WO2021157463A1 - 蒸着マスク中間体、蒸着マスク、マスク装置、および、蒸着マスクの製造方法 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a thin-film deposition mask intermediate, a thin-film deposition mask, a mask device, and a method for manufacturing a thin-film deposition mask.
- Vacuum deposition using a vapor deposition mask is used to manufacture the display element included in the organic EL display device.
- the vapor deposition mask used for vacuum deposition is a thin metal plate having a strip shape.
- the thin-film deposition mask includes a mask portion having a plurality of mask holes for forming a display element, and a peripheral portion surrounding the mask portion.
- the vapor deposition mask has an edge formed by a pair of long sides and a pair of short sides (see, for example, Patent Document 1).
- the vapor deposition mask is fixed to the frame that supports the vapor deposition mask, and then mounted on the vacuum vapor deposition apparatus together with the frame.
- tension along the longitudinal direction of the vapor deposition mask is applied to the vapor deposition mask by pulling each end in the longitudinal direction away from the other end.
- the vapor deposition mask is fixed to the frame under tension. At this time, since the portion of the peripheral portion closer to the mask portion than the short side is fixed to the frame, the portion including the short side in the vapor deposition mask protrudes from the outer edge of the frame.
- the part of the vapor deposition mask that protrudes from the frame is Removed from the vapor deposition mask. Therefore, from the viewpoint of increasing the efficiency of vapor deposition using the vapor deposition mask, it is required that the work of removing the end portion of the vapor deposition mask after fixing the vapor deposition mask to the frame is easier.
- the present invention provides a thin-film deposition mask intermediate, a thin-film deposition mask, a mask device, and a method for manufacturing the thin-film deposition mask, which makes it possible to facilitate the work of removing the end portion of the thin-film deposition mask after fixing the vapor-film deposition mask to the frame.
- the purpose is to do.
- the vapor deposition mask intermediate for solving the above problems is located between the strip-shaped portion, the frame-shaped portion surrounding the strip-shaped portion, and the strip-shaped portion and the frame-shaped portion, and the strip-shaped portion is formed into the frame-shaped portion. It is provided with a connecting portion to be connected to.
- the strip-shaped portion includes an edge having a pair of long sides and a pair of short sides, a mask portion having a plurality of mask holes, and a peripheral portion surrounding the mask portion.
- a fragile portion having a shape extending from one long side to the other long side is located between the mask portion and the short side in the longitudinal direction of the strip-shaped portion. do.
- the thin-film deposition mask for solving the above problems is a thin-film deposition mask having a band shape, and includes an edge having a pair of long sides and a pair of short sides, a mask portion having a plurality of mask holes, and the mask portion. It is provided with a peripheral part surrounding the. Among the peripheral portions, a fragile portion having a shape extending from one long side to the other long side is located between the mask portion and the short side in the longitudinal direction of the vapor deposition mask. do.
- a method for manufacturing a thin-film deposition mask for solving the above problems is that the strip-shaped portion, the frame-shaped portion surrounding the strip-shaped portion, and the strip-shaped portion are located between the strip-shaped portion and the frame-shaped portion, and the strip-shaped portion is formed into the frame-shaped portion. It includes forming a connecting portion to be connected to the portion and obtaining a thin-film deposition mask by cutting the connecting portion and separating the strip-shaped portion from the frame-shaped portion.
- the strip has an edge having a pair of long sides and a pair of short sides.
- the strip-shaped portion includes a mask portion having a plurality of mask holes and a peripheral portion surrounding the mask portion. Among the peripheral portions, a fragile portion having a shape extending from one long side to the other long side is located between the mask portion and the short side in the longitudinal direction of the strip-shaped portion. do.
- both ends including the short side of the strip-shaped portion and the mask portion of the strip-shaped portion are included. It can be separated from the part. Therefore, it is easy to remove the end portion of the vapor deposition mask after attaching the vapor deposition mask formed from the strip-shaped portion to the frame.
- FIG. 1 is an enlarged plan view showing a part of the structure of the vapor deposition mask intermediate shown in FIG.
- FIG. 5 is an enlarged plan view showing the region A shown in FIG.
- FIG. 5 is an enlarged plan view showing the region A shown in FIG.
- FIG. 5 is an enlarged plan view showing the area B shown in FIG.
- FIG. 5 is a plan view showing the structure of the first fragile portion included in the vapor deposition mask of Test Example 4.
- FIG. 5 is an enlarged plan view showing a portion corresponding to the region A shown in FIG. 5 in the second embodiment.
- FIG. 5 is an enlarged plan view showing a portion corresponding to the region A shown in FIG. 5 in the second embodiment.
- the cross-sectional view which shows the structure of the mask part in the modified example.
- the vapor deposition mask intermediate 10 includes a strip-shaped portion 11, a frame-shaped portion 12, and a connecting portion 13.
- the frame-shaped portion 12 surrounds the strip-shaped portion 11.
- the connecting portion 13 is located between the strip-shaped portion 11 and the frame-shaped portion 12, and connects the strip-shaped portion 11 to the frame-shaped portion 12.
- dots are attached to the portion of the vapor deposition mask intermediate 10 where the connecting portion 13 is located.
- the direction in which the strip-shaped portion 11 extends is the longitudinal direction DL of the strip-shaped portion 11, and the direction orthogonal to the longitudinal direction DL is the width direction DW of the strip-shaped portion 11.
- the width direction DW is the width direction DW of the strip-shaped portion 11.
- two strips 11 are arranged along the width direction DW.
- each strip-shaped portion 11 does not have to be aligned with the other strip-shaped portions 11 in the width direction DW.
- three or more strips 11 may be arranged in the width direction DW.
- the band-shaped portion 11 includes an edge 11e, a mask portion 11a, and a peripheral portion 11b.
- the edge 11e has a pair of long sides 11e1 and a pair of short sides 11e2.
- the short side 11e2 includes a U-shaped notch e21.
- the short side 11e2 does not have to have the notch e21.
- Each long side 11e1 extends along the longitudinal direction DL, and each short side 11e2 extends along the width direction DW.
- the pair of long sides 11e1 are parallel to each other, and the pair of short sides 11e2 are parallel to each other.
- the mask portion 11a has a plurality of mask holes 11h.
- the peripheral portion 11b surrounds the mask portion 11a.
- the strip-shaped portion 11 includes a plurality of mask portions 11a arranged along the longitudinal direction DL. Therefore, the peripheral portion 11b has a ladder shape surrounding the plurality of mask portions 11a.
- the band-shaped portion 11 may include only one mask portion 11a. Further, the strip-shaped portion 11 may include a plurality of mask portions 11a arranged along the width direction DW.
- a first fragile portion 11c having a shape extending from one long side 11e1 to the other long side 11e1 is located between the mask portion 11a and the short side 11e2 in the longitudinal direction DL. is doing.
- the first fragile portion 11c is a portion of the peripheral portion 11b that is more easily cut than a portion other than the first fragile portion 11c. That is, the mechanical strength of the first fragile portion 11c is lower than the mechanical strength of the peripheral portion 11b other than the first fragile portion 11c. In this way, since the first fragile portion 11c is located at the peripheral portion 11b, by cutting the first fragile portion 11c, both ends of the strip-shaped portion 11 including the short side 11e2 are separated from the strip-shaped portion 11. It can be separated from the portion including the mask portion 11a.
- the long side 11e1 includes a non-connecting portion that is not connected to the frame-shaped portion 12.
- the non-connecting portion includes a portion adjacent to the mask portion 11a in the width direction DW of the strip-shaped portion 11.
- a slit 10S is located between the non-connecting portion and the frame-shaped portion 12. Therefore, when the strip-shaped portion 11 is separated from the frame-shaped portion 12 by cutting the connecting portion 13, wrinkles and the like are formed on the mask portion 11a due to the force applied to the connecting portion 13 to cut the connecting portion 13. Deformation is suppressed.
- the slit 10S a thin metal plate for forming the vapor deposition mask intermediate 10 is removed between the band-shaped portion 11 and the frame-shaped portion 12 in a plan view facing the plane on which the vapor deposition mask intermediate 10 spreads. It is a part.
- the slit 10S is also located in a portion of the long side 11e1 that is not adjacent to the mask portion 11a in the width direction DW, but the slit 10S is at least with the mask portion 11a in the width direction DW. It suffices to have adjacent shapes. Further, in the example shown in FIG. 1, the region surrounded by the notch e21 is a penetrating portion penetrating the vapor deposition mask intermediate 10.
- FIG. 2 shows the cross-sectional structure of the mask portion 11a orthogonal to the plane on which the strip-shaped portion 11 extends and along the width direction DW.
- the mask portion 11a has a plurality of mask holes 11h.
- Each mask hole 11h includes a large hole 11hL and a small hole 11hS.
- the foramen magnum 11hL is open on the surface 10F of the vapor deposition mask intermediate 10.
- the large hole 11hL has a shape that tapers from the front surface 10F of the vapor deposition mask intermediate 10 toward the back surface 10R.
- the small holes 11hS are open to the back surface 10R of the vapor deposition mask intermediate 10.
- the small holes 11hS have a shape that tapers from the back surface 10R of the vapor deposition mask intermediate 10 toward the front surface 10F.
- the large hole 11hL of each mask hole 11h is in contact with the large hole 11hL of the mask holes 11h adjacent to each other.
- the small holes 11hS of each mask hole 11h are separated from the small holes 11hS of the mask holes 11h adjacent to each other.
- the large hole 11hL of each mask hole 11h may be separated from the large hole 11hL of the mask holes 11h adjacent to each other.
- the surface 10F includes a portion of the vapor deposition mask facing the vapor deposition source when the vapor deposition mask formed from the strip 11 is mounted on the vapor deposition apparatus.
- the back surface 10R includes a portion facing the vapor deposition target when the vapor deposition mask is mounted on the vapor deposition apparatus.
- a thin-film deposition pattern having a shape corresponding to the connection portion between the large hole 11hL and the small hole 11hS is formed in the vapor deposition target.
- the first fragile portion 11c may have half-etched lines, or may have a plurality of half-etched portions arranged at intervals.
- the half-etched wire and the half-etched portion have a second plate thickness.
- the second plate thickness is thinner than the first plate thickness.
- the first fragile portion 11c may have a plurality of through holes arranged at intervals.
- the plurality of half-etched portions may be arranged linearly along the width direction DW or may be arranged in a staggered pattern along the width direction DW. ..
- the first fragile portion 11c may have a half-etched wire and a plurality of through holes arranged along the extending direction of the half-etched wire on the half-etched wire.
- the first fragile portion 11c may have a half-etched portion and a through hole arranged along the width direction DW of the strip-shaped portion 11. In this case, the half-etched portions and the through holes may be arranged alternately.
- the half-etched wire and the half-etched portion of the first fragile portion 11c have a second plate thickness.
- the portion where the half-etched wire or the half-etched portion is not located has the first plate thickness.
- FIG. 3 shows the cross-sectional structure of the first fragile portion 11c when the first fragile portion 11c has a half-etched line.
- the first fragile portion 11c has a half-etched line 11c1 extending along the width direction DW of the strip-shaped portion 11.
- the half-etched wire 11c1 is a linear recess formed on the surface 10F of the vapor deposition mask intermediate 10.
- the half-etched wire 11c1 may be formed on the back surface 10R of the vapor deposition mask intermediate 10.
- the half-etched wire 11c1 has a second plate thickness T2, and a portion of the peripheral portion 11b of the strip-shaped portion 11 other than the half-etched wire 11c1 has a first plate thickness T1.
- the width of the half-etched wire 11c1 may be constant in the width direction DW of the strip-shaped portion 11.
- the width of the half-etched wire 11c1 may include a plurality of sizes.
- the width of the half-etched line 11c1 is the thickness of the half-etched line 11c1 along the longitudinal direction DL of the strip portion 11.
- FIG. 4 shows the cross-sectional structure of the first fragile portion 11c when the first fragile portion 11c has a half-etched line and a plurality of through holes arranged along the direction in which the half-etched line extends on the half-etched line. There is.
- the first fragile portion 11c penetrates the half-etched line 11c1 extending along the width direction DW of the strip-shaped portion 11 and the half-etched line 11c1 arranged at intervals along the width direction DW. It has holes 11c2.
- the plurality of through holes 11c2 are arranged at equal intervals in the width direction DW, but the plurality of through holes 11c2 may be arranged irregularly in the width direction DW.
- the width of the half-etched line 11c1 may be constant in the width direction DW of the strip portion 11, or may include a plurality of sizes. Further, the width of the through hole 11c2 may be constant in the width direction DW of the strip-shaped portion 11, and the plurality of through holes 11c2 may include through holes 11c2 having different widths from each other. The width of the half-etched wire 11c1 and the width of the through hole 11c2 may be equal to or different from each other.
- the connecting portion 13 includes at least one of a half-etched line along the edge 11e of the strip-shaped portion 11 and a plurality of half-etched portions arranged along the edge 11e of the strip-shaped portion 11.
- the half-etched wire and the half-etched portion have a second plate thickness T2 that is thinner than the first plate thickness T1.
- the connecting portion 13 has a structure similar to that of the first fragile portion 11c described above with reference to FIGS. 3 and 4. As a result, at least the portion of the connecting portion 13 on which the half-etched wire or the half-etched portion is formed can be easily cut.
- FIG. 5 shows an enlarged part of the planar structure of the vapor deposition mask intermediate 10 shown in FIG.
- the vapor deposition mask intermediate 10 is conveyed by a roll-to-roll device while the vapor deposition mask intermediate 10 is manufactured from the thin metal plate.
- the transport direction of the thin metal plate and the vapor deposition mask intermediate 10 is a direction parallel to the longitudinal direction DL of the strip-shaped portion 11.
- FIG. 5 shows an end portion of the strip-shaped portion 11 located upstream in the transport direction of the vapor deposition mask intermediate 10.
- the frame-shaped portion 12 includes an inner edge 12e1 that surrounds the strip-shaped portion 11 and an outer edge 12e2 that forms the outer shape of the frame-shaped portion 12.
- the inner edge 12e1 is formed by a boundary with the connecting portion 13 and a boundary with the slit 10S.
- the vapor deposition mask intermediate 10 includes a second fragile portion 12a.
- the second fragile portion 12a has a linear shape in the frame-shaped portion 12 extending from the slit 10S toward the side opposite to the strip-shaped portion 11 with respect to the slit 10S. As a result, the frame-shaped portion 12 can be cut along the second vulnerable portion 12a, so that the work of separating the strip-shaped portion 11 from the frame-shaped portion 12 becomes easier.
- the vapor deposition mask intermediate 10 has a plurality of second fragile portions 12a.
- Each of the second fragile portions 12a has a shape extending from the upstream to the downstream in the transport direction of the strip-shaped portion 11 along the direction intersecting the longitudinal direction DL of the strip-shaped portion 11.
- the vapor deposition mask intermediate 10 has four second fragile portions 12a for one strip 11. Of the four second vulnerable portions 12a, two second vulnerable portions 12a are located upstream of the center of the strip-shaped portion 11 in the transport direction of the strip-shaped portion 11. On the other hand, the other two second vulnerable portions 12a are located downstream of the center of the strip-shaped portion 11 in the transport direction of the strip-shaped portion 11.
- the pair of second vulnerable portions 12a located downstream pass through the center of the strip-shaped portion 11 in the longitudinal direction DL and with respect to the axis of symmetry extending along the width direction DW. Therefore, it is arranged at a position having a line-symmetrical relationship with the pair of second vulnerable portions 12a located upstream.
- a pair of second vulnerable portions 12a located upstream sandwich the strip-shaped portion 11 in the width direction DW of the strip-shaped portion 11. Further, with respect to one strip-shaped portion 11, a pair of second vulnerable portions 12a located downstream sandwich the strip-shaped portion 11 in the width direction DW of the strip-shaped portion 11.
- the second fragile portion 12a may have half-etched lines or may have a plurality of half-etched portions arranged at intervals.
- the second fragile portion 12a may have a half-etched wire and a plurality of through holes arranged along the extending direction of the half-etched wire on the half-etched wire.
- the second fragile portion 12a may have a half-etched portion and a through hole arranged along the extending direction of the second fragile portion 12a. In this case, the half-etched portions and the through holes may be arranged alternately.
- the half-etched wire or the half-etched portion can be recessed in the back surface 10R of the vapor deposition mask intermediate 10.
- FIGS. 6 and 7 show an enlarged area A shown in FIG. That is, FIGS. 6 and 7 show an enlarged area including the connection portion between the slit 10S and the second fragile portion 12a.
- FIG. 6 shows an example of the shape of the slit 10S
- FIG. 7 shows another example of the shape of the slit 10S.
- the slit 10S includes an extending portion 10S1 and a protruding portion 10S2.
- the extending portion 10S1 is a portion extending along the long side 11e1 of the strip-shaped portion 11.
- the protruding portion 10S2 is a portion that protrudes from the extending portion 10S1 toward the extending portion 10S1 on the side opposite to the strip-shaped portion 11.
- the outer shape of the protruding portion 10S2 has a rectangular shape extending along a direction orthogonal to the extending direction of the extending portion 10S1.
- the second vulnerable portion 12a is connected to the protruding portion 10S2.
- the distance between the end portion of the second vulnerable portion 12a and the band-shaped portion 11 is compared with the case where the second vulnerable portion 12a is connected to the extending portion 10S1. It is possible to increase the distance. As a result, it is possible to prevent the strip-shaped portion 11 from being deformed such as wrinkles due to the force for cutting the second fragile portion 12a.
- the end connected to the extending portion 10S1 is the base end, and the end opposite to the base end is the tip.
- the second fragile portion 12a is connected on the way from the base end to the tip end of the protrusion 10S2.
- the second fragile portion 12a may be connected to the tip of the protruding portion 10S2.
- the non-connecting portion of the long side 11e1 extends to a position closer to the short side 11e2 than the mask portion 11a in the longitudinal direction DL of the strip-shaped portion 11. That is, the slit 10S along the long side 11e1 extends to a position closer to the short side 11e2 than the mask portion 11a.
- the connecting portion 13 connects a portion of the long side 11e1 other than the non-connecting portion to the frame-shaped portion 12.
- the protruding portion 10S2 extends from the end portion of the slit 10S toward the extending portion 10S1 on the side opposite to the strip-shaped portion 11.
- the first fragile portion 11c is located closer to the mask portion 11a than the protruding portion 10S2 in the longitudinal direction DL of the strip-shaped portion 11.
- the connecting portion between the slit 10S and the connecting portion 13 may be set as a starting point of cutting when the connecting portion 13 is cut to remove the strip-shaped portion 11 from the frame-shaped portion 12.
- a force required for cutting the connecting portion 13 acts on the connecting portion between the slit 10S and the connecting portion 13. Therefore, when the protruding portion 10S2 and the first fragile portion 11c are lined up in the width direction DW of the strip-shaped portion 11, that is, when the first fragile portion 11c is connected to the end portion of the extending portion 10S1, the connecting portion 13 The first vulnerable portion 11c may be disconnected at the same time as the disconnection.
- the position of the protruding portion 10S2 and the position of the first fragile portion 11c are deviated from each other in the longitudinal direction DL of the strip-shaped portion 11, so that the connecting portion 13 is cut. Occasionally, it is possible to prevent the first vulnerable portion 11c from being disconnected.
- the protruding portion 10S2 is located at the end of the extending portion 10S1 in the longitudinal direction DL.
- the protruding portion 10S2 has a shape that protrudes from the extending portion 10S1 toward the side opposite to the strip-shaped portion 11.
- the outer shape of the protrusion 10S2 has a trapezoidal shape.
- the angle formed by the hypotenuse connecting the upper base and the lower base and the portion extending along the longitudinal direction DL in the connecting portion 13 is the second angle ⁇ 2.
- the second angle ⁇ 2 may be 20 ° or more and 50 ° or less.
- the second fragile portion 12a is connected to the apex formed by the hypotenuse and the lower base in the trapezoid defined by the protrusion 10S2.
- the angle formed by the straight line extending from the lower bottom along the longitudinal direction DL and the second fragile portion 12a is the first angle ⁇ 1.
- the first angle ⁇ 1 may be smaller than the second angle ⁇ 2.
- the frame-shaped portion 12 includes a pair of second vulnerable portions 12a located upstream in the transport direction and a pair of second vulnerable portions 12a located downstream in one strip-shaped portion 11. It is formed.
- the protruding portion 10S2 connected to each of the second vulnerable portions 12a may have the shape described with reference to FIG. 6 or may have the shape described with reference to FIG. 7.
- FIG. 8 shows an enlarged area B shown in FIG. That is, FIG. 8 shows an enlarged region including the upstream end portion of the second vulnerable portion 12a.
- the upstream end of each second vulnerable portion 12a is connected to the upstream penetrating portion 12h1 penetrating the frame-shaped portion 12.
- the two upstream penetrating portions 12h1 are arranged at a predetermined interval in the width direction DW.
- a portion of the frame-shaped portion 12 sandwiched by two upstream penetrating portions 12h1 in the width direction DW is provided by an instrument capable of cutting the frame-shaped portion 12. Cut, thereby forming a piece of cut.
- the force for cutting the two second fragile portions 12a is simultaneously applied to the two second vulnerable portions 12a by pulling up the cut pieces in the direction intersecting the plane on which the vapor deposition mask intermediate 10 spreads. It is possible to make it.
- the upstream end portion is also connected to the upstream side penetrating portion 12h1.
- the frame-shaped portion 12 is formed with another upstream-side penetrating portion 12h1 paired with the upstream-side penetrating portion 12h1. These two upstream penetrating portions 12h1 are arranged along the width direction DW.
- FIG. 9 shows a region including the downstream end of the second vulnerable portion 12a.
- the frame-shaped portion 12 includes a gripped piece 12b connected to the downstream ends of the two second vulnerable portions 12a, and a downstream penetrating portion 12h2 surrounding the gripped piece 12b.
- the gripped piece 12b connected to the downstream end of the second vulnerable portion 12a with an instrument or with a human finger, so that the force for cutting the second vulnerable portion 12a is exerted. It is easy to act on the second vulnerable part 12a.
- a force for cutting the two second vulnerable portions 12a acts simultaneously on the two second vulnerable portions 12a. It is possible to make it.
- the downstream end portion is connected to the gripped piece 12b, and the gripped piece 12b is connected to the downstream penetrating portion 12h2. being surrounded.
- the downstream end of one second vulnerable portion 12a is connected to the gripped piece 12b.
- the thin-film deposition mask 11M has a longitudinal direction DL and a width direction DW, similarly to the strip-shaped portion 11.
- the longitudinal DL of the vapor deposition mask 11M corresponds to the longitudinal DL of the strip 11
- the width DW of the vapor deposition mask 11M corresponds to the width DW of the strip 11.
- the thin-film deposition mask 11M has a strip shape extending along the longitudinal direction DL. The strip-shaped portion 11 is removed from the frame-shaped portion 12 by cutting the connecting portion 13 of the vapor-deposited mask intermediate 10, whereby the vapor-deposited mask 11M can be formed from the strip-shaped portion 11.
- the mask device 20 includes a vapor deposition mask 11M and a frame 21.
- the vapor deposition mask 11M is attached to the frame 21 so that the mask portion 11a of the vapor deposition mask 11M is located in the area surrounded by the frame 21.
- the portion of the vapor deposition mask 11M including the first fragile portion 11c is attached to the frame 21.
- the vapor deposition mask 11M may be attached to the frame 21 by an adhesive, may be attached to the frame by a fastening member, or may be attached to the frame 21 by welding.
- the short side 11e2 of the vapor deposition mask 11M is pulled toward a direction away from the other short side 11e2, whereby a tension that stretches the dimension along the longitudinal direction DL. Is given to the vapor deposition mask 11M, and the vapor deposition mask 11M is attached to the frame 21.
- the mask device 20 includes two thin-film deposition masks 11M, but the mask device 20 may include only one thin-film deposition mask 11M, or may include three or more thin-film deposition masks 11M. You may prepare.
- the number of the vapor deposition masks 11M included in the mask device 20 is not limited, and the portion of the vapor deposition mask 11M including the first fragile portion 11c is attached to the frame 21.
- the vapor deposition mask 11M When the vapor deposition mask 11M is attached to the frame 21, a part of the surface 11F of the vapor deposition mask 11M is attached to the frame. As a result, the large hole 11hL in the mask hole 11h is opened toward the area surrounded by the frame 21. Further, the half-etched wire or the half-etched portion included in the first fragile portion 11c is open toward the frame 21.
- the first fragile portion 11c is cut, so that the short side 11e2 of the vapor deposition mask 11M is closer to the short side 11e2 than the first fragile portion 11c.
- the part is removed.
- the thin-film deposition mask 11M has a cutting mark of 11 cm formed by cutting the first fragile portion 11c at each of both ends of the longitudinal DL.
- FIGS. 12 and 13 show the area D shown in FIG. 11 in an enlarged manner.
- FIGS. 12 and 13 show a structure of a cut mark of 11 cm when the region D is viewed from a viewpoint facing the back surface 11R of the vapor deposition mask 11M.
- FIG. 12 shows a cut mark 11 cm formed when the first fragile portion 11c includes the half-etched line 11c1, as described above with reference to FIG.
- the first fragile portion 11c has the half-etched line 11c1 and the half-etched line 11c1 on the half-etched line, as described above with reference to FIG.
- the cut mark 11 cm formed when a plurality of through holes 11c2 arranged along the extending direction of the is provided is shown.
- the cut mark 11 cm is the width of the vapor deposition mask 11M at the portion rolled up from the front surface 11F to the back surface 11R of the vapor deposition mask 11M. It has over the direction DW.
- the vapor deposition mask 11M is bent so that the first fragile portion 11c becomes a bent portion.
- the vapor deposition mask so that a part of the back surface 11R of the vapor deposition mask 11M and the other part of the back surface 11R face each other. 11M is bent.
- the cutting mark 11 cm includes a plurality of curled cm1 and a plurality of recesses cm2. In the direction in which the cutting mark 11 cm extends, the curled cm1 and the recessed cm2 are alternately arranged.
- the plurality of curled cm1s are portions formed by cutting the half-etched wire 11c1.
- each recess cm2 is a portion corresponding to each through hole 11c2.
- Each rolled cm1 is rolled up from the front surface 11F of the vapor deposition mask 11M toward the back surface 11R.
- the half-etched wire 11c1 opens to the surface 10F. Open toward 21. Therefore, compared to the case where the half-etched wire 11c1 opens to the back surface 10R, when the vapor deposition mask 11M is bent so that a part of the back surface 10R and another part of the back surface 10R face each other, the first fragile portion The force required to bend the vapor deposition mask 11M along 11c is small. As a result, the load required for bending the thin-film deposition mask 11M can be reduced. It is also possible to shorten the time required to cut the vapor deposition mask 11M along the first fragile portion 11c. Even when the first fragile portion 11c includes the half-etched portion, the same effect as when the first fragile portion 11c includes the half-etched wire 11c1 can be obtained.
- Test Example 1 The vapor deposition masks 11M of Test Examples 1 to 4 having different structures of the first fragile portion 11c were formed. 14 to 17 referred to below show the structure of the first fragile portion 11c in a plan view facing the surface 11F of the vapor deposition mask 11M. Each first fragile portion 11c is located on the surface 11F of the vapor deposition mask 11M. In FIGS. 14 to 17, dots are attached to the half-etched line or the half-etched portion.
- Test Example 1 As shown in FIG. 14, in Test Example 1, the first fragile portion 11c was formed by the half-etched line 11c1 extending along the width direction DW.
- Test Example 2 As shown in FIG. 15, in Test Example 2, the first fragile portion 11c is subjected to a plurality of half etchings by dividing the half-etched line 11c1 of Test Example 1 at equal intervals in both the width direction DW and the longitudinal direction DL. Formed by portions 11c3. At this time, a plurality of half-etched portions 11c3 were arranged at intervals GW in the width direction DW. Further, in the longitudinal direction DL, two half-etched portions 11c3 were arranged side by side with an interval of GL. The width of each half-etched portion 11c3 was set to 1/3 of the width W of Test Example 1, and the interval GL was set to 1/3 of the width W.
- Test Example 3 As shown in FIG. 16, in Test Example 3, the first fragile portion 11c was formed by a plurality of half-etched portions 11c3 arranged at equal intervals along the width direction DW. The shape of each half-etched portion 11c3 was set to be rectangular. In the width direction DW, the interval GW between the half-etched portions 11c3 was made larger than the interval GW of Test Example 2.
- Test Example 4 As shown in FIG. 17, in Test Example 4, the first fragile portion 11c was formed by the plurality of half-etched portions 11c3 as in Test Example 3. The shape of each half-etched portion 11c3 was set to the same shape as the half-etched portion 11c3 of Test Example 3. On the other hand, a plurality of half-etched portions 11c3 were arranged in a staggered pattern. At this time, with respect to the two half-etched portions 11c3 adjacent to each other in the width direction DW, the position of the other half-etched portion 11c3 with respect to the position of one half-etched portion 11c3 in the longitudinal direction DL is set by the width W of the half-etched portion 11c3. Just shifted. Further, the distance GW between the two half-etched portions 11c3 adjacent to each other in the width direction DW was set to be the same as that in Test Example 3.
- the mask device 20 was formed by attaching a part of the surface 11F of the vapor deposition mask 11M of each test example to the frame 21. Next, each vapor deposition mask 11M was cut along the first fragile portion 11c. When the number of times of bending required for the vapor deposition mask 11M to be cut along the first fragile portion 11c was counted, in Test Examples 1, 3 and 4, the vapor deposition mask 11M was formed by bending the vapor deposition mask 11M twice. It was found to be cut along the first fragile portion 11c. On the other hand, in Test Example 2, it was confirmed that the vapor deposition mask 11M was cut along the first fragile portion 11c by bending the vapor deposition mask 11M four times.
- the thin-film deposition mask 11M of Test Examples 1, 3 and 4 it is recognized that the thin-film deposition mask 11M can be cut by bending a smaller number of times than the thin-film deposition mask 11M of Test Example 2. rice field.
- the vapor deposition mask 11M of Test Example 4 Since the vapor deposition mask 11M of Test Example 4 has a longer interval between the half-etched portions 11c3 in the longitudinal direction DL than the vapor deposition mask 11M of Test Examples 2 and 3, the first vapor deposition mask intermediate 10 is transported. Unintended disconnection of the fragile portion 11c is unlikely to occur. In this respect, the vapor deposition mask 11M of Test Example 4 is preferable to the vapor deposition mask 11M of Test Examples 2 and 3.
- the following effects can be obtained. (1-1) Since the first fragile portion 11c is located at the peripheral portion 11b, by cutting the first fragile portion 11c, both ends including the notch e21 of the strip-shaped portion 11 are separated from the strip-shaped portion 11. It is possible to separate from the portion including the mask portion 11a with.
- FIGS. 18 to 20 A second embodiment in the vapor deposition mask intermediate, the vapor deposition mask, and the method for manufacturing the vapor deposition mask will be described with reference to FIGS. 18 to 20.
- the structure of the connecting portion is different from the structure of the connecting portion in the first embodiment. Therefore, in the following, while these differences will be described in detail, the parts common to the first embodiment in the second embodiment are designated by the same reference numerals as those in the first embodiment, and the detailed description of the parts will be omitted. ..
- the structure of the vapor deposition mask intermediate will be described below.
- the vapor-deposited mask intermediate 30 includes a strip-shaped portion 11 and a frame-shaped portion 12, similar to the vapor-deposited mask intermediate 10 of the first embodiment.
- the thin-film mask intermediate 30 includes a plurality of connecting portions 33.
- the strip-shaped portion 11 is connected to the frame-shaped portion 12 by the connecting portion 33.
- the peripheral portion 11b and the frame-shaped portion 12 have the first plate thickness.
- the plurality of connecting portions 33 are located at intervals along the edge 11e of the strip-shaped portion 11, and each connecting portion 33 has a first plate thickness.
- the slit 30S is located along a portion of the edge 11e of the strip portion 11 other than the portion to which the connecting portion 33 is connected. Since the slit 30S is located along the portion of the edge 11e of the strip-shaped portion 11 other than the portion to which the connecting portion 33 is connected, the work of cutting the connecting portion 33 can be easily performed.
- the long side 11e1 includes a non-connecting portion that is not connected to the frame-shaped portion 12.
- the non-connecting portion includes a portion adjacent to the mask portion 11a in the width direction DW of the strip-shaped portion 11. Therefore, when the strip-shaped portion 11 is separated from the frame-shaped portion 12 by cutting the connecting portion 33, the mask portion 11a is wrinkled due to the force applied to the connecting portion 33 to cut the connecting portion 33. Deformation is suppressed.
- the connecting portion 33 connects the portion of the edge 11e of the strip-shaped portion 11 other than the bottom portion of the U-shaped notch e21 to the frame-shaped portion 12.
- FIG. 19 and 20 show an enlarged portion of the vapor deposition mask intermediate 30 corresponding to the region A in FIG.
- FIG. 19 shows an example of the shape of the slit 30S
- FIG. 20 shows another example of the shape of the slit 30S.
- the portion of the slit 30S along the long side 11e1 is the slit portion 30S1.
- the vapor deposition mask intermediate 30 has a linear shape extending from the slit portion 30S1 to the slit portion 30S1 in the frame-shaped portion 12 toward the side opposite to the strip portion 11. It has a second vulnerable portion 32a. As a result, the frame-shaped portion 12 can be cut along the second vulnerable portion 32a, so that the work of separating the strip-shaped portion 11 from the frame-shaped portion 12 becomes easier.
- the slit portion 30S1 includes an extending portion S11 extending along the edge 11e of the strip-shaped portion 11 and a protruding portion S12 protruding from the extending portion S11 toward the extending side S11 opposite to the strip-shaped portion 11. I'm out.
- the outer shape of the protruding portion S12 has a rectangular shape extending along a direction orthogonal to the extending direction of the extending portion S11.
- the second vulnerable portion 32a is connected to the protruding portion S12.
- the second vulnerable portion 32a Since the second vulnerable portion 32a is connected to the protruding portion S12, the second vulnerable portion 32a is connected to the end portion of the second fragile portion 32a as compared with the case where the second fragile portion 32a is connected to the portion of the slit 30S along the strip-shaped portion 11. It is possible to increase the distance between the band-shaped portion 11 and the strip portion 11. As a result, it is possible to prevent the strip-shaped portion 11 from being deformed such as wrinkles due to the force for cutting the second fragile portion 32a.
- the slit portion 30S1 includes a portion located closer to the short side 11e2 than the mask portion 11a in the longitudinal direction DL of the strip portion 11.
- the protruding portion S12 is located closer to the short side 11e2 than the mask portion 11a in the longitudinal direction DL of the strip-shaped portion 11.
- the first fragile portion 11c is located closer to the mask portion 11a than the protruding portion S12 in the longitudinal direction DL of the strip-shaped portion 11. Compared to the case where the first fragile portion 11c and the protruding portion S12 are lined up in the width direction DW of the strip-shaped portion 11, when a force for cutting the second fragile portion 32a acts on the second fragile portion 32a, the first fragile portion 32a is first. It is possible to prevent the vulnerable portion 11c from being cut together with the second vulnerable portion 32a.
- the end connected to the extending portion S11 is the proximal end, and the end opposite to the proximal end is the distal end.
- the second vulnerable portion 32a is connected on the way from the base end to the tip end of the protruding portion S12.
- the second fragile portion 32a may be connected to the tip of the protruding portion S12.
- the protruding portion S12 is located in the middle of the extending portion S11 extending along the longitudinal direction DL.
- the protruding portion S12 has a shape that protrudes from the extending portion S11 toward the side opposite to the strip-shaped portion 11.
- the outer shape of the protrusion S12 has a trapezoidal shape.
- the angle formed by the hypotenuse connecting the upper base and the lower base and the extending portion S11 is the fourth angle ⁇ 4.
- the fourth angle ⁇ 4 may be 20 ° or more and 50 ° or less.
- the second fragile portion 32a is connected to the apex formed by the hypotenuse and the lower base in the trapezoid defined by the protruding portion S12.
- the angle formed by the straight line extending from the lower bottom along the longitudinal direction DL and the second fragile portion 32a is the third angle ⁇ 3.
- the third angle ⁇ 3 may be smaller than the fourth angle ⁇ 4.
- the frame-shaped portion 12 is formed with a pair of second vulnerable portions 32a located upstream and a pair of second vulnerable portions 32a located downstream in the transport direction for one strip-shaped portion 11. ing.
- the protruding portion S12 connected to each of the second vulnerable portions 32a may have the shape described with reference to FIG. 19, or may have the shape described with reference to FIG. 20.
- the protruding portions 10S2 and S12 may be aligned with the first fragile portion 11c in the width direction DW of the strip-shaped portion 11, or may be located closer to the mask portion 11a than the first fragile portion 11c in the width direction DW of the strip-shaped portion 11. May be good.
- the protruding portions 10S2 and S12 are the first fragile portions in the width direction DW of the strip-shaped portion 11. It is preferable not to line up with 11c.
- the protruding portions 10S2 and S12 are the first fragile portions 11c. It is preferably located closer to the short side 11e2 than the short side.
- the slits 10S and 30S are provided with extending portions 10S1 and S11 extending along the long side 11e1, the slits 10S and 30S may not be provided with protruding portions 10S2 and S12.
- the second vulnerable portions 12a and 32a may be connected to the extending portions 10S1 and S11. Even in this case, it is possible to obtain the same effect as (1-4) and (2-3) described above by providing the second fragile portions 12a and 32a with the vapor deposition mask intermediates 10 and 30. be.
- the portion of the slits 10S and 30S along the long side 11e1 is adjacent to the mask portion 11a in the width direction DW of the strip-shaped portion 11, while is adjacent to the mask portion 11a in the longitudinal direction DL of the strip-shaped portion 11. It does not have to be located near the short side 11e2.
- the second fragile portions 12a and 32a are located on the side opposite to the strip-shaped portion 11 with respect to the slits 10S and 30S from any portion of the slits 10S and 30S extending to the long side 11e1. It suffices to extend toward.
- the upstream penetrating portion 12h1 may be applied instead of the gripped piece 12b and the downstream penetrating portion 12h2 of the vapor deposition mask intermediates 10 and 30. That is, a penetrating portion having a structure equivalent to that of the upstream penetrating portion 12h1 may be applied to the downstream end portions of the second vulnerable portions 12a and 32a located on the downstream side. Further, instead of the upstream side penetrating portion 12h1 of the vapor deposition mask intermediates 10 and 30, the gripped piece 12b and the downstream side penetrating portion 12h2 may be applied.
- the gripped piece having the same structure as the gripped piece 12b and the structure equivalent to the downstream penetrating portion 12h2 were provided. Penetrations may be applied.
- the vapor deposition mask intermediates 10 and 30 have the second vulnerable portions 12a and 32a, it is possible to obtain the effects according to the above-mentioned (1-4) and (2-3). Is.
- the vapor deposition mask intermediates 10 and 30 do not have to have the upstream penetrating portion 12h1 to which the upstream end portions of the second fragile portions 12a and 32a are connected. Even in this case, since the vapor deposition mask intermediates 10 and 30 have the second fragile portions 12a and 32a, it is possible to obtain the effects according to the above-mentioned (1-4) and (2-3). be.
- the vapor deposition mask intermediates 10 and 30 do not have to have the gripped piece 12b to which the downstream ends of the second fragile portions 12a and 32a are connected and the downstream penetrating portion 12h2. Even in this case, since the vapor deposition mask intermediates 10 and 30 have the second fragile portions 12a and 32a, it is possible to obtain the effects according to the above-mentioned (1-4) and (2-3). be.
- the second vulnerable portions 12a and 32a may be connected to any position from the base end to the tip end of the protruding portions 10S2 and S12. Even in this case, by connecting the second vulnerable portions 12a and 32a to the protruding portions 10S2 and S12, it is possible to obtain the effects according to the above-mentioned (1-5) and (2-4).
- the vapor deposition mask intermediates 10 and 30 do not have to have the second fragile portions 12a and 32a. Even in this case, it is possible to obtain the effect according to (1-1) described above by providing the vapor deposition mask intermediates 10 and 30 with the first fragile portion 11c.
- the connecting portions 13 and 33 may connect the portions of the long sides 11e1 adjacent to the mask portion 11a in the width direction DW of the strip-shaped portion 11 to the frame-shaped portion 12. Even in this case, since the vapor deposition mask intermediates 10 and 30 have the first fragile portion 11c, the effect according to (1-1) described above can be obtained. As described above, from the viewpoint of suppressing deformation such as wrinkles in the band-shaped portion 11 due to the cutting of the connecting portions 13 and 33, the portion of the long side 11e1 adjacent to the mask portion 11a in the width direction DW is , It is preferable that the frame-shaped portion 12 is not connected.
- the connecting portion 33 of the second embodiment is formed from a portion along a part of the edge 11e of the strip-shaped portion 11 and having a first plate thickness T1 and a plurality of through holes arranged on the portion. good. Even in this case, the effect according to (2-1) described above can be obtained.
- the connecting portions 13 and 33 may connect the entire circumference of the edge 11e of the strip-shaped portion 11 to the frame-shaped portion 12.
- the half-etched line may be formed along the entire circumference of the edge 11e of the strip portion 11, or the half-etched line and a plurality of half-etched lines along the half-etched line.
- a through hole may be formed along the entire circumference of the edge 11e of the strip portion 11.
- the half-etched portions may be formed at intervals along the entire circumference of the edge 11e of the strip-shaped portion 11.
- a plurality of through holes may be formed at intervals along the entire circumference of the edge 11e of the strip-shaped portion 11.
- the half-etched wire or the half-etched portion of the connecting portion 13 may be opened on the surface 10F of the vapor deposition mask intermediate 10.
- the connecting portion 13 may include a half-etched wire or a half-etched portion that is recessed on the surface 10F. Even in this case, it is possible to obtain the effect according to (1-3) described above.
- the first fragile portion 11c may extend along a direction intersecting the width direction DW of the strip-shaped portion 11 as long as it extends from one long side 11e1 toward the other long side 11e1. Even in this case, since the vapor deposition mask intermediates 10 and 30 have the first fragile portion 11c, it is possible to obtain the effect according to (1-1) described above.
- the half-etched wire 11c1 included in the first fragile portion 11c may be opened in the back surface 10R of the vapor deposition mask intermediates 10 and 30.
- the half-etched wire 11c1 may be recessed on the back surface 10R. Even in this case, since the vapor deposition mask intermediates 10 and 30 have the first fragile portion 11c, it is possible to obtain the effect according to (1-1) described above.
- the vapor-deposited mask intermediates 10 and 30 have a pair of first fragile portions 11c sandwiching the mask portion 11a in the longitudinal direction DL of the strip-shaped portion 11, but have two or more pairs of first fragile portions 11c. You may. Even in this case, since the vapor deposition mask intermediates 10 and 30 have the first fragile portion 11c, it is possible to obtain the effect according to (1-1) described above.
- the mask hole 11h has an arc shape recessed from the front surface 10F toward the back surface 10R in a cross section orthogonal to the front surface 10F of the vapor deposition mask intermediate 10, and is a surface that opens to the surface 10F. It may have an opening 11hF and a back surface opening 11hR that opens to the back surface 10R.
- the back surface 11R of the vapor deposition mask 11M may be attached to the frame 21. Even in this case, since the vapor deposition mask intermediates 10 and 30 have the first fragile portion 11c, the effect according to (1-1) described above can be obtained.
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Abstract
帯状部と、帯状部を囲む枠状部と、帯状部と枠状部との間に位置し、帯状部を枠状部に連結する連結部とを備える。帯状部は、一対の長辺と一対の短辺とを有した縁と、複数のマスク孔を有したマスク部と、マスク部を囲む周辺部とを備える。長辺が延びる方向が、帯状部の長手方向である。周辺部のうちで、長手方向におけるマスク部と短辺との間には、一方の長辺から他方の長辺に向けて延びる形状を有した脆弱部が位置する。
Description
本発明は、蒸着マスク中間体、蒸着マスク、マスク装置、および、蒸着マスクの製造方法に関する。
有機EL表示装置が備える表示素子の製造には、蒸着マスクを用いた真空蒸着が用いられている。真空蒸着に用いられる蒸着マスクは、帯状を有した金属製の薄板である。蒸着マスクは、表示素子を形成するためのマスク孔を複数有したマスク部と、マスク部を囲む周辺部とを備えている。蒸着マスクは、一対の長辺と一対の短辺とによって形成される縁を備えている(例えば、特許文献1を参照)。
蒸着マスクは、蒸着マスクを支持するフレームに固定された後に、フレームとともに真空蒸着装置に搭載される。蒸着マスクがフレームに固定される際には、長手方向における各端部が、他方の端部から離れる方向に引っ張られることによって、蒸着マスクの長手方向に沿う張力が蒸着マスクに与えられる。蒸着マスクは、張力を与えられた状態でフレームに固定される。この際に、周辺部のうちで、短辺よりもマスク部寄りの部分がフレームに固定されるため、蒸着マスクにおいて短辺を含む部分は、フレームの外側縁からはみ出している。
蒸着マスクの設置面積を小さくすることや、蒸着マスクを真空蒸着装置に搭載する作業中などに蒸着マスクが他の部材に引っ掛かることを抑える目的で、蒸着マスクのうちでフレームからはみ出した部分は、蒸着マスクから取り除かれる。そのため、蒸着マスクを用いた蒸着の効率を高める観点から、蒸着マスクをフレームに固定した後に蒸着マスクの端部を取り除く作業がより容易であることが求められている。
本発明は、蒸着マスクをフレームに固定した後における蒸着マスクの端部を取り除く作業を容易とすることを可能とした蒸着マスク中間体、蒸着マスク、マスク装置、および、蒸着マスクの製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するための蒸着マスク中間体は、帯状部と、前記帯状部を囲む枠状部と、前記帯状部と前記枠状部との間に位置し、前記帯状部を前記枠状部に連結する連結部と、を備える。前記帯状部は、一対の長辺と一対の短辺を有した縁と、複数のマスク孔を有したマスク部と、前記マスク部を囲む周辺部とを備える。前記周辺部のうちで、前記帯状部の長手方向における前記マスク部と前記短辺との間には、一方の前記長辺から他方の前記長辺に向けて延びる形状を有した脆弱部が位置する。
上記課題を解決するための蒸着マスクは、帯状を有した蒸着マスクであって、一対の長辺と一対の短辺を有した縁と、複数のマスク孔を有したマスク部と、前記マスク部を囲む周辺部と、を備える。前記周辺部のうちで、前記蒸着マスクの長手方向における前記マスク部と前記短辺との間には、一方の前記長辺から他方の前記長辺に向けて延びる形状を有した脆弱部が位置する。
上記課題を解決するための蒸着マスクの製造方法は、帯状部、前記帯状部を囲む枠状部、および、前記帯状部と前記枠状部との間に位置し、前記帯状部を前記枠状部に連結する連結部を形成すること、および、前記連結部を切断して、前記枠状部から前記帯状部を切り離すことによって蒸着マスクを得ること、を含む。前記帯状部は、一対の長辺と一対の短辺を有した縁を備える。前記帯状部は、複数のマスク孔を有したマスク部と、前記マスク部を囲む周辺部とを備える。前記周辺部のうちで、前記帯状部の長手方向における前記マスク部と前記短辺との間には、一方の前記長辺から他方の前記長辺に向けて延びる形状を有した脆弱部が位置する。
上記蒸着マスク中間体、蒸着マスク、および、蒸着マスクの製造方法によれば、脆弱部を切断することによって、帯状部のうち、短辺を含む両端部を、帯状部のうちでマスク部を含む部分から切り離すことが可能である。そのため、帯状部から形成された蒸着マスクをフレームに取り付けた後に、蒸着マスクの端部を取り除くことが容易である。
[第1実施形態]
図1から図13を参照して、蒸着マスク中間体、蒸着マスク、および、蒸着マスクの製造方法における第1実施形態を説明する。以下では、蒸着マスク中間体の構造、および、マスク装置の構造を順に説明する。
図1から図13を参照して、蒸着マスク中間体、蒸着マスク、および、蒸着マスクの製造方法における第1実施形態を説明する。以下では、蒸着マスク中間体の構造、および、マスク装置の構造を順に説明する。
[蒸着マスク中間体の構造]
図1から図9を参照して、蒸着マスク中間体の構造を説明する。
図1が示すように、蒸着マスク中間体10は、帯状部11、枠状部12、および、連結部13を備えている。枠状部12は、帯状部11を囲んでいる。連結部13は、帯状部11と枠状部12との間に位置し、帯状部11を枠状部12に連結している。図1では、蒸着マスク中間体10のうちで、連結部13が位置する部分にドットが付されている。帯状部11が延びる方向が、帯状部11の長手方向DLであり、長手方向DLと直交する方向が、帯状部11の幅方向DWである。図1が示す例では、蒸着マスク中間体10において、2つの帯状部11が幅方向DWに沿って並んでいる。なお、蒸着マスク中間体10において、各帯状部11は、幅方向DWにおいて他の帯状部11と並んでいなくてもよい。あるいは、蒸着マスク中間体10において、3つ以上の帯状部11が幅方向DWにおいて並んでいてもよい。
図1から図9を参照して、蒸着マスク中間体の構造を説明する。
図1が示すように、蒸着マスク中間体10は、帯状部11、枠状部12、および、連結部13を備えている。枠状部12は、帯状部11を囲んでいる。連結部13は、帯状部11と枠状部12との間に位置し、帯状部11を枠状部12に連結している。図1では、蒸着マスク中間体10のうちで、連結部13が位置する部分にドットが付されている。帯状部11が延びる方向が、帯状部11の長手方向DLであり、長手方向DLと直交する方向が、帯状部11の幅方向DWである。図1が示す例では、蒸着マスク中間体10において、2つの帯状部11が幅方向DWに沿って並んでいる。なお、蒸着マスク中間体10において、各帯状部11は、幅方向DWにおいて他の帯状部11と並んでいなくてもよい。あるいは、蒸着マスク中間体10において、3つ以上の帯状部11が幅方向DWにおいて並んでいてもよい。
帯状部11は、縁11e、マスク部11a、および、周辺部11bを備えている。縁11eは、一対の長辺11e1と一対の短辺11e2とを有している。図1が示す例では、短辺11e2は、U字状を有した切り欠きe21を備えている。なお、短辺11e2は、切り欠きe21を有しなくてもよい。各長辺11e1は長手方向DLに沿って延び、各短辺11e2は幅方向DWに沿って延びている。一対の長辺11e1は互いに平行であり、一対の短辺11e2は互いに平行である。
マスク部11aは、複数のマスク孔11hを有している。周辺部11bは、マスク部11aを囲んでいる。図1が示す例では、帯状部11が、長手方向DLに沿って並ぶ複数のマスク部11aを備えている。そのため、周辺部11bは、複数のマスク部11aを囲むはしご状を有している。なお、帯状部11は、1つのマスク部11aのみを備えてもよい。また、帯状部11は、幅方向DWに沿って並ぶ複数のマスク部11aを備えてもよい。
周辺部11bのうちで、長手方向DLにおけるマスク部11aと短辺11e2との間には、一方の長辺11e1から他方の長辺11e1に向けて延びる形状を有した第1脆弱部11cが位置している。第1脆弱部11cは、周辺部11bにおける第1脆弱部11c以外の部分よりも切断されやすい部分である。すなわち、第1脆弱部11cの機械的強度は、周辺部11bにおける第1脆弱部11c以外の部分における機械的強度よりも低い。このように、周辺部11bに第1脆弱部11cが位置するため、第1脆弱部11cを切断することによって、帯状部11のうち、短辺11e2を含む両端部を、帯状部11のうちでマスク部11aを含む部分から切り離すことが可能である。
長辺11e1は、枠状部12に連結されない非連結部を含んでいる。非連結部は、帯状部11の幅方向DWにおいてマスク部11aと隣り合う部分を含んでいる。非連結部と枠状部12との間には、スリット10Sが位置している。そのため、連結部13を切断することによって帯状部11を枠状部12から切り離す際に、連結部13を切断するために連結部13に作用させた力に起因してマスク部11aにしわなどの変形が生じることが抑えられる。
スリット10Sは、蒸着マスク中間体10が広がる平面と対向する平面視において、帯状部11と枠状部12との間のなかで、蒸着マスク中間体10を形成するための金属薄板が除去された部分である。なお、本実施形態では、長辺11e1のうちで、幅方向DWにおいてマスク部11aと隣り合わない部分にもスリット10Sが位置しているが、スリット10Sは、幅方向DWにおいて少なくともマスク部11aと隣り合う形状を有していればよい。また、図1が示す例では、切り欠きe21によって囲まれる領域が、蒸着マスク中間体10を貫通する貫通部である。
図2は、帯状部11が広がる平面に直交し、かつ、幅方向DWに沿うマスク部11aの断面構造を示している。
図2が示すように、マスク部11aは、複数のマスク孔11hを有している。各マスク孔11hは、大孔11hLと小孔11hSとを備えている。大孔11hLは、蒸着マスク中間体10の表面10Fに開口している。大孔11hLは、蒸着マスク中間体10の表面10Fから裏面10Rに向けて先細る形状を有している。小孔11hSは、蒸着マスク中間体10の裏面10Rに開口している。小孔11hSは、蒸着マスク中間体10の裏面10Rから表面10Fに向けて先細る形状を有している。
図2が示すように、マスク部11aは、複数のマスク孔11hを有している。各マスク孔11hは、大孔11hLと小孔11hSとを備えている。大孔11hLは、蒸着マスク中間体10の表面10Fに開口している。大孔11hLは、蒸着マスク中間体10の表面10Fから裏面10Rに向けて先細る形状を有している。小孔11hSは、蒸着マスク中間体10の裏面10Rに開口している。小孔11hSは、蒸着マスク中間体10の裏面10Rから表面10Fに向けて先細る形状を有している。
本実施形態では、帯状部11の幅方向DWにおいて、各マスク孔11hの大孔11hLは、互いに隣り合うマスク孔11hの大孔11hLに接している。一方で、帯状部11の幅方向DWにおいて、各マスク孔11hの小孔11hSは、互いに隣り合うマスク孔11hの小孔11hSから離れている。なお、帯状部11の幅方向DWにおいて、各マスク孔11hの大孔11hLは、互いに隣り合うマスク孔11hの大孔11hLから離れていてもよい。
蒸着マスク中間体10が有する面のうち、表面10Fが、帯状部11から形成された蒸着マスクが蒸着装置に搭載された際に、蒸着マスクにおいて蒸着源と対向する部分を含む。これに対して、裏面10Rは、蒸着マスクが蒸着装置に搭載された際に、蒸着対象と対向する部分を含む。蒸着対象には、大孔11hLと小孔11hSとの接続部に応じた形状を有した蒸着パターンが形成される。
図3および図4は、蒸着マスク中間体10の表面10Fに直交し、かつ、幅方向DWに沿う第1脆弱部11cの断面構造における一例を示している。
第1脆弱部11cは、ハーフエッチング線を有してもよいし、間隔を空けて並ぶ複数のハーフエッチング部を有してもよい。ハーフエッチング線およびハーフエッチング部は、第2板厚を有している。第2板厚は、第1板厚よりも薄い。または、第1脆弱部11cは、間隔を空けて並ぶ複数の貫通孔を有してもよい。第1脆弱部11cが複数のハーフエッチング部を有する場合には、複数のハーフエッチング部は、幅方向DWに沿って直線状に並んでもよいし、幅方向DWに沿って千鳥状に並んでもよい。
第1脆弱部11cは、ハーフエッチング線を有してもよいし、間隔を空けて並ぶ複数のハーフエッチング部を有してもよい。ハーフエッチング線およびハーフエッチング部は、第2板厚を有している。第2板厚は、第1板厚よりも薄い。または、第1脆弱部11cは、間隔を空けて並ぶ複数の貫通孔を有してもよい。第1脆弱部11cが複数のハーフエッチング部を有する場合には、複数のハーフエッチング部は、幅方向DWに沿って直線状に並んでもよいし、幅方向DWに沿って千鳥状に並んでもよい。
またあるいは、第1脆弱部11cは、ハーフエッチング線と、ハーフエッチング線上においてハーフエッチング線の延びる方向に沿って並ぶ複数の貫通孔とを有してもよい。またあるいは、第1脆弱部11cは、帯状部11の幅方向DWに沿って並ぶハーフエッチング部と貫通孔とを有してもよい。この場合には、ハーフエッチング部と貫通孔とが交互に並んでよい。
第1脆弱部11cのハーフエッチング線およびハーフエッチング部は、第2板厚を有している。これに対して、帯状部11が有する周辺部11bのうちでハーフエッチング線またはハーフエッチング部が位置しない部分は、第1板厚を有している。
図3は、第1脆弱部11cがハーフエッチング線を有する場合における第1脆弱部11cの断面構造を示している。
図3が示すように、第1脆弱部11cは、帯状部11の幅方向DWに沿って延びるハーフエッチング線11c1を有している。本実施形態において、ハーフエッチング線11c1は、蒸着マスク中間体10の表面10Fに形成された線状を有した窪みである。なお、ハーフエッチング線11c1は、蒸着マスク中間体10の裏面10Rに形成されてもよい。ハーフエッチング線11c1は第2板厚T2を有し、帯状部11が有する周辺部11bのうちでハーフエッチング線11c1以外の部分は、第1板厚T1を有している。
図3が示すように、第1脆弱部11cは、帯状部11の幅方向DWに沿って延びるハーフエッチング線11c1を有している。本実施形態において、ハーフエッチング線11c1は、蒸着マスク中間体10の表面10Fに形成された線状を有した窪みである。なお、ハーフエッチング線11c1は、蒸着マスク中間体10の裏面10Rに形成されてもよい。ハーフエッチング線11c1は第2板厚T2を有し、帯状部11が有する周辺部11bのうちでハーフエッチング線11c1以外の部分は、第1板厚T1を有している。
第1脆弱部11cがハーフエッチング線11c1を有する場合には、ハーフエッチング線11c1の幅は、帯状部11の幅方向DWにおいて一定であってもよい。あるいは、ハーフエッチング線11c1の幅は、複数の大きさを含んでもよい。ハーフエッチング線11c1の幅は、帯状部11の長手方向DLに沿うハーフエッチング線11c1の太さである。
図4は、第1脆弱部11cが、ハーフエッチング線と、ハーフエッチング線上においてハーフエッチング線が延びる方向に沿って並ぶ複数の貫通孔とを有する場合における第1脆弱部11cの断面構造を示している。
図4が示すように、第1脆弱部11cは、帯状部11の幅方向DWに沿って延びるハーフエッチング線11c1と、ハーフエッチング線11c1上において、幅方向DWに沿って間隔を空けて並ぶ貫通孔11c2とを有している。本実施形態では、複数の貫通孔11c2は、幅方向DWにおいて等間隔で並んでいるが、複数の貫通孔11c2は、幅方向DWにおいて不規則に並んでいてもよい。
ハーフエッチング線11c1の幅は、帯状部11の幅方向DWにおいて一定であってもよいし、複数の大きさを含んでもよい。また、貫通孔11c2の幅は、帯状部11の幅方向DWにおいて一定であってもよいし、複数の貫通孔11c2には、互いに異なる幅を有した貫通孔11c2が含まれてもよい。ハーフエッチング線11c1の幅と貫通孔11c2の幅とは等しくてもよいし、互いに異なってもよい。
なお、本実施形態において、連結部13は、帯状部11の縁11eに沿うハーフエッチング線、および、帯状部11の縁11eに沿って並ぶ複数のハーフエッチング部の少なくとも一方を含んでいる。ハーフエッチング線およびハーフエッチング部は、第1板厚T1よりも薄い第2板厚T2を有している。連結部13は、図3および図4を参照して先に説明した第1脆弱部11cと同様の構造を有している。これにより、連結部13のうち、少なくともハーフエッチング線あるいはハーフエッチング部が形成された部分を切断されやすくすることができる。
図5は、図1が示す蒸着マスク中間体10の平面構造における一部を拡大して示している。なお、蒸着マスク中間体10は、金属薄板から蒸着マスク中間体10が製造される間において、ロールツーロール装置によって搬送される。金属薄板および蒸着マスク中間体10の搬送方向は、帯状部11の長手方向DLと平行な方向である。図5には、帯状部11の端部のうちで、蒸着マスク中間体10の搬送方向における上流に位置する端部が示されている。
図5が示すように、枠状部12は、帯状部11を囲む内側縁12e1と、枠状部12の外形を形成する外側縁12e2とを含んでいる。内側縁12e1は、連結部13との境界と、スリット10Sとの境界とによって形成されている。蒸着マスク中間体10は、第2脆弱部12aを備えている。第2脆弱部12aは、枠状部12において、スリット10Sからスリット10Sに対して帯状部11とは反対側に向けて延びる線状を有している。これにより、第2脆弱部12aに沿って枠状部12を切断することができるため、枠状部12から帯状部11を切り離す作業が行いやすくなる。
本実施形態では、蒸着マスク中間体10は、複数の第2脆弱部12aを有している。各第2脆弱部12aは、帯状部11の長手方向DLと交差する方向に沿って、帯状部11の搬送方向における上流から下流に向けて延びる形状を有している。蒸着マスク中間体10は、1つの帯状部11について4つの第2脆弱部12aを有している。4つの第2脆弱部12aのうち、2つの第2脆弱部12aが、帯状部11の搬送方向において、帯状部11の中央よりも上流に位置している。これに対して、他の2つの第2脆弱部12aが、帯状部11の搬送方向において、帯状部11の中央よりも下流に位置している。なお、下流に位置する一対の第2脆弱部12aは、図5には図示されていないが、長手方向DLにおける帯状部11の中央を通り、かつ、幅方向DWに沿って延びる対称軸に対して、上流に位置する一対の第2脆弱部12aと線対称の関係を有する位置に配置されている。
1つの帯状部11について、上流に位置する一対の第2脆弱部12aが、帯状部11の幅方向DWにおいて帯状部11を挟んでいる。また、1つの帯状部11について、下流に位置する一対の第2脆弱部12aが、帯状部11の幅方向DWにおいて帯状部11を挟んでいる。
第2脆弱部12aは、第1脆弱部11cと同様、ハーフエッチング線を有してもよいし、間隔を空けて並ぶ複数のハーフエッチング部を有してもよい。またあるいは、第2脆弱部12aは、ハーフエッチング線と、ハーフエッチング線上において、ハーフエッチング線の延びる方向に沿って並ぶ複数の貫通孔とを有してもよい。また、あるいは、第2脆弱部12aは、第2脆弱部12aの延在方向に沿って並ぶハーフエッチング部と貫通孔とを有してもよい。この場合には、ハーフエッチング部と貫通孔とが交互に並んでよい。なお、第2脆弱部12aがハーフエッチング線またはハーフエッチング部を有する場合には、ハーフエッチング線またはハーフエッチング部は、蒸着マスク中間体10の裏面10Rにおいて窪むことが可能である。
図6および図7は、図5が示す領域Aを拡大して示している。すなわち、図6および図7は、スリット10Sと第2脆弱部12aとの接続部を含む領域を拡大して示している。図6はスリット10Sが有する形状における一例を示す一方で、図7はスリット10Sが有する形状における他の例を示している。
図6が示すように、スリット10Sは、延在部10S1と、突出部10S2とを含んでいる。延在部10S1は、帯状部11の長辺11e1に沿って延びる部分である。突出部10S2は、延在部10S1から延在部10S1に対して帯状部11とは反対側に向けて突出する部分である。図6が示す例では、突出部10S2の外形が、延在部10S1が延びる方向に対して直交する方向に沿って延びる矩形状を有している。第2脆弱部12aは、突出部10S2に接続されている。
第2脆弱部12aが突出部10S2に接続されるため、第2脆弱部12aが延在部10S1に接続される場合に比べて、第2脆弱部12aの端部と帯状部11との間の距離を長くすることが可能である。これにより、第2脆弱部12aを切断するための力に起因して帯状部11にしわなどの変形が生じることが抑えられる。
突出部10S2のうち、延在部10S1に接続する端部が基端であり、基端とは反対側の端部が先端である。第2脆弱部12aは、突出部10S2の基端から先端に向かう途中に接続されている。なお、第2脆弱部12aは、突出部10S2の先端に接続されてもよい。
長辺11e1の非連結部は、帯状部11の長手方向DLにおいて、マスク部11aよりも短辺11e2寄りの位置まで延びている。すなわち、長辺11e1に沿うスリット10Sが、マスク部11aよりも短辺11e2寄りの位置まで延びている。連結部13は、長辺11e1における非連結部以外の部分を枠状部12に連結している。突出部10S2は、スリット10Sの端部から延在部10S1に対して帯状部11とは反対側に向けて延びている。第1脆弱部11cは、帯状部11の長手方向DLにおいて、突出部10S2よりもマスク部11a寄りに位置している。
これにより、帯状部11の幅方向DWにおいて第1脆弱部11cと突出部10S2とが並ぶ場合に比べて、第2脆弱部12aを切断するための力が第2脆弱部12aに作用した際に、第1脆弱部11cが第2脆弱部12aとともに切断されることが抑えられる。
また、スリット10Sと連結部13との接続部は、枠状部12から帯状部11を取り外すために連結部13を切断する際に、切断の始点に設定される場合がある。この場合には、スリット10Sと連結部13との接続部に、連結部13を切断するために必要な力が作用する。そのため、帯状部11の幅方向DWにおいて突出部10S2と第1脆弱部11cが並ぶ場合、すなわち、第1脆弱部11cが延在部10S1の端部に接続されている場合には、連結部13の切断と同時に、第1脆弱部11cが切断される場合がある。この点、本実施形態の蒸着マスク中間体10によれば、帯状部11の長手方向DLにおいて、突出部10S2の位置と第1脆弱部11cの位置とがずれているため、連結部13の切断時に第1脆弱部11cが切断されることが抑えられる。
図7が示すように、突出部10S2は、長手方向DLにおける延在部10S1の端部に位置している。突出部10S2は、延在部10S1に対して帯状部11とは反対側に向けて突出する形状を有している。図7が示す例では、突出部10S2の外形は、台形状を有している。突出部10S2が区画する台形において、上底と下底とを結ぶ斜辺と、連結部13において長手方向DLに沿って延びる部分とが形成する角度が、第2角度θ2である。第2角度θ2は、20°以上50°以下であってよい。第2脆弱部12aは、突出部10S2が区画する台形のうちで、斜辺と下底とが形成する頂点に接続されている。長手方向DLに沿って下底から延長した直線と、第2脆弱部12aとが形成する角度が第1角度θ1である。第1角度θ1は、第2角度θ2よりも小さくてよい。
なお、上述したように、枠状部12には、1つの帯状部11について、搬送方向における上流に位置する一対の第2脆弱部12aと、下流に位置する一対の第2脆弱部12aとが形成されている。各第2脆弱部12aに接続される突出部10S2は、図6を参照して説明した形状を有してもよいし、図7を参照して説明した形状を有してもよい。
図8は、図5が示す領域Bを拡大して示している。すなわち、図8は、第2脆弱部12aにおける上流側の端部を含む領域を拡大して示している。
図8が示すように、各第2脆弱部12aの上流端部は、枠状部12を貫通する上流側貫通部12h1に接続されている。2つの上流側貫通部12h1は、幅方向DWにおいて、所定の間隔を開けて並んでいる。帯状部11から蒸着マスクを形成する際には、例えば、枠状部12を切断可能な器具によって、枠状部12のなかで、幅方向DWにおいて2つの上流側貫通部12h1によって挟まれる部分を切断し、これによって、切断片を形成する。次いで、蒸着マスク中間体10が広がる平面とは交差する方向に向けて切断片を引き上げることによって、2つの第2脆弱部12aを切断する力を、2つの第2脆弱部12aに対して同時に作用させることが可能である。
図8が示すように、各第2脆弱部12aの上流端部は、枠状部12を貫通する上流側貫通部12h1に接続されている。2つの上流側貫通部12h1は、幅方向DWにおいて、所定の間隔を開けて並んでいる。帯状部11から蒸着マスクを形成する際には、例えば、枠状部12を切断可能な器具によって、枠状部12のなかで、幅方向DWにおいて2つの上流側貫通部12h1によって挟まれる部分を切断し、これによって、切断片を形成する。次いで、蒸着マスク中間体10が広がる平面とは交差する方向に向けて切断片を引き上げることによって、2つの第2脆弱部12aを切断する力を、2つの第2脆弱部12aに対して同時に作用させることが可能である。
なお、幅方向DWにおいて2つの帯状部11を挟む一対の第2脆弱部12aの各々においても、上流端部が上流側貫通部12h1に接続されている。また、枠状部12には、当該上流側貫通部12h1と対となる他の上流側貫通部12h1が形成されている。これら2つの上流側貫通部12h1は、幅方向DWに沿って並んでいる。
図9は、第2脆弱部12aにおける下流側の端部を含む領域を示している。
図9が示すように、枠状部12は、2つの第2脆弱部12aの下流端部に連なる被把持片12bと、被把持片12bを囲む下流側貫通部12h2とを備えている。これにより、第2脆弱部12aの下流端部に連なる被把持片12bを器具によって把持したり、人の指によって把持したりすることが可能であるため、第2脆弱部12aを切断する力を第2脆弱部12aに作用させやすい。蒸着マスク中間体10が広がる平面とは交差する方向に向けて被把持片12bを引き上げることによって、2つの第2脆弱部12aを切断する力を、2つの第2脆弱部12aに対して同時に作用させることが可能である。
図9が示すように、枠状部12は、2つの第2脆弱部12aの下流端部に連なる被把持片12bと、被把持片12bを囲む下流側貫通部12h2とを備えている。これにより、第2脆弱部12aの下流端部に連なる被把持片12bを器具によって把持したり、人の指によって把持したりすることが可能であるため、第2脆弱部12aを切断する力を第2脆弱部12aに作用させやすい。蒸着マスク中間体10が広がる平面とは交差する方向に向けて被把持片12bを引き上げることによって、2つの第2脆弱部12aを切断する力を、2つの第2脆弱部12aに対して同時に作用させることが可能である。
なお、幅方向DWにおいて2つの帯状部11を挟む一対の第2脆弱部12aの各々においても、下流端部が被把持片12bに接続され、かつ、被把持片12bが下流側貫通部12h2に囲まれている。被把持片12bには、1つの第2脆弱部12aにおける下流端部が接続されている。
[蒸着マスクの構造]
図10から図13を参照して、蒸着マスクの構造を説明する。
図10が示すように、蒸着マスク11Mは、帯状部11と同様、長手方向DLと幅方向DWとを有している。蒸着マスク11Mの長手方向DLが帯状部11の長手方向DLに対応し、蒸着マスク11Mの幅方向DWが帯状部11の幅方向DWに対応する。蒸着マスク11Mは、長手方向DLに沿って延びる帯状を有している。蒸着マスク中間体10が有する連結部13の切断によって枠状部12から帯状部11が取り外され、これによって、帯状部11から蒸着マスク11Mを形成することが可能である。
図10から図13を参照して、蒸着マスクの構造を説明する。
図10が示すように、蒸着マスク11Mは、帯状部11と同様、長手方向DLと幅方向DWとを有している。蒸着マスク11Mの長手方向DLが帯状部11の長手方向DLに対応し、蒸着マスク11Mの幅方向DWが帯状部11の幅方向DWに対応する。蒸着マスク11Mは、長手方向DLに沿って延びる帯状を有している。蒸着マスク中間体10が有する連結部13の切断によって枠状部12から帯状部11が取り外され、これによって、帯状部11から蒸着マスク11Mを形成することが可能である。
マスク装置20は、蒸着マスク11Mとフレーム21とを備えている。蒸着マスク11Mは、蒸着マスク11Mが有するマスク部11aが、フレーム21が取り囲む領域内に位置するようにフレーム21に取り付けられる。蒸着マスク11Mのうち、第1脆弱部11cを含む部分が、フレーム21に取り付けられる。蒸着マスク11Mは、接着剤によってフレーム21に取り付けられてもよいし、締結部材によってフレームに取り付けられてもよいし、溶接によってフレーム21に取り付けられてもよい。
蒸着マスク11Mがフレーム21に取り付けられる際には、蒸着マスク11Mの短辺11e2が、他の短辺11e2から離れる方向に向けて引っ張られ、これにより、長手方向DLに沿う寸法を引き延ばすような張力が蒸着マスク11Mに与えられた状態で、蒸着マスク11Mがフレーム21に取り付けられる。
なお、図10が示す例では、マスク装置20は2つの蒸着マスク11Mを備えているが、マスク装置20は、蒸着マスク11Mを1つのみ備えてもよいし、3つ以上の蒸着マスク11Mを備えてもよい。マスク装置20が備える蒸着マスク11Mの個数に限らず、蒸着マスク11Mにおいて、第1脆弱部11cを含む部分が、フレーム21に取り付けられる。
蒸着マスク11Mがフレーム21に取り付けられる際には、蒸着マスク11Mの表面11Fにおける一部が、フレームに取り付けられる。これにより、マスク孔11hにおける大孔11hLが、フレーム21が取り囲む領域に向けて開口している。また、第1脆弱部11cが備えるハーフエッチング線またはハーフエッチング部は、フレーム21に向けて開口している。
図11が示すように、蒸着マスク11Mがフレーム21に取り付けられた後に、第1脆弱部11cが切断されることによって、蒸着マスク11Mのうちで、第1脆弱部11cよりも短辺11e2寄りの部分が取り除かれる。蒸着マスク11Mは、長手方向DLの両端部の各々に、第1脆弱部11cの切断によって形成された切断痕11cmを有している。
図12および図13は、図11が示す領域Dを拡大して示している。なお、図12および図13は、領域Dを蒸着マスク11Mの裏面11Rと対向する視点から見た場合の切断痕11cmの構造を示している。図12は、図3を参照して先に説明したように、第1脆弱部11cがハーフエッチング線11c1を備える場合に形成される切断痕11cmを示している。これに対して図13は、第1脆弱部11cが、図4を参照して先に説明したように、第1脆弱部11cが、ハーフエッチング線11c1と、ハーフエッチング線上において、ハーフエッチング線11c1の延びる方向に沿って並ぶ複数の貫通孔11c2を備える場合に形成される切断痕11cmを示している。
図12が示すように、第1脆弱部11cがハーフエッチング線11c1を備える場合には、切断痕11cmは、蒸着マスク11Mの表面11Fから裏面11Rに向けて捲れあがった部分を蒸着マスク11Mの幅方向DWにわたって有している。第1脆弱部11cが切断される際には、第1脆弱部11cが折り曲げ部となるように、蒸着マスク11Mが折り曲げられる。この際に、蒸着マスク11Mにおける表面11Fの一部がフレームに取り付けられているため、蒸着マスク11Mの裏面11Rの一部と、当該裏面11Rの他の一部とが対向するように、蒸着マスク11Mが折り曲げられる。
図13が示すように、第1脆弱部11cがハーフエッチング線11c1と複数の貫通孔11c2とを備える場合には、切断痕11cmは、複数の捲れcm1と複数の窪みcm2とを備えている。切断痕11cmが延びる方向において、捲れcm1と窪みcm2とが交互に並んでいる。切断痕11cmにおいて、複数の捲れcm1は、ハーフエッチング線11c1が切断されることによって形成された部分である。切断痕11cmにおいて、各窪みcm2は、各貫通孔11c2に対応する部分である。各捲れcm1は、蒸着マスク11Mの表面11Fから裏面11Rに向けて捲れあがっている。
本実施形態の蒸着マスク11Mでは、ハーフエッチング線11c1が表面10Fに開口するから、蒸着マスク中間体10から形成された蒸着マスク11Mがフレーム21に貼り付けられた場合に、ハーフエッチング線11c1がフレーム21に向けて開口する。そのため、ハーフエッチング線11c1が裏面10Rに開口する場合に比べて、裏面10Rの一部と、当該裏面10Rの他の一部とが対向するように蒸着マスク11Mを折り曲げる場合に、第1脆弱部11cに沿って蒸着マスク11Mを折り曲げるために必要な力が小さくてすむ。これにより、蒸着マスク11Mの折り曲げに要する負荷を軽減することができる。また、第1脆弱部11cに沿って蒸着マスク11Mを切断するために必要な時間を短くすることもできる。なお、第1脆弱部11cがハーフエッチング部を含む場合にも、ハーフエッチング線11c1を含む場合と同等の効果を得ることができる。
[試験例]
第1脆弱部11cの構造が互いに異なる試験例1から試験例4の蒸着マスク11Mを形成した。なお、以下に参照する図14から図17は、蒸着マスク11Mの表面11Fと対向する平面視における第1脆弱部11cの構造を示している。各第1脆弱部11cは、蒸着マスク11Mの表面11Fに位置している。図14から図17では、ハーフエッチング線あるいはハーフエッチング部にドットが付されている。
第1脆弱部11cの構造が互いに異なる試験例1から試験例4の蒸着マスク11Mを形成した。なお、以下に参照する図14から図17は、蒸着マスク11Mの表面11Fと対向する平面視における第1脆弱部11cの構造を示している。各第1脆弱部11cは、蒸着マスク11Mの表面11Fに位置している。図14から図17では、ハーフエッチング線あるいはハーフエッチング部にドットが付されている。
[試験例1]
図14が示すように、試験例1では、幅方向DWに沿って延びるハーフエッチング線11c1によって第1脆弱部11cを形成した。
図14が示すように、試験例1では、幅方向DWに沿って延びるハーフエッチング線11c1によって第1脆弱部11cを形成した。
[試験例2]
図15が示すように、試験例2では、試験例1のハーフエッチング線11c1を、幅方向DWおよび長手方向DLの両方において等間隔で分割することにより、第1脆弱部11cを複数のハーフエッチング部11c3によって形成した。この際に、幅方向DWにおいて、間隔GWを空けて複数のハーフエッチング部11c3を並べた。また、長手方向DLにおいて、間隔GLを空けて2つのハーフエッチング部11c3を並べた。なお、各ハーフエッチング部11c3の幅を試験例1の幅Wの1/3の長さに設定し、かつ、間隔GLを幅Wの1/3の長さに設定した。
図15が示すように、試験例2では、試験例1のハーフエッチング線11c1を、幅方向DWおよび長手方向DLの両方において等間隔で分割することにより、第1脆弱部11cを複数のハーフエッチング部11c3によって形成した。この際に、幅方向DWにおいて、間隔GWを空けて複数のハーフエッチング部11c3を並べた。また、長手方向DLにおいて、間隔GLを空けて2つのハーフエッチング部11c3を並べた。なお、各ハーフエッチング部11c3の幅を試験例1の幅Wの1/3の長さに設定し、かつ、間隔GLを幅Wの1/3の長さに設定した。
[試験例3]
図16が示すように、試験例3では、幅方向DWに沿って等間隔で並ぶ複数のハーフエッチング部11c3によって第1脆弱部11cを形成した。各ハーフエッチング部11c3の形状を長方形状に設定した。幅方向DWにおいて、ハーフエッチング部11c3間の間隔GWを試験例2の間隔GWよりも大きくした。
図16が示すように、試験例3では、幅方向DWに沿って等間隔で並ぶ複数のハーフエッチング部11c3によって第1脆弱部11cを形成した。各ハーフエッチング部11c3の形状を長方形状に設定した。幅方向DWにおいて、ハーフエッチング部11c3間の間隔GWを試験例2の間隔GWよりも大きくした。
[試験例4]
図17が示すように、試験例4では、試験例3と同様に、複数のハーフエッチング部11c3によって第1脆弱部11cを形成した。各ハーフエッチング部11c3の形状を試験例3のハーフエッチング部11c3と同一の形状に設定した。一方で、複数のハーフエッチング部11c3を千鳥状に配列した。この際に、幅方向DWにおいて互いに隣り合う2つのハーフエッチング部11c3について、長手方向DLにおいて、一方のハーフエッチング部11c3の位置に対する他方のハーフエッチング部11c3の位置をハーフエッチング部11c3の幅W分だけずらした。また、幅方向DWにおいて互いに隣り合う2つのハーフエッチング部11c3の間の間隔GWを試験例3と同一に設定した。
図17が示すように、試験例4では、試験例3と同様に、複数のハーフエッチング部11c3によって第1脆弱部11cを形成した。各ハーフエッチング部11c3の形状を試験例3のハーフエッチング部11c3と同一の形状に設定した。一方で、複数のハーフエッチング部11c3を千鳥状に配列した。この際に、幅方向DWにおいて互いに隣り合う2つのハーフエッチング部11c3について、長手方向DLにおいて、一方のハーフエッチング部11c3の位置に対する他方のハーフエッチング部11c3の位置をハーフエッチング部11c3の幅W分だけずらした。また、幅方向DWにおいて互いに隣り合う2つのハーフエッチング部11c3の間の間隔GWを試験例3と同一に設定した。
[評価方法および評価方法]
各試験例の蒸着マスク11Mが有する表面11Fの一部をフレーム21に貼り付けることによって、マスク装置20を形成した。次いで、第1脆弱部11cに沿って各蒸着マスク11Mを切断した。蒸着マスク11Mが第1脆弱部11cに沿って切断されるまでに必要な折り曲げの回数を計数したところ、試験例1,3,4では、蒸着マスク11Mを2回折り曲げることによって、蒸着マスク11Mが第1脆弱部11cに沿って切断されることが認められた。これに対して、試験例2では、蒸着マスク11Mを4回折り曲げることによって、蒸着マスク11Mが第1脆弱部11cに沿って切断されることが認められた。このように、試験例1,3,4の蒸着マスク11Mによれば、試験例2の蒸着マスク11Mに比べて、少ない回数の折り曲げによって蒸着マスク11Mを切断することが可能であることが認められた。
各試験例の蒸着マスク11Mが有する表面11Fの一部をフレーム21に貼り付けることによって、マスク装置20を形成した。次いで、第1脆弱部11cに沿って各蒸着マスク11Mを切断した。蒸着マスク11Mが第1脆弱部11cに沿って切断されるまでに必要な折り曲げの回数を計数したところ、試験例1,3,4では、蒸着マスク11Mを2回折り曲げることによって、蒸着マスク11Mが第1脆弱部11cに沿って切断されることが認められた。これに対して、試験例2では、蒸着マスク11Mを4回折り曲げることによって、蒸着マスク11Mが第1脆弱部11cに沿って切断されることが認められた。このように、試験例1,3,4の蒸着マスク11Mによれば、試験例2の蒸着マスク11Mに比べて、少ない回数の折り曲げによって蒸着マスク11Mを切断することが可能であることが認められた。
なお、試験例4の蒸着マスク11Mでは、試験例2,3の蒸着マスク11Mに比べて、長手方向DLにおけるハーフエッチング部11c3間の間隔が長いから、蒸着マスク中間体10の搬送時において第1脆弱部11cの意図しない切断が生じにくい。この点において、試験例4の蒸着マスク11Mは、試験例2,3の蒸着マスク11Mよりも好ましい。
以上説明したように、蒸着マスク中間体、蒸着マスク、および、蒸着マスクの製造方法における第1実施形態によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
(1‐1)周辺部11bに第1脆弱部11cが位置するため、第1脆弱部11cを切断することによって、帯状部11のうち、切り欠きe21を含む両端部を、帯状部11のうちでマスク部11aを含む部分から切り離すことが可能である。
(1‐1)周辺部11bに第1脆弱部11cが位置するため、第1脆弱部11cを切断することによって、帯状部11のうち、切り欠きe21を含む両端部を、帯状部11のうちでマスク部11aを含む部分から切り離すことが可能である。
(1‐2)連結部13を切断することによって帯状部11を枠状部12から切り離す際に、連結部13を切断するために連結部13に作用させた力に起因してマスク部11aにしわなどの変形が生じることが抑えられる。
(1‐3)連結部13のうち、少なくともハーフエッチング線あるいはハーフエッチング部が形成された部分を切断されやすくすることができる。
(1‐4)第2脆弱部12aに沿って枠状部12を切断することができるため、枠状部12から帯状部11を切り離す作業が行いやすくなる。
(1‐4)第2脆弱部12aに沿って枠状部12を切断することができるため、枠状部12から帯状部11を切り離す作業が行いやすくなる。
(1‐5)第2脆弱部12aが突出部10S2に接続されるため、第2脆弱部12aが延在部10S1に接続される場合に比べて、第2脆弱部12aの端部と帯状部11との間の距離を長くすることが可能である。これにより、第2脆弱部12aを切断するための力に起因して帯状部11にしわなどの変形が生じることが抑えられる。
(1‐6)帯状部11の幅方向DWにおいて第1脆弱部11cと突出部10S2とが並ぶ場合に比べて、第2脆弱部12aを切断するための力が第2脆弱部12aに作用した際に、第1脆弱部11cが第2脆弱部12aとともに切断されることが抑えられる。
[第2実施形態]
図18から図20を参照して、蒸着マスク中間体、蒸着マスク、および、蒸着マスクの製造方法における第2実施形態を説明する。第2実施形態では、連結部の構造が第1実施形態における連結部の構造と異なっている。そのため以下では、こうした相違点を詳しく説明する一方で、第2実施形態において第1実施形態と共通する部分には第1実施形態と同一の符号を付すことによって、当該部分の詳しい説明を省略する。以下では、蒸着マスク中間体の構造を説明する。
図18から図20を参照して、蒸着マスク中間体、蒸着マスク、および、蒸着マスクの製造方法における第2実施形態を説明する。第2実施形態では、連結部の構造が第1実施形態における連結部の構造と異なっている。そのため以下では、こうした相違点を詳しく説明する一方で、第2実施形態において第1実施形態と共通する部分には第1実施形態と同一の符号を付すことによって、当該部分の詳しい説明を省略する。以下では、蒸着マスク中間体の構造を説明する。
[蒸着マスク中間体の構造]
図18から図20を参照して、蒸着マスク中間体の構造を説明する。
図18が示すように、蒸着マスク中間体30は、第1実施形態の蒸着マスク中間体10と同様、帯状部11および枠状部12を備えている。蒸着マスク中間体30は、複数の連結部33を備えている。帯状部11は、連結部33によって枠状部12に連結されている。
図18から図20を参照して、蒸着マスク中間体の構造を説明する。
図18が示すように、蒸着マスク中間体30は、第1実施形態の蒸着マスク中間体10と同様、帯状部11および枠状部12を備えている。蒸着マスク中間体30は、複数の連結部33を備えている。帯状部11は、連結部33によって枠状部12に連結されている。
蒸着マスク中間体30において、周辺部11bおよび枠状部12は、第1板厚を有している。複数の連結部33は、帯状部11の縁11eに沿って間隔を空けて位置し、各連結部33は第1板厚を有している。帯状部11の縁11eのうち連結部33が接続した部分以外の部分に沿って、スリット30Sが位置している。帯状部11の縁11eのうち連結部33が接続した部分以外の部分に沿ってスリット30Sが位置するため、連結部33を切断する作業が行いやすい。
長辺11e1は、枠状部12に連結されない非連結部を含んでいる。非連結部は、帯状部11の幅方向DWにおいてマスク部11aと隣り合う部分を含んでいる。そのため、連結部33を切断することによって帯状部11を枠状部12から切り離す際に、連結部33を切断するために連結部33に作用させた力に起因してマスク部11aにしわなどの変形が生じることが抑えられる。
連結部33は、帯状部11の縁11eのうちで、U字状を有した切り欠きe21の底部以外の部分を枠状部12に連結することが好ましい。これにより、帯状部11から形成された蒸着マスクの取り付けに際して、蒸着マスクに張力が与えられた場合に、連結部33の切断痕に起因して、蒸着マスクにしわが生じることが抑えられる。
図19および図20は、蒸着マスク中間体30のうちで、図5における領域Aに相当する部分を拡大して示している。図19はスリット30Sが有する形状における一例を示す一方で、図20はスリット30Sが有する形状における他の例を示している。
図19が示すように、スリット30Sのうちで長辺11e1に沿う部分がスリット部30S1である。蒸着マスク中間体30は、第1実施形態の蒸着マスク中間体10と同様、枠状部12において、スリット部30S1からスリット部30S1に対して帯状部11とは反対側に向けて延びる線状を有した第2脆弱部32aを備えている。これにより、第2脆弱部32aに沿って枠状部12を切断することができるため、枠状部12から帯状部11を切り離す作業が行いやすくなる。
スリット部30S1は、帯状部11の縁11eに沿って延びる延在部S11と、延在部S11から延在部S11に対して帯状部11とは反対側に向けて突出する突出部S12を含んでいる。図19が示す例では、突出部S12の外形が、延在部S11が延びる方向に対して直交する方向に沿って延びる矩形状を有している。第2脆弱部32aは、突出部S12に接続されている。第2脆弱部32aが突出部S12に接続されるため、第2脆弱部32aがスリット30Sのうちで帯状部11に沿う部分に接続される場合に比べて、第2脆弱部32aの端部と帯状部11との間の距離を長くすることが可能である。これにより、第2脆弱部32aを切断するための力に起因して帯状部11にしわなどの変形が生じることが抑えられる。
スリット部30S1は、帯状部11の長手方向DLにおいて、マスク部11aよりも短辺11e2寄りに位置する部分を含んでいる。突出部S12は、帯状部11の長手方向DLにおいて、マスク部11aよりも短辺11e2寄りに位置している。第1脆弱部11cは、帯状部11の長手方向DLにおいて、突出部S12よりもマスク部11a寄りに位置している。帯状部11の幅方向DWにおいて第1脆弱部11cと突出部S12とが並ぶ場合に比べて、第2脆弱部32aを切断するための力が第2脆弱部32aに作用した際に、第1脆弱部11cが第2脆弱部32aとともに切断されることが抑えられる。
突出部S12のうち、延在部S11に接続する端部が基端であり、基端とは反対側の端部が先端である。第2脆弱部32aは、突出部S12の基端から先端に向かう途中に接続されている。なお、第2脆弱部32aは、突出部S12の先端に接続されてもよい。
図20が示すように、突出部S12は、延在部S11が長手方向DLに沿って延びる途中に位置している。突出部S12は、延在部S11に対して帯状部11とは反対側に向けて突出する形状を有している。図20が示す例では、突出部S12の外形は、台形状を有している。突出部S12が区画する台形において、上底と下底とを結ぶ斜辺と、延在部S11とが形成する角度が第4角度θ4である。第4角度θ4は、20°以上50°以下であってよい。第2脆弱部32aは、突出部S12が区画する台形のうちで、斜辺と下底とが形成する頂点に接続されている。長手方向DLに沿って下底から延長した直線と、第2脆弱部32aとが形成する角度が第3角度θ3である。第3角度θ3は、第4角度θ4よりも小さくてよい。
上述したように、枠状部12には、1つの帯状部11について、搬送方向における上流に位置する一対の第2脆弱部32aと、下流に位置する一対の第2脆弱部32aとが形成されている。各第2脆弱部32aに接続される突出部S12は、図19を参照して説明した形状を有してもよいし、図20を参照して説明した形状を有してもよい。
以上説明したように、蒸着マスク中間体、蒸着マスク、および、蒸着マスクの製造方法における第2実施形態によれば、上述した(1‐1)に加えて、以下に記載の効果を得ることができる。
(2‐1)帯状部11の縁11eのうち連結部33が接続した部分以外の部分に沿ってスリット30Sが位置するため、連結部33を切断する作業が行いやすい。
(2‐2)連結部33を切断することによって帯状部11を枠状部12から切り離す際に、連結部33を切断するために連結部33に作用させた力に起因してマスク部11aにしわなどの変形が生じることが抑えられる。
(2‐2)連結部33を切断することによって帯状部11を枠状部12から切り離す際に、連結部33を切断するために連結部33に作用させた力に起因してマスク部11aにしわなどの変形が生じることが抑えられる。
(2‐3)第2脆弱部32aに沿って枠状部12を切断することができるため、枠状部12から帯状部11を切り離す作業が行いやすくなる。
(2‐4)第2脆弱部32aが突出部S12に接続されるため、第2脆弱部32aがスリット30Sのうちで帯状部11に沿う部分に接続される場合に比べて、第2脆弱部32aの端部と帯状部11との間の距離を長くすることが可能である。これにより、第2脆弱部32aを切断するための力に起因して帯状部11にしわなどの変形が生じることが抑えられる。
(2‐4)第2脆弱部32aが突出部S12に接続されるため、第2脆弱部32aがスリット30Sのうちで帯状部11に沿う部分に接続される場合に比べて、第2脆弱部32aの端部と帯状部11との間の距離を長くすることが可能である。これにより、第2脆弱部32aを切断するための力に起因して帯状部11にしわなどの変形が生じることが抑えられる。
(2‐5)帯状部11の幅方向DWにおいて第1脆弱部11cと突出部S12とが並ぶ場合に比べて、第2脆弱部32aを切断するための力が第2脆弱部32aに作用した際に、第1脆弱部11cが第2脆弱部32aとともに切断されることが抑えられる。
[変更例]
なお、各実施形態は、以下のように変更して実施することができる。
[スリット]
・突出部10S2,S12は、帯状部11の幅方向DWにおいて第1脆弱部11cと並んでもよいし、帯状部11の幅方向DWにおいて第1脆弱部11cよりもマスク部11a寄りに位置してもよい。上述したように、第2脆弱部12a,32aの切断時に第1脆弱部11cが切断されることを抑える観点では、突出部10S2,S12は、帯状部11の幅方向DWにおいて、第1脆弱部11cとは並ばないことが好ましい。また、第2脆弱部12a,32aとマスク部11aとの間の距離を大きくし、これによって、マスク部11aにおけるしわなどの変形を抑える観点では、突出部10S2,S12は、第1脆弱部11cよりも短辺11e2寄りに位置することが好ましい。
なお、各実施形態は、以下のように変更して実施することができる。
[スリット]
・突出部10S2,S12は、帯状部11の幅方向DWにおいて第1脆弱部11cと並んでもよいし、帯状部11の幅方向DWにおいて第1脆弱部11cよりもマスク部11a寄りに位置してもよい。上述したように、第2脆弱部12a,32aの切断時に第1脆弱部11cが切断されることを抑える観点では、突出部10S2,S12は、帯状部11の幅方向DWにおいて、第1脆弱部11cとは並ばないことが好ましい。また、第2脆弱部12a,32aとマスク部11aとの間の距離を大きくし、これによって、マスク部11aにおけるしわなどの変形を抑える観点では、突出部10S2,S12は、第1脆弱部11cよりも短辺11e2寄りに位置することが好ましい。
・スリット10S,30Sは、長辺11e1に沿って延びる延在部10S1,S11を備える一方で、突出部10S2,S12を備えなくてもよい。この場合には、第2脆弱部12a,32aは、延在部10S1,S11に接続されればよい。この場合であっても、蒸着マスク中間体10,30が第2脆弱部12a,32aを備えることによって、上述した(1‐4)、(2‐3)に準じた効果を得ることは可能である。
・各実施形態において、スリット10S,30Sのうちで長辺11e1に沿う部分は、帯状部11の幅方向DWにおいてマスク部11aと隣り合う一方で、帯状部11の長手方向DLにおいてマスク部11aよりも短辺11e2寄りには位置しなくてもよい。この場合には、第2脆弱部12a,32aは、スリット10S,30Sのうちで、長辺11e1に延びる部分におけるいずれかの部位から、スリット10S,30Sに対して帯状部11とは反対側に向けて延びていればよい。
[第2脆弱部]
・蒸着マスク中間体10,30が有する被把持片12bおよび下流側貫通部12h2に代えて、上流側貫通部12h1が適用されてもよい。すなわち、下流側に位置する第2脆弱部12a,32aの下流端部には、上流側貫通部12h1と同等の構造を有した貫通部が適用されてもよい。また、蒸着マスク中間体10,30が有する上流側貫通部12h1に代えて、被把持片12bおよび下流側貫通部12h2が適用されてもよい。すなわち、上流側に位置する第2脆弱部12a,32aの上流端部には、被把持片12bと同等の構造を有した被把持片、および、下流側貫通部12h2と同等の構造を有した貫通部が適用されてもよい。いずれの場合であっても、蒸着マスク中間体10,30が第2脆弱部12a,32aを有することによって、上述した(1‐4)、(2‐3)に準じた効果を得ることは可能である。
・蒸着マスク中間体10,30が有する被把持片12bおよび下流側貫通部12h2に代えて、上流側貫通部12h1が適用されてもよい。すなわち、下流側に位置する第2脆弱部12a,32aの下流端部には、上流側貫通部12h1と同等の構造を有した貫通部が適用されてもよい。また、蒸着マスク中間体10,30が有する上流側貫通部12h1に代えて、被把持片12bおよび下流側貫通部12h2が適用されてもよい。すなわち、上流側に位置する第2脆弱部12a,32aの上流端部には、被把持片12bと同等の構造を有した被把持片、および、下流側貫通部12h2と同等の構造を有した貫通部が適用されてもよい。いずれの場合であっても、蒸着マスク中間体10,30が第2脆弱部12a,32aを有することによって、上述した(1‐4)、(2‐3)に準じた効果を得ることは可能である。
・蒸着マスク中間体10,30は、第2脆弱部12a,32aの上流端部が接続される上流側貫通部12h1を有しなくてもよい。この場合であっても、蒸着マスク中間体10,30が第2脆弱部12a,32aを有することによって、上述した(1‐4)、(2‐3)に準じた効果を得ることは可能である。
・蒸着マスク中間体10,30は、第2脆弱部12a,32aの下流端部が接続される被把持片12b、および、下流側貫通部12h2を有しなくてもよい。この場合であっても、蒸着マスク中間体10,30が第2脆弱部12a,32aを有することによって、上述した(1‐4)、(2‐3)に準じた効果を得ることは可能である。
・第2脆弱部12a,32aは、突出部10S2,S12における基端から先端までのいずれかの位置に接続されていればよい。この場合であっても、第2脆弱部12a,32aが突出部10S2,S12に接続されることによって、上述した(1‐5)、(2‐4)に準じた効果を得ることはできる。
・蒸着マスク中間体10,30は、第2脆弱部12a,32aを有しなくてもよい。この場合であっても、蒸着マスク中間体10,30が第1脆弱部11cを備えることによって、上述した(1‐1)に準じた効果を得ることは可能である。
[連結部]
・連結部13,33は、長辺11e1のうちで、帯状部11の幅方向DWにおいてマスク部11aと隣り合う部分を枠状部12に連結してもよい。この場合であっても、蒸着マスク中間体10,30が第1脆弱部11cを有することによって、上述した(1‐1)に準じた効果を得ることはできる。なお、上述したように、連結部13,33の切断によって帯状部11にしわなどの変形が生じることを抑える観点では、長辺11e1のうちで、幅方向DWにおいてマスク部11aと隣り合う部分は、枠状部12に連結されていないことが好ましい。
・連結部13,33は、長辺11e1のうちで、帯状部11の幅方向DWにおいてマスク部11aと隣り合う部分を枠状部12に連結してもよい。この場合であっても、蒸着マスク中間体10,30が第1脆弱部11cを有することによって、上述した(1‐1)に準じた効果を得ることはできる。なお、上述したように、連結部13,33の切断によって帯状部11にしわなどの変形が生じることを抑える観点では、長辺11e1のうちで、幅方向DWにおいてマスク部11aと隣り合う部分は、枠状部12に連結されていないことが好ましい。
・第2実施形態の連結部33は、帯状部11の縁11eにおける一部に沿い、かつ、第1板厚T1を有する部分と、当該部分上に並ぶ複数の貫通孔とから形成されてもよい。この場合であっても、上述した(2‐1)に準じた効果を得ることはできる。
・連結部13,33は、帯状部11の縁11eの全周を枠状部12に接続してもよい。例えば、第1実施形態の蒸着マスク中間体10では、ハーフエッチング線が、帯状部11の縁11eの全周に沿って形成されてもよいし、ハーフエッチング線と、ハーフエッチング線に沿う複数の貫通孔とが、帯状部11の縁11eの全周に沿って形成されてもよい。また例えば、第1実施形態の蒸着マスク中間体10では、ハーフエッチング部が、帯状部11の縁11eの全周に沿って間隔を空けて形成されてもよい。例えば、第2実施形態の蒸着マスク中間体30では、帯状部11の縁11eの全周に沿って、複数の貫通孔が間隔を空けて形成されてもよい。
・第1実施形態において、連結部13が有するハーフエッチング線またはハーフエッチング部は、蒸着マスク中間体10の表面10Fに開口してもよい。言い換えれば、連結部13は、表面10Fにおいて窪むハーフエッチング線またはハーフエッチング部を備えてもよい。この場合であっても、上述した(1‐3)に準じた効果を得ることは可能である。
[第1脆弱部]
・第1脆弱部11cは、一方の長辺11e1から他方の長辺11e1に向けて延びていれば、帯状部11の幅方向DWに交差する方向に沿って延びてもよい。この場合であっても、蒸着マスク中間体10,30が第1脆弱部11cを有するため、上述した(1‐1)に準じた効果を得ることは可能である。
・第1脆弱部11cは、一方の長辺11e1から他方の長辺11e1に向けて延びていれば、帯状部11の幅方向DWに交差する方向に沿って延びてもよい。この場合であっても、蒸着マスク中間体10,30が第1脆弱部11cを有するため、上述した(1‐1)に準じた効果を得ることは可能である。
・上述したように、第1脆弱部11cが有するハーフエッチング線11c1は、蒸着マスク中間体10,30の裏面10Rに開口してもよい。言い換えれば、ハーフエッチング線11c1は、裏面10Rにおいて窪んでいてもよい。この場合であっても、蒸着マスク中間体10,30が第1脆弱部11cを有するため、上述した(1‐1)に準じた効果を得ることは可能である。
・蒸着マスク中間体10,30は、帯状部11の長手方向DLにおいて、マスク部11aを挟む一対の第1脆弱部11cを有しているが、二対以上の第1脆弱部11cを有してもよい。この場合であっても、蒸着マスク中間体10,30が第1脆弱部11cを有するため、上述した(1‐1)に準じた効果を得ることは可能である。
[マスク孔]
・図21が示すように、マスク孔11hは、蒸着マスク中間体10の表面10Fと直交する断面において、表面10Fから裏面10Rに向けて窪む弧状を有し、かつ、表面10Fに開口する表面開口11hFと、裏面10Rに開口する裏面開口11hRとを有してもよい。
・図21が示すように、マスク孔11hは、蒸着マスク中間体10の表面10Fと直交する断面において、表面10Fから裏面10Rに向けて窪む弧状を有し、かつ、表面10Fに開口する表面開口11hFと、裏面10Rに開口する裏面開口11hRとを有してもよい。
[マスク装置]
・マスク装置20において、蒸着マスク11Mの裏面11Rが、フレーム21に取り付けられてもよい。この場合であっても、蒸着マスク中間体10,30が第1脆弱部11cを有するため、上述した(1‐1)に準じた効果を得ることはできる。
・マスク装置20において、蒸着マスク11Mの裏面11Rが、フレーム21に取り付けられてもよい。この場合であっても、蒸着マスク中間体10,30が第1脆弱部11cを有するため、上述した(1‐1)に準じた効果を得ることはできる。
10,30…蒸着マスク中間体
10S,30S…スリット
10S1,S11…延在部
10S2,S12…突出部
11…帯状部
11a…マスク部
11b…周辺部
11c…第1脆弱部
11e…縁
11e1…長辺
11e2…短辺
11h…マスク孔
11M…蒸着マスク
12…枠状部
12a,32a…第2脆弱部
12e1…内側縁
12e2…外側縁
13,33…連結部
30S1…スリット部
10S,30S…スリット
10S1,S11…延在部
10S2,S12…突出部
11…帯状部
11a…マスク部
11b…周辺部
11c…第1脆弱部
11e…縁
11e1…長辺
11e2…短辺
11h…マスク孔
11M…蒸着マスク
12…枠状部
12a,32a…第2脆弱部
12e1…内側縁
12e2…外側縁
13,33…連結部
30S1…スリット部
Claims (15)
- 帯状部と、
前記帯状部を囲む枠状部と、
前記帯状部と前記枠状部との間に位置し、前記帯状部を前記枠状部に連結する連結部と、を備え、
前記帯状部は、一対の長辺と一対の短辺とを有した縁と、複数のマスク孔を有したマスク部と、前記マスク部を囲む周辺部とを備え、
前記長辺が延びる方向が、前記帯状部の長手方向であり、
前記周辺部のうちで、前記長手方向における前記マスク部と前記短辺との間には、一方の前記長辺から他方の前記長辺に向けて延びる形状を有した脆弱部が位置する
蒸着マスク中間体。 - 前記脆弱部は、複数のハーフエッチング部を含み、
前記複数のハーフエッチング部は、一方の前記長辺から他方の前記長辺に向かう方向に沿って千鳥状に並んでいる
請求項1に記載の蒸着マスク中間体。 - 前記周辺部および前記枠状部は、第1板厚を有し、
前記連結部は、前記帯状部の前記縁に沿うハーフエッチング線、および、前記帯状部の前記縁に沿って並ぶ複数のハーフエッチング部の少なくとも一方を含み、前記ハーフエッチング線および前記ハーフエッチング部は、前記第1板厚よりも薄い第2板厚を有する
請求項1または2に記載の蒸着マスク中間体。 - 前記長辺は、前記枠状部に連結されない非連結部を含み、前記非連結部は、前記帯状部の幅方向において前記マスク部と隣り合う部分を含み、
前記非連結部と前記枠状部との間には、スリットが位置する
請求項1から3のいずれか一項に記載の蒸着マスク中間体。 - 前記脆弱部は、第1脆弱部であり、
前記枠状部は、前記帯状部を囲む内側縁と、前記枠状部の外形を形成する外側縁とを含み、
前記枠状部において、前記スリットから前記スリットに対して前記帯状部とは反対側に向けて延びる線状を有した第2脆弱部をさらに備える
請求項4に記載の蒸着マスク中間体。 - 前記スリットは、前記帯状部の前記縁に沿って延びる延在部と、前記延在部から前記延在部に対して前記帯状部とは反対側に向けて突出する突出部を含み、
前記第2脆弱部は、前記突出部に接続されている
請求項5に記載の蒸着マスク中間体。 - 前記非連結部は、前記帯状部の前記長手方向において、前記マスク部よりも前記短辺寄りの位置まで延び、
前記連結部は、前記長辺における前記非連結部以外の部分を前記枠状部に連結し、
前記突出部は、前記スリットの端部から前記延在部に対して前記帯状部とは反対側に向けて突出し、
前記第1脆弱部は、前記帯状部の前記長手方向において、前記突出部よりも前記マスク部寄りに位置する
請求項6に記載の蒸着マスク中間体。 - 前記周辺部および前記枠状部は、第1板厚を有し、
前記連結部は、複数の連結部のうちの1つであり、前記複数の連結部は、前記帯状部の前記縁に沿って間隔を空けて位置し、各連結部は前記第1板厚を有し、
前記帯状部の前記縁のうち前記連結部が接続した部分以外の部分に沿って、スリットが位置する
請求項1または2に記載の蒸着マスク中間体。 - 前記長辺は、前記枠状部に連結されない非連結部を含み、前記非連結部は、前記帯状部の幅方向において前記マスク部と隣り合う部分を含む
請求項8に記載の蒸着マスク中間体。 - 前記脆弱部は、第1脆弱部であり、
前記枠状部は、前記帯状部を囲む内側縁と、前記枠状部の外形を形成する外側縁とを含み、
前記スリットのうちで前記長辺に沿う部分がスリット部であり、
前記枠状部において、前記スリット部から前記スリット部に対して前記帯状部とは反対側に向けて延びる線状を有した第2脆弱部をさらに備える
請求項9に記載の蒸着マスク中間体。 - 前記スリット部は、前記帯状部の前記縁に沿って延びる延在部と、前記延在部から前記延在部に対して前記帯状部とは反対側に向けて突出する突出部を含み、
前記第2脆弱部は、前記突出部に接続されている
請求項10に記載の蒸着マスク中間体。 - 前記スリット部は、前記帯状部の前記長手方向において、前記マスク部よりも前記短辺寄りに位置する部分を含み、
前記突出部は、前記帯状部の前記長手方向において、前記マスク部よりも前記短辺寄りに位置し、
前記第1脆弱部は、前記帯状部の前記長手方向において、前記突出部よりも前記マスク部寄りに位置する
請求項11に記載の蒸着マスク中間体。 - 帯状を有した蒸着マスクであって、
一対の長辺と一対の短辺を有した縁と、
複数のマスク孔を有したマスク部と、
前記マスク部を囲む周辺部と、を備え、
前記周辺部のうちで、前記蒸着マスクの長手方向における前記マスク部と前記短辺との間には、一方の前記長辺から他方の前記長辺に向けて延びる形状を有した脆弱部が位置する
蒸着マスク。 - 請求項13に記載の蒸着マスクと、
前記蒸着マスクを支持するフレームと、を備え、
前記蒸着マスクは、表面と前記表面とは反対側の裏面とを含み、
前記脆弱部は、前記表面に開口するハーフエッチング部を含み、
前記表面の一部が、前記フレームに取り付けられている
マスク装置。 - 帯状部、前記帯状部を囲む枠状部、および、前記帯状部と前記枠状部との間に位置し、前記帯状部を前記枠状部に連結する連結部を形成すること、および、
前記連結部を切断して、前記枠状部から前記帯状部を切り離すことによって蒸着マスクを得ること、を含み、
前記帯状部は、一対の長辺と一対の短辺を有した縁を備え、
前記帯状部は、複数のマスク孔を有したマスク部と、前記マスク部を囲む周辺部とを備え、
前記周辺部のうちで、前記帯状部の長手方向における前記マスク部と前記短辺との間には、一方の前記長辺から他方の前記長辺に向けて延びる形状を有した脆弱部が位置する
蒸着マスクの製造方法。
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