WO2022149510A1 - 光吸収フィルタ、光学フィルタ、自発光表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置、並びに、光学フィルタの製造方法 - Google Patents

光吸収フィルタ、光学フィルタ、自発光表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置、並びに、光学フィルタの製造方法 Download PDF

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伸隆 深川
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    • H10K59/8792—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light comprising light absorbing layers, e.g. black layers

Definitions

  • the present invention relates to a light absorption filter, an optical filter, a self-luminous display device, an organic electroluminescence display device and a liquid crystal display device, and a method for manufacturing an optical filter.
  • an organic electroluminescence (OLED) display device As the image display device, an organic electroluminescence (OLED) display device, a liquid crystal display device, and the like have been used in recent years.
  • OLED organic electroluminescence
  • the liquid crystal display device is expanding its use year by year as a space-saving image display device with low power consumption. Since the liquid crystal panel itself that displays an image is a non-light emitting element that does not emit light, the liquid crystal display device is arranged on the back surface of the liquid crystal panel and includes a backlight unit that supplies light to the liquid crystal panel.
  • the OLED display device is a device that displays an image by utilizing the self-luminous light of the OLED element. Therefore, it has advantages such as high contrast ratio, high color reproducibility, wide viewing angle, high-speed responsiveness, and thinness and weight reduction as compared with various display devices such as liquid crystal display devices and plasma display devices. .. In addition to these advantages, in terms of flexibility, research and development are being actively carried out as a next-generation display device.
  • a technique of incorporating a light absorption filter as a configuration is known.
  • a white light emitting daode LED
  • an attempt has been made to provide a light absorption filter in order to block light of an unnecessary wavelength emitted from the white LED.
  • an attempt is made to provide a light absorption filter from the viewpoint of suppressing external light reflection.
  • self-luminous display device a display using self-luminous light such as an OLED (Organic Light Emitting Dimensions) element, a micro LED (Light Emitting Devices) element, or a mini LED element (hereinafter referred to as "self-luminous display device") has been introduced. Attempts have also been made to provide a light absorption filter for the purpose of suppressing the decrease in contrast and improving the color reproduction.
  • OLED Organic Light Emitting Dimensions
  • micro LED Light Emitting Devices
  • mini LED element hereinafter referred to as "self-luminous display device”
  • Patent Document 1 describes a photochromic composition containing a dye and a compound that changes the color-developing mechanism of the dye by ultraviolet irradiation, which fades or disappears by ultraviolet irradiation.
  • the light absorption filter using the photochromic composition described in Patent Document 1 together with the resin does not have a very high decolorization rate due to ultraviolet irradiation. Further, it was found that, depending on the dye used, the dye is decomposed by irradiation with ultraviolet rays, and absorption derived from a new colored structure (hereinafter, also referred to as "secondary absorption") occurs due to this decomposition.
  • second absorption absorption derived from a new colored structure
  • the present invention is a light absorption filter in which a desired portion becomes a light-absorbing disappearing portion by ultraviolet irradiation, and the above-mentioned desired portion has an excellent decolorization rate by ultraviolet irradiation and accompanies decomposition of a dye by ultraviolet irradiation.
  • An object of the present invention is to provide a light absorption filter in which secondary absorption is unlikely to occur.
  • the present invention is an optical filter using the above-mentioned light absorption filter, which includes an optical filter having a light-absorbing portion and a light-absorbing disappearing portion at a desired position, and self-luminous light having the optical filter.
  • An object of the present invention is to provide a display device, an OLED display device, and a liquid crystal display device. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing the above optical filter.
  • High affinity partial structure (hereinafter, also referred to as “high affinity partial structure” or “high affinity part”) and low affinity partial structure (hereinafter, “low affinity partial structure” or “low affinity part”)
  • the present invention has been further studied based on this finding and has been completed.
  • G represents a heterocyclic group which may have a substituent.
  • the dye containing an electron donating type quencher contains a squaric dye represented by the following general formula (1A).
  • G represents a heterocyclic group which may have a substituent. However, at least one of A and B contains an electron donating type quencher unit.
  • the above-mentioned compound that generates radicals by ultraviolet irradiation is a compound that generates radicals by intramolecular cleavage of this compound, and the partial structure that generates radicals by the above-mentioned ultraviolet irradiation generates radicals by intramolecular cleavage of this partial structure.
  • the light absorption filter according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9> which is a partial structure.
  • the above-mentioned compound that generates radicals by ultraviolet irradiation is a compound that extracts hydrogen atoms from a compound that exists in the vicinity to generate radicals
  • the partial structure that generates radicals by the above-mentioned ultraviolet irradiation is hydrogen from a compound that exists in the vicinity.
  • the compound that extracts a hydrogen atom from a compound existing in the vicinity of the above to generate a radical is a benzophenone compound substituted with an alkoxy group
  • the partial structure in which a hydrogen atom is extracted from a compound existing in the vicinity of the above to generate a radical is a benzophenone compound.
  • the light absorption filter according to ⁇ 11> which is a partial structure derived from a benzophenone compound substituted with an alkoxy group.
  • ⁇ 14> An optical filter obtained by mask-exposing the light absorption filter according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13> by irradiation with ultraviolet rays.
  • the self according to ⁇ 15> which has a layer that inhibits light absorption of a compound that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays or a partial structure that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays on the viewer side with respect to the optical filter.
  • a method for manufacturing an optical filter comprising a step of irradiating the light absorption filter according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13> with ultraviolet rays to perform mask exposure.
  • substituents there is no particular notice when there are a plurality of substituents or linking groups (hereinafter referred to as substituents, etc.) represented by a specific code or formula, or when a plurality of substituents, etc. are specified at the same time. As long as each substituent or the like may be the same or different from each other. This also applies to the regulation of the number of substituents and the like. Further, when a plurality of substituents and the like are close to each other (particularly when they are adjacent to each other), they may be connected to each other to form a ring unless otherwise specified.
  • the ring for example, an alicyclic ring, an aromatic ring, or a heterocycle may be further condensed to form a fused ring.
  • the components constituting the light absorption filter are each contained.
  • One type may be contained in the light absorption filter, or two or more types may be contained. The same applies to an optical filter manufactured by using the light absorption filter of the present invention.
  • the description of the light absorption filter of the present invention can be preferably applied to the optical filter of the present invention, except that the optical filter has a light absorption disappearing portion formed by irradiation with ultraviolet rays.
  • the double bond may be any of E-type and Z-type in the molecule, or a mixture thereof.
  • the indication of a compound is used to mean that the compound itself, its salt, and its ion are included. Further, it is meant to include a structure in which a part of the structure is changed as long as the effect of the present invention is not impaired.
  • the compound for which substitution or non-substitution is not specified may have any substituent as long as the effect of the present invention is not impaired. This also applies to substituents and linking groups.
  • the numerical range represented by using "-" in the present invention means a range including the numerical values before and after "-" as the lower limit value and the upper limit value.
  • the composition includes, in addition to a mixture having a constant component concentration (each component is uniformly dispersed), a mixture in which the component concentration varies within a range that does not impair the desired function. do.
  • having the main absorption wavelength band in the wavelength XX to YY nm means that the wavelength showing the maximum absorption (that is, the maximum absorption wavelength) exists in the wavelength region XX to YY nm. Therefore, if the maximum absorption wavelength is within the wavelength region, the entire absorption band including this wavelength may be within the wavelength region or may extend beyond the wavelength region. Further, when a plurality of maximum absorption wavelengths are present, it is sufficient that the maximum absorption wavelength showing the maximum absorbance exists in the above wavelength region. That is, the maximum absorption wavelength other than the maximum absorption wavelength showing the maximum absorbance may exist in or outside the wavelength region XX to YY nm.
  • the light absorption filter of the present invention can make a desired part a light-absorbing disappearing part by irradiating with ultraviolet rays, and the above-mentioned desired part has an excellent decolorization rate by irradiating with ultraviolet rays, and moreover, it can decompose dyes by irradiating with ultraviolet rays. The accompanying secondary absorption is also unlikely to occur.
  • the optical filter of the present invention and the self-luminous display device, OLED display device and liquid crystal display device of the present invention provided with the optical filter can have a light absorbing portion and a light absorbing disappearing portion at a desired position. .. Further, according to the production method of the present invention, it is possible to obtain an optical filter having a light-absorbing portion and a light-absorbing disappearing portion at a desired position.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an outline of an embodiment of a liquid crystal display device having an optical filter of the present invention.
  • One form of the light absorption filter of the present invention contains a resin, a dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 400 to 700 nm (hereinafter, also simply referred to as “dye”), and a compound that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays.
  • the resin is composed of a polymer having both a high-affinity partial structure and a low-affinity partial structure for both the dye and the compound that generates a radical by irradiation with ultraviolet rays.
  • the dye preferably contains a squaric dye represented by the general formula (1) described later.
  • a light absorption containing a resin composed of a polymer containing a partial structure that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays and a dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 400 to 700 nm. It is a filter.
  • the main absorption wavelength band of the dye is the main absorption wavelength band of the dye measured in the state of the light absorption filter. Specifically, in the examples described later, the measurement is performed in the state of the light absorption filter with a substrate under the conditions described in the section of the absorbance of the light absorption filter.
  • the "dye” is dispersed (preferably dissolved) in the resin to form the light absorption filter as a layer showing a specific absorption spectrum derived from the dye.
  • This variance may be random, regular, or the like.
  • the above-mentioned "compound that generates radicals by ultraviolet irradiation” may be dispersed (preferably dissolved) in the resin, or a resin composed of a polymer having a partial structure that generates radicals by ultraviolet irradiation may be blended. Generates radicals by irradiation with ultraviolet rays.
  • the dye can be faded and decolorized by the mechanism by which the generated radicals react with the dye.
  • a compound or partial structure that generates radicals by irradiating with ultraviolet rays is a compound or partial structure that generates radicals by extracting hydrogen atoms from compounds existing in the vicinity thereof (hereinafter, "hydrogen abstraction type photoradical generator”). It can also be called.).
  • the hydrogen abstraction type photoradical generator excited by irradiation with ultraviolet rays abstracts hydrogen atoms (hydrogen radicals) of the dye existing in the vicinity to generate a dye having a radical. As a result, the dye can be faded and decolorized.
  • the resin contains a dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 400 to 700 nm and a compound that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays.
  • Another embodiment of the light absorption filter of the present invention contains a dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 400 to 700 nm and a resin composed of a polymer containing a partial structure that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays.
  • the light absorption filter of the present invention having such a structure has an excellent decolorization rate by ultraviolet irradiation, hardly causes secondary absorption due to decomposition of the dye, and has a decolorization property close to colorless. be able to.
  • the compound that generates radicals by ultraviolet irradiation generates radical species by ultraviolet irradiation, and the radical species reacts directly or indirectly with the dye to decompose the dye. Dyes fade and fade.
  • the hydrogen abstraction type photoradical generator excited by ultraviolet irradiation generates a dye having a radical by a hydrogen abstraction reaction, and the active dye reacts, decomposes, etc., so that the dye can fade or decolorize. ..
  • the squalin-based dye represented by the general formula (1) described later, or the benziliden-based or cinnamylidene-based dye represented by the general formula (V) described later, which may be contained in the light absorption filter of the present invention is specific. Since it has a chemical structure, it is preferable from the viewpoint that it can be decolorized with almost no secondary absorption due to the decomposition of the dye. Further, in one form of the light absorption filter of the present invention, the resin is a polymer having both a high-affinity partial structure and a low-affinity partial structure with respect to the dye and the compound that generates radicals by ultraviolet irradiation. It is composed.
  • this polymer confine the dye and the compound that generates radicals by ultraviolet irradiation in the high affinity part, so that the radical species easily react with the dye.
  • since it contains a resin composed of a polymer containing a partial structure that generates radicals by ultraviolet irradiation it is in the vicinity of the above dye (that is, in this resin) by ultraviolet irradiation.
  • Radicals are generated by the partial structure) that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays, and the radicals are easily reacted with the dye.
  • the dye is chemically changed and decolorized by irradiation with light (ultraviolet rays). That is, the dye has a characteristic that it can be decolorized by chemically changing it by irradiation with light (ultraviolet rays).
  • ⁇ Dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 400 to 700 nm Specific examples of the dye used in the present invention having a main absorption wavelength band at a wavelength of 400 to 700 nm (hereinafter, also simply referred to as “dye”) include, for example, tetraazaporphyrin (TAP) system and squaline. , SQ) -based, cyanine (CY) -based, benziliden-based and cinnamilidene-based dyes.
  • TAP tetraazaporphyrin
  • SQ cyanine
  • CY cyanine
  • benziliden-based benziliden-based
  • cinnamilidene-based dyes The dye that can be contained in the light absorption filter of the present invention may be one kind or two or more kinds.
  • the light absorption filter of the present invention may also contain a dye other than the above dye.
  • the light absorption filter of the present invention is a squaric dye represented by the following general formula (1), or a squaric dye represented by the following general formula (1), because it is difficult to generate a secondary colored structure due to the decomposition of the dye as the above dye.
  • V benzylidene-based or cinnamylidene-based dye represented by the general formula (V) described later.
  • the squaric dye represented by the following general formula (1) or the benzylidene represented by the following general formula (V) is also represented by the point that the absorption waveform in the main absorption wavelength band is sharp.
  • System-based or cinnamylidene-based dyes are preferred.
  • a dye having a sharp absorption waveform as described above as the dye it is possible to minimize the decrease in the transmittance of the display light and prevent the reflection of external light. That is, when the squalin-based dye represented by the following general formula (1) or the benziliden-based dye or the cinnamylden-based dye represented by the general formula (V) described later is used as the above dye, the present invention is used.
  • the optical filter of the present invention can be suitably manufactured by subjecting the light absorption filter to a mask by irradiating with ultraviolet rays.
  • the cation exists in a delocalized manner, and a plurality of tautomer structures exist. Therefore, in the present invention, when at least one tautomeric structure of a certain dye applies to each general formula, the certain dye is a dye represented by each general formula. Therefore, the dye represented by a specific general formula can also be said to be a dye whose at least one tautomer structure can be represented by a specific general formula.
  • the dye represented by the general formula may have any tautomeric structure as long as at least one of the tautomer structures applies to this general formula.
  • G represents a heterocyclic group which may have a substituent.
  • the aryl group that can be taken as A or B is not particularly limited, and may be a group composed of a monocyclic ring or a group composed of a condensed ring.
  • the aryl group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • Examples of the aryl group include groups composed of a benzene ring or a naphthalene ring, and more preferably a group composed of a benzene ring.
  • the heterocyclic group that can be taken as A or B is not particularly limited, and includes a group composed of an aliphatic heterocycle or an aromatic heterocycle, and a group composed of an aromatic heterocycle is preferable.
  • Examples of the heteroaryl group which is an aromatic heterocyclic group include a heteroaryl group which can be taken as the substituent X described later.
  • the aromatic heterocyclic group that can be taken as A or B is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring group, and more preferably a nitrogen-containing 5-membered ring group.
  • a group consisting of any of a ring, a benzoxazole ring and a pyrazolotriazole ring is preferably mentioned.
  • a group consisting of any of a pyrrole ring, a pyrazole ring, a thiazole ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring and a pyrazorotriazole ring is preferable.
  • the pyrazolotriazole ring may be a fused ring consisting of a pyrazole ring and a condensed ring of a triazole ring, and may be a fused ring formed by condensing at least one of these rings.
  • the general formulas (4) and (5) described later may be used.
  • a and B may be bonded to the squaric acid moiety (the 4-membered ring represented by the general formula (1)) at any moiety (ring-constituting atom) without particular limitation, but carbon. It is preferable to bond with an atom.
  • G indicates a heterocyclic group which may have a substituent, for example, the example shown in the above-mentioned heterocyclic group which can be taken as A or B. Preferred. Among them, a group composed of any one of a benzoxazole ring, a benzothiazole ring and an indoline ring is preferable.
  • At least one of A and B may have a hydrogen-bonding group that forms an intramolecular hydrogen bond.
  • Each of A, B and G may have a substituent X, and when it has a substituent X, adjacent substituents may be bonded to each other to further form a ring structure. Further, a plurality of substituents X may be present. Examples of the substituent X include a substituent that can be taken as R 1 of the general formula (2) described later.
  • R 10 to R 27 each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group.
  • the aliphatic group and aromatic group which can be taken as R 10 to R 27 are not particularly limited, and the alkyl group and cyclo which are classified as an aliphatic group in the substituent which can be taken as R 1 of the general formula (2) described later. It can be appropriately selected from an alkyl group, an alkenyl group and an alkynyl group, and an aryl group classified as an aromatic group.
  • the heterocyclic group that can be taken as R 10 to R 27 may be an aliphatic group or an aromatic group, and can be appropriately selected from, for example, a heteroaryl group or a heterocyclic group that can be taken as R 1 of the general formula (2) described later.
  • R 12 of ⁇ COOR 12 is a hydrogen atom (that is, a carboxy group)
  • the hydrogen atom may be dissociated (that is, a carbonate group) or may be in a salt state.
  • R 24 of ⁇ SO 3 R 24 is a hydrogen atom (that is, a sulfo group)
  • the hydrogen atom may be dissociated (that is, a sulfonate group) or may be in a salt state.
  • Examples of the halogen atom that can be taken as the substituent X include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group that can be taken as the substituent X is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, and even more preferably 1 to 8.
  • the alkenyl group preferably has 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, and even more preferably 2 to 8 carbon atoms.
  • the alkynyl group preferably has 2 to 40 carbon atoms, more preferably 2 to 30 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 25 carbon atoms.
  • the alkyl group, alkenyl group and alkynyl group may be linear, branched or cyclic, respectively, and linear or branched is preferable.
  • the aryl group that can be taken as the substituent X includes a monocyclic or fused ring group.
  • the aryl group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the alkyl moiety of the aralkyl group that can be taken as the substituent X is the same as that of the above alkyl group.
  • the aryl moiety of the aralkyl group is the same as the above aryl group.
  • the carbon number of the aralkyl group is preferably 7 to 40, more preferably 7 to 30, and even more preferably 7 to 25.
  • the heteroaryl group that can be taken as the substituent X includes a group consisting of a monocyclic ring or a fused ring, preferably a monocyclic ring or a group consisting of a fused ring having 2 to 8 rings, and the monocyclic ring or the number of rings is 2 to 2. A group consisting of four fused rings is more preferred.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 1 to 3. Examples of the hetero atom constituting the ring of the heteroaryl group include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and the like.
  • the heteroaryl group is preferably a group consisting of a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and even more preferably 3 to 12.
  • heteroaryl group examples include a pyridine ring, a piperidine ring, a furan ring, a flufuran ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, a quinoline ring, a morpholine ring, an indole ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a carbazole ring, a phenothiazine ring, and a phenoxazine ring.
  • Indole ring, thiazole ring, pyrazine ring, thiadiazine ring benzoquinoline ring and thiathiazol ring.
  • the ferrosenyl group that can be taken as the substituent X is preferably represented by the general formula (2M).
  • L represents a single bond or a divalent linking group that is not conjugate with A, B or G in the general formula (1).
  • R1m to R9m represent hydrogen atoms or substituents, respectively.
  • M is an atom that can constitute a metallocene compound, and represents Fe, Co, Ni, Ti, Cu, Zn, Zr, Cr, Mo, Os, Mn, Ru, Sn, Pd, Rh, V or Pt. * Indicates a joint with A, B or G.
  • L in the general formula (2M) is a single bond, a cyclopentadienyl ring directly bonded to A, B or G (a ring having R 1m in the general formula (2M)). Is not included in the conjugated structure coupled with A, B or G.
  • the divalent linking group that can be taken as L is not particularly limited as long as it is a linking group that does not conjugate with A, B or G, and is described above at the inside thereof or at the cyclopentadiene ring side end portion in the general formula (2M). May include a conjugate structure of.
  • -CO-, -CS-, -NR- R indicates a hydrogen atom or a monovalent substituent
  • R indicates a hydrogen atom or a monovalent substituent
  • -O-, -S-, -SO2- or -N CH-, or these.
  • Examples thereof include a divalent linking group consisting of a plurality (preferably 2 to 6) in combination.
  • the combined divalent linking group is not particularly limited, but a group containing -CO-, -NH-, -O- or -SO2- is preferable, and -CO-, -NH-, -O- or- Examples thereof include a linking group consisting of two or more SO 2- or a combination of at least one of -CO-, -NH-, -O- and -SO 2- and an alkylene group or an arylene group. Be done.
  • linking group consisting of two or more combinations of -CO-, -NH-, -O- or -SO 2- , -COO-, -OCO-, -CONH-, -NHCOO-, -NHCONH-, -SO 2 NH- is mentioned.
  • the linking group consisting of a combination of at least one of -CO-, -NH-, -O- and -SO 2- and an alkylene group or an arylene group includes -CO-, -COO- or -CONH- and an alkylene. Examples thereof include a group in combination with a group or an arylene group.
  • the substituent that can be taken as R is not particularly limited, and is synonymous with the substituent X that A in the general formula (2) may have.
  • L may have one or more substituents.
  • the substituent that L may have is not particularly limited, and is synonymous with, for example, the above-mentioned substituent X.
  • the substituents bonded to adjacent atoms may be bonded to each other to further form a ring structure.
  • the alkylene group that can be taken as L may be linear, branched or cyclic as long as it is a group having 1 to 20 carbon atoms, and for example, methylene, ethylene, propylene, methylethylene, methylmethylene, etc.
  • the group such as —CO— may be incorporated at any position in the alkylene group, and the number of incorporated groups is not particularly limited.
  • the arylene group that can be taken as L is not particularly limited as long as it is a group having 6 to 20 carbon atoms, and for example, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms that can be taken as A in the general formula (1). Examples thereof include groups in which one hydrogen atom is further removed from each group exemplified as.
  • the heterocyclic group that can be taken as L is not particularly limited, and examples thereof include a group obtained by further removing one hydrogen atom from each group exemplified as the heterocyclic group that can be taken as A.
  • the remaining partial structure excluding the linking group L corresponds to a structure (metallocene structure portion) in which one hydrogen atom is removed from the metallocene compound.
  • the metallocene compound serving as the metallocene structure is a known metallocene compound as long as it is a compound conforming to the partial structure defined by the above general formula (2M) (a compound in which a hydrogen atom is bonded instead of L). It can be used without particular limitation.
  • the metallocene structure defined by the general formula (2M) will be specifically described.
  • R 1m to R 9m represent hydrogen atoms or substituents, respectively.
  • the substituent that can be adopted as R 1 m to R 9 m is not particularly limited, but can be selected from, for example, the substituent that can be adopted as R 1 of the general formula (3).
  • R 1m to R 9m are preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an acyl group, an alkoxy group, an amino group or an amide group, respectively, and more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an acyl group or an alkoxy group.
  • a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an acyl group is more preferable, a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group is particularly preferable, and a hydrogen atom is the most preferable.
  • an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferable, and for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, and the like. Examples thereof include tert-butyl, isobutyl, pentyl, tert-pentyl, hexyl, octyl and 2-ethylhexyl.
  • This alkyl group may have a halogen atom as a substituent.
  • Alkyl groups substituted with halogen atoms include, for example, chloromethyl, dichloromethyl, trichloromethyl, bromomethyl, dibromomethyl, tribromomethyl, fluoromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, 2,2,2-trifluoroethyl. , Perfluoroethyl, perfluoropropyl, perfluorobutyl and the like. Further, in the alkyl group that can be taken as R 1 m or the like, at least one methylene group forming a carbon chain may be substituted with —O— or —CO—.
  • Alkyl groups in which the methylene group is substituted with —O— include, for example, methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, iso butoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, 2-methoxyethoxy, chloromethyloxy, dichloromethyloxy, and the like.
  • Trichloromethyloxy bromomethyloxy, dibromomethyloxy, tribromomethyloxy, fluoromethyloxy, difluoromethyloxy, trifluoromethyloxy, 2,2,2-trifluoroethyloxy, perfluoroethyloxy, perfluoropropyloxy ,
  • An alkyl group in which the end methylene group of perfluorobutyloxy is substituted, an alkyl group in which the internal methylene group of the carbon chain such as 2-methoxyethyl is substituted, and the like can be mentioned.
  • Alkyl groups in which the methylene group is substituted with -CO- include, for example, acetyl, propionyl, monochloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, trifluoroacetyl, propane-2-one-1-yl, butane-2-one-. 1-Il and the like can be mentioned.
  • M is an atom that can constitute a metallocene compound, and Fe, Co, Ni, Ti, Cu, Zn, Zr, Cr, Mo, Os, Mn, Ru, Sn, Pd, Rh. , V or Pt.
  • M is preferably Fe, Ti, Co, Ni, Zr, Ru or Os, more preferably Fe, Ti, Ni, Ru or Os, further preferably Fe or Ti, and most preferably Fe.
  • a group formed by combining preferable groups of L, R 1m to R 9m and M is preferable, and for example, as L, a single bond or a group having 2 to 8 carbon atoms is preferable.
  • a group formed by combining with Fe can be mentioned.
  • the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group, aryl group and heteroaryl group which can be taken as the substituent X, and the aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group which can be taken as R10 to R27 are each. Further, it may have a substituent or may be unsubstituted. Further, the substituent which may be possessed is not particularly limited, but is limited to an alkyl group, an aryl group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aromatic heterocyclic oxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group and an aryloxy group.
  • a preferred embodiment of the dye represented by the general formula (1) is a dye represented by the following general formula (2).
  • a 1 is the same as A in the general formula (1).
  • a heterocyclic group which is a nitrogen-containing 5-membered ring is preferable.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • R 1 and R 2 may be the same or different from each other, or may be bonded to each other to form a ring.
  • the substituents that can be taken as R 1 and R 2 are not particularly limited, but for example, an alkyl group (methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, t-butyl group, isobutyl group, pentyl group, etc.
  • an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heteroaryl group is preferable, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group is more preferable, and an alkyl group is further preferable.
  • Substituents that can be taken as R 1 and R 2 may further have substituents. Further, examples of the substituents that may be possessed include the above-mentioned substituents that can be taken as R1 and R2 , and the substituents X that A, B and G in the above-mentioned general formula (1) may have. Be done. Further, R 1 and R 2 may be bonded to each other to form a ring, or R 1 or R 2 may be bonded to the substituent of B 2 or B 3 to form a ring.
  • B 1 , B 2 , B 3 and B 4 each independently represent a carbon atom or a nitrogen atom.
  • the ring containing B 1 , B 2 , B 3 and B 4 is an aromatic ring.
  • B 1 to B 4 at least two or more are preferably carbon atoms, and it is more preferable that all of B 1 to B 4 are carbon atoms.
  • the carbon atom that can be taken as B 1 to B 4 has a hydrogen atom or a substituent.
  • the number of carbon atoms having a substituent is not particularly limited, but is preferably 0, 1 or 2, and more preferably 1.
  • B 1 and B 4 are carbon atoms and at least one of them has a substituent.
  • the substituents contained in the carbon atoms that can be taken as B 1 to B 4 are not particularly limited, and examples thereof include the above-mentioned substituents that can be taken as R 1 and R 2 .
  • a hydroxy group more preferably an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryl group, an acyl group, an amide group, a sulfonylamide group, a carbamoyl group, an amino group, a cyano group, a nitro group, a halogen atom or a hydroxy group.
  • the substituents of the carbon atoms that can be taken as B 1 to B 4 may further have a substituent.
  • the substituents that may be further possessed include the substituents that R 1 and R 2 in the above-mentioned general formula (2) may further have, and A, B and A, B in the above-mentioned general formula (1). Examples thereof include the substituent X which G may have, and a ferrosenyl group is preferable.
  • an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, an amide group, a sulfonylamide group or a carbamoyl group is more preferable, and an alkyl group, an alkoxy group and a hydroxy are particularly preferable.
  • Examples thereof include a group, an amide group or a sulfonylamide group, most preferably a hydroxy group, an amide group or a sulfonylamide group.
  • the substituents of the carbon atoms that can be taken as B 1 and B 4 may further have a ferrosenyl group.
  • an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, an amino group, a cyano group, a nitro group or a halogen atom is more preferable, and one of the substituents is more preferable.
  • the group is an electron-attracting group (eg, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, a cyano group, a nitro group or a halogen atom).
  • the dye represented by the above general formula (2) is preferably a dye represented by any of the following general formulas (3), general formula (4) and general formula (5).
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and have the same meaning as R 1 and R 2 in the above general formula (2), and the preferable range is also the same.
  • B 1 to B 4 independently represent carbon atoms or nitrogen atoms, which are synonymous with B 1 to B 4 in the general formula (2), and the preferable range is also the same.
  • R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • the substituents that can be taken as R 3 and R 4 are not particularly limited, and the same substituents that can be taken as R 1 and R 2 can be mentioned.
  • the substituents that can be taken as R 3 are an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, an amide group, a sulfonylamide group, a cyano group, a nitro group, an aryl group, a heteroaryl group, a heterocyclic group, an alkoxycarbonyl group and a carbamoyl group.
  • a halogen atom is preferable, an alkyl group, an aryl group or an amino group is more preferable, and an alkyl group is further preferable.
  • These substituents that can be taken as R 3 may further have a ferrosenyl group.
  • an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, an acyloxy group, an amide group, a carbamoyl group, an amino group or a cyano group is preferable.
  • An alkyl group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, a carbamoyl group or an aryl group is more preferable, and an alkyl group is further preferable.
  • the alkyl group that can be taken as R 3 and R 4 may be linear, branched or cyclic, but linear or branched is preferable.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 12, more preferably 1 to 8.
  • Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a 2-ethylhexyl group and a cyclohexyl group, and a methyl group and a t-butyl group are more preferable.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and have the same meaning as R 1 and R 2 in the above general formula (2), and the preferable range is also the same.
  • B 1 to B 4 each independently represent a carbon atom or a nitrogen atom, and have the same meaning as B 1 to B 4 in the above general formula (2), and the preferable range is also the same.
  • R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • the substituents that can be taken as R 5 and R 6 are not particularly limited, and the same substituents that can be taken as R 1 and R 2 can be mentioned.
  • the substituents that can be taken as R 5 are an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, a cyano group, an aryl group, a heteroaryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an acyloxy group, an amide group and a sulfonylamide group.
  • alkyl group Ureid group or carbamoyl group is preferable, alkyl group, alkoxy group, acyl group, amide group or amino group is more preferable, and alkyl group is further preferable.
  • the alkyl group that can be taken as R 5 has the same meaning as the alkyl group that can be taken as R 3 in the general formula (3), and the preferred range is also the same.
  • the substituents that can be taken as R 6 are an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group and an acyl group.
  • Acyloxy group, amide group, sulfonylamide group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, carbamoyl group, amino group, cyano group, nitro group or halogen atom is preferable, and alkyl group, aryl group, heteroaryl group or heterocyclic group is preferable.
  • an alkyl group or an aryl group is further preferable.
  • the alkyl group that can be taken as R 6 has the same meaning as the alkyl group that can be taken as R 4 in the general formula (3), and the preferred range is also the same.
  • the aryl group that can be taken as R 6 is preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and more preferably a phenyl group.
  • This aryl group may have a substituent, and examples of such a substituent include groups included in the following substituent group A, in particular, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a sulfonyl group, and an amino. Groups, acylamino groups, sulfonylamino groups and the like are preferred. These substituents may further have a substituent. Specifically, the substituent is preferably an alkylsulfonylamino group.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and have the same meaning as R 1 and R 2 in the above general formula (2), and the preferable range is also the same.
  • B 1 to B 4 independently represent carbon atoms or nitrogen atoms, which are synonymous with B 1 to B 4 in the above general formula (2), and the preferable range is also the same.
  • R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • the substituents that can be taken as R 7 and R 8 are not particularly limited, and the same substituents that can be taken as R 1 and R 2 can be mentioned.
  • the preferred range, the more preferable range, and the more preferable group of the substituents that can be taken as R7 are the same as the substituents that can be taken as R5 in the general formula (4).
  • the alkyl group that can be taken as R 5 has the same meaning as the alkyl group that can be taken as R 3 , and the preferable range is also the same.
  • the preferable range, the more preferable range and the more preferable range of the substituent which can be adopted as R 8 are the same as the substituent which can be adopted as R 6 in the general formula (4).
  • the preferable range of the alkyl group and the aryl group that can be taken as R 8 is synonymous with the alkyl group and the aryl group that can be taken as R 6 in the above general formula (4), and the preferable range is also the same.
  • any squaric dye represented by any of the general formulas (1) to (5) can be used without particular limitation.
  • Examples thereof include JP-A-2006-160618, International Publication No. 2004/005981, International Publication No. 2004/007447, Days and Pigment, 2001, 49, p.
  • Examples thereof include the compounds described in 161-179, International Publication No. 2008/090757, International Publication No. 2005/121098, and JP-A-2008-275726.
  • the table is represented by any of the general formulas (6) to (9) described in [0081] to [095] of International Publication No. 2021 / 132674.
  • the squaric dye represented by the general formula (1) may be a quencher-embedded dye in which the quencher portion is linked to the dye by a covalent bond via a linking group.
  • the quencher-embedded dye can also be preferably used as the dye. That is, the quencher-embedded dye is counted as the dye according to the wavelength having the main absorption wavelength band.
  • Examples of the quencher-embedded dye include an electron-donating quenching agent-embedded dye in which the quenching agent is an electron-donating quenching agent, and an electron-accepting quenching agent in which the quenching agent is an electron-accepting quenching agent. Will be.
  • the electron-donated photochromic agent unit is an excited state by donating electrons to the SOMO of the low energy level of the two SOMOs of the excited state dye and then receiving electrons from the SOMO of the high energy level of the dye. It means a structural part that inactivates the pigment in the basal state.
  • the electron-accepting photochromic agent section is excited by receiving electrons from the high-energy level SOMO of the two SOMOs of the excited state dye and then donating electrons to the low-energy level SOMO of the dye. It means a structural part that inactivates the state pigment to the ground state.
  • Examples of the electron donating type quenching agent unit include the ferrosenyl group in the above-mentioned substituent X, and the quenching described in paragraphs [0199] to [0212] and paragraphs [0234] to [0287] of International Publication No. 2019/066043.
  • the quencher portion of the agent compound can be mentioned, and the ferrosenyl group in the above-mentioned substituent X is preferable.
  • the electron accepting type quenching agent unit for example, the quenching agent unit in the quenching agent compound described in paragraphs [0288] to [0310] of International Publication No. 2019/066043 can be mentioned.
  • the light absorption filter of the present invention contains a dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 400 to 700 nm and a resin composed of a polymer containing a partial structure that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays, the light absorption moiety of the present invention.
  • the dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 400 to 700 nm preferably contains a dye containing an electron-donating type photochromic agent, and may contain a squarin-based dye represented by the following general formula (1A). More preferred.
  • G represents a heterocyclic group which may have a substituent.
  • at least one of A and B contains an electron donating type quencher unit.
  • the dye represented by the general formula (1A) is the above-mentioned general formula except that at least one of A and B contains an electron-donating quenching agent portion in the dye represented by the above-mentioned general formula (1). It is the same as the dye represented by (1). Therefore, the description relating to A, B and G in the above-mentioned general formula (1) can be applied to the description relating to A, B and G in the general formula (1A). Further, as a preferred embodiment of the dye represented by the general formula (1A), any one of the general formulas (2) to (9) which is a preferred embodiment of the dye represented by the above-mentioned general formula (1) can be used.
  • the electron-donating quenching agent portion contained in at least one of A and B is preferably a ferrosenyl group in the above-mentioned substituent X.
  • a 61 represents an acidic nucleus
  • L 61 , L 62 and L 63 each represent a methine group which may be independently substituted
  • L 64 and L 65 each independently have 1 to 4 carbon atoms.
  • R 64 represents an alkyl, alkenyl, cycloalkyl or aryl group
  • R 65 and R 66 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, respectively.
  • R 61 indicates a substituent, m 61 is an integer of 0 or 1, and n 61 is an integer of 0 to 4.
  • the compound (dye) represented by the general formula (V) is a benzylidene-based or synnamilidene-based dye represented by the general formula (V) described in [0116] to [0133] of International Publication No. 2021 / 132674. It is the same. Therefore, the description of [0118] to [0133] of International Publication No. 2021/132674 is applied as it is to the explanation of each substituent in the general formula (V) and the specific example of the compound represented by the general formula (V). can do.
  • the total content of the dyes is preferably 0.10 parts by mass or more, more preferably 0.15 parts by mass or more, and 0.20 parts by mass in 100 parts by mass of the light absorption filter of the present invention. More than parts by mass is more preferable, 0.25 parts by mass or more is particularly preferable, and 0.30 parts by mass or more is particularly preferable.
  • the total content of the dyes in the light absorption filter of the present invention is at least the above-mentioned preferable lower limit value, a good antireflection effect can be obtained.
  • the total content of the dyes is usually 50 parts by mass or less, preferably 40 parts by mass or less, preferably 30 parts by mass in 100 parts by mass of the light absorption filter of the present invention. More preferably, it is more preferably 10 parts by mass or less, further preferably 15 parts by mass or less, and particularly preferably 10 parts by mass or less.
  • the content of the squalin dye represented by the general formula (1) or the benziliden-based or cinnamylden-based dye represented by the general formula (V) is the light absorption filter of the present invention. Of 100 parts by mass, 0.01 to 30 parts by mass is preferable, and 0.1 to 10 parts by mass is more preferable.
  • the content of the dye with a built-in dimming agent constitutes the light absorption filter of the present invention from the viewpoint of imparting light absorption such as an antireflection effect. It is preferably 0.10 parts by mass or more, more preferably 0.15 parts by mass or more, further preferably 0.20 parts by mass or more, particularly preferably 0.25 parts by mass or more, and particularly preferably, with respect to 100 parts by mass of the resin.
  • the upper limit is preferably 45 parts by mass or less, preferably 40 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less, further preferably 15 parts by mass or less, and particularly preferably 10 parts by mass or less.
  • the compound used in the present invention that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays is a compound that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays and has a function of decolorizing the dye. If so, it is not particularly limited.
  • a compound that absorbs light and generates radicals hereinafter, also referred to as “photoradical generator” can be preferably used.
  • the radicals generated may be biradicals in addition to ordinary radicals.
  • the photoradical generator a compound commonly used as a photoradical polymerization initiator or a photoradical generator can be used without particular limitation, and an acetophenone generator, a benzoin generator, a benzophenone generator, a phosphine oxide generator and the like can be used.
  • the "XX generator” may be referred to as "XX compound” or "XX compound”, respectively, and hereinafter referred to as "XX compound”. Call it.
  • Specific examples, preferred forms, commercially available products, etc. of the photoradical initiator are described in paragraphs [0133] to [0151] of JP-A-2009-098658, which describe specific examples, preferred forms, and commercially available products of the photoradical initiator. These are similarly preferably used in the present invention.
  • the photoradical generator is preferably a compound that generates a radical by intramolecular cleavage, or a compound that extracts a hydrogen atom from a compound existing in the vicinity to generate a radical, and from the viewpoint of further improving the decolorization rate. , It is more preferable that the compound extracts a hydrogen atom from a compound existing in the vicinity to generate a radical.
  • the above-mentioned compound that generates radicals by intramolecular cleavage (hereinafter, also referred to as “intramolecular cleavage type photoradical generator”) is a compound that absorbs light and generates radicals by homolytic binding cleavage. Means a compound that does.
  • Examples of the intramolecular cleavage type photoradical generator include acetophenone compounds, benzoin compounds, phosphine oxide compounds, oxime compounds, ketal compounds, azo compounds, peroxide compounds, disulfide compounds, onium salt compounds, borate salt compounds, and active ester compounds. Examples thereof include active halogen compounds, inorganic complex compounds and coumarin compounds. Among these, acetophenone compounds, benzoin compounds or phosphine oxide compounds which are carbonyl compounds are preferable.
  • the Norrish type I reaction is known as an intramolecular cleavage type carbonyl compound photolysis reaction, and this reaction can be referred to for the radical generation mechanism.
  • a compound that extracts a hydrogen atom from a compound existing in the vicinity of the above to generate a radical is a carbonyl compound in an excited triple-term state obtained by light absorption. Means a compound that produces a radical by extracting a hydrogen atom from a compound existing in the vicinity.
  • a carbonyl compound is known, and examples thereof include a benzophenone compound, an anthraquinone compound, and a thioxanthone compound.
  • the Norrish type II reaction is known as a photodecomposition reaction of a hydrogen abstraction type carbonyl compound, and this reaction can be referred to for the radical generation mechanism.
  • Examples of the compound existing in the vicinity include various components existing in the light absorption filter such as a resin, a dye, and a radical generator.
  • a compound existing in the vicinity becomes a compound having a radical by extracting a hydrogen atom. Since the dye from which hydrogen atoms have been extracted by the hydrogen extraction type photoradical generator becomes an active compound having radicals, fading and decolorization of the dye may occur even by a reaction such as decomposition of the dye having these radicals. Further, when the hydrogen abstraction type photoradical generator abstracts a hydrogen atom in the molecule, a biradical is generated. As the hydrogen abstraction type photoradical generator, a benzophenone compound is preferable from the viewpoint of the quantum yield of the hydrogen abstraction reaction.
  • benzophenone compound examples include alkylbenzophenone compounds such as benzophenone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone or 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-chlorobenzophenone or 4 -A benzophenone compound having a halogen atom such as bromobenzophenone, a benzophenone compound substituted with a carboxy group or an alkoxycarbonyl group such as 2-carboxybenzophenone, 2-ethoxycarbonylbenzophenone, benzophenone tetracarboxylic acid or its tetramethyl ester, 4,4'.
  • alkylbenzophenone compounds such as benzophenone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone or 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-chlorobenzophenone or 4 -A benzophenone compound having a halogen atom such as bromobenzophenone, a benzophenone compound substituted
  • dialkylamino such as bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (dicyclohexylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (dihydroxyethylamino) benzophenone
  • a benzophenone compound preferably a 4,4'-bis (dialkylamino) benzophenone compound) or an alkoxy group such as 4-methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone, 4-methoxybenzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone is substituted. Examples include the benzophenone compound.
  • the benzophenone compound (also referred to as an alkoxybenzophenone compound) substituted with an alkoxy group achieves both the light resistance of the unexposed portion and the decolorizing property of the exposed portion. It is preferable from the viewpoint of realizing it at a high level while reducing it.
  • the number of alkoxy groups contained in the benzophenone compound is preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2.
  • the portion of the alkyl chain in the alkoxy group of the alkoxybenzophenone compound may be linear or branched.
  • the number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1 to 18, more preferably 1 to 15, further preferably 1 to 12, particularly preferably 1 to 6, and particularly preferably 1 to 3.
  • both the light resistance of the unexposed portion and the decolorizing property of the exposed portion are achieved at a higher level while reducing the molar compounding ratio of the radical generator to the dye.
  • the maximum absorption wavelength of ultraviolet rays to be absorbed is preferably in the range of 250 to 400 nm, more preferably in the range of 240 to 400 nm, and even more preferably in the range of 270 to 400 nm.
  • the wavelength of the absorption maximum attributed to the n- ⁇ * transition located on the longest wavelength side is preferably in the range of 260 to 400 nm, more preferably in the range of 285 to 345 nm.
  • the wavelength of the absorption maximum attributed to ⁇ - ⁇ * which is located on the second longest wavelength side, is preferably in the range of 240 to 380 nm, and more preferably in the range of 270 to 330 nm.
  • a light source such as a metal halide lamp used at the time of exposure well, but it becomes difficult to absorb the ultraviolet rays that enter from the outside when it is incorporated in a display device. It is possible to achieve both the light resistance of the unexposed portion and the decolorizing property of the exposed portion.
  • examples of the photoradical generator having absorption in a longer wavelength region include an alkoxybenzophenone compound.
  • the maximum absorption wavelength of ultraviolet rays absorbed by a photoradical generator and the main absorption wavelength band of a dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 400 to 700 nm are usually preferably separated by 30 nm or more. There is no particular limit to the upper limit.
  • photo-cracking photoinitiators are manufactured by BASF (formerly Ciba Specialty Chemicals), "Irgacure 651”, “Irgacure 184”, “Irgacure 819”, “Irgacure 819”.
  • Kayacure DETX-S "Kayacure BP-100", “Kayacure BDMM”, “Kayacure CTX”, “Kayacure BMS” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • the content of the radical generator is preferably 0.01 to 30 parts by mass, preferably 0.1 to 30 parts by mass in 100 parts by mass of the light absorption filter of the present invention. 20 parts by mass is more preferable.
  • the blending amount of the radical generator (preferably the photoradical generator) in the light absorption filter of the present invention is for 1 mol of the dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 400 to 700 nm from the viewpoint of further improving the decolorization rate. , 0.1-20 mol is preferred.
  • the lower limit is more preferably 0.25 mol or more, further preferably 0.50 mol or more.
  • the upper limit is more preferably 17.5 mol or less, still more preferably 15 mol or less.
  • the light absorption filter of the present invention may contain one kind of radical generator (preferably a light radical generator), or may contain two or more kinds of radical generators.
  • the radical generator (preferably a photoradical generator) is preferably linked to the dye by a chemical bond.
  • the radicals generated from the radical generator can efficiently react with the dye, and the decolorization rate can be improved.
  • the resin contained in the light absorption filter of the present invention (hereinafter, also referred to as “matrix polymer”) has a partial structure having high affinity for the above dye and the above compound (radical generator) that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays. (Hereinafter, also referred to as "high-affinity part”) and a low-affinity partial structure (hereinafter, also referred to as “low-affinity part”) are preferably contained.
  • One form of the light absorption filter of the present invention contains a resin, a dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 400 to 700 nm, and a compound that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays, and the resin is the above dye and the above dye.
  • the resin is the above dye and the above dye.
  • Examples thereof include a light absorption filter composed of a polymer having both a high affinity part and a low affinity part for a radical generator.
  • the high affinity part can disperse (preferably dissolve) the dye and the radical generator (preferably a photoradical generator) in the light absorption filter.
  • the low-affinity part surrounds the high-affinity part to confine the dye and the radical generator (preferably a photoradical generator) in the high-affinity part, and the radical generator (preferably a photoradical generator). ), Or the reaction efficiency of the dye with the radical generated from), or the photoradic generator abstracting hydrogen atoms (hydrogen radicals) from the dye, thereby increasing the production efficiency of the dye having radicals and promoting decolorization. Any part may be used as long as it has a relatively low affinity for the high affinity part.
  • the high-affinity part and the low-affinity part are not particularly limited as long as they have a relative relationship to perform the above-mentioned functions.
  • fd, fp and fh represented by the following formulas can be used to discuss high affinity with the above dyes and radical generators.
  • ⁇ d, ⁇ p, and ⁇ h represent the London dispersion force term, the dipole intermolecular force term, and the hydrogen bond force term of the solubility parameters calculated by the Hoy method, respectively. The specific calculation method will be described later.
  • the absolute value of the difference in fh is preferably 15 or less, and more preferably 13 or less.
  • the lower limit of the absolute value of the difference of fd, the absolute value of the difference of fp, and the absolute value of the difference of fh is not particularly limited, and may be, for example, 1 or more.
  • ⁇ p -Dipole intramolecular force term ⁇ p-
  • the dipole intramolecular force term ⁇ p is obtained for Amorphous Polymers described in “2) Method of Hoy (1985, 1989)” on pages 214 to 220 of the literature “Properties of Polymers 3rd, ELSEVIER , (1990)”. It is calculated according to the description in the above column of the above document. For dyes containing a ferrosenyl group, the structure in which the ferrosenyl group is replaced with a hydrogen atom shall be calculated.
  • the hydrogen bond force term ⁇ h is a ⁇ h obtained for Amorphous Polymers described in the column “2) Methods of Hoy (1985, 1989)” on pages 214 to 220 of the document “Properties of Polymers 3rd, ELSEVIER , (1990)”. It is calculated according to the description in the above column of the above document. For dyes containing a ferrosenyl group, the structure in which the ferrosenyl group is replaced with a hydrogen atom shall be calculated.
  • the polymer having both the high-affinity part and the low-affinity part is preferably a block copolymer having a block composed of a high-affinity part and a block composed of a low-affinity part.
  • the block copolymer can confine the dye and the radical generator (preferably a photoradical generator) in a region (phase) having a width of several tens of nanometers. , The reaction efficiency between the radical and the dye or the production efficiency of the dye having the radical can be further enhanced.
  • the high affinity part is not particularly limited as long as it has a desired light transmittance (preferably, the light transmittance is 80% or more in the visible region having a wavelength of 400 to 800 nm). However, it preferably contains a polystyrene structure because of its affinity for a wide variety of dyes and radical generators (preferably photoradical generators). Further, the low affinity part is not particularly limited as long as it also has a desired light transmittance (preferably, the light transmittance is 80% or more in the visible region having a wavelength of 400 to 800 nm).
  • a structure in which linear or branched alkylene groups are linked is preferable because of its low compatibility with dyes and radical generators (preferably photoradical generators), and it may contain a structure in which a polydiene structure is hydrogenated. Especially preferable.
  • the structure in which the polydiene structure is hydrogenated includes, in addition to the structure in which all the double bonds in the polydiene structure are hydrogenated, the structure in which the double bond of the main chain portion in the polydiene structure is selectively hydrogenated. It means.
  • the range of part 20/80 to 50/50 is particularly preferred.
  • a preferable example of the polymer having both the high affinity part and the low affinity part is, for example, a hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer (SEBS) obtained by hydrogenating SBS (styrene-butadiene-styrene block copolymer). ), And hydrogenated styrene-diene-based copolymers such as hydrogenated styrene-isoprene-styrene block copolymer (SEPS) obtained by adding hydrogen to SIS (styrene-isoprene-styrene block copolymer).
  • SEBS hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer
  • SEPS hydrogenated styrene-isoprene-styrene block copolymer
  • hydrolymer a copolymer in which the double bond of the main chain portion of butadiene constituting the SBS is selectively hydrogenated is also preferably mentioned.
  • the polymer having both the high affinity part and the low affinity part only one kind may be used, or two or more kinds may be used.
  • modified hydrogenated styrene-diene copolymer for example, all of them are manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd. ((former) Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.) "Tough Tech M Series” and Daicel Co., Ltd. Examples include “Epofriend”, “Polar group-modified dynaron” manufactured by JSR Co., Ltd., and “Rezeda” manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.
  • the light absorption filter of the present invention preferably contains a polyphenylene ether resin in addition to the hydrogenated styrene-diene copolymer.
  • a polyphenylene ether resin in addition to the hydrogenated styrene-diene copolymer.
  • the polystyrene resin and the polyphenylene ether resin together, the physical cross-linking in the hydrogenated styrene-diene copolymer can be strengthened and the heat resistance can be improved.
  • the polyphenylene ether resin Zylon S201A, 202A, S203A (all trade names) manufactured by Asahi Kasei Corporation can be preferably used.
  • a resin in which a polystyrene resin and a polyphenylene ether resin are mixed in advance may be used.
  • the mixed resin of the polystyrene resin and the polyphenylene ether resin for example, Zylon 1002H, 1000H, 600H, 500H, 400H, 300H, 200H (all trade names) manufactured by Asahi Kasei Corporation are preferable. Can be used.
  • the hydrogenated styrene-diene copolymer and the polyphenylene ether resin are used in combination in the light absorption filter of the present invention, the mass ratio of the two is 99 / for the hydrogenated styrene-diene copolymer / polyphenylene ether resin. 1 to 50/50 is preferable, 98/2 to 60/40 is more preferable, and 95/5 to 70/30 is even more preferable.
  • the light absorption filter of the present invention has sufficient toughness, and the solvent can be appropriately volatilized when a solution is formed.
  • a resin composed of a polymer containing a partial structure that generates radicals by ultraviolet irradiation can also be preferably used as the resin contained in the light absorption filter of the present invention.
  • One embodiment of the light absorption filter of the present invention is a light absorption filter containing a dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 400 to 700 nm and a resin composed of a polymer containing a partial structure that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays.
  • the resin composed of a polymer containing a partial structure that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays of the present invention will be described in detail.
  • the polymer containing a partial structure that generates radicals by ultraviolet irradiation is not particularly limited as long as it is a polymer that contains a partial structure that generates radicals by ultraviolet irradiation and has a function of decolorizing the dye.
  • a polymer containing a partial structure that absorbs light and generates radicals can be preferably used.
  • the radicals generated may be biradicals in addition to ordinary radicals.
  • the partial structure that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays is preferably a partial structure that generates radicals by intramolecular cleavage, or a partial structure that extracts hydrogen atoms from a compound existing in the vicinity to generate radicals, and is extinguished.
  • a partial structure in which a hydrogen atom is extracted from a compound existing in the vicinity to generate a radical is preferable.
  • the partial structure that generates a radical by intramolecular cleavage and the partial structure that extracts a hydrogen atom from a compound existing in the vicinity to generate a radical the above-mentioned compound that generates a radical by intramolecular cleavage and the present in the vicinity.
  • a partial structure derived from a compound that extracts a hydrogen atom from the compound to generate a radical is preferable.
  • the polymer containing a partial structure derived from a benzophenone compound also referred to as an alkoxybenzophenone compound
  • an alkoxybenzophenone compound in which an alkoxy group is substituted has both the light resistance of the unexposed portion and the decolorizing property of the exposed portion, and is a radical generator for the dye. It is preferable in that it can be realized while reducing the molar compounding ratio.
  • Various polymers can be used as the polymer containing a partial structure that generates radicals by the above-mentioned ultraviolet irradiation, and examples thereof include alkyl (meth) acrylic polymers and polymers having an aromatic ring in the side chain, which are obtained by ultraviolet irradiation. From the viewpoint that the molecular weight of the polymer is unlikely to decrease, a polymer having an aromatic structure (aromatic ring) in the side chain is preferable, a (meth) acrylic polymer having an aromatic ring in the side chain is more preferable, and a configuration having an aromatic ring in the side chain. A (meth) acrylic polymer containing a unit is more preferred.
  • polymers having an aromatic structure (aromatic ring) in the side chain are classified as polymers containing a partial structure that generates radicals by intramolecular cleavage.
  • (meth) acrylic polymer refers to a polymer containing at least one of a structural unit derived from (meth) acrylic acid and a structural unit derived from (meth) acrylic acid ester.
  • the "main chain” represents a relatively longest bond chain among the molecules of the polymer constituting the resin
  • the "side chain” represents an atomic group branched from the main chain. ..
  • Examples of the monomer forming a structural unit having an aromatic ring in the side chain include benzyl acrylate, benzyl methacrylate, naphthyl acrylate, naphthyl methacrylate, naphthyl methyl acrylate, and naphthyl methyl methacrylate.
  • the content of the structural unit having an aromatic ring on the side chain is preferably 5% by mass to 100% by mass, more preferably 10% by mass to 100% by mass, and 20% by mass with respect to the total mass of the resin. It is more preferably% to 100% by mass, and particularly preferably 50% by mass to 100% by mass.
  • the polymer containing a partial structure that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays may contain a structural unit having an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms from the viewpoint of controlling the glass transition temperature and the like.
  • a structural unit having an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms is preferable, and methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and n-propyl (meth) acrylate are preferable.
  • the above-mentioned structural unit having an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms may be used alone or in combination of two or more.
  • the structural unit having an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms is preferably contained in an amount of 0% by mass to 95% by mass with respect to the total mass of the resin.
  • the polymer containing a partial structure that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays may contain a structural unit having an alicyclic skeleton from the viewpoint of polarity adjustment.
  • a structural unit having an alicyclic skeleton As the monomer forming the structural unit having an alicyclic skeleton, an alkyl (meth) acrylate having an alicyclic skeleton is preferable, dicyclopentanyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate and the like. Can be mentioned.
  • the content of the structural unit having an alicyclic skeleton is 1% by mass with respect to the total mass of the resin. It is preferably ⁇ 90% by mass, and more preferably 5% by mass to 80% by mass.
  • the polymer containing a partial structure that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays may contain a structural unit derived from (meth) acrylic acid from the viewpoint of polarity adjustment.
  • the content of the structural unit derived from (meth) acrylic acid is preferably 0% by mass to 70% by mass, more preferably 0% by mass to 60% by mass, based on the total mass of the polymer.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the polymer containing the partial structure that generates radicals by the above ultraviolet irradiation is preferably 10,000 or more, more preferably 10,000 to 200,000, and 15,000 to 15 It is more preferably 10,000.
  • the polymer contained in the light absorption filter of the present invention which has both a high affinity part and a low affinity part for the above dye and radical generator, preferably has a crosslinked structure.
  • a crosslinked structure By having the crosslinked structure, it is possible to suppress the diffusion of the dye and the compound that generates radicals by ultraviolet irradiation to the outside of the high affinity part, the decolorization rate can be further improved, and the mask exposure is performed. It has the effect of sharpening the boundary between the ultraviolet-irradiated part and the non-ultraviolet-irradiated part.
  • the cross-linking structure either physical cross-linking or chemical cross-linking can be preferably used.
  • the styrene domain functions as a physical cross-linking part, which is preferable. Further, by adding a polyphenylene ether resin to the hydrogenated styrene-polydiene block copolymer, the glass transition temperature of the styrene domain can be increased, the physical cross-linking of the styrene domain can be strengthened, and the heat resistance can be improved.
  • chemical cross-linking can be performed in either the high-affinity part or the low-affinity part, but the method of introducing the cross-linked structure into the low-affinity part has high affinity for dyes and compounds that generate radicals by irradiation with ultraviolet rays. It is preferable from the viewpoint of confining it in the part.
  • the polydiene structure can be crosslinked by radical polymerization.
  • maleic anhydride-modified hydrogenated styrene-polydiene block copolymers such as Tough Tech M1913 and M1943 manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd. and Clayton FG1901 manufactured by Shell Japan Co., Ltd. (both are trade names) are used as high-affinity parts.
  • a maleic anhydride moiety can also be used as a cross-linking site.
  • the light absorption filter of the present invention is peeled off as a resin component when it is manufactured by a method including a step of peeling the light absorption filter of the present invention from a release film among the methods for manufacturing a light absorption filter of the present invention described later. It is preferable because it can contain a component that controls the property (peeling property control resin component).
  • peelability of the light absorbing filter of the present invention from the peeling film, it is possible to prevent the light absorbing filter of the present invention from being peeled off after peeling, and various processing in the peeling step. It becomes possible to cope with speed. As a result, it is possible to obtain a favorable effect on improving the quality and productivity of the light absorption filter of the present invention.
  • the peelability control resin component is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the type of the release film.
  • a polyester-based polymer film is used as the release film as described later, for example, a polyester resin (also referred to as a polyester-based additive) is suitable as the release control resin component.
  • a cellulose acylate-based film is used as the release film, for example, a hydrogenated polystyrene-based resin (also referred to as a hydrogenated polystyrene-based additive) is suitable as the release control resin component.
  • the content of the peelability control resin component in the light absorption filter of the present invention is preferably 0.05% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more in the matrix polymer.
  • the upper limit is preferably 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, and further preferably 15% by mass or less. From the viewpoint of obtaining appropriate adhesion, the above-mentioned preferable range is preferable.
  • the absorption filter of the present invention may contain, in addition to the above-mentioned dye, the above-mentioned compound that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays, and the above-mentioned matrix polymer, an anti-fading agent, a matting agent, a leveling agent (surfactant), and the like. ..
  • a compound represented by the following general formula (IV) can be preferably used.
  • the compound represented by the general formula (IV) is the same as the compound represented by the general formula (IV) described in [0215] to [0221] of International Publication No. 2021/221122. Therefore, the description of [0217] to [0221] of International Publication No. 2021/221122 is applied as it is to the explanation of each substituent in the general formula (IV) and the specific example of the compound represented by the general formula (IV). can do.
  • R 31 represents an aliphatic group or an aromatic group
  • Y represents a group of non-metal atoms required to form a 5- to 7-membered ring with a nitrogen atom.
  • the compound represented by the general formula [III] is the same as the compound represented by the general formula [III] described in [0223] to [0227] of International Publication No. 2021/221122. Therefore, the description of [0225] to [0227] of International Publication No. 2021/221122 is applied as it is to the explanation of each substituent in the general formula [III] and the specific example of the compound represented by the general formula [III]. can do.
  • specific examples of the compound represented by the above general formula [III] include the exemplary compound B described on pages 8 to 11 of the specification of JP-A-2-167543. -1 to B-65 and exemplary compounds (1) to (120) described on pages 4 to 7 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-95439 can be mentioned.
  • the content of the anti-fading agent in the light absorption filter of the present invention is preferably 1 to 15% by mass, more preferably 5 to 15% by mass, based on 100% by mass of the total mass of the light absorption filter of the present invention. , More preferably 5 to 12.5% by mass, and particularly preferably 10 to 12.5% by mass.
  • the light absorption filter of the present invention can improve the light resistance of the dye (dye) without causing side effects such as discoloration.
  • Fine particles may be added to the surface of the light absorption filter of the present invention in order to impart slipperiness and prevent blocking, as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the fine particles silica (silicon dioxide, SiO 2 ) whose surface is coated with a hydrophobic group and which is in the form of secondary particles is preferably used.
  • the fine particles include titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and phosphoric acid together with silica or instead of silica.
  • Fine particles such as calcium may be used. Examples of commercially available fine particles include R972 and NX90S (both manufactured by Nippon Aerodil Co., Ltd., trade names).
  • the fine particles function as a so-called matting agent, and the addition of the fine particles forms minute irregularities on the surface of the light absorption filter of the present invention. Even if they overlap, they do not stick to each other and slipperiness is ensured.
  • the light absorption filter of the present invention contains a matting agent as fine particles, the fine irregularities due to the protrusions of the fine particles protruding from the filter surface are particularly slippery when there are 104 protrusions having a height of 30 nm or more / mm 2 or more. , The effect of improving blocking property is great.
  • the matting agent fine particles it is particularly preferable to apply the matting agent fine particles to the surface layer from the viewpoint of improving blocking property and slipperiness.
  • Examples of the method of applying fine particles to the surface layer include means such as multi-layer casting and coating.
  • the content of the matting agent in the light absorption filter of the present invention is appropriately adjusted according to the purpose.
  • the light absorption filter of the present invention is provided with the gas barrier layer described later, the above-mentioned matting agent fine particles are applied to the surface of the light absorption filter in contact with the gas barrier layer as long as the effect of the present invention is not impaired. Is preferable.
  • a leveling agent can be appropriately mixed with the light absorption filter of the present invention.
  • the leveling agent a commonly used compound can be used, and a fluorine-containing surfactant is particularly preferable.
  • the compounds described in paragraph numbers [0028] to [0056] in the specification of JP-A-2001-330725 can be mentioned.
  • the Megafuck F (trade name) series manufactured by DIC Corporation can also be used.
  • the content of the leveling agent in the light absorption filter of the present invention is appropriately adjusted according to the purpose.
  • the light absorption filter of the present invention includes low molecular weight plasticizers, oligomeric plasticizers, retardation modifiers, deterioration inhibitors, peeling accelerators, infrared absorbers, antioxidants, fillers, compatibilizers and the like. May be contained. Further, the light absorption filter of the present invention may contain the reaction accelerator or reaction retarder described in paragraphs [0020] and [0021] of JP-A-09-286979.
  • the light absorption filter of the present invention shall be produced by a solution film forming method, a melt extrusion method, or a method of forming a coating layer on a base film (release film) by an arbitrary method (coating method) by a conventional method. And can be combined with stretching as appropriate.
  • the light absorption filter of the present invention is preferably produced by a coating method.
  • the description of the solution film-forming method and melt-extrusion method in [0197] to [0203] of International Publication No. 2021/132674 can be applied as they are.
  • a solution of the material of the light absorption filter is applied to the release film to form a coating layer.
  • a mold release agent or the like may be appropriately applied to the surface of the release film in advance in order to control the adhesiveness with the coating layer.
  • the coating layer can be used by laminating it with another member via an adhesive layer in a later step and then peeling off the release film. Any adhesive can be appropriately used as the adhesive constituting the adhesive layer.
  • the release film can be appropriately stretched together with the release film coated with the solution of the material of the light absorption filter or the coating layer is laminated.
  • the solvent used for the solution of the material of the light absorption filter is that the material of the light absorption filter can be dissolved or dispersed, that it tends to have a uniform surface shape in the coating process and the drying process, that the liquid storage stability can be ensured, and that it is appropriate. It can be appropriately selected from the viewpoint of having a saturated vapor pressure and the like.
  • the timing at which the dye and / or the radical generator (preferably the photoradical generator) is added to the material of the light absorption filter is not particularly limited as long as it is added at the time of film formation. For example, it may be added at the time of synthesizing the matrix polymer, or may be mixed with the material of the light absorption filter at the time of preparing the coating liquid of the material of the light absorption filter.
  • the release film used for forming the light absorption filter of the present invention by a coating method or the like preferably has a film thickness of 5 to 100 ⁇ m, more preferably 10 to 75 ⁇ m, and even more preferably 15 to 55 ⁇ m.
  • the film thickness is at least the above-mentioned preferable lower limit value, it is easy to secure sufficient mechanical strength, and failures such as curl, wrinkles, and buckling are unlikely to occur.
  • the film thickness is not more than the above preferable upper limit value, the surface pressure applied to the multilayer film when the multilayer film of the light absorption filter and the release film of the present invention is stored, for example, in the form of a long roll. It is easy to adjust to an appropriate range, and adhesion failure is unlikely to occur.
  • the surface energy of the release film is not particularly limited, but is the surface energy of the material and coating solution of the light absorption filter of the present invention and the surface energy of the surface of the release film on the side where the light absorption filter of the present invention is formed.
  • the adhesive force between the light absorption filter of the present invention and the release film can be adjusted. If the surface energy difference is small, the adhesive force tends to increase, and if the surface energy difference is large, the adhesive force tends to decrease, which can be appropriately set.
  • the surface energy of the release film can be calculated from the contact angle values of water and methylene iodide using the Owens method.
  • DM901 contact angle meter manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.
  • the surface energy of the release film on the side where the light absorption filter of the present invention is formed is preferably 41.0 to 48.0 mN / m, and more preferably 42.0 to 48.0 mN / m.
  • the surface unevenness of the release film is not particularly limited, but the surface energy, hardness, and surface unevenness of the light absorption filter of the present invention are opposite to those of the release film on which the light absorption filter of the present invention is formed.
  • it is adjusted for the purpose of preventing adhesion failure when the multi-layer film of the light absorption filter of the present invention and the release film is stored in a long roll form. be able to.
  • Increasing the surface unevenness tends to suppress adhesion failure, and reducing the surface unevenness tends to reduce the surface unevenness of the light absorption filter of the present invention and reduce the haze of the light absorption filter of the present invention. , Can be set as appropriate.
  • any material and film can be appropriately used as such a release film.
  • Specific examples thereof include polyester polymers (including polyethylene terephthalate films), olefin polymers, cycloolefin polymers, (meth) acrylic polymers, cellulosic polymers, polyamide polymers and the like.
  • surface treatment can be appropriately performed. For example, corona treatment, room temperature plasma treatment, saponification treatment and the like can be performed to reduce the surface energy, and silicone treatment, fluorine treatment, olefin treatment and the like can be performed to increase the surface energy.
  • the peeling force between the light absorption filter of the present invention and the release film is the material of the light absorption filter of the present invention, the material of the release film, and the light of the present invention.
  • the internal distortion of the absorption filter can be adjusted and controlled.
  • This peeling force can be measured, for example, in a test of peeling the peeling film in the 90 ° direction, and the peeling force when measured at a speed of 300 mm / min is preferably 0.001 to 5N / 25 mm, preferably 0.01.
  • ⁇ 3N / 25mm is more preferable, and 0.05 to 1N / 25mm is even more preferable. If it is at least the above preferable lower limit value, peeling of the release film other than the peeling step can be prevented, and if it is at least the above preferable upper limit value, peeling failure in the peeling step (for example, zipping and the light absorption filter of the present invention). Cracking) can be prevented.
  • the film thickness of the light absorption filter of the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 18 ⁇ m, more preferably 0.8 to 12 ⁇ m, still more preferably 1 to 8 ⁇ m.
  • the film thickness of the light absorption filter of the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 18 ⁇ m, more preferably 0.8 to 12 ⁇ m, still more preferably 1 to 8 ⁇ m.
  • it is not more than the above preferable upper limit value it is possible to suppress the decrease in the degree of polarization due to the fluorescence emitted by the dye (dye) by adding the dye to the thin film at a high concentration. In addition, the effect of the quencher is likely to be exhibited.
  • it is at least the above-mentioned preferable lower limit value it becomes easy to maintain the uniformity of the absorbance in the plane.
  • the film thickness of 0.5 to 18 ⁇ m means that the thickness of the light absorption filter of the present invention is within the range of 0.5 to 18 ⁇ m regardless of the location. This also applies to the film thickness of 0.8 to 12 ⁇ m and 1 to 8 ⁇ m.
  • the film thickness can be measured with an electronic micrometer manufactured by Anritsu Corporation.
  • the absorbance at the maximum absorption wavelength showing the maximum absorbance at a wavelength of 400 to 700 nm is preferably 0.3 or more, preferably 0.5.
  • the above is more preferable, 0.7 or more is further preferable, and 0.8 or more is particularly preferable.
  • the absorbance of the light absorption filter of the present invention can be adjusted by the type, addition amount or film thickness of the dye.
  • the decolorization rate by ultraviolet irradiation is preferably 35% or more, more preferably 45% or more, further preferably 50% or more, and 55% or more. It is particularly preferable, and it is particularly preferable that it is 70% or more.
  • the upper limit is not particularly limited, and is preferably 100%.
  • the decolorization rate is calculated by the following formula using the values of Ab ( ⁇ max ) before and after the ultraviolet irradiation test.
  • Decolorization rate (%) 100- (Ab ( ⁇ max ) after UV irradiation / Ab ( ⁇ max ) before UV irradiation) ⁇ 100
  • a predetermined irradiation amount of ultraviolet rays is applied at room temperature (25 ° C.) using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) at 160 W / cm under atmospheric pressure (101.33 kPa). Irradiate the light absorption filter.
  • the absorbance, the ultraviolet irradiation test, and the decolorization rate can be measured and calculated by the methods described in Examples.
  • the light absorption filter of the present invention hardly causes absorption (secondary absorption) derived from a new colored structure due to decomposition of the dye.
  • the presence or absence of absorption derived from the new colored structure accompanying the decomposition of the dye can be confirmed based on the ratio of the absorbance at a specific wavelength to the above Ab ( ⁇ max ).
  • ⁇ max the ratio of the absorbance at a specific wavelength to the above Ab
  • the presence or absence of absorption derived from a new colored structure accompanying the decomposition of the dye is determined by the absorbance at a wavelength of 450 nm with respect to the above Ab ( ⁇ max ) (hereinafter, simply “Ab (450”). ) ”Can be confirmed based on the ratio of). That is, the smaller the value obtained by subtracting the ratio of the following (I) from the ratio of the following (II), the less the absorption derived from the new colored structure due to the decomposition of the dye occurs, and this value is 8. Less than 5% is preferable, 7.0% or less is more preferable, 5.0% or less is further preferable, 3.0% or less is particularly preferable, and 1.0% or less is particularly preferable.
  • the lower limit is not particularly limited, but -10% or more is practical and -6% or more from the viewpoint of making the evaluation regarding the presence or absence of secondary absorption due to the decomposition of the dye appropriate. Is preferable.
  • Ab (450) before UV irradiation / Ab ( ⁇ max ) x 100% before UV irradiation (II) Ab (450) after UV irradiation / Ab ( ⁇ max ) x 100% before UV irradiation
  • Confirmation of the presence or absence of absorption derived from the new colored structure due to the decomposition of the dye can be measured and calculated by the method described in Examples.
  • the light absorption filter of the present invention exhibits excellent quenching property when the above-mentioned quenching rate and the value for confirming the presence or absence of absorption derived from the new colored structure due to the decomposition of the dye both satisfy a preferable range. Can be done.
  • the light absorption filter of the present invention may be subjected to a hydrophilization treatment by any glow discharge treatment, corona discharge treatment, alkali saponification treatment, or the like, and the corona discharge treatment is preferably used. It is also preferable to apply the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-94915, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-118232, and the like.
  • the obtained membrane can be subjected to a heat treatment step, a superheated steam contact step, an organic solvent contact step, or the like, if necessary. Moreover, you may carry out surface treatment as appropriate.
  • a pressure-sensitive adhesive composition in which a (meth) acrylic resin, a styrene-based resin, a silicone-based resin, or the like is used as a base polymer, and a cross-linking agent such as an isocyanate compound, an epoxy compound, or an aziridin compound is added thereto. It is also possible to apply a layer consisting of. Preferably, the description of the pressure-sensitive adhesive layer in the OLED display device described later can be applied.
  • the light absorption filter of the present invention may have a gas barrier layer on at least one side.
  • the light absorption filter of the present invention can be a light absorption filter that achieves both excellent light extinction and excellent light resistance, and is an optical filter described later. Can be suitably used for the production of.
  • the material forming the gas barrier layer is not particularly limited, and for example, an organic material (preferably a crystalline resin) such as polyvinyl alcohol and polyvinylidene chloride, an organic-inorganic hybrid material such as a sol-gel material, SiO 2 , SiO x , Inorganic materials such as SiON, SiN x and Al 2 O 3 can be mentioned.
  • the gas barrier layer may be a single layer or a multi-layered structure, and in the case of a multi-layered structure, a configuration such as an inorganic dielectric multilayer film and a multilayer film in which organic materials and inorganic materials are alternately laminated may be mentioned. Can be done.
  • the light absorption filter of the present invention has a gas barrier layer at least on a surface that comes into contact with air when the light absorption filter of the present invention is used, so that the absorption intensity of the dye in the light absorption filter of the present invention is reduced. Can be suppressed.
  • the gas barrier layer may be provided on only one side of the light absorption filter of the present invention, or may be provided on both sides.
  • the gas barrier layer when configured to contain a crystalline resin, the gas barrier layer contains the crystalline resin, the thickness of the layer is 0.1 ⁇ m to 10 ⁇ m, and the oxygen permeability of the layer is 60 cc /. It is preferably m 2 , day, atm or less.
  • the "crystalline resin” is a resin having a melting point that undergoes a phase transition from a crystal to a liquid when the temperature is raised, and can impart gas barrier properties related to oxygen gas to the gas barrier layer. Is.
  • the crystalline resin contained in the gas barrier layer is a crystalline resin having a gas barrier property, and can be used without particular limitation as long as the desired oxygen permeability can be imparted to the gas barrier layer.
  • the crystalline resin include polyvinyl alcohol and polyvinylidene chloride, and polyvinyl alcohol is preferable because the crystalline portion can effectively suppress the permeation of gas.
  • the polyvinyl alcohol may or may not be modified.
  • the modified polyvinyl alcohol include modified polyvinyl alcohol having a group such as an acetoacetyl group and a carboxyl group introduced therein.
  • the saponification degree of the polyvinyl alcohol is preferably 80.0 mol% or more, more preferably 90.0 mol% or more, further preferably 97.0 mol% or more, and particularly preferably 98.0 mol% or more from the viewpoint of further enhancing the oxygen gas barrier property. preferable.
  • the upper limit is not particularly limited, but 99.99 mol% or less is practical.
  • the saponification degree of the polyvinyl alcohol is a value calculated based on the method described in JIS K 6726 1994.
  • the gas barrier layer may contain any component usually contained in the gas barrier layer as long as the effect of the present invention is not impaired.
  • the gas barrier layer may contain a solvent such as water and an organic solvent derived from the manufacturing process as long as the effect of the present invention is not impaired.
  • the content of the crystalline resin in the gas barrier layer is, for example, preferably 90% by mass or more, more preferably 95% by mass or more, based on 100% by mass of the total mass of the gas barrier layer.
  • the upper limit is not particularly limited, but may be 100% by mass.
  • the oxygen permeability of the gas barrier layer is preferably 60 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or less, more preferably 50 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or less, and more preferably 30 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or less. More preferably, it is particularly preferably 10 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or less, particularly preferably 5 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or less, and most preferably 1 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or less. preferable.
  • the practical lower limit is 0.001 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or more, preferably more than 0.05 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm, for example.
  • the oxygen permeability of the gas barrier layer is a value measured based on the gas permeability test method based on JIS K 7126-2 2006.
  • an oxygen permeability measuring device manufactured by MOCON, OX-TRAN2 / 21 (trade name) can be used.
  • the measurement conditions are a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 50%.
  • the thickness of the gas barrier layer is preferably 0.5 ⁇ m to 5 ⁇ m, more preferably 1.0 ⁇ m to 4.0 ⁇ m, from the viewpoint of further improving the light resistance.
  • the thickness of the gas barrier layer is measured by a method of taking a cross-sectional photograph using a field emission scanning electron microscope S-4800 (trade name) manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation.
  • the crystallinity of the crystalline resin contained in the gas barrier layer is preferably 25% or more, more preferably 40% or more, still more preferably 45% or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but it is practically 55% or less, and preferably 50% or less.
  • the crystallinity of the crystalline resin contained in the gas barrier layer is as follows. Apple. Pol. Sci. , 81, 762 (2001), and is a value measured and calculated by the following method. Using a DSC (Differential Scanning Calorimeter), the temperature of the sample peeled from the gas barrier layer is raised at 10 ° C./min over the range of 20 ° C. to 260 ° C., and the heat of fusion 1 is measured.
  • the method for forming the gas barrier layer is not particularly limited, but a method for forming the gas barrier layer by a conventional method, for example, in the case of an organic material, a casting method such as spin coating and slit coating can be mentioned. Further, a method of attaching a commercially available resin gas barrier film or a resin gas barrier film prepared in advance to the light absorption filter of the present invention can be mentioned. Further, in the case of an inorganic material, a plasma CVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) method, a subbatta method, a vapor deposition method and the like can be mentioned.
  • a plasma CVD Pasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
  • the light absorption filter of the present invention may appropriately have the gas barrier layer or any optical functional film as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the above-mentioned optional optical functional film is not particularly limited in terms of optical properties and materials, but contains (or contains) at least one of a cellulose ester resin, an acrylic resin, a cyclic olefin resin, and a polyethylene terephthalate resin.
  • a film can be preferably used.
  • An optically isotropic film or an optically anisotropic retardation film may be used.
  • any of the above-mentioned optical functional films for example, Fujitac TD80UL (manufactured by FUJIFILM Corporation) or the like can be used as a film containing a cellulose ester resin.
  • examples of those containing an acrylic resin include an optical film containing a (meth) acrylic resin containing a styrene resin described in Japanese Patent No. 4570042, and glutalimide described in Japanese Patent No. 5041532.
  • An optical film containing a (meth) acrylic resin having a ring structure in a main chain an optical film containing a (meth) acrylic resin having a lactone ring structure described in JP-A-2009-1226664, JP-A-2009-139754
  • An optical functional film containing a (meth) acrylic resin having the glutaric acid anhydride unit described in the above can be used.
  • the cyclic olefin resin film described in paragraphs [0029] and subsequent paragraphs of JP-A-2009-237376, Patent No. 4881827, JP-A-2008 as a film containing a cyclic olefin resin.
  • a cyclic olefin resin film containing an additive for reducing Rth described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 0633536 can be used.
  • the optical filter of the present invention is obtained by mask-exposing the light absorption filter of the present invention by ultraviolet irradiation.
  • a light-absorbing portion having a light-absorbing effect and a portion having lost light-absorbing property are also referred to as a mask exposure pattern (hereinafter, "mask pattern").
  • mask pattern a mask exposure pattern
  • the masked portion of the light-absorbing filter of the present invention is not exposed and exists as a light-absorbing portion having a light-absorbing effect.
  • the unmasked area is exposed and becomes a light-absorbing area.
  • the light-absorbing site can exhibit a desired absorbance.
  • the light-absorbing vanishing site exhibits an optical property close to colorless because the light-absorbing filter of the present invention exhibits an excellent decolorization rate and almost no secondary absorption occurs due to the decomposition of the dye. be able to.
  • the optical filter of the present invention can be obtained by irradiating the light absorption filter of the present invention with ultraviolet rays and performing mask exposure.
  • the mask pattern can be appropriately adjusted so as to obtain an optical filter of the present invention having a desired pattern composed of a light-absorbing portion and a light-absorbing disappearing portion.
  • the conditions of ultraviolet irradiation can be appropriately adjusted so that the optical filter of the present invention having a light absorption disappearing portion can be obtained.
  • the pressure condition can be performed under atmospheric pressure (101.33 kPa)
  • the temperature condition can be performed without heating at room temperature (10 to 30 ° C.)
  • the lamp output is 80 to 320 W /.
  • the lamp can be cm, and as the lamp to be used, an air-cooled metal halide lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, or the like can be used.
  • the irradiation amount can be 200 to 5000 mJ / cm 2 .
  • the distance between the light absorption filter of the present invention and the ultraviolet irradiation lamp is set to a distance of 50 to 120 cm or the like and exposure is performed with low illuminance such as 5 to 50 mW / cm 2 , the mask pattern is excellent in reproducibility. An optical filter is obtained, which is preferable.
  • the optical filter of the present invention may have an optical functional film described in the light absorption filter of the present invention. Further, the optical filter of the present invention may have a layer containing an ultraviolet absorber.
  • the ultraviolet absorber a commonly used compound can be used without particular limitation, and examples thereof include an ultraviolet absorber in an ultraviolet absorbing layer described later.
  • the resin constituting the layer containing the ultraviolet absorber is also not particularly limited, and examples thereof include the resin in the ultraviolet absorbing layer described later. The content of the ultraviolet absorber in the layer containing the ultraviolet absorber is appropriately adjusted according to the purpose.
  • the organic electroluminescence display device of the present invention (referred to as an organic EL (electroluminescence) display device or an OLED (Organic Light Emitting Diode) display device, and in the present invention, also abbreviated as an OLED display device) is an optical filter of the present invention.
  • an organic EL electroluminescence
  • OLED Organic Light Emitting Diode
  • an OLED display device is an optical filter of the present invention.
  • the configuration of a normally used OLED display device can be used without particular limitation as other configurations.
  • the configuration example of the OLED display device of the present invention is not particularly limited, but for example, glass, a layer including a TFT (thin film transistor), an OLED display element, a barrier film, a color filter, and glass in order from the opposite side to external light. , Adhesive layer, display device including the optical filter and surface film of the present invention.
  • the OLED display element has a configuration in which an anode electrode, a light emitting layer, and a cathode electrode are laminated in this order.
  • a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like are included between the anode electrode and the cathode electrode.
  • JP-A-2014-132522 can also be referred to.
  • the color filter in addition to a normal color filter, a color filter in which quantum dots are laminated can also be used.
  • a resin film may be used instead of the above glass.
  • the optical filter of the present invention is bonded to glass (base material) via an adhesive layer on a surface located on the side opposite to external light.
  • the pressure-sensitive adhesive layer the description relating to the pressure-sensitive adhesive layer and the forming method in the OLED display device described in [0239] to [0292] of International Publication No. 2021/132674 can be applied as it is.
  • the liquid crystal display device of the present invention includes the optical filter of the present invention.
  • the optical filter of the present invention may be used as at least one of the polarizing plate protective film and the pressure-sensitive adhesive layer as described later, and may be included in a backlight unit used in a liquid crystal display device.
  • the liquid crystal display device preferably includes an optical filter of the present invention, a polarizing plate including a polarizing element and a polarizing plate protective film, an adhesive layer, and a liquid crystal cell, and the polarizing plate is a liquid crystal cell via the adhesive layer. It is preferable that they are laminated to each other.
  • the optical filter of the present invention may also serve as a polarizing plate protective film or an adhesive layer. That is, the liquid crystal display device includes a polarizing plate including a polarizing element and an optical filter (polarizing plate protective film) of the present invention, an adhesive layer, and a liquid crystal cell, and a polarizing plate including a polarizing element and a polarizing plate protective film. It is divided into a case including a plate, an optical filter (adhesive layer) of the present invention, and a liquid crystal cell.
  • FIG. 1 is a schematic view showing an example of the liquid crystal display device of the present invention.
  • the liquid crystal display device 10 is a liquid crystal cell having a liquid crystal layer 5, a liquid crystal cell upper electrode substrate 3 and a liquid crystal cell lower electrode substrate 6 arranged above and below the liquid crystal layer 5, and upper polarizing plates arranged on both sides of the liquid crystal cell. It consists of 1 and the lower polarizing plate 8.
  • a color filter layer may be laminated on the upper electrode substrate 3 or the lower electrode substrate 6.
  • a backlight is arranged on the back surface of the liquid crystal display device 10. As the light source of the backlight, the one described in the above-mentioned backlight unit can be used.
  • the upper polarizing plate 1 and the lower polarizing plate 8 each have a structure in which two polarizing plates are laminated so as to sandwich a polarizing element, and the liquid crystal display device 10 has at least one polarizing plate of the present invention.
  • Optical filters may be included.
  • the liquid crystal cell and the polarizing plate (upper polarizing plate 1 and / or lower polarizing plate 8) may be bonded to each other via an adhesive layer (not shown).
  • the optical filter of the present invention may also serve as the above-mentioned pressure-sensitive adhesive layer.
  • the liquid crystal display device 10 includes an image direct view type, an image projection type, and an optical modulation type.
  • the present invention is effective for an active matrix liquid crystal display device using a 3-terminal or 2-terminal semiconductor element such as a TFT or MIM. Of course, it is also effective in a passive matrix liquid crystal display device represented by STN mode called time division drive.
  • the polarizing plate of the liquid crystal display device may be a normal polarizing plate (a polarizing plate not including the optical filter of the present invention), or the optical filter of the present invention. A polarizing plate containing the above may be used.
  • the pressure-sensitive adhesive layer may be a normal pressure-sensitive adhesive layer (not the optical filter of the present invention) or a pressure-sensitive adhesive layer using the optical filter of the present invention.
  • the polarizing plate used in the present invention includes a polarizing element and at least one polarizing plate protective film.
  • the polarizing plate used in the present invention preferably has a polarizing element and a polarizing plate protective film on both sides of the polarizing element, and the optical filter of the present invention may be contained as a polarizing plate protective film on at least one surface. preferable.
  • a normal polarizing plate protective film may be provided on the surface of the polarizing element opposite to the surface having the optical filter of the present invention (polarizing plate protective film of the present invention).
  • the film thickness of the polarizing plate protective film is preferably 1 ⁇ m or more and 120 ⁇ m or less, and more preferably 2 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less.
  • a thin film is preferable because it is less likely to cause display unevenness after aging at high temperature and high humidity when it is incorporated into a liquid crystal display device. On the other hand, if it is too thin, it becomes difficult to stably convey the film during film production and polarizing plate production.
  • the optical filter of the present invention also serves as a polarizing plate protective film, it is preferable that the thickness of the optical filter satisfies the above range.
  • the polarizing plate used in the present invention the performance, shape, configuration, polarizing element, and method of laminating the polarizing element and the polarizing plate protective film according to [0299] to [0309] of International Publication No. 2021 / 132674. , The description relating to the functionalization of the polarizing plate can be applied as it is.
  • the polarizing plate is bonded to the liquid crystal cell via the pressure-sensitive adhesive layer.
  • the optical filter of the present invention may also serve as the pressure-sensitive adhesive layer.
  • a normal pressure-sensitive adhesive layer can be used as the pressure-sensitive adhesive layer.
  • the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited as long as the polarizing plate and the liquid crystal cell can be bonded to each other, but for example, acrylic, urethane, polyisobutylene and the like are preferable.
  • the pressure-sensitive adhesive layer contains the above dye and the above binder resin, and further contains a cross-linking agent, a cup rig agent, and the like to impart adhesiveness.
  • the pressure-sensitive adhesive layer preferably contains 90 to 100% by mass of the binder resin, and preferably 95 to 100% by mass.
  • the content of the dye is as described above.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 1 to 50 ⁇ m, more preferably 3 to 30 ⁇ m, for example.
  • the liquid crystal cell is not particularly limited, and a normal one can be used.
  • the self-luminous display device of the present invention is a self-luminous display device including a light emitting diode as a light emitting source, and includes the optical filter of the present invention.
  • the self-luminous display device of the present invention includes the optical filter of the present invention, other configurations include a commonly used self-luminous display device such as a micro light emitting diode (micro LED) display device and a mini light emitting diode (mini light emitting diode).
  • a configuration such as a mini LED) display device can be used without particular limitation.
  • the configuration example of the self-luminous display device of the present invention is not particularly limited, but for example, glass, a layer including a TFT (thin film transistor), a light emitting element, an optical filter and a surface of the present invention are in order from the opposite side to external light.
  • a display device including a film can be mentioned.
  • the light source of the display light of the self-luminous display device of the present invention may be a single blue color or may use the three primary colors of blue, green and red as long as it includes a light emitting diode as a light emitting diode.
  • the mini LED means an LED having a chip size of about 100 to 200 ⁇ m
  • the micro LED means an LED having a chip size of less than 100 ⁇ m.
  • the micro LED for example, the micro LED described in International Publication No. 2014/204694 and the like is preferably mentioned.
  • the optical filter of the present invention is preferably bonded to glass (base material) via an adhesive layer on a surface located on the side opposite to external light.
  • the pressure-sensitive adhesive layer the wavelength-selective absorption layer is used in the description of the pressure-sensitive adhesive layer and the forming method in the self-luminous display device described in [0272] to [0298] of International Publication No. 2021/221122. It can be read as an optical filter and applied as it is.
  • the self-luminous display device including the optical filter of the present invention, an organic electroluminescence display device, a self-luminous display device such as a micro LED (Light Emitting Devices) or a mini LED display device, or a liquid crystal display device is on the viewer side with respect to the optical filter of the present invention.
  • a layer hereinafter, also referred to as "ultraviolet absorbing layer” that inhibits light absorption (ultraviolet absorption) of the compound that generates a radical by the ultraviolet irradiation or a partial structure that generates a radical by the ultraviolet irradiation. Is preferable.
  • the ultraviolet absorbing layer of the present invention will be described below.
  • the ultraviolet absorbing layer of the present invention contains a resin and an ultraviolet absorbing agent.
  • the ultraviolet absorber one having an excellent ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having a small absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more is preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display.
  • Specific examples of the ultraviolet absorber preferably used in the present invention include, for example, hindered phenol-based compounds, hydroxybenzophenone-based compounds, benzotriazole-based compounds, salicylic acid ester-based compounds, benzophenone-based compounds, cyanoacrylate-based compounds, and nickel complex salt-based compounds. And so on.
  • the hindered phenol-based compound and the benzotriazole-based compound for example, the description relating to the specific examples of the hindered phenol-based compound and the benzotriazole-based compound described in [0313] of International Publication No. 2021/132674 is as it is. Can be applied.
  • the amount of these UV protection agents added is preferably 0.1 part by mass to 30.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin.
  • resin in the present invention, a known resin can be used as the resin used for the ultraviolet absorbing layer, and there is no particular limitation as long as it does not contradict the gist of the present invention.
  • the resin include cellulose acylate resin, acrylic resin, cycloolefin resin, polyester resin, and epoxy resin.
  • the arrangement of the ultraviolet absorbing layer is not particularly limited as long as it is on the viewer side with respect to the optical filter of the present invention, and can be installed at any position, for example, a protective film for a polarizing plate, an antireflection film, or the like. It is also possible to add an ultraviolet absorber to the member of the above to give it the function of an ultraviolet absorbing layer.
  • Solvent blue 35 1,4-bis (butylamino) -9,10-anthraquinone, anthraquinone dye
  • Leveling agent 1 A polymer surfactant composed of the following constituents was used as the leveling agent 1.
  • the ratio of each component is a molar ratio
  • t-Bu means a tert-butyl group.
  • Base material 1 Cellulose acylate film (manufactured by Fujifilm, ZRG40UL (trade name))
  • Base material 2 Polyethylene terephthalate film (manufactured by Toray Industries, Inc., Lumirer XD-510P (trade name, film thickness 50 ⁇ m))
  • the obtained light absorption filter forming liquid Ba-1 is filtered using a filter paper (# 63, manufactured by Toyo Filter Paper Co., Ltd.) having an absolute filtration accuracy of 10 ⁇ m, and further, a metal sintered filter having an absolute filtration accuracy of 2.5 ⁇ m. Filtration was performed using (trade name: Pole filter PMF, media code: FH025, manufactured by Pole).
  • the obtained light absorption filter forming liquid Ba-7 is filtered using a filter paper (# 63, manufactured by Toyo Filter Paper Co., Ltd.) having an absolute filtration accuracy of 10 ⁇ m, and further, a metal sintered filter having an absolute filtration accuracy of 2.5 ⁇ m. Filtration was performed using (trade name: Pole filter PMF, media code: FH025, manufactured by Pole).
  • the obtained light absorption filter forming liquid Ba-11 is filtered using a filter paper (# 63, manufactured by Toyo Filter Paper Co., Ltd.) having an absolute filtration accuracy of 10 ⁇ m, and further, a metal sintered filter having an absolute filtration accuracy of 2.5 ⁇ m. Filtration was performed using (trade name: Pole filter PMF, media code: FH025, manufactured by Pole).
  • base material 3 The light absorption filter side of the light absorption filter with a base material is treated with a corona processing device (trade name: Corona-Plus, manufactured by VETAPHONE) with a discharge rate of 1000 W ⁇ min / m 2 . It was subjected to corona treatment under the condition of a speed of 3.2 m / min and used as the base material 3.
  • a corona processing device trade name: Corona-Plus, manufactured by VETAPHONE
  • the obtained gas barrier layer forming liquid was filtered using a filter with an absolute filtration accuracy of 5 ⁇ m (trade name: Hydrophobic Fluororemore Membrane, manufactured by Millex).
  • the gas barrier layer forming liquid after the filtration treatment is placed on the surface side of the base material 3 subjected to the corona treatment, and a bar coater is used so that the film thickness after drying is 1.6 ⁇ m. It was applied and dried at 120 ° C. for 60 seconds to prepare a light absorption filter having a gas barrier layer.
  • the light absorption filter having the gas barrier layer has a structure in which the base material 1 or the base material 2, the light absorption filter and the gas barrier layer are laminated in this order.
  • ⁇ Asorbance of light absorption filter (before UV irradiation)> (1) Measurement of Absorbance Using a UV3600 spectrophotometer (trade name) manufactured by Shimadzu Corporation, the absorbance of a light absorption filter and standard filter having a gas barrier layer in the wavelength range of 380 to 800 nm is measured every 1 nm. It was measured. The optical path length is 2.5 ⁇ m.
  • No. 101 to 111 are the light absorption filters of the present invention
  • No. 208, 211, 214 and 215 are light absorption filters for comparison
  • No. 201 to 207, 209, 210, 212, and 213 are light absorption filters for reference.
  • the standard filter for 101 is a light absorption filter No. 1 modified so as not to contain a dye and a photoradical generator.
  • Light absorption filter No. containing resin 2 The standard filter for 102 is a light absorption filter No. 1 modified so as not to contain a dye and a photoradical generator.
  • Light absorption filter No. containing resin 3 The standard filter for 103 is a light absorption filter No. 1 modified so as not to contain a dye and a photoradical generator.
  • the standard filter for 104 is a light absorption filter No. 1 modified so as not to contain a dye and a photoradical generator.
  • the standard filter for 105 is a light absorption filter No. 1 modified so as not to contain a dye and a photoradical generator.
  • Light absorption filter No. containing resin 6 The standard filter for 106 is a light absorption filter No. 1 modified so as not to contain a dye and a photoradical generator.
  • the standard filter for 208 is a light absorption filter No. 2 modified so as not to contain a dye and a photoradical generator.
  • the standard filters for 107 and 109 are the light absorption filter No. 1 modified so as not to contain the dye. 209. Light absorption filter No. 1 containing the resin 9.
  • the standard filters for 108 and 110 are the light absorption filter No. 1 modified so as not to contain the dye. 210.
  • the standard filters for 211, 214 and 215 are the light absorption filter No. 2 modified so as not to contain the dye. It is 212.
  • the standard filter for 111 is a light absorption filter No. 1 modified so as not to contain a dye. 213.
  • the absorbance Ab ( ⁇ ) of the light absorption filter before irradiation with ultraviolet rays was calculated from the following formula.
  • Ab ( ⁇ ) Ab x ( ⁇ ) -Ab 0 ( ⁇ )
  • the maximum absorption wavelength hereinafter, simply “ ⁇ max ”. It is also referred to as), and the absorbance at this ⁇ max is defined as the maximum absorption value (hereinafter, also simply referred to as “Ab ( ⁇ max )”).
  • UV irradiation test 1 At room temperature using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) under atmospheric pressure (101.33 kPa), the irradiation amount is 500 mJ / cm for a light absorption filter having a gas barrier layer and a standard filter.
  • the ultraviolet rays (UV) of No. 2 were irradiated from the light absorption filter side (the side opposite to the base material 1 or the base material 2).
  • decolorization rate was calculated from the following formula using the maximum absorption value (Ab ( ⁇ max )) before and after the ultraviolet irradiation test.
  • Decolorization rate (%) 100- (Ab ( ⁇ max ) after UV irradiation / Ab ( ⁇ max ) before UV irradiation) ⁇ 100
  • the light absorption filter No. 1 using a polymer having both a high affinity part and a low affinity part No. 101-106, a light absorption filter using a polymer for comparison having only one of a high affinity part or a low affinity part.
  • a light absorption filter using a polymer for comparison having only one of a high affinity part or a low affinity part.
  • the values of fp, fh and fd were calculated based on the structure in which the ferrosenyl group was replaced with a hydrogen atom in the following resonance structure.
  • No. 101 to 111 and 201 to 215 are the light absorption filter Nos. It means 101 to 111 and 201 to 215.
  • the molar ratio to the dye means the amount of the compounded molar of the radical generator with respect to 1 mol of the dye.
  • Light absorption filter No. * 1 in 215 is 6.7 parts by mass of ethyl 4- (dimethylamino) benzoate as a decolorization accelerator in addition to 6.3 parts by mass of benzophenone, which is a radical generator (15 mol by mixing ratio with respect to 1 mol of dye). Means to contain.
  • ⁇ max means a wavelength showing the highest absorbance Ab ( ⁇ ) among the maximum absorption wavelengths that the light absorption filter has in the wavelength region of 400 to 700 nm.
  • the blending amount of the dye means a mass part with respect to 100 parts by mass of the filter.
  • the blending amount of the radical generator means a mass part with respect to 100 parts by mass of the filter.
  • the content of the resin is adjusted so as to be the blending amount of the dye and the radical generator.
  • Ab ( ⁇ max ) means the value of the absorbance at the maximum absorption wavelength ⁇ max .
  • Ab (450) means the value of absorbance at a wavelength of 450 nm.
  • the light absorption filter No. of the comparative example. 208 contains polystyrene consisting only of dyes, radical generators and high affinity parts for dyes and radical generators.
  • the light absorption filter No. 211 contains a dye, a radical generator, and a copolymer of ethylene and norbornene consisting only of a low affinity part for the dye and radical generator.
  • 214 and 215 contain a copolymer of ethylene and norbornene consisting only of a dye, a radical generator, and a low affinity part for the dye and radical generator.
  • the light absorption filter No. of these comparative examples In 214 and 215, the decolorization rate by ultraviolet irradiation was 5% and 2%, respectively, which means that the color was hardly decolorized, and Ab (450) / Ab ( ⁇ max ) was 0% to 9.5% by ultraviolet irradiation. , 9.8%, respectively, and it was found that absorption derived from a new colored structure was caused by the decomposition of the dye. On the other hand, No.
  • the obtained light absorption filter forming liquid Ba-3 is filtered using a filter paper (# 63, manufactured by Toyo Filter Paper Co., Ltd.) having an absolute filtration accuracy of 10 ⁇ m, and further, a metal sintered filter having an absolute filtration accuracy of 2.5 ⁇ m. Filtration was performed using (trade name: Pole filter PMF, media code: FH025, manufactured by Pole).
  • UV irradiation test 2 Light absorption filter No. having a gas barrier layer.
  • the gas barrier layer of 301 is covered with quartz glass having a thickness of 2.5 mm, and the illuminance and irradiation shown in Table 3 are performed at room temperature using an ultra-high pressure mercury lamp (manufactured by HOYA Co., Ltd.) under atmospheric pressure (101.33 kPa).
  • UV ultraviolet rays
  • the pattern (width of the light transmitting portion) formed on the sample after irradiation with ultraviolet rays was observed with an optical microscope, and the pattern reproducibility was evaluated according to the following criteria. The closer the ratio in the following evaluation criteria is to 100%, the better the pattern reproducibility.
  • B The width of the light transmitting part in the area of 40 mm ⁇ 40 mm, the original The ratio of the width of the light transmitting part to the width of the mask is 60% or more and 90% or less, or 110% or more and less than 140%. Or 140% or more
  • the light absorption filter No. 1 of the present invention was obtained. It can be seen that 301 shows an excellent decolorization rate and can faithfully reproduce the mask pattern, which is preferable. In particular, under the condition that the distance between the ultraviolet lamp and the light absorption filter is widened and the exposure is performed with low illuminance, the reproducibility of the mask pattern is higher and preferable.

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Abstract

樹脂と、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料と、紫外線照射によりラジカルを生成する化合物とを含有し、上記樹脂が、上記染料および上記の紫外線照射によりラジカルを生成する化合物に対して、高親和性および低親和性の両部分構造を有するポリマーで構成された、光吸収フィルタ、又は、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料と、紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーで構成された樹脂とを含有する光吸収フィルタ、これらの光吸収フィルタを用いた光学フィルタ、自発光表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置、並びに、光学フィルタの製造方法。

Description

光吸収フィルタ、光学フィルタ、自発光表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置、並びに、光学フィルタの製造方法
　本発明は、光吸収フィルタ、光学フィルタ、自発光表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置、並びに、光学フィルタの製造方法に関する。
　画像表示装置としては、有機エレクトロルミネッセンス（ＯＬＥＤ）表示装置及び液晶表示装置等が近年用いられている。
　液晶表示装置は、消費電力の小さい省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。液晶表示装置は、画像を表示する液晶パネル自体は発光をしない非発光型素子であるため、液晶パネルの背面に配置され、液晶パネルに光を供給するバックライトユニットを備えている。
　ＯＬＥＤ表示装置は、ＯＬＥＤ素子の自発光を利用して画像を表示する装置である。そのため、液晶表示装置及びプラズマ表示装置等の各種表示装置に比べて、高コントラスト比、高い色再現性、広い視野角、高速応答性、及び、薄型軽量化が可能であること等の利点を有する。これらの利点に加え、フレキシブル性の点からも、次世代の表示装置として、活発に研究開発が行われている。
　画像表示装置の開発においては、光吸収フィルタを構成として組み込む技術が知られている。
　例えば、液晶表示装置では、バックライトユニット用の光源として白色発光ダオード（ＬＥＤ）を用いた場合に、白色ＬＥＤから発せられる不要な波長の光を遮断するため、光吸収フィルタを設ける試みがなされている。また、ＯＬＥＤ表示装置では、外光反射を抑制する観点から、光吸収フィルタを設ける試みがなされている。
　また、近年では、ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅｓ）素子、マイクロＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅｓ）素子又はミニＬＥＤ素子等の自発光を利用したディスプレイ（以下、「自発光表示装置」と称す。）に、明所でのコントラスト低下の抑制と色再現改良を目的として光吸収フィルタを設ける試みもなされている
特開平９－２８６９７９号公報
　画像表示装置に組み込まれる光吸収フィルタの別の形態として、所望の部位については光吸収性を消失させることにより、光吸収効果を有する光吸収性部位と、光吸収性を消失させた部位（以下、単に「光吸収性消失部位」とも称す。）とを併せ持つ光学フィルタが考えられる。
　例えば、特許文献１には、染料と、紫外線照射により染料の発色機構に変化を与える化合物とを含む、紫外線照射により退色ないし消失する光消色性組成物が記載されている。
　しかし、この特許文献１に記載の光消色性組成物を、樹脂とともに用いた光吸収フィルタは、紫外線照射による消色率がそれほど高くない。また、使用する染料によっては、紫外線照射によって染料が分解し、この分解に伴う新たな着色構造由来の吸収（以下、「二次的な吸収」とも称す。）が生じることがわかった。
　画像表示装置に光学フィルタを組み込んで用いる形態としては、光学フィルタの特定の部位を光吸収性消失部位として設定し、この光吸収性消失部位には、無色に近い光吸収特性が求められる。
　すなわち、本発明は、紫外線照射により所望の部位が光吸収性消失部位となる光吸収フィルタであって、上記の所望の部位は紫外線照射による消色率に優れ、紫外線照射による染料の分解に伴う二次的な吸収も生じにくい光吸収フィルタを提供することを課題とする。
　また、本発明は、上記光吸収フィルタを用いた光学フィルタであって、所望の位置に、光吸収性部位と光吸収性消失部位とを有する光学フィルタ、並びに、この光学フィルタを備えた自発光表示装置、ＯＬＥＤ表示装置及び液晶表示装置を提供することを課題とする。
　また、本発明は、上記光学フィルタの製造方法を提供することを課題とする。
　本発明者は上記課題に鑑み鋭意検討した結果、可視光領域に主吸収を有する染料と、紫外線照射によりラジカルを生成する化合物と、上記染料および上記の紫外線照射によりラジカルを生成する化合物に対して、親和性が高い部分構造（以下、「高親和性の部分構造」又は「高親和性パート」とも称す。）と親和性が低い部分構造（以下、「低親和性の部分構造」又は「低親和性パート」とも称す。）とを併せ持つポリマーを含有する光吸収フィルタ、または、可視光領域に主吸収を有する染料と、紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーで構成された樹脂を含有する光吸収フィルタ、の構成とすることにより、上記の優れた光消光性が得られることを見出した。本発明はこの知見に基づきさらに検討を重ね、完成されるに至ったものである。
　すなわち、上記の課題は以下の手段により解決された。
＜１＞
　樹脂と、
　波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料と、
　紫外線照射によりラジカルを生成する化合物とを含有する光吸収フィルタであって、
　上記樹脂が、上記染料および上記の紫外線照射によりラジカルを生成する化合物に対して、高親和性の部分構造および低親和性の部分構造の両方を有するポリマーで構成された、
　光吸収フィルタ。
＜２＞
　上記染料が、下記一般式（１）で表されるスクアリン系色素を含む、＜１＞に記載の光吸収フィルタ。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 　上記式中、Ａ及びＢは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基又は－ＣＨ＝Ｇを示す。Ｇは置換基を有していてもよい複素環基を示す。
＜３＞
　上記樹脂を構成する上記ポリマーが、ブロック共重合体である、＜１＞又は＜２＞に記載の光吸収フィルタ。
＜４＞
　上記高親和性の部分構造が、ポリスチレン構造を含む、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の光吸収フィルタ。
＜５＞
　上記低親和性の部分構造が、ポリジエンを水素添加した構造を含む、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の光吸収フィルタ。
＜６＞
　波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料と、紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーで構成された樹脂とを含有する光吸収フィルタ。
＜７＞
　上記染料が、電子供与型消光剤内蔵色素を含む、＜６＞に記載の光吸収フィルタ。
＜８＞
　上記電子供与型消光剤内蔵色素が、下記一般式（１Ａ）で表されるスクアリン系色素を含む、＜７＞に記載の光吸収フィルタ。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 　上記式中、Ａ及びＢは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基又は－ＣＨ＝Ｇを示す。Ｇは置換基を有していてもよい複素環基を示す。ただし、Ａ及びＢの少なくとも一方は、電子供与型消光剤部を含む。
＜９＞
　上記ポリマーが、側鎖に芳香環を有する（メタ）アクリルポリマーである、＜６＞～＜８＞のいずれか１つに記載の光吸収フィルタ。
＜１０＞
　上記の紫外線照射によりラジカルを生成する化合物がこの化合物の分子内開裂によりラジカルを生成する化合物であり、上記の紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造が、この部分構造の分子内開裂によりラジカルを生成する部分構造である、＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の光吸収フィルタ。
＜１１＞
　上記の紫外線照射によりラジカルを生成する化合物が近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する化合物であり、上記の紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造が、近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する部分構造である、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の光吸収フィルタ。
＜１２＞
　上記の近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する化合物がアルコキシ基が置換したベンゾフェノン化合物であり、上記の近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する部分構造が、アルコキシ基が置換したベンゾフェノン化合物由来の部分構造である、＜１１＞に記載の光吸収フィルタ。
＜１３＞
　上記光吸収フィルタが、光の照射により上記染料が化学変化して消色する、＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の光吸収フィルタ。
＜１４＞
　＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の光吸収フィルタを、紫外線照射によりマスク露光してなる、光学フィルタ。
＜１５＞
　＜１４＞に記載の光学フィルタを含む、自発光表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、又は、液晶表示装置。
＜１６＞
　上記光学フィルタに対して視認者側に、上記紫外線照射によりラジカルを生成する化合物、または上記紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造の、光吸収を阻害する層を有する、＜１５＞に記載の自発光表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、又は、液晶表示装置。
＜１７＞
　＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の光吸収フィルタに対して、紫外線を照射してマスク露光する工程を含む、光学フィルタの製造方法。
　本発明において、特定の符号又は式で表示された置換基若しくは連結基等（以下、置換基等という）が複数あるとき、又は、複数の置換基等を同時に規定するときには、特段の断りがない限り、それぞれの置換基等は互いに同一でも異なっていてもよい。このことは、置換基等の数の規定についても同様である。また、複数の置換基等が近接するとき（特に、隣接するとき）には、特段の断りがない限り、それらが互いに連結して環を形成していてもよい。また、特段の断りがない限り、環、例えば脂環、芳香族環、ヘテロ環は、更に縮環して縮合環を形成していてもよい。
　本発明において、特段の断りがない限り、光吸収フィルタを構成する成分（染料、樹脂、紫外線照射によりラジカルを生成する化合物、及び、その他の適宜含有していてもよい成分等）は、それぞれ、光吸収フィルタ中に１種含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。本発明の光吸収フィルタを用いて作製される光学フィルタについても同義である。
　本発明の光学フィルタは、紫外線照射によって形成された光吸収性消失部位を有することを除き、特段の断りのない限り、本発明の光吸収フィルタの記載を好ましく適用することができる。
　本発明において、特段の断りがない限り、二重結合については、分子内にＥ型及びＺ型が存在する場合、そのいずれであっても、またこれらの混合物であってもよい。
　本発明において、化合物（錯体を含む。）の表示については、化合物そのもののほか、その塩、そのイオンを含む意味に用いる。また、本発明の効果を損なわない範囲で、構造の一部を変化させたものを含む意味である。更に、置換又は無置換を明記していない化合物については、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の置換基を有していてもよい意味である。このことは、置換基及び連結基についても同様である。
　また、本発明において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　本発明において、組成物とは、成分濃度が一定である（各成分が均一に分散している）混合物に加えて、目的とする機能を損なわない範囲で成分濃度が変動している混合物を包含する。
　本発明において、波長ＸＸ～ＹＹｎｍに主吸収波長帯域を有するとは、極大吸収を示す波長（すなわち、極大吸収波長）が波長領域ＸＸ～ＹＹｎｍに存在することを意味する。したがって、この極大吸収波長が上記波長領域内にあれば、この波長を含む吸収帯域全体が上記波長領域内にあってもよく、上記波長領域外まで広がっていてもよい。また、極大吸収波長が複数存在する場合、最も大きい吸光度を示す極大吸収波長が上記波長領域に存在していればよい。すなわち、最も大きい吸光度を示す極大吸収波長以外の極大吸収波長は、上記波長領域ＸＸ～ＹＹｎｍの内外のいずれに存在していてもよい。
　本発明の光吸収フィルタは、紫外線照射により所望の部位を光吸収性消失部位とすることができ、上記の所望の部位は紫外線照射による消色率に優れ、しかも、紫外線照射による染料の分解に伴う二次的な吸収も生じにくい。
　また、本発明の光学フィルタ並びにこれを備えた本発明の自発光表示装置、ＯＬＥＤ表示装置及び液晶表示装置は、所望の位置に、光吸収性部位と光吸収性消失部位とを有することができる。
　また、本発明の製造方法によれば、所望の位置に、光吸収性部位と光吸収性消失部位とを有する光学フィルタを得ることができる。
図１は、本発明の光学フィルタを有する液晶表示装置の一実施形態の概略を示す模式図である。
［光吸収フィルタ］
　本発明の光吸収フィルタの一形態は、樹脂と、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料（以下、単に「染料」とも称す。）と、紫外線照射によりラジカルを生成する化合物とを含有する光吸収フィルタであって、上記樹脂が、上記染料および上記の紫外線照射によりラジカルを生成する化合物の両方に対して高親和性の部分構造と低親和性の部分構造とを併せ持つポリマーで構成される。上記染料は、後記一般式（１）で表されるスクアリン系色素を含むことが好ましい。
　本発明の光吸収フィルタの別の形態としては、紫外線照射によりラジカルを発生する部分構造を含むポリマーで構成された樹脂と、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料とを含有する光吸収フィルタである。
　本発明において、染料が有する主吸収波長帯域とは、光吸収フィルタの状態で測定される染料の主吸収波長帯域である。具体的には、後述する実施例において、光吸収フィルタの吸光度の項に記載の条件により、基材つき光吸収フィルタの状態で測定される。
　本発明の光吸収フィルタ中において、上記「染料」は、上記樹脂中に分散（好ましくは溶解）することにより、光吸収フィルタを染料に由来する特定の吸収スペクトルを示す層とするものである。この分散は、ランダム、規則的等いずれであってもよい。
　また、上記「紫外線照射によりラジカルを生成する化合物」を樹脂中に分散（好ましくは溶解）させたり、紫外線照射によりラジカルを発生する部分構造を導入したポリマーで構成された樹脂を配合したりすることにより、紫外線照射によりラジカルを生成する。生成したラジカルが染料と反応する機構により、染料を退色させ、消色することができる。後述するように、紫外線照射によりラジカルを生成する化合物又は部分構造を、それらの近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する化合物又は部分構造（以下、「水素引き抜き型光ラジカル発生剤」とも称す。）とすることができる。この場合には、紫外線照射により励起された水素引き抜き型光ラジカル発生剤が、近傍に存在する染料の水素原子（水素ラジカル）を引き抜くことにより、ラジカルを有する染料を生成する。この結果、染料を褪色させ、消色することができる。
　本発明の光吸収フィルタの一形態では、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料と、紫外線照射によりラジカルを生成する化合物とを、樹脂中に含有する。本発明の光吸収フィルタの別の形態では、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料と、紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーで構成された樹脂とを含有する。このような構成を有する本発明の光吸収フィルタは、紫外線照射による消色率に優れ、しかも、染料の分解に伴う二次的な吸収をほとんど生じず、消色特性を無色に近いものとすることができる。この理由は推定ではあるが、以下のように考えられる。
　本発明の光吸収フィルタ中において、紫外線照射によりラジカルを生成する化合物は、紫外線照射によってラジカル種を発生し、このラジカル種が直接または間接的に上記染料と反応し、染料が分解することによって、染料は褪色、消色する。また、紫外線照射によって励起された水素引き抜き型光ラジカル発生剤は、水素引き抜き反応によってラジカルを有する染料を生成し、この活性な染料が反応、分解等することによって、染料が褪色、消色し得る。特に、本発明の光吸収フィルタ中に含有され得る、後記一般式（１）で表されるスクアリン系色素、又は、後記一般式（Ｖ）で表されるベンジリデン系もしくはシンナミリデン系色素は、特定の化学構造を有するため、染料の分解に伴う二次的な吸収をほとんど生じずに、消色することができる観点から好ましい。
　さらに、本発明の光吸収フィルタの一形態では、上記樹脂が、上記染料および紫外線照射によりラジカルを生成する化合物に対して、高親和性の部分構造と低親和性の部分構造とを併せ持つポリマーで構成される。そのため、本発明の光吸収フィルタにおいて、このポリマーは上記染料および紫外線照射によりラジカルを生成する化合物を高親和性パートに閉じ込めることによって、上記ラジカル種が染料と反応しやすくなる。あるいは、水素引き抜き反応によるラジカルを有する染料を生成しやすくなり、加熱等によって反応性を高めることなく穏和な光照射条件により、優れた消色性を示すことができる。
　また、本発明の光吸収フィルタの別の形態においては、紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーで構成された樹脂を含有するため、紫外線照射により上記染料の近傍（すなわち、この樹脂中の紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造）でラジカルが生成し、上記ラジカルが染料と反応しやすくすくなる。あるいは、水素引き抜き反応によるラジカルを有する染料を生成しやすくなり、加熱等によって反応性を高めることなく穏和な光照射条件により、優れた消色性を示すことができる。
　このように、本発明の光吸収フィルタは、光（紫外線）の照射により上記染料が化学変化して消色する。すなわち、光（紫外線）照射により、上記染料が化学変化して消色可能な特性を有するものである。
＜波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料＞
　本発明に用いられる波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料（以下、単に「染料」とも称す。）の具体例としては、例えば、テトラアザポルフィリン（ｔｅｔｒａａｚａ　ｐｏｒｐｈｙｒｉｎ、ＴＡＰ）系、スクアリン（ｓｑｕａｒｉｎｅ、ＳＱ）系、シアニン（ｃｙａｎｉｎｅ、ＣＹ）系、ベンジリデン系及びシンナミリデン系の各色素（染料）が挙げられる。
　本発明の光吸収フィルタ中に含有され得る染料は、１種でもよく、２種以上であってもよい。
　本発明の光吸収フィルタは上記染料以外の染料を含有することもできる。
　本発明の光吸収フィルタは、これらの中でも、上記の染料として、染料の分解に伴う二次的な着色構造が生成しにくい点から、下記一般式（１）で表されるスクアリン系色素、又は、後記一般式（Ｖ）で表されるベンジリデン系もしくはシンナミリデン系色素を含むことが好ましい。染料として、上記の通り染料の分解に伴う二次的な着色構造が生成しにくい色素を使用することにより、紫外光が照射された部分を効率よく無色にすることができる。
　さらに、上記の染料としては、主吸収波長帯域における吸収波形が先鋭である点からも、下記一般式（１）で表されるスクアリン系色素、又は、後記一般式（Ｖ）で表されるベンジリデン系もしくはシンナミリデン系色素が好ましい。染料として、上記の通り吸収波形が先鋭な色素を使用することにより、表示光の透過率の低下を最小限に抑えて外光の反射を防止することができる。
　すなわち、上記の染料として、下記一般式（１）で表されるスクアリン系色素、又は、後記一般式（Ｖ）で表されるベンジリデン系色素もしくはシンナミリデン系色素を用いた場合には、本発明の光吸収フィルタを紫外線照射によりマスク露光することにより、本発明の光学フィルタを好適に作製することができる。
　本発明において、下記各一般式で表される色素において、カチオンは非局在化して存在しており、複数の互変異性体構造が存在する。そのため、本発明において、ある色素の少なくとも１つの互変異性体構造が各一般式に当てはまる場合、ある色素は各一般式で表される色素とする。したがって、特定の一般式で表される色素とは、その少なくとも１つの互変異性体構造を特定の一般式で表すことができる色素ということもできる。本発明において、一般式で表される色素は、その互変異性体構造の少なくとも１つがこの一般式に当てはまる限り、どのような互変異性体構造をとるものでもよい。
（１）一般式（１）で表されるスクアリン系色素
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　一般式（１）中、Ａ及びＢは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、又は－ＣＨ＝Ｇを示す。Ｇは置換基を有していてもよい複素環基を示す。
　Ａ又はＢとして採りうるアリール基としては、特に制限されず、単環からなる基でも縮合環からなる基でもよい。アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２がさらに好ましい。アリール基としては、例えば、ベンゼン環又はナフタレン環からなる各基が挙げられ、より好ましくはベンゼン環からなる基である。
　Ａ又はＢとして採りうる複素環基としては、特に制限はなく、脂肪族複素環若しくは芳香族複素環からなる基を含み、芳香族複素環からなる基が好ましい。芳香族複素環基であるヘテロアリール基としては、例えば、後述する置換基Ｘとして採りうるヘテロアリール基が挙げられる。Ａ又はＢとして採りうる芳香族複素環基は、５員環又は６員環の基が好ましく、含窒素５員環の基がより好ましい。具体的には、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、トリアゾール環、インドール環、インドレニン環、インドリン環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環及びピラゾロトリアゾール環のいずれかからなる基が好適に挙げられる。中でも、ピロール環、ピラゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環及びピラゾロトリアゾール環のいずれかからなる基が好ましい。ピラゾロトリアゾール環とは、ピラゾール環とトリアゾール環との縮合環からなり、これらの環が少なくとも１つずつ縮合してなる縮合環であればよく、例えば、後述する一般式（４）及び（５）中の縮合環が挙げられる。
　Ａ及びＢは、スクアリン酸部位（一般式（１）に示された４員環）に対して、特に制限されることなく、いずれの部位（環構成原子）で結合してもよいが、炭素原子で結合することが好ましい。
　Ａ又はＢとして採りうる－ＣＨ＝Ｇ中のＧは、置換基を有していてもよい複素環基を示し、例えば、上記のＡ又はＢとして採りうる複素環基に示されている例が好適に挙げられる。中でも、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環及びインドリン環のいずれかからなる基等が好ましい。
　Ａ及びＢの少なくとも一方は、分子内水素結合を形成する水素結合性基を有していてもよい。
　Ａ、Ｂ及びＧは、それぞれ、置換基Ｘを有していてもよく、置換基Ｘを有する場合には、隣接する置換基が互いに結合してさらに環構造を形成してもよい。また、置換基Ｘは複数個存在してもよい。
　置換基Ｘとしては、例えば、後述する一般式（２）のＲ１として採りうる置換基が挙げられる。具体的には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基（シクロアルキル基を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、フェロセニル基、－ＯＲ１０、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ１１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ１２、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ１３、－ＮＲ１４Ｒ１５、－ＮＨＣＯＲ１６、－ＣＯＮＲ１７Ｒ１８、－ＮＨＣＯＮＲ１９Ｒ２０、－ＮＨＣＯＯＲ２１、－ＳＲ２２、－ＳＯ２Ｒ２３、－ＳＯ３Ｒ２４、－ＮＨＳＯ２Ｒ２５及び－ＳＯ２ＮＲ２６Ｒ２７が挙げられる。また、置換基Ｘは、上記フェロセニル基の他に、後述の消光剤部を有することも好ましい。
　一般式（１）において、Ｒ１０～Ｒ２７は、各々独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基又はヘテロ環基を示す。Ｒ１０～Ｒ２７として採りうる脂肪族基及び芳香族基は、特に制限されず、後述する一般式（２）のＲ１として採りうる置換基における、脂肪族基に分類されるアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基及びアルキニル基、並びに、芳香族基に分類されるアリール基から適宜に選択できる。Ｒ１０～Ｒ２７として採りうるヘテロ環基は、脂肪族でも芳香族でもよく、例えば、後述する一般式（２）のＲ１として採りうるヘテロアリール基又はヘテロ環基から適宜に選択できる。
　なお、－ＣＯＯＲ１２のＲ１２が水素原子である場合（すなわち、カルボキシ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、カルボネート基）、塩の状態であってもよい。また、－ＳＯ３Ｒ２４のＲ２４が水素原子である場合（すなわち、スルホ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、スルホネート基）、塩の状態であってもよい。
　置換基Ｘとして採りうるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
　置換基Ｘとして採りうるアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８がさらに好ましい。アルケニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８がさらに好ましい。アルキニル基の炭素数は、２～４０が好ましく、２～３０がより好ましく、２～２５が特に好ましい。アルキル基、アルケニル基及びアルキニル基は、それぞれ、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖又は分岐が好ましい。
　置換基Ｘとして採りうるアリール基は、単環又は縮合環の基を含む。アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２がさらに好ましい。
　置換基Ｘとして採りうるアラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、７～４０が好ましく、７～３０がより好ましく、７～２５がさらに好ましい。
　置換基Ｘとして採りうるヘテロアリール基は、単環又は縮合環からなる基を含み、単環、又は環数が２～８個の縮合環からなる基が好ましく、単環又は環数が２～４個の縮合環からなる基がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子等が挙げられる。ヘテロアリール基は、５員環又は６員環からなる基が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましい。ヘテロアリール基としては、例えば、ピリジン環、ピペリジン環、フラン環、フルフラン環、チオフェン環、ピロール環、キノリン環、モルホリン環、インドール環、イミダゾール環、ピラゾール環、カルバゾール環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、インドリン環、チアゾール環、ピラジン環、チアジアジン環、ベンゾキノリン環及びチアジアゾール環のいずれかからなる各基が挙げられる。
　置換基Ｘとして採りうるフェロセニル基は、一般式（２Ｍ）で表されることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　一般式（２Ｍ）中、Ｌは、単結合、又は一般式（１）中のＡ、Ｂ又はＧと共役しない２価の連結基を示す。Ｒ１ｍ～Ｒ９ｍは、それぞれ、水素原子又は置換基を示す。Ｍは、メタロセン化合物を構成しうる原子であって、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｍｎ、Ｒｕ、Ｓｎ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｖ又はＰｔを示す。＊はＡ、Ｂ又はＧとの結合部を示す。
　なお、本発明においては、一般式（２Ｍ）中のＬが単結合である場合、Ａ、Ｂ又はＧに直接結合するシクロペンタジエニル環（一般式（２Ｍ）中のＲ１ｍを有する環）は、Ａ、Ｂ又はＧと共役する共役構造に含めない。
　Ｌとして採りうる２価の連結基としては、Ａ、Ｂ又はＧと共役しない連結基であれば特に制限されず、その内部、又は一般式（２Ｍ）中のシクロペンタジエン環側端部に、上述の共役構造を含んでいてもよい。２価の連結基としては、例えば、炭素数１～２０のアルキレン基、炭素数６～２０のアリーレン基、複素環から２個水素を除いた２価の複素環基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－ＮＲ－（Ｒは水素原子又は１価の置換基を示す。）、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－若しくは－Ｎ＝ＣＨ－、又は、これらを複数（好ましくは２～６個）組合せてなる２価の連結基が挙げられる。好ましくは、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数６～１２のアリーレン基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＮＲ－（Ｒは上記の通り。）、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－及び－Ｎ＝ＣＨ－からなる群から選ばれる基若しくはこの群から選ばれる２種以上（好ましくは２～６個）の基を組合せた２価の連結基であり、特に好ましくは、炭素数１～４のアルキレン基、フェニレン基、－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－及び－ＳＯ２－からなる群から選ばれる基若しくはこの群から選ばれる２種以上（好ましくは２～６個）の基を組合せた連結基である。組合せた２価の連結基としては、特に制限されないが、－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－又は－ＳＯ２－を含む基が好ましく、－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－又は－ＳＯ２－を２種以上組合せてなる連結基、又は、－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－及び－ＳＯ２－の少なくとも１種とアルキレン基若しくはアリーレン基とを組合せてなる連結基が挙げられる。－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－又は－ＳＯ２－を２種以上組合せてなる連結基としては、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯＯ－、－ＮＨＣＯＮＨ－、－ＳＯ２ＮＨ－が挙げられる。－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－及び－ＳＯ２－の少なくとも１種とアルキレン基若しくはアリーレン基とを組合せてなる連結基としては、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－若しくは－ＣＯＮＨ－と、アルキレン基若しくはアリーレン基とを組合せた基が挙げられる。
　Ｒとして採りうる置換基は、特に制限されず、一般式（２）中のＡが有していてもよい置換基Ｘと同義である。
　Ｌは、単結合であるか、又は、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数６～１２のアリーレン基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＮＲ－（Ｒは上記の通り。）、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－及び－Ｎ＝ＣＨ－からなる群から選ばれる基若しくはこの群から選ばれる２種以上の基を組合せた基が好ましい。
　Ｌは、置換基を１又は複数有していてもよい。Ｌが有していてもよい置換基としては、特に制限されず、例えば上記置換基Ｘと同義である。Ｌが置換基を複数有する場合、隣接する原子に結合する置換基が互いに結合して更に環構造を形成してもよい。
　Ｌとして採りうるアルキレン基としては、炭素数が１～２０の範囲にある基であれば、直鎖、分岐鎖又は環状のいずれでもよく、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、メチルエチレン、メチルメチレン、ジメチルメチレン、１，１－ジメチルエチレン、ブチレン、１－メチルプロピレン、２－メチルプロピレン、１，２－ジメチルプロピレン、１，３－ジメチルプロピレン、１－メチルブチレン、２－メチルブチレン、３－メチルブチレン、４－メチルブチレン、２，４－ジメチルブチレン、１，３－ジメチルブチレン、ペンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン、エタン－１，１－ジイル、プロパン－２，２－ジイル、シクロプロパン－１，１－ジイル、シクロプロパン－１，２－ジイル、シクロブタン－１，１－ジイル、シクロブタン－１，２－ジイル、シクロペンタン－１，１－ジイル、シクロペンタン－１，２－ジイル、シクロペンタン－１，３－ジイル、シクロヘキサン－１，１－ジイル、シクロヘキサン－１，２－ジイル、シクロヘキサン－１，３－ジイル、シクロヘキサン－１，４－ジイル、メチルシクロヘキサン－１，４－ジイル等が挙げられる。
　Ｌとして、アルキレン基中に、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－ＮＲ－（Ｒは上述の通り。）、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－及び－Ｎ＝ＣＨ－の少なくとも１つを含む連結基を採る場合、－ＣＯ－等の基は、アルキレン基中のいずれの位置に組み込まれてもよく、また組み込まれる数も特に制限されない。
　Ｌとして採りうるアリーレン基としては、炭素数が６～２０の範囲にある基であれば特に制限されず、例えば、一般式（１）中のＡとして採りうる炭素数が６～２０のアリール基として例示した各基から更に水素原子を１つ除去した基が挙げられる。
　Ｌとして採りうる複素環基としては、特に制限されず、例えば、上記Ａとして採りうる複素環基として例示した各基から更に水素原子を１つ除去した基が挙げられる。
　一般式（２Ｍ）において、上記連結基Ｌを除外した残りの部分構造は、メタロセン化合物から水素原子を１つ除去した構造（メタロセン構造部）に相当する。本発明において、メタロセン構造部となるメタロセン化合物は、上記一般式（２Ｍ）で規定される部分構造に適合する化合物（Ｌに代えて水素原子が結合した化合物）であれば、公知のメタロセン化合物を特に制限されることなく用いることができる。以下、一般式（２Ｍ）で規定されるメタロセン構造部について具体的に説明する。
　一般式（２Ｍ）中、Ｒ１ｍ～Ｒ９ｍは、それぞれ、水素原子又は置換基を示す。Ｒ１ｍ～Ｒ９ｍとして採りうる置換基としては、特に制限されないが、例えば、一般式（３）のＲ１として採りうる置換基の中から選ぶことができる。Ｒ１ｍ～Ｒ９ｍは、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシル基、アルコキシ基、アミノ基又はアミド基が好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシル基又はアルコキシ基がより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアシル基が更に好ましく、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基が特に好ましく、水素原子が最も好ましい。
　Ｒ１ｍ～Ｒ９ｍとして採りうるアルキル基としては、Ｒ１として採りうるアルキル基の中でも、炭素数１～８のアルキル基が好ましく、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、イソブチル、ペンチル、ｔｅｒｔ－ペンチル、ヘキシル、オクチル、２－エチルヘキシルが挙げられる。
　このアルキル基は、置換基としてハロゲン原子を有していてもよい。ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、例えば、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、２，２，２－トリフルオロエチル、パーフルオロエチル、パーフルオロプロピル、パーフルオロブチル等が挙げられる。
　また、Ｒ１ｍ等として採りうるアルキル基は、炭素鎖を形成する少なくとも１つのメチレン基が－Ｏ－又は－ＣＯ－で置換されていてもよい。メチレン基が－Ｏ－で置換されたアルキル基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｉｓｏブトキシ、ｓｅｃ－ブトキシ、ｔｅｒｔ－ブトキシ、２－メトキシエトキシ、クロロメチルオキシ、ジクロロメチルオキシ、トリクロロメチルオキシ、ブロモメチルオキシ、ジブロモメチルオキシ、トリブロモメチルオキシ、フルオロメチルオキシ、ジフルオロメチルオキシ、トリフルオロメチルオキシ、２，２，２－トリフルオロエチルオキシ、パーフルオロエチルオキシ、パーフルオロプロピルオキシ、パーフルオロブチルオキシの端部メチレン基が置換されたアルキル基、更には、２－メトキシエチル等の炭素鎖の内部メチレン基が置換されたアルキル基等が挙げられる。メチレン基が－ＣＯ－で置換されたアルキル基としては、例えば、アセチル、プロピオニル、モノクロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、プロパン－２－オン－１－イル、ブタン－２－オン－１－イル等が挙げられる。
　一般式（２Ｍ）中、Ｍは、メタロセン化合物を構成しうる原子であって、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｍｎ、Ｒｕ、Ｓｎ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｖ又はＰｔを示す。中でも、Ｍは、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｒｕ又はＯｓが好ましく、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｒｕ又はＯｓがより好ましく、Ｆｅ又はＴｉが更に好ましく、Ｆｅが最も好ましい。
　一般式（２Ｍ）で表される基としては、Ｌ、Ｒ１ｍ～Ｒ９ｍ及びＭの好ましいもの同士を組合せてなる基が好ましく、例えば、Ｌとして、単結合、又は、炭素数２～８のアルキレン基、炭素数６～１２のアリーレン基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＮＲ－（Ｒは上述の通り。）、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－及び－Ｎ＝ＣＨ－からなる群から選ばれる基若しくはこの群から選ばれる２種以上の基を組合せた基と、Ｒ１ｍ～Ｒ９ｍとして、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシル基又はアルコキシ基と、ＭとしてＦｅとを組合せてなる基が挙げられる。
　置換基Ｘとして採りうるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基及びヘテロアリール基、並びに、Ｒ１０～Ｒ２７として採りうる脂肪族基、芳香族基及びヘテロ環基は、それぞれ、さらに置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。さらに有していてもよい置換基としては、特に制限はないが、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、芳香族ヘテロ環チオ基、スルホニル基、フェロセニル基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、及びカルボキシ基から選ばれる置換基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、芳香族ヘテロ環チオ基、スルホニル基、フェロセニル基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、及びカルボキシ基から選ばれる置換基がより好ましい。これらの基は、後述する一般式（２）のＲ１として採りうる置換基から適宜に選択することができる。
　上記一般式（１）で表される色素の好ましい１実施形態として、下記一般式（２）で表される色素が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　一般式（２）中、Ａ１は、一般式（１）中のＡと同様である。中でも、含窒素５員環である複素環基が好ましい。
　一般式（２）において、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、水素原子又は置換基を示す。Ｒ１とＲ２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、また互いに結合して環を形成してもよい。
　Ｒ１及びＲ２として採りうる置換基としては、特に制限はないが、例えば、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ－ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、シクロアルキル基（シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アルケニル基（ビニル基、アリル基等）、アルキニル基（エチニル基、プロパルギル基等）、アリール基（フェニル基、ナフチル基等）、ヘテロアリール基（フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等）、ヘテロ環基（複素環基とも呼び、例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基等）、シクロアルコキシ基（シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、ヘテロアリールオキシ基（芳香族ヘテロ環オキシ基）、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、ヘテロアリールチオ基（芳香族ヘテロ環チオ基）、アルコキシカルボニル基（メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、ホスホリル基（ジメトキシホスホニル、ジフェニルホスホリル）、スルファモイル基（アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、２－ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２－エチルヘキシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２－エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、スルホニルアミド基（メチルスルホニルアミノ基、オクチルスルホニルアミノ基、２－エチルヘキシルスルホニルアミノ基、トリフルオロメチルスルホニルアミノ基等）、カルバモイル基（アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２－エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２－ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２－ピリジルアミノウレイド基等）、アルキルスルホニル基（メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２－エチルヘキシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２－ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２－エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２－ピリジルアミノ基等）、アルキルスルホニルオキシ基（メタンスルホニルオキシ）、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、ヒドロキシ基等が挙げられる。
　中でも、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基が好ましく、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
　Ｒ１及びＲ２として採りうる置換基はさらに置換基を有していてもよい。さらに有していてもよい置換基としては、Ｒ１及びＲ２として採りうる上記置換基、及び、前述の一般式（１）におけるＡ、Ｂ及びＧが有してもよい置換基Ｘが挙げられる。また、Ｒ１とＲ２とは互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ１又はＲ２と、Ｂ２又はＢ３が有する置換基とは結合して環を形成してもよい。
　このとき形成される環としてはヘテロ環又はヘテロアリール環が好ましく、形成される環の大きさは特に制限されないが、５員環又は６員環であることが好ましい。また、形成される環の数は特に限定されず、１個であってもよく、２個以上であってもよい。２個以上の環が形成される形態としては、例えば、Ｒ１とＢ２が有する置換基、及び、Ｒ２とＢ３が有する置換基とがそれぞれ結合して２個の環を形成する形態が挙げられる。
　一般式（２）において、Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３及びＢ４は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を示す。Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３及びＢ４を含む環は芳香環である。Ｂ１～Ｂ４のうち、少なくとも２つ以上は炭素原子であることが好ましく、Ｂ１～Ｂ４の全てが炭素原子であることがより好ましい。
　Ｂ１～Ｂ４として採りうる炭素原子は、水素原子又は置換基を有する。Ｂ１～Ｂ４として採りうる炭素原子のうち、置換基を有する炭素原子の数は、特に制限されないが、０、１又は２であることが好ましく、１であることがより好ましい。特に、Ｂ１及びＢ４が炭素原子であって、少なくとも一方が置換基を有することが好ましい。
　Ｂ１～Ｂ４として採りうる炭素原子が有する置換基としては、特に制限されず、Ｒ１及びＲ２として採りうる上記置換基が挙げられる。中でも、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アシル基、アミド基、スルホニルアミド基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又はヒドロキシ基であり、より好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アシル基、アミド基、スルホニルアミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又はヒドロキシ基である。
　Ｂ１～Ｂ４として採り得る炭素原子が有する置換基は、さらに置換基を有していてもよい。このさらに有していてもよい置換基としては、前述の一般式（２）におけるＲ１及びＲ２がさらに有してもよい置換基、及び、前述の一般式（１）におけるＡ、Ｂ及びＧが有してもよい置換基Ｘが挙げられ、フェロセニル基が好ましい。
　Ｂ１及びＢ４として採りうる炭素原子が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アミド基、スルホニルアミド基又はカルバモイル基がさらに好ましく、特に好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アミド基又はスルホニルアミド基が挙げられ、最も好ましくは、ヒドロキシ基、アミド基又はスルホニルアミド基である。これらのＢ１及びＢ４として採りうる炭素原子が有する置換基は、フェロセニル基をさらに有していてもよい。
　Ｂ２及びＢ３として採りうる炭素原子が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基又はハロゲン原子がさらに好ましく、いずれか一方の置換基が電子求引性基（例えば、アルコキシカルボニル基、アシル基、シアノ基、ニトロ基又はハロゲン原子）であることが特に好ましい。
　上記一般式（２）で表される色素は、下記一般式（３）、一般式（４）及び一般式（５）のいずれかで表される色素であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　一般式（３）において、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、水素原子又は置換基を示し、上記一般式（２）におけるＲ１及びＲ２と同義であり、好ましい範囲も同じである。
　一般式（３）において、Ｂ１～Ｂ４は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を示し、上記一般式（２）におけるＢ１～Ｂ４と同義であり、好ましい範囲も同じである。
　一般式（３）において、Ｒ３及びＲ４は、各々独立に、水素原子又は置換基を示す。Ｒ３及びＲ４として採りうる置換基としては、特に制限されず、上記Ｒ１及びＲ２として採りうる置換基と同じものを挙げることができる。
　ただし、Ｒ３として採りうる置換基は、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アミド基、スルホニルアミド基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基又はハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アリール基又はアミノ基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。これらのＲ３として採りうる置換基は、フェロセニル基をさらに有していてもよい。
　Ｒ４として採りうる置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基又はシアノ基が好ましく、アルキル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基又はアリール基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
　Ｒ３及びＲ４として採りうるアルキル基は、直鎖状、分岐状及び環状のいずれであってもよいが、直鎖状又は分岐状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～１２が好ましく、１～８がより好ましい。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｔ－ブチル基、２－エチルヘキシル基、シクロヘキシル基が好ましく、メチル基、ｔ－ブチル基がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　一般式（４）において、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、水素原子又は置換基を示し、上記一般式（２）におけるＲ１及びＲ２と同義であり、好ましい範囲も同じである。
　一般式（４）において、Ｂ１～Ｂ４は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を示し、上記一般式（２）におけるＢ１～Ｂ４と同義であり、好ましい範囲も同じである。
　一般式（４）において、Ｒ５及びＲ６は、各々独立に、水素原子又は置換基を示す。Ｒ５及びＲ６として採りうる置換基としては、特に制限されず、上記Ｒ１及びＲ２として採りうる置換基と同じものを挙げることができる。
　ただし、Ｒ５として採りうる置換基は、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、シアノ基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、スルホニルアミド基、ウレイド基又はカルバモイル基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アミド基又はアミノ基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
　Ｒ５として採りうるアルキル基は、一般式（３）におけるＲ３として採りうるアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
　一般式（４）において、Ｒ６として採りうる置換基は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、スルホニルアミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基又はハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基又はヘテロ環基がより好ましく、アルキル基又はアリール基がさらに好ましい。
　Ｒ６として採りうるアルキル基は、一般式（３）におけるＲ４として採りうるアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
　Ｒ６として採りうるアリール基は、炭素数６～１２のアリール基が好ましく、フェニル基がより好ましい。このアリール基は置換基を有していてもよく、このような置換としては、以下の置換基群Ａに含まれる基が挙げられ、特に、炭素数１～１０のアルキル基、スルホニル基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基等が好ましい。これらの置換基は、さらに置換基を有していてもよい。具体的に、置換基はアルキルスルホニルアミノ基が好ましい。
　－　置換基群Ａ　－
　ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アミノオキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、スルホニルアミノ基（アルキル若しくはアリールスルホニルアミノ基を含む）、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル若しくはアリールスルフィニル基、スルホニル基（アルキル若しくはアリールスルホニル基を含む）、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基等。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　一般式（５）において、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、水素原子又は置換基を示し、上記一般式（２）におけるＲ１及びＲ２と同義であり、好ましい範囲も同じである。
　一般式（５）において、Ｂ１～Ｂ４は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を示し、上記一般式（２）におけるＢ１～Ｂ４と同義であり、好ましい範囲も同じである。
　一般式（５）において、Ｒ７及びＲ８は、各々独立に、水素原子又は置換基を示す。Ｒ７及びＲ８として採りうる置換基としては、特に制限されず、上記Ｒ１及びＲ２として採りうる置換基と同じものを挙げることができる。
　ただし、Ｒ７として採りうる置換基の、好ましい範囲、より好ましい範囲及びさらに好ましい基は、一般式（４）におけるＲ５として採りうる置換基と同じである。Ｒ５として採りうるアルキル基は、上記Ｒ３として採りうるアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
　一般式（５）において、Ｒ８として採りうる置換基の、好ましい範囲、より好ましい範囲及びさらに好ましい範囲は、一般式（４）におけるＲ６として採りうる置換基と同じである。Ｒ８として採りうるアルキル基及びアリール基の好ましい範囲は、上記一般式（４）におけるＲ６として採りうるアルキル基及びアリール基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
　上記染料に用いられるスクアリン系色素としては、一般式（１）～（５）のいずれかで表されるスクアリン色素であれば、特に制限なく使用することができる。その例として、例えば、特開２００６－１６０６１８号公報、国際公開第２００４／００５９８１号、国際公開第２００４／００７４４７号、Ｄｙｅｓ　ａｎｄ　Ｐｉｇｍｅｎｔ，２００１，４９，ｐ．１６１－１７９、国際公開第２００８／０９０７５７号、国際公開第２００５／１２１０９８号、特開２００８－２７５７２６号公報に記載の化合物を挙げられる。
　以下に、一般式（１）～（５）のいずれかで表される色素の具体例を示す。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
　下記具体例において、Ｍｅはメチル、Ｅｔはエチル、Ｂｕはブチル、Ｐｈはフェニルをそれぞれ示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　上記具体例の他に、一般式（３）～（５）のいずれかで表される色素の具体例を以下に挙げる。下記表中の置換基Ｂは下記構造を示す。下記構造及び下記表において、Ｍｅはメチル、Ｅｔはエチル、ｉ－Ｐｒはｉ－プロピル、Ｂｕはｎ－ブチル、ｔ－Ｂｕはｔ－ブチル、Ｐｈはフェニルをそれぞれ示す。下記構造において＊は各一般式中の炭素四員環との結合部を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　上記一般式（１）で表される色素の好ましい１実施形態として、国際公開第２０２１／１３２６７４号の［００８１］～［００９５］に記載の一般式（６）～（９）のいずれかで表される色素及び具体例の記載をそのまま適用することができる。
（消光剤内蔵型色素）
　上記一般式（１）で表されるスクアリン系色素は、連結基を介して、共有結合により消光剤部が色素に連結されてなる、消光剤内蔵型色素であってもよい。上記消光剤内蔵型色素も、上記染料として好ましく用いることができる。すなわち、上記消光剤内蔵型色素は、主吸収波長帯域を有する波長に応じて、上記染料として計上する。
　上記消光剤内蔵型色素としては、消光剤部が電子供与型消光剤部である電子供与型消光剤内蔵色素と、消光剤部が電子受容型消光剤部である電子受容型消光剤部が挙げられる。
　電子供与型消光剤部とは、励起状態の色素の二つのＳＯＭＯのうちの低エネルギー準位のＳＯＭＯに電子を供与したのち、色素の高エネルギー準位のＳＯＭＯから電子を受け取ることにより、励起状態の色素を基底状態に失活させる構造部を意味する。電子受容型消光剤部とは、励起状態の色素の二つのＳＯＭＯのうちの高エネルギー準位のＳＯＭＯから電子を受けとったのち、色素の低エネルギー準位のＳＯＭＯに電子を供与することにより、励起状態の色素を基底状態に失活させる構造部を意味する。
　上記電子供与型消光剤部としては、例えば、上述の置換基Ｘにおけるフェロセニル基、国際公開第２０１９／０６６０４３号の段落［０１９９］～［０２１２］および段落［０２３４］～［０２８７］に記載の消光剤化合物における消光剤部を挙げることができ、上述の置換基Ｘにおけるフェロセニル基が好ましい。また、上記電子受容型消光剤部としては、例えば、国際公開第２０１９／０６６０４３号の段落［０２８８］～［０３１０］に記載の消光剤化合物における消光剤部を挙げることができる。
　本発明の光吸収フィルタが、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料と、紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーで構成された樹脂とを含有する場合、光吸収性部位の耐光性の観点から、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料は、電子供与型消光剤内蔵色素を含むことが好ましく、下記一般式（１Ａ）で表されるスクアリン系色素を含むことがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　上記式中、Ａ及びＢは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基
を有していてもよい複素環基又は－ＣＨ＝Ｇを示す。Ｇは置換基を有していてもよい複素環基を示す。ただし、Ａ及びＢの少なくとも一方は、電子供与型消光剤部を含む。
　上記一般式（１Ａ）で表される色素は、前述の一般式（１）で表される色素において、Ａ及びＢの少なくとも一方が電子供与型消光剤部を含む点以外は、前述の一般式（１）で表される色素と同じである。そのため、一般式（１Ａ）におけるＡ、Ｂ及びＧに係る記載については、前述の一般式（１）におけるＡ、Ｂ及びＧに係る記載を適用することができる。また、一般式（１Ａ）で表される色素の好ましい実施形態としては、前述の一般式（１）で表される色素の好ましい実施形態である一般式（２）～（９）のいずれかで表される色素の記載において、一般式（１）におけるＡ及びＢに相当する構造の少なくとも一方が電子供与型消光剤部を含むように変更した記載を適用することができる。
　Ａ及びＢの少なくとも一方が含む電子供与型消光剤部は、上述の置換基Ｘにおけるフェロセニル基が好ましい。
　以下に、一般式（１）で表されるスクアリン系色素のうち、消光剤内蔵型色素に該当する色素の具体例を示す。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
　下記具体例において、Ｍｅはメチル、Ｅｔはエチル、Ｂｕはブチルをそれぞれ示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
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Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
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（２）一般式（Ｖ）で表されるベンジリデン系又はシンナミリデン系色素
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　上記式中、Ａ６１は酸性核を示し、Ｌ６１、Ｌ６２及びＬ６３はそれぞれ独立に置換されていてもよいメチン基を示し、Ｌ６４及びＬ６５はそれぞれ独立に炭素原子数１～４のアルキレン基を示す。Ｒ６２及びＲ６３はそれぞれ独立に、シアノ基、－ＣＯＯＲ６４（すなわち、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ６４）、－ＣＯＮＲ６５Ｒ６６（すなわち、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ６５Ｒ６６）、－ＣＯＲ６４（すなわち、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ６４）、－ＳＯ２Ｒ６４又は－ＳＯ２ＮＲ６５Ｒ６６を示し、Ｒ６４はアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基又はアリール基を示し、Ｒ６５及びＲ６６はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基又はアリール基を示す。Ｒ６１は置換基を示し、ｍ６１は０または１の整数であり、ｎ６１は０～４の整数である。
　上記一般式（Ｖ）で表される化合物（色素）は、国際公開第２０２１／１３２６７４号の［０１１６］～［０１３３］に記載の一般式（Ｖ）で表されるベンジリデン系又はシンナミリデン系色素と同じである。そのため、一般式（Ｖ）における各置換基の説明、一般式（Ｖ）で表される化合物の具体例については、国際公開第２０２１／１３２６７４号の［０１１８］～［０１３３］の記載をそのまま適用することができる。
　本発明の光吸収フィルタにおいて、上記染料の合計含有量は、本発明の光吸収フィルタ１００質量部中において、０．１０質量部以上が好ましく、０．１５質量部以上がより好ましく、０．２０質量部以上がさらに好ましく、０．２５質量部以上が特に好ましく、とりわけ０．３０質量部以上が好ましい。本発明の光吸収フィルタ中の上記染料の合計含有量が、上記の好ましい下限値以上であると、良好な反射防止効果が得られる。
　また、本発明の光吸収フィルタ中において、上記染料の含有量の合計は、本発明の光吸収フィルタ１００質量部中において、通常は５０質量部以下であり、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましく、１５質量部以下がさらに好ましく、１０質量部以下が特に好ましい。
　本発明の光吸収フィルタにおいて、上記一般式（１）で表されるスクアリン色素、又は、上記一般式（Ｖ）で表されるベンジリデン系もしくはシンナミリデン系色素の含有量は、本発明の光吸収フィルタ１００質量部中において、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１０質量部がより好ましい。なお、本発明の光吸収フィルタにおいて、上記染料の全てが上記一般式（１）で表されるスクアリン色素、又は、上記一般式（Ｖ）で表されるベンジリデン系もしくはシンナミリデン系色素であってもよい。
　なお、上記染料が上記消光剤内蔵型色素を含有する場合、上記消光剤内蔵型色素の含有量は、反射防止効果等の光吸収性を付与する観点から、本発明の光吸収フィルタを構成する樹脂１００質量部に対し、０．１０質量部以上であることが好ましく、０．１５質量部以上がより好ましく、０．２０質量部以上がさらに好ましく、０．２５質量部以上が特に好ましく、とりわけ０．３０質量部以上が好ましい。上限値は、４５質量部以下であることが好ましく、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましく、１５質量部以下がさらに好ましく、１０質量部以下が特に好ましい。
＜紫外線照射によりラジカルを生成する化合物＞
　本発明に用いられる、紫外線照射によりラジカルを生成する化合物（以下、「ラジカル発生剤」とも称す。）は、紫外線照射によりラジカルを生成する化合物であって、上記染料を消色する機能を有する化合物であれば、特に限定されない。本発明においては、光を吸収しラジカルを生成する化合物（以下、「光ラジカル発生剤」とも称す。）を好ましく用いることができる。なお、生成されるラジカルは、通常のラジカルの他に、ビラジカルであってもよい。
　光ラジカル発生剤としては、光ラジカル重合開始剤又は光ラジカル発生剤等として常用される化合物を特に制限することなく用いることができ、アセトフェノン発生剤、ベンゾイン発生剤、ベンゾフェノン発生剤、ホスフィンオキシド発生剤、オキシム発生剤、ケタール発生剤、アントラキノン発生剤、チオキサントン発生剤、アゾ化合物発生剤、過酸化物発生剤、ジスルフィド発生剤、ロフィンダイマー発生剤、オニウム塩発生剤、ボレート塩発生剤、活性エステル発生剤、活性ハロゲン発生剤、無機錯体発生剤又はクマリン発生剤等が挙げられる。なお、上記光ラジカル発生剤の具体例における「〇〇発生剤」は、それぞれ、「〇〇化合物」又は「〇〇類」等と称されることがあり、以降においては「〇〇化合物」と称す。
　光ラジカル発生剤の具体例、好ましい形態、及び、市販品等は、特開２００９－０９８６５８号公報の段落［０１３３］～［０１５１］において、光ラジカル開始剤の具体例、好ましい形態、市販品等として記載されており、これらを本発明においても同様に好適に用いることができる。
　上記光ラジカル発生剤は、分子内開裂によりラジカルを生成する化合物、又は、近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する化合物であることが好ましく、消色率をより向上させる観点から、近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する化合物であることがより好ましい。
　上記の分子内開裂によりラジカルを生成する化合物（以下、「分子内開裂型光ラジカル発生剤」とも称す。）とは、光を吸収した化合物が、ホモリティックに結合開裂することにより、ラジカルを生成する化合物を意味する。
　分子内開裂型光ラジカル発生剤としては、アセトフェノン化合物、ベンゾイン化合物、ホスフィンオキシド化合物、オキシム化合物、ケタール化合物、アゾ化合物、過酸化物化合物、ジスルフィド化合物、オニウム塩化合物、ボレート塩化合物、活性エステル化合物、活性ハロゲン化合物、無機錯体化合物又はクマリン化合物が挙げられる。これらのなかでも、カルボニル化合物である、アセトフェノン化合物、ベンゾイン化合物又はホスフィンオキシド化合物が好ましい。分子内開裂型のカルボニル化合物の光分解反応としてはノリッシュＩ型反応が知られており、ラジカル生成機構についてこの反応を参照することができる。
　上記の近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する化合物（以下、「水素引き抜き型光ラジカル発生剤」とも称す。）とは、光吸収により得られた励起三重項状態のカルボニル化合物が、近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜くことにより、ラジカルを生成する化合物を意味する。
　水素引き抜き型光ラジカル発生剤としては、カルボニル化合物が知られており、ベンゾフェノン化合物、アントラキノン化合物又はチオキサントン化合物が挙げられる。水素引き抜き型のカルボニル化合物の光分解反応としてはノリッシュＩＩ型反応が知られており、ラジカル生成機構についてこの反応を参照することができる。
　近傍に存在する化合物とは、樹脂、染料、ラジカル発生剤等の光吸収フィルタ中に存在する各種成分が挙げられる。
　近傍に存在する化合物は、水素原子を引き抜かれることにより、ラジカルを有する化合物となる。水素引き抜き型光ラジカル発生剤により水素原子を引き抜かれた染料は、ラジカルを有する活性な化合物となるため、このラジカルを有する染料の分解等の反応によっても、染料の褪色、消色が生じ得る。
　また、水素引き抜き型光ラジカル発生剤が分子内の水素原子を引き抜く場合には、ビラジカルを生成する。
　水素引き抜き型光ラジカル発生剤としては、水素引き抜き反応の量子収率の観点から、ベンゾフェノン化合物が好ましい。
（ベンゾフェノン化合物）
　水素引き抜き型光ラジカル発生剤として用いられるベンゾフェノン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、２－メチルベンゾフェノン、３－メチルベンゾフェノンもしくは４－メチルベンゾフェノン等のアルキルベンゾフェノン化合物、２－クロロベンゾフェノン、４－クロロベンゾフェノンもしくは４－ブロモベンゾフェノン等のハロゲン原子を有するベンゾフェノン化合物、２－カルボキシベンゾフェノン、２－エトキシカルボニルベンゾフェノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸もしくはそのテトラメチルエステル等のカルボキシ基もしくはアルコキシカルボニル基が置換したベンゾフェノン化合物、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジシクロヘキシルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジヒドロキシエチルアミノ）ベンゾフェノン等のビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン化合物（好ましくは４，４’－ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン化合物）、又は、４－メトキシ－４’－ジメチルアミノベンゾフェノン、４－メトキシベンゾフェノン、４，４’－ジメトキシベンゾフェノン等のアルコキシ基が置換したベンゾフェノン化合物が挙げられる。
　上記ベンゾフェノン化合物のなかでも、アルコキシ基が置換したベンゾフェノン化合物（アルコキシベンゾフェノン化合物とも称す。）が、未露光部の耐光性と露光部の消色性の両立を染料に対するラジカル発生剤のモル配合比率を低減しながらも高度なレベルで実現させる観点から好ましい。
　上記ベンゾフェノン化合物が有するアルコキシ基の数は、１～３個が好ましく、１又は２個がより好ましい。
　上記アルコキシベンゾフェノン化合物が有するアルコキシ基中のアルキル鎖の部分は、直鎖状であってもよく分岐状であってもよい。上記アルコキシ基の炭素数は、１～１８が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１２がさらに好ましく、１～６が特に好ましく、なかでも１～３が好ましい。
　上記アルコキシベンゾフェノン化合物中におけるアルコキシ基の置換位置としては、未露光部の耐光性と露光部の消色性との両立を染料に対するラジカル発生剤のモル配合比率を低減しながらもより高度なレベルで実現させる観点から、４位に少なくとも有することが好ましく、４位および４’位に少なくとも有することがより好ましく、４位及び４’位の２か所にアルコキシ基を有することがさらに好ましい。
　光ラジカル発生剤としては、「最新ＵＶ硬化技術」、（株）技術情報協会、１９９１年、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」、加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行、ｐ．６５～１４８にも種々の例が記載されており、これらを本発明においても好適に用いることができる。
　光ラジカル発生剤において、吸収する紫外線の極大吸収波長としては、２５０～４００ｎｍの範囲が好ましく、２４０～４００ｎｍの範囲がより好ましく、２７０～４００ｎｍの範囲がさらに好ましい。
　光ラジカル発生剤がヘンゾフェノン化合物の場合、最も長波長側に位置する、ｎ－π＊遷移に帰属される吸収極大の波長は、２６０～４００ｎｍの範囲が好ましく、２８５～３４５ｎｍの範囲がより好ましい。また、二番目に長波長側に位置する、π－π＊に帰属される吸収極大の波長は、２４０～３８０ｎｍの範囲が好ましく、２７０～３３０ｎｍの範囲がより好ましい。吸収極大波長を上記範囲に設定することにより、露光時に使用される、メタルハライドランプ等の光源の光をよく吸収する一方で、表示装置に組み込んだ際に外部から侵入する紫外線を吸収しにくくなり、未露光部の耐光性と露光部の消色性を両立させることが可能となる。
　ベンゾフェノン化合物のうち、より長波長領域に吸収を有する光ラジカル発生剤としては、例えば、アルコキシベンゾフェノン化合物が挙げられる。
　光ラジカル発生剤が吸収する紫外線の極大吸収波長と、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料が有する主吸収波長帯域とは、通常、３０ｎｍ以上離れていることが好ましい。上限値に特に制限はない。
　市販の光開裂型の光ラジカル発生剤としては、いずれも商品名で、ＢＡＳＦ社製（旧チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）の、「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１８７０」（ＣＧＩ－４０３／イルガキュア１８４＝７／３混合開始剤）、「イルガキュア５００」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア１１７３」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア４２６５」、「イルガキュア４２６３」、「イルガキュア１２７」若しくは「ＯＸＥ０１」等、また、日本化薬社製の、「カヤキュアーＤＥＴＸ－Ｓ」、「カヤキュアーＢＰ－１００」、「カヤキュアーＢＤＭＫ」、「カヤキュアーＣＴＸ」、「カヤキュアーＢＭＳ」、「カヤキュアー２－ＥＡＱ」、「カヤキュアーＡＢＱ」、「カヤキュアーＣＰＴＸ」、「カヤキュアーＥＰＤ」、「カヤキュアーＩＴＸ」、「カヤキュアーＱＴＸ」、「カヤキュアーＢＴＣ」若しくは「カヤキュアーＭＣＡ」等、更には、サートマー社製の「Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ、ＫＢ１、ＥＢ３、ＢＰ、Ｘ３３、ＫＴＯ４６、ＫＴ３７、ＫＩＰ１５０若しくはＴＺＴ）」等が挙げられる。また、これら２種以上の組み合わせも好ましい例として挙げられる。
　本発明の光吸収フィルタにおいて、ラジカル発生剤（好ましくは光ラジカル発生剤）の含有量は、本発明の光吸収フィルタ１００質量部中において、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～２０質量部がより好ましい。
　本発明の光吸収フィルタにおけるラジカル発生剤（好ましくは光ラジカル発生剤）の配合量は、消色率をより向上させる観点から、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料１モルに対して、０．１～２０モルが好ましい。下限値は、０．２５モル以上がより好ましく、０．５０モル以上がさらに好ましい。上限値は、１７．５モル以下がより好ましく、１５モル以下がさらに好ましい。
　本発明の光吸収フィルタは、ラジカル発生剤（好ましくは光ラジカル発生剤）を１種含有していてもよく、２種以上含有していてもよい。
　本発明において、ラジカル発生剤（好ましくは光ラジカル発生剤）は染料と化学結合により連結されていることが好ましい。ラジカル発生剤と染料を連結することにより、ラジカル発生剤から生成したラジカルが染料と効率よく反応できるようになり、消色速度を向上させることができる。
＜樹脂＞
　本発明の光吸収フィルタに含まれる樹脂（以下、「マトリックスポリマー」とも称す。）は、上記染料および上記の紫外線照射によりラジカルを生成する化合物（ラジカル発生剤）に対して高親和性の部分構造（以下、「高親和性パート」とも称す。）と、低親和性の部分構造（以下、「低親和性パート」とも称す。）を併せ持つポリマーを含むことが好ましい。
　本発明の光吸収フィルタの一形態としては、樹脂と、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料と、紫外線照射によりラジカルを生成する化合物とを含有し、上記樹脂が、上記の染料及びラジカル発生剤に対して高親和性パートと低親和性パートを併せ持つポリマーで構成された光吸収フィルタが挙げられる。
　上記高親和性パートは上記の染料及びラジカル発生剤（好ましくは光ラジカル発生剤）を光吸収フィルタ中に分散（好ましくは溶解）することができる。
　一方、上記低親和性パートは高親和性パートを取り囲むことにより、上記染料およびラジカル発生剤（好ましくは光ラジカル発生剤）を高親和性パート中に閉じ込め、ラジカル発生剤（好ましくは光ラジカル発生剤）から生成するラジカルと染料の反応効率、又は、光ラジカル発生剤が染料から水素原子（水素ラジカル）を引き抜くことによる、ラジカルを有する染料の生成効率を高め、消色を促進する効果を奏するものであり、上記高親和性パートに対して相対的に親和性の低いパートであればよい。
　上記の高親和性パートと低親和性パートを併せ持つポリマーにおいて、高親和性パートと低親和性パートとは、上述の機能を奏する相対的な関係にある限り、特に限定されるものではない。
　上記高親和性パートについては、例えば、下記式で表されるｆｄ、ｆｐ及びｆｈを用いて、上記の染料及びラジカル発生剤との高親和性を議論することができる。
　　ｆｄ＝｛δｄ／(δｄ＋δｐ＋δｈ)｝×１００
　　ｆｐ＝｛δｄ／(δｄ＋δｐ＋δｈ)｝×１００
　　ｆｈ＝｛δｄ／(δｄ＋δｐ＋δｈ)｝×１００
　ここでδｄ、δｐ及びδｈは、それぞれ順に、Ｈｏｙ法によって算出される溶解度パラメーターのＬｏｎｄｏｎ分散力項、双極子間力項及び水素結合力項を表す。具体的な算出方法については、後述の通りである。
　上記式に基づき算出される上記高親和性パートのｆｄ、ｆｐ及びｆｈ、並びに、上記の染料及びラジカル発生剤のｆｄ、ｆｐ及びｆｈにおいて、ｆｄの差の絶対値、ｆｐの差の絶対値及びｆｈの差の絶対値が、いずれも１５以下であることが好ましく、いずれも１３以下であることがより好ましい。ｆｄの差の絶対値、ｆｐの差の絶対値及びｆｈの差の絶対値の下限値については特に制限はなく、例えば１以上であればよい。
　－　Ｌｏｎｄｏｎ分散力に対応する項δｄ　－
　Ｌｏｎｄｏｎ分散力項δｄは、文献“Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒｓ　３ｒｄ，ＥＬＳＥＶＩＥＲ，（１９９０）”の２１４～２２０頁の「２）Ｍｅｔｈｏｄ　ｏｆ　Ｈｏｙ　（１９８５，１９８９）」欄に記載のＡｍｏｒｐｈｏｕｓ　Ｐｏｌｙｍｅｒｓについて求められるδｄをいうものとし、上記文献の上記の欄の記載に従って算出される。なお、フェロセニル基を含有する染料についてはフェロセニル基を水素原子に置き換えた構造について算出するものとする。
　－　双極子間力項δｐ　－　
　双極子間力項δｐは、文献“Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒｓ　３ｒｄ，ＥＬＳＥＶＩＥＲ，（１９９０）”の２１４～２２０頁の「２）Ｍｅｔｈｏｄ　ｏｆ　Ｈｏｙ（１９８５，１９８９）」欄に記載のＡｍｏｒｐｈｏｕｓ　Ｐｏｌｙｍｅｒｓについて求められるδｐをいうものとし、上記文献の上記の欄の記載に従って算出される。
なお、フェロセニル基を含有する染料についてはフェロセニル基を水素原子に置き換えた構造について算出するものとする。
　－　水素結合力項δｈ　－　
　水素結合力項δｈは、文献“Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒｓ　３ｒｄ，ＥＬＳＥＶＩＥＲ，（１９９０）”の２１４～２２０頁の「２）Ｍｅｔｈｏｄ　ｏｆ　Ｈｏｙ（１９８５，１９８９）」欄に記載のＡｍｏｒｐｈｏｕｓ　Ｐｏｌｙｍｅｒｓについて求められるδｈをいうものとし、上記文献の上記の欄の記載に従って算出される。
なお、フェロセニル基を含有する染料についてはフェロセニル基を水素原子に置き換えた構造について算出するものとする。
　本発明において、上記の高親和性パートと低親和性パートを併せ持つポリマーは、高親和性パートからなるブロックと低親和性パートからなるブロックとを有する、ブロック共重合体であることが好ましい。上記ブロック共重合体は、ミクロ相分離構造を形成することにより上記染料とラジカル発生剤（好ましくは光ラジカル発生剤）を幅数十ナノメートルの大きさの領域（相）に閉じ込めることができるため、上記のラジカルと染料の反応効率又はラジカルを有する染料の生成効率をより高めることができる。
　本発明において、上記高親和性パートは、所望の光透過性（波長４００～８００ｎｍの可視領域において、光透過率が８０％以上であることが好ましい。）を有する限り、特に限定されるものではないが、幅広い種類の染料およびラジカル発生剤（好ましくは光ラジカル発生剤）に対して親和性を示す点からポリスチレン構造を含有することが好ましい。
　また、上記低親和性パートも同じく所望の光透過性（波長４００～８００ｎｍの可視領域において、光透過率が８０％以上であることが好ましい。）を有する限り、特に限定されるものではないが、染料およびラジカル発生剤（好ましくは光ラジカル発生剤）に対する相溶性が低い点から、直鎖あるいは分岐のアルキレン基が連結した構造であることが好ましく、ポリジエン構造を水素添加した構造を含むことが特に好ましい。なお、ポリジエン構造を水素添加した構造としては、ポリジエン構造における二重結合が全て水素添加された構造の他に、ポリジエン構造における主鎖部分の二重結合が選択的に水素添加された構造を含む意味である。
　本発明において、高親和性パートと低親和性パートを併せ持つポリマーは、ミクロ相分離により秩序構造を形成することが好ましい。なかでも、球相又はシリンダー相などの秩序構造は上記の染料及びラジカル発生剤（好ましくは光ラジカル発生剤）をより小さな空間に閉じ込めることができる点で特に好ましい。
　本発明において、高親和性パートと低親和性パートの比率は、重量比として、高親和性パート／低親和性パートが、１０／９０～８０／２０の範囲が好ましく、２０／８０～７０／３０の範囲がより好ましい。高親和性パートと低親和性パートの比率を上記範囲内となるように調節することにより、速い消色速度と耐熱性を両立させることができる。消色率を向上させる観点からは、上記の重量比での比率は、高親和性パート／低親和性パート＝２０／８０～６０／４０の範囲がさらに好ましく、高親和性パート／低親和性パート＝２０／８０～５０／５０の範囲が特に好ましい。
　上記高親和性パートと低親和性パートを併せ持つポリマーの好ましい例としては、例えば、ＳＢＳ（スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体）に水素添加した水添スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、及び、ＳＩＳ（スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合体）に水素を添加した水添スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＰＳ）等の、水素添加されたスチレン－ジエン系共重合体（以下、「水添スチレン－ジエン系共重合体」と称する）が好ましい。また、ＳＢＳを構成するブタジエンの主鎖部分の二重結合が選択的に水素添加された共重合体も好ましく挙げられる。なお、上記高親和性パートと低親和性パートを併せ持つポリマーは、１種のみを使用してもよいし、２種以上を使用してもよい。
　水添スチレン－ジエン系共重合体としては、市販品を用いてもよく、例えば、いずれも商品名で、旭化成社製（（旧）旭化成ケミカルズ（株）製）「タフテックＨシリーズ」及び「タフテックＰシリーズ」、シェルジャパン（株）製「クレイトンＧシリーズ」（以上、ＳＥＢＳ）、ＪＳＲ（株）製「ダイナロン」（水添スチレン－ブタジエンランダム共重合体）、（株）クラレ製「セプトン」（ＳＥＰＳ）などが挙げられる。また、変性された水添スチレン－ジエン系共重合体としては、例えば、いずれも商品名で、旭化成社製（（旧）旭化成ケミカルズ（株）製）「タフテックＭシリーズ」、（株）ダイセル製「エポフレンド」、ＪＳＲ（株）製「極性基変性ダイナロン」、東亞合成（株）製「レゼダ」などが挙げられる。
　本発明の光吸収フィルタは、上記水添スチレン－ジエン系共重合体に加えてポリフェニレンエーテル樹脂を含有することも好ましい。ポリスチレン樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂とを併せて含有することにより水添スチレン－ジエン系共重合体中の物理架橋を強固にし、耐熱性を向上させることができる。
　上記ポリフェニレンエーテル樹脂としては、旭化成（株）製のザイロンＳ２０１Ａ、同２０２Ａ、同Ｓ２０３Ａ（いずれも商品名）等を好ましく用いることができる。また、あらかじめポリスチレン樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂を混合した樹脂を用いてもよい。ポリスチレン樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂との混合樹脂としては、例えば、旭化成（株）製のザイロン１００２Ｈ、同１０００Ｈ、同６００Ｈ、同５００Ｈ、同４００Ｈ、同３００Ｈ、同２００Ｈ（いずれも商品名）等を好ましく用いることができる。
　本発明の光吸収フィルタにおいて、水添スチレン－ジエン系共重合体とポリフェニレンエーテル樹脂とを併用する場合、両者の質量比は、水添スチレン－ジエン系共重合体／ポリフェニレンエーテル樹脂で、９９／１～５０／５０が好ましく、９８／２～６０／４０がより好ましく、９５／５～７０／３０がさらに好ましい。ポリフェニレンエーテル樹脂の配合比率を上記好ましい範囲とすることにより、本発明の光吸収フィルタは十分な靱性を有し、また溶液成膜をした場合には溶剤を適度に揮散させることができる。
＜紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーで構成された樹脂＞
　紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーで構成された樹脂も、本発明の光吸収フィルタに含まれる樹脂として好ましく用いることができる。
　本発明の光吸収フィルタの一実施形態としては、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料と、紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーで構成された樹脂とを含む光吸収フィルタが挙げられる。
　以下に本発明の紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーで構成された樹脂について詳しく説明する。
　上記紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーとしては、紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含み、上記染料を消色する機能を有するポリマーであれば、特に限定されない。本発明においては、光を吸収しラジカルを生成する部分構造を含むポリマーを好ましく用いることができる。なお、生成されるラジカルは、通常のラジカルの他に、ビラジカルであってもよい。
　上記紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造としては、分子内開裂によりラジカルを生成する部分構造、又は、近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する部分構造であることが好ましく、消光率をより向上させる観点から、近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する部分構造であることがより好ましい。
　分子内開裂によりラジカルを生成する部分構造、及び、近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する部分構造については、前述の分子内開裂によりラジカルを生成する化合物、及び、近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する化合物由来の部分構造が好ましい。
　なかでも、アルコキシ基が置換したベンゾフェノン化合物（アルコキシベンゾフェノン化合物とも称す。）由来の部分構造を含むポリマーは、未露光部の耐光性と露光部の消色性の両立を、染料に対するラジカル発生剤のモル配合比率を低減しながら実現できる点で好ましい。
　上記紫外線照射よりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーとして、さまざまなものが使用可能であり、例えば、アルキル（メタ）アクリルポリマー、側鎖に芳香環を有するポリマー等が挙げられるが、紫外線照射によるポリマーの分子量低下がおこりにくい観点から、側鎖に芳香族構造（芳香環）を有するポリマーが好ましく、側鎖に芳香環を有する（メタ）アクリルポリマーがより好ましく、側鎖に芳香環を有する構成単位を含む（メタ）アクリルポリマーがさらに好ましい。側鎖に芳香族構造（芳香環）を有するポリマーは、分子内開裂によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーに分類される。
　以降、（メタ）アクリルポリマーという場合は、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の少なくとも一方を含むポリマーを指す。また、本発明において、「主鎖」とは、樹脂を構成するポリマーの分子中で相対的に最も長い結合鎖を表し、「側鎖」とは、主鎖から枝分かれしている原子団を表す。
　側鎖に芳香環を有する構成単位を形成するモノマーとしては、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルアクリレート、ナフチルメタクリレート、ナフチルメチルアクリレート、ナフチルメチルメタクリレート等が挙げられる。
　側鎖に芳香環を有する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対し、５質量％～１００質量％であることが好ましく、１０質量％～１００質量％であることがより好ましく、２０質量％～１００質量％であることが更に好ましく、５０質量％～１００質量％であることが特に好ましい。
　上記の紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーは、ガラス転移温度の調節等の観点から、炭素数１～１４のアルキル基を有する構成単位を含んでよい。炭素数１～１４のアルキル基を有する構成単位としては、炭素数１～１４のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートが好ましく、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ－ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート及びテトラデシル（メタ）アクリレートが挙げられる。
　上記の炭素数１～１４のアルキル基を有する構成単位は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。炭素数１～１４のアルキル基を有する構成単位は、樹脂の全質量に対し、０質量％～９５質量％含まれることが好ましい。
　上記の紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーは、極性調節の観点から脂環式骨格を有する構成単位を含んでもよい。
　脂環式骨格を有する構成単位を形成するモノマーとしては、脂環式骨格を有するアルキル（メタ）アクリレートが好ましく、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　上記の紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーが脂環式骨格を有する構成単位を含む場合、脂環式骨格を有する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対し、１質量％～９０質量％であることが好ましく、５質量％～８０質量％であることがより好ましい。
　また、上記の紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーは、極性調節の観点から、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位を含んでもよい。（メタ）アクリル酸に由来する構成単位の含有量は、ポリマーの全質量に対し、０質量％～７０質量％であることが好ましく、０質量％～６０質量％であることがより好ましい。
　上記の紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、１万以上であることが好ましく、１万～２０万であることがより好ましく、１．５万～１５万であることが更に好ましい。
（架橋）
　本発明の光吸収フィルタに含有される、上記の染料及びラジカル発生剤に対して高親和性パートと低親和性パートを併せ持つポリマーは架橋構造を有することが好ましい。架橋構造を有することにより、染料および紫外線照射によりラジカルを生成する化合物が高親和性パートの外に拡散することを抑制でき、消色率をより向上させることができ、また、マスク露光した際に紫外線照射部と非紫外線照射部の境界を先鋭にする効果を奏する。
　架橋構造としては、物理架橋、化学架橋のどちらも好ましく用いることができる。
　高親和性パートと低親和性パートを併せ持つポリマーが水添スチレン－ポリジエンブロック共重合体である場合、スチレンドメインが物理架橋部として機能するため好ましい。また、水添スチレン－ポリジエンブロック共重合体にポリフェニレンエーテル樹脂を添加することにより、スチレンドメインのガラス転移温度を高め、スチレンドメインの物理架橋を強固にし、耐熱性を向上させることができる。
　また、化学架橋は、高親和性パート及び低親和性パートのどちらでも行うことができるが、低親和性パートに架橋構造を導入する方法が染料および紫外線照射によりラジカルを生成する化合物を高親和性パートに閉じ込める観点から好ましい。例えばスチレン－ブタジエン共重合体中を高親和性パートと低親和性パートを併せ持つポリマーとして用いる場合は、ポリジエン構造をラジカル重合することにより架橋することができる。また、旭化成（株）製タフテックＭ１９１３、同Ｍ１９４３、シェルジャパン（株）製クレイトンＦＧ１９０１（いずれも商品名）等の無水マレイン酸変性された水添スチレン－ポリジエンブロック共重合体を高親和性パートと低親和性パートを併せ持つポリマーとして用いる場合は、無水マレイン酸部分も架橋サイトとして用いることができる。また、低極性で低親和性パートに対する相溶性が高い二官能以上のモノマーを添加し架橋度を高めることもできる。
（剥離性制御樹脂成分）
　本発明の光吸収フィルタは、後述する本発明の光吸収フィルタの製造方法のうち、剥離フィルムから本発明の光吸収フィルタの剥離を行う工程を含む方法により作製する場合には、樹脂成分として剥離性を制御する成分（剥離性制御樹脂成分）を含むことができ、好ましい。剥離フィルムからの本発明の光吸収フィルタの剥離性を制御することで、剥離後の本発明の光吸収フィルタに剥ぎとった跡が付くことを防ぐことができ、また、剥離工程における種々の加工速度への対応が可能となる。これらの結果、本発明の光吸収フィルタの品質及び生産性向上に好ましい効果を得ることができる。
　上記剥離性制御樹脂成分に特に制限はなく、剥離フィルムの種類に応じて適宜に選ぶことができる。後述するように剥離フィルムとしてポリエステル系ポリマーフィルムを用いる場合、剥離性制御樹脂成分として、例えばポリエステル樹脂（ポリエステル系添加剤とも称す。）が好適である。また、剥離フィルムとしてセルロースアシレート系フィルムを用いる場合、剥離性制御樹脂成分として、例えば水添ポリスチレン系樹脂（水添ポリスチレン系添加剤とも称す。）が好適である。
　上記のポリエステル系添加剤及び水添ポリスチレン系添加剤としては、国際公開第２０２１／１３２６７４号の［０１７７］～［０１８８］に記載のポリエステル系添加剤及び水添ポリスチレン系添加剤の記載をそのまま適用することができる。
　本発明の光吸収フィルタ中の剥離性制御樹脂成分の含有量は、マトリックスポリマー中、０．０５質量％以上であることが好ましく、０．１質量％以上であることがより好ましい。また、上限値は、２５質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以下であることがさらに好ましい。適度な密着性を得る観点から上記好ましい範囲であることが好ましい。
＜その他の成分＞
　本発明の吸収フィルタは、上述した染料、上述した紫外線照射によりラジカルを生成する化合物、及び、上記マトリックスポリマーの他に、褪色防止剤、マット剤及びレベリング剤（界面活性剤）等を含んでもよい。
＜褪色防止剤＞
　本発明の褪色防止剤としては、紫外線照射による消色を阻害せず、一方、可視光による染料の分解を抑制する効果を有するものが好ましい。
　上記褪色防止剤としては、下記一般式（ＩＶ）で表される化合物を好ましく用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
　式（ＩＶ）中、Ｒ１０はアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基又はＲ１８ＣＯ－、Ｒ１９ＳＯ２－若しくはＲ２０ＮＨＣＯ－で表される基を示す。ここでＲ１８、Ｒ１９及びＲ２０は各々独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロ環基を示す。Ｒ１１及びＲ１２は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基を示し、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７は各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基又はアリール基を示す。
　ただし、Ｒ１０～Ｒ２０におけるアルキル基は、アラルキル基を含む。
　上記一般式（ＩＶ）で表される化合物は、国際公開第２０２１／２２１１２２号の［０２１５］～［０２２１］に記載の一般式（ＩＶ）で表される化合物と同じである。そのため、一般式（ＩＶ）における各置換基の説明、一般式（ＩＶ）で表される化合物の具体例については、国際公開第２０２１／２２１１２２号の［０２１７］～［０２２１］の記載をそのまま適用することができる。
　上記褪色防止剤としては、下記一般式［ＩＩＩ］で表される化合物も好ましく用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
　一般式［ＩＩＩ］中、Ｒ３１は脂肪族基又は芳香族基を示し、Ｙは窒素原子と共に５～７員環を形成するのに必要な非金属原子群を示す。
　上記一般式［ＩＩＩ］で表される化合物は、国際公開第２０２１／２２１１２２号の［０２２３］～［０２２７］に記載の一般式［ＩＩＩ］で表される化合物と同じである。そのため、一般式［ＩＩＩ］における各置換基の説明、一般式［ＩＩＩ］で表される化合物の具体例については、国際公開第２０２１／２２１１２２号の［０２２５］～［０２２７］の記載をそのまま適用することができる。
　また、上記の具体例の他に、上記一般式［ＩＩＩ］で表される化合物の具体例としては、特開平２－１６７５４３号公報明細書の第８頁～１１頁に記載された例示化合物Ｂ－１～Ｂ－６５、及び、特開昭６３－９５４３９号公報明細書の第４～７頁に記載された例示化合物（１）～（１２０）等を挙げることができる。
　本発明の光吸収フィルタ中の褪色防止剤の含有量は、本発明の光吸収フィルタの全質量１００質量％中、好ましくは１～１５質量％であり、より好ましくは５～１５質量％であり、さらに好ましくは５～１２．５質量％、特に好ましくは１０～１２．５質量％である。
　褪色防止剤を上記好ましい範囲内で含有することにより、本発明の光吸収フィルタは、変色等の副作用を起こすことなく、染料（色素）の耐光性を向上させることができる。
（マット剤）
　本発明の光吸収フィルタの表面には、本発明の効果を損なわない範囲で、滑り性付与及びブロッキング防止のために微粒子を添加してもよい。この微粒子としては、疎水基で表面が被覆され、二次粒子の態様をとっているシリカ（二酸化ケイ素，ＳｉＯ２）が好ましく用いられる。なお、微粒子には、シリカとともに、あるいはシリカに代えて、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及び燐酸カルシウムなどの微粒子を用いてもよい。市販の微粒子としては、Ｒ９７２及びＮＸ９０Ｓ（いずれも日本アエロジル株式会社製、商品名）などが挙げられる。
　この微粒子はいわゆるマット剤として機能し、微粒子添加により本発明の光吸収フィルタ表面に微小な凹凸が形成され、この凹凸により、本発明の光吸収フィルタ同士又は本発明の光吸収フィルタとその他のフィルム等が重なっても互いに貼り付かず、滑り性が確保される。
　本発明の光吸収フィルタが微粒子としてのマット剤を含有する場合、フィルタ表面から微粒子が突出した突起による微小凹凸は、高さ３０ｎｍ以上の突起が１０４個／ｍｍ２以上存在すると、特に滑り性、ブロッキング性の改善効果が大きい。
　マット剤微粒子は特に表層に付与することが、ブロッキング性及び滑り性改善の点から好ましい。表層に微粒子を付与する方法としては、重層流延及び塗布などによる手段があげられる。
　本発明の光吸収フィルタ中のマット剤の含有量は目的に応じて適宜に調整される。
　ただし、本発明の光吸収フィルタに後述のガスバリア層を設ける場合には、光吸収フィルタの表面のうちガスバリア層と接する面には、本発明の効果を損なわない範囲で上記マット剤微粒子を付与することが好ましい。
（レベリング剤）
　本発明の光吸収フィルタには、レベリング剤（界面活性剤）を適宜混合することができる。レベリング剤としては、常用の化合物を使用することができ、特に含フッ素界面活性剤が好ましい。具体的には、例えば、特開２００１－３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］～［００５６］記載の化合物が挙げられる。また、市販品としては、ＤＩＣ社製のメガファックＦ（商品名）シリーズを使用することもできる。
　本発明の光吸収フィルタ中のレベリング剤の含有量は目的に応じて適宜に調整される。
　本発明の光吸収フィルタは、上記各成分に加え、低分子可塑剤、オリゴマー系可塑剤、レタデーション調整剤、劣化防止剤、剥離促進剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤、フィラー及び相溶化剤等を含有してもよい。
　また、本発明の光吸収フィルタは、特開平０９－２８６９７９号公報の段落［００２０］及び［００２１］に記載の反応促進剤又は反応遅延剤を含有してもよい。
＜光吸収フィルタの製造方法＞
　本発明の光吸収フィルタは、常法により、溶液製膜法、溶融押出し法、又は、基材フィルム（剥離フィルム）上に任意の方法でコーティング層を形成する方法（コーティング法）で作製することができ、適宜延伸を組み合わせることもできる。本発明の光吸収フィルタは、好ましくはコーティング法により作製される。
　上記の溶液製膜法及び溶融押出し法としては、国際公開第２０２１／１３２６７４号の［０１９７］～［０２０３］における溶液製膜法及び溶融押出し法の記載をそのまま適用することができる。
（コーティング法）
　コーティング法では、剥離フィルムに光吸収フィルタの材料の溶液を塗布し、コーティング層を形成する。剥離フィルム表面には、コーティング層との接着性を制御するため、適宜、離型剤等を予め塗布しておいてもよい。コーティング層は、後工程で接着層を介して他の部材と積層させた後、剥離フィルムを剥離して用いることができる。接着層を構成する接着剤については、任意の接着剤を適宜使用することができる。なお、剥離フィルム上に、光吸収フィルタの材料の溶液をと塗布した状態又はコーティング層が積層された状態で、適宜剥離フィルムごと延伸することができる。
　光吸収フィルタの材料の溶液に用いられる溶媒は、光吸収フィルタの材料を溶解又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で適宜選択することができる。
－染料（色素）及び／又はラジカル発生剤（好ましくは光ラジカル発生剤）の添加－
　光吸収フィルタの材料に上記染料及び／又は上記ラジカル発生剤（好ましくは光ラジカル発生剤）を添加するタイミングは、製膜される時点で添加されていれば特に限定されない。例えば、上記マトリックスポリマーの合成時点で添加してもよいし、光吸収フィルタの材料のコーティング液調製時に光吸収フィルタの材料と混合してもよい。
－剥離フィルム－
　本発明の光吸収フィルタを、コーティング法等で形成させるために用いられる剥離フィルムは、膜厚が５～１００μｍであることが好ましく、１０～７５μｍがより好ましく、１５～５５μｍがさらに好ましい。膜厚が上記好ましい下限値以上であると、十分な機械強度を確保しやすく、カール、シワ、座屈等の故障が生じにくい。また、膜厚が上記好ましい上限値以下であると、本発明の光吸収フィルタと剥離フィルムとの複層フィルムを、例えば長尺のロール形態で保管する場合に、複層フィルムにかかる面圧を適正な範囲に調整しやすく、接着の故障が生じにくい。
　剥離フィルムの表面エネルギーは、特に限定されることはないが、本発明の光吸収フィルタの材料及びコーティング溶液の表面エネルギーと、剥離フィルムの本発明の光吸収フィルタを形成させる側の表面の表面エネルギーとの関係性を調整することによって、本発明の光吸収フィルタと剥離フィルムとの間の接着力を調整することができる。表面エネルギー差を小さくすれば、接着力が上昇する傾向があり、表面エネルギー差を大きくすれば、接着力が低下する傾向があり、適宜設定することができる。
　水及びヨウ化メチレンの接触角値からＯｗｅｎｓの方法を用いて、剥離フィルムの表面エネルギーを計算することが出来る。接触角の測定には、例えば、ＤＭ９０１（協和界面科学（株）製、接触角計）を用いることができる。
　剥離フィルムの本発明の光吸収フィルタを形成する側の表面エネルギーは、４１．０～４８．０ｍＮ／ｍであることが好ましく、４２．０～４８．０ｍＮ／ｍであることがより好ましい。表面エネルギーが上記好ましい下限値以上であると、本発明の光吸収フィルタの厚みの均一性を高められ、上記好ましい上限値以下であると、本発明の光吸収フィルタを剥離フィルムとの剥離力を適切な範囲に制御しやすい。
　また、剥離フィルムの表面凹凸は、特に限定されることはないが、本発明の光吸収フィルタの表面エネルギー、硬度、表面凹凸と、剥離フィルムの本発明の光吸収フィルタを形成させる側とは反対側の表面の表面エネルギー、硬度との関係性に応じて、例えば本発明の光吸収フィルタと剥離フィルムとの複層フィルムを長尺のロール形態で保管する場合の接着故障を防ぐ目的で調整することができる。表面凹凸を大きくすれば、接着故障を抑制する傾向にあり、表面凹凸を小さくすれば、本発明の光吸収フィルタの表面凹凸が減少し、本発明の光吸収フィルタのヘイズが小さくなる傾向にあり、適宜設定することができる。
　このような剥離フィルムとしては、任意の素材及びフィルムを適宜使用することができる。具体的な材料として、ポリエステル系ポリマー（ポリエチレンテレフタレート系フィルムを含む）、オレフィン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、（メタ）アクリル系ポリマー、セルロース系ポリマー、ポリアミド系ポリマー等を挙げることができる。また、剥離フィルムの表面性を調整する目的で、適宜表面処理を行うことが出来る。表面エネルギーを低下させるには、例えば、コロナ処理、常温プラズマ処理、鹸化処理等を行うことができ、表面エネルギーを上昇させるには、シリコーン処理、フッ素処理、オレフィン処理等を行うことができる。
－本発明の光吸収フィルタと剥離フィルムとの剥離力－
　本発明の光吸収フィルタを、コーティング法で形成させる場合、本発明の光吸収フィルタと剥離フィルムとの間の剥離力は、本発明の光吸収フィルタの材料、剥離フィルムの材料、本発明の光吸収フィルタの内部歪み等を調整して制御することができる。この剥離力は、例えば、剥離フィルムを９０°方向に剥がす試験で測定することができ、３００ｍｍ／分の速度で測定したときの剥離力が、０．００１～５Ｎ／２５ｍｍが好ましく、０．０１～３Ｎ／２５ｍｍがより好ましく、０．０５～１Ｎ／２５ｍｍがさらに好ましい。上記好ましい下限値以上であれば、剥離フィルムの剥離工程以外での剥離を防ぐことができ、上記好ましい上限値以下であれば、剥離工程における剥離不良（例えば、ジッピング及び本発明の光吸収フィルタの割れ）を防ぐことができる。
＜本発明の光吸収フィルタの膜厚＞
　本発明の光吸収フィルタの膜厚は、特に制限されないが、０．５～１８μｍが好ましく、０．８～１２μｍがより好ましく、１～８μｍがさらに好ましい。上記好ましい上限値以下であれば、薄いフィルムに高濃度で染料を添加することにより、染料（色素）が発する蛍光による偏光度の低下を抑えることができる。また、消光剤の効果も発現しやすい。一方、上記好ましい下限値以上であると、面内の吸光度の均一度を維持しやすくなる。
　本発明において膜厚が０．５～１８μｍであるとは、本発明の光吸収フィルタの厚さを、どの部位で図っても０．５～１８μｍの範囲内にあることを意味する。このことは、膜厚０．８～１２μｍ、１～８μｍについても同様である。膜厚は、アンリツ（株）社製電子マイクロメーターにより測定することができる。
＜本発明の光吸収フィルタの吸光度＞
　本発明の光吸収フィルタにおいて、波長４００～７００ｎｍにおいて最も大きい吸光度を示す極大吸収波長における吸光度（以下、単に「Ａｂ（λｍａｘ）」とも称す。）は、０．３以上が好ましく、０．５以上がより好ましく、０．７以上がさらに好ましく、０．８以上が特に好ましい。
　ただし、本発明の光吸収フィルタの吸光度は、染料の種類、添加量又は膜厚により調整することができる。
　本発明の光吸収フィルタは、紫外線照射による消色率が、３５％以上であることが好ましく、４５％以上であることがより好ましく、５０％以上であることがさらに好ましく、５５％以上であることが特に好ましく、なかでも７０％以上であることが好ましい。上限値は特に制限はなく、１００％であることも好ましい。
　なお、上記消色率は、紫外線照射試験前後における上記Ａｂ（λｍａｘ）の値を用いて、下記式より算出される。
　　消色率（％）＝１００－
　　　（紫外線照射後のＡｂ（λｍａｘ）／紫外線照射前のＡｂ（λｍａｘ））×１００
　ここで、紫外線照射試験は、大気圧（１０１．３３ｋＰａ）下、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて室温（２５℃）で、所定の照射量の紫外線を光吸収フィルタに照射する。
　上記吸光度、紫外線照射試験及び消色率は、実施例に記載の方法により測定、算出することができる。
　また、本発明の光吸収フィルタは、色素の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収（二次的な吸収）をほとんど生じない。
　例えば、色素の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収の有無は、上記Ａｂ（λｍａｘ）に対する特定の波長における吸光度の比率に基づき、確認することができる。特定の波長は、紫外線照射前の色素が吸収をほとんど示さず、かつ、色素の分解による新たな吸収が見られる波長を選択する。
　具体例としては、後述の実施例に記載するように、色素の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収の有無を、上記Ａｂ（λｍａｘ）に対する波長４５０ｎｍにおける吸光度（以下、単に「Ａｂ（４５０）」とも称す。）の比率に基づき、確認することができる。すなわち、下記（II）の比率から下記（Ｉ）の比率を引いた値が小さいほど、色素の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収が生じていないことを意味し、この値は、８．５％未満が好ましく、７．０％以下がより好ましく、５．０％以下がさらに好ましく、３．０％以下が特に好ましく、なかでも１．０％以下が好ましい。下限値に特に制限はないが、色素の分解に伴う二次的な吸収の有無に係る評価を妥当なものとする観点から、－１０％以上が実際的であり、－６％以上であることが好ましい。
　（Ｉ）　紫外線照射前のＡｂ（４５０）／紫外線照射前のＡｂ（λｍａｘ）×１００％
　（II）　紫外線照射後のＡｂ（４５０）／紫外線照射前のＡｂ（λｍａｘ）×１００％
　上記色素の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収の有無の確認については、実施例に記載の方法により測定、算出することができる。
　本発明の光吸収フィルタは、上記の消色率及び色素の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収の有無を確認する値が、いずれも好ましい範囲を満たすことにより、優れた消光性を示すことができる。
　本発明の光学フィルタにおける光吸収効果を有する光吸収性部位は、上記の本発明の光吸収フィルタに係るＡｂ（λｍａｘ）の記載を満たすことが好ましい。
＜本発明の光吸収フィルタの処理＞
　本発明の光吸収フィルタには任意のグロー放電処理、コロナ放電処理、又は、アルカリ鹸化処理などにより親水化処理を施してもよく、コロナ放電処理が好ましく用いられる。特開平６－９４９１５号公報、又は同６－１１８２３２号公報などに開示されている方法などを適用することも好ましい。
　なお、得られた膜には、必要に応じて、熱処理工程、過熱水蒸気接触工程、有機溶媒接触工程などを実施することができる。また、適宜に表面処理を実施してもよい。
　また、粘着剤層として、（メタ）アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シリコーン系樹脂等をベースポリマーとし、そこに、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物のような架橋剤を加えた粘着剤組成物からなる層を適用することもできる。
　好ましくは、後述のＯＬＥＤ表示装置における粘着剤層の記載を適用することができる。
＜ガスバリア層＞
　本発明の光吸収フィルタは、少なくとも片面にガスバリア層を有していてもよい。本発明の光吸収フィルタがガスバリア層を有する場合、本発明の光吸収フィルタを、優れた光消光性と優れた耐光性との両立を実現した光吸収フィルタとすることができ、後述する光学フィルタの作製に好適に用いることができる。
　ガスバリア層を形成する材料は特に限定されず、例えば、ポリビニルアルコール及びポリ塩化ビニリデンなどの有機系材料（好ましくは結晶性樹脂）、ゾルゲル材料などの有機－無機ハイブリツド系材料、ＳｉＯ２、ＳｉＯｘ、ＳｉＯＮ、ＳｉＮｘ及びＡｌ２Ｏ３などの無機系材料を挙げることができる。ガスバリア層は単層であっても多層であってもよく、多層である場合は、無機系の誘電体多層膜、及び、有機材料と無機材料を交互に積層した多層膜などの構成を挙げることができる。
　本発明の光吸収フィルタは、ガスバリア層を、本発明の光吸収フィルタを用いた場合に空気と接することとなる面に少なくとも有することで、本発明の光吸収フィルタ中の染料の吸収強度の低下を抑制することができる。本発明の光吸収フィルタの空気と接する界面にガスバリア層を設ける限り、ガスバリア層は、本発明の光吸収フィルタの片面にのみ設けられていてもよく、両面に設けられていてもよい。
　なかでも、ガスバリア層が結晶性樹脂を含有する構成である場合、上記ガスバリア層は、結晶性樹脂を含有し、層の厚みが０．１μｍ～１０μｍであって、層の酸素透過度が６０ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが好ましい。
　上記ガスバリア層において、上記「結晶性樹脂」は、温度を上げた際に結晶から液体に相転移する融点が存在する樹脂であって、上記ガスバリア層に、酸素ガスに係るガスバリア性を付与できるものである。
（結晶性樹脂）
　上記ガスバリア層に含まれる結晶性樹脂としては、ガスバリア性を有する結晶性樹脂であって、ガスバリア層に所望の酸素透過度を付与できる限り、特に制限することなく用いることができる。
　上記結晶性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール及びポリ塩化ビニリデンを挙げることができ、結晶部がガスの透過を効果的に抑制することができる点から、ポリビニルアルコールが好ましい。
　上記ポリビニルアルコールは、変性されていてもよく、変性されていなくてもよい。変性ポリビニルアルコールとしては、アセトアセチル基、カルボキシル等の基を導入した変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
　上記ポリビニルアルコールのけん化度は、酸素ガスバリア性をより高める観点から、８０．０ｍｏｌ％以上が好ましく、９０．０ｍｏｌ％以上がより好ましく、９７．０ｍｏｌ％以上がさらに好ましく、９８．０ｍｏｌ％以上が特に好ましい。上限値に特に制限はないが、９９．９９ｍｏｌ％以下が実際的である。上記ポリビニルアルコールのけん化度は、ＪＩＳ　Ｋ　６７２６　１９９４に記載の方法に基づき算出される値である。
　上記ガスバリア層は、本発明の効果を損なわない範囲で、通常ガスバリア層に含有される任意の成分を含んでいてもよい。例えば、上記結晶性樹脂に加え、非晶性樹脂材料、ゾルゲル材料などの有機－無機ハイブリッド系材料、ＳｉＯ２、ＳｉＯｘ、ＳｉＯＮ、ＳｉＮｘ及びＡｌ２Ｏ３などの無機系材料を含有していてもよい。
　また、上記ガスバリア層は、本発明の効果を損なわない範囲で、製造工程に起因した水及び有機溶媒等の溶媒を含有していてもよい。
　上記ガスバリア層中の結晶性樹脂の含有量は、例えば、ガスバリア層の全質量１００質量％中、９０質量％以上が好ましく、９５質量％以上がより好ましい。上限値に特に制限はないが、１００質量％とすることもできる。
　上記ガスバリア層の酸素透過度は、６０ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下が好ましく、５０ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることがより好ましく、３０ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることがさらに好ましく、１０ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが特に好ましく、５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることがなかでも好ましく、１ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが最も好ましい。実際的な下限値は、０．００１ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以上であり、例えば、０．０５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍを越えることが好ましい。酸素透過度が上記好ましい範囲内にあることにより、耐光性をより向上させることができる。
　なお、ガスバリア層の酸素透過度は、ＪＩＳ　Ｋ　７１２６－２　２００６に基づくガス透過度試験方法に基づいて測定した値である。測定装置としては、例えば、ＭＯＣＯＮ社製の酸素透過率測定器、ＯＸ－ＴＲＡＮ２／２１（商品名）を用いることができる。なお、測定条件は、温度２５℃、相対湿度５０％とする。
　酸素透過度は、ＳＩ単位として、（ｆｍ）／（ｓ・Ｐａ）を用いることができる。（１ｆｍ）／（ｓ・Ｐａ）＝８．７５２（ｃｃ）／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）で換算することが可能である。ｆｍはフェムトメートルと読み、１ｆｍ＝１０－１５ｍを表わす。
　ガスバリア層の厚みは、耐光性をより向上させる観点から、０．５μｍ～５μｍが好ましく、１．０μｍ～４．０μｍがより好ましい。
　上記ガスバリア層の厚みは、日立ハイテクノロジーズ社製の電界放出型走査電子顕微鏡Ｓ－４８００（商品名）等を用いて、断面写真を撮影する方法により測定される。
　上記ガスバリア層に含まれる結晶性樹脂の結晶化度は、２５％以上であることが好ましく、４０％以上であることがより好ましく、４５％以上であることがさらに好ましい。上限値に特に制限はないが、５５％以下であることが実際的であり、５０％以下であることが好ましい。
　上記ガスバリア層に含まれる結晶性樹脂の結晶化度は、Ｊ．　Ａｐｐｌ．　Ｐｏｌ．　Ｓｃｉ．，　８１，　７６２（２００１）に記載の方法に基づき、以下の方法により測定、算出される値である。
　ＤＳＣ（示唆走査熱量計）を用い、ガスバリア層から剥離した試料について、２０℃から２６０℃の範囲にかけて１０℃／ｍｉｎで昇温し、融解熱１を測定する。また、完全結晶の融解熱２として、Ｊ．　Ａｐｐｌ．　Ｐｏｌ．　Ｓｃｉ．，　８１，　７６２（２００１）に記載の値を用いる。得られた融解熱１及び融解熱２を用い、以下の式により結晶化度を算出する。
　　　　［結晶化度（％）］＝（［融解熱１］／［融解熱２］）×１００
　なお、融解熱１と融解熱２とは同じ単位であればよく、通常、Ｊｇ－１である。
＜ガスバリア層の製造方法＞
　ガスバリア層を形成する方法は特に制限されないが、常法により、例えば、有機系材料の場合は、スピン塗布及びスリット塗布等のキャスト法に作成する方法が挙げられる。また、市販の樹脂製ガスバリアフィルム又はあらかじめ作製しておいた樹脂性ガスバリアフィルムを、本発明の光吸収フィルタに貼り合せる方法などを挙げることができる。また、無機系材料の場合はプラズマＣＶＤ（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）法、スバッタ法及び蒸着法などを挙げることができる。
＜光学機能フィルム＞
　本発明の光吸収フィルタは、本発明の効果を損なわない範囲で、上記ガスバリア層、又は、任意の光学機能フィルムを適宜有していてもよい。
　上記任意の光学機能フィルムについては、光学特性及び材料のいずれについても特に制限はないが、セルロースエステル樹脂、アクリル樹脂、環状オレフィン樹脂及びポリエチレンテレフタレート樹脂の少なくともいずれかを含む（あるいは主成分とする）フィルムを好ましく用いることができる。なお、光学的に等方性のフィルムを用いても、光学的に異方性の位相差フィルムを用いてもよい。
　上記任意の光学機能フィルムについて、セルロースエステル樹脂を含むものとしては、例えばフジタックＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム（株）製）などを利用することができる。
　上記任意の光学機能フィルムについて、アクリル樹脂を含むものとしては、特許第４５７００４２号公報に記載のスチレン系樹脂を含有する（メタ）アクリル樹脂を含む光学フィルム、特許第５０４１５３２号公報に記載のグルタルイミド環構造を主鎖に有する（メタ）アクリル樹脂を含む光学フィルム、特開２００９－１２２６６４号公報に記載のラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂を含む光学フィルム、特開２００９－１３９７５４号公報に記載のグルタル酸無水物単位を有する（メタ）アクリル系樹脂を含む光学機能フィルムを利用することができる。
　また、上記任意の光学機能フィルムについて、環状オレフィン樹脂を含むものとしては、特開２００９－２３７３７６号公報の段落［００２９］以降に記載の環状オレフィン系樹脂フィルム、特許第４８８１８２７号公報、特開２００８－０６３５３６号公報に記載のＲｔｈを低減する添加剤を含有する環状オレフィン樹脂フィルムを利用することができる。
［光学フィルタ］
　本発明の光学フィルタは、本発明の光吸収フィルタを紫外線照射によりマスク露光して得られる。
　本発明の光学フィルタは、光吸収効果を有する光吸収性部位と、光吸収性を消失させた部位（光吸収性消失部位）とを、マスク露光のパターン（以下、「マスクパターン」とも称す。）に応じて有する。
　すなわち、本発明の光吸収フィルタを紫外線照射によりマスク露光することによって、本発明の光吸収フィルタのうちマスクしていた箇所は露光されずに、光吸収効果を有する光吸収性部位として存在し、マスクしていなかった箇所は露光され、光吸収性消失部位となる。
　上記光吸収性部位は、所望の吸光度を示すことができる。
　また、上記光吸収性消失部位は、本発明の光吸収フィルタが優れた消色率を示し、しかも、染料の分解に伴う二次的な吸収がほとんど生じないため、無色に近い光学特性を示すことができる。
＜光学フィルタの製造方法＞
　本発明の光学フィルタは、本発明の光吸収フィルタに対して、紫外線を照射してマスク露光することにより得ることができる。
　マスクパターンは、光吸収性部位と光吸収性消失部位とから構成される所望のパターンを有する本発明の光学フィルタが得られるよう、適宜調整することができる。
　紫外線照射の条件は、光吸収性消失部位を有する本発明の光学フィルタが得られるよう、適宜調整して行うことができる。例えば、圧力条件については大気圧（１０１．３３ｋＰａ）下で行うことができ、温度条件については、室温（１０～３０℃）等で加熱することなく行うことができ、ランプ出力は８０～３２０Ｗ／ｃｍとすることができ、使用するランプとしては空冷メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ等を用いることができる。また、照射量は２００～５０００ｍＪ／ｃｍ２とすることができる。
　特に、本発明の光吸収フィルタと紫外線照射ランプとの距離を５０～１２０ｃｍ等の離れた距離とし、５～５０ｍＷ／ｃｍ２等の低照度で露光した場合には、マスクパターンの再現性に優れた光学フィルタが得られ、好ましい。
　本発明の光学フィルタは、本発明の光吸収フィルタにおいて記載する、光学機能フィルムを有していてもよい。
　また、本発明の光学フィルタは、紫外線吸収剤を含有する層を有していてもよい。紫外線吸収剤としては、特に制限することなく常用の化合物を使用でき、例えば、後述の紫外線吸収層における紫外線吸収剤を挙げることができる。紫外線吸収剤を含有する層を構成する樹脂についても、特に制限することなく、例えば、後述の紫外線吸収層における樹脂を挙げることができる。
　上記紫外線吸収剤を含有する層中の紫外線吸収剤の含有量は目的に応じて適宜に調整される。
＜＜積層体の製造方法＞＞
　本発明の光吸収フィルタに上述のガスバリア層を設ける場合、例えば、上述の製造方法により作製した本発明の光吸収フィルタ上に、直接、上述のガスバリア層を作製する方法が挙げられる。この場合、本発明の光吸収フィルタのうち、ガスバリア層を設ける面には、コロナ処理を施しておくことも好ましい。
　また、上記任意の光学機能フィルムを設ける場合には、粘着剤層を介して貼り合わせることも好ましい。例えば、本発明の光吸収フィルタ上にガスバリア層を設けた後、さらに粘着剤層を介して光学機能フィルムを貼り合わせることも好ましい。
［ＯＬＥＤ表示装置］
　本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置（有機ＥＬ（ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置またはＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）表示装置と称され、本発明においては、ＯＬＥＤ表示装置とも略す。）は、本発明の光学フィルタを含む。
　本発明のＯＬＥＤ表示装置としては、本発明の光学フィルタを含む限り、その他の構成としては、通常用いられているＯＬＥＤ表示装置の構成を特に制限なく用いることができる。本発明のＯＬＥＤ表示装置の構成例としては、特に制限されないが、例えば、外光に対して反対側から順に、ガラス、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を含む層、ＯＬＥＤ表示素子、バリアフィルム、カラーフィルター、ガラス、粘着剤層、本発明の光学フィルタ及び表面フィルムを含む表示装置が挙げられる。
　上記ＯＬＥＤ表示素子は、アノード電極、発光層及びカソード電極の順に積層した構成を有する。アノード電極及びカソード電極の間には、発光層の他に、ホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層及び電子注入層等を含んでいる。この他、例えば、特開２０１４－１３２５２２号公報の記載も参照することができる。
　また、上記カラーフィルターとしては、通常のカラーフィルターに加え、量子ドットを積層したカラーフィルターを使用することもできる。
　上記ガラスに代えて、樹脂フィルムを採用することもできる。
　本発明のＯＬＥＤ表示装置において、本発明の光学フィルタは、外光とは反対側に位置する面において、粘着剤層を介してガラス（基材）と貼り合わされていることが好ましい。
　上記粘着剤層としては、国際公開第２０２１／１３２６７４号の［０２３９］～［０２９２］に記載のＯＬＥＤ表示装置における粘着剤層及び形成方法に係る記載をそのまま適用することができる。
［液晶表示装置］
　本発明の液晶表示装置は、本発明の光学フィルタを含む。
　本発明の光学フィルタは、後述のとおり偏光板保護フィルム及び粘着剤層の少なくともいずれかとして使用されてもよく、液晶表示装置に用いるバックライトユニットに含まれていてもよい。
　液晶表示装置は、本発明の光学フィルタと、偏光子及び偏光板保護フィルムを含む偏光板と、粘着剤層と、液晶セルとを含むことが好ましく、偏光板は粘着剤層を介して液晶セルに張り合わされていることが好ましい。この液晶表示装置において、本発明の光学フィルタは、偏光板保護フィルム又は粘着剤層を兼ねていてもよい。すなわち、液晶表示装置は、偏光子及び本発明の光学フィルタ（偏光板保護フィルム）を含む偏光板と、粘着剤層と、液晶セルとを含む場合と、偏光子及び偏光板保護フィルムを含む偏光板と、本発明の光学フィルタ（粘着剤層）と、液晶セルとを含む場合とに分けられる。
　図１は、本発明の液晶表示装置の例を示す概略図である。図１において、液晶表示装置１０は、液晶層５とこの上下に配置された液晶セル上電極基板３及び液晶セル下電極基板６とを有する液晶セル、液晶セルの両側に配置された上側偏光板１及び下側偏光板８からなる。上電極基板３又は下電極基板６にカラーフィルター層が積層されていてもよい。上記液晶表示装置１０の背面にはバックライトを配置する。バックライトの光源としては、前述のバックライトユニットにおいて説明したものを使用することができる。
　上側偏光板１及び下側偏光板８は、それぞれ２枚の偏光板保護フィルムで偏光子を挟むように積層した構成を有しており、液晶表示装置１０は、少なくとも一方の偏光板が本発明の光学フィルタを含んでもよい。
　また、液晶表示装置１０において、上記液晶セルと偏光板（上側偏光板１及び／又は下側偏光板８）とが粘着剤層（図示せず）を介して張り合わされていてもよい。この場合、本発明の光学フィルタは、前述の粘着剤層を兼ねていてもよい。
　液晶表示装置１０には、画像直視型、画像投影型又は光変調型が含まれる。ＴＦＴやＭＩＭのような３端子又は２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置が本発明は有効である。もちろん時分割駆動と呼ばれるＳＴＮモードに代表されるパッシブマトリックス液晶表示装置でも有効である。
　本発明の光学フィルタがバックライトユニットに含まれている場合には、液晶表示装置の偏光板は、通常の偏光板（本発明の光学フィルタを含まない偏光板）でもよく、本発明の光学フィルタを含む偏光板でもよい。また、粘着剤層は、通常の粘着剤層（本発明の光学フィルタでないもの）でもよく、本発明の光学フィルタによる粘着剤層でもよい。
　特開２０１０－１０２２９６号公報の段落１２８～１３６に記載のＩＰＳモードの液晶表示装置は、本発明の光学フィルタを用いる以外は、本発明の液晶表示装置として好ましい。
＜偏光板＞
　本発明に用いる偏光板は、偏光子、及び少なくとも１枚の偏光板保護フィルムを含む。
　本発明に用いる偏光板は、偏光子と、偏光子の両面に偏光板保護フィルムを有するものであることが好ましく、少なくとも一方の面に、本発明の光学フィルタを偏光板保護フィルムとして含むことが好ましい。偏光子の、本発明の光学フィルタ（本発明の偏光板保護フィルム）を有する面とは反対の面には、通常の偏光板保護フィルムを有してもよい。
　偏光板保護フィルムの膜厚は、１μｍ以上１２０μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以上１００μｍ以下がより好ましい。薄いフィルムの方が液晶表示装置に組み込んだ際に高温高湿経時後の表示ムラが発生しにくく好ましい。一方、薄すぎるとフィルム製造及び偏光板作製時に安定に搬送させることが難しくなる。本発明の光学フィルタが偏光板保護フィルムを兼ねる場合には、光学フィルタの厚さが上記範囲を満たすことが好ましい。
　本発明に用いられる偏光板としては、国際公開第２０２１／１３２６７４号の［０２９９］～［０３０９］に記載の偏光板の性能、形状、構成、偏光子、偏光子と偏光板保護フィルムの積層方法、偏光板の機能化等に係る記載をそのまま適用することができる。
＜粘着剤層＞
　本発明の液晶表示装置において、偏光板は粘着剤層を介して液晶セルと貼り合わされていることが好ましい。本発明の光学フィルタは上記粘着剤層を兼ねていてもよい。本発明の光学フィルタが粘着剤層を兼ねていない場合には、粘着剤層は通常の粘着剤層を用いることができる。
　粘着剤層としては、偏光板と液晶セルとを貼り合せることができる限り特に限定されないが、例えば、アクリル系、ウレタン系、ポリイソブチレン等が好ましい。
　本発明の光学フィルタが粘着剤層を兼ねる場合、この粘着剤層は、上記色素と上記バインダー樹脂とを含み、さらに架橋剤、カップリグ剤等を含有して粘着性を付与されている。
　光学フィルタが粘着剤層を兼ねる場合、粘着剤層は上記バインダー樹脂を９０～１００質量％含むことが好ましく、９５～１００質量％含むことが好ましい。色素の含有量は、上述したとおりである。
　粘着剤層の厚さは、特に限定されないが、例えば、１～５０μｍが好ましく、３～３０μｍがより好ましい。
＜液晶セル＞
　液晶セルは、特に限定されず、通常のものを使用することができる。
［自発光表示装置］
　本発明の自発光表示装置は、発光ダイオードを発光源として備える自発光型の表示装置であって、本発明の光学フィルタを含む。
　本発明の自発光表示装置としては、本発明の光学フィルタを含む限り、その他の構成としては、通常用いられている自発光表示装置、例えばマイクロ発光ダイオード（マイクロＬＥＤ）表示装置、ミニ発光ダイオード（ミニＬＥＤ）表示装置等の構成を特に制限なく用いることができる。本発明の自発光表示装置の構成例としては、特に制限されないが、例えば、外光に対して反対側から順に、ガラス、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を含む層、発光素子、本発明の光学フィルタ及び表面フィルムを含む表示装置が挙げられる。
　本発明の自発光表示装置の表示光の光源は、発光ダイオードを発光源として備えるものである限り、青色単色でもよく、青色、緑色及び赤色の三原色を用いてもよい。例えば、波長域４４０ｎｍ～４７０ｎｍで発光する青色光源、波長域５２０ｎｍ～５６０ｎｍで発光する緑色光源及び波長域６２０ｎｍ～６６０ｎｍで発光する赤色光源を合わせて用いることも好ましい。
　本発明において、ミニＬＥＤはチップサイズ１００～２００μｍ程度のＬＥＤを意味し、マイクロＬＥＤはチップサイズ１００μｍ未満のＬＥＤを意味する。マイクロＬＥＤとしては、例えば、国際公開第２０１４／２０４６９４号等に記載のマイクロＬＥＤが好ましく挙げられる。
　本発明の自発光表示装置において、本発明の光学フィルタは、外光とは反対側に位置する面において、粘着剤層を介してガラス（基材）と貼り合わされていることが好ましい。
　上記粘着剤層としては、国際公開第２０２１／２２１１２２号号の［０２７２］～［０２９８］に記載の自発光表示装置における粘着剤層及び形成方法に係る記載について、波長選択吸収層を本発明の光学フィルタに読み替え、そのまま適用することができる。
＜紫外線吸収層＞
　本発明の光学フィルタを含む、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、マイクロＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅｓ）もしくはミニＬＥＤ表示装置等の自発光表示装置、又は液晶表示装置は、本発明の光学フィルタに対して視認者側に、上記紫外線照射によりラジカルを生成する化合物、または上記紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造の、光吸収（紫外線吸収）を阻害する層（以下、「紫外線吸収層」とも称す。）を有することが好ましい。上記紫外線吸収層を設けることにより、外光による本発明の光学フィルタの褪色を防止することができる。
　以下に本発明の紫外線吸収層について説明する。
（紫外線吸収剤）
　本発明の紫外線吸収層は樹脂および紫外線吸収剤を含む。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。
　本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばヒンダードフェノール系化合物、ヒドロキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。
　ヒンダードフェノール系化合物及びベンゾトリアゾール系化合物の具体例としては、例えば、国際公開第２０２１／１３２６７４号の［０３１３］に記載のヒンダードフェノール系化合物及びベンゾトリアゾール系化合物の具体例に係る記載をそのまま適用することができる。
　これらの紫外線防止剤の添加量は、樹脂１００質量部に対して０．１質量部～３０．０質量部が好ましい。
（樹脂）
　本発明において、上記紫外線吸収層に用いられる樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はない。上記樹脂としてはセルロースアシレート樹脂、アクリル樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ樹脂を挙げることができる。
（紫外線吸収層の設置位置）
　本発明において、上記紫外線吸収層の配置は、本発明の光学フィルタに対して視認者側であれば特に限定されず、いずれの位置でも設置でき、例えば、偏光板の保護膜、反射防止フィルム等の部材に紫外線吸収剤を添加し、紫外線吸収層の機能を持たせることも可能である。
　以下に、実施例に基づき本発明についてさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例に限定されるものではない。
　なお、以下の実施例において組成を表す「部」及び「％」は、特に断らない限り質量基準である。室温とは「２５℃」を意味する。
　なお、光吸収フィルタ形成液の調製工程から、光吸収フィルタ形成液を用いた基材つき光吸収フィルタの作製工程及び紫外線照射試験に用いるまでの工程は、いずれも、紫外線が照射されないよう、黄色灯下で行った。
［光吸収フィルタの作製］
　光吸収フィルタの作製に用いた材料を次に示す。なお、共重合体における含有率は、重量部基準の含有率である。
＜マトリックスポリマー＞
〔高親和性パートと低親和性パートを併せ持つポリマー〕
（樹脂１）
　水添スチレン－ジエン系ブロック共重合体（旭化成（株）製、タフテックＨ１０４３（商品名））、スチレン含有率６７％。
（樹脂２）
　水添スチレン－ジエン系ブロック共重合体（旭化成（株）製、タフテックＨ１５１７（商品名））、スチレン含有率４３％。
（樹脂３）
　無水マレイン酸変性水添スチレン－ジエン系ブロック共重合体（旭化成（株）製、タフテックＭ１９１３（商品名））、スチレン含有率３０％
（樹脂４）
　無水マレイン酸変性水添スチレン－ジエン系ブロック共重合体（旭化成（株）製、タフテックＭ１９４３（商品名））、スチレン含有率２０％
（樹脂５）
　部分水添スチレン－ジエン系ブロック共重合体（旭化成（株）製、タフテックＰ２０００（商品名））、スチレン含有率６７％
（樹脂６））
　部分水添スチレン－ジエン系ブロック共重合体（旭化成（株）製、タフテックＰ５０５１（商品名））、スチレン含有率４７％
〔紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマー〕
（樹脂８）
　ベンジルメタクレート－メタクリル酸系共重合体（藤倉化成（株）製、アクリベースＦＦ－１８７（商品名））、ベンジルメタクリレート比率８７％（ベンジルメタクリレート含有率８７％）
（樹脂９）
　ポリベンジルメタクリレート（シグマ　アルドリッチ(株)製、ポリ（ベンジルメタクリラート））
（樹脂１１）
　ポリメチルメタクリレート（三菱ケミカル(株)製、ダイヤナールＢＲ８０（商品名））
〔比較用ポリマー〕
（樹脂７）
　ポリスチレン樹脂（ＰＳジャパン（株）製、ＰＳＪ－ポリスチレン　ＧＰＰＳのＳＧＰ－１０（商品名））
（樹脂１０）
　環状ポリオレフィン樹脂（三井化学（株）製、ＡＰＬ６５０９Ｔ（商品名）、エチレンとノルボルネンとの共重合ポリマー、Ｔｇ　８０℃）
＜染料＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
　ソルベントブルー３５：１，４－ビス（ブチルアミノ）－９，１０－アントラキノン、アントラキノン系色素
（レベリング剤１）
　下記構成成分で構成されるポリマー界面活性剤をレベリング剤１として用いた。下記構造式中、各構成成分の割合はモル比であり、ｔ－Ｂｕはｔｅｒｔ－ブチル基を意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
（基材１）
　セルロースアシレートフィルム（富士フイルム社製、ＺＲＧ４０ＵＬ（商品名））
（基材２）
　ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、ルミラーＸＤ－５１０Ｐ（商品名、膜厚５０μｍ）
実施例
＜１．基材つき光吸収フィルタＮｏ．１０１の作製＞
（１）樹脂溶液（光吸収フィルタ形成液）の調製
　各成分を下記に示す組成で混合し、光吸収フィルタ形成液（組成物）Ｂａ－１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収フィルタ形成液Ｂａ－１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
樹脂１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９６．９　質量部
レベリング剤１　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１６質量部
染料Ｃ－７３　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．５７質量部
光ラジカル発生剤：４、４’－ジメトキシベンゾフェノン（東京化成社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．３７質量部
シクロヘキサン（溶媒）　　　　　　　　　　　　７４８．０　質量部
酢酸エチル（溶媒）　　　　　　　　　　　　　　１３２．０　質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　続いて、得られた光吸収フィルタ形成液Ｂａ－１を絶対濾過精度１０μｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙（株）製）を用いて濾過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの金属焼結フィルター（商品名：ポールフィルター　ＰＭＦ、メディアコード：ＦＨ０２５、ポール社製）を用いて濾過した。
（２）基材つき光吸収フィルタの作製
　上記濾過処理後の光吸収フィルタ形成液Ｂａ－１を、基材１上に、乾燥後の膜厚が２．５μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥し、基材つき光吸収フィルタＮｏ．１０１を作製した。
＜２．基材つき光吸収フィルタＮｏ．１０２～１０６、２０１～２０８の作製＞
　マトリックスポリマーの種類、染料の配合の有無、又は、ラジカル発生剤の有無を、表１に記載の内容に変更した以外は基材つき光吸収フィルタＮｏ．１０１の作製と同様にして、基材つき光吸収フィルタＮｏ．１０２～１０６及び２０１～２０８を作製した。
＜３．基材つき光吸収フィルタＮｏ．１０７の作製＞
（１）樹脂溶液（光吸収フィルタ形成液）の調製
　各成分を下記に示す組成で混合し、光吸収フィルタ形成液（組成物）Ｂａ－７を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収フィルタ形成液Ｂａ－７の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
樹脂８　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９８．４　質量部
レベリング剤１　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０８質量部
染料Ｃ－７３　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．５７質量部
メチルエチルケトン（溶媒）　　　　　　　　　　５６６．７　質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　続いて、得られた光吸収フィルタ形成液Ｂａ－７を絶対濾過精度１０μｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙（株）製）を用いて濾過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの金属焼結フィルター（商品名：ポールフィルター　ＰＭＦ、メディアコード：ＦＨ０２５、ポール社製）を用いて濾過した。
（２）基材つき光吸収フィルタの作製
　上記濾過処理後の光吸収フィルタ形成液Ｂａ－７を、基材２上に、乾燥後の膜厚が２．５μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥し、基材つき光吸収フィルタＮｏ．１０７を作製した。
＜４．基材つき光吸収フィルタＮｏ．１０８～１１１、２０９～２１０、２１３の作製＞
　マトリックスポリマーの種類、染料の種類と配合量、ラジカル発生剤の有無を、表１に記載の内容に変更した以外は基材つき光吸収フィルタＮｏ．１０７の作製と同様にして、基材つき光吸収フィルタＮｏ．１０８～１１１及び２０９～２１０、及び２１３を作製した。
＜５．基材つき光吸収フィルタＮｏ．２１１の作製＞
（１）樹脂溶液（光吸収フィルタ形成液）の調製
　各成分を下記に示す組成で混合し、光吸収フィルタ形成液（組成物）Ｂａ－１１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収フィルタ形成液Ｂａ－１１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
樹脂１０　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９３．５　質量部
染料Ｃ－７３　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．５７質量部
光ラジカル発生剤：４，４’－ジメトキシベンゾフェノン（東京化成社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．３７質量部
剥離性制御樹脂成分：タフテックＨ－１０４３（商品名、旭化成社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３．４　質量部
レベリング剤：メガファックＦ－５５４（商品名、ＤＩＣ社製、フッ系ポリ
マー）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１６質量部
シクロヘキサン（溶媒）　　　　　　　　　　　　７７０．０　質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　続いて、得られた光吸収フィルタ形成液Ｂａ－１１を絶対濾過精度１０μｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙（株）製）を用いて濾過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの金属焼結フィルター（商品名：ポールフィルター　ＰＭＦ、メディアコード：ＦＨ０２５、ポール社製）を用いて濾過した。
（２）基材つき光吸収フィルタの作製
　上記濾過処理後の光吸収フィルタ形成液Ｂａ－１１を、基材１上に、乾燥後の膜厚が２．５μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥し、基材つき光吸収フィルタＮｏ．２１１を作製した。
＜６．基材つき光吸収フィルタＮｏ．２１２、２１４及び２１５の作製＞
　染料の種類と配合量、ラジカル発生剤の種類と配合量を、表１に記載の内容に変更した以外は基材つき光吸収フィルタＮｏ．２１１の作製と同様にして、基材つき光吸収フィルタＮｏ．２１２、２１４及び２１５を作製した。
［ガスバリア層を有する光吸収フィルタの作製］
　基材つき光吸収フィルタＮｏ．１０１～１１１及び２０１～２１３について、下記のようにして、光吸収フィルタの上にさらにガスバリア層を積層してなる光吸収フィルタ（ガスバリア層を有する光吸収フィルタ）を作製し、後述の評価を行った。
（１）基材３の作製
　基材つき光吸収フィルタの、光吸収フィルタ側を、コロナ処理装置（商品名：Ｃｏｒｏｎａ－Ｐｌｕｓ、ＶＥＴＡＰＨＯＮＥ社製）を用い、放電量１０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２、処理速度３．２ｍ／ｍｉｎの条件でコロナ処理を施し、基材３として用いた。
（２）樹脂溶液の調製
　各成分を下記に示す組成で混合し、９０℃の恒温槽で１時間撹拌し、クラレエクセバール　ＡＱ－４１０５（商品名、クラレ社製、変性ポリビニルアルコール、けん化度９８～９９ｍｏｌ％）を溶解させ、ガスバリア層形成液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ガスバリア層形成液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
クラレエクセバール　ＡＱ－４１０５(商品名、クラレ社製)　４．０質量部
純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８８．５質量部
イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　７．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　続いて、得られたガスバリア層形成液を絶対濾過精度５μｍのフィルター（商品名：ＨｙｄｒｏｐｈｏｂｉｃＦｌｕｏｒｅｐｏｒｅ　Ｍｅｍｂｒａｎｅ、Ｍｉｌｌｅｘ社製）を用いて濾過した。
（３）ガスバリア層の積層
　上記濾過処理後のガスバリア層形成液を、基材３上のコロナ処理を施した面側に、乾燥後の膜厚が１．６μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、１２０℃６０秒で乾燥し、ガスバリア層を有する光吸収フィルタを作製した。
　このガスバリア層を有する光吸収フィルタは、基材１又は基材２、光吸収フィルタ及びガスバリア層がこの順に積層された構成を有する。
＜光吸収フィルタの吸光度（紫外線照射前）＞
（１）吸光度の測定
　島津製作所（株）製のＵＶ３６００分光光度計（商品名）を用いて、ガスバリア層を有する光吸収フィルタ及び標準フィルタについて、３８０～８００ｎｍの波長範囲における吸光度を、１ｎｍごとに測定した。なお、光路長は２．５μｍである。
　ここで、Ｎｏ．１０１～１１１が本発明の光吸収フィルタであり、Ｎｏ．２０８、２１１、２１４及び２１５が比較のための光吸収フィルタであり、Ｎｏ．２０１～２０７、２０９、２１０、２１２、及び２１３が参照用の光吸収フィルタである。
　樹脂１を含有する光吸収フィルタＮｏ．１０１に対する標準フィルタは、染料と光ラジカル発生剤を含有しないように変更した光吸収フィルタＮｏ．２０１である。
　樹脂２を含有する光吸収フィルタＮｏ．１０２に対する標準フィルタは、染料と光ラジカル発生剤を含有しないように変更した光吸収フィルタＮｏ．２０２である。
　樹脂３を含有する光吸収フィルタＮｏ．１０３に対する標準フィルタは、染料と光ラジカル発生剤を含有しないように変更した光吸収フィルタＮｏ．２０３である。
　樹脂４を含有する光吸収フィルタＮｏ．１０４に対する標準フィルタは、染料と光ラジカル発生剤を含有しないように変更した光吸収フィルタＮｏ．２０４である。
　樹脂５を含有する光吸収フィルタＮｏ．１０５に対する標準フィルタは、染料と光ラジカル発生剤を含有しないように変更した光吸収フィルタＮｏ．２０５である。
　樹脂６を含有する光吸収フィルタＮｏ．１０６に対する標準フィルタは、染料と光ラジカル発生剤を含有しないように変更した光吸収フィルタＮｏ．２０６である。
　樹脂７を含有する光吸収フィルタＮｏ．２０８に対する標準フィルタは、染料と光ラジカル発生剤を含有しないように変更した光吸収フィルタＮｏ．２０７である。
　樹脂８を含有する光吸収フィルタＮｏ．１０７および１０９に対する標準フィルタは、染料を含有しないように変更した光吸収フィルタＮｏ．２０９である。
　樹脂９を含有する光吸収フィルタＮｏ．１０８および１１０に対する標準フィルタは、染料を含有しないように変更した光吸収フィルタＮｏ．２１０である。
　樹脂１０を含有する光吸収フィルタＮｏ．２１１、２１４及び２１５に対する標準フィルタは、染料を含有しないように変更した光吸収フィルタＮｏ．２１２である。
　樹脂１１を含有する光吸収フィルタＮｏ．１１１に対する標準フィルタは、染料を含有しないように変更した光吸収フィルタＮｏ．２１３である。
（２）吸光度の算出
　上記で測定した、ガスバリア層を有する光吸収フィルタの各波長λｎｍにおける吸光度の値Ａｂｘ（λ）と、同じ樹脂を含有する標準フィルタの各波長λｎｍにおける吸光度の値Ａｂ０（λ）とを用いて、下記式より、紫外線照射前の光吸収フィルタの吸光度Ａｂ（λ）を算出した。
　　Ａｂ（λ）＝Ａｂｘ（λ）－Ａｂ０（λ）
 
　以降、波長４００～７００ｎｍの領域における光吸収フィルタの吸光度Ａｂ（λ）のうち、極大吸収を示す波長のうち最も大きい吸光度Ａｂ（λ）を示す波長を極大吸収波長（以下、単に「λｍａｘ」とも称す。）とし、このλｍａｘにおける吸光度を吸収極大値（以下、単に「Ａｂ（λｍａｘ）」とも称す。）とした。
＜＜評価１＞＞
　各光吸収フィルタについて、下記紫外線照射試験を行い、消色率、及び、色素の分解に伴う二次的な吸収の有無を評価した。
　結果をまとめて、後記表２に示す。
（紫外線照射試験１）
　大気圧（１０１．３３ｋＰａ）下、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて室温で、ガスバリア層を有する光吸収フィルタ及び標準フィルタに対して、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線（ＵＶ）を光吸収フィルタ側（基材１又は基材２とは反対側）から照射した。
＜光吸収フィルタの吸光度（紫外線照射後）＞
　紫外線照射後のガスバリア層を有する光吸収フィルタ及び標準フィルタを用いて、上記の＜光吸収フィルタの吸光度（紫外線照射前）＞の記載と同様の方法により、紫外線照射後の光吸収フィルタの吸光度Ａｂ（λ）を算出した。
［１．消色率の評価］
　上記紫外線照射試験前後における吸収極大値（Ａｂ（λｍａｘ））を用いて、下記式より、消色率を算出した。
　消色率（％）＝１００－
　　（紫外線照射後のＡｂ（λｍａｘ）／紫外線照射前のＡｂ（λｍａｘ））×１００
［２．色素の分解に伴う二次的な吸収の有無の評価］
　色素の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収（二次的な吸収）の有無を、紫外線照射前の吸収極大値（Ａｂ（λｍａｘ）に対する波長４５０ｎｍにおける吸光度（以下、単に「Ａｂ（４５０）」とも称す。）の比率に基づき、評価した。下記（II）の比率から下記（Ｉ）の比率を引いた値が小さいほど、色素の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収が生じていないことを意味する。
　（Ｉ）　紫外線照射前のＡｂ（４５０）／紫外線照射前のＡｂ（λｍａｘ）×１００％
　（II）　紫外線照射後のＡｂ（４５０）／紫外線照射前のＡｂ（λｍａｘ）×１００％
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000046
　なお、高親和性パートと低親和性パートを併せ持つポリマーを用いた光吸収フィルタＮｏ．１０１～１０６、高親和性パート又は低親和性パートのいずれか一方のみ有する比較のためのポリマーを用いた光吸収フィルタＮｏ．２０８、２１１、２１４及び２１５について、前述の式に基づき算出される、高親和性パート及び低親和性パートのｆｄ、ｆｐ及びｆｈと、染料及びラジカル発生剤のｆｄ、ｆｐ及びｆｈとの差を、それぞれ下記表Ａに示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000047
　なお、染料Ｃ－７３については下記の共鳴構造において、フェロセニル基を水素原子に置き換えた構造に基づいて、ｆｐ、ｆｈ及びｆｄの値を算出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000049
（表１、２及びＡの注）
　Ｎｏ．１０１～１１１、２０１～２１５は、それぞれ、光吸収フィルタＮｏ．１０１～１１１、２０１～２１５を意味する。
　染料に対するモル比率は、染料１モルに対するラジカル発生剤の配合モル量を意味する。
　光吸収フィルタＮｏ．２１５における＊１は、ラジカル発生剤であるベンゾフェノン６．３質量部に加え、消色促進剤として４－（ジメチルアミノ）安息香酸エチル６．７質量部（染料１モルに対する配合比で１５モル）を含有することを意味する。
　λｍａｘは、光吸収フィルタが、波長４００～７００ｎｍの領域に有する極大吸収波長のうち、最も高い吸光度Ａｂ（λ）を示す波長を意味する。
　染料の配合量は、フィルタ１００質量部に対する質量部を意味する。ラジカル発生剤の配合量は、フィルタ１００質量部に対する質量部を意味する。上記染料及びラジカル発生剤の配合量となるように樹脂の含有量を調整している。
　Ａｂ（λｍａｘ）は、極大吸収波長λｍａｘにおける吸光度の値を意味する。
　Ａｂ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける吸光度の値を意味する。
　紫外線照射前のＡｂ（λｍａｘ）に対するＡｂ（４５０）の比率（％）において、紫外線照射前の欄は紫外線照射前のＡｂ（４５０）を、紫外線照射後の欄は紫外線照射後のＡｂ（４５０）を、それぞれ用いて算出される比率を意味する。
　上記表１及び２の結果から、以下のことがわかる。
　比較例の光吸収フィルタＮｏ．２０８は、染料と、ラジカル発生剤と、染料及びラジカル発生剤に対する高親和性パートのみからなるポリスチレンを含有する。また、比較例の光吸収フィルタＮo．２１１は、染料と、ラジカル発生剤と、染料及びラジカル発生剤に対する低親和性パートのみからなるエチレンとノルボルネンとの共重合ポリマーを含有する。これらの比較例の光吸収フィルタＮｏ．２０８及び２１１は、紫外線照射による消色率は３０％又は３１％と低かった。
　また、比較例の光吸収フィルタＮｏ．２１４及び２１５は、染料と、ラジカル発生剤と、染料及びラジカル発生剤に対する低親和性パートのみからなるエチレンとノルボルネンとの共重合ポリマーを含有する。これらの比較例の光吸収フィルタＮｏ．２１４及び２１５は、紫外線照射による消色率はそれぞれ５％、２％と、ほとんど消色せず、しかも、紫外線照射により、Ａｂ（４５０）／Ａｂ（λｍａｘ）は０％から９．５％、９．８％までそれぞれ上昇し、色素の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収が生じていることがわかった。
　これに対して、染料及びラジカル発生剤に対する高親和性パートと低親和性パートの双方を含むマトリックスポリマーを含有するＮｏ．１０１～１０６、および紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーで構成された樹脂を含有する１０７～１１１は、いずれも、比較例の光吸収フィルタに対して、紫外線照射による消色率が高く、消色性に優れ、かつ、紫外線照射による染料の分解に伴う二次的な吸収もほとんど生じていなかった。
＜７．基材つき光吸収フィルタＮｏ．３０１の作製＞
（１）樹脂溶液（光吸収フィルタ形成液）の調製
　各成分を下記に示す組成で混合し、光吸収フィルタ形成液（組成物）Ｂａ－３を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収フィルタ形成液Ｂａ－３の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
樹脂８　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７８．４　質量部
レベリング剤１　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０８質量部
染料Ｃ－７３　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．５７質量部
光ラジカル発生剤：イルガキュア２９５９（ＢＡＳＦ社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０．０　質量部
メチルエチルケトン（溶媒）　　　　　　　　　　５６７．０　質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　続いて、得られた光吸収フィルタ形成液Ｂａ－３を絶対濾過精度１０μｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙（株）製）を用いて濾過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの金属焼結フィルター（商品名：ポールフィルター　ＰＭＦ、メディアコード：ＦＨ０２５、ポール社製）を用いて濾過した。
（２）基材つき光吸収フィルタの作製
　上記濾過処理後の光吸収フィルタ形成液Ｂａ－３を、基材１上に、乾燥後の膜厚が２．５μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥し、本発明の基材つき光吸収フィルタＮｏ．３０１を作製した。
［ガスバリア層を有する光吸収フィルタの作製］
　基材つき光吸収フィルタＮｏ．３０１の上に基材つき光吸収フィルタＮｏ．１０１と同様にしてさらにガスバリア層を積層してなる光吸収フィルタ（ガスバリア層を有する光吸収フィルタ）を作製し、以下の評価を行った。
＜＜評価２＞＞
　ガスバリア層を有する光吸収フィルタＮｏ．３０１について、下記紫外線照射試験を行い、消色率、及び、マスクパターンの再現性を評価した。
　結果をまとめて、後記表３に示す。
（紫外線照射試験２）
　ガスバリア層を有する光吸収フィルタＮｏ．３０１のガスバリア層上に厚み２．５ｍｍの石英ガラスをかぶせて、大気圧（１０１．３３ｋＰａ）下、超高圧水銀灯ランプ（ＨＯＹＡ（株）製）を用いて室温で、表３に示す照度および照射量の紫外線（ＵＶ）を光吸収フィルタ側（基材１とは反対側）から照射した後、評価１と同様にして消色率を算出した。
（紫外線照射試験３）
　ガスバリア層を有する光吸収フィルタＮｏ．３０１にトピックス社製マスク（厚み２．３ｍｍの石英ガラス上に、光透過部のピッチ９０μｍ、光非透過部のピッチ１８０μｍ、のストライプ状のクロム製マスクを蒸着したもの）を被せて、大気圧（１０１．３３ｋＰａ）下、超高圧水銀灯ランプ（ＨＯＹＡ（株）製）を用いて室温で、表３に示す照度および照射量の紫外線（ＵＶ）を光吸収フィルタ側（基材１とは反対側）から照射した。紫外線照射後のサンプルに形成されたパターン（光透過部の幅）を光学顕微鏡で観察し、以下の基準により、パターン再現性を評価した。下記評価基準における比率が１００％に近い程、パターン再現性に優れている。
 
　－　評価基準　－　
Ａ：４０ｍｍ×４０ｍｍの面積内における光透過部の幅の、もとのマスクの幅に対する比率が９０％超え１１０％未満
Ｂ：４０ｍｍ×４０ｍｍの面積内における光透過部の幅の、もとのマスクの幅に対する比率が６０％超え９０％以下、又は、１１０％以上１４０％未満
Ｃ：４０ｍｍ×４０ｍｍの面積内における光透過部の幅の、もとのマスクの幅に対する比率が６０％以下、又は、１４０％以上
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000050
　表３の結果から、本発明の光吸収フィルタＮｏ．３０１は優れた消色率を示し、かつマスクのパターンを忠実に再現でき好ましいことがわかる。特に、紫外線ランプと光吸収フィルタ間の距離を広げて低照度で露光する条件では、マスクパターンの再現性がより高く好ましい。
　本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものではなく、添付の請求の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。
　本願は、２０２１年１月６日に日本国で特許出願された特願２０２１－００１１３６、２０２１年３月３０日に日本国で特許出願された特願２０２１－０５７０２３、２０２１年７月１４日に日本国で特許出願された特願２０２１－１１６３３４及び２０２１年１２月２２日に日本国で特許出願された特願２０２１－２０８３７１に基づく優先権を主張するものであり、これらはここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。
１　上側偏光板
２　上側偏光板吸収軸の方向
３　液晶セル上電極基板
４　上基板の配向制御方向
５　液晶層
６　液晶セル下電極基板
７　下基板の配向制御方向
８　下側偏光板
９　下側偏光板吸収軸の方向
Ｂ　バックライトユニット
１０　液晶表示装置

Claims (17)

  1. 　樹脂と、
    　波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料と、
    　紫外線照射によりラジカルを生成する化合物とを含有する光吸収フィルタであって、
    　前記樹脂が、前記染料および前記の紫外線照射によりラジカルを生成する化合物に対して、高親和性の部分構造および低親和性の部分構造の両方を有するポリマーで構成された、
    　光吸収フィルタ。
  2. 　前記染料が、下記一般式（１）で表されるスクアリン系色素を含む、請求項１に記載の光吸収フィルタ。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     　上記式中、Ａ及びＢは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基又は－ＣＨ＝Ｇを示す。Ｇは置換基を有していてもよい複素環基を示す。
  3. 　前記樹脂を構成する前記ポリマーが、ブロック共重合体である、請求項１又は２に記載の光吸収フィルタ。
  4. 　前記高親和性の部分構造が、ポリスチレン構造を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の光吸収フィルタ。
  5. 　前記低親和性の部分構造が、ポリジエンを水素添加した構造を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の光吸収フィルタ。
  6. 　波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料と、紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造を含むポリマーで構成された樹脂とを含有する光吸収フィルタ。
  7. 　前記染料が、電子供与型消光剤内蔵色素を含む、請求項６に記載の光吸収フィルタ。
  8. 　前記電子供与型消光剤内蔵色素が、下記一般式（１Ａ）で表されるスクアリン系色素を含む、請求項７に記載の光吸収フィルタ。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     　上記式中、Ａ及びＢは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基又は－ＣＨ＝Ｇを示す。Ｇは置換基を有していてもよい複素環基を示す。ただし、Ａ及びＢの少なくとも一方は、電子供与型消光剤部を含む。
  9. 　前記ポリマーが、側鎖に芳香環を有する（メタ）アクリルポリマーである、請求項６～８のいずれか１項に記載の光吸収フィルタ。
  10. 　前記の紫外線照射によりラジカルを生成する化合物が分子内開裂によりラジカルを生成する化合物であり、前記の紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造が、分子内開裂によりラジカルを生成する部分構造である、請求項１～９のいずれか１項に記載の光吸収フィルタ。
  11. 　前記の紫外線照射によりラジカルを生成する化合物が該化合物の近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する化合物であり、前記の紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造が、該部分構造の近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する部分構造である、請求項１～８のいずれか１項に記載の光吸収フィルタ。
  12. 　前記の近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する化合物がアルコキシ基が置換したベンゾフェノン化合物であり、前記の近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する部分構造が、アルコキシ基が置換したベンゾフェノン化合物由来の部分構造である、請求項１１に記載の光吸収フィルタ。
  13. 　前記光吸収フィルタが、光の照射により前記染料が化学変化して消色する、請求項１～１２のいずれか１項に記載の光吸収フィルタ。
  14. 　請求項１～１３のいずれか１項に記載の光吸収フィルタを、紫外線照射によりマスク露光してなる、光学フィルタ。
  15. 　請求項１４に記載の光学フィルタを含む、自発光表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、又は、液晶表示装置。
  16. 　前記光学フィルタに対して視認者側に、前記紫外線照射によりラジカルを生成する化合物、または前記紫外線照射によりラジカルを生成する部分構造の、光吸収を阻害する層を有する、請求項１５に記載の自発光表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、又は、液晶表示装置。
  17. 　請求項１～１３のいずれか１項に記載の光吸収フィルタに対して、紫外線を照射してマスク露光する工程を含む、光学フィルタの製造方法。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54114254A (en) * 1978-01-30 1979-09-06 Eastman Kodak Co Color filter arraging structure using light fading color
JP2003050310A (ja) * 2001-05-16 2003-02-21 Fuji Photo Film Co Ltd カラーフィルター及びその製造方法
JP2007047756A (ja) * 2005-07-12 2007-02-22 Fujifilm Electronic Materials Co Ltd 光硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP2011099974A (ja) * 2009-11-05 2011-05-19 Fujifilm Corp 着色感光性組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置
JP2019199578A (ja) * 2018-05-18 2019-11-21 三菱ケミカル株式会社 アクリル系粘着剤組成物、粘着剤層、ディスプレイ用フィルター、及びディスプレイ
JP2020076100A (ja) * 2018-11-08 2020-05-21 三菱ケミカル株式会社 粘着剤樹脂組成物、粘着シート、活性エネルギー線硬化性粘着シート、光学部材、画像表示装置用積層体及び画像表示装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54114254A (en) * 1978-01-30 1979-09-06 Eastman Kodak Co Color filter arraging structure using light fading color
JP2003050310A (ja) * 2001-05-16 2003-02-21 Fuji Photo Film Co Ltd カラーフィルター及びその製造方法
JP2007047756A (ja) * 2005-07-12 2007-02-22 Fujifilm Electronic Materials Co Ltd 光硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP2011099974A (ja) * 2009-11-05 2011-05-19 Fujifilm Corp 着色感光性組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置
JP2019199578A (ja) * 2018-05-18 2019-11-21 三菱ケミカル株式会社 アクリル系粘着剤組成物、粘着剤層、ディスプレイ用フィルター、及びディスプレイ
JP2020076100A (ja) * 2018-11-08 2020-05-21 三菱ケミカル株式会社 粘着剤樹脂組成物、粘着シート、活性エネルギー線硬化性粘着シート、光学部材、画像表示装置用積層体及び画像表示装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023068235A1 (ja) * 2021-10-20 2023-04-27 富士フイルム株式会社 光吸収フィルタ、光学フィルタ及びその製造方法、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置
WO2024085172A1 (ja) * 2022-10-21 2024-04-25 富士フイルム株式会社 光吸収フィルタ、光学フィルタ及びその製造方法、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置

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