JP2023007438A - 波長選択吸収フィルタ、積層体及び表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】生産性に優れ、しかも優れた密着性と優れたクラック耐性を示す波長選択吸収フィルタ、及びこれを含む表示装置を提供する。また、上記波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとを積層してなる積層体を提供する。【解決手段】樹脂と染料と密着調整剤とを含む波長選択吸収層を有し、上記波長選択吸収層の厚みが０．５～２．０μｍである、波長選択吸収フィルタ、この波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとを有する積層体、及び、上記波長選択吸収フィルタを含む表示装置。【選択図】なし

Description

本発明は、波長選択吸収フィルタ、積層体及び表示装置に関する。

ディスプレイ（表示装置）の大型化又はタブレットＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）、スマートフォンの普及により、ディスプレイを使用する環境も多岐に渡るようになり、太陽光又は明るい室内照明の真下などの明所における視認性を向上させることがますます重要になってきている。ディスプレイの表示画面には、一般に、観察者が画像を視認しやすくなるよう、反射防止機能が付与されている。このような機能は、反射防止フィルム又は防眩フィルムによって実現される。一般的な反射防止フィルムとしては、基材の表面に基材と異なる屈折率を有する膜を被膜し、基材の表面で反射した光と被膜した膜の表面で反射した光との干渉効果によって反射を低減させるＡＲ（Ａｎｔｉ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）フィルム又はＬＲ（Ｌｏｗ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）フィルムが挙げられる。また、一般的な防眩フィルムとしては、基材の表面に微細な凹凸パターンを有する膜を被膜し、光の散乱効果を用いて像の映り込みを防止する防眩層を含むＡＧ（Ａｎｔｉ Ｇｌａｒｅ）フィルムが挙げられる。
しかし、ディスプレイに入射した光のうち、一部は表面の反射防止フィルム又は防眩フィルムを透過し、電極もしくは配線等の表面又はセルのガラス表面で反射する。これは内部反射と呼ばれる。ディスプレイの高精細化に伴い、電極もしくは配線等の金属部分の面積のパネル全体の面積に占める割合（電極又は配線等の金属部分の面積／パネル全体の面積）が高まるため、上記内部反射の防止は高品位の表示性能を確保する上で特に重要な因子となる。

内部反射の防止手段としては、例えば特許文献１に記載されるように、λ／４位相差板又はλ／２位相差板を、偏光板の偏光子と内部反射箇所の間に設け、円偏光板として機能させる方法が知られている。しかし、本手法は、表示光の透過率が４０％程度に低下すること、および円偏光板と内部反射箇所の間に散乱粒子が存在する場合、偏光解消が生じてしまい十分な反射防止効果が得られないという問題がある。

このため、λ／４位相差板又はλ／２位相差板を用いない反射防止手段の開発が求められている。
例えば、特許文献２では、視認者側偏光板中に、半値幅が５０ｎｍ以下である吸光度のピークを持つ吸収材料（染料）であって、４７０～５１０ｎｍの波長帯域に吸光度の最大値を有する第１の吸収材料および５６０～６１０ｎｍの波長帯域に吸光度の最大値を有する第２の吸収材料の少なくとも一方の吸収材料を添加することにより、外光の反射を防止する方法を用いた液晶表示装置が開示されている。

国際公開特許２０１２／０４３３７５号 特開２０１５－３６７３４号公報

本発明者らが検討を重ねたところ、上記特許文献２に記載の技術では、剥離フィルムから吸収材料を含有する層を剥離することによりフィルムを作製した場合に、剥離後の吸収材料含有層に剥ぎとった跡が付くことがあり、剥離フィルムを除去して得られる上記フィルムの品質及び生産性の点で問題があること、また、上記フィルムを構成する吸収材料含有層と直接接する層との間の密着性が十分ではなかったり、この吸収材料含有層が温度変化等の周囲の環境変化によってクラックが発生しやすい（クラック耐性に劣る）問題も発生することがあり、改良が求められていた。

本発明は、生産性に優れ、しかも優れた密着性と優れたクラック耐性を示す波長選択吸収フィルタ、及びこれを含む表示装置を提供することを課題とする。また、本発明は、上記波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとを積層してなる積層体を提供することを課題とする。

本発明者らは上記課題に鑑み鋭意検討した結果、樹脂、染料及び密着調整剤を含む波長選択吸収層の層厚みを特定の厚みとすることにより、剥離フィルムからの剥離性が良好になり、しかも、波長選択吸収層とこの波長選択吸収層が直接接する層との密着性が向上され、さらに、環境変化によるクラックの発生も抑制できることがわかってきた。

すなわち、上記の課題は以下の手段により解決された。
＜１＞
樹脂と染料と密着調整剤とを含む波長選択吸収層を有し、
上記波長選択吸収層の厚みが０．５～２．０μｍである、波長選択吸収フィルタ。
＜２＞
上記染料が下記一般式（１）で表されるスクアリン系色素である、＜１＞に記載の波長選択吸収フィルタ。

一般式（１）中、Ａ及びＢは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、又は－ＣＨ＝Ｇを示す。Ｇは置換基を有していてもよい複素環基を示す。
＜３＞
上記樹脂が環状ポリオレフィン樹脂を含む、＜１＞に記載の波長選択吸収フィルタ。
＜４＞
上記波長選択吸収フィルタが、上記波長選択吸収層の少なくとも片面に直接配されたガスバリア層を有し、上記ガスバリア層が結晶性樹脂を含み、上記ガスバリア層の厚みが０．１～１０μｍであって、上記ガスバリア層の酸素透過度が６０ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ以下である、＜１＞に記載の波長選択吸収フィルタ。
＜５＞
上記波長選択吸収層中における上記密着調整剤の含有量が、１．０～１８質量％である、＜１＞に記載の波長選択吸収フィルタ。
＜６＞
下記ヒートショック試験を５０サイクル実施した場合に波長選択吸収層にクラックが発生しない、＜１＞に記載の波長選択吸収フィルタ。
（ヒートショック試験）
ダンパー開閉による冷温風切替方式で、－３５℃の風を１時間吹き込む低温試験の後、７０℃の風を１時間吹き込む高温試験を１サイクルとするヒートショック試験。
＜７＞
＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の波長選択吸収フィルタと、上記波長選択吸収フィルタに接して設けられた剥離フィルムとを有する積層体であって、下記条件により測定される上記剥離フィルムから上記波長選択吸収層を剥離する際の剥離力が、０．１２Ｎ／２５ｍｍ以上０．３０Ｎ／２５ｍｍ未満である、積層体。
（剥離条件）
試験片サイズが縦１５０ｍｍ×横２５ｍｍの短冊状の積層体について、温湿度２５℃６０％ＲＨの環境下、剥離角度９０°、剥離速度３００ｍ／分の条件にて、テンシロン万能材料試験機を用いて剥離する。
＜８＞
＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の波長選択吸収フィルタを含む、表示装置。

本発明において、特定の符号又は式で表示された置換基若しくは連結基等（以下、置換基等という）が複数あるとき、又は、複数の置換基等を同時に規定するときには、特段の断りがない限り、それぞれの置換基等は互いに同一でも異なっていてもよい。このことは、置換基等の数の規定についても同様である。また、複数の置換基等が近接するとき（特に、隣接するとき）には、特段の断りがない限り、それらが互いに連結して環を形成していてもよい。また、特段の断りがない限り、環、例えば脂環、芳香族環、ヘテロ環は、更に縮環して縮合環を形成していてもよい。
本発明において、特段の断りがない限り、波長選択吸収層を構成する成分（染料、樹脂、密着調整剤及びその他の成分等）は、それぞれ、波長選択吸収層中に１種含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。同様に、特段の断りがない限り、ガスバリア層を構成する成分（結晶性樹脂等）は、それぞれ、ガスバリア層中に１種含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。
本発明において、特段の断りがない限り、二重結合については、分子内にＥ型及びＺ型が存在する場合、そのいずれであっても、またこれらの混合物であってもよい。
本発明において、化合物（錯体を含む。）の表示については、化合物そのもののほか、その塩、そのイオンを含む意味に用いる。また、本発明の効果を損なわない範囲で、構造の一部を変化させたものを含む意味である。更に、置換又は無置換を明記していない化合物については、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の置換基を有していてもよい意味である。このことは、置換基及び連結基についても同様である。
また、本発明において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本発明において、組成物とは、成分濃度が一定である（各成分が均一に分散している）混合物に加えて、目的とする機能を損なわない範囲で成分濃度が変動している混合物を包含する。

本発明の波長選択吸収フィルタは、生産性に優れ、しかも優れた密着性と優れたクラック耐性を示すことができる。
また、本発明の表示装置は、上記波長選択吸収フィルタを含み、波長選択吸収フィルタが備える優れた密着性と優れたクラック耐性とを示すことができる。
また、本発明の積層体は、上記前記波長選択吸収フィルタの生産性に優れる。

図１は、本発明の波長選択吸収フィルタの一例を示す概略断面図である。

［波長選択吸収フィルタ］
本発明の波長選択吸収フィルタは、樹脂と染料と密着調整剤とを含む波長選択吸収層を有し、この波長選択吸収層の厚みが０．５～２．０μｍである波長選択吸収フィルタである。このような構成を有する波長選択吸収フィルタは、生産性に優れ、しかも優れた密着性と優れたクラック耐性を示すことができる。この理由は推定ではあるが、以下のように考えられる。
すなわち、本発明の波長選択吸収フィルタにおける波長選択吸収層は、密着調整剤を含有することによって後述するように波長選択吸収層の粘着性を調節することができ、剥離フィルムの剥離工程以外での予期せぬ剥離を防ぎ、剥離フィルムから波長選択吸収層を剥離する際には、剥離後の波長選択吸収層に剥ぎとった跡が付かない等の優れた剥離性を有するため、生産性に優れ、しかも得られた波長選択吸収層は、後述するガスバリア層等の波長選択吸収層と直接貼り合わせてなる層（以下、「直接貼り合わせてなる層」と称す。）との密着性を向上させることができ、クラックの発生も抑制することができる。しかも、密着調整剤を含有していても、波長選択吸収層の厚みが２．０μｍを超える場合には、剥離フィルムから波長選択吸収層を剥離させる際には波長選択吸収層が変形しにくくなることで、剥離フィルムからの剥離性が低下してしまったり、波長選択吸収層の厚みが０．５μｍ未満である場合には、脆性破壊が生じやすくなったりして、結果として直接貼り合わせてなる層との密着性が低下してしまうところ、本発明の波長選択吸収フィルタでは波長選択吸収層に密着調整剤を含有させ、さらに層の厚みを０．５～２．０μｍとすることにより、生産性に優れ、しかも優れた密着性と優れたクラック耐性とを示すことができると考えられる。

さらに、本発明の波長選択吸収フィルタは、上記波長選択吸収層の少なくとも片面に直接配されたガスバリア層を有することが好ましい。この場合、本発明の波長選択吸収フィルタにおける上記ガスバリア層は、結晶性樹脂を含有し、層の厚みが０．１～１０μｍであって、層の酸素透過度が６０ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ以下である。
また、本発明の波長選択吸収フィルタにおいて、上記波長選択吸収層に含有される染料は、後述の染料Ｃを含むことが好ましい。さらに、上記波長選択吸収層は異なる波長域に主吸収波長帯域を有する後述の染料Ａ、Ｂ、Ｄをさらに含んでもよい。

本発明において、染料が有する主吸収波長帯域とは、波長選択吸収層の状態で測定される染料の主吸収波長帯域である。

＜＜波長選択吸収層＞＞
本発明の波長選択吸収フィルタにおける波長選択吸収層は、樹脂と染料と密着調整剤とを含有し、その厚みは０．５～２．０μｍである。

＜染料＞
上記波長選択吸収層が含有する染料は、下記染料Ｃを含有することが好ましく、さらに、染料Ｃとは異なる波長域に主吸収波長帯域を有する下記染料Ａ、Ｂ及びＤの少なくとも１種を含有してもよく、下記染料Ａ、Ｂ及びＤを含有することがより好ましい。
染料Ｃ：波長５８０～６２０ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料
染料Ａ：波長３９０～４４０ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料
染料Ｂ：波長４８０～５２０ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料
染料Ｄ：波長６８０～７８０ｎｍに主吸収波長帯域を有する染料
上記波長選択吸収層中において、上記「染料」は、上記樹脂中に分散（好ましくは溶解）することにより、波長選択吸収層を染料に由来する特定の吸収スペクトルを示す層とするものである。
なお、上記波長選択吸収層中に含有され得る上記の染料Ｃは、それぞれ１種でもよく、２種以上であってもよい。上記波長選択吸収層中に含有され得る上記の染料Ａ、Ｂ、Ｄについても、染料Ｃと同様に、各々独立に、１種でもよく、２種以上であってもよい。
上記波長選択吸収層は上記染料Ａ～Ｄ以外の染料を含有することもできる。

本発明の波長選択吸収フィルタにおける波長選択吸収層の形態は、波長選択吸収層中の染料が吸収スペクトルを示すことができればよく、好ましくは、外光反射の抑制及び輝度低下の抑制の両立を実現することができ、より好ましくは、さらに、表示画像本来の色味に影響しにくいものであればよい。上記波長選択吸収層の一形態としては、染料Ａ～Ｄの少なくとも１種が樹脂中に分散（好ましくは溶解）した形態が挙げられる。この分散は、ランダム、規則的等いずれであってもよい。

上記染料Ａ～Ｄは、上記波長選択吸収層において、表示装置（好ましくは自発光表示装置）の発光源として使用される、Ｂ（Ｂｌｕｅ、４４０ｎｍ～４７０ｎｍ）、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ、５２０ｎｍ～５６０ｎｍ）及びＲ（Ｒｅｄ、６２０ｎｍ～６６０ｎｍ）以外の波長域又はこれらの波長域とは大きく重複しない波長域である、３９０～４４０ｎｍ、４８０～５２０ｎｍ、５８０～６２０ｎｍ及び６８０～７８０ｎｍに、それぞれ主吸収波長帯域を有する。そのため、これらの染料Ａ～Ｄの少なくとも１種を含有することにより、本発明の波長選択吸収フィルタは、発光素子から発せられる光の色再現域を損なうことなく、外光の反射を抑制することができる。

上記のように波長選択吸収層中に染料Ａ～Ｄを含有させる場合、染料分解時に発生したラジカルの連鎖移動等により、染料の混合による耐光性の低下という問題も生じてしまうことがある。このような問題に対しても、本発明の波長選択吸収フィルタは後述する特定のガスバリア層を設けることにより、染料の混合に伴う耐光性の低下を上回る、優れたレベルの耐光性を示すことができる。

（染料Ｃ、染料Ｂ）
染料Ｃは、波長選択吸収層中で波長５８０～６２０ｎｍに主吸収波長帯域を有するものであれば特に制限されず、各種染料を用いることができる。
また、染料Ｂは、波長選択吸収層中で波長４８０～５２０ｎｍに主吸収波長帯域を有するものであれば特に制限されず、各種染料を用いることができる。

染料Ｃの具体例としては、例えば、テトラアザポルフィリン（ｔｅｔｒａａｚａ ｐｏｒｐｈｙｒｉｎ、ＴＡＰ）系、スクアリン系及びシアニン（ｃｙａｎｉｎｅ、ＣＹ）系の各色素（染料）が挙げられる。
染料Ｂの具体例としては、例えば、ピロールメチン（ｐｙｒｒｏｌｅ ｍｅｔｈｉｎｅ、ＰＭ）系、ローダミン（ｒｈｏｄａｍｉｎｅ、ＲＨ）系、ボロンジピロメテン（ｂｏｒｏｎ ｄｉｐｙｒｒｏｍｅｔｈｅｎｅ、ＢＯＤＩＰＹ）系及びスクアリン（ｓｑｕａｒｉｎｅ、ＳＱ）系の各色素（染料）が挙げられる。

これらの中でも、上記の染料Ｂ及び染料Ｃとしては、主吸収波長帯域における吸収波形が先鋭である点、また、紫外線による分解が生じにくく耐光性に優れる点から、スクアリン系色素が好ましく、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［００１６］～［００７０］に記載の一般式（１）で表されるスクアリン系色素がより好ましい。国際公開第２０１９／１８９４６３号の［００１６］～［００７０］に記載の一般式（１）で表されるスクアリン系色素について、以下に一般式（１）を記載する。
染料Ｂ及び染料Ｃとして上記の通り吸収波形が先鋭な色素を使用することにより、反射率と輝度低下の抑制を両立することができる。

一般式（１）中、Ａ及びＢは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、又は－ＣＨ＝Ｇを示す。Ｇは置換基を有していてもよい複素環基を示す。

すなわち、本発明の波長選択吸収フィルタは、上記色味変化の抑制の観点から、染料Ｂ及び染料Ｃの少なくとも一方がスクアリン系色素（好ましくは、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［００１６］～［００７０］に記載の一般式（１）で表されるスクアリン系色素）であることが好ましく、染料Ｂ及び染料Ｃの両方がスクアリン系色素（好ましくは、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［００１６］～［００７０］に記載の一般式（１）で表されるスクアリン系色素）であることがより好ましい。
なお、国際公開第２０１９／１８９４６３号における染料Ａの記載は本発明における染料Ｂとして読み替え、国際公開第２０１９／１８９４６３号における染料Ｂの記載は本発明における染料Ｃとして読み替えるものとする。

国際公開第２０１９／１８９４６３号記載の一般式（１）～（５）のいずれかで表される色素の具体例としては、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［００４８］の記載に加え、下記の具体例が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
下記具体例において、Ｍｅはメチル、Ｅｔはエチル、Ｂｕはブチル、Ｐｈはフェニルをそれぞれ示す。

上記具体例の他に、国際公開第２０１９／１８９４６３号記載の一般式（３）～（５）のいずれかで表される色素の具体例としては、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［００５０］～［００５５］の記載に加え、下記の具体例が挙げられる。下記表中の置換基Ｂは下記構造又は国際公開第２０１９／１８９４６３号の［００５０］もしくは［００５１］記載の置換基Ｂを示す。下記構造及び下記表において、Ｍｅはメチル、Ｅｔはエチル、ｉ－Ｐｒはｉｓｏ－プロピル、Ｂｕはｎ－ブチル、ｔ－Ｂｕはｔ－ブチル、Ｐｈはフェニルをそれぞれ示す。下記構造において＊は各一般式中の炭素四員環との結合部を示す。

国際公開第２０１９／１８９４６３号記載の一般式（６）～（９）のいずれかで表される色素の具体例としては、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［００６８］～［００７０］の記載に加え、下記の具体例が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
下記具体例において、Ｍｅはメチル、Ｅｔはエチル、ｉ－Ｐｒはｉｓｏ－プロピル、ｔ－Ｂｕはｔ－ブチル、Ｐｈはフェニルをそれぞれ示す。下記構造において＊は各一般式中の炭素四員環との結合部を示す。

（消光剤内蔵型色素）
国際公開第２０１９／１８９４６３号記載の一般式（１）で表されるスクアリン系色素は、連結基を介して、共有結合により消光剤部が色素に連結されてなる、消光剤内蔵型色素であってもよい。上記消光剤内蔵型色素も、染料Ｂ及びＣの少なくとも一方の色素として好ましく用いることができる。すなわち、上記消光剤内蔵型色素は、主吸収波長帯域を有する波長に応じて、染料Ｂ又は染料Ｃとして計上する。
上記消光剤部としては、例えば、後述の置換基Ｘにおけるメタロセニル基が挙げられる。なお、後述の置換基Ｘにおけるメタロセニル基の記載において、「一般式（１）」は「国際公開第２０１９／１８９４６３号記載の一般式（１）」に読み替えるものとする。
また、国際公開第２０１９／０６６０４３号の段落［０１９９］～［０２１２］および段落［０２３４］～［０３１０］に記載の消光剤化合物における消光剤部を挙げることができる。
すなわち、国際公開第２０１９／１８９４６３号記載の一般式（１）で表されるスクアリン系色素において、置換基Ｘとして上記消光剤部を有する色素も好ましい形態の１つである。

国際公開第２０１９／１８９４６３号記載の一般式（１）で表されるスクアリン系色素のうち、消光剤内蔵型色素に該当する色素の具体例としては、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［０２２３］～［０２３４］の記載に加え、下記の具体例が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
下記具体例において、Ｍｅはメチル、Ｅｔはエチル、Ｂｕはブチルをそれぞれ示す。

（染料Ａ）
染料Ａは、波長選択吸収層中で波長３９０～４４０ｎｍに主吸収波長帯域を有するものであれば特に制限されず、各種染料を用いることができる。

上記染料Ａとしては、主吸収波長帯域における吸収波形が先鋭である点から、下記一般式（Ａ１）で表される色素が好ましい。

一般式（Ａ１）中、Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ^３～Ｒ^６は、各々独立に、水素原子又は置換基を示し、Ｒ^５とＲ^６は互いに結合して６員環を形成していてもよい。

Ｒ^１及びＲ^２として採りうるアルキル基としては、無置換のアルキル基及び置換基を有する置換アルキル基のいずれでもよく、直鎖状及び分岐状のいずれでもよく、環状構造を有していてもよい。

上記無置換のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。上記無置換のアルキル基の炭素数は、１～１２が好ましく、１～６がより好ましい。

上記置換アルキル基が採りうる置換基としては、例えば、下記の置換基群Ａに含まれる置換基を挙げることができる。
（置換基群Ａ）
ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシル基（塩の形でもよい）、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（－ＮＨ_２の他、－ＮＲ^ａ _２で表される置換アミノ基を含む。Ｒ^ａは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を示す。ただし、少なくとも１つのＲ^ａは、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基である。）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、スルホンアミド基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基（塩の形でもよい）、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基及びシリル基、並びに、これらの少なくとも２つが連結した一価の基。

上記置換基群Ａの中でも、置換アルキル基が有し得る置換基の好ましい例としては、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシ基、アシル基及びヒドロキシ基が挙げられる。

上記置換アルキル基の総炭素数は、１～１２が好ましい。例えば、ベンジル基、ヒドロキシベンジル基及びメトキシエチル基等が挙げられる。
置換アルキル基の総炭素数とは、置換アルキル基が有し得る置換基を含めた、置換アルキル基全体の炭素数を意味する。以下、その他の基においても同様の意味で使用する。

なお、Ｒ^１及びＲ^２がいずれもアルキル基を表す場合、アルキル基は同一でも異なっていてもよい。

Ｒ^１及びＲ^２として採りうるアリール基は、無置換のアリール基及び置換基を有する置換アリール基のいずれでもよい。

上記無置換のアリール基としては、炭素数６～１２のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基が挙げられる。

上記置換アリール基が採りうる置換基としては、例えば、上記の置換基群Ａに含まれる置換基を挙げることができる。
上記置換基群Ａの中でも、置換アリール基が有し得る置換基の好ましい例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子）、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホンアミド基、アミノ基（好ましくは、－ＮＲ^ａ _２で表される置換アミノ基。Ｒ^ａは、各々独立に、水素原子又はアルキル基を示す。ただし、少なくとも１つのＲ^ａは、アルキル基である。炭素数は１～４が好ましい。）、アルキル基（好ましくは、炭素数１～４のアルキル基；例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル及びイソプロピル）、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１～４のアルコキシ基；例えば、メトキシ、エトキシ、ノルマルプロポキシ及びイソプロポキシ）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２～５のアルコキシカルボニル基；例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ノルマルプロポキシカルボニル及びイソプロポキシカルボニル）及びスルホニルオキシ基、並びに、これらの少なくとも２つが連結した一価の基が挙げられる。

上記置換アリール基としては、総炭素数６～１８のアリール基が好ましい。
例えば、４－クロロフェニル基、２，５－ジクロロフェニル基、ヒドロキシフェニル基、４－カルボキシフェニル基、３，５－ジカルボキシフェニル基、４－メタンスルホンアミドフェニル基、４－メチルフェニル基、４－メトキシフェニル基、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノフェニル基、４－（Ｎ－カルボキシメチル－Ｎ－エチルアミノ）フェニル基、４－エトキシカルボニルフェニル基及び４－メタンスルホニルオキシフェニル基が挙げられる。

なお、Ｒ^１及びＲ^２がいずれもアリール基を表す場合、アリール基は同一でも異なっていてもよい。

Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６として採りうる置換基としては、例えば、上記の置換基群Ａに含まれる置換基を挙げることができる。
上記置換基群Ａの中でも、Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６は、アルキル基又はアリール基が好ましい。すなわち、Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６としては、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが好ましい。
また、上記置換基群Ａの中では、Ｒ^４は、アルキル基又はアリール基が好ましい。すなわち、Ｒ^４としては、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが好ましい。

Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６として採りうるアルキル基としては、無置換のアルキル基及び置換基を有する置換アルキル基のいずれでもよく、直鎖状及び分岐状のいずれでもよく、環状構造を有していてもよい。

上記Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６として採りうる無置換のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基及びイソプロピル基等が挙げられる。上記Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６として採りうる無置換のアルキル基の炭素数は、１～８が好ましく、１～４がより好ましい。

上記Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６における置換アルキル基が有し得る置換基としては、例えば、上記の置換基群Ａに含まれる置換基を挙げることができる。
上記Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６における置換アルキル基が有し得る置換基の好ましい例としては、アリール基（好ましくはフェニル基）、カルボキシ基及びヒドロキシ基が挙げられる。
上記Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６として採りうる置換アルキル基の総炭素数は１～８が好ましい。例えば、ベンジル基、カルボキシメチル基及びヒドロキシメチル基が挙げられる。

なお、Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６がいずれもアルキル基を表す場合、アルキル基は同一でも異なっていてもよい。

上記Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６として採りうるアリール基としては、無置換のアリール基及び置換された置換アリール基のいずれでもよい。

上記Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６として採りうる無置換のアリール基としては、炭素数６～１０のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基が挙げられる。

上記Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６における置換アリール基が有し得る置換基としては、例えば、上記の置換基群Ａに含まれる置換基を挙げることができる。
上記Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６における置換アリール基が有し得る置換基の好ましい例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子）、ヒドロキシ基、カルボキシ基、並びに、アルキル基（好ましくは、炭素数１～４のアルキル基；例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル及びイソプロピル）が挙げられる。

上記Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６として採りうる置換アリール基としては、総炭素数６～１０のアリール基が好ましい。例えば、４－クロロフェニル基、２，５－ジクロロフェニル基、ヒドロキシフェニル基、カルボキシフェニル基、３，５－ジカルボキシフェニル基及び４－メチルフェニル基が挙げられる。

Ｒ^５及びＲ^６がいずれも置換基である場合、耐光性及び耐熱性の観点から、Ｒ^３は、水素原子であることが好ましい。
なお、Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６がいずれもアリール基である場合、アリール基は同一でも異なっていてもよい。

Ｒ^４として採りうるアルキル基は、無置換のアルキル基及び置換基を有する置換アルキル基のいずれでもよく、直鎖状及び分岐状のいずれでもよく、環状構造を有していてもよい。

上記Ｒ^４として採りうる無置換のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。上記Ｒ^４として採りうる無置換のアルキル基の炭素数は、１～８が好ましく、１～４がより好ましい。

上記Ｒ^４における置換アルキル基が有し得る置換基としては、例えば、上記の置換基群Ａに含まれる置換基を挙げることができる。
上記Ｒ^４における置換アルキル基が有し得る置換基の好ましい例としては、アリール基（好ましくはフェニル基）、ヘテロ環基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルキル基（好ましくは、炭素数１～４のアルキル基；例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル及びイソプロピル）、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１～４のアルコキシ基；例えば、メトキシ、エトキシ、ノルマルプロポキシ及びイソプロポキシ）、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２～５のアルコキシカルボニル基；例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ノルマルプロポキシカルボニル及びイソプロポキシカルボニル）、アルキルアミノ基（好ましくは炭素数１～４のアルキルアミノ基；例えば、ジメチルアミノ基）、アルキルカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数１～４のアルキルカルボニルアミノ基；例えば、メチルカルボニルアミノ基）、シアノ基及びアシル基、並びに、これらの少なくとも２つが連結した一価の基が挙げられる。

上記Ｒ^４として採りうる置換アルキル基の総炭素数は１～１８が好ましい。
例えば、ベンジル基、カルボキシベンジル基、ヒドロキシベンジル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルメチル基、２－シアノエチル基、２－プロピオニルアミノエチル基、ジメチルアミノメチル基、メチルカルボニルアミノプロピル基、ジ（メトキシカルボニルメチル）アミノプロピル基及びフェナシル基が挙げられる。

上記Ｒ^４として採りうるアリール基は、無置換のアリール基及び置換基を有する置換アリール基のいずれでもよい。

上記Ｒ^４として採りうる無置換のアリール基としては、炭素数６～１２のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基が挙げられる。

上記Ｒ^４における置換アリール基が有し得る置換基としては、例えば、上記の置換基群Ａに含まれる置換基を挙げることができる。
上記Ｒ^４における置換アリール基が有し得る置換基の好ましい例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホンアミド基、アミノ基、アルキル基（好ましくは、炭素数１～４のアルキル基；例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル、イソプロピル）、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１～４のアルコキシ基；例えば、メトキシ、エトキシ、ノルマルプロポキシ、イソプロポキシ）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２～５のアルコキシカルボニル基；例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ノルマルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル）及びスルホニルオキシ基、並びに、これらの少なくとも２つが連結した一価の基等が挙げられる。

上記Ｒ^４における置換アリール基が有し得るアミノ基は、無置換のアミノ基（－ＮＨ_２）及び置換基を有する置換アミノ基（上記置換基群Ａにおける－ＮＲ^ａ _２）のいずれでもよい。
上記Ｒ^４における置換アリール基が有し得るアミノ基（－ＮＲ^ａ _２）は、Ｒ^ａとして、上記Ｒ^４における置換アルキル基と同様の基を挙げることができる。
上記置換アミノ基としては、アミノ基の水素原子の１つ又は２つがアルキル基で置換されたアルキルアミノ基が好ましい。
アルキルアミノ基としては、例えば、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基及びピロリジノ基が挙げられる。アルキルアミノ基の炭素数は１～８が好ましく、１～４がより好ましい。

上記Ｒ^４として採りうる置換アリール基としては、総炭素数６～２２のアリール基が好ましい。例えば、４－クロロフェニル基、２，５－ジクロロフェニル基、ヒドロキシフェニル基、２，５－メトキシフェニル基、２－メトキシ－５－エトキシカルボニルフェニル基、４－エチルオキシカルボニルフェニル基、４－ブトキシカルボニルフェニル基、４－オクチルオキシカルボニルフェニル基、４－カルボキシフェニル基、３，５－ジカルボキシフェニル基、４－メタンスルホンアミドフェニル基、４－メチルフェニル基、４－メトキシフェニル基、４－エトキシフェニル基、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノフェニル基、４－（Ｎ－カルボキシメチル－Ｎ－エチルアミノ）フェニル基、４－｛Ｎ，Ｎ－ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノ｝フェニル基、４－｛ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノ｝カルボニルフェニル、４－エトキシカルボニルフェニル基、４－メタンスルホニルオキシフェニル基、４－アセチルスルファモイルフェニル、４－プロピオニルスルファモイルフェニル及び４－メタンスルホンアミドフェニルが挙げられる。

Ｒ^５とＲ^６は、互いに結合して６員環を形成していてもよい。
Ｒ^５とＲ^６が互いに結合して形成される６員環は、ベンゼン環が好ましい。

特に耐光性の観点から、一般式（Ａ１）中のＲ^１及びＲ^２のうち、Ｒ^１がアルキル基であることが好ましく、Ｒ^１がアルキル基であり、かつ、Ｒ^２がアルキル基又はアリール基であることがより好ましい。また同様の観点から、Ｒ^１及びＲ^２がいずれも、各々独立にアルキル基であることが更に好ましく、炭素数１～８のアルキル基であることが特に好ましい。

また、耐熱性及び耐光性の点からは、一般式（Ａ１）中のＲ^１及びＲ^２がいずれもアリール基であることも好ましい。
Ｒ^１及びＲ^２が各々独立にアリール基を表す場合、Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基であって、かつ、Ｒ^３及びＲ^６の少なくとも一方は水素原子であることが好ましい。中でも、耐熱性及び耐光性の観点から、Ｒ^３が水素原子を表し、Ｒ^５及びＲ^６が各々独立にアルキル基又はアリール基を表す場合がより好ましく、Ｒ^３が水素原子を表し、Ｒ^５及びＲ^６が各々独立にアルキル基を表す場合が更に好ましく、Ｒ^３が水素原子を表し、Ｒ^５及びＲ^６が各々独立にアルキル基を表し、かつ、Ｒ^５及びＲ^６が互いに結合して環を形成してピロール環に縮合し、ピロール環と共にインドール環を形成している場合が特に好ましい。即ち、上記一般式（Ａ１）で表される色素は、下記一般式（Ａ２）で表される色素であることが特に好ましい。

一般式（Ａ２）中、Ｒ^１～Ｒ^４は、一般式（Ａ１）中のＲ^１～Ｒ^４とそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。

一般式（Ａ２）において、Ｒ^１５は、置換基を示す。Ｒ^１５として採り得る置換基としては、上記の置換基群Ａに含まれる置換基を挙げることができる。Ｒ^１５としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アシル基又はアルコキシカルボニル基が好ましい。
Ｒ^１５として採り得るアルキル基及びアリール基は、Ｒ^３、Ｒ^５及びＲ^６として採り得るアルキル基及びアリール基とそれぞれ同義であり、好ましい態様もそれぞれ同様である。
Ｒ^１５として採り得るハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ^１５として採り得るアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチロイル基が挙げられる。
Ｒ^１５として採り得るアルコキシカルボニル基としては、炭素数２～５のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ノルマルプロポキシカルボニル及びイソプロポキシカルボニルが挙げられる。

ｎは、０～４の整数である。ｎは特に制限されないが、例えば、０又は１が好ましい。

以下に、一般式（Ａ１）で表される色素の具体例を示す。但し、本発明は、これらに限定されるものではない。
下記具体例において、Ｍｅはメチル基を示す。

染料Ａとしては、一般式（Ａ２）で表される色素の他に、特開平５－５３２４１号公報の段落［００１２］～［００６７］に記載の化合物、及び、特許２７０７３７１号公報の段落［００１１］～［００７６］に記載の化合物も、好ましく使用することができる。

（染料Ｄ）
染料Ｄは、波長選択吸収層中で波長６８０～７８０ｎｍに主吸収波長帯域を有するものであれば特に制限されず、各種染料を用いることができる。

染料Ｄの具体例としては、例えば、ポルフィリン系、スクアリン系、シアニン（ｃｙａｎｉｎｅ、ＣＹ）系の各色素（染料）が挙げられる。

これらの中でも、上記の染料ＤＣとしては、主吸収波長帯域における吸収波形が先鋭である点から、スクアリン系色素が好ましく、下記一般式（１）で表されるスクアリン系色素がより好ましい。

（一般式（１）表される色素）

一般式（１）中、Ａ及びＢが採りうる態様については、前述の染料Ｂ、染料Ｃにおいて記載する一般式（１）におけるＡ及びＢの通りである。すなわち、国際公開第２０１９／１８９４６３号の［００１６］～［００７０］に記載の一般式（１）で表されるスクアリン系色素におけるＡ及びＢの記載を適用するものである。

染料Ｄが一般式（１）で表される色素である場合、下記一般式（１４）で表される色素であることが好ましい。

一般式（１４）において、Ｒ^１及びＲ^２は、前述した一般式（２）におけるＲ^１及びＲ^２と同義である。また、Ｒ^４１及びＲ^４２も、前述した一般式（２）におけるＲ^１及びＲ^２と同義である。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４１及びＲ^４２は、中でも、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基が好ましく、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基がより好ましく、アルキル基又はアリール基がさらに好ましい。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４１及びＲ^４２はさらに置換基を有していてもよい。さらに有していてもよい置換基としては、前述の一般式（２）におけるＲ^１及びＲ^２がさらに有してもよい置換基、及び、前述の一般式（１）におけるＡ、Ｂ及びＧが有してもよい置換基Ｘが挙げられる。

一般式（１４）におけるＢ^１、Ｂ^２、Ｂ^３およびＢ^４は、それぞれ、前述した一般式（２）におけるＢ^１、Ｂ^２、Ｂ^３およびＢ^４と同義である。また、一般式（１４）におけるＢ^５、Ｂ^６、Ｂ^７およびＢ^８は、それぞれ、前述した一般式（２）におけるＢ^１、Ｂ^２、Ｂ^３およびＢ^４と同義である。
Ｂ^１、Ｂ^２、Ｂ^３、Ｂ^４、Ｂ^５、Ｂ^６、Ｂ^７およびＢ^８として採り得る炭素原子が有する置換基は、さらに置換基を有していてもよい。このさらに有していてもよい置換基としては、前述の一般式（１）におけるＡ、Ｂ及びＧが有してもよい置換基Ｘが挙げられる。

一般式（１４）において、Ｒ^１とＲ^２とは互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ^１又はＲ^２と、Ｂ^２又はＢ^３が有する置換基とは結合して環を形成してもよい。また、Ｒ^４１とＲ^４２とは互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ^４１又はＲ^４２と、Ｂ^６又はＢ^７が有する置換基とは結合して環を形成してもよい。
上記において、形成される環としてはヘテロ環又はヘテロアリール環が好ましく、形成される環の大きさは特に制限されないが、５員環又は６員環であることが好ましい。また、形成される環の数は特に限定されず、１個であってもよく、２個以上であってもよい。２個以上の環が形成される形態としては、例えば、Ｒ^１とＢ^２が有する置換基、及び、Ｒ^２とＢ^３が有する置換基とがそれぞれ結合して２個の環を形成する形態が挙げられる。

以下に、染料Ｄの具体例を示す。下記化合物Ｆ－１～Ｆ－３３は、一般式（１）で表される色素である。

本発明の波長選択吸収層中における上記染料Ａ～Ｄの含有量の合計は、本発明の効果が奏される限り特に制限されず、０．０１質量％以上が好ましく、０．０５質量％以上がより好ましく、０．１０質量％以上がさらに好ましく、０．１５質量％以上が特に好ましく、とりわけ０．２０質量％以上が好ましい。波長選択吸収フィルタ中の染料Ａ～Ｄの合計含有量が、上記の好ましい下限値以上であると、良好な反射防止効果が得られる。
また、本発明の波長選択吸収層中における上記染料Ａ～Ｄの含有量の合計は、通常は７０質量％以下であり、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。

本発明の波長選択吸収フィルタ中に含有され得る染料Ａ～Ｄそれぞれの含有量としては、好ましくは以下の通りである。
上記波長選択吸収層中における染料Ａの含有量は、０．０１～４５質量％が好ましく、０．１～３０質量％がより好ましい。上記波長選択吸収層中における染料Ｂの含有量は、０．０１～４５質量％が好ましく、０．１～３０質量％がより好ましい。上記波長選択吸収層中における染料Ｃの含有量は、０．０１～３０質量％が好ましく、０．１～２５質量％がより好ましい。上記波長選択吸収層中における染料Ｄの含有量は、０．０１～４５質量％が好ましく、０．１～３０質量％がより好ましい。

なお、染料Ｂ～Ｄの少なくとも一つが上記消光剤内蔵型色素である場合、上記波長選択吸収層中における上記消光剤内蔵型色素の含有量は、反射防止効果の点から、０．１質量％以上であることが好ましい。上限値は、４５質量％以下であることが好ましい。

＜樹脂＞
上記波長選択吸収層に含まれる樹脂（以下、「マトリックス樹脂」とも称す。）は、上記染料及び後記密着調整剤を分散（好ましくは溶解）することができ、密着調整剤による剥離フィルムからの優れた剥離性、直接貼り合わせてなる層との優れた密着性及び優れたクラック耐性の向上効果が得られる限り、特に限定されるものではない。外光反射の抑制及び輝度低下の抑制を充足することができ、しかも、表示装置（好ましくは自発光表示装置）の画像本来の色味を優れたレベルで保持することができることが、好ましい。
染料Ｂ～Ｄの少なくとも一つが国際公開第２０１９／１８９４６３号記載の一般式（１）で表されるスクアリン系色素である場合には、上記マトリックス樹脂は、このスクアリン系色素がより先鋭な吸収を示すことが可能な、低極性マトリックス樹脂であることが好ましい。上記スクアリン系色素がより先鋭な吸収を示すことにより、上述の関係式（Ｉ）を好ましいレベルで満たすことができ、反射防止と輝度低下抑制を優れたレベルで両立できる。ここで、低極性とは、下記関係式Ｉで定義されるｆｄ値が０．５０以上であることが好ましい。
関係式Ｉ：ｆｄ＝δｄ／（δｄ＋δｐ＋δｈ）
関係式Ｉにおいて、δｄ、δｐ及びδｈは、それぞれ、Ｈｏｙ法により算出される溶解度パラメータδｔに対する、Ｌｏｎｄｏｎ分散力に対応する項、双極子間力に対応する項、及び、水素結合力に対応する項を示す。具体的な算出方法については、後述の通りである。すなわち、ｆｄはδｄとδｐとδｈの和に対するδｄの比率を示す。
ｆｄ値を０．５０以上とすることにより、より先鋭な吸収波形が得られやすくなる。
また、波長選択吸収層がマトリックス樹脂を２種以上含む場合、ｆｄ値は、下記のようにして算出する。
ｆｄ＝Σ（ｗ_ｉ・ｆｄ_ｉ）
ここで、ｗ_ｉはｉ番目のマトリックス樹脂の質量分率、ｆｄ_ｉはｉ番目のマトリックス樹脂のｆｄ値を示す。

－ Ｌｏｎｄｏｎ分散力に対応する項δｄ －
Ｌｏｎｄｏｎ分散力に対応する項δｄは、文献“Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ ３^ｒｄ，ＥＬＳＥＶＩＥＲ，（１９９０）”の２１４～２２０頁の「２）Ｍｅｔｈｏｄ ｏｆ Ｈｏｙ （１９８５，１９８９）」欄に記載のＡｍｏｒｐｈｏｕｓ Ｐｏｌｙｍｅｒｓについて求められるδｄをいうものとし、上記文献の上記の欄の記載に従って算出される。

－ 双極子間力に対応する項δｐ －
双極子間力に対応する項δｐは、文献“Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ ３^ｒｄ，ＥＬＳＥＶＩＥＲ，（１９９０）”の２１４～２２０頁の「２）Ｍｅｔｈｏｄ ｏｆ Ｈｏｙ（１９８５，１９８９）」欄に記載のＡｍｏｒｐｈｏｕｓ Ｐｏｌｙｍｅｒｓについて求められるδｐをいうものとし、上記文献の上記の欄の記載に従って算出される。

－ 水素結合力に対応する項δｈ －
水素結合力に対応する項δｈは、文献“Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ ３^ｒｄ，ＥＬＳＥＶＩＥＲ，（１９９０）”の２１４～２２０頁の「２）Ｍｅｔｈｏｄ ｏｆ Ｈｏｙ（１９８５，１９８９）」欄に記載のＡｍｏｒｐｈｏｕｓ Ｐｏｌｙｍｅｒｓについて求められるδｈをいうものとし、上記文献の上記の欄の記載に従って算出される。

また、上記マトリックス樹脂が一定の疎水性を示す樹脂であると、上記波長選択吸収層の含水率を、例えば０．５％以下といった低含水率にすることができ、波長選択吸収層を含む本発明の波長選択吸収フィルタの耐光性を向上させる点から好ましい。
なお、樹脂とは、ポリマーに加えて任意の慣用成分を含んでいてもよい。ただし、上記マトリックス樹脂のｆｄは、マトリックス樹脂を構成するポリマーについての算出値である。

上記マトリックス樹脂の好ましい例としては、例えば、ポリスチレン樹脂及び環状ポリオレフィン樹脂（「ポリシクロオレフィン樹脂」とも称す。）が挙げられ、より優れたクラック耐性が得られる観点から、環状ポリオレフィン樹脂がより好ましい。これは、環状ポリオレフィン樹脂は、温度変化による体積変化が発生しても破断進度が長いために破断しにくいためと考えられる。
通常、ポリスチレン樹脂の上記ｆｄ値は０．４５～０．６０であり、環状ポリオレフィン樹脂の上記ｆｄ値は０．４５～０．７０である。上述のようにｆｄ値は０．５０以上のものを用いることが好ましい。
また、例えば、これらの好ましい樹脂に加えて、後述する伸張性樹脂成分等の波長選択吸収層に機能性を付与する樹脂成分を用いることも好ましい。すなわち、本発明においてマトリックス樹脂とは、上述の樹脂の他に、伸張性樹脂成分を含む意味で使用する。
上記マトリックス樹脂が、環状ポリオレフィン樹脂を含むことが、クラック耐性の点から好ましい。

（環状ポリオレフィン樹脂）
環状ポリオレフィン樹脂に含まれる環状ポリオレフィンを形成する環状オレフィン化合物としては、炭素－炭素二重結合を含む環構造を持つ化合物であれば特に制限されず、例えば、ノルボルネン化合物、ノルボルネン化合物以外の、単環の環状オレフィン化合物、環状共役ジエン化合物及びビニル脂環式炭化水素化合物等が挙げられる。
環状ポリオレフィンとしては、例えば、（１）ノルボルネン化合物に由来する構造単位を含む重合体、（２）ノルボルネン化合物以外の、単環の環状オレフィン化合物に由来する構造単位を含む重合体、（３）環状共役ジエン化合物に由来する構造単位を含む重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素化合物に由来する構造単位を含む重合体、及び、（１）～（４）の各化合物に由来する構造単位を含む重合体の水素化物等が挙げられる。
本発明において、ノルボルネン化合物に由来する構造単位を含む重合体、及び、単環の環状オレフィン化合物に由来する構造単位を含む重合体には、各化合物の開環重合体を含む。

環状ポリオレフィンとしては、特に制限されないが、下記一般式（Ａ－ＩＩ）又は（Ａ－ＩＩＩ）で表される、ノルボルネン化合物に由来する構造単位を有する重合体が好ましい。下記一般式（Ａ－ＩＩ）で表される構造単位を有する重合体はノルボルネン化合物の付加重合体であり、下記一般式（Ａ－ＩＩＩ）で表される構造単位を有する重合体はノルボルネン化合物の開環重合体である。これらのなかでも、環状ポリオレフィンとしては、より優れた剥離性が得られる観点から、下記一般式（Ａ－ＩＩＩ）で表される構造単位を有する重合体（ノルボルネン化合物の開環重合体）であることがより好ましい。

一般式（Ａ－ＩＩ）及び（Ａ－ＩＩＩ）中、ｍは０～４の整数であり、０又は１が好ましい。
一般式（Ａ－ＩＩ）及び（Ａ－ＩＩＩ）中、Ｒ^３～Ｒ^６は、各々独立に、水素原子又は炭素数１～１０の炭化水素基を示す。
一般式（Ａ－Ｉ）～（Ａ－ＩＩＩ）における炭化水素基は、炭素原子と水素原子からなる基であれば特に制限されず、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基及びアリール基（芳香族炭化水素基）等が挙げられる。中でも、アルキル基又はアリール基が好ましい。
一般式（Ａ－ＩＩ）及び（Ａ－ＩＩＩ）中、Ｘ^２及びＸ^３、Ｙ^２及びＹ^３は、各々独立に、水素原子、炭素数１～１０の炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数１～１０の炭化水素基、－（ＣＨ_２）ｎＣＯＯＲ^１１、－（ＣＨ_２）ｎＯＣＯＲ^１２、－（ＣＨ_２）ｎＮＣＯ、－（ＣＨ_２）ｎＮＯ_２、－（ＣＨ_２）ｎＣＮ、－（ＣＨ_２）ｎＣＯＮＲ^１３Ｒ^１４、－（ＣＨ_２）ｎＮＲ^１３Ｒ^１４、－（ＣＨ_２）ｎＯＺ若しくは－（ＣＨ_２）ｎＷ、又は、Ｘ^２とＹ^２若しくはＸ^３とＹ^３が互いに結合して形成する、（－ＣＯ）_２Ｏ若しくは（－ＣＯ）_２ＮＲ^１５を示す。
ここで、Ｒ^１１～Ｒ^１５は、各々独立に、水素原子又は炭素数１～２０の炭化水素基を示し、Ｚは炭化水素基又はハロゲンで置換された炭化水素基を示し、ＷはＳｉ（Ｒ^１６）_ｐＤ_{（３－ｐ）}（Ｒ^１６は炭素数１～１０の炭化水素基を示し、Ｄはハロゲン原子、－ＯＣＯＲ^１７又は－ＯＲ^１７（Ｒ^１７は炭素数１～１０の炭化水素基）を示す。ｐは０～３の整数である）を示す。ｎは、０～１０の整数であり、０～８が好ましく、０～６がより好ましい。

一般式（Ａ－ＩＩ）及び（Ａ－ＩＩＩ）において、Ｒ^３～Ｒ^６は、それぞれ、水素原子又は－ＣＨ_３が好ましく、透湿度の点で、水素原子であることがより好ましい。
Ｘ^２及びＸ^３は、それぞれ、水素原子、－ＣＨ_３又は－Ｃ_２Ｈ_５が好ましく、透湿度の点で、水素原子がより好ましい。
Ｙ^２及びＹ^３は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子（特に塩素原子）又は－（ＣＨ_２）ｎＣＯＯＲ^１１（特に－ＣＯＯＣＨ_３）が好ましく、透湿度の点で、水素原子がより好ましい。
その他の基は、適宜に選択される。

一般式（Ａ－ＩＩ）又は（Ａ－ＩＩＩ）で表される構造単位を有する重合体は、さらに下記一般式（Ａ－Ｉ）で表される構造単位を少なくとも１種以上含んでもよい。

一般式（Ａ－Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、水素原子又は炭素数１～１０の炭化水素基を示し、Ｘ^１及びＹ^１は、各々独立に、水素原子、炭素数１～１０の炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数１～１０の炭化水素基、－（ＣＨ_２）ｎＣＯＯＲ^１１、－（ＣＨ_２）ｎＯＣＯＲ^１２、－（ＣＨ_２）ｎＮＣＯ、－（ＣＨ_２）ｎＮＯ２、－（ＣＨ_２）ｎＣＮ、－（ＣＨ_２）ｎＣＯＮＲ^１３Ｒ^１４、－（ＣＨ_２）ｎＮＲ^１３Ｒ^１４、－（ＣＨ_２）ｎＯＺ、－（ＣＨ_２）ｎＷ、又は、Ｘ^１とＹ^１が互いに結合して形成する、（－ＣＯ）_２Ｏ若しくは（－ＣＯ）_２ＮＲ^１５を示す。
ここで、Ｒ^１１～Ｒ^１５は、各々独立に、水素原子又は炭素数１～２０の炭化水素基を示し、Ｚは炭化水素基又はハロゲンで置換された炭化水素基を示し、ＷはＳｉ（Ｒ^１６）_ｐＤ_{（３－ｐ）}（Ｒ^１６は炭素数１～１０の炭化水素基を示し、Ｄはハロゲン原子、－ＯＣＯＲ^１７又は－ＯＲ^１７（Ｒ^１７は炭素数１～１０の炭化水素基）を示す。ｐは０～３の整数である）を示す。ｎは０～１０の整数である。

密着性及び剥離性の観点から、一般式（Ａ－ＩＩ）又は（Ａ－ＩＩＩ）で表される構造単位を有する環状ポリオレフィンは、上述のノルボルネン化合物に由来する構造単位を、環状ポリオレフィンの全質量に対して９０質量％以下含有することが好ましく、３０～８５質量％含有することがより好ましく、５０～７９質量％含有することがさらに好ましく、６０～７５質量％含有することが最も好ましい。ここで、ノルボルネン化合物に由来する構造単位の割合は環状ポリオレフィン中の平均値を表す。

ノルボルネン化合物の付加（共）重合体は、特開平１０－７７３２号公報、特表２００２－５０４１８４号公報、米国公開特許公開第２００４／２２９１５７Ａ１、及び、国際公開第２００４／０７０４６３号等に記載されている。
ノルボルネン化合物の重合体としては、ノルボルネン化合物（例えば、ノルボルネンの多環状不飽和化合物）同士を付加重合することによって得られる。

また、ノルボルネン化合物の重合体として、必要に応じ、ノルボルネン化合物と、エチレン、プロピレン及びブテン等のオレフィン、ブタジエン及びイソプレン等の共役ジエン、エチリデンノルボルネン等の非共役ジエン、並びに、アクリロニトリル、アクリル酸、メタアクリル酸、無水マレイン酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、マレイミド、酢酸ビニル及び塩化ビニル等のエチレン性不飽和化合物とを付加共重合して得られる共重合体が挙げられる。中でも、ノルボルネン化合物とエチレンとの共重合体が好ましい。
このようなノルボルネン化合物の付加（共）重合体としては、三井化学社よりアペルの商品名で販売されており、ガラス転移温度（Ｔｇ）が互いに異なる、ＡＰＬ８００８Ｔ（Ｔｇ７０℃）、ＡＰＬ６０１１Ｔ（Ｔｇ１０５℃）、ＡＰＬ６０１３Ｔ（Ｔｇ１２５℃）、及び、ＡＰＬ６０１５Ｔ（Ｔｇ１４５℃）等が挙げられる。また、ポリプラスチック社より、ＴＯＰＡＳ８００７、同６０１３、同６０１５（いずれも商品名）等のペレットが市販されている。さらに、Ｆｅｒｒａｎｉａ社よりＡｐｐｅａｒ３０００（商品名）が市販されている。

上述の、ノルボルネン化合物の重合体は、市販品を使用することができる。例えば、ＪＳＲ社からアートン（Ａｒｔｏｎ）Ｇ、アートンＲＸ又はアートンＦという商品名で市販されており、また日本ゼオン社からゼオノア（Ｚｅｏｎｏｒ）ＺＦ１４、ＺＦ１６、ゼオネックス（Ｚｅｏｎｅｘ）２５０又はゼオネックス２８０という商品名で市販されている。

ノルボルネン化合物の重合体の水素化物は、ノルボルネン化合物等を付加重合又はメタセシス開環重合した後、水素添加することにより、合成できる。合成方法は、例えば、特開平１－２４０５１７号、特開平７－１９６７３６号、特開昭６０－２６０２４号、特開昭６２－１９８０１号、特開２００３－１５９７６７号及び特開２００４－３０９９７９号等の各公報に記載されている。

上記環状ポリオレフィンの分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液（重合体ポリマーが溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフ法で測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の質量平均分子量である。通常、５０００～５０００００、好ましくは８０００～２０００００、より好ましくは１００００～１０００００の範囲であることが好ましい。上記範囲の分子量を有するポリマーは、成形体の機械的強度、及び成形加工性を高い水準でバランスよく両立できる。

上記波長選択吸収層は、上記マトリックス樹脂を５質量％以上含むことが好ましく、２０質量％以上含むことがより好ましく、５０質量％以上含むことがさらに好ましく、６０質量％以上含むことが特に好ましい。
上記波長選択吸収層中の上記マトリックス樹脂の含有量は、通常は９９．９０質量％以下であり、９９．８５質量％以下が好ましい。
波長選択吸収層が含有する環状ポリオレフィンは２種以上であってもよく、組成比及び分子量の少なくとも一方が異なるポリマー同士を併用してもよい。この場合、各ポリマーの合計含有量が上記範囲内となる。

（伸長性樹脂成分）
上記波長選択吸収層は、樹脂成分として伸長性を示す成分（伸長性樹脂成分とも称す。）を適宜選んで含むことができる。具体的には、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン樹脂（ＡＢＳ樹脂）、スチレン－ブタジエン樹脂（ＳＢ樹脂）、イソプレン樹脂、ブタジエン樹脂、ポリエーテル－ウレタン樹脂及びシリコーン樹脂等を挙げることができる。また、これらの樹脂をさらに、適宜水素添加してもよい。
上記伸長性樹脂成分としては、ＡＢＳ樹脂又はＳＢ樹脂を用いることが好ましく、ＳＢ樹脂を用いることがより好ましい。

上記ＳＢ樹脂は、例えば、市販されているものが使用できる。このような市販品として、ＴＲ２０００、ＴＲ２００３、ＴＲ２２５０（以上、商品名、ＪＳＲ社製）、クリアレン２１０Ｍ、２２０Ｍ、７３０Ｖ（以上、商品名、デンカ社製）、アサフレックス８００Ｓ、８０５、８１０、８２５、８３０、８４０（以上、商品名、旭化成社製）、エポレックスＳＢ２４００、ＳＢ２６１０、ＳＢ２７１０（以上、商品名、住友化学社製）等を挙げることができる。

上記伸長性樹脂成分としては、伸長性樹脂成分を単独で用いて、厚さ３０μｍ、幅１０ｍｍの形態の試料を作製し、２５℃での破断伸度をＪＩＳ ７１２７に基づき計測した際に、破断伸度が１０％以上を示すものが好ましく、２０％以上を示すものがより好ましい。

（密着調整剤）
上記波長選択吸収層は、密着調整剤を含有する。
本発明の波長選択吸収フィルタにおいて、波長選択吸収層中に含まれる密着調整剤は、ガスバリア層、剥離フィルム、基材等の波長選択吸収層と直接貼り合わせてなる層との界面に偏在し、この密着調整剤の低極性部分が波長選択吸収層側、この密着調整剤の高極性部分がガスバリア層、剥離フィルムまたは基材等の波長選択吸収層と直接貼り合わせてなる層と相互作用することにより、剥離フィルムとの間では下記の優れた剥離性（優れた生産性）を示し、ガスバリア層又は基材等との間では、波長選択吸収層の粘着性が増すことにより、優れた密着性を付与する化合物を意味する。
すなわち、本発明の波長選択吸収フィルタにおいて、上記波長選択吸収層に含まれる密着調整剤は、後述する上記波長選択吸収層の製造方法のうち、剥離フィルムから波長選択吸収層の剥離を行う工程を含む方法により作製する場合には、上記密着調整剤は、剥離性を制御する成分として、剥離フィルムからの波長選択吸収層の剥離性を制御することで、剥離後の波長選択吸収層に剥ぎとった跡が付くことを防ぐことができ、また、剥離工程における種々の加工速度への対応が可能となる。これらの結果、波長選択吸収層の生産性及び得られた波長選択吸収フィルタ中の波長選択吸収層の品質を向上させることができる。
上述の通り、波長選択吸収層の厚みを特定の範囲の厚みとし、好ましくはこの厚みに加えて密着調整剤の含有量を適切に制御することにより、剥離フィルムとの剥離性を制御することができ、しかも、ガスバリア層等の波長選択吸収層と直接貼り合わせてなる層と波長選択吸収層との充分な密着性も確保でき、クラック耐性にも優れる。これらの結果、波長選択吸収層の品質に優れた波長選択吸収フィルタを得ることができる。

上記密着調整剤として用いる化合物（ポリマーを含む）に特に制限はなく、波長選択吸収層を構成する樹脂、剥離フィルム、波長選択吸収層と直接貼り合わせる層（例えば、基材、ガスバリア層）の種類に応じて適宜に選択することができる。例えば、波長選択吸収層を構成する樹脂として環状ポリオレフィン樹脂を用い、波長選択吸収層と直接貼り合わせる層として、ポリエチレンテレフタレート又はセルロースポリマーからなる剥離フィルム、後述の特定のガスバリア層を用いる場合、密着調整剤として、例えばポリエステル樹脂（ポリエステル系添加剤とも称す。）、水添ポリスチレン樹脂、変性ポリスチレン樹脂が好適に挙げられ、水添ポリスチレン樹脂又は変性ポリスチレン樹脂がより好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタに含有される密着調整剤については、ＩＲ測定等の種々の分析により定量することができる。

上記ポリエステル系添加剤は、多価塩基酸と多価アルコールとの脱水縮合反応、及び、多価アルコールへの無水二塩基酸の付加及び脱水縮合反応などの常法で得ることができ、二塩基酸とジオールとから形成される重縮合エステルが好ましい。

上記ポリエステル系添加剤の質量平均分子量（Ｍｗ）は５００～５０，０００であることが好ましく、７５０～４０，０００であることがより好ましく、２，０００～３０，０００であることがさらに好ましい。
上記ポリエステル系添加剤の質量平均分子量が上記好ましい下限値以上であると、脆性、湿熱耐久性の観点で好ましく、上記好ましい上限値以下であると、樹脂との相溶性の観点で好ましい。
上記ポリエステル系添加剤の質量平均分子量は、以下の条件で測定した標準ポリスチレン換算の質量平均分子量（Ｍｗ）の値である。分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）についても、同じ条件により測定することができる。なお、Ｍｎは標準ポリスチレン換算の数平均分子量である。
ＧＰＣ：ゲル浸透クロマトグラフ装置（東ソー社製ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ、
カラム；東ソー社製ガードカラムＨＸＬ－Ｈ、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ７０００ＨＸＬ、ＴＳＫ ｇｅｌ ＧＭＨＸＬ２本、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ２０００ＨＸＬを順次連結、
溶離液；テトラヒドロフラン、
流速；１ｍＬ／ｍｉｎ、
サンプル濃度；０．７～０．８質量％、
サンプル注入量；７０μＬ、
測定温度；４０℃、
検出器；示差屈折（ＲＩ）計（４０℃）、
標準物質；東ソー社製ＴＳＫスタンダードポリスチレン）

ポリエステル系添加剤を構成する二塩基酸成分としては、ジカルボン酸を好ましく挙げることができる。
このジカルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸等が挙げられ、芳香族ジカルボン酸、又は、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸の混合物を好ましく用いることができる。

芳香族ジカルボン酸の中でも、炭素数８～２０の芳香族ジカルボン酸が好ましく、炭素数８～１４の芳香族ジカルボン酸がより好ましい。具体的には、フタル酸、イソフタル酸及びテレフタル酸の少なくとも１種が好ましく挙げられる。

脂肪族ジカルボン酸の中でも、炭素数３～８の脂肪族ジカルボン酸が好ましく、炭素数４～６の脂肪族ジカルボン酸がより好ましい。具体的には、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸及びグルタル酸の少なくとも１種が好ましく挙げられ、コハク酸及びアジピン酸の少なくとも１種がより好ましい。

また、ポリエステル系添加剤を構成するジオール成分としては、脂肪族ジオール及び芳香族ジオール等が挙げられ、脂肪族ジオールが好ましい。
脂肪族ジオールの中でも、炭素数２～４の脂肪族ジオールが好ましく、炭素数２～３の脂肪族ジオールがより好ましい。
脂肪族ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２－プロピレングリコール、１，３－プロピレングリコール、１，３－ブチレングリコール及び１，４－ブチレングリコールなどが挙げることができ、これらを単独又は二種類以上を併用して用いることができる。

ポリエステル系添加剤は、特に、フタル酸、イソフタル酸及びテレフタル酸の少なくとも１種と脂肪族ジオールとを縮合して得られる化合物であることが好ましい。

ポリエステル系添加剤の末端はモノカルボン酸と反応させて封止してもよい。封止に用いるモノカルボン酸としては脂肪族モノカルボン酸が好ましく、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、安息香酸及びその誘導体が好ましく挙げられ、酢酸又はプロピオン酸がより好ましく、酢酸がさらに好ましい。

市販のポリエステル系添加剤としては、日本合成化学工業株式会社製エステル系樹脂ポリエスター（例えば、ＬＰ０５０、ＴＰ２９０、ＬＰ０３５、ＬＰ０３３、ＴＰ２１７、ＴＰ２２０）、東洋紡株式会社製エステル系樹脂バイロン（例えば、バイロン２４５、バイロンＧＫ８９０、バイロン１０３、バイロン２００、バイロン５５０．ＧＫ８８０）等が挙げられる。

上記水添ポリスチレン樹脂を構成する水添ポリスチレンとしては、特に限定されないが、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）に水素添加した水添スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、及び、スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合（ＳＩＳ）に水素を添加した水添スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＰＳ）等の、水素添加されたスチレン－ジエン系共重合体が好ましい。上記水添ポリスチレンは、１種のみを使用してもよいし、２種以上を使用してもよい。
また、上記変性ポリスチレン樹脂を構成する変性ポリスチレンとしては、特に限定されないが、極性基等の反応性基が導入されたポリスチレンが挙げられ、具体的には、マレイン酸変性等の酸変性ポリスチレン及びエポキシ変性ポリスチレンが好ましく挙げられる。

水添ポリスチレン系樹脂としては、例えば、旭化成社製「タフテックＨシリーズ」、シェルジャパン社製「クレイトンＧシリーズ」（以上、ＳＥＢＳ）、ＪＳＲ社製「ダイナロン」（水添スチレン－ブタジエンランダム共重合体）、クラレ社製「セプトン」（ＳＥＰＳ）などが挙げられる。
また、変性ポリスチレン系樹脂としては、例えば、旭化成社製「タフテックＭシリーズ」、ダイセル社製「エポフレンド」、ＪＳＲ社製「極性基変性ダイナロン」、東亞合成社製「レゼダ」などが挙げられる。

密着調整剤としては、剥離フィルムからの剥離性に優れ、ガスバリア層等の波長選択吸収層と直接貼り合わせる層との相互作用が大きく、密着性に優れる観点から、上記変性ポリスチレン樹脂（タフテックＭシリーズ等の極性基変性型の樹脂等）が特に好ましい。

上記波長選択吸収層中における密着調整剤の含有量は、剥離性の観点から、０．０５質量％以上であることが好ましく、０．１質量％以上であることがより好ましく、１．０質量％以上であることがさらに好ましく、２．０質量％以上であることが特に好ましい。また、上限値は、ヘイズの抑制の観点から、２５質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましく、１８質量％以下であることがさらに好ましく、１５質量％以下であることが特に好ましい。適度な密着性を得る観点から上記好ましい範囲であることが好ましく、例えば、１．０～１８質量％であることが好ましく、２．０～１５質量％であることがより好ましい。

＜その他の成分＞
上記波長選択吸収層は、前述の染料とマトリックス樹脂と密着調整剤に加え、会合抑制剤、褪色防止剤、マット剤及びレベリング（界面活性剤）剤等を含んでもよい。

＜会合抑制剤＞
本発明の波長選択吸収フィルタにおける波長選択吸収層は高極性基を有する化合物（以下会合抑制剤と称す）を含有することが好ましい。本発明において高極性基とは、エステル結合、カーボネート結合、ヒドロキシル基、アミノ基、ウレタン結合、アミド結合、ウレア結合、置換基を有していてもよい、ビスフェノキシ結合、含窒素環状化合物基、含酸素環状化合物基、アルキレングリコール構造、等の高極性基を含有する官能基を示す。アルキレングリコール構造としては、エチレングリコール鎖、プロピレングリコール鎖、テトラエチレングリコール鎖等のアルキレングリコール鎖及び、ポリエチレングリコール鎖、ポリプロピレングリコール鎖、ポリテトラエチレングリコール鎖等のポリアルキレングリコール鎖が挙げられる。
上記会合抑制剤は染料分子と相互作用することにより、染料分子同士の会合を抑制し、吸収波形を先鋭にし、耐光性を向上させる効果を発揮することができる。
上記会合抑制剤としては、下記一般式（２）～（１４）、（１８）および（１９）のいずれかで表される化合物が好ましい。

一般式（２）および（３）において、Ｚは炭素原子、酸素原子、硫黄原子または－ＮＲ^２５－を表し、Ｒ^２５は水素原子またはアルキル基を表す。Ｙ^２１及びＹ^２２はそれぞれ独立に、炭素数が１ないし２０の、エステル基（アシルオキシ基）、アルコキシカルボニル基、アミド基またはカルバモイル基を表す。ｍは１～５の整数を表し、ｎは１～６の整数を表す。

一般式（４）～（１２）において、Ｙ^３１～Ｙ^７０はそれぞれ独立に、炭素数が１ないし２０のエステル基、炭素数が１ないし２０のアルコキシカルボニル基、炭素数が１ないし２０のアミド基、炭素数が１ないし２０のカルバモイル基またはヒドロキシ基を表し、Ｖ^３１～Ｖ^４３はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１ないし２０の脂肪族基を表す。Ｌ^３１～Ｌ^８０はそれぞれ独立に、原子数０ないし４０かつ、炭素数０ないし２０の２価の飽和の連結基を表す。ここで、Ｌ^３１～Ｌ^８０の原子数が０であるということは、連結基の両端にある基が直接に単結合を形成していることを意味する。

式中、Ｒ^１はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３の炭素原子数の総和は１０以上である。

式中、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ^４およびＲ^５の炭素原子数の総和は１０以上である。

一般式（２）および（３）の化合物について説明する。
一般式（２）および（３）において、Ｚは炭素原子、酸素原子、硫黄原子、－ＮＲ^２５－を表し、Ｒ^２５は水素原子またはアルキル基を表す。Ｚを含んで構成される５または６員環は置換基を有していても良く、複数の置換基が互いに結合して環を形成していてもよい。Ｚを含んで構成される５または６員環の例としては、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオフェン、チアン、ピロリジン、ピペリジン、インドリン、イソインドリン、クロマン、イソクロマン、テトラヒドロ－２－フラノン、テトラヒドロ－２－ピロン、４－ブタンラクタム、６－ヘキサノラクタムなどを挙げることができる。
また、Ｚを含んで構成される５または６員環は、ラクトン構造またはラクタム構造、すなわち、Ｚの隣接炭素にオキソ基を有する環状エステルまたは環状アミド構造を含む。このような環状エステルまたは環状アミド構造の例としては、２－ピロリドン、２－ピペリドン、５－ペンタノリド、６－ヘキサノリドを挙げることができる。

Ｒ^２５は水素原子または、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であるアルキル基（鎖状、分岐状および環状のアルキル基を含む。）を表す。Ｒ２５で表されるアルキル基としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、ｔ－アミル、ｎ－ヘキシル、ｎ－オクチル、デシル、ドデシル、エイコシル、２－エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、２，６－ジメチルシクロヘキシル、４－ｔ－ブチルシクロヘキシル、シクロペンチル、１－アダマンチル、２－アダマンチル、ビシクロ［２．２．２］オクタン－３－イルなどを挙げることができる。Ｒ^２５で表されるアルキル基はさらに置換基を有していてもよい。

Ｙ^２１及びＹ^２２はそれぞれ独立に、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基またはカルバモイル基を表す。エステル基としては、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であり、例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、ｎ－ブチルカルボニルオキシ、ｉｓｏ－ブチルカルボニルオキシ、ｔ－ブチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ－ブチルカルボニルオキシ、ｎ－ペンチルカルボニルオキシ、ｔ－アミルカルボニルオキシ、ｎ－ヘキシルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルオキシ、１－エチルペンチルカルボニルオキシ、ｎ－ヘプチルカルボニルオキシ、ｎ－ノニルカルボニルオキシ、ｎ－ウンデシルカルボニルオキシ、ベンジルカルボニルオキシ、１－ナフタレンカルボニルオキシ、２－ナフタレンカルボニルオキシ、１－アダマンタンカルボニルオキシなどが例示できる。アルコキシカルボニル基としては、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ－プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｎ－ブトキシカルボニル、ｔ－ブトキシカルボニル、ｉｓｏ－ブチルオキシカルボニル、ｓｅｃ－ブチルオキシカルボニル、ｎ－ペンチルオキシカルボニル、ｔ－アミルオキシカルボニル、ｎ－ヘキシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２－エチルヘキシルオキシカルボニル、１－エチルプロピルオキシカルボニル、ｎ－オクチルオキシカルボニル、３，７－ジメチル－３－オクチルオキシカルボニル、３，５，５－トリメチルヘキシルオキシカルボニル、４－ｔ－ブチルシクロヘキシルオキシカルボニル、２，４－ジメチルペンチル－３－オキシカルボニル、１－アダマンタンオキシカルボニル、２－アダマンタンオキシカルボニル、ジシクロペンタジエニルオキシカルボニル、ｎ－デシルオキシカルボニル、ｎ－ドデシルオキシカルボニル、ｎ－テトラデシルオキシカルボニル、ｎ－ヘキサデシルオキシカルボニルなどが例示できる。アミド基としては、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であり、例えば、アセタミド、エチルカルボキサミド、ｎ－プロピルカルボキサミド、イソプロピルカルボキサミド、ｎ－ブチルカルボキサミド、ｔ－ブチルカルボキサミド、ｉｓｏ－ブチルカルボキサミド、ｓｅｃ－ブチルカルボキサミド、ｎ－ペンチルカルボキサミド、ｔ－アミルカルボキサミド、ｎ－ヘキシルカルボキサミド、シクロヘキシルカルボキサミド、１－エチルペンチルカルボキサミド、１－エチルプロピルカルボキサミド、ｎ－ヘプチルカルボキサミド、ｎ－オクチルカルボキサミド、１－アダマンタンカルボキサミド、２－アダマンタンカルボキサミド、ｎ－ノニルカルボキサミド、ｎ－ドデシルカルボキサミド、ｎ－ペンタカルボキサミド、ｎ－ヘキサデシルカルボキサミドなどが例示できる。カルバモイル基としては、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であり、例えば、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ｎ－プロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ｎ－ブチルカルバモイル、ｔ－ブチルカルバモイル、ｉｓｏ－ブチルカルバモイル、ｓｅｃ－ブチルカルバモイル、ｎ－ペンチルカルバモイル、ｔ－アミルカルバモイル、ｎ－ヘキシルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、２－エチルヘキシルカルバモイル、２－エチルブチルカルバモイル、ｔ－オクチルカルバモイル、ｎ－ヘプチルカルバモイル、ｎ－オクチルカルバモイル、１－アダマンタンカルバモイル、２－アダマンタンカルバモイル、ｎ－デシルカルバモイル、ｎ－ドデシルカルバモイル、ｎ－テトラデシルカルバモイル、ｎ－ヘキサデシルカルバモイルなどが例示できる。Ｙ^２１及びＹ^２２は互いに連結して環を形成してもよい。Ｙ^２１及びＹ^２２はさらに置換基を有していてもよい。

一般式（４）～（１２）の化合物について説明する。
一般式（４）～（１２）において、Ｙ^３１～Ｙ^７０はそれぞれ独立に、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基、カルバモイル基またはヒドロキシ基を表す。エステル基としては、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であり、例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、ｎ－ブチルカルボニルオキシ、ｉｓｏ－ブチルカルボニルオキシ、ｔ－ブチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ－ブチルカルボニルオキシ、ｎ－ペンチルカルボニルオキシ、ｔ－アミルカルボニルオキシ、ｎ－ヘキシルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルオキシ、１－エチルペンチルカルボニルオキシ、ｎ－ヘプチルカルボニルオキシ、ｎ－ノニルカルボニルオキシ、ｎ－ウンデシルカルボニルオキシ、ベンジルカルボニルオキシ、１－ナフタレンカルボニルオキシ、２－ナフタレンカルボニルオキシ、１－アダマンタンカルボニルオキシなどが挙げられる。アルコキシカルボニル基としては、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ－プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｎ－ブトキシカルボニル、ｔ－ブトキシカルボニル、ｉｓｏ－ブチルオキシカルボニル、ｓｅｃ－ブチルオキシカルボニル、ｎ－ペンチルオキシカルボニル、ｔ－アミルオキシカルボニル、ｎ－ヘキシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２－エチルヘキシルオキシカルボニルなど、１－エチルプロピルオキシカルボニル、ｎ－オクチルオキシカルボニル、３，７－ジメチル－３－オクチルオキシカルボニル、３，５，５－トリメチルヘキシルオキシカルボニル、４－ｔ－ブチルシクロヘキシルオキシカルボニル、２，４－ジメチルペンチル－３－オキシカルボニル、１－アダマンタンオキシカルボニル、２－アダマンタンオキシカルボニル、ジシクロペンタジエニルオキシカルボニル、ｎ－デシルオキシカルボニル、ｎ－ドデシルオキシカルボニル、ｎ－テトラデシルオキシカルボニル、ｎ－ヘキサデシルオキシカルボニルなどが挙げられる。アミド基としては、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であり、例えば、アセタミド、エチルカルボキサミド、ｎ－プロピルカルボキサミド、イソプロピルカルボキサミド、ｎ－ブチルカルボキサミド、ｔ－ブチルカルボキサミド、ｉｓｏ－ブチルカルボキサミド、ｓｅｃ－ブチルカルボキサミド、ｎ－ペンチルカルボキサミド、ｔ－アミルカルボキサミド、ｎ－ヘキシルカルボキサミド、シクロヘキシルカルボキサミド、１－エチルペンチルカルボキサミド、１－エチルプロピルカルボキサミド、ｎ－ヘプチルカルボキサミド、ｎ－オクチルカルボキサミド、１－アダマンタンカルボキサミド、２－アダマンタンカルボキサミド、ｎ－ノニルカルボキサミド、ｎ－ドデシルカルボキサミド、ｎ－ペンタカルボキサミド、ｎ－ヘキサデシルカルボキサミドなどが挙げられる。カルバモイル基としては、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２であり、例えば、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ｎ－プロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ｎ－ブチルカルバモイル、ｔ－ブチルカルバモイル、ｉｓｏ－ブチルカルバモイル、ｓｅｃ－ブチルカルバモイル、ｎ－ペンチルカルバモイル、ｔ－アミルカルバモイル、ｎ－ヘキシルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、２－エチルヘキシルカルバモイル、２－エチルブチルカルバモイル、ｔ－オクチルカルバモイル、ｎ－ヘプチルカルバモイル、ｎ－オクチルカルバモイル、１－アダマンタンカルバモイル、２－アダマンタンカルバモイル、ｎ－デシルカルバモイル、ｎ－ドデシルカルバモイル、ｎ－テトラデシルカルバモイル、ｎ－ヘキサデシルカルバモイルなどが挙げられる。Ｙ^３１～Ｙ^７０はさらに置換基を有していてもよい。

Ｖ^３１～Ｖ^４３はそれぞれ独立に水素原子または、好ましくは炭素数が１ないし２０、さらに好ましくは炭素数が１ないし１６、特に好ましくは、炭素数が１ないし１２である脂肪族基を表す。ここで、脂肪族基とは、好ましくは脂肪族炭化水素基であり、さらに好ましくは、アルキル基（鎖状、分岐状および環状のアルキル基を含む。）、アルケニル基またはアルキニル基である。アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、ｔ－アミル、ｎ－ヘキシル、ｎ－オクチル、デシル、ドデシル、エイコシル、２－エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、２，６－ジメチルシクロヘキシル、４－ｔ－ブチルシクロヘキシル、シクロペンチル、１－アダマンチル、２－アダマンチル、ビシクロ［２．２．２］オクタン－３－イルなどが挙げられ、アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、２－シクロペンテン－１－イル、２－シクロヘキセン－１－イルなどが挙げられ、アルキニル基としては、例えば、エチニル、プロパルギルなどを挙げることができる。Ｖ^３１～Ｖ^４３はさらに置換基を有していてもよい。

Ｌ^３１～Ｌ^８０はそれぞれ独立に、原子数０ないし４０かつ、炭素数０ないし２０の２価の飽和の連結基を表す。ここで、Ｌ３１－８０の原子数が０であるということは、連結基の両端にある基が直接に単結合を形成していることを意味する。Ｌ３１－７７の好ましい例としては、アルキレン基（例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、メチルエチレン、エチルエチレンなど）、環式の２価の基（例えば、ｃｉｓ－１，４－シクロヘキシレン、ｔｒａｎｓ－１，４－シクロヘキシレン、１，３－シクロペンチリデンなど）、エーテル、チオエーテル、エステル、アミド、スルホン、スルホキシド、スルフィド、スルホンアミド、ウレイレン、チオウレイレンなどを挙げることができる。これらの２価の基は互いに結合して二価の複合基を形成してもよく、複合置換基の例としては、－（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）_２－、－（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）－、－（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_２－、－（ＣＨ_２）_２Ｏ_２Ｃ（ＣＨ_２）_２－などを挙げることができる。Ｌ^３１～Ｌ^８０は、さらに置換基を有していてもよい。

一般式（４）～（１２）においてＹ^３１～Ｙ^７０、Ｖ^３１～Ｖ^４３およびＬ^３１～Ｌ^８０の組み合わせにより形成される化合物の好ましい例としては、クエン酸エステル（例えば、Ｏ－アセチルクエン酸トリエチル、Ｏ－アセチルクエン酸トリブチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、Ｏ－アセチルクエン酸トリ（エチルオキシカルボニルメチレン）エステルなど）、オレイン酸エステル（例えば、オレイン酸エチル、オレイン酸ブチル、オレイン酸２－エチルヘキシル、オレイン酸フェニル、オレイン酸シクロヘキシル、オレイン酸オクチルなど）、リシノール酸エステル（例えばリシノール酸メチルアセチルなど）、セバシン酸エステル（例えばセバシン酸ジブチルなど）、グリセリンのカルボン酸エステル（例えば、トリアセチン、トリブチリンなど）、グリコール酸エステル（例えば、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、メチルフタリルメチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレートなど）、ペンタエリスリトールのカルボン酸エステル（例えば、ペンタエリスリトールテトラアセテート、ペンタエリスリトールテトラブチレートなど）、ジペンタエリスリトールのカルボン酸エステル（例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアセテート、ジペンタエリスリトールヘキサブチレート、ジペンタエリスリトールテトラアセテートなど）、トリメチロールプロパンのカルボン酸エステル類（トリメチロールプロパントリアセテート、トリメチロールプロパンジアセテートモノプロピオネート、トリメチロールプロパントリプロピオネート、トリメチロールプロパントリブチレート、トリメチロールプロパントリピバロエート、トリメチロールプロパントリ（ｔ－ブチルアセテート）、トリメチロールプロパンジ（２－エチルヘキサネート）、トリメチロールプロパンテトラ（２－エチルヘキサネート）、トリメチロールプロパンジアセテートモノオクタネート、トリメチロールプロパントリオクタネート、トリメチロールプロパントリ（シクロヘキサンカルボキシレート）など）、特開平１１－２４６７０４公報に記載のグリセロールエステル類、特開２０００－６３５６０号公報に記載のジグリセロールエステル類、特開平１１－９２５７４号公報に記載のクエン酸エステル類、ピロリドンカルボン酸エステル類（２－ピロリドン－５－カルボン酸メチル、２－ピロリドン－５－カルボン酸エチル、２－ピロリドン－５－カルボン酸ブチル、２－ピロリドン－５－カルボン酸２－エチルヘキシル）、シクロヘキサンジカルボン酸エステル（ｃｉｓ－１，２－シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｔｒａｎｓ－１，２－シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｃｉｓ－１，４－シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｔｒａｎｓ－１，４－シクロヘキサンジカルボン酸ジブチルなど）、キシリトールカルボン酸エステル（キシリトールペンタアセテート、キシリトールテトラアセテート、キシリトールペンタプロピオネートなど）などが挙げられる。

一般式（１３）および（１４）の化合物について説明する。
上記一般式（１３）において、Ｒ^１はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３の炭素原子数の総和が１０以上であることが特に好ましい。また、一般式（１４）中、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。また、Ｒ^４およびＲ^５の炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１乃至２５のものが好ましく、６乃至２５のものがより好ましく、６乃至２０のもの（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ－ブチル、アミル、イソアミル、ｔ－アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、ｔ－オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシル）が特に好ましい。アリール基としては炭素原子数が６乃至３０のものが好ましく、６乃至２４のもの（例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニル）が特に好ましい。一般式（１３）または一般式（１４）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

（一般式（１８）で表される化合物）

上記式中、Ｒ^１はアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ^２およびＲ^３は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、アルキル基又はアリール基が好ましい。

Ｒ^１～Ｒ^３として採り得るアルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素数は１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１２がさらに好ましい。環状のアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等が挙げられ、シクロヘキシル基が特に好ましい。
Ｒ^１～Ｒ^３として採り得るアリール基は、炭素数は６～３６が好ましく、６～２４がより好ましい。なかでも、フェニル基又はナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。

Ｒ^１～Ｒ^３として採り得るアルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子およびヨウ素原子）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基、カルバモイル基又はアシルアミノ基が好ましく、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホニルアミノ基、カルバモイル基又はアシルアミノ基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、スルホニルアミノ基又はアシルアミノ基である。
なお、Ｒ^１～Ｒ^３として採り得るアルキル基およびアリール基が有していてもよい置換基は、さらに置換基で置換されていてもよい。さらに有していてもよい置換基としては、上記のＲ^１～Ｒ^３として採り得るアルキル基およびアリール基が有していてもよい置換基の記載を好ましく適用することができ、例えばアルキル基が挙げられる。

一般式（１８）で表される化合物は、耐光性をより向上させる観点から、環状構造を有することが好ましい。
環状構造としては、飽和もしくは不飽和の脂肪族炭化水素環、及び、芳香族炭化水素環のいずれでもよく、芳香族炭化水素環であることが好ましい。
化合物中における環状構造の数は特に制限されず、例えば、１～７個が好ましく、１～５個がより好ましく、２又は３個がさらに好ましい。
また、一般式（１８）で表される化合物は、長鎖アルキル基を有しないことが耐光性をより向上させる観点から好ましい。ここで長鎖アルキル基とは、アルキル基を構成する炭素－炭素結合のうち最長となる結合を構成する炭素原子の数が７以上である基を意味する。

以下に、一般式（１８）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

本発明の波長選択吸収層中における会合抑制剤の含有量は、０．１～３０質量％が好ましく、１～２０質量％がより好ましく、２～１５質量％がさらに好ましい。
上記会合抑制剤は、本発明の波長選択吸収層中において、染料の合計含有量１００質量部に対して、１０～１０００質量部の割合で含まれることが好ましく、３０～７００質量部の割合で含まれることがより好ましく、５０～５００質量部の割合で含まれることがさらに好ましい。

＜褪色防止剤＞
上記波長選択吸収層は、染料の褪色を防止するため、染料の褪色防止剤（単に、褪色防止剤とも称す。）を含有してもよい。
上記褪色防止剤としては、国際公開第２０１５／００５３９８号の段落［０１４３］～［０１６５］に記載の酸化防止剤、同［０１６６］～［０１９９］に記載のラジカル捕捉剤、及び同［０２０５］～［０２０６］に記載の劣化防止剤等、通常用いられる褪色防止剤を特に限定することなく用いることができる。

上記波長選択吸収層中の褪色防止剤の含有量は、波長選択吸収層の全質量１００質量％中、好ましくは０．１～１５質量％であり、より好ましくは１～１５質量％である。
褪色防止剤を上記好ましい範囲内で含有することにより、本発明の波長選択吸収フィルタは、波長選択吸収層の変色等の副作用を起こすことなく、染料（色素）の耐光性を向上させることができる。

（マット剤）
上記波長選択吸収層の表面には、本発明の効果を損なわない範囲で、滑り性付与及びブロッキング防止のために微粒子を添加することも好ましい。この微粒子としては、疎水基で表面が被覆され、二次粒子の態様をとっているシリカ（二酸化ケイ素，ＳｉＯ_２）が好ましく用いられる。なお、微粒子には、シリカとともに、あるいはシリカに代えて、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及び燐酸カルシウムなどの微粒子を用いてもよい。市販の微粒子としては、Ｒ９７２及びＮＸ９０Ｓ（いずれも日本アエロジル株式会社製、商品名）などが挙げられる。

この微粒子はいわゆるマット剤として機能し、微粒子添加により上記波長選択吸収層表面に微小な凹凸が形成され、この凹凸により、上記波長選択吸収層同士又は上記波長選択吸収層とその他のフィルム等が重なっても互いに貼り付かず、滑り性が確保される。
上記波長選択吸収層が微粒子としてのマット剤を含有する場合、フィルタ表面から微粒子が突出した突起による微小凹凸は、高さ３０ｎｍ以上の突起が１０^４個／ｍｍ^２以上存在すると、特に滑り性、ブロッキング性の改善効果が大きい。

マット剤微粒子は特に表層に付与することが、ブロッキング性及び滑り性改善の点から好ましい。表層に微粒子を付与する方法としては、重層流延及び塗布などによる手段があげられる。
上記波長選択吸収層中のマット剤の含有量は目的に応じて適宜に調整される。
ただし、本発明の波長選択吸収フィルタにおいては、波長選択吸収層の表面のうちガスバリア層と接する面には、本発明の効果を損なわない範囲で上記マット剤微粒子を付与することが好ましい。

（レベリング剤）
上記波長選択吸収層には、レベリング剤（界面活性剤）を適宜混合することができる。レベリング剤としては、常用の化合物を使用することができ、特に含フッ素界面活性剤が好ましい。具体的には、例えば、特開２００１－３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］～［００５６］記載の化合物が挙げられる。
上記波長選択吸収層中のレベリング剤の含有量は目的に応じて適宜に調整される。

上記波長選択吸収層は、上記各成分に加え、低分子可塑剤、オリゴマー系可塑剤、レタデーション調整剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤、フィラー及び相溶化剤等を含有してもよい。

＜波長選択吸収層の製造方法＞
上記波長選択吸収層は、常法により、溶液製膜法、溶融押出し法、又は、剥離フィルム上に任意の方法でコーティング層を形成する方法（コーティング法）で作製することができ、適宜延伸を組み合わせることもできる。
本発明の波長選択吸収フィルタは、上述の通り、剥離フィルム上に波長選択吸収層を形成する方法により作製した場合には、剥離フィルムからの優れた剥離性を示す。上記波長選択吸収層は、好ましくはコーティング法により作製される。

（溶液製膜法）
溶液製膜法は、波長選択吸収層の材料を有機溶媒又は水に溶解した溶液を調製し、濃縮工程及びろ過工程などを適宜実施した後に、基材上に均一に流延する。次に、生乾きの膜を基材から剥離し、適宜ウェブの両端をクリップなどで把持して乾燥ゾーンで溶媒を乾燥させる。また、延伸は、フィルムの乾燥中及び乾燥が終了した後に別途実施することもできる。

（溶融押出し法）
溶融押出し法は、波長選択吸収層の材料を熱で溶融し、ろ過工程などを適宜実施した後に、剥離フィルム上に均一流延する。次に、冷却等により固まったフィルムを剥離し、適宜延伸することができる。上記波長選択吸収層の主材料が熱可塑性ポリマー樹脂である場合、剥離フィルムの主材料も熱可塑性ポリマー樹脂を選定し、溶融状態にしたポリマー樹脂を公知の共押出し法で製膜することができる。この際、波長選択吸収層と剥離フィルムのポリマーの種類及び各層に混合する添加剤を調整したり、共押出ししたフィルムの延伸温度、延伸速度、延伸倍率等を調整したりすることによって、波長選択吸収層と剥離フィルムとの接着力を制御することができる。

共押出し方法としては、例えば、共押出Ｔダイ法、共押出インフレーション法、共押出ラミネーション法等が挙げられる。これらの中でも、共押出Ｔダイ法が好ましい。共押出Ｔダイ法にはフィードブロック方式及びマルチマニホールド方式がある。その中でも、厚みのばらつきを少なくできる点で、マルチマニホールド方式が特に好ましい。

共押出Ｔダイ法を採用する場合、Ｔダイを有する押出機における樹脂の溶融温度は、各樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）よりも、８０℃高い温度以上にすることが好ましく、１００℃高い温度以上にすることがより好ましく、また、１８０℃高い温度以下にすることが好ましく、１５０℃高い温度以下にすることがより好ましい。押出機での樹脂の溶融温度を上記好ましい範囲の下限値以上とすることにより樹脂の流動性を十分に高めることができ、上記好ましい範囲の上限値以下とすることにより樹脂の劣化を防止することができる。

通常、ダイスの開口部から押出されたシート状の溶融樹脂は、冷却ドラムに密着させるようにする。溶融樹脂を冷却ドラムに密着させる方法は、特に制限されず、例えば、エアナイフ方式、バキュームボックス方式、静電密着方式などが挙げられる。
冷却ドラムの数は特に制限されないが、通常は２本以上である。また、冷却ドラムの配置方法としては、例えば、直線型、Ｚ型、Ｌ型などが挙げられるが特に制限されない。またダイスの開口部から押出された溶融樹脂の冷却ドラムへの通し方も特に制限されない。

冷却ドラムの温度により、押出されたシート状の樹脂の冷却ドラムへの密着具合が変化する。冷却ドラムの温度を上げると密着はよくなるが、温度を上げすぎるとシート状の樹脂が冷却ドラムから剥がれずに、ドラムに巻きつく可能性がある。そのため、冷却ドラム温度は、ダイスから押し出す樹脂のうちドラムに接触する層の樹脂のガラス転移温度をＴｇとすると、好ましくは（Ｔｇ＋３０）℃以下、さらに好ましくは（Ｔｇ－５）℃～（Ｔｇ－４５）℃の範囲にする。冷却ドラム温度を上記好ましい範囲とすることにより滑り及びキズなどの不具合を防止することができる。

ここで、延伸前フィルム中の残留溶剤の含有量は少なくすることが好ましい。そのための手段としては、例えば、（１）原料となる樹脂の残留溶剤を少なくする；（２）延伸前フィルムを成形する前に樹脂を予備乾燥する；などの手段が挙げられる。予備乾燥は、例えば樹脂をペレットなどの形態にして、熱風乾燥機などで行われる。乾燥温度は１００℃以上が好ましく、乾燥時間は２時間以上が好ましい。予備乾燥を行うことにより、延伸前フィルム中の残留溶剤を低減させる事ができ、さらに押し出されたシート状の樹脂の発泡を防ぐことができる。

（コーティング法）
コーティング法では、剥離フィルムに上記波長選択吸収層の材料の溶液を塗布し、コーティング層を形成する。剥離フィルム表面には、コーティング層との接着性を制御するため、適宜、離型剤等を予め塗布しておいてもよい。コーティング層は、後工程で接着層を介して他の部材と積層させた後、剥離フィルムを剥離して用いることができる。接着層を構成する接着剤については、任意の接着剤を適宜使用することができる。なお、剥離フィルム上に、上記波長選択吸収層の材料の溶液をと塗布した状態又はコーティング層が積層された状態で、適宜剥離フィルムごと延伸することができる。

波長選択吸収層材料の溶液に用いられる溶媒は、波長選択吸収層材料を溶解又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で適宜選択することができる。

－染料（色素）及び密着調整剤の添加－
波長選択吸収層材料に上記染料及び上記密着調整剤を添加するタイミングは、製膜される時点で添加されていれば特に限定されない。例えば、上記マトリックス樹脂の合成時点で添加してもよいし、波長選択吸収層材料のコーティング液調製時に波長選択吸収層材料と混合してもよい。

－剥離フィルム－
波長選択吸収層を、コーティング法等で形成させるために用いられる剥離フィルムは、膜厚が５～１００μｍであることが好ましく、１０～７５μｍがより好ましく、１５～５５μｍがさらに好ましい。膜厚が上記好ましい下限値以上であると、十分な機械強度を確保しやすく、カール、シワ、座屈等の故障が生じにくい。また、膜厚が上記好ましい上限値以下であると、上記波長選択吸収層と剥離フィルムとの複層フィルムを、例えば長尺のロール形態で保管する場合に、複層フィルムにかかる面圧を適正な範囲に調整しやすく、接着の故障が生じにくい。

剥離フィルムの表面エネルギーは、特に限定されることはないが、波長選択吸収層の材料及びコーティング溶液の表面エネルギーと、剥離フィルムの波長選択吸収層を形成させる側の表面の表面エネルギーとの関係性を調整することによって、波長選択吸収層と剥離フィルムとの間の接着力を調整することができる。表面エネルギー差を小さくすれば、接着力が上昇する傾向があり、表面エネルギー差を大きくすれば、接着力が低下する傾向があり、適宜設定することができる。

水及びヨウ化メチレンの接触角値からＯｗｅｎｓの方法を用いて、剥離フィルムの表面エネルギーを計算することが出来る。接触角の測定には、例えば、ＤＭ９０１（協和界面科学社製、接触角計）を用いることができる。
剥離フィルムの波長選択吸収層を形成する側の表面エネルギーは、４１．０～４８．０ｍＮ／ｍであることが好ましく、４２．０～４８．０ｍＮ／ｍであることがより好ましい。表面エネルギーが上記好ましい下限値以上であると、波長選択吸収層の厚みの均一性を高められ、上記好ましい上限値以下であると、波長選択吸収層を剥離フィルムとの剥離力を適切な範囲に制御しやすい。

また、剥離フィルムの表面凹凸は、特に限定されることはないが、波長選択吸収層表面の表面エネルギー、硬度、表面凹凸と、剥離フィルムの波長選択吸収層を形成させる側とは反対側の表面の表面エネルギー、硬度との関係性に応じて、例えば上記波長選択吸収層と剥離フィルムとの複層フィルムを長尺のロール形態で保管する場合の接着故障を防ぐ目的で調整することができる。表面凹凸を大きくすれば、接着故障を抑制する傾向にあり、表面凹凸を小さくすれば、波長選択吸収層の表面凹凸が減少し、波長選択吸収層のヘイズが小さくなる傾向にあり、適宜設定することができる。

このような剥離フィルムとしては、任意の素材及びフィルムを適宜使用することができる。具体的な材料として、ポリエステルポリマー（ポリエチレンテレフタレートフィルムを含む）、オレフィンポリマー、シクロオレフィンポリマー、（メタ）アクリルポリマー、セルロースポリマー（セルロースエステルポリマーをけん化したものが好ましく、セルロースアシレートポリマーをけん化したものがより好ましい。）、ポリアミドポリマー等を挙げることができる。また、剥離フィルムの表面エネルギーを調整する目的で、適宜表面処理を行うことが出来る。表面エネルギーを低下させるには、例えば、コロナ処理、常温プラズマ処理、鹸化処理等を行うことができ、表面エネルギーを上昇させるには、シリコーン処理、フッ素処理、オレフィン処理等を行うことができる。
上記剥離フィルムの材料としては、ポリエステルポリマー又はセルロースポリマーが好ましく、ポリエステルポリマー又はセルロースエステルポリマーをけん化してなるセルロースポリマーがより好ましく、ポリエステルポリマーがさらに好ましく、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。

また、剥離フィルムは、フィルムの片面又は両面に易接着層を有する剥離フィルム（以下、「易接着層付き剥離フィルム」と略す。）であってもよい。
上記易接着層は、フィルム上に積層されてなる被膜膜状のものをいい、通常、フィルムの製膜工程で製膜と同時に形成する方法により、好ましく形成される。具体的には、易接着層は、溶融押出後、縦延伸されてフィルム化された後で、フィルムの片面又は両面に、易接着層を形成する樹脂組成物からなる塗布液を塗布し、塗布後フィルムとともに横延伸され、そこで乾燥、硬化させ被膜を形成させるものである。かかる塗布液としては、易接着層の構成樹脂を水に溶解又は分散させた液が好ましく、そのため易接着層の構成樹脂は水分散性であることが好ましい。
上記易接着層の構成樹脂としては、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂などを好適に用いることができる。特に、波長選択吸収層からの優れた剥離性を示す点から、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂及びウレタン樹脂から選ばれる１種以上の樹脂を用いることが好ましい。
上記剥離フィルムとしては、なかでも、易接着層付きポリエチレンテレフタレートフィルム（例えば、ダイアホイルＴ６００Ｅ５０（商品名、三菱ケミカル社製））が好ましい。

－波長選択吸収層と剥離フィルムとの剥離力－
上記波長選択吸収層を、コーティング法で形成させる場合、波長選択吸収層と剥離フィルムとの間の剥離力は、波長選択吸収層に密着調整剤を含有させ、波長選択吸収層の膜厚を特定の範囲の厚みとすることによって調節することができ、優れた剥離性を示すものとすることができる。これに加えて、波長選択吸収層の材料、剥離フィルムの材料、波長選択吸収層の内部歪み等を調整することにより、さらに好適な範囲へと制御することができる。この剥離力は、例えば、後述の実施例に記載の剥離フィルム剥離性の評価に記載の方法により、剥離フィルムを９０°方向に剥がす試験で測定することができ、３００ｍｍ／分の速度で測定したときの剥離力が、０．１２Ｎ／２５ｍｍ以上０．３０Ｎ／２５ｍｍ未満が好ましく、０．１５Ｎ／２５ｍｍ以上０．３０Ｎ／２５ｍｍ未満がより好ましい。上記好ましい下限値以上であれば、剥離フィルムの剥離工程以外での剥離を防ぐことができ、上記好ましい上限値以下であれば、剥離工程における剥離不良（例えば、ジッピング及び波長選択吸収層の割れ）を防ぐことができる。

本発明の積層体は、本発明の波長選択吸収フィルタと、上記波長選択吸収層に接して設けられた上記剥離フィルムとを有する積層体であって、上記条件により測定される剥離フィルムから波長選択吸収層を剥離する際の剥離力が、０．１２Ｎ／２５ｍｍ以上０．３０Ｎ／２５ｍｍ未満であり、０．１５Ｎ／２５ｍｍ以上０．３０Ｎ／２５ｍｍ未満であることが好ましい。
本発明の積層体から上記剥離フィルムを剥離することによって、上述の通り、本発明の波長選択吸収フィルタを優れた生産性で得ることができる。

＜波長選択吸収層の膜厚＞
本発明の波長選択吸収層の膜厚は、０．５～２．０μｍであり、１．０～２．０μｍが好ましい。膜厚を上記上限値以下とすることにより、波長選択吸収層を剥離フィルムから剥離させる際には波長選択吸収層が変形しにくくなることで、剥離フィルムからの優れた剥離性を示すことができる。一方、膜厚を上記下限値以上とすることにより、脆性破壊の発生を抑制することができ、結果としてガスバリア層等の直接貼り合わせてなる層との密着性の低下を抑制することができる。
また、本発明の波長選択吸収層の膜厚を１．０～１．５μｍとすることが、より優れた剥離フィルムからの剥離性を得られる観点から、より好ましい。
本発明において膜厚が０．５～２．０μｍであるとは、波長選択吸収層の厚さを、どの部位で図っても０．５～２．０μｍの範囲内にあることを意味する。このことは、膜厚１．０～２．０μｍ、膜厚１．０～１．５μｍについても同様である。膜厚は、電子マイクロメーター（例えば、アンリツ社製の電子マイクロメーター）により測定することができる。後述の実施例に記載の波長選択吸収層の膜厚は、いずれも、アンリツ社製の電子マイクロメーターにより測定した値である。

＜波長選択吸収層の透過率＞
波長選択吸収層の透過率は、波長選択吸収層中に含有される染料が有する主吸収波長帯域に応じて、下記のように調整することが好ましい。
上述の染料Ａを含有する場合、上記波長選択吸収層の波長３９０～４４０ｎｍにおける最小透過率は０％以上９８％以下が好ましく、０％以上９０％以下がより好ましく、０％以上８０％以下がさらに好ましい。
また、上述の染料Ｂを含有する場合、上記波長選択吸収層の波長４８０～５２０ｎｍにおける最小透過率は５％以上９８％以下が好ましく、１０％以上９５％以下がより好ましく、２０％以上９０％以下がさらに好ましい。
また、上述の染料Ｃを含有する場合、上記波長選択吸収層の波長５８０～６２０ｎｍにおける最小透過率は０％以上９９％以下が好ましく、０％以上９８％以下がより好ましく、０％以上９５％以下がさらに好ましい。
また、上述の染料Ｄを含有する場合、上記波長選択吸収層の波長６８０～７８０ｎｍにおける最小透過率は０％以上９５％以下が好ましく、０％以上９０％以下がより好ましく、０％以上８０％以下がさらに好ましい。
透過率を上記範囲に調節した上記波長選択吸収層を自発光ディスプレイに組み込むことにより、より高輝度で、外光反射もより抑制され、反射光の色差が小さい表示性能が得られる。
上記波長選択吸収層の透過率は、染料の種類及び添加量により調整することができる。

＜波長選択吸収層の処理＞
波長選択吸収層には任意のグロー放電処理、コロナ放電処理、又は、アルカリ鹸化処理などにより親水化処理を施すことが好ましく、コロナ放電処理が最も好ましく用いられる。特開平６－９４９１５号公報、又は同６－１１８２３２号公報などに開示されている方法などを適用することも好ましい。

なお、得られた膜には、必要に応じて、熱処理工程、過熱水蒸気接触工程、有機溶媒接触工程などを実施することができる。また、適宜に表面処理を実施してもよい。

また、粘着剤層として、（メタ）アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シリコーン系樹脂等をベースポリマーとし、そこに、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物のような架橋剤を加えた粘着剤組成物からなる層を適用することもできる。
好ましくは、後述の自発光ディスプレイにおける粘着剤層の記載を適用することができる。

＜＜ガスバリア層＞＞
本発明の波長選択吸収フィルタは、上記波長選択吸収層の少なくとも片面にガスバリア層を有することが好ましく、有することが好ましいこのガスバリア層は、結晶性樹脂を含有し、層の厚みが０．１～１０μｍであって、層の酸素透過度が６０ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ以下である。
上記ガスバリア層において、上記「結晶性樹脂」は、温度を上げた際に結晶から液体に相転移する融点が存在する樹脂であって、上記ガスバリア層に、酸素ガスに係るガスバリア性を付与できるものである。

本発明の波長選択吸収フィルタは、ガスバリア層を、本発明の波長選択吸収フィルタを用いた場合に上記波長選択吸収層が空気と接することとなる面に少なくとも有することで、上記波長選択吸収層中の染料の吸収強度の低下を抑制することができる。上記波長選択吸収層の空気と接する界面にガスバリア層を設ける限り、ガスバリア層は、波長選択吸収層の片面にのみ設けられていてもよく、両面に設けられていてもよい。

（結晶性樹脂）
上記ガスバリア層に含まれる結晶性樹脂としては、ガスバリア性を有する結晶性樹脂であって、ガスバリア層に所望の酸素透過度を付与できる限り、特に制限することなく用いることができる。
上記結晶性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール及びポリ塩化ビニリデンを挙げることができ、結晶部がガスの透過を効果的に抑制することができる点から、ポリビニルアルコールが好ましい。
上記ポリビニルアルコールは、変性されていてもよく、変性されていなくてもよい。変性ポリビニルアルコールとしては、アセトアセチル基、カルボキシル等の基を導入した変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
上記ポリビニルアルコールのけん化度は、酸素ガスバリア性をより高める観点から、８０．０ｍｏｌ％以上が好ましく、９０．０ｍｏｌ％以上がより好ましく、９７．０ｍｏｌ％以上がさらに好ましく、９８．０ｍｏｌ％以上が特に好ましい。上限値に特に制限はないが、９９．９９ｍｏｌ％以下が実際的である。上記ポリビニルアルコールのけん化度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６ １９９４に記載の方法に基づき算出される値である。
上記ガスバリア層は、本発明の効果を損なわない範囲で、通常ガスバリア層に含有される任意の成分を含んでいてもよい。例えば、上記結晶性樹脂に加え、非晶性樹脂材料、ゾルゲル材料などの有機－無機ハイブリッド系材料、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ_ｘ、ＳｉＯＮ、ＳｉＮ_ｘ及びＡｌ_２Ｏ_３などの無機系材料を含有していてもよい。
また、上記ガスバリア層は、本発明の効果を損なわない範囲で、製造工程に起因した水及び有機溶媒等の溶媒を含有していてもよい。
上記ガスバリア層中の結晶性樹脂の含有量は、例えば、ガスバリア層の全質量１００質量％中、９０質量％以上が好ましく、９５質量％以上がより好ましい。上限値に特に制限はないが、１００質量％とすることもできる。

上記ガスバリア層の酸素透過度は、６０ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であり、５０ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが好ましく、３０ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることがより好ましく、１０ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることがさらに好ましく、５ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが特に好ましく、１ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが最も好ましい。実際的な下限値は、０．００１ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ以上であり、例えば、０．０５ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍを越えることが好ましい。酸素透過度が上記好ましい範囲内にあることにより、耐光性をより向上させることができる。
なお、ガスバリア層の酸素透過度は、ＪＩＳ Ｋ ７１２６－２ ２００６に基づくガス透過度試験方法に基づいて測定した値である。測定装置としては、例えば、ＭＯＣＯＮ社製の酸素透過率測定器、ＯＸ－ＴＲＡＮ２／２１（商品名）を用いることができる。なお、測定条件は、温度２５℃、相対湿度５０％とする。
酸素透過度は、ＳＩ単位として、（ｆｍ）／（ｓ・Ｐａ）を用いることができる。（１ｆｍ）／（ｓ・Ｐａ）＝８．７５２（ｃｃ）／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）で換算することが可能である。ｆｍはフェムトメートルと読み、１ｆｍ＝１０^－１５ｍを表す。

ガスバリア層の厚みは、耐光性をより向上させる観点から、０．５μｍ～５μｍが好ましく、１．０μｍ～４．０μｍがより好ましい。
上記ガスバリア層の厚みは、日立ハイテクノロジーズ社製の電界放出型走査電子顕微鏡Ｓ－４８００（商品名）を用いて積層体の断面写真を撮影し、厚みを読み取る。

上記ガスバリア層に含まれる結晶性樹脂の結晶化度は、２５％以上であることが好ましく、４０％以上であることがより好ましく、４５％以上であることがさらに好ましい。上限値に特に制限はないが、５５％以下であることが実際的であり、５０％以下であることが好ましい。
上記ガスバリア層に含まれる結晶性樹脂の結晶化度は、Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｏｌ． Ｓｃｉ．， ８１， ７６２（２００１）に記載の方法に基づき、以下の方法により測定、算出される値である。
ＤＳＣ（示唆走査熱量計）を用い、ガスバリア層から剥離した試料について、２０℃から２６０℃の範囲にかけて１０℃／ｍｉｎで昇温し、融解熱１を測定する。また、完全結晶の溶解熱２として、Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｏｌ． Ｓｃｉ．， ８１， ７６２（２００１）に記載の値を用いる。得られた融解熱１及び融解熱２を用い、以下の式により結晶化度を算出する。
［結晶化度（％）］＝（［融解熱１］／［融解熱２］）×１００
具体的には、上記結晶化度は、後述の実施例に記載の方法により測定、算出される値である。なお、融解熱１と融解熱２とは同じ単位であればよく、通常、Ｊｇ^－１である。

＜ガスバリア層の製造方法＞
ガスバリア層を形成する方法は特に制限されないが、常法により、スピン塗布及びスリット塗布等のキャスト法に作成する方法が挙げられる。また、市販の樹脂製ガスバリアフィルム又はあらかじめ作製しておいた樹脂製ガスバリアフィルムを、上記波長選択吸収層に貼り合せる方法などを挙げることができる。

＜光学フィルム＞
本発明の波長選択吸収フィルタは、上記波長選択吸収層及び上記ガスバリア層以外に、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の光学フィルムを適宜有していてもよい。
上記任意の光学フィルムについては、光学特性及び材料のいずれについても特に制限はないが、セルロースエステル樹脂、アクリル樹脂、環状オレフィン樹脂及びポリエチレンテレフタレート樹脂の少なくともいずれかを含む（あるいは主成分とする）フィルムを好ましく用いることができる。なお、光学的に等方性のフィルムを用いても、光学的に異方性の位相差フィルムを用いてもよい。
上記任意の光学フィルムについて、セルロースエステル樹脂を含むものとしては、例えばフジタックＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製）などを利用することができる。
上記任意の光学フィルムについて、アクリル樹脂を含むものとしては、特許第４５７００４２号公報に記載のスチレン系樹脂を含有する（メタ）アクリル樹脂を含む光学フィルム、特許第５０４１５３２号公報に記載のグルタルイミド環構造を主鎖に有する（メタ）アクリル樹脂を含む光学フィルム、特開２００９－１２２６６４号公報に記載のラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂を含む光学フィルム、特開２００９－１３９７５４号公報に記載のグルタル酸無水物単位を有する（メタ）アクリル系樹脂を含む光学フィルムを利用することができる。
また、上記任意の光学フィルムについて、環状オレフィン樹脂を含むものとしては、特開２００９－２３７３７６号公報の段落［００２９］以降に記載の環状オレフィン系樹脂フィルム、特許第４８８１８２７号公報、特開２００８－０６３５３６号公報に記載のＲｔｈを低減する添加剤を含有する環状オレフィン樹脂フィルムを利用することができる。
また、上記任意の光学フィルムは、紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤としては、特に制限することなく常用の化合物を使用できる。
上記紫外線吸収層中の紫外線吸収剤の含有量は目的に応じて適宜に調整される。

＜＜波長選択吸収フィルタの製造方法＞＞
本発明の波長選択吸収フィルタは、上述の波長選択吸収層の製造方法を用いて、ガスバリア層を有する場合にはさらにガスバリア層の製造方法を用いて、作製することができる。
例えば、上述の製造方法により作製した波長選択吸収層上に、直接、上述のガスバリア層を作製する方法が挙げられる。この場合、波長選択吸収層のうち、ガスバリア層を設ける面には、コロナ処理を施しておくことも好ましい。
また、上記任意の光学フィルムを設ける場合には、粘着剤層を介して貼り合わせることも好ましい。例えば、波長選択吸収層上にガスバリア層を設けた後、さらに粘着剤層を介して紫外線吸収剤を含有する光学フィルムを貼り合わせることも好ましい。

［表示装置］
本発明の表示装置は、本発明の波長選択吸収フィルタを含む。
本発明の表示装置としては、本発明の波長選択吸収フィルタを、外光反射防止機能を奏するような位置に含む構成である限り（上記ガスバリア層を含む場合には、さらに、上記ガスバリア層が少なくとも上記波長選択吸収層よりも外光側に位置するような構成で含む限り）、その他の構成としては、通常用いられている表示装置の構成を特に制限することなく用いることができる。
表示装置としては、特に制限はされないが、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示装置、マイクロ発光ダイオード（マイクロＬＥＤ）表示装置、ミニ発光ダイオード（ミニＬＥＤ）表示装置等の、発光ダイオードを発光源として備える自発光型の表示装置（自発光表示装置）が、本発明の波長選択吸収フィルタを含むことにより、本発明の波長選択吸収フィルタが示す優れた耐光性をより効果的に奏することができる観点から好ましい。
上記自発光表示装置の構成例としては、特に制限されないが、例えば、外光に対して反対側から順に、ガラス、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を含む層、発光素子、本発明の波長選択吸収フィルタ及び表面フィルムを含む表示装置が挙げられる。
上記自発光表示装置の表示光の光源は、発光ダイオードを発光源として備えるものである限り、青色単色でもよく、青色、緑色及び赤色の三原色を用いてもよい。なかでも、波長域４４０ｎｍ～４７０ｎｍで発光する青色光源、波長域５２０ｎｍ～５６０ｎｍで発光する緑色光源及び波長域６２０ｎｍ～６６０ｎｍで発光する赤色光源を合わせて用いることが特に好ましい。
本発明において、ミニＬＥＤはチップサイズ１００～２００μｍ角程度のＬＥＤを意味し、マイクロＬＥＤはチップサイズ１００μｍ角未満のＬＥＤを意味する。マイクロＬＥＤとしては、例えば、国際公開第２０１４／２０４６９４号等に記載のマイクロＬＥＤが好ましく挙げられる。

上記自発光表示装置は、円偏光板に代わる反射防止手段として本発明の波長選択吸収フィルタを備えた構成とした場合にも、上記波長選択吸収層中に含有される染料の吸光度を優れたレベルで維持することができる。
さらに、上記波長選択吸収層中に含有する染料を、前述の通り、４種の染料Ａ～Ｄを組合わせて含有する形態とした場合には、染料の混合に伴う耐光性の低下を上回る、優れたレベルの耐光性を示すことができる。
つまり、通常、上記表面フィルムとして反射防止機能を有する円偏光板が使用されるところ、本発明の波長選択吸収フィルタを採用することにより、自発光表示装置を含む本発明の表示装置は、円偏光板を用いることなく上記優れた効果を発揮することができる。なお、本発明の表示装置（自発光表示装置を含む。）の構成として、本発明の効果を損なわない範囲で、反射防止フィルムを併用することを妨げるものではない。

＜粘着剤層＞
本発明の表示装置（自発光表示装置を含む。）において、本発明の波長選択吸収フィルタは、外光とは反対側に位置する面において、粘着剤層を介してガラス（基材）と貼り合わされていることが好ましい。

粘着剤層の形成に用いられる粘着剤組成物の組成は、特に限定されず、例えば、質量平均分子量（Ｍ_ｗ）が５００，０００以上のベース樹脂を含む粘着剤組成物を使用してもよい。ベース樹脂の質量平均分子量が５００，０００未満のとき、凝集力低下によって高温及び多湿の少なくとも一方の条件下で気泡又は剥離現象が生ずる等、粘着剤の耐久信頼性が低下する場合がある。ベース樹脂の質量平均分子量の上限は特に限定されないが、質量平均分子量が過度に増加すれば、粘度上昇によりコーティング性が低下する場合があるため、２，０００，０００以下が好ましい。

ベース樹脂の具体的な種類は特に限定されず、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ゴム系樹脂及びＥＶＡ（エチレン－酢酸ビニル）系樹脂が挙げられる。液晶表示装置のような光学装置に適用される場合、透明性、酸化抵抗性及び黄変に対する抵抗性に優れている側面から、アクリル系樹脂が主に用いられるが、これに制限されるものではない。

アクリル系樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル単量体８０質量部～９９．８質量部；及び、他の架橋性単量体０．０２質量部～２０質量部（好ましくは、０．２質量部～２０質量部）を含む単量体混合物の重合体が挙げられる。

（メタ）アクリル酸エステル単量体の種類は特に限定されず、例えば、アルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。この場合、単量体に含まれるアルキル基が過度に長鎖になれば、粘着剤の凝集力が低下し、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）又は粘着性の調節が難しくなる場合があるため、炭素数１～１４のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステル単量体を用いることが好ましい。このような単量体の例は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ－ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート及びテトラデシル（メタ）アクリレートが挙げられる。本発明では、上記単量体を単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。（メタ）アクリル酸エステル単量体は、単量体混合物１００質量部中、８０質量部～９９．８質量部含まれることが好ましい。（メタ）アクリル酸エステル単量体の含有量が８０質量部未満のとき、初期接着力が低下する場合があり、９９．８質量部を超えると、凝集力低下によって耐久性が低下する場合がある。

単量体混合物に含まれる他の架橋性単量体は、後述する多官能性架橋剤と反応して粘着剤に凝集力を付与し、粘着力及び耐久信頼性などを調節する役割をする架橋性官能基を重合体に付与することができる。このような架橋性単量体としては、ヒドロキシ基含有単量体、カルボキシル基含有単量体及び窒素含有単量体が挙げられる。ヒドロキシ基含有単量体としては、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６－ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８－ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチレングリコール（メタ）アクリレート又は２－ヒドロキシプロピレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。カルボキシル基含有単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、２－（メタ）アクリロイルオキシ酢酸、３－（メタ）アクリロイルオキシプロピル酸、４－（メタ）アクリロイルオキシブチル酸、アクリル酸二量体、イタコン酸、マレイン酸及びマレイン酸無水物が挙げられる。窒素含有単量体としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ビニルピロリドン又はＮ－ビニルカプロラクタムが挙げられる。本発明では、これらの架橋性単量体を単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

他の架橋性単量体は、単量体混合物１００質量部中、０．０２質量部～２０質量部含まれ得る。含有量が０．０２質量部未満のとき、粘着剤の耐久信頼性が低下する場合があり、２０質量部を超えると、粘着性及び剥離性の少なくとも一方が低下する場合がある。

単量体混合物を用いて重合体を製造する方法は特に限定されず、例えば、溶液重合、光重合、バルク重合、サスペンション重合又はエマルジョン重合などの一般的な重合法を介して製造することができる。本発明では、特に溶液重合法を用いることが好ましく、溶液重合はそれぞれの単量体が均一に混合された状態で開始剤を混合し、５０℃～１４０℃の重合温度で遂行することが好ましい。この時、用いられる開始剤としてはアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビスシクロヘキサンカルボニトリルなどのアゾ系重合開始剤；並びに過酸化ベンゾイル及び過酸化アセチルなどの過酸化物などの通常の開始剤が挙げられる。

上記粘着剤組成物は、ベース樹脂１００質量部に対して０．１質量部～１０質量部の架橋剤を更に含んでいてもよい。このような架橋剤はベース樹脂と架橋反応を通じて粘着剤に凝集力を付与することができる。架橋剤の含有量が０．１質量部未満のとき、粘着剤の凝集力が落ちる場合がある。また、１０質量部を超えると、層間剥離及び浮き現象が生ずる等、耐久信頼性が低下する場合がある。

架橋剤の種類は特に限定されず、例えば、イソシアネート系化合物、エポキシ系化合物、アジリジン系化合物及び金属キレート系化合物等の任意の架橋剤を使用できる。

イソシアネート系化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート及びナフタレンジイソシアネート、並びに、これらのいずれかの化合物とポリオール（例えば、トリメチロールプロパン）との反応物が挙げられ；エポキシ系化合物としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’－テトラグリシジルエチレンジアミン及びグリセリンジグリシジルエーテルが挙げられ；アジリジン系化合物としては、Ｎ、Ｎ’－トルエン－２，４－ビス（１－アジリジンカルボキサミド）、Ｎ、Ｎ’－ジフェニルメタン－４，４’－ビス（１－アジリジンカルボキサミド）、トリエチレンメラミン、ビスイソプロタロイル（ｂｉｓｐｒｏｔｈａｌｏｙｌ）－１－（２－メチルアジリジン）及びトリ－１－アジリジニルホスフィンオキシドが挙げられる。また、金属キレート系化合物としては、アルミニウム、鉄、亜鉛、スズ、チタン、アンチモン、マグネシウム及びバナジウムなどの少なくともいずれかの多価金属がアセチルアセトン又はアセト酢酸エチルなどに配位している化合物が挙げられる。

上記粘着剤組成物は、ベース樹脂１００質量部に対して０．０１質量部～１０質量部のシラン系カップリング剤を更に含んでいてもよい。シラン系カップリング剤は粘着剤が高温又は多湿条件で長時間放置された時、接着信頼性向上に寄与することができ、特にガラス基材との接着時に接着安定性を改善し、耐熱性及び耐湿性を向上させることができる。シラン系カップリング剤としては、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン及びγ－アセトアセテートプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。これらのシラン系カップリング剤は、単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。

シラン系カップリング剤は、ベース樹脂１００質量部に対して０．０１質量部～１０質量部の量で含まれるのが好ましく、０．０５質量部～１質量部の量で含まれるのが更に好ましい。含有量が０．０１質量部未満のとき、粘着力増加効果が十分でない場合があり、１０質量部を超えると、気泡又は剥離現象が生ずるなど耐久信頼性が低下する場合がある。

上記粘着剤組成物は、帯電防止剤をさらに含むことができ、帯電防止剤としては、アクリル樹脂など粘着剤組成物に含まれる他の成分との相溶性に優れ、粘着剤の透明性、作業性及び耐久性などに悪影響を及ぼさないで、且つ粘着剤に帯電防止性能を付与することができるものであれば、何れの化合物でも使用することができる。帯電防止剤としては、無機塩または有機塩などを挙げることができる。

無機塩は、陽イオン成分としてアルカリ金属陽イオン又はアルカリ土類金属陽イオンを含む塩である。陽イオンとしては、リチウムイオン（Ｌｉ^＋）、ナトリウムイオン（Ｎａ^＋）、カリウムイオン（Ｋ^＋）、ルビジウムイオン（Ｒｂ^＋）、セシウムイオン（Ｃｓ^＋）、ベリリウムイオン（Ｂｅ^２＋）、マグネシウムイオン（Ｍｇ^２＋）、カルシウムイオン（Ｃａ^２＋）、ストロンチウムイオン（Ｓｒ^２＋）及びバリウムイオン（Ｂａ^２＋）などの１種又は２種以上を挙げることができ、好ましくは、リチウムイオン（Ｌｉ^＋）、ナトリウムイオン（Ｎａ^＋）、カリウムイオン（Ｋ^＋）、セシウムイオン（Ｃｓ^＋）、ベリリウムイオン（Ｂｅ^２＋）、マグネシウムイオン（Ｍｇ^２＋）、カルシウムイオン（Ｃａ^２＋）、及びバリウムイオン（Ｂａ^２＋）が挙げられる。無機塩は、１種単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。イオン安全性及び粘着剤内での移動性の側面から、リチウムイオン（Ｌｉ^＋）が特に好ましい。

有機塩は、陽イオン成分として、オニウム（ｏｎｉｕｍ）陽イオンを含む塩である。用語「オニウム陽イオン」は、少なくとも一部の電荷が窒素（Ｎ）、リン（Ｐ）及び硫黄（Ｓ）のうちの一つ以上の原子に偏在されている陽（＋）に荷電されたイオンを意味する。オニウム陽イオンは、環型又は非環型化合物であり、環型化合物の場合、非芳香族又は芳香族化合物であることができる。また、環型化合物の場合、窒素、リン又は硫黄原子以外のヘテロ原子（例えば、酸素）を一つ以上含むことができる。また、環型又は非環型化合物は、任意に水素原子、ハロゲン原子、アルキル又はアリールなどの置換体により置換されている。また、非環型化合物の場合、一つ以上、好ましくは、４個以上の置換体を含むことができ、この時、置換体は、環型又は非環型置換体、芳香族又は非芳香族置換体である。

オニウム陽イオンは、窒素原子を含む陽イオンが好ましく、アンモニウムイオンがより好ましい。アンモニウムイオンは、４級アンモニウムイオン又は芳香族アンモニウムイオンである。

上記粘着剤組成物は、帯電防止剤を、ベース樹脂１００質量部に対して、０．０１質量部から５質量部、好ましくは、０．０１質量部から２質量部、より好ましくは、０．１質量部から２質量部含む。含有量が０．０１質量部未満の場合、目的する帯電防止効果が得られない場合があり、５質量部を超過すれば、他成分との相溶性が低下されて、粘着剤の耐久信頼性又は透明性が悪くなる場合がある。

上記粘着剤組成物は、帯電防止剤、具体的には、帯電防止剤に含まれる陽イオンと配位結合を形成することができる化合物（以下、「配位結合性化合物」と称する）をさらに含むことができる。配位結合性化合物を適切に含むことにより、相対的に少量の帯電防止剤を使用する場合にも、粘着剤層内部の陰イオン濃度を増加させて効果的に帯電防止性能を付与することができる。

使用できる配位結合性化合物の種類は、分子内に帯電防止剤と配位結合可能な官能基を有するものであれば、特別に限定されず、例えば、アルキレンオキシド系化合物が挙げられる。

アルキレンオキシド系化合物としては、特別に限定されないが、基本単位の炭素数が２以上、好ましくは、３から１２、より好ましくは、３から８であるアルキレンオキシド単位を含むアルキレンオキシド系化合物を使用することが好ましい。

アルキレンオキシド系化合物は、分子量が５，０００以下であることが好ましい。本発明で使用する用語「分子量」は、化合物の分子量又は質量平均分子量を意味する。本発明において、アルキレンオキシド系化合物の分子量が５，０００を超過すれば、粘度が過度に上昇してコーティング性が悪くなるか、金属との錯体形成能が低下する場合がある。一方、アルキレンオキシド化合物の分子量の下限は特に限定されるものではないが、５００以上が好ましく、４，０００以上がより好ましい。

本発明では、上述のアルキレンオキシド系化合物の以外にも、韓国公開特許第２００６－００１８４９５号に開示された、一つ以上のエーテル結合を有するエステル化合物、韓国公開特許第２００６－０１２８６５９に開示されたオキサラート基含有化合物、ジアミン基含有化合物、多価カルボキシル基含有化合物又はケトン基含有化合物などの多様な配位結合性化合物を必要によって適切に選択して使用することができる。

配位結合性化合物は、ベース樹脂１００質量部に対して、３質量部以下の割合で粘着剤組成物に含まれるのが好ましく、より好ましくは０．１質量部から３質量部、さらに好ましくは、０．５質量部から２質量部である。含有量が３質量部を超過すると、剥離性などの粘着剤物性が低下する場合がある。

上記粘着剤組成物は、粘着性能の調節の観点から、ベース樹脂１００質量部に対して、１質量部～１００質量部の粘着性付与樹脂を更に含んでいてもよい。粘着性付与樹脂の含有量が１質量部未満の場合、添加効果が十分でない場合があり、１００質量部を超えると、相溶性及び凝集力向上効果の少なくとも一方が低下する場合がある。このような粘着性付与樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、（水素化）ヒドロカーボン系樹脂、（水素化）ロジン樹脂、（水素化）ロジンエステル樹脂、（水素化）テルペン樹脂、（水素化）テルペンフェノール樹脂、重合ロジン樹脂又は重合ロジンエステル樹脂などが挙げられる。これらの粘着性付与樹脂は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

上記粘着剤組成物は発明の効果に影響を及ぼさない範囲で、熱重合開始剤及び光重合開始剤のような重合開始剤；エポキシ樹脂；硬化剤；紫外線安定剤；酸化防止剤；調色剤；補強剤；充填剤；消泡剤；界面活性剤；多官能性アクリレートなどの光重合性化合物；及び可塑剤等の添加剤を一つ以上含んでいてもよい。

＜基材＞
本発明の表示装置（自発光表示装置を含む。）において、本発明の波長選択吸収フィルタは、外光とは反対側に位置する面において、粘着剤層を介してガラス（基材）と貼り合わされていることが好ましい。

上記粘着剤層を形成する方法は特に限定されず、例えば、本発明の波長選択吸収フィルタにバーコーターなどの通常の手段で粘着剤組成物を塗布し、乾燥及び硬化させる方法；粘着剤組成物をまず、剥離性基材の表面に塗布、乾燥した後、剥離性基材を用いて粘着剤層を本発明の波長選択吸収フィルタに転写し、熟成、硬化させる方法などが用いられる。
剥離性基材としては、特に制限されず、任意の剥離性基材を使用することができ、例えば上述の上記波長選択吸収層の製造方法における剥離フィルムが挙げられる。
その他、塗布、乾燥、熟成及び硬化の条件についても、常法に基づき、適宜調整することができる。

以下に、実施例に基づき本発明についてさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例に限定されるものではない。なお、以下の実施例において組成を表す「部」及び「％」は、特に断らない限り質量基準である。また、室温とは２５℃を意味する。

［波長選択吸収フィルタの作製］
＜剥離フィルムつき波長選択吸収フィルタの作製＞
波長選択吸収フィルタの作製に用いた材料を以下に示す。
（樹脂１）
環状ポリオレフィン樹脂であるアペルＡＰＬ６０１１Ｔ（商品名、三井化学社製、エチレンとノルボルネンとの共重合ポリマー、Ｔｇ １０５℃）を、樹脂１として用いた。なお、樹脂１はノルボルネン化合物の付加重合体（環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）とも称される。）である。
（樹脂２）
環状ポリオレフィン樹脂であるアートンＲＸ４５００（商品名、ＪＳＲ社製、ノルボルネン系ポリマー、Ｔｇ １３２℃）を、樹脂２として用いた。なお、樹脂２はノルボルネン化合物の開環重合体（開環重合水添樹脂（ＣＯＰ）とも称される。）である。
（樹脂３）
ポリスチレン樹脂であるＳＧＰ－１０（商品名、ＰＳジャパン社製）を、樹脂３として用いた。
（密着調整剤１）
タフテックＨ１０３４（商品名、旭化成社製、スチレン／エチレン／ブタジエン共重合樹脂）
（密着調整剤２）
タフテックＭ１９４３（商品名、旭化成社製、スチレン／エチレン／ブタジエン共重合樹脂）
（レベリング剤）
メガファックＦ－５５４（商品名、ＤＩＣ社製、フッ素系ポリマー）
（染料）
染料Ｃとして下記Ｃ－７３を用いた。

（会合抑制剤）
会合抑制剤として下記会合抑制剤１を用いた。

（剥離フィルム１）
ポリエチレンテレフタレートフィルム ルミラーＸＤ－５１０Ｐ（商品名、膜厚５０μｍ、東レ社製）を剥離フィルム１として用いた。
（剥離フィルム２）
易接着層付きポリエチレンテレフタレートフィルム ダイアホイルＴ６００Ｅ５０（商品名、三菱ケミカル社製）を剥離フィルム２として用いた。
（剥離フィルム３）
セルロースアシレートフィルム（富士フィルム社製、商品名：ＺＲＤ４０ＳＬ）を、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、鹸化処理を行ったセルロースアシレートフィルムを剥離フィルム３として用いた。

（１）波長選択吸収層形成液Ａの調製
各成分を下記に示す組成で混合し、波長選択吸収層形成液Ａを調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
波長選択吸収層形成液Ａの組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
樹脂２：アートンＲＸ４５００ ８４．２４ 質量部
密着調整剤２：タフテックＭ１９４３（商品名、旭化成社製）
７．５ 質量部
レベリング剤：メガファックＦ－５５４（商品名、ＤＩＣ社製、フッ素系ポリマー）
０．１６ 質量部
染料：染料Ｃ－７３ ４．０ 質量部
会合抑制剤：会合抑制剤１ ４．１ 質量部
シクロヘキサン（溶媒） １０１８．３ 質量部
酢酸エチル（溶媒） ５４８．３ 質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

続いて、得られた波長選択吸収層形成液Ａを絶対濾過精度１０μｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙社製）を用いて濾過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの金属焼結フィルター（ＦＨ０２５、ポール社製）を用いて濾過した。

（２）剥離フィルムつき波長選択吸収フィルタＮｏ．１０１の作製
上記濾過処理後の波長選択吸収層形成液Ａを、剥離フィルム１上に、乾燥後の膜厚が１．１μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥することにより波長選択吸収層を形成し、剥離フィルムつき波長選択吸収フィルタＮｏ．１０１を作製した。

（３）剥離フィルムつき波長選択吸収フィルタＮｏ．１０２～１０９、ｃ２０１～ｃ２０６の作製
剥離フィルムの種類、波長選択吸収層を構成する樹脂、染料、密着調整剤、レベリング剤、会合抑制剤の各成分の種類及び／又は配合量、波長選択吸収層の厚みをそれぞれ後述の表１に記載の内容に変更した以外は剥離フィルムつき波長選択吸収フィルタＮｏ．１０１の作製と同様にして、剥離フィルムつき波長選択吸収フィルタＮｏ．１０２～１０９、ｃ２０１～ｃ２０６を作製した。
なお、剥離フィルムつき波長選択吸収フィルタＮｏ．ｃ２０１の作製においては、溶媒として、シクロヘキサン／酢酸エチルの混合溶媒に代えて、トルエン／シクロヘキサン＝９０／１０（体積比）の混合溶媒を用いた。

［ガスバリア層と剥離フィルムつき波長選択吸収フィルタの積層体の作製］
ガスバリア層と剥離フィルムつき波長選択吸収フィルタの積層体（以下、単に「積層体」と称す。）の作製に用いた材料を次に示す。
（樹脂４）
ＡＱ－４１０４（クラレ社製、エクセバール ＡＱ－４１０４（商品名）、変性ポリビニルアルコール、けん化度９８～９９ｍｏｌ％）を、樹脂４として用いた。
（支持体Ａ）
剥離フィルムつき波長選択吸収フィルタＮｏ．１０１の、波長選択吸収層側を、コロナ処理装置（商品名：Ｃｏｒｏｎａ－Ｐｌｕｓ、ＶＥＴＡＰＨＯＮＥ社製）を用い、放電量１０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２、処理速度３．２ｍ／ｍｉｎの条件でコロナ処理を施し、支持体Ａとして用いた。

＜積層体Ｎｏ．１０１の作製＞
（１）樹脂溶液の調製
各成分を下記に示す組成で混合し、９０℃の恒温槽で１時間撹拌し、樹脂４を溶解させ、ガスバリア層形成液１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
ガスバリア層形成液１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
樹脂４ ４．０質量部
純水 ９６．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

続いて、得られたガスバリア層形成液１を絶対濾過精度５μｍのフィルター（商品名：ＨｙｄｒｏｐｈｏｂｉｃＦｌｕｏｒｅｐｏｒｅ Ｍｅｍｂｒａｎｅ、Ｍｉｌｌｅｘ社製）を用いて濾過した。

（２）積層体の作製
上記濾過処理後のガスバリア層形成液１を、支持体Ａ上のコロナ処理を施した面側に、乾燥後の膜厚が１．６μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、１２０℃６０秒で乾燥し、積層体Ｎｏ．１０１を作製した。
この積層体Ｎｏ．１０１は、剥離フィルム１、波長選択吸収層及びガスバリア層がこの順に積層された構成を有する。

＜積層体Ｎｏ．１０２～１０９、ｃ２０１～ｃ２０６の作製＞
剥離フィルムつき波長選択吸収フィルタの種類を後記表１のように変更した以外は、積層体Ｎｏ．１０１の作製と同様にして、積層体Ｎｏ．１０２～１０９、ｃ２０１～ｃ２０６を作製した。
積層体Ｎｏ．１０１～１０９が本発明の積層体であり、積層体Ｎｏ．ｃ２０１～ｃ２０６が比較の積層体である。

＜ガスバリア層の物性評価＞
前述の方法により測定したガスバリア層の物性は、それぞれ、結晶化度が５３％、酸素透過度が０．６ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ、厚みが１．６μｍであった。

＜１＞剥離フィルム剥離性の評価（剥離フィルムと波長選択吸収層との剥離試験）
上記で得た剥離フィルム付きの波長選択吸収フィルタをその波長選択吸収層側で、粘着剤を介してガラス基板上に貼り付けて、試験体を作製した。この試験体は、剥離フィルム、波長選択吸収層、粘着剤及びガラス基板がこの順に積層された構成を有する。
この試験体について、テンシロン万能材料試験機（型番：ＲＴＣ－１２１０Ａ、オリエンテック社製）を用いて、試験片サイズ１５０ｍｍ×２５ｍｍ、温湿度２５℃６０％ＲＨ、剥離角度９０°、剥離速度３００ｍ／分の条件にて、波長選択吸収層を剥離フィルムから剥離したときの剥離力（単位：Ｎ／２５ｍｍ）を測定した。この剥離力を下記評価基準にあてはめ、剥離フィルム剥離性を評価した。剥離力が０．１２Ｎ／２５ｍｍ以上、０．３０Ｎ／２５ｍｍ未満であれば、剥離フィルムの剥離工程以外での剥離を防ぐことができ、実際に剥離フィルムを剥離する工程においては、剥離後の波長選択吸収層には剥ぎとった跡（ジッピング）、割れ等の不良が生じにくく、剥離フィルムとの剥離性に優れることを示す。

－ 評価基準 －
Ａ：剥離力が、０．１５Ｎ／２５ｍｍ以上、０．３０Ｎ／２５ｍｍ未満で剥離する。
Ｂ：剥離力が、０．１２Ｎ／２５ｍｍ以上、０．１５Ｎ／２５ｍｍ未満で剥離する。
Ｃ：剥離力が、０．１０Ｎ／２５ｍｍ以上、０．１２Ｎ／２５ｍｍ未満で剥離する。
Ｄ：剥離力が、０．０５Ｎ／２５ｍｍ以上、０．１０Ｎ／２５ｍｍ未満で剥離する。
Ｅ：剥離力が、０．０５Ｎ／２５ｍｍ未満で剥離する。
Ｆ：剥離力が、０．３０Ｎ／２５ｍｍ以上で剥離する。剥離不良が生じやすい。

＜２＞ガスバリア層密着性の評価（波長選択吸収層とガスバリア層との剥離試験）
［積層体の作製］
上記で得た積層体のガスバリア層側に、厚み約２０μｍの粘着剤１（商品名：ＳＫ２０５７、綜研化学社製）を介して、厚み６０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（商品名：フジタックＴＧ６０ＵＬ、富士フイルム社製）を貼合した。続いて、剥離フィルムを剥がし、剥離フィルムを貼り合わせていた波長選択吸収層側に、上記粘着剤１を介してガラスを貼合し、評価用積層体を作製した。この評価用試験体は、ガラス、粘着剤、波長選択吸収層、ガスバリア層、粘着剤及びトリアセチルセルロースフィルムがこの順に積層された構成を有する。
［評価］
評価用積層体の波長選択吸収層とガスバリア層との界面に剥離のきっかけ（カッターナイフによる切り込み）を入れて、テンシロン万能材料試験機ＲＴＦ－１２１０（エー・アンド・デイ社製）を用いて、測定温度２５℃、相対湿度６０％、ロードセル５０Ｎ、剥離速度３００ｍｍ／分の条件で、９０°方向に剥がしたときの剥離力（単位：Ｎ／２５ｍｍ）を測定した。この剥離力を下記評価基準にあてはめ、ガスバリア層密着性を評価した。剥離力が大きい程剥離し辛く、密着性に優れることを示す。

－ 評価基準 －
Ａ：剥離力が４Ｎ／２５ｍｍ以上であるか、剥離することができない。
Ｂ：剥離力が１Ｎ／２５ｍｍ以上４Ｎ／２５ｍｍ未満で剥離する。
Ｃ：剥離力が１Ｎ／２５ｍｍ未満で剥離する。

＜３＞クラック評価試験
［積層体の作製］
上記で得た積層体のガスバリア層側に、厚み約２０μｍの粘着剤１（商品名：ＳＫ２０５７、綜研化学社製）を介して、厚み６０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（商品名：フジタックＴＧ６０ＵＬ、富士フイルム社製）を貼合した。続いて、剥離フィルムを剥がし、剥離フィルムを貼り合わせていた波長選択吸収層側に、上記粘着剤１を介してガラスを貼合し、評価用積層体を作製した。この評価用試験体は、ガラス、粘着剤、波長選択吸収層、ガスバリア層、粘着剤及びトリアセチルセルロースフィルムがこの順に積層された構成を有する。
［評価］
上記で得た試験体について、下記条件により、－３５℃の風を１時間吹き込む低温試験の後、７０℃の風を１時間吹き込む高温試験を行うサイクルを１サイクルとするヒートショック試験を、５０～２００サイクル実施した。５０サイクル、１００サイクル、２００サイクル試験後の試験体について、波長選択吸収層におけるクラックの発生の有無を目視により観察した。このクラックの発生の有無を下記評価基準にあてはめ、クラックを評価した。

（ヒートショック試験条件）
使用装置：ヒートショック試験機コスモピアＥＳ－１０７ＬＨ（商品名、ＨＩＴＡＣＨＩ社製）
方式：ダンパー開閉によるゾーン切替方式（試料静止形、冷温風切替方式）
低温試験：－３５℃、１時間
高温試験：７０℃、１時間
周囲温度：２５℃
冷却水入り口温度：２５℃
試験体サイズ：縦１０ｃｍ、横１０ｃｍの短冊状試験体

－ 評価基準 －
Ａ：２００サイクル後もクラックの発生は見られない。
Ｂ：２００サイクルでクラックが発生する。
Ｃ：１００サイクルでクラックが発生する。
Ｄ：５０サイクルでクラックが発生する。

＜４＞ヘイズ評価試験
上記で得た剥離フィルム付き波長選択吸収フィルタのヘイズを下記のようにして測定し、下記の評価基準に基づき評価した。なお、ヘイズが１．０％未満であれば、実用上、十分な透明性を有すると言える。
具体的には、縦４０ｍｍ×横８０ｍｍの短冊状の剥離フィルム付き波長選択吸収フィルタについて、２５℃、相対湿度６０％の環境下で、ヘイズメーター（スガ試験機社製、型式：ＨＧＭ－２ＤＰ）を用い、ＪＩＳ Ｋ－７１３６（２０００）にしたがってヘイズを測定した。

－ 評価基準 －
Ａ：ヘイズが１．０％未満である。
Ｂ：ヘイズが１．０％以上である。

（表１の注）
波長選択吸収層を構成する樹脂、レベリング剤、会合抑制剤、染料及び密着直製剤の各成分、並びに、剥離フィルムについては、前述の通りである。
波長選択吸収層を構成するレベリング剤、会合抑制剤、染料及び密着調整剤の各成分の配合量の単位は質量部であり、波長選択吸収層を構成する樹脂の含有量は、波長選択吸収層を構成する成分（レベリング剤、会合抑制剤、染料、密着調整剤樹脂及び樹脂）の合計が１００質量部となる量である。
なお、波長選択吸収層を構成する密着調整剤の含有量については、ＩＲ測定により定量することができた。
ヘイズの評価欄における「－」は、未測定（データ無し）であることを意味する。

表１の結果から、以下のことが分かる。
比較例の積層体Ｎｏ．ｃ２０１及びｃ２０４は、樹脂と染料とを含有する波長選択吸収層中に密着調整剤を含有しない。これらの比較例のうち、積層体Ｎｏ．ｃ２０１は、剥離フィルムと波長選択吸収層との剥離性に劣り、波長選択吸収層が接するガスバリア層との密着性に劣り、しかも、５０サイクルのヒートショック試験によりクラックが発生しており、積層体Ｎｏ．ｃ２０４は、剥離フィルムと波長選択吸収層との剥離性に劣っていた。
また、比較例の積層体Ｎｏ．ｃ２０２、ｃ２０３及びｃ２０５は、樹脂と染料と密着調整剤とを含有する波長選択吸収層を備えるものの、波長選択吸収層の膜厚は２．５μｍ又は３．３μｍと、本発明で規定する特定の範囲の膜厚よりも厚い。これらの比較例の積層体Ｎｏ．ｃ２０２、ｃ２０３及びｃ２０５は、剥離フィルムと波長選択吸収層との剥離性に劣り、波長選択吸収層が接するガスバリア層との密着性にも劣っていた。
また、比較例の積層体Ｎｏ．ｃ２０６は、樹脂と染料と密着調整剤とを含有する波長選択吸収層を備えるものの、波長選択吸収層の膜厚は０．４μｍと、本発明で規定する特定の範囲の膜厚よりも薄い。この比較例の積層体Ｎｏ．ｃ２０６は、波長選択吸収層が接するガスバリア層との密着性に劣っていた。
これらに対して、波長選択吸収層中に密着調整剤を含有し、波長選択吸収層の膜厚を特定の範囲の膜厚とする本発明の積層体Ｎｏ．１０１～１０９は、剥離フィルムと波長選択吸収層との剥離に係る剥離力が０．１２Ｎ／２５ｍｍ以上、０．３０Ｎ／２５ｍｍ未満であるため生産性に優れ、波長選択吸収層とガスバリア層との密着性に優れ、しかも、２００サイクルのヒートショック試験後もクラックが発生しておらず、優れたクラック耐性を示していた。

９１ 波長選択吸収層
９２ ガスバリア層
９３ 波長選択吸収フィルタ

Claims (8)

1. 樹脂と染料と密着調整剤とを含む波長選択吸収層を有し、
   前記波長選択吸収層の厚みが０．５～２．０μｍである、波長選択吸収フィルタ。
2. 前記染料が下記一般式（１）で表されるスクアリン系色素である、請求項１に記載の波長選択吸収フィルタ。
   

   

   一般式（１）中、Ａ及びＢは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、又は－ＣＨ＝Ｇを示す。Ｇは置換基を有していてもよい複素環基を示す。
3. 前記樹脂が環状ポリオレフィン樹脂を含む、請求項１に記載の波長選択吸収フィルタ。
4. 前記波長選択吸収フィルタが、前記波長選択吸収層の少なくとも片面に直接配されたガスバリア層を有し、前記ガスバリア層が結晶性樹脂を含み、前記ガスバリア層の厚みが０．１～１０μｍであって、前記ガスバリア層の酸素透過度が６０ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ以下である、請求項１に記載の波長選択吸収フィルタ。
5. 前記波長選択吸収層中における前記密着調整剤の含有量が、１．０～１８質量％である、請求項１に記載の波長選択吸収フィルタ。
6. 下記ヒートショック試験を５０サイクル実施した場合に波長選択吸収層にクラックが発生しない、請求項１に記載の波長選択吸収フィルタ。
   （ヒートショック試験）
   ダンパー開閉による冷温風切替方式で、－３５℃の風を１時間吹き込む低温試験の後、７０℃の風を１時間吹き込む高温試験を１サイクルとするヒートショック試験。
7. 請求項１～６のいずれか１項に記載の波長選択吸収フィルタと、前記波長選択吸収層に接して設けられた剥離フィルムとを有する積層体であって、下記条件により測定される前記剥離フィルムから前記波長選択吸収層を剥離する際の剥離力が、０．１２Ｎ／２５ｍｍ以上０．３０Ｎ／２５ｍｍ未満である、積層体。
   （剥離条件）
   試験片サイズが縦１５０ｍｍ×横２５ｍｍの短冊状の積層体について、温湿度２５℃６０％ＲＨの環境下、剥離角度９０°、剥離速度３００ｍ／分の条件にて、テンシロン万能材料試験機を用いて剥離する。
8. 請求項１～６のいずれか１項に記載の波長選択吸収フィルタを含む、表示装置。

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