状態で開始剤を混合し、５０℃～１４０℃の重合温度で遂行することが好ましい。この時、用いられる開始剤としてはアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビスシクロヘキサンカルボニトリルなどのアゾ系重合開始剤；並びに過酸化ベンゾイル及び過酸化アセチルなどの過酸化物などの通常の開始剤が挙げられる。
　上記粘着剤組成物は、ベース樹脂１００質量部に対して０．１質量部～１０質量部の架橋剤を更に含んでいてもよい。このような架橋剤はベース樹脂と架橋反応を通じて粘着剤に凝集力を付与することができる。架橋剤の含有量が０．１質量部未満のとき、粘着剤の凝集力が落ちる場合がある。また、１０質量部を超えると、層間剥離及び浮き現象が生ずる等、耐久信頼性が低下する場合がある。
　架橋剤の種類は特に限定されず、例えば、イソシアネート系化合物、エポキシ系化合物、アジリジン系化合物及び金属キレート系化合物等の任意の架橋剤を使用できる。
　イソシアネート系化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート及びナフタレンジイソシアネート、並びに、これらのいずれかの化合物とポリオール（例えば、トリメチロールプロパン）との反応物が挙げられ；エポキシ系化合物としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’－テトラグリシジルエチレンジアミン及びグリセリンジグリシジルエーテルが挙げられ；アジリジン系化合物としては、Ｎ、Ｎ‘－トルエン－２，４－ビス（１－アジリジンカルボキサミド）、Ｎ、Ｎ’－ジフェニルメタン－４，４’－ビス（１－アジリジンカルボキサミド）、トリエチレンメラミン、ビスイソプロタロイル（ｂｉｓｐｒｏｔｈａｌｏｙｌ）－１－（２－メチルアジリジン）及びトリ－１－アジリジニルホスフィンオキシドが挙げられる。また、金属キレート系化合物としては、アルミニウム、鉄、亜鉛、スズ、チタン、アンチモン、マグネシウム及びバナジウムなどの少なくともいずれかの多価金属がアセチルアセトン又はアセト酢酸エチルなどに配位している化合物が挙げられる。
　上記粘着剤組成物は、ベース樹脂１００質量部に対して０．０１質量部～１０質量部のシラン系カップリング剤を更に含んでいてもよい。シラン系カップリング剤は粘着剤が高温又は多湿条件で長時間放置された時、接着信頼性向上に寄与することができ、特にガラス基材との接着時に接着安定性を改善し、耐熱性及び耐湿性を向上させることができる。シラン系カップリング剤としては、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン及びγ－アセトアセテートプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。これらのシラン系カップリング剤は、単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　シラン系カップリング剤は、ベース樹脂１００質量部に対して０．０１質量部～１０質量部の量で含まれるのが好ましく、０．０５質量部～１質量部の量で含まれるのが更に好ましい。含有量が０．０１質量部未満のとき、粘着力増加効果が十分でない場合があり、１０質量部を超えると、気泡又は剥離現象が生ずるなど耐久信頼性が低下する場合がある。
　上記粘着剤組成物は、帯電防止剤をさらに含むことができ、帯電防止剤としては、アクリル樹脂など粘着剤組成物に含まれる他の成分との相溶性に優れ、粘着剤の透明性、作業性及び耐久性などに悪影響を及ぼさないで、且つ粘着剤に帯電防止性能を付与することができるものであれば、何れの化合物でも使用することができる。帯電防止剤としては、無機塩または有機塩などを挙げることができる。
　無機塩は、陽イオン成分としてアルカリ金属陽イオン又はアルカリ土類金属陽イオンを含む塩である。陽イオンとしては、リチウムイオン（Ｌｉ＋）、ナトリウムイオン（Ｎａ＋）、カリウムイオン（Ｋ＋）、ルビジウムイオン（Ｒｂ＋）、セシウムイオン（Ｃｓ＋）、ベリリウムイオン（Ｂｅ２＋）、マグネシウムイオン（Ｍｇ２＋）、カルシウムイオン（Ｃａ２＋）、ストロンチウムイオン（Ｓｒ２＋）及びバリウムイオン（Ｂａ２＋）などの１種又は２種以上を挙げることができ、好ましくは、リチウムイオン（Ｌｉ＋）、ナトリウムイオン（Ｎａ＋）、カリウムイオン（Ｋ＋）、セシウムイオン（Ｃｓ＋）、ベリリウムイオン（Ｂｅ２＋）、マグネシウムイオン（Ｍｇ２＋）、カルシウムイオン（Ｃａ２＋）、及びバリウムイオン（Ｂａ２＋）が挙げられる。無機塩は、１種単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。イオン安全性及び粘着剤内での移動性の側面から、リチウムイオン（Ｌｉ＋）が特に好ましい。
　有機塩は、陽イオン成分として、オニウム（ｏｎｉｕｍ）陽イオンを含む塩である。用語「オニウム陽イオン」は、少なくとも一部の電荷が窒素（Ｎ）、リン（Ｐ）及び硫黄（Ｓ）のうちの一つ以上の原子に偏在されている陽（＋）に荷電されたイオンを意味する。オニウム陽イオンは、環型又は非環型化合物であり、環型化合物の場合、非芳香族又は芳香族化合物であることができる。また、環型化合物の場合、窒素、リン又は硫黄原子以外のヘテロ原子（例えば、酸素）を一つ以上含むことができる。また、環型又は非環型化合物は、任意に水素原子、ハロゲン原子、アルキル又はアリールなどの置換体により置換されている。また、非環型化合物の場合、一つ以上、好ましくは、４個以上の置換体を含むことができ、この時、置換体は、環型又は非環型置換体、芳香族又は非芳香族置換体である。
　オニウム陽イオンは、窒素原子を含む陽イオンが好ましく、アンモニウムイオンがより好ましい。アンモニウムイオンは、４級アンモニウムイオン又は芳香族アンモニウムイオンである。
　上記粘着剤組成物は、帯電防止剤を、ベース樹脂１００質量部に対して、０．０１質量部から５質量部、好ましくは、０．０１質量部から２質量部、より好ましくは、０．１質量部から２質量部含む。含有量が０．０１質量部未満の場合、目的する帯電防止効果が得られない場合があり、５質量部を超過すれば、他成分との相溶性が低下されて、粘着剤の耐久信頼性又は透明性が悪くなる場合がある。
　上記粘着剤組成物は、帯電防止剤、具体的には、帯電防止剤に含まれる陽イオンと配位結合を形成することができる化合物（以下、「配位結合性化合物」と称する）をさらに含むことができる。配位結合性化合物を適切に含むことにより、相対的に少量の帯電防止剤を使用する場合にも、粘着剤層内部の陰イオン濃度を増加させて効果的に帯電防止性能を付与することができる。
　使用できる配位結合性化合物の種類は、分子内に帯電防止剤と配位結合可能な官能基を有するものであれば、特別に限定されず、例えば、アルキレンオキシド系化合物が挙げられる。
　アルキレンオキシド系化合物としては、特別に限定されないが、基本単位の炭素数が２以上、好ましくは、３から１２、より好ましくは、３から８であるアルキレンオキシド単位を含むアルキレンオキシド系化合物を使用することが好ましい。
　アルキレンオキシド系化合物は、分子量が５，０００以下であることが好ましい。本発明で使用する用語「分子量」は、化合物の分子量又は質量平均分子量を意味する。本発明において、アルキレンオキシド系化合物の分子量が５，０００を超過すれば、粘度が過度に上昇してコーティング性が悪くなるか、金属との錯体形成能が低下する場合がある。一方、アルキレンオキシド化合物の分子量の下限は特に限定されるものではないが、５００以上が好ましく、４，０００以上がより好ましい。
　本発明では、上述のアルキレンオキシド系化合物の以外にも、韓国公開特許第２００６－００１８４９５号に開示された、一つ以上のエーテル結合を有するエステル化合物、韓国公開特許第２００６－０１２８６５９に開示されたオキサラート基含有化合物、ジアミン基含有化合物、多価カルボキシル基含有化合物又はケトン基含有化合物などの多様な配位結合性化合物を必要によって適切に選択して使用することができる。
　配位結合性化合物は、ベース樹脂１００質量部に対して、３質量部以下の割合で粘着剤組成物に含まれるのが好ましく、より好ましくは０．１質量部から３質量部、さらに好ましくは、０．５質量部から２質量部である。含有量が３質量部を超過すると、剥離性などの粘着剤物性が低下する場合がある。
　上記粘着剤組成物は、粘着性能の調節の観点から、ベース樹脂１００質量部に対して、１質量部～１００質量部の粘着性付与樹脂を更に含んでいてもよい。粘着性付与樹脂の含有量が１質量部未満の場合、添加効果が十分でない場合があり、１００質量部を超えると、相溶性及び凝集力向上効果の少なくとも一方が低下する場合がある。このような粘着性付与樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、（水素化）ヒドロカーボン系樹脂、（水素化）ロジン樹脂、（水素化）ロジンエステル樹脂、（水素化）テルペン樹脂、（水素化）テルペンフェノール樹脂、重合ロジン樹脂又は重合ロジンエステル樹脂などが挙げられる。これらの粘着性付与樹脂は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　上記粘着剤組成物は発明の効果に影響を及ぼさない範囲で、熱重合開始剤及び光重合開始剤のような重合開始剤；エポキシ樹脂；硬化剤；紫外線安定剤；酸化防止剤；調色剤；補強剤；充填剤；消泡剤；界面活性剤；多官能性アクリレートなどの光重合性化合物；及び可塑剤等の添加剤を一つ以上含んでいてもよい。
＜基材＞
　上記自発光表示装置において、本発明の波長選択吸収フィルタは、外光とは反対側に位置する面において、粘着剤層を介してガラス（基材）と貼り合わされていることが好ましい。
　上記粘着剤層を形成する方法は特に限定されず、例えば、本発明の波長選択吸収フィルタにバーコーターなどの通常の手段で粘着剤組成物を塗布し、乾燥及び硬化させる方法；粘着剤組成物をまず、剥離性基材の表面に塗布、乾燥した後、剥離性基材を用いて粘着剤層を本発明の波長選択吸収フィルタに転写し、熟成、硬化させる方法などが用いられる。
　剥離性基材としては、特に制限されず、任意の剥離性基材を使用することができ、例えば上述の本発明の波長選択吸収フィルタの製造方法における剥離フィルムが挙げられる。
　その他、塗布、乾燥、熟成及び硬化の条件についても、常法に基づき、適宜調整することができる。
　以下に、実施例に基づき本発明についてさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例に限定されるものではない。
　なお、以下の実施例において組成を表す「部」及び「％」は、特に断らない限り質量基準である。また、λｍａｘは、後記波長選択吸収フィルタの吸光度極大値及び２０％値波長の測定において、最大吸光度を示す極大吸収波長を意味する。
［波長選択吸収フィルタの作製］
　波長選択吸収フィルタを、下記の手順に沿って作製した。
　波長選択吸収フィルタの作製に用いた材料を次に示す。
＜マトリックス樹脂＞
（樹脂９）
　環状ポリオレフィン樹脂であるアペルＡＰＬ６０１１Ｔ（商品名、三井化学社製、エチレンとノルボルネンとの共重合ポリマー、Ｔｇ　１０５℃）を、樹脂９として用いた。
（樹脂１０）
　環状ポリオレフィン樹脂であるアートンＲＸ４５００（商品名、ＪＳＲ社製、ノルボルネン系ポリマー、Ｔｇ　１３２℃）を、樹脂１０として用いた。
（剥離性制御樹脂成分２）
　タフテックＨ１０４３（商品名、旭化成（株）製、水添スチレン系熱可塑性エラストマー（ＳＥＢＳ））
（剥離性制御樹脂成分３）
　タフテックＭ１９４３（商品名、旭化成（株）製、水添スチレン系熱可塑性エラストマー（ＳＥＢＳ））
＜色素＞
　染料Ａとして下記のＥ－１４、Ｅ－２４及びＥ－４０並びに国際公開第２０１４／２０８７４９号の実施例で使用されている、下記の化合物例５をそれぞれ用いた。また、染料Ｂとして下記の７－１１及び７－２３、染料Ｃとして下記のＣ－７３及びＣ－８０、染料Ｄとして下記のＦ－３４及びＦ－３５をそれぞれ用いた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
＜添加剤＞
（会合抑制剤）
　会合抑制剤として下記化合物をそれぞれ用いた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
（基材１）
　セルロースアシレートフィルム（富士フィルム社製、商品名：ＺＲＤ４０ＳＬ）を基材１として用いた。
（基材４）
　ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱ケミカル社製、商品名：ダイアホイルＴ６００Ｅ５０、膜厚５０μｍ）を基材４として用いた。
実施例
＜基材つき波長選択吸収フィルタの作製Ａ＞
（１）波長選択吸収層形成液Ａの調製
　各成分を下記に示す組成で混合し、波長選択吸収層形成液Ａを調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
波長選択吸収層形成液Ａの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
樹脂９　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８７．４　質量部
剥離性制御樹脂成分２　　　　　　　　　　　　　　　３．４　質量部
レベリング剤：メガファックＦ－５５４（ＤＩＣ社製、フッ素系ポリマー）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１６質量部
染料Ｅ－４０　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３．８０質量部
会合抑制剤３０１　　　　　　　　　　　　　　　　　５．２０質量部
シクロヘキサン（溶媒）　　　　　　　　　　　　６５５．０　質量部
酢酸エチル（溶媒）　　　　　　　　　　　　　　１１５．０　質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　続いて、得られた波長選択吸収層形成液Ａを絶対濾過精度１０μｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙社製）を用いて濾過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの金属焼結フィルター（ＦＨ０２５、ポール社製）を用いて濾過した。
（２）基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．１０１の作製
　上記濾過処理後の波長選択吸収層形成液Ａを、基材１上に、乾燥後の膜厚が１．９μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥し、基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．１０１を作製した。
（３）基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．１０２～１０９及びＣ２０１～Ｃ２０４の作製
　染料の種類及び添加量、並びに、会合抑制剤の種類及び添加量の少なくともいずれかを下記表１に記載の内容に変更した以外は基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．１０１の作製と同様にして、基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．１０２～１０９及びＣ２０１～Ｃ２０４を作製した。
＜基材つき波長選択吸収フィルタの作製Ｂ＞
（基材２）
　セルロースアシレートフィルム（富士フィルム社製、商品名：ＺＲＤ４０ＳＬ）を、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温（２５℃）の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温（２５℃）の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、鹸化処理を行ったセルロースアシレートフィルムを基材２として用いた。
（１）波長選択吸収層形成液Ｂの調製
　各成分を下記に示す組成で混合し、波長選択吸収層形成液Ｂを調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
波長選択吸収層形成液Ｂの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
樹脂１０　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８６．１　質量部
剥離性制御樹脂成分３　　　　　　　　　　　　　　　３．４　質量部
レベリング剤：メガファックＦ－５５４（ＤＩＣ社製、フッ素系ポリマー）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１６質量部
染料Ｅ－２４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３．４３質量部
染料７－１１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５３質量部
染料Ｃ－７３　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１７質量部
染料Ｆ－３４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．０８質量部
会合抑制剤３０３　　　　　　　　　　　　　　　　　４．１０質量部
シクロヘキサン（溶媒）　　　　　　　　　　　１０１８．３　質量部
酢酸エチル（溶媒）　　　　　　　　　　　　　　５４８．３　質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　続いて、得られた波長選択吸収層形成液Ｂを絶対濾過精度１０μｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙社製）を用いて濾過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの金属焼結フィルター（ＦＨ０２５、ポール社製）を用いて濾過した。
（２）基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．１１０の作製
　上記濾過処理後の波長選択吸収層形成液Ｂを、基材２上に、乾燥後の膜厚が１．２μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥し、基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．１１０を作製した。
（３）基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．１１１～１１５、Ｃ２０５及びＣ２０６の作製
　基材の種類、染料の種類及び添加量、並びに、会合抑制剤の種類及び添加量の少なくともいずれかを下記表１に記載の内容に変更した以外は基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．１１０の作製と同様にして、基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．１１１～１１５、Ｃ２０５及びＣ２０６を作製した。
　下記表１に、各基材つき波長選択吸収フィルタの構成をまとめて示す。基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．１０１～１１５が本発明の基材つき波長選択吸収フィルタであり、基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．Ｃ２０１～Ｃ２０６が比較の基材つき波長選択吸収フィルタである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000058
（表１の注）
　染料の欄における「－」の表記は、該当する染料を含有していないことを示す。
　染料の含有量は、波長選択吸収フィルタ中における染料の質量基準での含有割合を意味し、単位は質量％である。会合抑制剤の含有量は、波長選択吸収フィルタ中における会合抑制剤の質量基準での含有割合を意味し、単位は質量％である。また、λｍａｘは後記波長選択吸収フィルタの吸光度極大値及び２０％値波長の測定において、最大吸光度を示す染料の吸収極大波長を示す。
　化合物例５：国際公開第２０１４／２０８７４９号の実施例で使用されている化合物例５
［ガスバリア層と波長選択吸収フィルタの積層体の作製］
　ガスバリア層と波長選択吸収フィルタの積層体（以下、単に積層体と称す。）を下記の手順に沿って作製した。作製に用いた材料を次に示す。
＜樹脂＞
（樹脂４）
　ＡＱ－４１０４（クラレ（株）製、エクセバール　ＡＱ－４１０４（商品名）、変性ポリビニルアルコール（結晶性樹脂）、けん化度９８～９９ｍｏｌ％）
（基材３）
　基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．１０１の、波長選択吸収フィルタ側を、コロナ処理装置（商品名：Ｃｏｒｏｎａ－Ｐｌｕｓ、ＶＥＴＡＰＨＯＮＥ社製）を用い、放電量１０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２、処理速度３．２ｍ／ｍｉｎの条件でコロナ処理を施し、基材３として用いた。
＜積層体Ｎｏ．１０１の作製＞
（１）樹脂溶液の調製
　各成分を下記に示す組成で混合し、９０℃の恒温槽で１時間撹拌し、樹脂４を溶解させ、ガスバリア層形成液１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　ガスバリア層形成液１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
樹脂４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４．０質量部
純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９６．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　続いて、得られたガスバリア層形成液１を絶対濾過精度５μｍのフィルター（商品名：ＨｙｄｒｏｐｈｏｂｉｃＦｌｕｏｒｅｐｏｒｅ　Ｍｅｍｂｒａｎｅ、Ｍｉｌｌｅｘ社製）を用いて濾過した。
（２）積層体の作製
　上記濾過処理後のガスバリア層形成液１を、基材３のコロナ処理を施した面側に、乾燥後の膜厚が１．６μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、１２０℃６０秒で乾燥し、積層体Ｎｏ．１０１を作製した。
　この積層体Ｎｏ．１０１は、基材１、波長選択吸収フィルタＮｏ．１０１及びガスバリア層がこの順に積層された構成を有する。
＜積層体Ｎｏ．１０２～１１５及びＣ２０１～Ｃ２０６の作製＞
　基材つき波長選択吸収フィルタの種類を後記表２のように変更した以外は、積層体Ｎｏ．１０１の作製と同様にして、積層体Ｎｏ．１０２～１１５及びＣ２０２～Ｃ２０４を作製した。また、基材つき波長選択吸収フィルタの種類を基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．Ｃ２０１に変更した以外は、積層体Ｎｏ．１０１の作製と同様にして、積層体Ｎｏ．Ｃ２０１を、基材つき波長選択吸収フィルタの種類を基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．Ｃ２０５に変更した以外は、積層体Ｎｏ．１０１の作製と同様にして、積層体Ｎｏ．Ｃ２０５を、基材つき波長選択吸収フィルタの種類を基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．Ｃ２０６に変更した以外は、積層体Ｎｏ．１０１の作製と同様にして、積層体Ｎｏ．Ｃ２０６を、それぞれ作製した。
　積層体Ｎｏ．１０１～１１５が本発明の波長選択吸収フィルタを含む積層体であり、積層体Ｎｏ．Ｃ２０２～Ｃ２０４が比較の積層体であり、積層体Ｎｏ．Ｃ２０１、Ｃ２０５及びＣ２０６が参照用の積層体である。
＜ガスバリア層の物性評価＞
　ガスバリア層の結晶化度、酸素透過度及び厚みについては、以下の方法により評価した。
（結晶化度）
　上記で作製した積層体から、ガスバリア層を２～３ｍｇ剥離し、日立ハイテクサイエンス社製のＤＳＣ７０００Ｘ（商品名）を用いて、２０℃から２６０℃の範囲にかけて１０℃／ｍｉｎで昇温し、融解熱１を測定した。
　Ｊ．　Ａｐｐｌ．　Ｐｏｌ．　Ｓｃｉ．，　８１，　７６２（２００１）に記載の方法に基づき、ガスバリア層の結晶化度を算出した。具体的には、上記融解熱１とＪ．　Ａｐｐｌ．　Ｐｏｌ．　Ｓｃｉ．，　８１，　７６２（２００１）に記載の完全結晶の融解熱２を用い、以下の式により結晶化度を算出した。
 
　　　　［結晶化度（％）］＝（［融解熱１］／［融解熱２］）×１００
 
　このようにして測定した上記積層体Ｎｏ．１０１～１１２およびＣ２０１～Ｃ２０５のガスバリア層の結晶化度は５３％であった。
（厚み）
　日立ハイテクノロジーズ社製の電界放出型走査電子顕微鏡Ｓ－４８００（商品名）を用いて積層体の断面写真を撮影し、厚みを読み取った。
　このようにして測定した上記積層体Ｎｏ．１０１～１１５およびＣ２０１～Ｃ２０６のガスバリア層の厚みは１．６μｍであった。
（酸素透過度）
　上記積層体Ｎｏ．１０１～１１５およびＣ２０１～Ｃ２０６の作製において、波長選択吸収フィルタにコロナ処理を施さなかった以外は同様にして積層体を作製した。つぎに、積層体のガスバリア層側に、厚み約２０μｍの粘着剤１（商品名：ＳＫ２０５７、綜研化学社製）を介して、厚み８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（商品名：フジタックＴＤ８０ＵＬ、富士フイルム社製）を貼合した。続いて基材３に相当する、基材１、基材２又は基材４と、波長選択吸収フィルタとを剥離することにより、トリアセチルセルロースフィルム、粘着剤１及びガスバリア層がこの順に積層されてなる、酸素透過度評価膜Ｎｏ．Ｌ１０１～Ｌ１１５およびＬＣ２０１～ＬＣ２０６を調製した。
　酸素透過率測定装置としてＭＯＣＯＮ社製のＯＸ－ＴＲＡＮ　２／２１（商品名）を用いて、等圧法（ＪＩＳ　Ｋ　７１２６－２）により２５℃、相対湿度５０％、酸素分圧１ａｔｍ、測定面積５０ｃｍ２の条件で、酸素透過度評価膜の酸素透過度を測定した。
このようにして測定した上記積層体Ｎｏ．Ｌ１０１～Ｌ１１５およびＬＣ２０１～ＬＣ２０６の酸素透過度は０．６ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍであった。
［評価］
　作製した各基材つき波長選択吸収フィルタの吸光度極大値及び２０％値波長Ａ又はＤ並びに各積層体の耐光性について、下記のようにして測定、評価した。結果を表２にまとめて示す。
＜１．波長選択吸収フィルタの吸光度極大値及び２０％値波長＞
（波長選択吸収フィルタの吸光度）
　島津製作所（株）製のＵＶ３６０分光光度計（商品名）を用いて、基材つき波長選択吸収フィルタの、３８０～８００ｎｍの波長範囲における吸光度を、１ｎｍごとに測定した。基材つき波長選択吸収フィルタの各波長λｎｍにおける吸光度Ａｂｘ（λ）と、染料を含有しない基材つき波長選択吸収フィルタ（すなわち、Ｎｏ．Ｃ２０１、Ｃ２０５あるいはＣ２０６の波長選択吸収フィルタ）の吸光度Ａｂ０（λ）との吸光度差、Ａｂｘ（λ）－Ａｂ０（λ）を算出した。
　なお、基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．１０１～１０９及びＣ２０２～Ｃ２０４においては、染料を含有しない基材つき波長選択吸収フィルタとしてＮｏ．Ｃ２０１の基材つき波長選択吸収フィルタを用い、基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．１１０～１１２においては、染料を含有しない基材つき波長選択吸収フィルタとしてＮｏ．Ｃ２０５の基材つき波長選択吸収フィルタを用い、基材つき波長選択吸収フィルタＮｏ．１１３～１１５においては、染料を含有しない基材つき波長選択吸収フィルタとしてＮｏ．Ｃ２０６の基材つき波長選択吸収フィルタを用いた。
（λｍａｘの決定）
　上記のＡｂｘ（λ）－Ａｂ０（λ）に基づき、極大吸収波長λｍａｘを決定した。
（２０％値波長の決定）
　続いて、上記のＡｂｘ（λ）－Ａｂ０（λ）において、波長３９０～４４０ｎｍに主吸収波長帯域を有する色素を含む場合には、波長３９０～４４０ｎｍにおける吸光度極大値に対して２０％の吸光度を与える二つの波長のうち長波長側の波長（２０％値波長Ａ）を求めた。また、波長６８０～６８０ｎｍに主吸収波長帯域を有する色素を含む場合には、波長６８０～７８０ｎｍにおける吸光度極大値に対して２０％の吸光度を与える二つの波長のうち短波長側の波長（２０％値波長Ｄ）を求めた。
＜２．耐光性＞
（耐光性評価膜の作製）
　積層体のガスバリア層側に、厚み約２０μｍの粘着剤１（商品名：ＳＫ２０５７、綜研化学社製）を介して、厚み６０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（商品名：フジタックＴＧ６０ＵＬ、富士フイルム社製）を貼合した。続いて、基材１、基材２あるいは基材４を剥がし、基材１、基材２あるいは基材４を貼り合わせていた波長選択吸収フィルタ側に、上記粘着剤１を介してガラスを貼合し、耐光性評価膜を作製した。
　得られた耐光性評価膜は、ガラス／粘着剤１の層／波長選択吸収フィルタ／ガスバリア層／粘着剤１の層／トリアセチルセルロースフィルムの順に積層された構成を有する。
（耐光性評価膜の吸収極大値）
　島津製作所（株）製のＵＶ３６００分光光度計（商品名）により、耐光性評価膜の、２００～１０００ｎｍの波長範囲における吸光度を、１ｎｍごとに測定した。耐光性評価膜の各波長における吸光度と、染料及び会合抑制剤を含有しない点以外は同じ構成である耐光性評価膜の吸光度との吸光度差を算出し、この吸光度差の最大値を吸収極大値として定義した。
　なお、積層体Ｎｏ．１０１～１０９及びＣ２０２～Ｃ２０４の耐光性評価膜においては、染料及び会合抑制剤を含有しない積層体Ｎｏ．Ｃ２０１の耐光性評価膜を用いて吸光度差を算出し、積層体Ｎｏ．１１０～１１２の耐光性評価膜においては、染料及び会合抑制剤を含有しない積層体Ｎｏ．Ｃ２０５の耐光性評価膜を用いて吸光度差を算出し、積層体Ｎｏ．１１３～１１５の耐光性評価膜においては、染料及び会合抑制剤を含有しない積層体Ｎｏ．Ｃ２０６の耐光性評価膜を用いて吸光度差を算出した。
（耐光性）
　耐光性評価膜を（株）スガ試験機社製のスーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５（商品名）で、６０℃、相対湿度５０％の環境下において２００時間光を照射し、この照射前後における各吸収極大値を測定し、以下の式により耐光性を算出した。
 
　　［耐光性（％）］＝（［２００時間光照射後の吸収極大値］／［光照射前の吸収極大値］）×１００
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000059
（表２の注）
　２０％値波長評価の欄および耐光性評価の欄における「－」の表記は、該当する染料を含有していないことを示す。
　表２の結果から、以下のことがわかる。
　波長３９０～４４０ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料Ａを含有する場合、会合抑制剤を含有しない比較の積層体Ｎｏ．Ｃ２０２では、２０％値波長Ａは４５６ｎｍと本発明で規定する範囲外であり、キセノン２００時間照射後の残存率は７３％と低かった。また、本発明で規定する染料Ａと会合抑制剤を含有するものの、２０％値波長Ａは４６５ｎｍと本発明で規定する範囲外である比較の積層体Ｎｏ．Ｃ２０４は、キセノン２００時間照射後の残存率は７３％と低かった。
　これらに対して、本発明で規定する染料Ａと会合抑制剤を含有し、２０％値波長Ａが４５５ｎｍ以下である積層体Ｎｏ．１０１～１０８、１１０、１１１及び１１３～１１５は、いずれも染料Ａのキセノン２００時間照射後の残存率は７９％以上であり、優れた耐光性を示していた。
　また、波長６８０～７８０ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料Ｄを含有する場合、会合抑制剤を含有しない比較の積層体Ｎｏ．Ｃ２０３では、２０％値波長Ｄは６３９ｎｍと本発明で規定する範囲外であり、キセノン２００時間照射後の残存率は９１％であった。
　これに対して、本発明で規定する染料Ｄと会合抑制剤を含有し、２０％値波長Ｄが６４０ｎｍ以上である積層体Ｎｏ．１０９～１１４は、いずれも染料Ｄのキセノン２００時間照射後の残存率は９５％であり、耐光性に優れていた。
　特に、表１及び２の結果を総合すると、染料Ａとして同じ染料Ｅ－４０を使用するＮｏ．Ｃ２０２とＮｏ．１０１～１０８との対比、及び、染料Ｄとして同じ染料Ｆ－３４を使用するＮｏ．Ｃ２０３とＮｏ．１０９～１１２との対比から、本発明で規定する会合抑制剤の添加によって、吸収極大波長（λｍａｘ）に変化が生じることなく吸収波形が先鋭化され、この結果、優れた耐光性が得られていることがわかる。また、カルボン酸アミド化合物を会合抑制剤として使用するＮｏ．１０５～１０７の中では、シクロヘキサン環を有する会合抑制剤を使用するＮｏ．１０７の耐光性は８７％、ベンゼン環を有する会合抑制剤を使用するＮｏ．１０６の耐光性は９２％と、環構造を有しない会合抑制剤を使用するＮｏ．１０５と比較して、より優れた耐光性が得られていることがわかる。
　本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものではなく、添付の請求の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。
　本願は、２０２０年１２月２５日に日本国で特許出願された特願２０２０－２１７４９６及び２０２１年８月１２日に日本国で特許出願された特願２０２１－１３１７５３に基づく優先権を主張するものであり、これらはここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。
　９１　波長選択吸収フィルタ（波長選択吸収層）
　９２　ガスバリア層
　９３　積層体

Claims (10)

  1. 　樹脂と、色素と、カルボン酸エステル結合、カルボン酸アミド結合、スルホン酸アミド結合、ウレタン結合及びスルホニル結合の少なくともいずれか１つの極性基を有し、分子量が１０００以下である化合物とを含み、
    　前記色素が、下記に示す染料Ａ及び染料Ｄの少なくとも一方を含み、
    　前記染料Ａを含む場合は、波長３９０～４４０ｎｍにおける吸光度極大値に対して、２０％の吸光度を与える二つの波長のうち長波長側の波長が４５５ｎｍ以下であり、
    　前記染料Ｄを含む場合は、波長６８０～７８０ｎｍにおける吸光度極大値に対して、２０％の吸光度を与える二つの波長のうち短波長側の波長が６４０ｎｍ以上である、
    波長選択吸収フィルタ。
    　染料Ａ：波長３９０～４４０ｎｍに主吸収波長帯域を有する色素
    　染料Ｄ：波長６８０～７８０ｎｍに主吸収波長帯域を有する色素
  2. 　前記色素が、前記染料Ａおよび前記染料Ｄの両方を含む、請求項１に記載の波長選択吸収フィルタ。
  3. 　前記染料Ａが下記一般式（Ａ１）で表される色素である、請求項１又は２に記載の波長選択吸収フィルタ。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     　上記式中、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ３～Ｒ６は、各々独立に、水素原子又は置換基を示し、Ｒ５とＲ６は互いに結合して６員環を形成していてもよい。
  4. 　前記染料Ｄが下記一般式（１）で表されるスクアリン系色素である、請求項１～３のいずれか１項に記載の波長選択吸収フィルタ。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     　上記式中、Ａ及びＢは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基又は－ＣＨ＝Ｇを示す。Ｇは置換基を有していてもよい複素環基を示す。
  5. 　前記の極性基を有する化合物が、カルボン酸エステル結合を有する化合物である、請求項１～４のいずれか１項に記載の波長選択吸収フィルタ。
  6. 　前記の極性基を有する化合物が、カルボン酸アミド結合を有する化合物である、請求項１～４のいずれか１項に記載の波長選択吸収フィルタ。
  7. 　前記樹脂がポリスチレン樹脂を含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の波長選択吸収フィルタ。
  8. 　前記樹脂が環状ポリオレフィン樹脂を含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の波長選択吸収フィルタ。
  9. 　請求項１～８のいずれか１項に記載の波長選択吸収フィルタを含む表示装置。
  10. 　前記表示装置が自発光表示装置である、請求項９に記載の表示装置。
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