WO2023068235A1

WO2023068235A1 - 光吸収フィルタ、光学フィルタ及びその製造方法、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置

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Publication number: WO2023068235A1
Application number: PCT/JP2022/038634
Authority: WO
Inventors: 伸隆深川; 匡広渥美; 圭吾山口; 玲子深川; 大輔佐々木; 邦彦児玉
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2021-10-20
Filing date: 2022-10-17
Publication date: 2023-04-27

Abstract

樹脂と、酸基を有する化合物Ａと、上記化合物Ａが含む上記酸基と水素結合を形成し紫外線照射によりラジカルを生成する化合物Ｂと、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料を含む光吸収フィルタ、この光吸収フィルタを用いた光学フィルタ及びその製造方法、この光学フィルタを含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置、又は、液晶表示装置。

Description

光吸収フィルタ、光学フィルタ及びその製造方法、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置

　本発明は、光吸収フィルタ、光学フィルタ及びその製造方法、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置に関する。

　画像表示装置としては、有機エレクトロルミネッセンス（ＯＬＥＤ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置（無機ＥＬ表示装置）及び液晶表示装置等が近年用いられている。

　液晶表示装置は、消費電力の小さい省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。液晶表示装置は、画像を表示する液晶パネル自体は発光をしない非発光型素子であるため、液晶パネルの背面に配置され、液晶パネルに光を供給するバックライトユニットを備えている。
　ＯＬＥＤ表示装置は、ＯＬＥＤ素子の自発光を利用して画像を表示する装置である。そのため、液晶表示装置及びプラズマ表示装置等の各種表示装置に比べて、高コントラスト比、高い色再現性、広い視野角、高速応答性、及び、薄型軽量化が可能であること等の利点を有する。これらの利点に加え、フレキシブル性の点からも、次世代の表示装置として、活発に研究開発が行われている。
　無機ＥＬ表示装置は、蛍光材料としてＯＬＥＤ表示装置におけるＯＬＥＤ素子に代えて無機ＥＬ素子の自発光を利用して画像を表示する装置である。近年の研究により、大画面化、及び、超寿命化などの面でＯＬＥＤ表示装置よりも優れた表示装置が実現可能として期待されている。

　画像表示装置の開発においては、光吸収フィルタを構成として組み込む技術が知られている。
　例えば、液晶表示装置では、バックライトユニット用の光源として白色発光ダオード（ＬＥＤ）を用いた場合に、白色ＬＥＤから発せられる不要な波長の光を遮断するため、光吸収フィルタを設ける試みがなされている。また、ＯＬＥＤ表示装置では、外光反射を抑制する観点から、光吸収フィルタを設ける試みがなされている。

　画像表示装置に組み込まれる光吸収フィルタの別の形態として、所望の部位については光吸収性を消失させることにより、光吸収効果を有する光吸収性部位と、光吸収性を消失させた部位（以下、単に「光吸収性消失部位」とも称す）とを併せ持つ光学フィルタの研究も進められている。特に、画像表示装置に光学フィルタを組み込んで用いる形態としては、光学フィルタにおける光吸収性消失部位には、無色に近い光吸収特性が求められる。
　例えば、特許文献１には、スクアリン系色素と紫外線照射によりラジカルを生成する化合物とを含有する光吸収フィルタが記載されている。上記特許文献１記載の光吸収フィルタによれば、紫外線照射による高い消色率を示し、かつ、紫外線照射による染料の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収（以下、「二次的な吸収」とも称す。）もほとんど生じず、高い消色性が得られるとされる。

国際公開第２０２１／１３２６７４号

　しかし、上記特許文献１に記載の光吸収フィルタを用いた場合、高い消色性が得られるものの、紫外線照射の際に光吸収フィルタを加熱する必要があり、光学フィルタの生産性の点で改善が求められていた。
　すなわち、本発明は、室温で紫外線照射をした場合でも優れた消色率を示し、しかも、紫外線照射による染料の分解に伴う二次的な吸収がほとんど生じない光吸収フィルタを提供することを課題とする。
　また、本発明は、上記光吸収フィルタを用いた光学フィルタであって、所望の位置に、光吸収性部位と光吸収性消失部位とを有する光学フィルタ、並びに、この光学フィルタを備えたＯＬＥＤ表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置、並びに光学フィルタの製造方法を提供することを課題とする。

　本発明者らは上記課題に鑑み鋭意検討した結果、樹脂と、酸基を有する化合物Ａと、上記化合物Ａが含む上記酸基と水素結合を形成し紫外線照射によりラジカルを生成する化合物Ｂと、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料とを含む光吸収フィルタの構成とすることにより、室温で紫外線を照射した場合においても優れた消色性が得られることを見出した。本発明はこの知見に基づきさらに検討を重ね、完成されるに至ったものである。

　すなわち、上記の課題は以下の手段により解決された。
＜１＞
　樹脂と、酸基を有する化合物Ａと、上記化合物Ａが含む上記酸基と水素結合を形成し紫外線照射によりラジカルを生成する化合物Ｂと、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料とを含む光吸収フィルタ。
＜２＞
　上記染料が、下記一般式（１）で表されるスクアリン系色素を含む、＜１＞に記載の光吸収フィルタ。

　上記式中、Ａ及びＢは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基又は－ＣＨ＝Ｇを示す。Ｇは置換基を有していてもよい複素環基を示す。
＜３＞
　上記化合物Ａが、上記樹脂を構成するポリマーに化学結合している、＜１＞又は＜２＞に記載の光吸収フィルタ。
＜４＞
　上記光吸収フィルタが、紫外線の照射により上記染料が化学変化して消色する、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の光吸収フィルタ。
＜５＞
　＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の光吸収フィルタを紫外線照射によりマスク露光してなる、光学フィルタ。
＜６＞
　＜５＞に記載の光学フィルタを含む、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置、又は、液晶表示装置。
＜７＞
　上記光学フィルタに対して視認者側に、上記化合物Ｂの光吸収を阻害する層を有する、＜６＞に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置、又は、液晶表示装置。
＜８＞
　＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の光吸収フィルタに対して、紫外線を照射してマスク露光することを含む、光学フィルタの製造方法。

　本発明において、特定の符号又は式で表示された置換基若しくは連結基等（以下、置換基等という）が複数あるとき、又は、複数の置換基等を同時に規定するときには、特段の断りがない限り、それぞれの置換基等は互いに同一でも異なっていてもよい。このことは、置換基等の数の規定についても同様である。また、複数の置換基等が近接するとき（特に、隣接するとき）には、特段の断りがない限り、それらが互いに連結して環を形成していてもよい。また、特段の断りがない限り、環、例えば脂環、芳香族環、ヘテロ環は、更に縮環して縮合環を形成していてもよい。
　本発明において、特段の断りがない限り、光吸収フィルタを構成する成分（染料、酸基を有する化合物Ａ、化合物Ａが含む酸基と水素結合を形成し紫外線照射によりラジカルを生成する化合物Ｂ、及び、その他の適宜含有していてもよい成分等）は、それぞれ、光吸収フィルタ中に１種含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。本発明の光吸収フィルタを用いて作製される光学フィルタについても同義である。
　本発明の光学フィルタは、紫外線照射によって形成された光吸収性消失部位を有することを除き、特段の断りのない限り、本発明の光吸収フィルタの記載を好ましく適用することができる。
　本発明において、特段の断りがない限り、二重結合については、分子内にＥ型及びＺ型が存在する場合、そのいずれであっても、またこれらの混合物であってもよい。
　本発明において、化合物（錯体を含む。）の表示については、化合物そのもののほか、その塩、そのイオンを含む意味に用いる。また、本発明の効果を損なわない範囲で、構造の一部を変化させたものを含む意味である。更に、置換又は無置換を明記していない化合物については、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の置換基を有していてもよい意味である。このことは、置換基及び連結基についても同様である。
　また、本発明において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　本発明において、組成物とは、成分濃度が一定である（各成分が均一に分散している）混合物に加えて、目的とする機能を損なわない範囲で成分濃度が変動している混合物を包含する。
　本発明において、波長ＸＸ～ＹＹｎｍに主吸収波長帯域を有するとは、極大吸収を示す波長（すなわち、極大吸収波長）が波長領域ＸＸ～ＹＹｎｍに存在することを意味する。したがって、この極大吸収波長が上記波長領域内にあれば、この波長を含む吸収帯域全体が上記波長領域内にあってもよく、上記波長領域外まで広がっていてもよい。また、極大吸収波長が複数存在する場合、最も大きい吸光度を示す極大吸収波長が上記波長領域に存在していればよい。すなわち、最も大きい吸光度を示す極大吸収波長以外の極大吸収波長は、上記波長領域ＸＸ～ＹＹｎｍの内外のいずれに存在していてもよい。

　本発明の光吸収フィルタは、室温で紫外線照射をした場合に優れた消色率を示し、しかも、紫外線照射による染料の分解に伴う二次的な吸収がほとんど生じない。
　また、本発明の光学フィルタ並びにこれを備えた本発明のＯＬＥＤ表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置は、所望の位置に、光吸収性部位と光吸収性消失部位とを有することができる。
　また、本発明の製造方法によれば、所望の位置に、光吸収性部位と光吸収性消失部位とを有する本発明の光学フィルタを得ることができる。

図１は、本発明の光学フィルタを有する液晶表示装置の一実施形態の概略を示す模式図である。

［光吸収フィルタ］
　本発明の光吸収フィルタは、樹脂と、酸基を有する化合物Ａと、上記化合物Ａが含む上記酸基と水素結合を形成し紫外線照射によりラジカルを生成する化合物Ｂと、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料（以下、単に「染料」とも称す）とを含有する。

　本発明において、染料が有する主吸収波長帯域とは、光吸収フィルタの状態で測定される染料の主吸収波長帯域である。具体的には、後述する実施例において、光吸収フィルタの吸光度の項に記載の条件により、基材つき光吸収フィルタの状態で測定される。

　本発明の光吸収フィルタ中において、上記「染料」は、上記樹脂中に分散（好ましくは溶解）することにより、光吸収フィルタを染料に由来する特定の吸収スペクトルを示す層とするものである。この分散は、ランダム、規則的等いずれであってもよい。
　また、「酸基を有する化合物Ａ」は樹脂を構成するポリマーと結合していてもよい。さらに、上記「上記化合物Ａが含む上記酸基と水素結合を形成し紫外線照射によりラジカルを生成する化合物Ｂ」は、化合物Ａと水素結合を形成して樹脂中に分散（好ましくは溶解）され、または上記酸基を含む化合物Ａが樹脂を構成するポリマーと結合している場合は樹脂中の化合物Ａと水素結合を形成し、紫外線が照射された場合にラジカルを生成し、生成したラジカルが染料と反応する機構により、染料を退色させ、消色することができる。

　本発明の光吸収フィルタは、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料と、酸基を有する化合物Ａと、上記化合物Ａが含む上記酸基と水素結合を形成し紫外線照射によりラジカルを生成する化合物Ｂとを、樹脂中に含有する。このような構成を有する本発明の光吸収フィルタは、穏和な環境である室温（１０～３０℃を意味する。）で紫外線照射をした場合にも、優れた消色率を示すことができる。この理由は推定ではあるが、以下のように考えられる。
　本発明の光吸収フィルタ中において、酸基を有する化合物Ａと化合物Ａの酸基と水素結合を形成する化合物Ｂとを含有する場合、紫外線照射によるラジカル種の発生効率が、ベンゾフェノン化合物等の常用の光ラジカル発生剤を用いた場合と比較して向上される。このため、室温等の穏和な温度条件下で紫外線照射を行った場合にも十分なラジカル種が発生し、このラジカル種が直接または間接的に上記染料と反応し、染料が分解することによって、染料は褪色、消色する。特に、本発明の光吸収フィルタ中に含有される染料が後記一般式（１）で表されるスクアリン系色素である場合には、染料の分解に伴う二次的な吸収をほとんど生じずに、消色することができる。
　また、本発明の光吸収フィルタにおいて、酸基を有する化合物Ａが樹脂を構成するポリマーと結合している場合には、紫外線照射により上記染料の近傍でラジカルが生成し、上記ラジカルが染料と反応しやすくなる効果を奏する。

　このように、本発明の光吸収フィルタは、光（紫外線）の照射により上記染料が化学変化して消色する。すなわち、光（紫外線）照射により、上記染料が化学変化して消色可能な特性を有するものである。

＜波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料＞
　本発明に用いられる波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料（以下、単に「染料」とも称す）の具体例としては、例えば、テトラアザポルフィリン（ｔｅｔｒａａｚａ　ｐｏｒｐｈｙｒｉｎ、ＴＡＰ）系、スクアリン（ｓｑｕａｒｉｎｅ、ＳＱ）系、シアニン（ｃｙａｎｉｎｅ、ＣＹ）系、ベンジリデン系及びシンナミリデン系の各色素（染料）が挙げられる。
　本発明の光吸収フィルタ中に含有され得る染料は、１種でもよく、２種以上であってもよい。
　本発明の光吸収フィルタは上記染料以外の染料を含有することもできる。

　本発明の光吸収フィルタは、これらの中でも、上記の染料として、染料の分解に伴う二次的な着色構造が生成しにくい点から、下記一般式（１）で表されるスクアリン系色素を含むことが好ましい。染料として上記の通り染料の分解に伴う二次的な着色構造が生成しにくい色素を使用することにより、紫外光が照射された部分を効率よく無色にすることができる。
　さらに、上記の染料としては、主吸収波長帯域における吸収波形が先鋭である点からも、下記一般式（１）で表されるスクアリン系色素が好ましい。染料として上記の通り吸収波形が先鋭な色素を使用することにより、表示光の透過率の低下を最小限に抑えて外光の反射を防止することができる。
　すなわち、上記の染料として、下記一般式（１）で表されるスクアリン系色素を用いた場合には、本発明の光吸収フィルタを紫外線照射によりマスク露光することにより、本発明の光学フィルタを好適に作製することができる。
　本発明において、下記各一般式で表される色素において、カチオンは非局在化して存在しており、複数の互変異性体構造が存在する。そのため、本発明において、ある色素の少なくとも１つの互変異性体構造が各一般式に当てはまる場合、ある色素は各一般式で表される色素とする。したがって、特定の一般式で表される色素とは、その少なくとも１つの互変異性体構造を特定の一般式で表すことができる色素ということもできる。本発明において、一般式で表される色素は、その互変異性体構造の少なくとも１つがこの一般式に当てはまる限り、どのような互変異性体構造をとるものでもよい。

（１）一般式（１）で表されるスクアリン系色素

　一般式（１）中、Ａ及びＢは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、又は－ＣＨ＝Ｇを示す。Ｇは置換基を有していてもよい複素環基を示す。

　Ａ又はＢとして採りうるアリール基としては、特に制限されず、単環からなる基でも縮合環からなる基でもよい。アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２がさらに好ましい。アリール基としては、例えば、ベンゼン環又はナフタレン環からなる各基が挙げられ、より好ましくはベンゼン環からなる基である。

　Ａ又はＢとして採りうる複素環基としては、特に制限はなく、脂肪族複素環若しくは芳香族複素環からなる基を含み、芳香族複素環からなる基が好ましい。芳香族複素環基であるヘテロアリール基としては、例えば、後述する置換基Ｘとして採りうるヘテロアリール基が挙げられる。Ａ又はＢとして採りうる芳香族複素環基は、５員環又は６員環の基が好ましく、含窒素５員環の基がより好ましい。具体的には、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、トリアゾール環、インドール環、インドレニン環、インドリン環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環及びピラゾロトリアゾール環のいずれかからなる基が好適に挙げられる。中でも、ピロール環、ピラゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環及びピラゾロトリアゾール環のいずれかからなる基が好ましい。ピラゾロトリアゾール環とは、ピラゾール環とトリアゾール環との縮合環からなり、これらの環が少なくとも１つずつ縮合してなる縮合環であればよく、例えば、後述する一般式（４）及び（５）中の縮合環が挙げられる。

　Ａ及びＢは、スクアリン酸部位（一般式（１）に示された４員環）に対して、特に制限されることなく、いずれの部位（環構成原子）で結合してもよいが、炭素原子で結合することが好ましい。

　Ａ又はＢとして採りうる－ＣＨ＝Ｇ中のＧは、置換基を有していてもよい複素環基を示し、例えば、上記のＡ又はＢとして採りうる複素環基に示されている例が好適に挙げられる。中でも、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環及びインドリン環のいずれかからなる基等が好ましい。

　Ａ及びＢの少なくとも一方は、分子内水素結合を形成する水素結合性基を有していてもよい。
　Ａ、Ｂ及びＧは、それぞれ、置換基Ｘを有していてもよく、置換基Ｘを有する場合には、隣接する置換基が互いに結合してさらに環構造を形成してもよい。また、置換基Ｘは複数個存在してもよい。
　置換基Ｘとしては、例えば、後述する一般式（２）のＲ^１として採りうる置換基が挙げられる。具体的には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基（シクロアルキル基を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、フェロセニル基、－ＯＲ^１０、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^１２、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^１３、－ＮＲ^１４Ｒ^１５、－ＮＨＣＯＲ^１６、－ＣＯＮＲ^１７Ｒ^１８、－ＮＨＣＯＮＲ^１９Ｒ^２０、－ＮＨＣＯＯＲ^２１、－ＳＲ^２２、－ＳＯ_２Ｒ^２３、－ＳＯ_３Ｒ^２４、－ＮＨＳＯ_２Ｒ^２５及び－ＳＯ_２ＮＲ^２６Ｒ^２７が挙げられる。また、置換基Ｘは、上記フェロセニル基の他に、後述の消光剤部を有することも好ましい。

　一般式（１）において、Ｒ^１０～Ｒ^２７は、各々独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基又はヘテロ環基を示す。Ｒ^１０～Ｒ^２７として採りうる脂肪族基及び芳香族基は、特に制限されず、後述する一般式（２）のＲ^１として採りうる置換基における、脂肪族基に分類されるアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基及びアルキニル基、並びに、芳香族基に分類されるアリール基から適宜に選択できる。Ｒ^１０～Ｒ^２７として採りうるヘテロ環基は、脂肪族でも芳香族でもよく、例えば、後述する一般式（２）のＲ^１として採りうるヘテロアリール基又はヘテロ環基から適宜に選択できる。
　なお、－ＣＯＯＲ^１２のＲ^１２が水素原子である場合（すなわち、カルボキシ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、カルボネート基）、塩の状態であってもよい。また、－ＳＯ_３Ｒ^２４のＲ^２４が水素原子である場合（すなわち、スルホ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、スルホネート基）、塩の状態であってもよい。

　置換基Ｘとして採りうるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
　置換基Ｘとして採りうるアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８がさらに好ましい。アルケニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８がさらに好ましい。アルキニル基の炭素数は、２～４０が好ましく、２～３０がより好ましく、２～２５が特に好ましい。アルキル基、アルケニル基及びアルキニル基は、それぞれ、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖又は分岐が好ましい。
　置換基Ｘとして採りうるアリール基は、単環又は縮合環の基を含む。アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２がさらに好ましい。
　置換基Ｘとして採りうるアラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、７～４０が好ましく、７～３０がより好ましく、７～２５がさらに好ましい。
　置換基Ｘとして採りうるヘテロアリール基は、単環又は縮合環からなる基を含み、単環、又は環数が２～８個の縮合環からなる基が好ましく、単環又は環数が２～４個の縮合環からなる基がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子等が挙げられる。ヘテロアリール基は、５員環又は６員環からなる基が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましい。ヘテロアリール基としては、例えば、ピリジン環、ピペリジン環、フラン環、フルフラン環、チオフェン環、ピロール環、キノリン環、モルホリン環、インドール環、イミダゾール環、ピラゾール環、カルバゾール環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、インドリン環、チアゾール環、ピラジン環、チアジアジン環、ベンゾキノリン環及びチアジアゾール環のいずれかからなる各基が挙げられる。

　置換基Ｘとして採りうるフェロセニル基は、一般式（２Ｍ）で表されることが好ましい。

　一般式（２Ｍ）中、Ｌは、単結合、又は一般式（１）中のＡ、Ｂ又はＧと共役しない２価の連結基を示す。Ｒ^１ｍ～Ｒ^９ｍは、それぞれ、水素原子又は置換基を示す。Ｍは、メタロセン化合物を構成しうる原子であって、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｍｎ、Ｒｕ、Ｓｎ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｖ又はＰｔを示す。＊はＡ、Ｂ又はＧとの結合部を示す。
　なお、本発明においては、一般式（２Ｍ）中のＬが単結合である場合、Ａ、Ｂ又はＧに直接結合するシクロペンタジエニル環（一般式（２Ｍ）中のＲ^１ｍを有する環）は、Ａ、Ｂ又はＧと共役する共役構造に含めない。

　Ｌとして採りうる２価の連結基としては、Ａ、Ｂ又はＧと共役しない連結基であれば特に制限されず、その内部、又は一般式（２Ｍ）中のシクロペンタジエン環側端部に、上述の共役構造を含んでいてもよい。２価の連結基としては、例えば、炭素数１～２０のアルキレン基、炭素数６～２０のアリーレン基、複素環から２個水素を除いた２価の複素環基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－ＮＲ－（Ｒは水素原子又は１価の置換基を示す。）、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－若しくは－Ｎ＝ＣＨ－、又は、これらを複数（好ましくは２～６個）組合せてなる２価の連結基が挙げられる。好ましくは、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数６～１２のアリーレン基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＮＲ－（Ｒは上記の通り。）、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－及び－Ｎ＝ＣＨ－からなる群から選ばれる基若しくはこの群から選ばれる２種以上（好ましくは２～６個）の基を組合せた２価の連結基であり、特に好ましくは、炭素数１～４のアルキレン基、フェニレン基、－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－及び－ＳＯ_２－からなる群から選ばれる基若しくはこの群から選ばれる２種以上（好ましくは２～６個）の基を組合せた連結基である。組合せた２価の連結基としては、特に制限されないが、－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－又は－ＳＯ_２－を含む基が好ましく、－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－又は－ＳＯ_２－を２種以上組合せてなる連結基、又は、－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－及び－ＳＯ_２－の少なくとも１種とアルキレン基若しくはアリーレン基とを組合せてなる連結基が挙げられる。－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－又は－ＳＯ_２－を２種以上組合せてなる連結基としては、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯＯ－、－ＮＨＣＯＮＨ－、－ＳＯ_２ＮＨ－が挙げられる。－ＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｏ－及び－ＳＯ_２－の少なくとも１種とアルキレン基若しくはアリーレン基とを組合せてなる連結基としては、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－若しくは－ＣＯＮＨ－と、アルキレン基若しくはアリーレン基とを組合せた基が挙げられる。
　Ｒとして採りうる置換基は、特に制限されず、一般式（２）中のＡが有していてもよい置換基Ｘと同義である。

　Ｌは、単結合であるか、又は、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数６～１２のアリーレン基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＮＲ－（Ｒは上記の通り。）、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－及び－Ｎ＝ＣＨ－からなる群から選ばれる基若しくはこの群から選ばれる２種以上の基を組合せた基が好ましい。

　Ｌは、置換基を１又は複数有していてもよい。Ｌが有していてもよい置換基としては、特に制限されず、例えば上記置換基Ｘと同義である。Ｌが置換基を複数有する場合、隣接する原子に結合する置換基が互いに結合して更に環構造を形成してもよい。

　Ｌとして採りうるアルキレン基としては、炭素数が１～２０の範囲にある基であれば、直鎖、分岐鎖又は環状のいずれでもよく、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、メチルエチレン、メチルメチレン、ジメチルメチレン、１，１－ジメチルエチレン、ブチレン、１－メチルプロピレン、２－メチルプロピレン、１，２－ジメチルプロピレン、１，３－ジメチルプロピレン、１－メチルブチレン、２－メチルブチレン、３－メチルブチレン、４－メチルブチレン、２，４－ジメチルブチレン、１，３－ジメチルブチレン、ペンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン、エタン－１，１－ジイル、プロパン－２，２－ジイル、シクロプロパン－１，１－ジイル、シクロプロパン－１，２－ジイル、シクロブタン－１，１－ジイル、シクロブタン－１，２－ジイル、シクロペンタン－１，１－ジイル、シクロペンタン－１，２－ジイル、シクロペンタン－１，３－ジイル、シクロヘキサン－１，１－ジイル、シクロヘキサン－１，２－ジイル、シクロヘキサン－１，３－ジイル、シクロヘキサン－１，４－ジイル、メチルシクロヘキサン－１，４－ジイル等が挙げられる。
　Ｌとして、アルキレン基中に、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－ＮＲ－（Ｒは上述の通り。）、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－及び－Ｎ＝ＣＨ－の少なくとも１つを含む連結基を採る場合、－ＣＯ－等の基は、アルキレン基中のいずれの位置に組み込まれてもよく、また組み込まれる数も特に制限されない。

　Ｌとして採りうるアリーレン基としては、炭素数が６～２０の範囲にある基であれば特に制限されず、例えば、一般式（１）中のＡとして採りうる炭素数が６～２０のアリール基として例示した各基から更に水素原子を１つ除去した基が挙げられる。
　Ｌとして採りうる複素環基としては、特に制限されず、例えば、上記Ａとして採りうる複素環基として例示した各基から更に水素原子を１つ除去した基が挙げられる。

　一般式（２Ｍ）において、上記連結基Ｌを除外した残りの部分構造は、メタロセン化合物から水素原子を１つ除去した構造（メタロセン構造部）に相当する。本発明において、メタロセン構造部となるメタロセン化合物は、上記一般式（２Ｍ）で規定される部分構造に適合する化合物（Ｌに代えて水素原子が結合した化合物）であれば、公知のメタロセン化合物を特に制限されることなく用いることができる。以下、一般式（２Ｍ）で規定されるメタロセン構造部について具体的に説明する。

　一般式（２Ｍ）中、Ｒ^１ｍ～Ｒ^９ｍは、それぞれ、水素原子又は置換基を示す。Ｒ^１ｍ～Ｒ^９ｍとして採りうる置換基としては、特に制限されないが、例えば、一般式（３）のＲ^１として採りうる置換基の中から選ぶことができる。Ｒ^１ｍ～Ｒ^９ｍは、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシル基、アルコキシ基、アミノ基又はアミド基が好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシル基又はアルコキシ基がより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアシル基が更に好ましく、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基が特に好ましく、水素原子が最も好ましい。

　Ｒ^１ｍ～Ｒ^９ｍとして採りうるアルキル基としては、Ｒ^１として採りうるアルキル基の中でも、炭素数１～８のアルキル基が好ましく、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、イソブチル、ペンチル、ｔｅｒｔ－ペンチル、ヘキシル、オクチル、２－エチルヘキシルが挙げられる。
　このアルキル基は、置換基としてハロゲン原子を有していてもよい。ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、例えば、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、２，２，２－トリフルオロエチル、パーフルオロエチル、パーフルオロプロピル、パーフルオロブチル等が挙げられる。
　また、Ｒ^１ｍ等として採りうるアルキル基は、炭素鎖を形成する少なくとも１つのメチレン基が－Ｏ－又は－ＣＯ－で置換されていてもよい。メチレン基が－Ｏ－で置換されたアルキル基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｉｓｏブトキシ、ｓｅｃ－ブトキシ、ｔｅｒｔ－ブトキシ、２－メトキシエトキシ、クロロメチルオキシ、ジクロロメチルオキシ、トリクロロメチルオキシ、ブロモメチルオキシ、ジブロモメチルオキシ、トリブロモメチルオキシ、フルオロメチルオキシ、ジフルオロメチルオキシ、トリフルオロメチルオキシ、２，２，２－トリフルオロエチルオキシ、パーフルオロエチルオキシ、パーフルオロプロピルオキシ、パーフルオロブチルオキシの端部メチレン基が置換されたアルキル基、更には、２－メトキシエチル等の炭素鎖の内部メチレン基が置換されたアルキル基等が挙げられる。メチレン基が－ＣＯ－で置換されたアルキル基としては、例えば、アセチル、プロピオニル、モノクロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、プロパン－２－オン－１－イル、ブタン－２－オン－１－イル等が挙げられる。

　一般式（２Ｍ）中、Ｍは、メタロセン化合物を構成しうる原子であって、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｍｎ、Ｒｕ、Ｓｎ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｖ又はＰｔを示す。中でも、Ｍは、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｒｕ又はＯｓが好ましく、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｒｕ又はＯｓがより好ましく、Ｆｅ又はＴｉが更に好ましく、Ｆｅが最も好ましい。

　一般式（２Ｍ）で表される基としては、Ｌ、Ｒ^１ｍ～Ｒ^９ｍ及びＭの好ましいもの同士を組合せてなる基が好ましく、例えば、Ｌとして、単結合、又は、炭素数２～８のアルキレン基、炭素数６～１２のアリーレン基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＮＲ－（Ｒは上述の通り。）、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－及び－Ｎ＝ＣＨ－からなる群から選ばれる基若しくはこの群から選ばれる２種以上の基を組合せた基と、Ｒ^１ｍ～Ｒ^９ｍとして、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシル基又はアルコキシ基と、ＭとしてＦｅとを組合せてなる基が挙げられる。

　置換基Ｘとして採りうるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基及びヘテロアリール基、並びに、Ｒ^１０～Ｒ^２７として採りうる脂肪族基、芳香族基及びヘテロ環基は、それぞれ、さらに置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。さらに有していてもよい置換基としては、特に制限はないが、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、芳香族ヘテロ環チオ基、スルホニル基、フェロセニル基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、及びカルボキシ基から選ばれる置換基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、芳香族ヘテロ環チオ基、スルホニル基、フェロセニル基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、及びカルボキシ基から選ばれる置換基がより好ましい。これらの基は、後述する一般式（２）のＲ^１として採りうる置換基から適宜に選択することができる。

　上記一般式（１）で表される色素の好ましい１実施形態として、下記一般式（２）で表される色素が挙げられる。

　一般式（２）中、Ａ^１は、一般式（１）中のＡと同様である。中でも、含窒素５員環である複素環基が好ましい。

　一般式（２）において、Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、水素原子又は置換基を示す。Ｒ^１とＲ^２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、また互いに結合して環を形成してもよい。
　Ｒ^１及びＲ^２として採りうる置換基としては、特に制限はないが、例えば、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ－ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、シクロアルキル基（シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アルケニル基（ビニル基、アリル基等）、アルキニル基（エチニル基、プロパルギル基等）、アリール基（フェニル基、ナフチル基等）、ヘテロアリール基（フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等）、ヘテロ環基（複素環基とも呼び、例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基等）、シクロアルコキシ基（シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、ヘテロアリールオキシ基（芳香族ヘテロ環オキシ基）、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、ヘテロアリールチオ基（芳香族ヘテロ環チオ基）、アルコキシカルボニル基（メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、ホスホリル基（ジメトキシホスホニル、ジフェニルホスホリル）、スルファモイル基（アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、２－ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２－エチルヘキシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２－エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、スルホニルアミド基（メチルスルホニルアミノ基、オクチルスルホニルアミノ基、２－エチルヘキシルスルホニルアミノ基、トリフルオロメチルスルホニルアミノ基等）、カルバモイル基（アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２－エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２－ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２－ピリジルアミノウレイド基等）、アルキルスルホニル基（メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２－エチルヘキシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２－ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２－エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２－ピリジルアミノ基等）、アルキルスルホニルオキシ基（メタンスルホニルオキシ）、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、ヒドロキシ基等が挙げられる。
　中でも、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基が好ましく、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。

　Ｒ^１及びＲ^２として採りうる置換基はさらに置換基を有していてもよい。さらに有していてもよい置換基としては、Ｒ^１及びＲ^２として採りうる上記置換基、及び、前述の一般式（１）におけるＡ、Ｂ及びＧが有してもよい置換基Ｘが挙げられる。また、Ｒ^１とＲ^２とは互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ^１又はＲ^２と、Ｂ^２又はＢ^３が有する置換基とは結合して環を形成してもよい。
　このとき形成される環としてはヘテロ環又はヘテロアリール環が好ましく、形成される環の大きさは特に制限されないが、５員環又は６員環であることが好ましい。また、形成される環の数は特に限定されず、１個であってもよく、２個以上であってもよい。２個以上の環が形成される形態としては、例えば、Ｒ^１とＢ^２が有する置換基、及び、Ｒ^２とＢ^３が有する置換基とがそれぞれ結合して２個の環を形成する形態が挙げられる。

　一般式（２）において、Ｂ^１、Ｂ^２、Ｂ^３及びＢ^４は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を示す。Ｂ^１、Ｂ^２、Ｂ^３及びＢ^４を含む環は芳香環である。Ｂ^１～Ｂ^４のうち、少なくとも２つ以上は炭素原子であることが好ましく、Ｂ^１～Ｂ^４の全てが炭素原子であることがより好ましい。
　Ｂ^１～Ｂ^４として採りうる炭素原子は、水素原子又は置換基を有する。Ｂ^１～Ｂ^４として採りうる炭素原子のうち、置換基を有する炭素原子の数は、特に制限されないが、０、１又は２であることが好ましく、１であることがより好ましい。特に、Ｂ^１及びＢ^４が炭素原子であって、少なくとも一方が置換基を有することが好ましい。
　Ｂ^１～Ｂ^４として採りうる炭素原子が有する置換基としては、特に制限されず、Ｒ^１及びＲ^２として採りうる上記置換基が挙げられる。中でも、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アシル基、アミド基、スルホニルアミド基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又はヒドロキシ基であり、より好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アシル基、アミド基、スルホニルアミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又はヒドロキシ基である。
　Ｂ^１～Ｂ^４として採り得る炭素原子が有する置換基は、さらに置換基を有していてもよい。このさらに有していてもよい置換基としては、前述の一般式（２）におけるＲ^１及びＲ^２がさらに有してもよい置換基、及び、前述の一般式（１）におけるＡ、Ｂ及びＧが有してもよい置換基Ｘが挙げられ、フェロセニル基が好ましい。

　Ｂ^１及びＢ^４として採りうる炭素原子が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アミド基、スルホニルアミド基又はカルバモイル基がさらに好ましく、特に好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アミド基又はスルホニルアミド基が挙げられ、最も好ましくは、ヒドロキシ基、アミド基又はスルホニルアミド基である。これらのＢ^１及びＢ^４として採りうる炭素原子が有する置換基は、フェロセニル基をさらに有していてもよい。
　Ｂ^２及びＢ^３として採りうる炭素原子が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基又はハロゲン原子がさらに好ましく、いずれか一方の置換基が電子求引性基（例えば、アルコキシカルボニル基、アシル基、シアノ基、ニトロ基又はハロゲン原子）であることが特に好ましい。

　上記一般式（２）で表される色素は、下記一般式（３）、一般式（４）及び一般式（５）のいずれかで表される色素であることが好ましい。

　一般式（３）において、Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、水素原子又は置換基を示し、上記一般式（２）におけるＲ^１及びＲ^２と同義であり、好ましい範囲も同じである。
　一般式（３）において、Ｂ^１～Ｂ^４は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を示し、上記一般式（２）におけるＢ^１～Ｂ^４と同義であり、好ましい範囲も同じである。

　一般式（３）において、Ｒ^３及びＲ^４は、各々独立に、水素原子又は置換基を示す。Ｒ^３及びＲ^４として採りうる置換基としては、特に制限されず、上記Ｒ^１及びＲ^２として採りうる置換基と同じものを挙げることができる。
　ただし、Ｒ^３として採りうる置換基は、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アミド基、スルホニルアミド基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基又はハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アリール基又はアミノ基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。これらのＲ^３として採りうる置換基は、フェロセニル基をさらに有していてもよい。
　Ｒ^４として採りうる置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基又はシアノ基が好ましく、アルキル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基又はアリール基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。

　Ｒ^３及びＲ^４として採りうるアルキル基は、直鎖状、分岐状及び環状のいずれであってもよいが、直鎖状又は分岐状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～１２が好ましく、１～８がより好ましい。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｔ－ブチル基、２－エチルヘキシル基、シクロヘキシル基が好ましく、メチル基、ｔ－ブチル基がより好ましい。

　一般式（４）において、Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、水素原子又は置換基を示し、上記一般式（２）におけるＲ^１及びＲ^２と同義であり、好ましい範囲も同じである。
　一般式（４）において、Ｂ^１～Ｂ^４は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を示し、上記一般式（２）におけるＢ^１～Ｂ^４と同義であり、好ましい範囲も同じである。

　一般式（４）において、Ｒ^５及びＲ^６は、各々独立に、水素原子又は置換基を示す。Ｒ^５及びＲ^６として採りうる置換基としては、特に制限されず、上記Ｒ^１及びＲ^２として採りうる置換基と同じものを挙げることができる。
　ただし、Ｒ^５として採りうる置換基は、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、シアノ基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、スルホニルアミド基、ウレイド基又はカルバモイル基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アミド基又はアミノ基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
　Ｒ^５として採りうるアルキル基は、一般式（３）におけるＲ^３として採りうるアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。

　一般式（４）において、Ｒ^６として採りうる置換基は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、スルホニルアミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基又はハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基又はヘテロ環基がより好ましく、アルキル基又はアリール基がさらに好ましい。
　Ｒ^６として採りうるアルキル基は、一般式（３）におけるＲ^４として採りうるアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
　Ｒ^６として採りうるアリール基は、炭素数６～１２のアリール基が好ましく、フェニル基がより好ましい。このアリール基は置換基を有していてもよく、このような置換としては、以下の置換基群Ａに含まれる基が挙げられ、特に、炭素数１～１０のアルキル基、スルホニル基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基等が好ましい。これらの置換基は、さらに置換基を有していてもよい。具体的に、置換基はアルキルスルホニルアミノ基が好ましい。

　－　置換基群Ａ　－
　ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アミノオキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、スルホニルアミノ基（アルキル若しくはアリールスルホニルアミノ基を含む）、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル若しくはアリールスルフィニル基、スルホニル基（アルキル若しくはアリールスルホニル基を含む）、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基等。

　一般式（５）において、Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、水素原子又は置換基を示し、上記一般式（２）におけるＲ^１及びＲ^２と同義であり、好ましい範囲も同じである。
　一般式（５）において、Ｂ^１～Ｂ^４は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を示し、上記一般式（２）におけるＢ^１～Ｂ^４と同義であり、好ましい範囲も同じである。

　一般式（５）において、Ｒ^７及びＲ^８は、各々独立に、水素原子又は置換基を示す。Ｒ^７及びＲ^８として採りうる置換基としては、特に制限されず、上記Ｒ^１及びＲ^２として採りうる置換基と同じものを挙げることができる。
　ただし、Ｒ^７として採りうる置換基の、好ましい範囲、より好ましい範囲及びさらに好ましい基は、一般式（４）におけるＲ^５として採りうる置換基と同じである。Ｒ^５として採りうるアルキル基は、上記Ｒ^３として採りうるアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。

　一般式（５）において、Ｒ^８として採りうる置換基の、好ましい範囲、より好ましい範囲及びさらに好ましい範囲は、一般式（４）におけるＲ^６として採りうる置換基と同じである。Ｒ^８として採りうるアルキル基及びアリール基の好ましい範囲は、上記一般式（４）におけるＲ^６として採りうるアルキル基及びアリール基と同義であり、好ましい範囲も同じである。

　上記染料に用いられるスクアリン系色素としては、一般式（１）～（５）のいずれかで表されるスクアリン色素であれば、特に制限なく使用することができる。その例として、例えば、特開２００６－１６０６１８号公報、国際公開第２００４／００５９８１号、国際公開第２００４／００７４４７号、Ｄｙｅｓ　ａｎｄ　Ｐｉｇｍｅｎｔ，２００１，４９，ｐ．１６１－１７９、国際公開第２００８／０９０７５７号、国際公開第２００５／１２１０９８号及び特開２００８－２７５７２６号公報のいずれかに記載の化合物を挙げられる。

　一般式（１）～一般式（５）のいずれかで表される色素の具体例としては、国際公開第２０２２／１４９５１０号の［００６７］～［００７０］に記載の化合物が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
　また、上記具体例の他に、一般式（３）～（５）のいずれかで表される色素の具体例としては、国際公開第２０２２／１４９５１０号の［００７１］～［００８０］に記載の化合物が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。

　また、上記一般式（１）で表される色素の好ましい１実施形態として、国際公開第２０２１／１３２６７４号の［００８１］～［００９５］に記載の一般式（６）～（９）のいずれかで表される色素及び具体例の記載をそのまま適用することができる。

（消光剤内蔵型色素）
　上記一般式（１）で表されるスクアリン系色素は、連結基を介して、共有結合により消光剤部が色素に連結されてなる、消光剤内蔵型色素であってもよい。上記消光剤内蔵型色素も、上記染料として好ましく用いることができる。すなわち、上記消光剤内蔵型色素は、主吸収波長帯域を有する波長に応じて、上記染料として計上する。
　上記消光剤内蔵型色素としては、消光剤部が電子供与型消光剤部である電子供与型消光剤内蔵色素と、消光剤部が電子受容型消光剤部である電子受容型消光剤部が挙げられる。
　電子供与型消光剤部とは、励起状態の色素の二つのＳＯＭＯ（Singly Occupied Molecular Orbital）のうちの低エネルギー準位のＳＯＭＯに電子を供与したのち、色素の高エネルギー準位のＳＯＭＯから電子を受け取ることにより、励起状態の色素を基底状態に失活させる構造部を意味する。電子受容型消光剤部とは、励起状態の色素の二つのＳＯＭＯのうちの高エネルギー準位のＳＯＭＯから電子を受けとったのち、色素の低エネルギー準位のＳＯＭＯに電子を供与することにより、励起状態の色素を基底状態に失活させる構造部を意味する。
　上記電子供与型消光剤部としては、例えば、上述の置換基Ｘにおけるフェロセニル基、国際公開第２０１９／０６６０４３号の段落［０１９９］～［０２１２］および段落［０２３４］～［０２８７］に記載の消光剤化合物における消光剤部を挙げることができ、上述の置換基Ｘにおけるフェロセニル基が好ましい。また、上記電子受容型消光剤部としては、例えば、国際公開第２０１９／０６６０４３号の段落［０２８８］～［０３１０］に記載の消光剤化合物における消光剤部を挙げることができる。

　本発明の光吸収フィルタは、光吸収性部位の耐光性の観点から、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料は、電子供与型消光剤内蔵色素を含むことが好ましく、下記一般式（１Ａ）で表されるスクアリン系色素を含むことがより好ましい。

　上記式中、Ａ及びＢは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基又は－ＣＨ＝Ｇを示す。Ｇは置換基を有していてもよい複素環基を示す。ただし、Ａ及びＢの少なくとも一方は、電子供与型消光剤部を含む。

　上記一般式（１Ａ）で表される色素は、前述の一般式（１）で表される色素において、Ａ及びＢの少なくとも一方が電子供与型消光剤部を含む点以外は、前述の一般式（１）で表される色素と同じである。そのため、一般式（１Ａ）におけるＡ、Ｂ及びＧに係る記載については、前述の一般式（１）におけるＡ、Ｂ及びＧに係る記載を適用することができる。また、一般式（１Ａ）で表される色素の好ましい実施形態としては、前述の一般式（１）で表される色素の好ましい実施形態である一般式（２）～（９）のいずれかで表される色素の記載において、一般式（１）におけるＡ及びＢに相当する構造の少なくとも一方が電子供与型消光剤部を含むように変更した記載を適用することができる。
　Ａ及びＢの少なくとも一方が含む電子供与型消光剤部は、上述の置換基Ｘにおけるフェロセニル基が好ましい。

　以下に、一般式（１）で表されるスクアリン系色素のうち、消光剤内蔵型色素に該当する色素の具体例を示す。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
　下記具体例において、Ｍｅはメチル、Ｅｔはエチル、Ｂｕはブチルをそれぞれ示す。

　本発明の光吸収フィルタにおいて、上記染料の合計含有量は、本発明の光吸収フィルタ１００質量部中において、０．１０質量部以上が好ましく、０．１５質量部以上がより好ましく、０．２０質量部以上がさらに好ましく、０．２５質量部以上が特に好ましく、とりわけ０．３０質量部以上が好ましい。本発明の光吸収フィルタ中の上記染料の合計含有量が、上記の好ましい下限値以上であると、反射防止効果等の良好な光吸収性が得られる。
　また、本発明の光吸収フィルタ中において、上記染料の含有量の合計は、本発明の光吸収フィルタ１００質量部中において、通常は５０質量部以下であり、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましく、１５質量部以下がさらに好ましく、１０質量部以下が特に好ましく、とりわけ５質量部以下が好ましい。
　本発明の光吸収フィルタにおいて、上記一般式（１）で表されるスクアリン色素の含有量は、本発明の光吸収フィルタ１００質量部中において、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１０質量部がより好ましい。なお、本発明の光吸収フィルタにおいて、上記染料の全てが上記一般式（１）で表されるスクアリン色素であってもよい。
　なお、上記染料が上記消光剤内蔵型色素を含有する場合、上記消光剤内蔵型色素の含有量は、反射防止効果等の光吸収性を付与する観点から、本発明の光吸収フィルタを構成する樹脂１００質量部に対し、０．１０質量部以上であることが好ましく、０．１５質量部以上がより好ましく、０．２０質量部以上がさらに好ましく、０．２５質量部以上が特に好ましく、とりわけ０．３０質量部以上が好ましい。上限値は、４５質量部以下であることが好ましく、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましく、１５質量部以下がさらに好ましく、１０質量部以下が特に好ましい。

＜酸基を有する化合物Ａ＞
　本発明の光吸収フィルタは、酸基を有する化合物Ａ（本発明において、単に「化合物Ａ」とも称す。）を含む。
　化合物Ａが含む酸基としては、ｐＫａが１２以下のプロトン解離性基が好ましい。酸基としては、具体的には、カルボキシ基、スルホンアミド基、ホスホン酸基（－Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）_２）、リン酸基（－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）_２）、スルホ基、フェノール性水酸基、及びスルホニルイミド基等が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。なお、ｐＫａは２５℃の水における酸解離定数（Ｋａ）の負の常用対数（－ｌｏｇＫａ）を意味し、後述の化合物ＢにおけるｐＫａにおいて、水／メタノール＝５０／５０（体積比）の混合溶媒を水に変更する以外は同様にして算出することができる。
　化合物Ａは、低分子化合物であっても、高分子化合物（以下「ポリマー」ともいう。）であってもよく、ポリマーであることが好ましい。
　化合物Ａがポリマーであるとは、すなわち、本発明の光吸収フィルタに含有される樹脂を構成するポリマーに化合物Ａが化学結合していることを意味する。
　化合物Ａが低分子化合物である場合、化合物Ａの分子量は、５０００未満であり、２０００以下が好ましく、１０００以下がより好ましく、５００以下がさらに好ましく、４００以下が特に好ましい。下限値に特に制限はないが、１００以上が実際的であり、２００以上が好ましい。
　化合物Ａがポリマーである場合、化合物Ａの重量平均分子量の下限値は、５０００以上であり、光学フィルタの物理特性の観点から、１００００以上が好ましく、１５０００以上がより好ましい。上限値としては特に制限されないが、溶剤に対する溶解性の観点から、５０万以下が好ましく、２０万以下がより好ましく、１５万以下がさらに好ましい。

　また、化合物Ａが有する酸基の一部又は全部は、光吸収フィルタ中でアニオン化していてもよくアニオン化していなくてもよく、本発明において、アニオン化した酸基も、アニオン化していない酸基も共に含めて、酸基と称する。つまり、化合物Ａは光吸収フィルタ中で、アニオン化していてもアニオン化していなくてもよい。

　化合物Ａとしては、光吸収フィルタの製膜性に優れる点で、カルボキシ基を有する化合物であることが好ましい。
　上記のカルボキシ基を有する化合物としては、カルボキシ基を含むモノマー（以下「カルボキシ基含有モノマー」ともいう。）又はカルボキシ基を含むポリマー（以下「カルボキシ基含有ポリマー」ともいう。）であることが好ましく、光吸収フィルタの製膜性の観点から、カルボキシ基含有ポリマーであることがより好ましい。

　なお、カルボキシ基含有モノマー及びカルボキシ基含有ポリマーが有するカルボキシ基（－ＣＯＯＨ）の一部又は全部は、光吸収フィルタ中でアニオン化していてもアニオン化していなくてもよく、アニオン化したカルボキシ基（－ＣＯＯ^－）も、アニオン化していないカルボキシ基も共に含めて、カルボキシ基と称する。
　つまり、カルボキシ基含有ポリマーは光吸収フィルタ中で、アニオン化していてもアニオン化していなくてもよく、アニオン化したカルボキシ基含有ポリマーも、アニオン化していないカルボキシ基含有ポリマーも共に含めてカルボキシ基含有ポリマーと称する。

　光吸収フィルタ中の化合物Ａの含有量は、１質量％以上が好ましく、２５質量％以上がより好ましく、３０質量％以上が更に好ましく、４５質量％以上が特に好ましく、とりわけ５０質量％以上が好ましい。化合物Ａの含有量の上限値は、１００質量％未満が好ましく、９９質量％以下がより好ましく、９７質量％以下が更に好ましい。
　なかでも、化合物Ａがポリマーである場合、光吸収フィルタ中の化合物Ａの含有量は５０質量％以上１００質量％未満が好ましく、６０質量％以上１００質量％未満がより好ましく、７０質量％以上１００質量％未満がさらに好ましい。上限値は９９質量％以下であることも好ましく、９７質量％以下がより好ましく、９５質量％以下が更に好ましく、９０質量％以下が特に好ましい。
　化合物Ａは、一種単独で使用してもよく、二種以上を併用してもよい。

（カルボキシ基含有モノマー）
　カルボキシ基含有モノマーとしては、カルボキシ基を含み、且つ、エチレン性不飽和基を１つ以上（例えば１～１５個）含む重合性化合物が挙げられる。
　エチレン性不飽和基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、及びスチリル基が挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　なお、エチレン性不飽和基が（メタ）アクリロイル基である場合、（メタ）アクリロイル基におけるカルボニル結合とカルボキシ基におけるカルボニル結合とが１つのカルボニル結合を共有していてもよい。
　カルボキシ基含有モノマーとしては、製膜性により優れる観点から、カルボキシ基を含む２官能以上のモノマーが好ましい。なお、２官能以上のモノマーとは、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上（例えば２～１５個）有する重合性化合物を意味する。
　カルボキシ基含有モノマーが含むカルボキシ基の数は１個以上であればよく、例えば、１～８個が好ましく、１～４個がより好ましく、１～２個が更に好ましい。
　カルボキシ基含有モノマーは、酸基として、カルボキシ基以外の酸基を更に有してもよい。カルボキシ基以外の酸基としては、例えば、フェノール性水酸基、リン酸基、及びスルホン酸基が挙げられる。

　カルボキシ基を含む２官能以上のモノマーは特に制限されず、公知の化合物の中から適宜選択できる。
　カルボキシ基を含む２官能以上のモノマーとしては、例えば、商品名で、アロニックスＭ－５２０、及びアロニックスＭ－５１０（いずれも東亞合成社製）等が挙げられる。

　また、カルボキシ基を含む２官能以上のモノマーとしては、例えば、カルボキシ基を有する３～４官能の重合性化合物（ペンタエリスリトールトリアクリレート及びペンタエリスリトールテトラアクリレート［ＰＥＴＡ］骨格にカルボキシ基を導入した化合物（酸価＝８０～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ））、及びカルボキシ基を有する５～６官能の重合性化合物（ジペンタエリスリトールペンタアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレート［ＤＰＨＡ］骨格にカルボキシ基を導入した化合物（酸価＝２５～７０ｍｇＫＯＨ／ｇ））等も挙げられる。なお、上述のカルボキシ基を含む３官能以上のモノマーを使用する場合、製膜性がより優れる観点から、カルボキシ基を含む２官能以上のモノマーを併用することも好ましい。

　カルボキシ基を含む２官能以上のモノマー、酸基を含む２官能以上のモノマーとしては、特開２００４－２３９９４２号公報の段落００２５～００３０に記載の酸基を有する重合性化合物も挙げられる。この公報の内容は本明細書に組み込まれる。

（カルボキシ基含有ポリマー）
　カルボキシ基含有ポリマーは、酸基として、カルボキシ基以外の酸基を更に有してもよい。カルボキシ基以外の酸基としては、例えば、フェノール性水酸基、リン酸基、及びスルホン酸基が挙げられる。
　カルボキシ基含有ポリマーが共重合体である場合、ポリマーの構造はランダムポリマーでもよく、ブロック等の規則性ポリマーであってもよい。

≪カルボキシ基を有する構成単位≫
　カルボキシ基含有ポリマーは、カルボキシ基を有する構成単位を有することが好ましい。
　カルボキシ基を有する構成単位としては、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、又は、フマル酸に由来する構成単位が挙げられる。なかでも、染料の消色性に優れる点から（メタ）アクリル酸に由来する構成単位が好ましい。

　カルボキシ基含有ポリマー中、カルボキシ基を有する構成単位の含有量は、カルボキシ基含有ポリマーの全構成単位の合計を１００モル％とした際に、１～１００モル％が好ましく、３～６５モル％がより好ましく、５～４５モル％が更に好ましく、１０～４５モル％が特に好ましく、とりわけ２０～４５モル％が好ましい。
　カルボキシ基を有する構成単位は、一種単独で使用してもよく、二種以上を併用してもよい。

≪芳香環を有する構成単位≫
　カルボキシ基含有ポリマーは、上述の構成単位以外に、芳香環（好ましくは芳香族炭化水素環）を有する構成単位を有することも好ましい。例えば、芳香環を有する（メタ）アクリレート（具体的には、ベンジル（メタ）アクリレート、フェネチル（メタ）アクリレート、又は、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等）に由来する構成単位が挙げられる。

　カルボキシ基含有ポリマー中、芳香環を有する構成単位の含有量は、カルボキシ基含有ポリマーの全構成単位の合計を１００モル％とした際に、０～９７モル％が好ましく、０～９５モル％がより好ましく、０～９０モル％が更に好ましく、とりわけ０～８０モル％が好ましい。
　芳香環を有する構成単位は、一種単独で使用してもよく、二種以上を併用してもよい。

≪脂環式構造を有する構成単位≫
　カルボキシ基含有ポリマーは、上述の構成単位以外に、脂環式構造を有する構成単位を有することも好ましい。
　脂環式構造としては、例えば、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン環構造（テトラヒドロジシクロペンタジエンとも称す。１価の基はジシクロペンタニル）、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン－３－エン環構造（５，６－ジヒドロジシクロペンタジエンとも称す。１価の基はジシクロペンテニル）、イソボルナン環構造（１価の基はイソボルニル）、アダマンタン環構造、及びシクロヘキサン環構造（１価の基はシクロヘキシル）が挙げられる。
　脂環式構造を有する構成単位としては、例えば、脂環式構造を有する（メタ）アクリレート（具体的には、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、又は、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等）に由来する構成単位が挙げられる。

　カルボキシ基含有ポリマー中、脂環式構造を有する構成単位の含有量は、カルボキシ基含有ポリマーの全構成単位の合計を１００モル％とした際に、０～９７モル％が好ましく、０～９５モル％がより好ましく、０～９０モル％が更に好ましく、とりわけ０～８０モル％が好ましい。
　脂環式構造を有する構成単位は、一種単独で使用してもよく、二種以上を併用してもよい。

≪その他の構成単位≫
　カルボキシ基含有ポリマーは、上述の構成単位以外に、その他の構成単位を有していてもよい。
　上記その他の構成単位としては、例えば、メチル（メタ）アクリレートに由来する構成単位が挙げられる。
　カルボキシ基含有ポリマー中、その他の構成単位の含有量は、カルボキシ基含有ポリマーの全構成単位の合計を１００モル％とした際に、０～７０モル％が好ましく、０～５０モル％がより好ましく、０～２０モル％が更に好ましい。
　その他の構成単位は、一種単独で使用してもよく、二種以上を併用してもよい。

＜化合物Ｂ＞
　本発明の光吸収フィルタは、化合物Ａ中の酸基と水素結合を形成し紫外線の照射によりラジカルを発生させる化合物Ｂ（本発明において、単に「化合物Ｂ」とも称す。）を含む。
　化合物Ｂとしては、紫外線を吸収し励起状態になることにより塩基性が増大する構造を有する化合物が好ましい。化合物Ｂの塩基性が励起状態で増大することにより化合物Ａ中の酸基が化合物Ｂとより強く相互作用した錯体を形成することができ、ラジカルの発生効率を高めることが可能となる。
　化合物Ｂが有する、化合物Ａ中の酸基と水素結合を形成する構造とは、化合物Ｂの全体構造であってもよく、化合物Ｂの一部分を構成する部分構造であってもよい。
　化合物Ｂは、高分子化合物（分子量５０００以上の化合物を意味する。）でも低分子化合物（分子量５０００未満の化合物を意味する。）でもよく、低分子化合物であることが好ましい。
　低分子化合物である化合物Ｂの分子量は、５０００未満であり、１０００未満が好ましく、３００以下がより好ましく、２５０以下がさらに好ましい。下限値に特に制限はないが、６５以上が好ましく、７５以上がより好ましい。低分子化合物である化合物Ｂの分子量の好ましい範囲としては、例えば、６５～３００、より好ましくは７５～２５０が挙げられる。

　紫外線に対するモル吸光係数が大きい点から化合物Ｂは芳香族化合物であることが好ましい。
　ここで、芳香族化合物とは、芳香環を１個以上有する化合物である。
　上記芳香環は、化合物Ｂ中に１個のみ存在していてもよく、複数存在していてもよい。複数存在する場合、例えば、上記芳香環が樹脂を構成するポリマーの側鎖等に存在していてもよい。
　上記芳香環は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環のいずれでもよい。芳香族複素環（複素芳香環とも称す。）である場合、環員原子（環構成原子）としてヘテロ原子（窒素原子、酸素原子又は硫黄原子等の少なくとも１種）を１つ以上（例えば１～４つ）有する化合物であり、環員原子として窒素原子を１つ以上（例えば１～４つ）有することが好ましい。
　なお、無置換の芳香族炭化水素は、化合物Ａが含む酸基と水素結合を形成し紫外線照射によりラジカルを生成する機能を有しないため、化合物Ｂに該当しない。また、樹脂を構成するポリマーの側鎖に無置換の芳香族炭化水素環が結合した形態における無置換の芳香族炭化水素環は、化合物Ａが含む酸基と水素結合を形成し紫外線照射によりラジカルを生成する機能を有しないため、化合物Ｂに該当しない。
　上記芳香環の環員原子数は、５～１５が好ましい。

　上記芳香環としては、例えば、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、及びトリアジン環のような単環の芳香環；キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、及びキナゾリン環のような２環が縮環した芳香環；アクリジン環、フェナントリジン環、フェナントロリン環、及びフェナジン環のような３環が縮環した芳香環が挙げられる。

　上記芳香環は１つ以上（例えば１～５個）の置換基を有していてもよく、上記置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールカルボニル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、シアノ基、及びニトロ基が挙げられる。また、上記芳香環が２つ以上の置換基を有する場合、複数の置換基が互いに結合して非芳香環を形成していてもよい。
　なお、複数の芳香環（例えば、２～５つの芳香環）が、単結合、カルボニル結合、及び、多重結合（例えば、置換基を有してもよいビニレン基、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－等）から選択される構造で結合した一連の芳香環構造を形成している場合、上記一連の芳香環構造全体で１つの特定構造とみなす。
　また、上記一連の芳香環構造を構成する複数の芳香環のうちの１つ以上が上記複素芳香環であることが好ましい。

　化合物Ｂの具体例としては、ピリジン化合物（ピリジン及びピリジン誘導体）、ピラジン化合物（ピラジン及びピラジン誘導体）、ピリミジン化合物（ピリミジン及びピリミジン誘導体）、並びに、トリアジン化合物（トリアジン及びトリアジン誘導体）等の単環の芳香族化合物；キノリン化合物（キノリン及びキノリン誘導体）、イソキノリン化合物（イソキノリン及びイソキノリン誘導体）、キノキサリン化合物（キノキサリン及びキノキサリン誘導体）、並びに、キナゾリン化合物（キナゾリン及びキナゾリン誘導体）等の２環が縮合して芳香環を形成している化合物；アクリジン化合物（アクリジン及びアクリジン誘導体）、フェナントリジン化合物（フェナントリジン及びフェナントリジン誘導体）、フェナントロリン化合物（フェナントロリン及びフェナントロリン誘導体）、並びに、フェナジン化合物（フェナジン及びフェナジン誘導体）等の３環以上が縮合して芳香環を形成している化合物が挙げられる。これらの化合物Ｂの具体例において、化合物とは、化合物そのもののほか、本発明の効果を損なわない範囲で、構造の一部を変化させた無置換の化合物を含め、置換基を有する化合物（「誘導体」と称す。）を含む意味で使用する。
　これらの化合物Ｂは、前述の化合物Ａと錯体を形成し、紫外線の照射により以下の機構により２分子のラジカルを生成するものと推定している。
１）紫外線を吸収することにより励起状態の化合物Ｂが生成する。
２）励起状態の化合物Ｂから基底状態の化合物Ａに正孔が移動する（励起状態の化合物Ｂの二つの半占軌道のうちのエネルギーが低い側の軌道に化合物Ａの電子が移動する）。
３）化合物Ａから化合物Ｂにプロトンが移動することによって、化合物Ｂに水素ラジカルが負荷したラジカルと、化合物Ａから水素ラジカルが脱離したラジカルとが生成する。
　化合物Ａがカルボキシ基を有する化合物である場合には、さらに以下の反応が起こり、光脱炭酸反応によりラジカルが生成する。
４）化合物Ａから水素ラジカルが脱離したラジカルから二酸化炭素が脱離する。

　なかでも、化合物Ｂは、キノリン化合物（キノリン及びキノリン誘導体）、並びに、イソキノリン化合物（イソキノリン及びイソキノリン誘導体）のうちの１種以上であることが好ましい。
　これらの化合物が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールカルボニル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、シアノ基、又はニトロ基が好ましい。

　化合物Ｂがポリマーである場合、上記特定構造がポリマー主鎖と単結合又は連結基を介して結合しているポリマーでもよい。
　ポリマーである化合物Ｂは、例えば、複素芳香環を有する単量体（具体的には、ビニル基を有する複素芳香環、及び／又は、特定構造（好ましくは複素芳香環）を有する（メタ）アクリレート単量体）を重合することにより得られる。必要に応じて他の単量体と共重合してもよい。

　化合物Ｂの具体例としては、例えば、キノリン、２－メチルキノリン、４－メチルキノリン、２，４－ジメチルキノリン、２－メチル－４－フェニルキノリン、イソキノリン、１－メチルイソキノリン、３－メチルイソキノリン、１－フェニルイソキノリンが挙げられる。

　紫外線照射部の消色性と紫外線未照射部の染料の耐久性を両立させる観点から化合物Ｂの含有量は、光吸収フィルタの全質量に対して、０．１～５０質量％が好ましく、２．０～４０質量％がより好ましく、４～３５質量％がさらに好ましく、８～３０質量％が特に好ましい。
　また、化合物Ｂの塩基性の尺度であるｐＫａＨ（共役酸のｐＫａ）は、同じく紫外線照射部の消色性と紫外線未照射部の染料の耐久性を両立させる観点から、２．０以上７．０以下が好ましく、３．０以上６．０以下がより好ましく、４．３以上５．５以下がさらに好ましい。
　本発明において、ｐＫａは２５℃の水／メタノール＝５０／５０（体積比）の混合溶媒における酸解離定数（Ｋａ）の負の常用対数（－ｌｏｇＫａ）を意味する。ｐＫａは、測定用サンプル（化合物Ｂの共役酸）の水／メタノール＝５０／５０（体積比）の混合溶液に対して０．０１ｍоｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を滴下し、半当量点までに滴下した水酸化ナトリウム水溶液の量を読み取ることで算出できる。
　化合物Ｂは、一種単独で使用してもよく、二種以上を併用してもよい。

　本発明の光吸収フィルタは上記化合物Ｂに加えて紫外線照射によりラジカルを生成する化合物（以下、「光ラジカル発生剤」とも称す。）を含有してもよい。光ラジカル発生剤は、紫外線照射によりラジカルを生成する化合物であって、上記染料を消色する機能を有する化合物であれば、特に限定されない。なお、生成されるラジカルは、通常のラジカルの他に、ビラジカルであってもよい。
　光ラジカル発生剤としては、光ラジカル重合開始剤又は光ラジカル発生剤等として常用される化合物を特に制限することなく用いることができ、アセトフェノン発生剤、ベンゾイン発生剤、ベンゾフェノン発生剤、ホスフィンオキシド発生剤、オキシム発生剤、ケタール発生剤、アントラキノン発生剤、チオキサントン発生剤、アゾ化合物発生剤、過酸化物発生剤、ジスルフィド発生剤、ロフィンダイマー発生剤、オニウム塩発生剤、ボレート塩発生剤、活性エステル発生剤、活性ハロゲン発生剤、無機錯体発生剤又はクマリン発生剤等が挙げられる。なお、上記光ラジカル発生剤の具体例における「〇〇発生剤」は、それぞれ、「〇〇化合物」又は「〇〇類」等と称されることがあり、以降においては「〇〇化合物」と称す。
　光ラジカル発生剤の具体例、好ましい形態、及び、市販品等は、特開２００９－０９８６５８号公報の段落［０１３３］～［０１５１］において、光ラジカル開始剤の具体例、好ましい形態、市販品等として記載されており、これらを本発明においても同様に好適に用いることができる。

　上記光ラジカル発生剤は、分子内開裂によりラジカルを生成する化合物、又は、近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する化合物であることが好ましく、消色率をより向上させる観点から、近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する化合物であることがより好ましい。
　上記の分子内開裂によりラジカルを生成する化合物（以下、「分子内開裂型光ラジカル発生剤」とも称す。）とは、光を吸収した化合物が、ホモリティックに結合開裂することにより、ラジカルを生成する化合物を意味する。
　分子内開裂型光ラジカル発生剤としては、アセトフェノン化合物、ベンゾイン化合物、ホスフィンオキシド化合物、オキシム化合物、ケタール化合物、アゾ化合物、過酸化物化合物、ジスルフィド化合物、オニウム塩化合物、ボレート塩化合物、活性エステル化合物、活性ハロゲン化合物、無機錯体化合物及びクマリン化合物が挙げられる。これらのなかでも、カルボニル化合物である、アセトフェノン化合物、ベンゾイン化合物又はホスフィンオキシド化合物が好ましい。分子内開裂型のカルボニル化合物の光分解反応としてはノリッシュＩ型反応が知られており、ラジカル生成機構についてこの反応を参照することができる。

　上記の近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜いてラジカルを生成する化合物（以下、「水素引き抜き型光ラジカル発生剤」とも称す。）とは、光吸収により得られた励起三重項状態のカルボニル化合物が、近傍に存在する化合物から水素原子を引き抜くことにより、ラジカルを生成する化合物を意味する。
　水素引き抜き型光ラジカル発生剤としては、カルボニル化合物が知られており、ベンゾフェノン化合物、アントラキノン化合物及びチオキサントン化合物が挙げられる。水素引き抜き型のカルボニル化合物の光分解反応としてはノリッシュＩＩ型反応が知られており、ラジカル生成機構についてこの反応を参照することができる。
　近傍に存在する化合物とは、樹脂、染料、ラジカル発生剤等の光吸収フィルタ中に存在する各種成分が挙げられる。
　近傍に存在する化合物は、水素原子を引き抜かれることにより、ラジカルを有する化合物となる。水素引き抜き型光ラジカル発生剤により水素原子を引き抜かれた染料は、ラジカルを有する活性な化合物となるため、このラジカルを有する染料の分解等の反応によっても、染料の褪色、消色が生じ得る。
　また、水素引き抜き型光ラジカル発生剤が分子内の水素原子を引き抜く場合には、ビラジカルを生成する。
　水素引き抜き型光ラジカル発生剤としては、水素引き抜き反応の量子収率の観点から、ベンゾフェノン化合物が好ましい。

　光ラジカル発生剤としては、「最新ＵＶ硬化技術」、（株）技術情報協会、１９９１年、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」、加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行、ｐ．６５～１４８にも種々の例が記載されており、これらを本発明においても好適に用いることができる。

　光ラジカル発生剤において、吸収する紫外線の極大吸収波長としては、２５０～４００ｎｍの範囲が好ましく、２４０～４００ｎｍの範囲がより好ましく、２７０～４００ｎｍの範囲がさらに好ましい。
　光ラジカル発生剤がヘンゾフェノン化合物の場合、最も長波長側に位置する、ｎ－π^＊遷移に帰属される吸収極大の波長は、２６０～４００ｎｍの範囲が好ましく、２８５～３４５ｎｍの範囲がより好ましい。また、二番目に長波長側に位置する、π－π^＊に帰属される吸収極大の波長は、２４０～３８０ｎｍの範囲が好ましく、２７０～３３０ｎｍの範囲がより好ましい。吸収極大波長を上記範囲に設定することにより、露光時に使用される、メタルハライドランプ等の光源の光をよく吸収する一方で、表示装置に組み込んだ際に外部から侵入する紫外線を吸収しにくくなり、未露光部の耐光性と露光部の消色性を両立させることが可能となる。
　ベンゾフェノン化合物のうち、より長波長領域に吸収を有する光ラジカル発生剤としては、例えば、アルコキシベンゾフェノン化合物が挙げられる。

　光ラジカル発生剤が吸収する紫外線の極大吸収波長と、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料が有する主吸収波長帯域とは、通常、３０ｎｍ以上離れていることが好ましい。上限値に特に制限はない。

　市販の光開裂型の光ラジカル発生剤としては、いずれも商品名で、ＢＡＳＦ社製（旧チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）の、「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１８７０」（ＣＧＩ－４０３／イルガキュア１８４＝７／３混合開始剤）、「イルガキュア５００」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア１１７３」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア４２６５」、「イルガキュア４２６３」、「イルガキュア１２７」若しくは「ＯＸＥ０１」等、また、日本化薬社製の、「カヤキュアーＤＥＴＸ－Ｓ」、「カヤキュアーＢＰ－１００」、「カヤキュアーＢＤＭＫ」、「カヤキュアーＣＴＸ」、「カヤキュアーＢＭＳ」、「カヤキュアー２－ＥＡＱ」、「カヤキュアーＡＢＱ」、「カヤキュアーＣＰＴＸ」、「カヤキュアーＥＰＤ」、「カヤキュアーＩＴＸ」、「カヤキュアーＱＴＸ」、「カヤキュアーＢＴＣ」若しくは「カヤキュアーＭＣＡ」等、更には、サートマー社製の「Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ、ＫＢ１、ＥＢ３、ＢＰ、Ｘ３３、ＫＴＯ４６、ＫＴ３７、ＫＩＰ１５０若しくはＴＺＴ）」等が挙げられる。また、これら２種以上の組み合わせも好ましい例として挙げられる。

　本発明の光吸収フィルタにおいて、ラジカル発生剤（好ましくは光ラジカル発生剤）の含有量は、本発明の光吸収フィルタ１００質量部中において、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～２０質量部がより好ましい。
　本発明の光吸収フィルタにおけるラジカル発生剤（好ましくは光ラジカル発生剤）の配合量は、消色率をより向上させる観点から、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料１モルに対して、０．１～２０モルが好ましい。下限値は、０．２５モル以上がより好ましく、０．５０モル以上がさらに好ましい。上限値は、１７．５モル以下がより好ましく、１５モル以下がさらに好ましい。
　本発明の光吸収フィルタは、ラジカル発生剤（好ましくは光ラジカル発生剤）を１種含有していてもよく、２種以上含有していてもよい。

＜樹脂＞
　本発明の光吸収フィルタに含まれる樹脂（以下、「マトリックス樹脂」とも称す。）は、上記の染料を分散（好ましくは溶解）することができ、化合物Ａ中の酸基と水素結合した化合物Ｂから生じるラジカルによる染料の消色作用を発現することができ、所望の光透過性（波長４００～８００ｎｍの可視領域において、光透過率が８０％以上であることが好ましい。）を有する限り、特に限定されるものではない。

　上記樹脂を構成するポリマーとして、さまざまなポリマーが使用可能である。紫外線照射による樹脂の分子量低下がおこりにくい観点から側鎖に芳香環あるいは脂環式構造を有するポリマーが好ましく、芳香環あるいは脂環式構造を有する構成単位を含む（メタ）アクリルポリマーがより好ましい。なかでも、消色率をより向上させることができ、また、耐熱性及び耐光性についてもより向上させることができる観点から、脂環式構造を有する構成単位を含む（メタ）アクリルポリマーがさらに好ましい。
　ここで、（メタ）アクリルポリマーは、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の少なくとも一方を含むポリマーを指す。なお、ポリマーが（メタ）アクリル酸に由来する構成単位を含む場合、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位は上述の化合物Ａにおける酸基としてカルボキシ基を有する構成単位となり、上述の、樹脂を構成するポリマーに上述の化合物Ａが化学結合しているポリマーに相当する。
　また、本開示において、「主鎖」とは、高分子化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表し、「側鎖」とは、主鎖から枝分かれしている原子団を表す。

　芳香環を有する構成単位を導くモノマーとしては、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルアクリレート、ナフチルメタクリレート、ナフチルメチルアクリレート及びナフチルメチルメタクリレート等が挙げられる。芳香環を有する構成単位の含有量は、ポリマーの全質量に対し、５～１００質量％であることが好ましく、１０～１００質量％であることがより好ましく、２０～１００質量％であることが更に好ましい。

　脂環式構造を有する構成単位を導くモノマーとしては、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート及びイソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

　上記ポリマーが脂環式構造を有する構成単位を含む場合、脂環式構造を有する構成単位の含有量は、ポリマーの全質量に対し、１～９０質量％であることが好ましく、５～９０質量％であることがより好ましく、５～８０質量％であることがさらに好ましい。

　また、本発明の光吸収フィルタにおいては、上記樹脂を構成するポリマーが、酸基を有する化合物Ａと結合した構成単位を含んでいてもよい。酸基を有する化合物Ａと結合した構成単位としては（メタ）アクリル酸に由来する構成単位が好ましく挙げられる。（メタ）アクリル酸に由来する構成単位の含有量は、ポリマーの全質量に対し、１～７０質量％であることが好ましく、１～６０質量％であることがより好ましい。さらに好ましくは、上述の化合物Ａにおけるカルボキシ基含有ポリマーにおけるカルボキシ基を有する構成単位の含有量の記載を適用する。
　また、上記樹脂を構成するポリマーが、酸基を有する化合物Ａと結合した構成単位を含む場合には、芳香環を有する構成単位の含有量及び脂環式構造を有する構成単位の含有量について、上述の化合物Ａにおけるカルボキシ基含有ポリマーにおける芳香環を有する構成単位の含有量及び脂環式構造を有する構成単位の記載を適用する。

　上記樹脂を構成するポリマーはガラス転移温度の調節等の観点から、炭素数１～１４のアルキル基を有する構成単位を含んでいてもよい。炭素数１～１４のアルキル基を有する構成単位としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ－ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート及びテトラデシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート由来の構成単位が挙げられる。本発明では、炭素数１～１４のアルキル基を有する構成単位を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。炭素数１～１４のアルキル基を有する構成単位の含有量は、樹脂を構成するポリマーの全質量に対し、０～９５質量％含まれることが好ましい。

　上記樹脂を構成するポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、１万以上であることが好ましく、１万～２０万であることがより好ましく、１．５万～１５万であることが更に好ましい。

＜その他の成分＞
　本発明の吸収フィルタは、上述した染料、上述した酸基を有する化合物Ａ、上述した化合物Ａ中の酸基と水素結合する化合物Ｂ、及び、上記樹脂（マトリックスポリマー）に加え、褪色防止剤、マット剤及びレベリング剤（界面活性剤）等を含んでいてもよい。

＜褪色防止剤＞
　本発明の光吸収フィルタにおいて、褪色防止剤としては、紫外線照射による消色を阻害せず、一方、可視光による染料の分解を抑制する効果を有するものが好ましい。

　上記褪色防止剤としては、下記一般式（ＩＶ）で表される化合物を好ましく用いることができる。

　式（ＩＶ）中、Ｒ^１０はアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基又はＲ^１８ＣＯ－、Ｒ^１９ＳＯ_２－若しくはＲ^２０ＮＨＣＯ－で表される基を示す。ここでＲ^１８、Ｒ^１９及びＲ^２０は各々独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロ環基を示す。Ｒ^１１及びＲ^１２は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基を示し、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７は各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基又はアリール基を示す。
　ただし、Ｒ^１０～Ｒ^２０におけるアルキル基は、アラルキル基を含む。

　上記一般式（ＩＶ）で表される化合物は、国際公開第２０２１／２２１１２２号の［０２１５］～［０２２１］に記載の一般式（ＩＶ）で表される化合物と同じである。そのため、一般式（ＩＶ）における各置換基の説明、一般式（ＩＶ）で表される化合物の具体例については、国際公開第２０２１／２２１１２２号の［０２１７］～［０２２１］の記載をそのまま適用することができる。

　上記褪色防止剤としては、下記一般式［ＩＩＩ］で表される化合物も好ましく用いることができる。

　一般式［ＩＩＩ］中、Ｒ_３１は脂肪族基又は芳香族基を示し、Ｙは窒素原子と共に５～７員環を形成するのに必要な非金属原子群を示す。

　上記一般式［ＩＩＩ］で表される化合物は、国際公開第２０２１／２２１１２２号の［０２２３］～［０２２７］に記載の一般式［ＩＩＩ］で表される化合物と同じである。そのため、一般式［ＩＩＩ］における各置換基の説明、一般式［ＩＩＩ］で表される化合物の具体例については、国際公開第２０２１／２２１１２２号の［０２２５］～［０２２７］の記載をそのまま適用することができる。
　また、上記の具体例の他に、上記一般式［ＩＩＩ］で表される化合物の具体例としては、特開平２－１６７５４３号公報明細書の第８頁～１１頁に記載された例示化合物Ｂ－１～Ｂ－６５、及び、特開昭６３－９５４３９号公報明細書の第４～７頁に記載された例示化合物（１）～（１２０）等を挙げることができる。

　本発明の光吸収フィルタ中の褪色防止剤の含有量は、本発明の光吸収フィルタの全質量１００質量％中、好ましくは１～１５質量％であり、より好ましくは５～１５質量％であり、さらに好ましくは５～１２．５質量％、特に好ましくは１０～１２．５質量％である。
　褪色防止剤を上記好ましい範囲内で含有することにより、本発明の光吸収フィルタは、変色等の副作用を起こすことなく、染料（色素）の耐光性を向上させることができる。

（マット剤）
　本発明の光吸収フィルタの表面には、本発明の効果を損なわない範囲で、滑り性付与及びブロッキング防止のために微粒子を添加してもよい。この微粒子としては、疎水基で表面が被覆され、二次粒子の態様をとっているシリカ（二酸化ケイ素，ＳｉＯ_２）が好ましく用いられる。なお、微粒子には、シリカとともに、あるいはシリカに代えて、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及び燐酸カルシウムなどの微粒子を用いてもよい。市販の微粒子としては、Ｒ９７２及びＮＸ９０Ｓ（いずれも日本アエロジル社製、商品名）などが挙げられる。

　この微粒子はいわゆるマット剤として機能し、微粒子添加により本発明の光吸収フィルタ表面に微小な凹凸が形成され、この凹凸により、本発明の光吸収フィルタ同士又は本発明の光吸収フィルタとその他のフィルム等が重なっても互いに貼り付かず、滑り性が確保される。
　本発明の光吸収フィルタが微粒子としてのマット剤を含有する場合、フィルタ表面から微粒子が突出した突起による微小凹凸は、高さ３０ｎｍ以上の突起が１０^４個／ｍｍ^２以上存在すると、特に滑り性、ブロッキング性の改善効果が大きい。

　マット剤（微粒子）は特に表層に付与することが、ブロッキング性及び滑り性改善の点から好ましい。表層に微粒子を付与する方法としては、重層流延及び塗布などによる手段があげられる。
　本発明の光吸収フィルタ中のマット剤の含有量は目的に応じて適宜に調整される。
　ただし、本発明の光吸収フィルタに後述のガスバリア層を設ける場合には、光吸収フィルタの表面のうちガスバリア層と接する面には、本発明の効果を損なわない範囲で上記マット剤微粒子を付与することが好ましい。

（レベリング剤）
　本発明の光吸収フィルタには、レベリング剤（界面活性剤）を適宜混合することができる。レベリング剤としては、常用の化合物を使用することができ、特に含フッ素界面活性剤が好ましい。具体的には、例えば、特開２００１－３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］～［００５６］記載の化合物が挙げられる。また、市販品としては、ＤＩＣ社製のメガファックＦ（商品名）シリーズを使用することもできる。
　本発明の光吸収フィルタ中のレベリング剤の含有量は目的に応じて適宜に調整される。

　本発明の光吸収フィルタは、上記各成分に加え、低分子可塑剤、オリゴマー系可塑剤、レタデーション調整剤、劣化防止剤、剥離促進剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤、フィラー及び相溶化剤等を含有してもよい。
　また、本発明の光吸収フィルタは、特開平０９－２８６９７９号公報の段落［００２０］及び［００２１］に記載の反応促進剤又は反応遅延剤を含有してもよい。

＜光吸収フィルタの製造方法＞
　本発明の光吸収フィルタは、常法により、溶液製膜法、溶融押出し法、又は、基材フィルム（支持体フィルム）上に任意の方法でコーティング層を形成する方法（コーティング法）で作製することができ、適宜延伸を組み合わせることもできる。本発明の光吸収フィルタは、好ましくはコーティング法により作製される。
　上記の溶液製膜法及び溶融押出し法としては、国際公開第２０２１／１３２６７４号の［０１９７］～［０２０３］における溶液製膜法及び溶融押出し法の記載をそのまま適用することができる。

（コーティング法）
　コーティング法では、支持体フィルムに光吸収フィルタの材料の溶液を塗布し、コーティング層を形成する。支持体フィルム表面には、コーティング層との接着性を制御するため、適宜、離型剤等を予め塗布しておいてもよい。コーティング層は、後工程で接着層を介して他の部材と積層させた後、支持体フィルムを剥離して用いることができる。接着層を構成する接着剤については、任意の接着剤を適宜使用することができる。なお、支持体フィルム上に、光吸収フィルタの材料の溶液をと塗布した状態又はコーティング層が積層された状態で、適宜支持体フィルムごと延伸することができる。

　光吸収フィルタの材料の溶液に用いられる溶媒は、光吸収フィルタの材料を溶解又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で適宜選択することができる。

－染料（色素）、化合物Ａ及び化合物Ｂの添加－
　光吸収フィルタの材料に上記染料、上記化合物Ａ及び上記化合物Ｂを添加するタイミングは、製膜される時点で添加されていれば特に限定されない。例えば、上記マトリックスポリマーの合成時点で添加してもよいし、光吸収フィルタの材料のコーティング液調製時に光吸収フィルタの材料と混合してもよい。なお、化合物Ａが上記樹脂を構成するポリマーと結合している場合には、化合物Ａは樹脂の添加時に添加される。

－支持体フィルム－
　本発明の光吸収フィルタを、コーティング法等で形成させるために用いられる支持体フィルムは、膜厚が５～１００μｍであることが好ましく、１０～７５μｍがより好ましく、１５～５５μｍがさらに好ましい。膜厚が上記好ましい下限値以上であると、十分な機械強度を確保しやすく、カール、シワ、座屈等の故障が生じにくい。また、膜厚が上記好ましい上限値以下であると、本発明の光吸収フィルタと支持体フィルムとの複層フィルムを、例えば長尺のロール形態で保管する場合に、複層フィルムにかかる面圧を適正な範囲に調整しやすく、接着の故障が生じにくい。

　支持体フィルムの表面エネルギーは、特に限定されることはないが、本発明の光吸収フィルタの材料及びコーティング溶液の表面エネルギーと、支持体フィルムの本発明の光吸収フィルタを形成させる側の表面の表面エネルギーとの関係性を調整することによって、本発明の光吸収フィルタと支持体フィルムとの間の接着力を調整することができる。表面エネルギー差を小さくすれば、接着力が上昇する傾向があり、表面エネルギー差を大きくすれば、接着力が低下する傾向があり、適宜設定することができる。

　また、支持体フィルムの表面凹凸は、特に限定されることはないが、本発明の光吸収フィルタの表面エネルギー、硬度、表面凹凸と、支持体フィルムの本発明の光吸収フィルタを形成させる側とは反対側の表面の表面エネルギー、硬度との関係性に応じて、例えば本発明の光吸収フィルタと支持体フィルムとの複層フィルムを長尺のロール形態で保管する場合の接着故障を防ぐ目的で調整することができる。表面凹凸を大きくすれば、接着故障を抑制する傾向にあり、表面凹凸を小さくすれば、本発明の光吸収フィルタの表面凹凸が減少し、本発明の光吸収フィルタのヘイズが小さくなる傾向にあり、適宜設定することができる。

　このような支持体フィルムとしては、任意の素材及びフィルムを適宜使用することができる。具体的な材料として、ポリエステル系ポリマー（ポリエチレンテレフタレート系フィルムを含む）、オレフィン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、（メタ）アクリル系ポリマー、セルロース系ポリマー、ポリアミド系ポリマー等を挙げることができる。また、支持体フィルムの表面性を調整する目的で、適宜表面処理を行うことが出来る。表面エネルギーを低下させるには、例えば、コロナ処理、常温プラズマ処理、鹸化処理等を行うことができ、表面エネルギーを上昇させるには、シリコーン処理、フッ素処理、オレフィン処理等を行うことができる。

＜本発明の光吸収フィルタの膜厚＞
　本発明の光吸収フィルタの膜厚は、特に制限されないが、１～１８μｍが好ましく、１～１２μｍがより好ましく、２～８μｍがさらに好ましい。上記好ましい上限値以下であれば、薄いフィルムに高濃度で染料を添加することにより、染料（色素）が発する蛍光による偏光度の低下を抑えることができる。また、消光剤の効果も発現しやすい。一方、上記好ましい下限値以上であると、面内の吸光度の均一度を維持しやすくなる。
　本発明において膜厚が１～１８μｍであるとは、本発明の光吸収フィルタの厚さを、どの部位で図っても１～１８μｍの範囲内にあることを意味する。このことは、膜厚１～１２μｍ、２～８μｍについても同様である。膜厚は、アンリツ社製電子マイクロメーターにより測定することができる。

＜本発明の光吸収フィルタの吸光度＞
　本発明の光吸収フィルタにおいて、波長４００～７００ｎｍにおいて最も大きい吸光度を示す極大吸収波長における吸光度（以下、単に「Ａｂ（λ_ｍａｘ）」とも称す。）は、０．３以上が好ましく、０．５以上がより好ましく、０．７以上がさらに好ましい。
　ただし、本発明の光吸収フィルタの吸光度は、染料の種類、添加量又は膜厚により調整することができる。
　本発明の光吸収フィルタは、紫外線照射による消色率が、３５％以上であることが好ましく、４５％以上であることがより好ましく、５５％以上であることが特に好ましく、なかでも７０％以上であることが好ましい。上限値は特に制限はなく、１００％であることも好ましい。
　なお、上記消色率は、紫外線照射試験前後における上記Ａｂ（λ_ｍａｘ）の値を用いて、下記式より算出される。
　　消色率（％）＝１００－
　　　（紫外線照射後のＡｂ（λ_ｍａｘ）／紫外線照射前のＡｂ（λ_ｍａｘ））×１００
　ここで、紫外線照射試験は、大気圧（１０１．３３ｋＰａ）下、超高圧水銀灯（ＨＯＹＡ社製、商品名：ＵＬ７５０）を用いて、照度１００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を室温（２５℃）で、光吸収フィルタに照射する。
　上記吸光度、紫外線照射試験及び消色率は、実施例に記載の方法により測定、算出することができる。

　また、本発明の光吸収フィルタは、色素の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収（二次的な吸収）をほとんど生じないことが好ましい。
　例えば、色素の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収の有無は、上記Ａｂ（λ_ｍａｘ）に対する特定の波長における吸光度の比率に基づき、確認することができる。特定の波長は、紫外線照射前の色素が吸収をほとんど示さず、かつ、色素の分解による新たな吸収が見られる波長を選択する。
　具体例としては、後述の実施例に記載するように、色素の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収の有無を、上記Ａｂ（λ_ｍａｘ）に対する波長４５０ｎｍにおける吸光度（以下、単に「Ａｂ（４５０）」とも称す。）の比率に基づき、確認することができる。すなわち、下記（II）の比率から下記（Ｉ）の比率を引いた値が小さいほど、色素の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収が生じていないことを意味し、この値は、８．５％未満が好ましく、７．０％以下がより好ましく、５．０％以下がさらに好ましく、３．０％以下が特に好ましく、なかでも１．０％以下が好ましい。下限値に特に制限はないが、色素の分解に伴う二次的な吸収の有無に係る評価を妥当なものとする観点から、－１０％以上が実際的であり、－６％以上であることが好ましい。
　（Ｉ）　紫外線照射前のＡｂ（４５０）／紫外線照射前のＡｂ（λ_ｍａｘ）×１００％
　（II）　紫外線照射後のＡｂ（４５０）／紫外線照射前のＡｂ（λ_ｍａｘ）×１００％
　上記色素の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収の有無の確認については、実施例に記載の方法により測定、算出することができる。

　本発明の光吸収フィルタは、上記の消色率及び色素の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収の有無を確認する値が、いずれも好ましい範囲を満たすことにより、優れた消色性を示すことができる。

　本発明の光学フィルタにおける光吸収効果を有する光吸収性部位は、上記の本発明の光吸収フィルタに係るＡｂ（λ_ｍａｘ）の記載を満たすことが好ましい。

＜本発明の光吸収フィルタの処理＞
　本発明の光吸収フィルタには任意のグロー放電処理、コロナ放電処理、又は、アルカリ鹸化処理などにより親水化処理を施してもよく、コロナ放電処理が好ましく用いられる。特開平６－９４９１５号公報、又は同６－１１８２３２号公報などに開示されている方法などを適用することも好ましい。

　なお、得られた膜には、必要に応じて、熱処理工程、過熱水蒸気接触工程、有機溶媒接触工程などを実施することができる。また、適宜に表面処理を実施してもよい。

　また、粘着剤層として、（メタ）アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シリコーン系樹脂等をベースポリマーとし、そこに、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物のような架橋剤を加えた粘着剤組成物からなる層を適用することもできる。
　好ましくは、後述のＯＬＥＤ表示装置における粘着剤層の記載を適用することができる。

＜ガスバリア層＞
　本発明の光吸収フィルタは、少なくとも片面にガスバリア層を有していてもよい。本発明の光吸収フィルタがガスバリア層を有する場合、本発明の光吸収フィルタを、優れた消色性と優れた耐光性との両立を実現した光吸収フィルタとすることができ、後述する光学フィルタの作製に好適に用いることができる。
　ガスバリア層を形成する材料は特に限定されず、例えば、ポリビニルアルコール及びポリ塩化ビニリデンなどの有機系材料（好ましくは結晶性樹脂）、ゾルゲル材料などの有機－無機ハイブリッド系材料、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ_ｘ、ＳｉＯＮ、ＳｉＮ_ｘ及びＡｌ_２Ｏ_３などの無機系材料を挙げることができる。ガスバリア層は単層であっても多層であってもよく、多層である場合は、無機系の誘電体多層膜、及び、有機材料と無機材料を交互に積層した多層膜などの構成を挙げることができる。

　本発明の光吸収フィルタは、ガスバリア層を、本発明の光吸収フィルタを用いた場合に空気と接することとなる面に少なくとも有することで、本発明の光吸収フィルタ中の染料の吸収強度の低下を抑制することができる。本発明の光吸収フィルタの空気と接する界面にガスバリア層を設ける限り、ガスバリア層は、本発明の光吸収フィルタの片面にのみ設けられていてもよく、両面に設けられていてもよい。

　なかでも、ガスバリア層が結晶性樹脂を含有する構成である場合、上記ガスバリア層は、結晶性樹脂を含有し、層の厚みが０．１μｍ～１０μｍであって、層の酸素透過度が６０ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが好ましい。
　上記ガスバリア層において、上記「結晶性樹脂」は、温度を上げた際に結晶から液体に相転移する融点が存在する樹脂であって、上記ガスバリア層に、酸素ガスに係るガスバリア性を付与できるものである。
　上記の「結晶性樹脂を含有し、層の厚みが０．１μｍ～１０μｍであって、層の酸素透過度が６０ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であるガスバリア層」は、国際公開第２０２２／１４９５１０号の［０１８０］～［０１８４］に記載のガスバリア層と同じであり、国際公開第２０２２／１４９５１０号の［０１８０］～［０１８５］に記載のガスバリア層及びガスバリア層の製造方法の記載をそのまま適用することができる。

＜光学機能フィルム＞
　本発明の光吸収フィルタは、本発明の効果を損なわない範囲で、上記ガスバリア層、又は、任意の光学機能フィルムを適宜有していてもよい。
　上記任意の光学機能フィルムについては、光学特性及び材料のいずれについても特に制限はないが、セルロースエステル樹脂、アクリル樹脂、環状オレフィン樹脂及びポリエチレンテレフタレート樹脂の少なくともいずれかを含む（あるいは主成分とする）フィルムを好ましく用いることができる。なお、光学的に等方性のフィルムを用いても、光学的に異方性の位相差フィルムを用いてもよい。
　上記任意の光学機能フィルムについて、セルロースエステル樹脂を含むものとしては、例えばフジタックＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製）などを利用することができる。
　上記任意の光学機能フィルムについて、アクリル樹脂を含むものとしては、特許第４５７００４２号公報に記載のスチレン系樹脂を含有する（メタ）アクリル樹脂を含む光学フィルム、特許第５０４１５３２号公報に記載のグルタルイミド環構造を主鎖に有する（メタ）アクリル樹脂を含む光学フィルム、特開２００９－１２２６６４号公報に記載のラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂を含む光学フィルム、特開２００９－１３９７５４号公報に記載のグルタル酸無水物単位を有する（メタ）アクリル系樹脂を含む光学機能フィルムを利用することができる。
　また、上記任意の光学機能フィルムについて、環状オレフィン樹脂を含むものとしては、特開２００９－２３７３７６号公報の段落［００２９］以降に記載の環状オレフィン系樹脂フィルム、特許第４８８１８２７号公報、特開２００８－０６３５３６号公報に記載のＲｔｈを低減する添加剤を含有する環状オレフィン樹脂フィルムを利用することができる。

［光学フィルタ］
　本発明の光学フィルタは、本発明の光吸収フィルタを紫外線照射によりマスク露光して得られる。
　本発明の光学フィルタは、光吸収効果を有する光吸収性部位と、光吸収性を消失させた部位（光吸収性消失部位）とを、マスク露光のパターン（以下、「マスクパターン」とも称す。）に応じて有する。
　すなわち、本発明の光吸収フィルタを紫外線照射によりマスク露光することによって、本発明の光吸収フィルタのうちマスクしていた箇所は露光されずに、光吸収効果を有する光吸収性部位として存在し、マスクしていなかった箇所は露光され、光吸収性消失部位となる。
　上記光吸収性部位は、所望の吸光度を示すことができる。
　また、上記光吸収性消失部位は、本発明の光吸収フィルタが優れた消色率を示し、しかも、染料の分解に伴う二次的な吸収がほとんど生じないため、無色に近い光学特性を示すことができる。

＜＜積層体の製造方法＞＞
　本発明の光吸収フィルタに上述のガスバリア層を設ける場合、例えば、上述の製造方法により作製した本発明の光吸収フィルタ上に、直接、上述のガスバリア層を作製する方法が挙げられる。この場合、本発明の光吸収フィルタのうち、ガスバリア層を設ける面には、コロナ処理を施しておくことも好ましい。
　また、上記任意の光学機能フィルムを設ける場合には、粘着剤層を介して貼り合わせることも好ましい。例えば、本発明の光吸収フィルタ上にガスバリア層を設けた後、さらに粘着剤層を介して光学機能フィルムを貼り合わせることも好ましい。

＜光学フィルタの製造方法＞
　本発明の光学フィルタは、本発明の光吸収フィルタに対して、紫外線を照射してマスク露光することにより得ることができる。
　マスクパターンは、光吸収性部位と光吸収性消失部位とから構成される所望のパターンを有する本発明の光学フィルタが得られるよう、適宜調整することができる。
　紫外線照射の条件は、光吸収性消失部位を有する本発明の光学フィルタが得られるよう、適宜調整して行うことができる。例えば、圧力条件については大気圧（１０１．３３ｋＰａ）下で行うことができ、温度条件については、室温（１０～３０℃）等で加熱をすることなく、穏和な温度条件で行うことができ、ランプ出力は８０～３２０Ｗ／ｃｍとすることができ、使用するランプとしては空冷メタルハライドランプ、超高圧水銀ランプ等の水銀ランプ、等を用いることができる。また、照射量は２００～１０００ｍＪ／ｃｍ^２とすることができる。

　本発明の光学フィルタは、本発明の光吸収フィルタにおいて記載する、光学機能フィルムを有していてもよい。
　また、本発明の光学フィルタは、紫外線吸収剤を含有する層を有していてもよい。紫外線吸収剤としては、特に制限することなく常用の化合物を使用でき、例えば、後述の紫外線吸収層における紫外線吸収剤を挙げることができる。紫外線吸収剤を含有する層を構成する樹脂についても、特に制限することなく、例えば、後述の紫外線吸収層における樹脂を挙げることができる。
　上記紫外線吸収剤を含有する層中の紫外線吸収剤の含有量は目的に応じて適宜に調整される。

［ＯＬＥＤ表示装置］
　本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置（有機ＥＬ（ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置またはＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）表示装置と称され、本発明においては、ＯＬＥＤ表示装置とも略す。）は、本発明の光学フィルタを含む。
　本発明のＯＬＥＤ表示装置としては、本発明の光学フィルタを含む限り、その他の構成としては、通常用いられているＯＬＥＤ表示装置の構成を特に制限なく用いることができる。本発明のＯＬＥＤ表示装置の構成例としては、特に制限されないが、例えば、外光に対して反対側から順に、ガラス、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を含む層、ＯＬＥＤ表示素子、バリアフィルム、カラーフィルター、ガラス、粘着剤層、本発明の光学フィルタ及び表面フィルムを含む表示装置が挙げられる。
　上記ＯＬＥＤ表示素子は、アノード電極、発光層及びカソード電極の順に積層した構成を有する。アノード電極及びカソード電極の間には、発光層の他に、ホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層及び電子注入層等を含んでいる。この他、例えば、特開２０１４－１３２５２２号公報の記載も参照することができる。
　また、上記カラーフィルターとしては、通常のカラーフィルターに加え、量子ドットを積層したカラーフィルターを使用することもできる。
　上記ガラスに代えて、樹脂フィルムを採用することもできる。

＜粘着剤層＞
　本発明のＯＬＥＤ表示装置において、本発明の光学フィルタの外光側の面は粘着剤層を介して反射防止層等を有する光機能性フィルムと貼り合わされていてもよい。また、本発明の光学フィルタの、外光とは反対側に位置する面は、粘着剤層を介してガラス（基材）と貼り合わされていることが好ましい。
　上記粘着剤層としては、国際公開第２０２１／１３２６７４号の［０２３９］～［０２９０］に記載のＯＬＥＤ表示装置における粘着剤層及び形成方法に係る記載をそのまま適用することができる。
　なお、国際公開第２０２１／１３２６７４号に記載の粘着剤組成物は、光吸収フィルタの耐光性の点から前述の紫外線吸収剤を含有することが好ましい。

＜基材＞
　本発明のＯＬＥＤ表示装置において、本発明の光学フィルタは、外光側に位置する面において、粘着剤層を介して光機能性フィルムと貼り合わされていてもよい。また、本発明の光学フィルタは、外光とは反対側に位置する面において、粘着剤層を介してガラス（基材）と貼り合わされていることが好ましい。

　上記粘着剤層を形成する方法は特に限定されず、例えば、本発明の光吸収フィルタにバーコーターなどの通常の手段で粘着剤組成物を塗布し、乾燥及び硬化させる方法；粘着剤組成物をまず、剥離性基材の表面に塗布、乾燥した後、剥離性基材を用いて粘着剤層を本発明の光吸収フィルタに転写し、熟成、硬化させる方法などが用いられる。
　剥離性基材としては、特に制限されず、任意の剥離性基材を使用することができ、例えば上述の本発明の光吸収フィルタの製造方法における支持体フィルムが挙げられる。
　その他、塗布、乾燥、熟成及び硬化の条件についても、常法に基づき、適宜調整することができる。

［無機エレクトロルミネッセンス表示装置］
　本発明の無機エレクトロルミネッセンス表示装置（以下、「無機ＥＬ表示装置」とも称す。）は、本発明の光学フィルタを含む。
　本発明の無機ＥＬ表示装置としては、本発明の光学フィルタを含む限り、その他の構成としては、通常用いられている無機ＥＬ表示装置の構成を特に制限なく用いることができ、例えば、特開２００５－３３８６４０号公報に記載の無機ＥＬ素子及び無機エレクトロルミネッセンス表示装置の記載を好ましく適用することができる。

［液晶表示装置］
　本発明の液晶表示装置は、本発明の光学フィルタを含む。
　本発明の光学フィルタは、後述のとおり偏光板保護フィルム及び粘着剤層の少なくともいずれかとして使用されてもよく、液晶表示装置に用いるバックライトユニットに含まれていてもよい。

　液晶表示装置は、本発明の光学フィルタと、偏光子及び偏光板保護フィルムを含む偏光板と、粘着剤層と、液晶セルとを含むことが好ましく、偏光板は粘着剤層を介して液晶セルに張り合わされていることが好ましい。この液晶表示装置において、本発明の光学フィルタは、偏光板保護フィルム又は粘着剤層を兼ねていてもよい。すなわち、液晶表示装置は、偏光子及び本発明の光学フィルタ（偏光板保護フィルム）を含む偏光板と、粘着剤層と、液晶セルとを含む場合と、偏光子及び偏光板保護フィルムを含む偏光板と、本発明の光学フィルタ（粘着剤層）と、液晶セルとを含む場合とに分けられる。

　図１は、本発明の液晶表示装置の例を示す概略図である。図１において、液晶表示装置１０は、液晶層５とこの上下に配置された液晶セル上電極基板３及び液晶セル下電極基板６とを有する液晶セル、液晶セルの両側に配置された上側偏光板１及び下側偏光板８からなる。上電極基板３又は下電極基板６にカラーフィルター層が積層されていてもよい。上記液晶表示装置１０の背面にはバックライトを配置する。バックライトの光源としては、前述のバックライトユニットにおいて説明したものを使用することができる。

　上側偏光板１及び下側偏光板８は、それぞれ２枚の偏光板保護フィルムで偏光子を挟むように積層した構成を有しており、液晶表示装置１０は、少なくとも一方の偏光板が本発明の光学フィルタを含む偏光板であることが好ましい。
　また、液晶表示装置１０において、上記液晶セルと偏光板（上側偏光板１及び／又は下側偏光板８）とが粘着剤層（図示せず）を介して張り合わされていてもよい。この場合、本発明の光学フィルタは、前述の粘着剤層を兼ねていてもよい。
　液晶表示装置１０には、画像直視型、画像投影型又は光変調型が含まれる。ＴＦＴ（Thin Film Transistor）もしくはＭＩＭ（Metal Insulator Metal）のような３端子又は２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置が本発明は有効である。もちろん時分割駆動と呼ばれるＳＴＮ（Super Twisted Nematic）モードに代表されるパッシブマトリックス液晶表示装置でも有効である。
　本発明の光学フィルタがバックライトユニットに含まれている場合には、液晶表示装置の偏光板は、通常の偏光板（本発明の光学フィルタを含まない偏光板）でもよく、本発明の光学フィルタを含む偏光板でもよい。また、粘着剤層は、通常の粘着剤層（本発明の光学フィルタでないもの）でもよく、本発明の光学フィルタによる粘着剤層でもよい。

　特開２０１０－１０２２９６号公報の段落０１２８～０１３６に記載のＩＰＳ（In Plane Switching）モードの液晶表示装置は、本発明の光学フィルタを用いる以外は、本発明の液晶表示装置として好ましい。

＜偏光板＞
　本発明に用いる偏光板は、偏光子、及び少なくとも１枚の偏光板保護フィルムを含む。
　本発明に用いる偏光板は、偏光子と、偏光子の両面に偏光板保護フィルムを有するものであることが好ましく、少なくとも一方の面に、本発明の光学フィルタを偏光板保護フィルムとして含むことが好ましい。偏光子の、本発明の光学フィルタ（本発明の偏光板保護フィルム）を有する面とは反対の面には、通常の偏光板保護フィルムを有してもよい。
　偏光板保護フィルムの膜厚は、５μｍ以上１２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以上１００μｍ以下がより好ましい。薄いフィルムの方が液晶表示装置に組み込んだ際に高温高湿経時後の表示ムラが発生しにくく好ましい。一方、薄すぎるとフィルム製造及び偏光板作製時に安定に搬送させることが難しくなる。本発明の光学フィルタが偏光板保護フィルムを兼ねる場合には、光学フィルタの厚さが上記範囲を満たすことが好ましい。
　本発明に用いられる偏光板としては、国際公開第２０２１／１３２６７４号の［０２９９］～［０３０９］に記載の偏光板の性能、形状、構成、偏光子、偏光子と偏光板保護フィルムの積層方法、偏光板の機能化等に係る記載をそのまま適用することができる。

＜粘着剤層＞
　本発明の液晶表示装置において、偏光板は粘着剤層を介して液晶セルと貼り合わされていることが好ましい。本発明の光学フィルタは上記粘着剤層を兼ねていてもよい。本発明の光学フィルタが粘着剤層を兼ねていない場合には、粘着剤層は通常の粘着剤層を用いることができる。
　粘着剤層としては、偏光板と液晶セルとを貼り合せることができる限り特に限定されないが、例えば、アクリル系、ウレタン系、ポリイソブチレン等が好ましい。
　本発明の光学フィルタが粘着剤層を兼ねる場合、この粘着剤層は、上記染料と上記バインダー樹脂とを含み、さらに架橋剤、カップリグ剤等を含有して粘着性を付与されている。
　光学フィルタが粘着剤層を兼ねる場合、粘着剤層は上記バインダー樹脂を９０～１００質量％含むことが好ましく、９５～１００質量％含むことが好ましい。染料の含有量は、上述したとおりである。
　粘着剤層の厚さは、特に限定されないが、例えば、１～５０μｍが好ましく、３～３０μｍがより好ましい。

＜液晶セル＞
　液晶セルは、特に限定されず、通常のものを使用することができる。

＜紫外線吸収層＞
　本発明の光学フィルタを含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置又は液晶表示装置は、本発明の光学フィルタに対して視認者側に、上記紫外線照射によりラジカルを生成する化合物の光吸収（紫外線吸収）を阻害する層（以下、「紫外線吸収層」とも称す。）を有することが好ましい。上記紫外線吸収層を設けることにより、外光による本発明の光学フィルタの褪色を防止することができる。
　以下に上記紫外線吸収層について説明する。

（紫外線吸収剤）
　上記紫外線吸収層は、通常、樹脂および紫外線吸収剤を含む。
　本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばヒンダードフェノール系化合物、ヒドロキシベンゾフェノン系化合物等のベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。
　ヒンダードフェノール系化合物の例としては、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ペンタエリスリチル－テトラキス〔３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、Ｎ，Ｎ’－ヘキサメチレンビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ヒドロシンナミド）、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－イソシアヌレイトなどが挙げられる。
　ベンゾトリアゾール系化合物の例としては、２－（２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２－メチレンビス（４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール）、２，４－ビス（ｎ－オクチルチオ）－６－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルアニリノ）－１，３，５－トリアジン、トリエチレングリコール－ビス〔３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、Ｎ，Ｎ’－ヘキサメチレンビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ヒドロシンナミド）、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－５－クロルベンゾトリアゾール、（２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－アミルフェニル）－５－クロルベンゾトリアゾール、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ペンタエリスリチル－テトラキス〔３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕などが挙げられる。
　これらの紫外線防止剤の添加量は、樹脂１００質量部に対して０．１質量部～３０．０質量部が好ましい。

　また、下記式（１）で表される化合物（１）は、本発明の光吸収フィルタの耐光性をより向上させる観点から、紫外線吸収剤として特に好ましく用いられる。

＜＜式（１）で表される化合物（化合物（１））＞＞
　上記紫外線吸収層を形成するための樹脂組成物は、式（１）で表される化合物（以下、化合物（１）ともいう）を含むことが好ましい。

　式（１）中、Ｒ^１およびＲ^２は、各々独立にアルキル基、アリール基または複素環基を表し、
　Ｒ^３およびＲ^６は、各々独立にアルコキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基またはアルコキシカルボニルオキシ基を表し、
　Ｒ^４は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基またはアリールチオ基を表し、
　Ｒ^５は、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基またはアリールチオ基を表す。
　Ｒ^１とＲ^２は互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ^３とＲ^４は互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ^４とＲ^５は互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ^５とＲ^６は互いに結合して環を形成していてもよい。これらの形成される環は、芳香族性であってもよく芳香族性を示さなくてもよい。
　ただし、Ｒ^３およびＲ^６がそれぞれ独立にアシルオキシ基またはカルバモイルオキシ基である場合、Ｒ^４およびＲ^５の少なくとも一方は、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基またはアリールチオ基である。

　式（１）において、Ｒ^１およびＲ^２は、各々独立にアルキル基、アリール基または複素環基を表し、アルキル基またはアリール基であることが好ましい。耐光性の観点からは、Ｒ^１およびＲ^２は、各々独立にアルキル基であることが好ましい。また、波長４００ｎｍ近傍の紫外線の吸収性の観点からはＲ^１およびＲ^２は、各々独立にアリール基であることが好ましい。

　Ｒ^１およびＲ^２が表すアルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましく、１～１０が特に好ましく、１～８が最も好ましい。アルキル基は直鎖、分岐および環状のいずれでもよく、直鎖または分岐であることが好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられ、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基が好ましく挙げられる。

　Ｒ^１およびＲ^２が表すアリール基の炭素数は６～４０が好ましく、６～３０がより好ましく、６～２０が更に好ましく、６～１５が特に好ましく、６～１２が最も好ましい。アリール基としてはフェニル基又はナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。アリール基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられ、例えば、アルコキシ基が好ましく挙げられる。

　Ｒ^１およびＲ^２が表す複素環基における複素環は５員または６員の飽和または不飽和複素環を含むことが好ましい。複素環に脂肪族環、芳香族環または他の複素環が縮合していてもよい。複素環の環を構成するヘテロ原子としては、Ｂ、Ｎ、Ｏ、Ｓ、ＳｅおよびＴｅが挙げられ、Ｎ、ＯおよびＳのうちの少なくとも１種であることが好ましい。複素環は環を構成する炭素原子が遊離の原子価（一価）を有する（複素環基は炭素原子において結合する）ことが好ましい。好ましい複素環基の炭素原子数は１～４０であり、より好ましくは１～３０であり、更に好ましくは１～２０である。複素環基における飽和複素環の例として、ピロリジン環、モルホリン環、２－ボラ－１，３－ジオキソラン環および１，３－チアゾリジン環が挙げられる。複素環基における不飽和複素環の例として、イミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾセレナゾール環、ピリジン環、ピリミジン環およびキノリン環が挙げられる。複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　Ｒ^１とＲ^２は互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ^１とＲ^２が結合して形成される環は５員または６員の環が好ましく、芳香族性を示さないことが好ましい。Ｒ^１とＲ^２が結合して形成される環は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　式（１）において、Ｒ^３およびＲ^６は、各々独立にアルコキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基またはアルコキシカルボニルオキシ基を表し、アルコキシ基またはアシルオキシ基であることが好ましく、着色を抑えつつ、波長４００ｎｍ近傍の紫外線の吸収性をより高めやすいという理由からＲ^３およびＲ^６の少なくとも一方はアルコキシ基であることが更に好ましい。本発明者らの検討により、ベンゾジチオールのベンゼン環上の置換基が、高い電子供与能（電子供与性）を示す基であるほど、化合物の極大吸収波長をより長波長側にシフトさせやすいことを見出した。アルコキシ基はより電子供与能が高い置換基であるため、化合物の極大吸収波長をより長波長側にシフトさせることができると推測される。Ｒ^３およびＲ^６の両方がアルコキシ基であることが特に好ましい。

　Ｒ^３およびＲ^６が表すアルコキシ基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましく、１～１０が特に好ましく、１～８が最も好ましい。アルコキシ基は直鎖および分岐のいずれでもよい。アルコキシ基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　Ｒ^３およびＲ^６が表すアシルオキシ基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１５が更に好ましく、２～１０が特に好ましい。アシルオキシ基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　Ｒ^３およびＲ^６が表すカルバモイルオキシ基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１５が更に好ましく、２～１０が特に好ましく、２～８が最も好ましい。カルバモイルオキシ基は直鎖および分岐のいずれでもよい。カルバモイルオキシ基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　Ｒ^３およびＲ^６が表すアルコキシカルボニルオキシ基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１５が更に好ましく、２～１０が特に好ましく、２～８が最も好ましい。アルコキシカルボニルオキシ基は直鎖および分岐のいずれでもよい。アルコキシカルボニルオキシ基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　式（１）において、Ｒ^４は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基またはアリールチオ基を表し、Ｒ^５は、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基またはアリールチオ基を表す。

　Ｒ^４およびＲ^５が表すアルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましく、１～１０が特に好ましく、１～８が最も好ましい。アルキル基は直鎖、分岐および環状のいずれでもよく、直鎖または分岐であることが好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられ、例えば、アルケニル基が好ましく挙げられる。

　Ｒ^４およびＲ^５が表すアリール基の炭素数は６～４０が好ましく、６～３０がより好ましく、６～２０が更に好ましく、６～１５が特に好ましく、６～１２が最も好ましい。アリール基としてはフェニル基またはナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。アリール基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　Ｒ^４およびＲ^５が表すアルコキシ基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましく、１～１０が特に好ましく、１～８が最も好ましい。アルコキシ基は直鎖および分岐のいずれでもよい。アルコキシ基は、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　Ｒ^４およびＲ^５が表すアリールオキシ基の炭素数は６～４０が好ましく、６～３０がより好ましく、６～２０が更に好ましく、６～１５が特に好ましく、６～１２が最も好ましい。アリールオキシ基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　Ｒ^４およびＲ^５が表すアシルオキシ基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１５が更に好ましく、２～１０が特に好ましい。アシルオキシ基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　Ｒ^４およびＲ^５が表すアルキルアミノ基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましく、１～１０が特に好ましく、１～８が最も好ましい。アルキルアミノ基におけるアルキル部分は直鎖および分岐のいずれでもよい。アルキルアミノ基は、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　Ｒ^４およびＲ^５が表すアニリノ基の炭素数は６～４０が好ましく、６～３０がより好ましく、６～２０が更に好ましく、６～１５が特に好ましく、６～１２が最も好ましい。アニリノ基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられ、例えば、アルキル基が好ましく挙げられる。

　Ｒ^４およびＲ^５が表すアシルアミノ基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１５が更に好ましく、２～１０が特に好ましい。アシルアミノ基は、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　Ｒ^４およびＲ^５が表すアルキルスルホニルアミノ基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１５が更に好ましく、２～１０が特に好ましい。アルキルスルホニルアミノ基は、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　Ｒ^４およびＲ^５が表すアリールスルホニルアミノ基の炭素数は６～４０が好ましく、６～３０がより好ましく、６～２０が更に好ましく、６～１５が特に好ましく、６～１２が最も好ましい。アリールスルホニルアミノ基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　Ｒ^４およびＲ^５が表すアルキルチオ基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましく、１～１０が特に好ましく、１～８が最も好ましい。アルキルチオ基は直鎖および分岐のいずれでもよい。アルキルチオ基は、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　Ｒ^４およびＲ^５が表すアリールチオ基の炭素数は６～４０が好ましく、６～３０がより好ましく、６～２０が更に好ましく、６～１５が特に好ましく、６～１２が最も好ましい。アリールチオ基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　式（１）において、Ｒ^３とＲ^４は互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ^４とＲ^５は互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ^５とＲ^６は互いに結合して環を形成していてもよい。これらの基同士が結合して形成される環は５員または６員の環が好ましい。これらの基同士が結合して形成される環は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　着色を抑えつつ、波長４００ｎｍ近傍の紫外線の吸収性をより高めやすいという理由から、Ｒ^４はアルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリールオキシ基で、Ｒ^５は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリールオキシ基であることが好ましく、Ｒ^４はアルキル基またはアルコキシ基で、Ｒ^５は水素原子、アルキル基またはアルコキシ基であることがより好ましい。

　また、合成の容易さという観点からはＲ^４はアルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリールオキシ基で、Ｒ^５は水素原子であることが好ましく、Ｒ^４はアルキル基またはアルコキシ基で、Ｒ^５は水素原子であることがより好ましい。

　また、吸収スペクトルの長波長化という観点からはＲ^４およびＲ^５はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリールオキシ基であることが好ましく、アルキル基またはアルコキシ基であることがより好ましく、Ｒ^４およびＲ^５の両方がアルキル基であるか、あるいは、Ｒ^４およびＲ^５の両方がアルコキシ基であることが更に好ましい。

　また、Ｒ^４とＲ^５は互いに結合して環を形成していることも好ましい。

　上記式（１）で表される化合物（化合物（１））は、下記式（１ａ）で表される化合物であることが好ましい。

　式（１ａ）中、Ｒ^１ａおよびＲ^２ａは各々独立にアルキル基を表し、
　Ｒ^３ａおよびＲ^６ａは、各々独立にアルコキシ基またはアシルオキシ基を表し、
　Ｒ^４ａはアルキル基またはアルコキシ基を表し、
　Ｒ^５ａは、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基を表す。
　Ｒ^１ａとＲ^２ａは互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ^３ａとＲ^４ａは互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ^４ａとＲ^５ａは互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ^５ａとＲ^６ａは互いに結合して環を形成していてもよい。
　ただし、Ｒ^３ａおよびＲ^６ａがアシルオキシ基である場合、Ｒ^４ａおよびＲ^５ａの少なくとも一方はアルコキシ基である。

　Ｒ^１ａおよびＲ^２ａが表すアルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましく、１～１０が特に好ましく、１～８が最も好ましい。アルキル基は直鎖、分岐および環状のいずれでもよく、直鎖または分岐であることが好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられ、アリール基が好ましく挙げられる。

　Ｒ^１ａとＲ^２ａは互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ^１ａとＲ^２ａが結合して形成される環は５員または６員の環が好ましい。Ｒ^１ａとＲ^２ａが結合して形成される環は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　式（１ａ）において、Ｒ^３ａおよびＲ^６ａは、各々独立にアルコキシ基またはアシルオキシ基を表し、着色を抑えつつ、波長４００ｎｍ近傍の紫外線の吸収性をより高めやすいという理由からＲ^３ａおよびＲ^６ａの少なくとも一方はアルコキシ基であることが好ましく、Ｒ^３ａおよびＲ^６ａの両方がアルコキシ基であることがより好ましい。

　Ｒ^３ａおよびＲ^６ａが表すアルコキシ基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましく、１～１０が特に好ましく、１～８が最も好ましい。アルコキシ基は直鎖および分岐のいずれでもよい。アルコキシ基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　Ｒ^３ａおよびＲ^６ａが表すアシルオキシ基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１５が更に好ましく、２～１０が特に好ましい。アシルオキシ基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　式（１ａ）において、Ｒ^４ａはアルキル基またはアルコキシ基を表し、Ｒ^５ａは、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基を表す。

　Ｒ^４ａおよびＲ^５ａが表すアルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましく、１～１０が特に好ましく、１～８が最も好ましい。アルキル基は直鎖、分岐および環状のいずれでもよく、直鎖または分岐であることが好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　Ｒ^４ａおよびＲ^５ａが表すアルコキシ基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましく、１～１０が特に好ましく、１～８が最も好ましい。アルコキシ基は直鎖および分岐のいずれでもよい。アルコキシ基は、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　式（１ａ）において、Ｒ^３ａとＲ^４ａは互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ^４ａとＲ^５ａは互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ^５ａとＲ^６ａは互いに結合して環を形成していてもよい。これらの基同士が結合して形成される環は５員または６員の環が好ましい。これらの基同士が結合して形成される環は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

（置換基Ｔ）
　置換基Ｔとしては、以下の基が挙げられる。
　ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）；
　アルキル基［直鎖、分岐又は環状のアルキル基。具体的には、直鎖または分岐のアルキル基（好ましくは炭素数１～３０の直鎖または分岐のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、エイコシル基、２－クロロエチル基、２－シアノエチル基、２－エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３～３０のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４－ｎ－ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５～３０のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５～３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン－２－イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン－３－イル基）、更に環構造が多いトリシクロアルカン構造などから水素原子を一個取り去った一価の基も包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］；
　アルケニル基［直鎖、分岐又は環状のアルケニル基。具体的には、直鎖または分岐のアルケニル基（好ましくは炭素数２～３０の直鎖または分岐のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３～３０のシクロアルケニル基。つまり、炭素数３～３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２－シクロペンテン－１－イル基、２－シクロヘキセン－１－イル基）、ビシクロアルケニル基（好ましくは、炭素数５～３０のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト－２－エン－１－イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト－２－エン－４－イル基）を包含するものである。］；
　アルキニル基（好ましくは、炭素数２～３０の直鎖または分岐のアルキニル基。例えば、エチニル基、プロパルギル基）；

　アリール基（好ましくは炭素数６～３０のアリール基。例えばフェニル基、ｐ－トリル基、ナフチル基、ｍ－クロロフェニル基、ｏ－ヘキサデカノイルアミノフェニル基）；
　複素環基（好ましくは５または６員の芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３～３０の５もしくは６員の芳香族の複素環基である。例えば、２－フリル基、２－チエニル基、２－ピリミジニル基、２－ベンゾチアゾリル基）；
　シアノ基；
　ヒドロキシ基；
　ニトロ基；
　カルボキシル基；
　アルコキシ基（好ましくは、炭素数１～３０の直鎖または分岐のアルコキシ基。例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ－ブトキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、２－メトキシエトキシ基）；
　アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６～３０のアリールオキシ基。例えば、フェノキシ基、２－メチルフェノキシ基、４－ｔ－ブチルフェノキシ基、３－ニトロフェノキシ基、２－テトラデカノイルアミノフェノキシ基）；
　ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２～３０のヘテロ環オキシ基。例えば、１－フェニルテトラゾール－５－オキシ基、２－テトラヒドロピラニルオキシ基）；
　アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２～３０のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６～３０のアリールカルボニルオキシ基。例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ－メトキシフェニルカルボニルオキシ基）；

　カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１～３０のカルバモイルオキシ基。例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ－ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ－ジ－ｎ－オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ－ｎ－オクチルカルバモイルオキシ基）；
　アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２～３０のアルコキシカルボニルオキシ基。例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ－ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ－オクチルカルボニルオキシ基）；
　アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７～３０のアリールオキシカルボニルオキシ基。例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ－メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ－ｎ－ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）；
　アミノ基（好ましくは、無置換のアミノ基（－ＮＨ_２）、炭素数１～３０のアルキルアミノ基、炭素数６～３０のアニリノ基。例えば、無置換のアミノ基（－ＮＨ_２）、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ－メチル－アニリノ基、ジフェニルアミノ基）；
　アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数２～３０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６～３０のアリールカルボニルアミノ基。例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５－トリ－ｎ－オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基）；

　アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１～３０のアミノカルボニルアミノ基。例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）；
　アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニルアミノ基。例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ－ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ－オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ－メチルーメトキシカルボニルアミノ基）；
　アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７～３０のアリールオキシカルボニルアミノ基。例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ－クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ－ｎ－オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）；
　スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０～３０のスルファモイルアミノ基。例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ－ｎ－オクチルアミノスルホニルアミノ基）；
　アルキル又はアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６～３０のアリールスルホニルアミノ基。例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５－トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ－メチルフェニルスルホニルアミノ基）；
　メルカプト基；
　アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１～３０のアルキルチオ基。例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－ヘキサデシルチオ基）；
　アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールチオ基。例えば、フェニルチオ基、ｐ－クロロフェニルチオ基、ｍ－メトキシフェニルチオ基）；
　ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２～３０のヘテロ環チオ基。例えば、２－ベンゾチアゾリルチオ基、１－フェニルテトラゾール－５－イルチオ基）；

　スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイル基。例えば、Ｎ－エチルスルファモイル基、Ｎ－（３－ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルスルファモイル基、Ｎ－アセチルスルファモイル基、Ｎ－ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ－（Ｎ’－フェニルカルバモイル）スルファモイル基）；
　スルホ基；
　アルキル又はアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１～３０のアルキルスルフィニル基、６～３０のアリールスルフィニル基。例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ－メチルフェニルスルフィニル基）；
　アルキル又はアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１～３０のアルキルスルホニル基、６～３０のアリールスルホニル基。例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ－メチルフェニルスルホニル基）；

　アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２～３０のアルキルカルボニル基、炭素数７～３０のアリールカルボニル基、炭素数４～３０の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基。例えば、アセチル基、ピバロイル基、２－クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ－ｎ－オクチルオキシフェニルカルボニル基、２－ピリジルカルボニル基、２－フリルカルボニル基）；
　アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７～３０のアリールオキシカルボニル基。例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ－クロロフェノキシカルボニル基、ｍ－ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ－ｔ－ブチルフェノキシカルボニル基）；
　アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２～３０のアルコキシカルボニル基。例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ－ブトキシカルボニル基、ｎ－オクタデシルオキシカルボニル基）；
　カルバモイル基（好ましくは、炭素数１～３０のカルバモイル基。例えば、カルバモイル基、Ｎ－メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジ－ｎ－オクチルカルバモイル基、Ｎ－（メチルスルホニル）カルバモイル基）；
　アリール又はヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールアゾ基、炭素数３～３０のヘテロ環アゾ基。例えば、フェニルアゾ基、ｐ－クロロフェニルアゾ基、５－エチルチオ－１，３，４－チアジアゾール－２－イルアゾ基）；
　イミド基（好ましくは、Ｎ－スクシンイミド基、Ｎ－フタルイミド基）；
　ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２～３０のホスフィノ基。例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）
　ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２～３０のホスフィニル基。例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）；
　ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２～３０のホスフィニルオキシ基。例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）；
　ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２～３０のホスフィニルアミノ基。例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）；

　上記で挙げた基のうち、水素原子を有する基については、１個以上の水素原子が上記の置換基Ｔで置換されていてもよい。そのような置換基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。具体例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ－メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基などが挙げられる。

　化合物（１）の具体例としては、以下の構造の化合物が挙げられる。ただし、これらに限定されるものではない。以下に示す構造式中、Ｍｅはメチル基であり、Ｅｔはエチル基であり、Ｂｕはブチル基であり、ｔＢｕはｔｅｒｔ－ブチル基であり、Ｐｒはプロピル基であり、Ｐｈはフェニル基である。

　化合物（１）は、紫外線吸収剤として好ましく用いられる。化合物（１）の極大吸収波長は、３７０～４２０ｎｍの波長範囲に存在することが好ましく、３８０～４００ｎｍの波長範囲に存在することがより好ましい。

　下記式から算出した化合物（１）の波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数ε_４０５は、５００以上であることが好ましく、１０００以上であることがより好ましく、２０００以上であることが更に好ましく、３０００以上であることが特に好ましい。
　ε_４０５＝ε_ｍａｘ×（Ａ_４０５／Ａ_ｍａｘ）
　ε_４０５は化合物（１）の波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数であり、ε_ｍａｘは化合物（１）の極大吸収波長におけるモル吸光係数であり、Ａ_４０５は化合物（１）の波長４０５ｎｍにおける吸光度であり、Ａ_ｍａｘは化合物（１）の極大吸収波長における吸光度である。なお、上記モル吸光係数の単位はいずれも、Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）である。Ａ_４０５及びＡ_ｍａｘは酢酸エチル中で測定した化合物（１）の分光吸収スペクトルにおける吸光度とする。

　酢酸エチル中で測定した化合物（１）の分光吸収スペクトルにおいて、波長４０５ｎｍにおける吸光度Ａ_４０５と波長４３０ｎｍにおける吸光度Ａ_４３０との比（Ａ_４３０／Ａ_４０５）は、０．１３未満であることが好ましく、０．１０以下であることがより好ましい。上記比の下限は、特に限定されないが、０以上とすることができる。このような吸光度比を有するものは、波長４０５ｎｍ近傍の吸収が高いにもかかわらず、紫外領域近傍の可視領域の光の透過性に優れるので、より長波長側の紫外線の吸収性に優れつつ、可視透明性に優れている。なお、化合物における紫外線の吸収領域をより長波長側にシフトさせようとした場合、可視領域の光の透過性（特に、紫外領域近傍の可視領域の光の透過性）も低下する傾向にあるが、上記化合物（１）によれば、可視領域の光の透過性を高い水準で維持しつつ、より長波長側の紫外線の吸収性を向上させるという優れた効果を奏することができる。

　上記化合物（１）は、特開２０１６－０８１０３５号公報、特許第５３７６８８５号公報などに記載の合成法を参照して合成することができる。

　紫外線吸収層を形成するための樹脂組成物の全固形分中における化合物（１）の含有量は、０．０１～５０質量％であることが好ましい。下限値は、０．０５質量％以上であることがより好ましく、０．１０質量％以上であることがさらに好ましい。上限値は、４０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることがさらに好ましく、２０質量％以下であることが特に好ましい。
　化合物（１）の含有量は、樹脂の１００質量部に対して、０．０１～５０質量部であることが好ましい。下限値は、０．０５質量部以上であることがより好ましく、０．１０質量部以上であることがさらに好ましい。上限値は、４０質量部以下であることがより好ましく、３０質量部以下であることがさらに好ましく、２０質量部以下であることが特に好ましい。
　上記樹脂組成物は、化合物（１）を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。化合物（１）を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲であることが好ましい。

（樹脂）
　上記紫外線吸収層に用いられる樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はない。上記樹脂としては、例えば、セルロースアシレート樹脂、アクリル樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ樹脂を挙げることができる。

（紫外線吸収層の設置位置）
　上記紫外線吸収層の配置は、本発明の光学フィルタに対して視認者側であれば特に限定されず、いずれの位置でも設置でき、例えば、偏光板の保護膜、反射防止フィルム等の部材に紫外線吸収剤を添加し、紫外線吸収層の機能を持たせることも可能である。また、前述の粘着剤層に紫外線吸収剤を添加することもできる。

　以下に、実施例に基づき本発明についてさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例に限定されるものではない。
　なお、以下の実施例において組成を表すために「部」又は「％」を使用する場合、特に断らない限り質量基準である。室温とは「２５℃」を意味する。
　なお、光吸収フィルタ形成液の調製工程から、光吸収フィルタ形成液を用いた基材つき光吸収フィルタの作製工程及び紫外線照射試験に用いるまでの工程は、いずれも、紫外線が照射されないよう、黄色灯下で行った。

［光吸収フィルタの作製］
　光吸収フィルタの作製に用いた材料を次に示す。
＜マトリックスポリマー（樹脂）＞
（樹脂１）
　ベンジルメタクリレート－メタクリル酸ランダム共重合体（藤倉化成社製、アクリベースＦＦ－１８７（商品名））、メタクリル酸含有率３０モル％、重量平均分子量２７５００。
（樹脂２）
　シクロヘキシルメタクリレート－メタクリル酸ランダム共重合体、メタクリル酸含有率２９モル％、重量平均分子量２６３００。
（樹脂３）
　イソボルニルメタクリレート－メタクリル酸ランダム共重合体、メタクリル酸含有率３５モル％、重量平均分子量２７２００。
（樹脂４）
　ポリベンジルメタクリレート（シグマ　アルドリッチ社製、ポリ（ベンジルメタクリラート））
（樹脂５）
　環状ポリオレフィン樹脂（三井化学社製、ＡＰＬ６５０９Ｔ（商品名）、エチレンとノルボルネンとの共重合ポリマー、Ｔｇ（ガラス転移温度）８０℃）

　なお、樹脂１～３のメタクリル酸部が本発明で規定する酸基を有する化合物Ａに相当する。

＜化合物Ｂ＞
　キノリン（東京化成社製）
　２－メチルキノリン（シグマアルドリッチ社製、Ｑｕｉｎａｌｄｉｎｅ）
　４－メチルキノリン（シグマアルドリッチ社製、Ｌｅｐｉｄｉｎｅ）
　２，４－ジメチルキノリン（東京化成社製）
　イソキノリン（東京化成社製）
　３－メチルイソキノリン（シグマアルドリッチ社製）
＜光ラジカル発生剤＞
　４，４’－ジメトキシベンゾフェノン

＜染料＞

（レベリング剤１）
　下記構成成分で構成されるポリマー界面活性剤をレベリング剤１として用いた。下記構造式中、各構成成分の割合はモル比であり、ｔ－Ｂｕはｔｅｒｔ－ブチル基を意味する。

（基材１）
　ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製、ルミラーＸＤ－５１０Ｐ（商品名、膜厚５０μｍ）
（基材２）
　セルロースアシレートフィルム（富士フイルム社製、商品名：ＺＲＤ４０ＳＬ）

実施例
＜１．光吸収フィルタＮｏ．１０１の作製＞

（１）樹脂溶液（光吸収フィルタ形成液）の調製
　各成分を下記に示す組成で混合し、光吸収フィルタ形成液（組成物）Ｂａ－１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収フィルタ形成液Ｂａ－１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
樹脂１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８２．８　質量部
レベリング剤１　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０８質量部
染料Ｃ－７３　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．５７質量部
キノリン（東京化成社製）　　　　　　　　　　　　　１５．５質量部
メチルエチルケトン（溶媒）　　　　　　　　　　　５６６．７質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

　続いて、得られた光吸収フィルタ形成液Ｂａ－１を絶対濾過精度１０μｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙社製）を用いて濾過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの金属焼結フィルター（商品名：ポールフィルター　ＰＭＦ、メディアコード：ＦＨ０２５、ポール社製）を用いて濾過した。

（２）光吸収フィルタの作製
　上記濾過処理後の光吸収フィルタ形成液Ｂａ－１を、基材１上に、乾燥後の膜厚が２．５μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥し、光吸収フィルタＮｏ．１０１を作製した。

＜２．光吸収フィルタＮｏ．１０２～１２１、ｒ２０１～ｒ２０４、ｃ２０５及びｃ２０６の作製＞
　マトリックスポリマー（樹脂）の種類、化合物Ｂの種類、染料の種類、及び、これらの配合量の少なくともいずれかを、表１に記載の内容に変更した以外は光吸収フィルタＮｏ．１０１の作製と同様にして、光吸収フィルタＮｏ．１０２～１２１、ｒ２０１～ｒ２０４、ｃ２０５及びｃ２０６を作製した。
　ここで、Ｎｏ．１０１～１２１が本発明の光吸収フィルタであり、Ｎｏ．ｃ２０５及びｃ２０６が比較のための光吸収フィルタであり、Ｎｏ．ｒ２０１～ｒ２０４が参照用の光吸収フィルタである。

＜３．基材つき光吸収フィルタＮｏ．ｃ２０７の作製＞

（１）樹脂溶液（光吸収フィルタ形成液）の調製
　各成分を下記に示す組成で混合し、光吸収フィルタ形成液（組成物）Ｂａ－２を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収フィルタ形成液Ｂａ－２の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
樹脂５　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９３．５　質量部
染料Ｃ－７３　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．５７質量部
光ラジカル発生剤：４，４’－ジメトキシベンゾフェノン（東京化成社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．３７質量部
剥離性制御樹脂成分：タフテックＨ－１０４３（商品名、旭化成社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３．４　質量部
レベリング剤：メガファックＦ－５５４（商品名、ＤＩＣ社製、フッ系ポリ
マー）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１６質量部
シクロヘキサン（溶媒）　　　　　　　　　　　　７７０．０　質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

　続いて、得られた光吸収フィルタ形成液Ｂａ－２を絶対濾過精度１０μｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙社製）を用いて濾過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの金属焼結フィルター（商品名：ポールフィルター　ＰＭＦ、メディアコード：ＦＨ０２５、ポール社製）を用いて濾過した。

（２）基材つき光吸収フィルタの作製
　上記濾過処理後の光吸収フィルタ形成液Ｂａ－２を、基材２上に、乾燥後の膜厚が２．５μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥し、基材つき光吸収フィルタＮｏ．ｃ２０７を作製した。

＜４．基材つき光吸収フィルタＮｏ．ｒ２０８の作製＞
　染料及び光ラジカル発生剤を配合しないよう、表１に記載の内容に変更した以外は基材つき光吸収フィルタＮｏ．ｃ２０７の作製と同様にして、基材つき光吸収フィルタＮｏ．ｒ２０８を作製した。
　ここで、Ｎｏ．ｃ２０７が比較のための光吸収フィルタであり、Ｎｏ．ｒ２０８が参照用の光吸収フィルタである。

［ガスバリア層を有する光吸収フィルタの作製］
　光吸収フィルタＮｏ．１０１～１２１、ｒ２０１～ｒ２０４、ｃ２０５～ｃ２０７及びｒ２０８については、下記のようにして、光吸収フィルタの上にさらにガスバリア層を積層してなる光吸収フィルタ（ガスバリア層を有する光吸収フィルタ）を作製し、後述の評価を行った。

（１）基材３の作製
　基材つき光吸収フィルタの、光吸収フィルタ側を、コロナ処理装置（商品名：Ｃｏｒｏｎａ－Ｐｌｕｓ、ＶＥＴＡＰＨＯＮＥ社製）を用い、放電量１０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２、処理速度３．２ｍ／ｍｉｎの条件でコロナ処理を施し、基材３として用いた。

（２）樹脂溶液の調製
　各成分を下記に示す組成で混合し、９０℃の恒温槽で１時間撹拌し、クラレエクセバール　ＡＱ－４１０５（商品名、クラレ社製、変性ポリビニルアルコール、けん化度９８～９９モル％）を溶解させ、ガスバリア層形成液を調製した。
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ガスバリア層形成液の組成
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クラレエクセバール　ＡＱ－４１０５（商品名、クラレ社製）４．０質量部
純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８８．５質量部
イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　７．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

　続いて、得られたガスバリア層形成液を絶対濾過精度５μｍのフィルター（商品名：ＨｙｄｒｏｐｈｏｂｉｃＦｌｕｏｒｅｐｏｒｅ　Ｍｅｍｂｒａｎｅ、Ｍｉｌｌｅｘ社製）を用いて濾過した。

（３）ガスバリア層の積層
　上記濾過処理後のガスバリア層形成液を、基材３上のコロナ処理を施した面側に、乾燥後の膜厚が１．６μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、１２０℃６０秒で乾燥し、ガスバリア層を有する光吸収フィルタを作製した。
　このガスバリア層を有する光吸収フィルタは、基材１あるいは基材２、光吸収フィルタ及びガスバリア層がこの順に積層された構成を有する。

＜光吸収フィルタの吸光度（紫外線照射前）＞
（１）吸光度の測定
　島津製作所社製のＵＶ３６００分光光度計（商品名）を用いて、ガスバリア層を有する光吸収フィルタ及び標準フィルタについて、３８０～８００ｎｍの波長範囲における吸光度を、１ｎｍごとに測定した。なお、光路長は２．５μｍである。
　樹脂１を含有する光吸収フィルタＮｏ．１０１～１０７、およびｃ２０５に対する標準フィルタは、染料と化合物Ｂを含有しないように変更した光吸収フィルタＮｏ．ｒ２０１である。
　樹脂２を含有する光吸収フィルタＮｏ．１０８～１１４に対する標準フィルタは、染料と化合物Ｂを含有しないように変更した光吸収フィルタＮｏ．ｒ２０２である。
　樹脂３を含有する光吸収フィルタＮｏ．１１５～１２１に対する標準フィルタは、染料と化合物Ｂを含有しないように変更した光吸収フィルタＮｏ．ｒ２０３である。
　樹脂４を含有する光吸収フィルタＮｏ．ｃ２０６に対する標準フィルタは、染料と化合物Ｂを含有しないように変更した光吸収フィルタＮｏ．ｒ２０４である。
　樹脂５を含有する光吸収フィルタＮｏ．ｃ２０７に対する標準フィルタは、染料と光ラジカル発生剤を含有しないように変更した光吸収フィルタＮｏ．ｒ２０８である。
（２）吸光度の算出
　上記で測定した、ガスバリア層を有する光吸収フィルタの各波長λｎｍにおける吸光度の値Ａｂ_ｘ（λ）と、同じ樹脂を含有する標準フィルタの各波長λｎｍにおける吸光度の値Ａｂ_０（λ）とを用いて、下記式より、紫外線照射前の光吸収フィルタの吸光度Ａｂ（λ）を算出した。
　　Ａｂ（λ）＝Ａｂ_ｘ（λ）－Ａｂ_０（λ）

　以降、波長４００～７００ｎｍの領域における光吸収フィルタの吸光度Ａｂ（λ）のうち、極大吸収を示す波長のうち最も大きい吸光度Ａｂ（λ）を示す波長を極大吸収波長（以下、単に「λ_ｍａｘ」とも称す。）とし、このλ_ｍａｘにおける吸光度を吸収極大値（以下、単に「Ａｂ（λ_ｍａｘ）」とも称す。）とした。

＜＜評価１＞＞
　各光吸収フィルタについて、消色率及び耐熱性を評価した。
　結果をまとめて、後記表２に示す。

（紫外線照射試験）
　大気圧（１０１．３３ｋＰａ）下、超高圧水銀灯（ＨＯＹＡ社製、商品名：ＵＬ７５０）を用いて室温で、ガスバリア層を有する光吸収フィルタ及び標準フィルタに対して、照度１００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線（ＵＶ）を光吸収フィルタ側（基材１あるいは基材２とは反対側）から照射した。

＜光吸収フィルタの吸光度（紫外線照射後）＞
　紫外線照射後のガスバリア層を有する光吸収フィルタ及び標準フィルタを用いて、上記の＜光吸収フィルタの吸光度（紫外線照射前）＞の記載と同様の方法により、紫外線照射後の光吸収フィルタの吸光度Ａｂ（λ）を算出した。

［１．消色率の評価］
　上記紫外線照射試験前後における吸収極大値（Ａｂ（λ_ｍａｘ））を用いて、下記式より、消色率を算出した。
　消色率（％）＝１００－
　　（紫外線照射後のＡｂ（λ_ｍａｘ）／紫外線照射前のＡｂ（λ_ｍａｘ））×１００

［２．色素の分解に伴う新たな着色構造由来の吸収（二次的な吸収）］
　なお、光吸収フィルタＮｏ．１０１～１２１はいずれも、前述の段落［０１６０］で規定する（II）の比率から（Ｉ）の比率を引いた値が５．０％以下であり、紫外線照射による染料の分解に伴う二次的な吸収が抑制されていた。

［３．耐熱性の評価］
　ガスバリア層を有する光吸収フィルタ又は標準フィルタのガスバリア層側に、厚み約２０μｍの粘着剤１（商品名：ＳＫ２０５７、綜研化学社製）を介して、厚み６０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（商品名：フジタックＴＧ６０ＵＬ、富士フイルム社製）を貼合した。続いて、基材１あるいは基材２を剥がし、基材１あるいは基材２を貼り合わせていた光吸収フィルタ側に、上記粘着剤１を介してガラスを貼合し、耐熱性評価膜を作製した。
　得られた耐熱性評価膜は、ガラス／粘着剤１の層／光吸収フィルタ／ガスバリア層／粘着剤１の層／トリアセチルセルロースフィルムの順に積層された構成を有する。

（耐熱性評価膜の吸収極大値）
　島津製作所社製のＵＶ３６００分光光度計（商品名）により、耐熱性評価膜の、４００～１０００ｎｍの波長範囲における吸光度を、１ｎｍごとに測定した。耐熱性評価膜の各波長における吸光度と、染料と化合物Ｂを含有しない点以外は同じ構成である耐熱性評価膜の吸光度との吸光度差を算出し、この吸光度差の最大値を吸収極大値として定義した。
　なお、耐熱性試験サンプルＮｏ．１０１～１０７およびＮｏ．ｃ２０５においては、染料及び化合物Ｂを含有しない積層体Ｎｏ．ｒ２０１の耐熱性評価膜を用いて吸光度差を算出し、耐熱性試験サンプルＮｏ．１０８～１１４においては、染料及び化合物Ｂを含有しない積層体Ｎｏ．ｒ２０２の耐熱性評価膜を用いて吸光度差を算出し、耐熱性試験サンプルＮｏ．１１５～１２１においては、染料及び化合物Ｂを含有しない積層体Ｎｏ．ｒ２０３の耐熱性評価膜を用いて吸光度差を算出し、耐熱性試験サンプルＮｏ．ｃ２０６においては、染料及び化合物Ｂを含有しない積層体Ｎｏ．ｒ２０４の耐熱性評価膜を用いて吸光度差を算出し、耐熱性試験サンプルＮｏ．ｃ２０７においては、染料及び光ラジカル発生剤を含有しない積層体Ｎｏ．ｒ２０８の耐熱性評価膜を用いて吸光度差を算出した。
（耐熱性）
　耐熱性評価膜を１０５℃、湿度１０％以下の環境下において２４時間保管し、この保管前後における各吸収極大値を測定し、以下の式により耐熱性を算出した。

　　［耐熱性（％）］＝（［２４時間保管後の吸収極大値］／［初期（２４時間保管前）の吸収極大値］）×１００

（表の注）
　染料、化合物Ｂ及び光ラジカル発生剤の配合量は、フィルタ１００質量部に対する質量部を意味する。
　Ｎｏ．ｃ２０７で使用する４，４’－ジメトキシベンゾフェノンは光ラジカル発生剤であり、便宜上、化合物Ｂの欄に記載している。

　上記表１及び２の結果から、以下のことがわかる。
　化合物Ｂを含有する本発明の光吸収フィルタＮｏ．１０１～１２１は、化合物Ｂを含まない比較例の光吸収フィルタＮｏ．ｃ２０５、酸基を有する化合物Ａを含まない比較例の光吸収フィルタＮｏ．ｃ２０６、並びに、酸基を有する化合物Ａ及び化合物Ｂに代えて光ラジカル発生剤を含む比較例のＮｏ．ｃ２０７に対してＵＶ光の照射による消色性に優れ好ましい。
　特に、化合物Ｂと脂環式構造を有する樹脂２および樹脂３を組み合わせた光吸収フィルタＮｏ．１０８～１２１は紫外線照射による消色性と耐熱性の両立により優れ、特に好ましい。

＜＜評価２＞＞
　各光吸収フィルタについて、耐光性を評価した。
　結果をまとめて、後記表３に示す。

［３．耐光性の評価］
（粘着剤）
　耐光性評価膜の作製に使用した粘着剤は、下記の通りである。
（粘着剤）
　粘着剤１：ＳＫ－２０５７（商品名、綜研化学社製）
　粘着剤２：粘着剤１に前述の紫外線吸収剤（１）－４６（モル吸光係数４２０００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ））を固形分１００質量部に対して１．６質量部添加
　粘着剤３：粘着剤１に前述の紫外線吸収剤（１）－４６を固形分１００質量部に対して３．１質量部添加
　粘着剤４：粘着剤１に前述の紫外線吸収剤（１）－４６を固形分１００質量部に対して４．６質量部添加
　粘着剤５：粘着剤１にＢＡＳＦ社製のＴＩＮＵＶＩＮ３２６（商品名、ベンゾトリアゾール系）を固形分１００質量部に対して１．４質量部（粘着剤３中の紫外線吸収剤（１）と等モル）添加
　なお、上記粘着剤２～５において、固形分とは、粘着剤１における溶媒以外の成分を意味する。

（構成Ａの耐光性評価膜の作製）
　ガスバリア層を有する光吸収フィルタ又は標準フィルタのガスバリア層側に、厚み約２０μｍの粘着剤１を介して、厚み６０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（商品名：フジタックＴＧ６０ＵＬ、富士フイルム社製）を貼合した。続いて、基材１あるいは基材２を剥がし、基材１あるいは基材２を貼り合わせていた光吸収フィルタ側に、上記粘着剤１を介してガラスを貼合し、構成Ａの耐光性評価膜を作製した。
　得られた耐光性評価膜は、ガラス／粘着剤１の層／光吸収フィルタ／ガスバリア層／粘着剤１の層／トリアセチルセルロースフィルムの順に積層された構成を有する。

（構成Ｂの耐光性評価膜の作製）
　構成Ａの耐光性評価膜の作製において、トリアセチルセルロースフィルムとガスバリア層を有する光吸収フィルタ又は標準フィルタの貼合に使用する粘着剤１を粘着剤２に変更した以外は構成Ａの耐光性評価膜の作製と同様にして構成Ｂの耐光性評価膜を作製した。
（構成Ｃの耐光性評価膜の作製）
　構成Ａの耐光性評価膜の作製において、トリアセチルセルロースフィルムとガスバリア層を有する光吸収フィルタ又は標準フィルタの貼合に使用する粘着剤１を粘着剤３に変更した以外は構成Ａの耐光性評価膜の作製と同様にして構成Ｃの耐光性評価膜を作製した。
（構成Ｄの耐光性評価膜の作製）
　構成Ａの耐光性評価膜の作製において、トリアセチルセルロースフィルムとガスバリア層を有する光吸収フィルタ又は標準フィルタの貼合に使用する粘着剤１を粘着剤４に変更した以外は構成Ａの耐光性評価膜の作製と同様にして構成Ｄの耐光性評価膜を作製した。
（構成Ｅの耐光性評価膜の作製）
　構成Ａの耐光性評価膜の作製において、トリアセチルセルロースフィルムとガスバリア層を有する光吸収フィルタ又は標準フィルタの貼合に使用する粘着剤１を粘着剤５に変更した以外は構成Ａの耐光性評価膜の作製と同様にして構成Ｅの耐光性評価膜を作製した。

（耐光性評価膜の吸収極大値）
　島津製作所社製のＵＶ３６００分光光度計（商品名）により、耐光性評価膜の、４００～１０００ｎｍの波長範囲における吸光度を、１ｎｍごとに測定した。耐光性評価膜の各波長における吸光度と、染料と化合物Ｂを含有しない点以外は同じ構成である耐光性評価膜の吸光度との吸光度差を算出し、この吸光度差の最大値を吸収極大値として定義した。
　なお、耐光性評価膜Ｎｏ．３０１～３０４及び３１３においては、染料及び化合物Ｂを含有しない標準フィルタＮｏ．ｒ２０１の耐光性評価膜を用いて吸光度差を算出し、耐光性評価膜Ｎｏ．３０５～３０８及び３１４においては、染料及び化合物Ｂを含有しない標準フィルタＮｏ．ｒ２０２の耐光性評価膜を用いて吸光度差を算出し、耐光性評価膜Ｎｏ．３０９～３１２及び３１５においては、染料及び化合物Ｂを含有しない標準フィルタＮｏ．ｒ２０３の耐光性評価膜を用いて吸光度差を算出した。
（耐光性）
　耐光性評価膜をスガ試験機社製のスーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５（商品名）で、６０℃、相対湿度５０％の環境下において２００時間光を照射し、この照射前後における各吸収極大値を測定し、以下の式により耐光性を算出した。

　　［耐光性（％）］＝（［２００時間光照射後の吸収極大値］／［光照射前の吸収極大値］）×１００

　表３の結果から、トリアセチルセルロースフィルムとガスバリア層を有する光吸収フィルタの貼合に使用する粘着剤中に前述の一般式（１）で表される紫外線吸収剤（化合物（１））を添加し、波長３８０～４２０ｎｍの領域の光を遮断したＮｏ．３０２～３０４、３０６～３０８及び３１０～３１２の耐光性評価膜は、紫外線吸収剤を含まないＮｏ．３０１、３０５及び３０９に対して、優れた耐光性を示しており、市販のベントリアゾール系紫外線吸収剤を含有するＮｏ．３１３～３１５に対しても優れた耐光性を示す観点から好ましいことがわかる。

　本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものではなく、添付の請求の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。

　本願は、２０２１年１０月２０日に日本国で特許出願された特願２０２１－１７１９４４及び２０２２年１月１３日に日本国で特許出願された特願２０２２－００３８０１に基づく優先権を主張するものであり、これらはここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。

１　上側偏光板
２　上側偏光板吸収軸の方向
３　液晶セル上電極基板
４　上基板の配向制御方向
５　液晶層
６　液晶セル下電極基板
７　下基板の配向制御方向
８　下側偏光板
９　下側偏光板吸収軸の方向
Ｂ　バックライトユニット
１０　液晶表示装置

Claims

　樹脂と、酸基を有する化合物Ａと、前記化合物Ａが含む前記酸基と水素結合を形成し紫外線照射によりラジカルを生成する化合物Ｂと、波長４００～７００ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料とを含む光吸収フィルタ。
　前記染料が、下記一般式（１）で表されるスクアリン系色素を含む、請求項１に記載の光吸収フィルタ。

　上記式中、Ａ及びＢは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基又は－ＣＨ＝Ｇを示す。Ｇは置換基を有していてもよい複素環基を示す。
　前記化合物Ａが、前記樹脂を構成するポリマーに化学結合している、請求項１又は２に記載の光吸収フィルタ。
　前記光吸収フィルタが、紫外線の照射により前記染料が化学変化して消色する、請求項１～３のいずれか１項に記載の光吸収フィルタ。
　請求項１～４のいずれか１項に記載の光吸収フィルタを紫外線照射によりマスク露光してなる、光学フィルタ。
　請求項５に記載の光学フィルタを含む、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置、又は、液晶表示装置。
　前記光学フィルタに対して視認者側に、前記化合物Ｂの光吸収を阻害する層を有する、請求項６に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置、又は、液晶表示装置。
　請求項１～４のいずれか１項に記載の光吸収フィルタに対して、紫外線を照射してマスク露光することを含む、光学フィルタの製造方法。